JPH11316112A - 集積回路の交差光軸検査システム - Google Patents

集積回路の交差光軸検査システム

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JPH11316112A
JPH11316112A JP10353940A JP35394098A JPH11316112A JP H11316112 A JPH11316112 A JP H11316112A JP 10353940 A JP10353940 A JP 10353940A JP 35394098 A JP35394098 A JP 35394098A JP H11316112 A JPH11316112 A JP H11316112A
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light
camera
optical axis
reflector
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JP10353940A
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Peng Seng Toh
トウ・ペングセング
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】集積回路の測定及び検査を行うための方法及び
装置の提供。 【解決手段】装置には、集積回路(IC)100のイメ
ージを検知するためのカメラ24、斜光源25A,25
B、及び、リフレクタ20,21が含まれている。カメ
ラ24は、IC100の平面に対して垂直なICを通る
光軸を備えている。斜光源は、ICの平面に対して斜め
にICに光を照射するので、斜光源の少なくとも一部が
光軸の一方の側に配置されることになる。リフレクタ
は、斜光源から光軸を横切る光をカメラに向けて反射す
るため、斜光源の一部に対して光軸のもう一方の側に配
置されており、ICの少なくとも一部が、斜光源の一部
とリフレクタの間に挿入されるようになっている。結果
として、ICのその部分の形状が、バックライティング
によってカメラに撮像される。こうして、ICのリード
を検査することが可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に、光学手段
による検査システムに関するものであり、とりわけ、イ
メージングによって集積回路を検査するための光学検査
システムに関するものである。
【0002】
【発明の背景】集積回路(IC)パッケージのリードの
検査は、電子産業にとって極めて重要である。クワッド
・フラット・パック(QFP),プラスチック・リード
レス・チップ・キャリヤ(PLCC)、スモール・アウ
トラインIC(SOIC)、スモール・アウトラインJ
−リード(SOJ)、DPAK、スモール・アウトライ
ン・トランジスタ(SOT)、及び、ICパッケージ本
体から突き出したリードを備えるそれらの派生物。これ
らのリードは、内部回路を外界に接続するための手段で
ある。これらのリードの完全性は、良好な電気接続性、
従って、有効なICの適用にとって極めて重要である。
【0003】集積回路(IC)パッケージは、一般に、
「ダイ」として公知のIC回路要素を被うように成形さ
れる正方形または矩形のプラスチック・パッケージであ
る。パッケージのサイズは、4×4平方mm〜32×3
2平方mmの範囲とすることが可能である。ICパッケ
ージ内のダイからプリント回路基板(PCB)への電気
接続を可能にするリードが、プラスチック・パッケージ
から延びている。ICパッケージ及びリードは、高度に
自動化されたPCBアセンブリ機を利用して、ICをP
CBに配置し、ハンダ付けするため、正確かつ一貫した
機械的寸法を備えていることが重要である。リードに損
傷、捻れ、または、位置ずれがあると、PCBアセンブ
リに不適正なアセンブル及び機能不良を生じる可能性が
ある。すなわち、パッケージの四辺全てにリードを備え
るクワッド・フラット・パック(QFP)のような、リ
ード数の多いICの場合、機械的要件はさらに厳しくな
る。リードの要件がいくつか存在し、測定しなければな
らない欠陥のカテゴリには、共面性、リード・ピッチ、
端子寸法、隔離等が含まれる。リードの欠陥には、曲が
ったリード、ハンダ付け欠陥、除去されたリード、ばり
等が含まれる。
【0004】ICパッケージのリードを直接及び間接に
検分するための特殊光学及び照明装置を含むいくつかの
技法及びシステムが、市販されている。ICリード検査
及び測定システムには、2つの主たるカテゴリが存在す
る。1つのカテゴリでは、レーザ走査アプローチが用い
