JPH1131337A - 光記録媒体及び光学ディスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光が照射される透明カバー層への傷の発生を
抑え、破損を抑え、信頼性を確保する。高ＮＡ化に対応
可能とし、高容量化する。 【解決手段】 記録層の一主面側に表面側がヤング率７
０（ＧＰａ）以上の透明カバー層を設け、ＮＡ０．７以
上の対物レンズを用いて情報の記録及び／又は再生を行
う。透明カバー層の厚さを１５０（μｍ）以下とし、透
明カバー層を２層構造とし、表面側となる層をヤング率
１５０（ＧＰａ）以上とし、その厚さを２〜２３０（ｎ
ｍ）とする。透明カバー層の表面側をＣ_100-XＨ_X（１
（原子％）＜Ｘ＜４５（原子％）），Ｓｉ₃Ｎ₄，ＭｇＦ
₂，Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂のうちの少なくとも１種類を含む
材料により形成する。情報信号部の領域の透明カバー層
の厚さｔをｔ＝３〜１７７（μｍ）とし、透明カバー層
厚さむらをΔｔをＮＡおよび波長λとの間に、Δｔ ≦
±５．２６( λ／ＮＡ⁴）（μｍ）の関係が成り立つも
のとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録層の一主面側
に透明カバー層を有し、この透明カバー層側から開口数
０．７以上の対物レンズを用いて光が照射されて情報の
記録及び／又は再生が行われる光記録媒体に関するもの
である。詳しくは透明カバー層の表面側の硬度を比較的
高いものとし、破損しにくく、信頼性も高い光記録媒体
に係わるものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報記録の分野においては光学情
報記録方式に関する研究が各所で進められている。この
光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えるこ
と、磁気記録方式に比べて一桁以上も高い記録密度が達
成できること、再生専用型，追記型，書換可能型のそれ
ぞれのメモリー形態に対応できる等の数々の利点を有
し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式とし
て産業用から民生用まで幅広い用途の考えられているも
のである。

【０００３】その中でも特に、再生専用型のメモリー形
態に対応した光ディスクであるデジタルオーディオディ
スクや光学式ビデオディスク等は広く普及している。

【０００４】上記デジタルオーディオディスク等の光デ
ィスクは、情報信号を示すピットやグルーブ等の凹凸パ
ターンが形成された透明基板の凹凸パターンが形成され
た一主面上にアルミニウム膜等の金属薄膜よりなる反射
膜が形成されて記録層となされ、さらにこの反射膜を大
気中の水分，Ｏ₂ から保護するための保護膜が上記反射
膜上に形成された構成とされる。

【０００５】また、書換可能型のメモリー形態に対応し
た光磁気ディスクは、以下に示すような構成を有する。
すなわち、透明基板の一主面上に窒化珪素等の透明誘電
体膜が形成され、その上にＴｂＦｅＣｏ等の光磁気記録
膜が記録層として形成され、さらに窒化珪素等の透明誘
電体膜が形成され、さらにはアルミニウム膜等の反射膜
が形成され、さらにまた紫外線硬化型樹脂等よりなる保
護膜が形成された構成とされる。そして、この光磁気デ
ィスクにおいては、透明基板側から光を照射して情報の
記録再生を行う。

【０００６】ところで、上記のような光ディスクや光磁
気ディスク等の光記録媒体を高記録容量化する方法とし
て、光学ピックアップの対物レンズの開口数を大きくし
て再生光のスポット径を小さくし、これに合わせて記録
を行うことで、高記録密度化する方法が提案されてい
る。

【０００７】そこで、最近では画像、音楽、コンピュー
タデータ等の多様なデータを記録するためのＤＶＤ（Ｄ
ｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ、以下、
ＤＶＤと称する。）も上市されている。このＤＶＤにお
いては、基板の厚さを０．６（ｍｍ）程度として短波長
の光学系に対応可能とするとともに高開口数化された光
学系に対応可能として高記録密度化するようにしてい
る。

【０００８】このような状況の中、更なる次世代の光記
録媒体として、特願平９−１０９６６０号公報に示すよ
うな片面にＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｌｅｖｉ
ｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ）方式で
４時間記録再生が可能な光記録媒体が提案されている。