られる。もう1つの一般に用いられる技法には、結像面
に対するリードの輪郭の投影及び後方照射が含まれる。
一例として、レーザを利用して、上部からICのリード
を走査する方法もある。もう1つの方法では、イメージ
の解像度を高めるイメージ・ダブラを備えた後方照射シ
ステムを利用する。さらにもう1つの方法では、デバイ
スが取り付けられる基準プレートに関してリードの位置
を突き止めるリード検査システム、及び、イメージ・ピ
クセルと線形測定との既知の相関関係が得られるように
するために用いられる実時間基準が用いられる。IC検
査システムの1つには、各リードの上方及び下方共面性
エラーが、センサの出力信号のレベル変化から測定され
る変位センサが含まれている。もう1つのシステムで
は、投影技法を用いて、電子コンポーネントの少なくと
も1つのリードの位置が求められる。
【0005】しかし、これら先行技術による検査システ
ムについては、さまざまな問題が存在する。レーザ走査
技法の場合、リードの下部表面の代わりに、上部表面が
測定される。リードの下部表面及び幾何学形状が、とり
わけ、リードの電気的接続性に関連して上部表面よりも
重要であるため、これは問題を生じることになる。リー
ドの太さは、ハンダ付け厚さの結果として、リードによ
って異なる。結果として、リードの上部表面の測定は、
下部表面の測定と同等ではない。これは、とりわけ、数
マイクロメートルの範囲の高精度測定に当てはまる。さ
らに、レーザ走査技法では、一般に、ICリードの製造
におけるトリミング及び成形プロセスの結果として生じ
るリード先端のバリを検出することはできない。リード
先端におけるバリの存在は、PCBに対するICパッケ
ージの電気的接続性に影響を及ぼすもう1つの重要な要
因である。
【0006】従って、本発明の目的は、ICの信頼でき
る検査方法及びシステム、とりわけ、ICリードの下部
表面を確実に検査することが可能な方法及びシステムを
提供する必要がある。
【0007】
【本発明の概要】本発明の態様の1つでは、集積回路の
検査にとりわけ適しており、上記問題を改善する改良さ
れた検査システムが得られる。平面物体(例えば、I
C)を検査するための装置の実施態様には、平面物体
(例えば、IC)のイメージを検知するためのカメラ、
斜光源、及び、リフレクタが含まれる。カメラは、平面
物体を通る、物体の平面に対して垂直な光軸を備えてい
る。斜光源は、ICの平面に対して斜めに平面物体に光
を照射するので、斜光源の少なくとも一部が、光軸の一
方の側に配置されることになる。リフレクタは、斜光源
の少なくとも一部に対して光軸の反対側に配置され、斜
光源から光軸を横切る光をカメラに向けて反射する。光
源の一部、平面物体、及び、リフレクタは、平面物体の
少なくとも一部が斜光源の一部とリフレクタの間に位置
するように配置される。結果として、平面物体の一部の
形状が、バック・ライティングによってカメラに撮像さ
れる。このやり方で、ICのリードを検査することがで
きる。
【0008】実施態様の1つにおいて、本発明の装置
は、上部表面と下部表面を備え、前記上部表面及び下部
表面の間に延びるビュー・ウィンドウを含む検査基準面
と、検査基準面の上方において物体を移動させ、ビュー
・ウィンドウを横切らせる移送機構を備えている。物体
(例えば、IC)は、ウィンドウの上方を横切って移動
する際に、ウィンドウの下方のビュアーによって検査す
ることが可能である。この実施態様では、物体が、物体
を持ち上げる、すなわち、ICの場合、IC本体の上部
表面だけに接触する、移送機構のピック・アップ・ヘッ
ド以外にいかなる物体とも接触しないので、これは実用
的である。ある実施態様では、ビュアーによって得られ
るイメージには、それぞれ、物体の一部にあたる複数の
イメージ部分が含まれている。こうした場合、イメージ
部分は、それぞれ、イメージ部分を反射する、複数のリ
フレクタを用いて得られる異なる光路から得ることがで
きる。イメージ部分は、全て、同じビュアー、例えば、
電荷結合素子(CCD)に送り込むことが可能である。
本発明の検査システムは、集積回路のリードを検査する
のに申し分のないほどに適している。反射手段は、集積
回路のそれぞれの組をなすリードのイメージが得られる
ようになっているのが望ましい。この検査システムは、
ガル・ウィング・リード、j字形に曲がったリード、及
び、まっすぐなリードといった、全てのリード部分に適
合する。検査は、QFP及び極めて薄いQFPまたはS
OICといったさまざまなタイプのパッケージにおいて
も実施することも可能である。
【0009】本発明の望ましい実施態様の利点は、物体
(例えば、IC)の移動中に、その停止を必要とするこ
となく、リードの測定を実施することが可能であるとい
う点にある。もう1つの利点は、検査用のペデスタルの
ような物体との接触を必要とせずに、物体の検査が可能
であり、従って、別の物体との接触によってリードが損
傷する可能性がなくなるという点にある。移動中に、集
積回路パッケージを検査することができるので、検査時
間が短縮される。集積回路パッケージは、検査中にペデ
スタルのような物体と接触する必要がないので、リード
が損傷を受ける可能性は完全に排除される。
【0010】さらに、ICの下部側、従って、リードの
下部側を検分し、検査することが可能である。検査のた
め、バック・ライトを利用して、物体(例えば、ICリ
ードを含む)を照射するので、検査結果の安定性及び再
現性が高くなる。共面性、端子寸法、ピッチ、及び、他
のパラメータといった、リードの真の三次元(3D)形
状寸法を測定することが可能になる。
【0011】
【発明の好適実施の形態】実施態様の1つにおいて、本
発明の検査システムによれば、できれば、物体の下部と
接触することなく、物体の側縁の下部を検査するための
技法が得られる。さらに、ある実施態様によれば、実時
間基準面を利用して、物体の移動中に、物体を検査する
ことが可能になる。基準面は、検査システムに組み込ま
れており、検査を受けるICと共に撮像される。
【0012】図1には、三次元物体を検査するための装
置の実施態様がブロック図で示されている。便宜上、及
び、分かりやすくするため、以下の説明は、三次元IC
リードを検査するための実施態様に関連するものとする
が、もちろん、この装置は、他の物体、とりわけ、平面
物体の側縁を検査するために利用することが可能であ
る。検査システム10には、4つのモジュール、すなわ
ち、光学ビューイング・モジュール11、イメージ捕捉
モジュール12、中央演算処理モジュール13、及び、
制御モジュール14が含まれている。
【0013】略底面図を示す図2a及び略側面図を示す
図2bに示されるように、光学ビューイング・モジュー
ル11には、十分にフラットな表面を備えた検査基準面
15が含まれている。検査基準面15には、その中心に
開口部を備えたフレーム16が含まれている。基準面1
5の中央開口部は、ビューイング・ウィンドウ17と呼
ばれる。ビューイング・ウィンドウ17は、所望の波長
の光を通過させる光学的に透明なアパーチャである。ま
た、ビューイング・ウィンドウ17のサイズは、該シス
テムがその検査を行うために構成されている、IC10
0(図2には示されておらず、図3及び4に示されてい
る)のフットプリントのサイズより大きくなるように調
整されている。モジュール11には、さらに、基準面1
5の上部表面22のすぐ下でフレーム16に取り付けら
れたリフレクタ18、19、20、及び、21も含まれ
ている。これらのリフレクタ18、19、20、及び、
21は、一般に、ビューイング・ウィンドウ17の四辺
に隣接してフレーム16に取り付けられたミラーまたは
プリズムから構成される。
【0014】図1に示す実施態様の光学モジュール11
には、さらに、レンズまたはレンズ・システム23、及
び、ビデオ・カメラ24が含まれており、リフレクタ1
8、19、20、及び、21が、それぞれ、ビューイン
グ・ウィンドウの上方のイメージを反射して、レンズ2
3、さらに、ビデオ・カメラ24に送り込む。レンズ2
3は、適度な物体距離の変動に十分に耐えられるよう
に、テレセントリック特性を備えている。ビデオ・カメ
ラ24は、一般に感光アレイを備えた電荷結合素子(C
CD)カメラである。ビデオ・カメラ24の視野には、
ビューイング・ウィンドウ17全体と4つのリフレクタ
18、19、20、及び、21が含まれている。
【0015】光学モジュール11には、さらに、ビュー
イング・ウィンドウ17のまわりに配置される部分を備
えることが可能な、均一な照射光源25が含まれてい
る。これらの均一な照射光源部分25は、IC100の
バック・ライティングに用いられる。バック・ライティ
ングは、寸法測定を有効に実施することが可能な、物体
のシルエットを照らし出す照射技法である。バック・ラ
イティング技法を利用する場合、測定すべき物体(すな
わち、IC)は、ビュアー(カメラ)と光源の間に配置
される。
【0016】均一な光源25は、検査基準面15と、検
査基準面を包囲する可動プラットフォーム26(図3に
示すような)のいずれかに取り付けることが可能であ
る。均一な光源15が可動プラットフォーム26に取り
付けられる場合、均一な光源25を検査基準面15の表
面より下に下げて、検査基準が邪魔になる可能性のある
物体に遮られないようにすることが可能である。こうし
て、ICがビューイング・ウィンドウ17に近接する
と、均一な光源を所定位置まで移動させて、ICを照射