【０００９】この光記録媒体においては、家庭用ビデオ
ディスクレコーダーとして４時間の記録再生を可能とす
ることにより、現在主流とされているビデオテープレコ
ーダー（Ｖｉｄｅｏ Ｔａｐｅ Ｒｅｃｏｒｄｅｒ）に
代わる新しい記録媒体としての機能を備えることを目的
としている。また、この光記録媒体においては、音楽デ
ータが記録されたデジタルオーディオディスクと同じ形
状、サイズとすることにより、デジタルオーディオディ
スクの手軽さ、使い勝手に慣れ親しんだユーザーにとっ
て使いやすい製品とすることも考えられている。さら
に、この光記録媒体においては、形状をディスク状とす
ることにより、ディスク形状の最大の特徴であるアクセ
スの速さを利用し、小型、簡便な記録媒体というだけで
なく、瞬時の録画再生やトリックプレイや編集といった
多彩な機能を盛り込むことも考えられている。

【００１０】そこで、上記光記録媒体においては、この
ような多彩な機能を盛り込むべく、８（ＧＢ）以上の記
憶容量が要求されている。

【００１１】ところが、従来の光記録媒体の何れにおい
ても、特にデジタルオーディオディスクと同等のサイズ
であって、片面のみに情報記録層を有するものにおいて
は、８（ＧＢ）の記憶容量は達成されていない。例え
ば、高記憶容量とされているＤＶＤにおいても、情報信
号部の領域内、すなわち、中心から半径２４〜５８（ｍ
ｍ）の範囲においては、波長λが０．６５（μｍ）、光
学系の開口数（以下、ＮＡと称する。）が０．６とされ
て、４．７（ＧＢ）の記憶容量しか確保されていない。

【００１２】例えば、ＥＣＣ（Ｅｒｒｏｒ Ｃｏｌｌｅ
ｃｔｉｏｎ Ｃｏｄｅ）や変調方式といった信号フォー
マットをＤＶＤの方式としたままで、８（ＧＢ）以上の
記憶容量を確保するためには、下記式１を満たす必要が
ある。

【００１３】 ４．７×（０．６５／０．６０×ＮＡ／λ）² ≧８２・・・（式１） そして、上記式１よりＮＡ／λ≧１．２０であることが
必要となる。すなわち、短波長化或いは高ＮＡ化が必要
となる。

【００１４】ここで、例えば高ＮＡ化すると、再生光が
照射されてこれが透過する部分の厚さを薄くする必要が
ある。これは、高ＮＡ化に伴い、光学ピックアップの光
軸に対してディスク面が垂直からズレる角度（いわゆる
チルト角、光源の波長の逆数と対物レンズの開口数の積
の２乗に比例する。）により発生する収差の許容量が小
さくなるためであり、このチルト角が基板の厚さによる
収差の影響を受け易いためである。従って基板の厚さを
薄くしてチルト角に対する収差の影響をなるべく小さく
するようにしている。

【００１５】また、同様の理由から、再生光が透過する
部分の厚さのばらつきも所定の範囲内に収める必要があ
る。

【００１６】しかしながら、今後、さらなる高記録密度
化が要求されるものと思われ、基板のさらなる薄型化が
必要となってくるものと思われる。そこで、例えば基板
の一主面上に凹凸を形成して記録層とし、その上に反射
膜を設け、さらにこの上に光を透過する薄膜である光透
過層を設けるようにし、光透過層側から再生光を照射し
て記録層の情報を再生するような光記録媒体や、基板の
一主面上に反射膜を設け、その上に光磁気記録膜を形成
して記録層とし、さらにこの上に光を透過する薄膜であ
る光透過層を設けるようにし、光透過層側から再生光を
照射して記録層の情報を再生するような光記録媒体が提
案されている。このようにすれば、光透過層を薄型化し
ていくことで対物レンズの高ＮＡ化に対応可能である。
なお、このような光透過層はアクリル系の高分子材料等
の紫外線硬化型樹脂により形成されるのが一般的であ
る。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】上記のように光学ピッ
クアップの対物レンズの開口数を大きくした場合に、対
物レンズとして、対物レンズと光記録媒体間の距離であ
るワーキングディスタンスが従来の対物レンズと同様の
ものを使用すると、レンズの大きさが非常に大きくな
り、重量も重くなり、アクセスタイムが遅くなる、或い
はトラッキング，フォーカスサーボの帯域が十分確保で
きなくなるといった問題が発生する。