し、イメージングを行うことが可能になる。均一な光源
25を邪魔にならないように移動させて、イメージング
の前後に、ICを光学ビューイング・モジュールに送り
込んだり、あるいは、そこから送り出したりすることが
可能である。
【0017】図3及び図4には、検査のためにICを移
送する方法が示されている。図3、4a、及び、4bに
示すように、検査すべきIC100は、吸盤のようなピ
ックアップ・ヘッド27によって、上から持ち上げられ
る。こうした吸込みヘッド及び吸盤は、当該技術におい
て既知のところであり、一般にIC産業において用いら
れている。ピックアップ・ヘッド27は、ビューイング
・ウィンドウ17の上方でICを移送する。IC100
の下部側は、検査のため、何もない状態に保たれている
ので、遮るものがない。IC100は、検査基準面15
の上部表面22とほぼ平行なIC100の座面によっ
て、この表面22と平行になるようにアライメントがと
れる。検査基準面15とIC100の座面の間には、わ
ずかな間隔が保たれる。IC100が、ビューイング・
ウィンドウ17を横切って移送される際、IC100を
ビューイング・ウィンドウ17内に下降させるために、
垂直移動を行う必要はない。IC100がビューイング
・ウィンドウ17の上方の適正位置にある時、均一な光
源25が、プラットフォーム26によってその活動位置
まで持ち上げられ、カメラ24によるIC100のイメ
ージの捕捉に備えて、バック・ライティングを施す。イ
メージの捕捉が済むと、均一な光源25は、その非活動
位置まで降ろされ、ICを検査基準面15から送り出す
ための、邪魔するもののない通路が形成される。代替案
として、光源25をピックアップ・ヘッド27に取り付
け、これによって、ピックアップ・ヘッド27と一緒に
移動させることも可能である。
【0018】図4bに最も明らかに示されているよう
に、IC100は、ビューイング・ウィンドウ17の位
置まで移動すると、均一に照射する光源25とリフレク
タ18、19、20、21の間に位置することになる。
これは、リフレクタによって、IC100及びそのリー
ド101のイメージがシルエットで得られるので(例え
ば、図8参照)、バック・ライティング技法である。従
って、ビデオ・カメラ24は、リフレクタ18、19、
20、21とレンズ23を介して、IC100及びその
リード101のシルエットを撮像する。
【0019】留意すべきは、リフレクタ18、19、2
0、21は、それぞれ、遠い側の(すなわち、ICの対
応するリフレクタから遠隔の側縁)リードを検分するも
のであるため、交差したような幾何学構成をなしている
という点である(図5参照)。図4a及び4bに示すよ
うに、リフレクタ20は、光源部分25Aを光源として
生じるICリード101Aのシルエットを反射し、光路
50によってレンズ23に、さらに、ビデオ・カメラ2
4に送り込む。同様に、光路51は、交差したような幾
何学構成をなしており、リフレクタ21は、リード10
1Bを通過した光源部分25Bの光を反射し、シルエッ
トとして、レンズ23及びビデオ・カメラ24に送り込
む。ICが、四辺全てにリード101を備えている場
合、4つのリフレクタ18、19、20、及び、21
は、全て、それぞれの遠い側のリード101をレンズ2
3及びビデオ・カメラ24へ反射する。ビューイング光
路は、検査基準面15に対して小さな斜角αをなして傾
斜する、リード101を通過する部分を備えている。こ
の斜角αによって、さらに、IC100パッケージ下部
の上方にあるリード101をうまく撮像し、測定するこ
とが可能になる。実際のところ、斜角αはわずか10度
しかない。
【0020】検査システム10が、IC100の移動中
に3D検査を実施できるようにするため、検査システム
は、イメージの捕捉時における位置シフトの変動に対処
するようになっている。図5には、位置シフトの効果が
示されている。50から50aへの光路の偏差を生じる
ことになる側方位置の変動が、Lで表示されている。補
償されなければ、光路の偏差Dによって、IC100の
共面性に関連したZ測定にエラーが生じる。この変動に
対処するため、システム10には補償手段が含まれてい
る。補償手段については、図6に関連して後述するが、
例えば、リード101の直交図のイメージングが可能な
リフレクタ19及び20が利用される。
【0021】図5に示すように、IC100のコーナ・
リード101を検分するための光路は、Y(図5のペー
ジ内に向かう次元)座標及びZ(Y軸に対して直角をな
し、ICの面に対して垂直な、図5の平面上における次
元)座標を測定することが可能な、53である。コーナ
・リード101は、リフレクタ20の遠い側に配置され
ている。リフレクタ20は、側方位置(X次元に関す
る)の測定が可能な、光路53によってコーナ・リード
101を検分するものである。従って、2つの隣接対を
なす反射イメージを組み合わせることによって、リード
のX、Y、Z座標を求めることができる。例えば、図5
において、光源25及びリフレクタ20がIC100に
対して移動する場合、リード位置101及びリード位置
102は、2つの隣接イメージにおいて同じリード10
1の位置になる。従って、1つの光源及び1つのリフレ
クタだけしか用いずに、リード101のX、Y、Z位置
を求めることが可能である。交差したような幾何学構成
のこの技法を用いることによって、1つの光源と1つの
カメラだけで、ある部分(例えば、ICのリード)に関
する三次元情報を得ることが可能になる。
【0022】図6には、イメージングのためその中心に
IC100が配置された、ウィンドウ17の底面図が示
されている。この場合、分かりやすく例示するため、リ
ードが示されているのは、IC100の側縁の1つの側
だけである。このリード101Aは、光路53に沿って
リフレクタ20に達する光、及び、光路54に沿ってリ
フレクタ19に達する光によって結像する。光路53及
び54は、互いに対してほぼ90度をなしている。この
場合、分かりやすくするため、リフレクタ18、19、
20、21によって反射されるシルエット・イメージ
は、この図に示されていない。例えば、図10aに関連
して後述するように、IC100の下側も、光を当て
て、照明すれば、検分することが可能である。
【0023】検査システムの較正を容易にするため、フ
レーム16には、図7に示すような基準点を含むことが
可能である。例示の形態の場合、ビューイング・ウィン
ドウ17の4つのコーナに、動的基準点28、29、3
0、31が分散されている。4つの動的基準点28、2
9、30、31は、既知の精密基準面を形成する。これ
ら動的基準点のうちどの2点間の距離も、正確に分かっ
ており、中央演算処理モジュール13にあらかじめ記憶
されている。動的基準点及び検査基準面15は、高精度
及び平面度を維持できるように、単一の剛性材料から機
械加工するのが望ましい。較正手順の説明のため、図8
及び9に言及する。図8には、カメラ24によって捕捉
される、すなわち、ICの下方の位置から見えるイメー
ジ60が示されており、一方、図9には、このイメージ
の一部、すなわち、リフレクタ20から反射され、レン
ズ23を通って、ビデオ・カメラ24に送り込まれるイ
メージ61が示されている。明らかに、動的基準点28
が、ポイント62に結像し、一方、動的ポイント29
は、ポイント63に結像している。2つの動的基準点2
8及び29間の物理的距離は、既知の値Aである(図7
参照)。図9に示すように、撮像された動的基準点62
及び63間の距離(B)は、イメージを表すデジタル・
アレイ内の画素を意味する一般的な用語である、ピクセ
ルに換算して測定される。従って、リフレクタ20によ
って反射されるイメージ61のこの部分のY次元スケー
ルを較正することが可能になる。Yスケールは、A/B
に等しい。Aがmmで測定される場合、Yスケールの単
位は、mm/ピクセルになる。同様に、イメージのこの
部分のYスケールは、動的基準点63がフレーム16の
エッジからどれほど突き出ているかに相当する、距離C
をピクセルに換算して測定することによって、求めるこ
とが可能である。解説した較正手順は、リフレクタ1
8、19、及び、21によって反射される他の3つのサ
ブ・イメージ全てに等しく適用することが可能である。
従って、本発明の装置を用いることにより、異なる座標
における物体のポイント間の距離を絶対単位(例えば、
mm、ミクロン)で求めることが可能である。
【0024】イメージ捕捉モジュール12は、ビデオ・
カメラ24からビデオ信号を受信し、イメージ60(図
8参照)に対応するデジタル・イメージとして知られる
デジタル・フォーマットに変換するフレーム・グラバ
(不図示)から構成される。また、当該技術において一
般的であるが、ビデオ・カメラ24はデジタル・フォー
マットのビデオ信号を出力することが可能である。フレ
ーム・グラバは、さらに、中央演算処理モジュール13
によって実施されるデジタル・イメージ処理及び分析の
ため、デジタル・イメージ60を送り出す。IC100
が検査基準面15を横切って移動する際(図3の矢印R
参照)、センサを用いて、IC100の位置を検知し、
ビューイング・ウィンドウ17の上方における適正な位
置にくると、イメージ捕捉モジュール12をトリガし
て、IC100のイメージを捕捉させることが可能であ
る。トリガ信号は、ピックアップ・ヘッド27(図3参
照)のモーション・コントローラから得ることも可能で