【００１８】そこで、対物レンズの軽量化、言い換えれ
ば小型化が検討されているが、この場合においては、対
物レンズを光記録媒体に近づける、すなわちワーキング
ディスタンスを狭める必要がある。しかしながら、この
ようにワーキングディスタンスを狭めると、当然のこと
ながら光学ピックアップと光記録媒体との衝突が発生し
易くなる。

【００１９】先に述べた光ディスク及び光磁気ディスク
においては、透明基板側から光を照射して情報の再生及
び／又は記録を行っており、この透明基板は、安価であ
ること、案内溝等の形状を射出成形で容易に形成できる
ことから、ポリカーボネート等のプラスチックにより形
成されるのが一般的である。

【００２０】従って、上述のように光学ピックアップと
光記録媒体が衝突した場合、光記録媒体が破損してしま
うことが多い。すなわち、例えば光学ピックアップの対
物レンズが光記録媒体に衝突してしまった場合、透明基
板を形成するポリカーボネート等のプラスチックが対物
レンズを形成するガラスに比べて非常に柔らかいため
に、透明基板は容易に変形し、傷が発生して破損してし
まう。また、対物レンズを保持する例えばプラスチック
よりなるホルダーが設けられており、対物レンズと光記
録媒体間の距離よりも上記ホルダーと光記録媒体間の距
離の方が小さいときには、ホルダーが透明基板に衝突す
ることとなる。この場合、ホルダーを形成するプラスチ
ックが対物レンズを形成するガラスよりも柔らかいた
め、ホルダーが透明基板を傷つけることはないものの、
ホルダーと透明基板間に大気中の粉塵や微小ゴミが挟ま
れてしまうと、これらにより傷が発生して破損してしま
う。このような大気中の粉塵や微小ゴミによる擦り傷
は、離散的に発生している場合にはエラー訂正等の信号
処理で対処可能であるが、トラック方向に沿って発生す
ると、エラー長が長く、エラー訂正が困難であり、且つ
トラッキング或いはフォーカスサーボ信号に誤差信号を
連続して与えてしまい、サーボを外してしまい、信頼性
を損なうことから好ましくない。

【００２１】そこで、ある種の光磁気ディスクにおいて
は、環境温度や湿度の変化による厚さ方向の変位を±
０．２（ｍｍ）以下に抑えて光学ピックアップとの衝突
をなるべく抑えるようにしているが、ワーキングディス
タンスが狭まれば、やはり衝突が起こりやすくなる。

【００２２】ところで、前述したように光透過層を設
け、光透過層側から光を照射するような光記録媒体にお
いては、光透過層が薄い層であることから、この表面に
ゴミが付着すると、エラーレートが悪化して十分な信頼
性を得ることが困難となる。

【００２３】磁気記録媒体である磁気ディスクにおいて
は、ライナーと称される繊維を磁気ディスク表面に接触
させてゴミを取り除くようにしており、このような手法
は上記の光記録媒体においても非常に有効であり、実施
が望まれている。しかしながら、この場合においては、
光記録媒体表面、ここでは光透過層表面が繊維の接触又
は間に大気中の粉塵やゴミを挟み込んだ状態での繊維の
接触により傷付かない強度を有することが必要であり、
このような要求が高まってきている。

【００２４】さらに、このような光透過層を設け、光透
過層側から光を照射するような光記録媒体における８
（ＧＢ）以上の記憶容量の達成も強く望まれている。

【００２５】そこで本発明は、従来の実状に鑑みて提案
されたものであり、光が照射される透明基板或いは光透
過層といった記録層上に形成される透明カバー層に傷が
発生しにくく、破損が起こりにくく、信頼性が確保され
る光記録媒体を提供することを目的とする。また、本発
明は、特に高ＮＡ化に対応可能で、高容量化して、例え
ば８（ＧＢ）以上の情報を記録可能とする光記録媒体を
提供することを目的とする。

【００２６】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに本発明者等が鋭意検討した結果、光記録媒体の透明
基板或いは光透過層といった、記録層上に形成されて光
が照射される透明カバー層の表面側の硬度を高めること
により、透明カバー層への傷の発生を抑え、光記録媒体
の破損を抑え、信頼性を確保することが可能であること
を見出した。