ある。ピックアップ・ヘッド27のモーション・コント
ローラは、ピックアップ・ヘッド27の位置、従って、
IC100の位置をモニタするエンコーダを備えること
が可能である。また、モーション・コントローラを中央
演算処理モジュール13の一部にできるようにすること
も考えられている。
【0025】中央演算処理モジュール13は、イメージ
捕捉モジュール12から受信したデジタル・イメージ6
0の処理を行う。中央演算処理モジュール13のタスク
は、中央演算処理モジュール13がデジタル・イメージ
60における全てのリード101の位置を探索し、突き
止めるのに必要とするパラメータを計算することにあ
る。中央演算処理モジュールは、全ての動的基準点2
7、28、29、及び、30の位置も検出する。さら
に、2つの隣接対をなす反射サブ・イメージを用いて、
IC100のX次元に関する側方位置も求める。次に、
Xスケール及びYスケールを含む補償係数が計算され
る。補償係数を利用して、中央演算処理モジュール13
は、全リードのX、Y、Z座標を計算し、補償係数を適
用し、共面性、ピッチ、端子サイズ等のようなICの必
要なパラメータを計算する。
【0026】制御モジュール14の重要な機能の1つ
は、IC100の位置を検知し、イメージ捕捉モジュー
ル12をトリガして、イメージを捕捉できるようにする
ことである。制御モジュールは、さらに、光源プラット
フォーム26の移動を制御する信号も送り出す。IC1
00が検査基準面に入り込む時、必要があれば、制御モ
ジュールは、光源プラットフォームを起動して、降下さ
せ、IC100を保持するピックアップ・ヘッド27の
ために妨げるもののない通路が得られるようにする。I
C100が検査基準面に入ってしまうと、制御モジュー
ル14は、光源プラットフォーム26に信号を加え、リ
ード101の照射を行うために上昇させる。IC100
がビューイング・ウィンドウ17のすぐ上にくると、制
御モジュールは、イメージ捕捉モジュール12に信号を
加え、イメージを捕捉させる。IC100の1つまたは
複数のイメージが捕捉されると、制御モジュール14
は、光源プラットフォームに信号を加えて、それ自体を
降下させ、この結果、IC100を検査基準面から送り
出すための、妨げるもののない通路が得られることにな
る。
【0027】別の角度からの補助イメージングを可能に
するため、もう1つの実施態様では、光源25から生じ
る光に対してかなりの角度の方向からリードを照射する
ための光を含めることが可能である。三次元測定に良好
な基準を与えるため、特定の位置に入射する、または、
特定の位置を近接して通過する、2つの光源による光間
の角度は、45度〜135度が望ましい。ある例では、
第2の光源を用いて、光源25からの光に対して約90
度の角度からリードの照射が行われる。図10aには、
こうした装置の実施態様が示されている。この実施態様
の場合、光源35Uは、フロント・ライティングで、下
側からIC100を照射するので、カメラ24によって
検分すると、そのイメージは、リードの表面またはIC
の下側表面における欠陥さえ示すことが可能になる。光
源35Uは、IC100のリード及び下側を均等に照射
するため、光源25と同様のほぼ正方形の形状を備える
ことが可能である。2つの光源を利用するこの技法を用
いると、例えば、2つの光源によってICリードを照射
し、2つの光源からの光が互いにかなりの角度をなして
同じリードを照射するようにすると、1つの光源を用い
た検出を困難にするのにちょうど効果的なやり方で、曲
げられ、捻られたリードまたはリード部分の欠陥が、も
う1つの光源を用いることによって、簡単に検出できる
ようになる。フロント・ライトで物体の下側を照射する
と、以前は観測できなかった細部(例えば、ICパッケ
ージの欠陥)を見ることが可能になる。これによって、
欠陥に気付かずに、欠陥製品を合格させることに対する
追加安全対策が得られる。さらに、第2の光源によっ
て、第2のイメージが生じ、この結果、カメラが受ける
イメージの1つの映像だけで、三次元情報を求めること
が可能になる。換言すれば、カメラが受ける同じイメー
ジにおいて、2つの異なる角度から観測を行い、これに
よって、2つのイメージング・ステップ間における物体
の移動さえ行わなくても、三次元X、Y、及び、X(Z
では?)の全てにおける基準からの変化を検分すること
が可能になる。
【0028】図10bに示す、同じ領域に対してある角
度で光を放射する2つの光源を利用するもう1つの実施
態様の場合、光源25以外に、IC100の上方に位置
する第2の光源35Vを用いることによって、光源25
からの光に対してかなりの角度をなす照射が可能にな
る。この場合、バック・ライティング技法では、IC1
00が第2の光源35Vとカメラ24の間に挿入され、
光がICのリード101を通って、カメラに達し、シル
エット・タイプのイメージを形成することになる。光源
35Vは、イメージング前後に、邪魔にならないように
移動させて、IC100及びピックアップ・ヘッド27
を通過させることが可能な部分を備えている。また、望
ましいが、必要ではない場合、2つの光源を異なる時間
にオンにして、互いに干渉しないようにすることも可能
である。ここで利用されているように、異なる光源から
の光がカメラに入射し、同時に検知される限りにおい
て、カメラによる検知プロセスは、この場合のイメージ
ングの1つとみなされ、検知されるイメージは、異なる
光源から得られた情報を備えているが、単一の一時的な
イメージとみなされる。
【0029】さらにもう1つの実施態様では、望ましい
場合、図10a及び図10bに示す3種の全光源を利用
することが可能である。
【0030】本発明の特定の実施態様に対する他のさま
ざまな変更が存在する。例えば、図10a及び10bに
示すように、光を90度向け直し、垂直方向ではなく、
水平方向において、レンズ23及びビデオ・カメラ24
のアライメントをとることができるようにするため、ミ
ラー32を含むことも可能である。この場合、本開示に
おけるように、カメラ24の光軸は、やはり、ウィンド
ウ内におけるIC100の平面を通るものとみなされ
る。
【0031】この例では、本発明の物理的レイアウトを
変更する可能性が示されている。
【0032】本発明は、全くそれだけというわけではな
いが、集積回路のリードの検査を考慮して設計されたも
のであり、本明細書における実施態様の説明は、それに
関連して実施されてきた。しかし、認識しておくべき
は、本発明には、より広い用途があり、本発明の精神及
び範囲を逸脱することなく、既述の部分に対してさまざ
まな修正及び改良、並びに、追加を行うことが可能であ
るという点である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の望ましい実施態様による集積回路の検
査システムのブロック図である。
【図2a】図1の検査システムの光学ビューイング・モ
ジュールの第1の実施態様に関する略平面図である。
【図2b】図1の検査システムの光学ビューイング・モ
ジュールの第1の実施態様に関する略断面立面図であ
る。
【図3】モジュールを横切るICの移送を示す、図2a
及び図2bの光学モジュールの概略図である。
【図4a】ICが所定位置についた、光学ビューイング
・モジュールを示す図である。
【図4b】ICが所定位置についた、光学ビューイング
・モジュールを示す図である。
【図5】ICの部分のイメージングを示す、拡大された
概略図である。
【図6】所定位置についた光学ビューイング・モジュー
ル及びICの拡大した平面図である。
【図7】光学ビューイング・モジュールの検査基準面の
バリエーションに関する平面図である。
【図8】光学ビューイング・モジュールから発生するイ
メージを示す概略図である。
【図9】図8のイメージの一部に関する詳細図である。
【図10a】光学ビューイング・モジュールのもう1つ
の実施態様に関する略側面図である。
【図10b】光学ビューイング・モジュールのさらにも
う1つの実施態様に関する略側面図である。
【図11a】光学ビューイング・モジュールの代替実施
態様の略平面図である。
【図11b】光学ビューイング・モジュールの代替実施
態様の略断面立面図である。
【符号の説明】
10 検査システム 11 光学ビューイング・モジュール 12 イメージ捕捉モジュール 13 中央演算処理モジュール 14 制御モジュール 15 検査基準面 16 フレーム 17 ビューイング・ウィンドウ 18 リフレクタ 19 リフレクタ 20 リフレクタ 21 リフレクタ 22 検査基準面の上部表面 23 レンズ 24 ビデオ・カメラ 25 光源 26 可動プラットフォーム 27 ピックアップ・ヘッド 28 動的基準点 29 動的基準点 30 動的基準点 31 動的基準点 32 ミラー 35U 第2の光源 35V 第2の光源 50 光路 51 光路 53 光路 54 光路 60 イメージ 61 イメージ 100 IC 101 リード

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平面を備えた平面物体を検査するための
    装置であって、 物体の平面に対して垂直な、物体を通る光軸を備える、
    物体のイメージを検知するためのカメラと、 少なくとも光軸の一方の側に配置された部分を備える、
    物体の平面に対して斜めに物体への光の照射を行う斜光
    源と、 斜光源の少なくとも一部に対して光軸の反対側に配置さ
    れ、斜光源から光軸を横切る光をカメラに向けて反射
    し、斜光源の前記少なくとも一部とそれとの間に位置す
    る物体の少なくとも一部の形状が、カメラに物体の少な
    くとも一部の形状として撮像されるようにするリフレク
    タが含まれていることを特徴とする、 装置。
  2. 【請求項2】 物体が集積回路(IC)であり、光軸を
    中心にしてICをほぼ包囲する少なくとも1つのリフレ
    クタが含まれていることと、斜光源が、光軸を中心にし
    てICをほぼ包囲しており、光軸を中心にしてICの側
    縁の全てに対してバック・ライトとして光を照射し、リ
    フレクタで反射することによって、カメラに撮像される
    ようにすることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
  3. 【請求項3】 物体の同じ部分について2つ以上の異な
    るイメージを捕捉して、物体の前記部分の三次元情報が
    得られるようにするため、1つ以上のリフレクタ及び光
    源が、物体に対して移動可能であることを特徴とする、
    請求項1〜2に記載の装置。
  4. 【請求項4】 さらに、物体の側縁に光を照射する第2
    の光源が含まれることと、第2の光源からの光が、物体
    の側縁から通過して、光軸と交差することなく、光学素
    子に達し、カメラによって検知されるように方向付けら
    れることを特徴とする、請求項1〜3に記載の装置。
  5. 【請求項5】 第2の光源が、物体の、カメラと同じ側
    に面していて、フロント・ライトとして物体を照射する
    ことを特徴とする、請求項4に記載の装置。
  6. 【請求項6】 第2の光源が、斜光源からリフレクタに
    入射する光に対してかなりの角度をなして、物体を照射
    することを特徴とする、請求項4〜5の任意の1つに記
    載の装置
  7. 【請求項7】 斜光源からの光がリフレクタに対して斜
    めに通過するウィンドウを備えた、基準面が含まれるこ
    とと、基準面によって、光が、撮像中に、リフレクタに
    よって反射されることなく、光源からカメラに直接送り
    込まれるのを阻止するようになっていることを特徴とす
    る、請求項1〜6の任意の1つに記載の装置。
  8. 【請求項8】 第1の位置と第2の位置の間で光源から
    の光に対して斜めの方向に物体を移送し、物体の移送中
    に、カメラが物体の1つ以上のイメージを得ることがで
    きるようにする移送機構が含まれていることと、1つ以
    上のイメージが、それによって、物体に関する三次元情
    報を提供することを特徴とする、請求項1〜7の任意の
    1つに記載の装置。
  9. 【請求項9】 カメラからの信号に処理を加えて、物体
    の輪郭を求め、その品質を判定するプロセッサが含まれ
    ていることを特徴とする、請求項1〜8の任意の1つに
    記載の装置。
  10. 【請求項10】 平面を備える平面物体の品質を検査す
    る方法であって、 物体からのイメージを検知するため、物体に向かい合う
    ように、光軸を備えたカメラの位置決めを行い、光軸
    が、平面に対して垂直に物体を通るようにするステップ
    と、 物体の少なくとも一部を通過した光を平面に対して斜め
    に向けて、光源に対して光軸の反対側に配置されたリフ
    レクタに入射させ、光が、物体の少なくとも一部から通
    過して、リフレクタによって反射され、カメラにおいて
    物体の少なくとも一部の形状を撮像するステップが含ま
    れており、この形状が、物体の品質を表すことを特徴と
    する、 方法。
  11. 【請求項11】 平面を備える集積回路の品質を検査す
    るための方法であって、 IC100の平面に対して斜角をなしてIC100の一
    部を照射し、結果としてIC100の一部のイメージが
    生じるようにするステップと、 照射に関して、IC100を照射光に対して斜めの方向
    に移動させ、移動中に、前記一部について1つ以上のイ
    メージを捕捉し、該部分に関する三次元情報が得られる
    ようにするステップが含まれており、この三次元情報
    が、IC100の品質を表すことを特徴とする、 方法。
JP10353940A 1997-12-01 1998-11-27 集積回路の交差光軸検査システム Pending JPH11316112A (ja)

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