【００２７】また、本発明者等は更なる検討を重ね、高
ＮＡ化に対応可能とし、高容量化して、例えば８（Ｇ
Ｂ）以上の情報を記録可能とする光記録媒体の適正な条
件、この光記録媒体の記録及び／又は再生に好適な光学
ディスク装置の適正な条件を見出した。

【００２８】すなわち、上述の目的を達成するために本
発明の光記録媒体は、記録層の一主面側に表面側がヤン
グ率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなる透明カバー層を
有するものであり、この透明カバー層側から開口数０．
７以上の対物レンズを用いて光が照射されて情報の記録
及び／又は再生が行われることを特徴とするものであ
る。

【００２９】表面の硬度の指標としては、モース硬度や
ロックウェル硬度、鉛筆硬度等が挙げられるが、統一さ
れたものがなく、比較が難しい。そこで本発明において
は、材料の硬さと密接な関係があるバルク状態のヤング
率（弾性率）を指標として用いることとした。

【００３０】なお、上記本発明の光記録媒体において
は、透明カバー層の厚さが１５０（μｍ）以下であって
も良い。

【００３１】また、上記本発明の光記録媒体において、
透明カバー層を表面側に配される第１の層と記録層側に
配される第２の層により形成するようにすれば、容易に
形成され、好ましい。

【００３２】なお、この場合、第１の層がヤング率１５
０（ＧＰａ）以上の材料よりなることが好ましく、第１
の層のヤング率が１５０（ＧＰａ）よりも小さいと十分
な硬度を確保することが難しく、好ましくない。また、
第１の層の厚さが２（ｎｍ）以上，２３０（ｎｍ）以下
であることが好ましく、第１の層の厚さが２（ｎｍ）未
満であると強度を確保することが難しく、第１の層の厚
さが２３０（ｎｍ）よりも厚いと表面反射が大きくなり
過ぎて好ましくない。

【００３３】さらに、上記本発明の光記録媒体において
は、透明カバー層の表面側がＣ_100-XＨ_X（１（原子％）
＜Ｘ＜４５（原子％）），Ｓｉ₃Ｎ₄，ＭｇＦ₂，Ａｌ₂Ｏ
₃，ＳｉＯ₂のうちの少なくとも１種類を含む材料よりな
ることが好ましい。

【００３４】また、本発明の光記録媒体は、記録層が、
支持層上に配されており、上記記録層中の少なくとも情
報信号が記録される情報信号部の領域において、上記透
明カバー層の厚さｔがｔ＝３〜１７７（μｍ）であっ
て、該透明カバー層厚さむらをΔｔとしたときに、当該
光記録媒体を記録及び／又は再生する光学系の開口数Ｎ
Ａおよび波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／Ｎ
Ａ⁴）（μｍ）の関係が成り立つことを特徴とするもの
である。

【００３５】なお、上記本発明の光記録媒体において
は、トラックピッチＰがＰ≦０．６４（μｍ）、スキュ
ーΘがΘ≦±８４．１１５°（λ／ＮＡ³／ｔ）を満た
すことが好ましい。

【００３６】さらに、上記本発明の光記録媒体は上記波
長λがλ≦０．６８（μｍ）、上記開口数ＮＡがＮＡ／
λ≧１．２０をみたす記録再生光学系で記録または再生
されることが好ましく、波長が６８０（ｎｍ）以下のレ
ーザー光源と、信号記録面にレーザー光を収束させるた
めの開口数ＮＡが０．７以上のレンズとを備えた光学デ
ィスク装置を用いるのが好ましい。

【００３７】本発明の光記録媒体においては、記録層の
一主面側に表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料
よりなる透明カバー層が形成されているため、この透明
カバー層側から開口数０．７以上の対物レンズを用いて
ワーキングディスタンスを狭めて光を照射するようにし
た場合に光学ピックアップとの衝突が発生しても、透明
カバー層への傷の発生が抑えられ、光記録媒体表面への
傷の発生が抑えられる。また、本発明の光記録媒体にお
いては、透明カバー層に前述の磁気ディスクに使用され
ている繊維を接触させて表面のゴミを取り除くようにし
ても、透明カバー層への傷の発生が抑えられ、光記録媒
体表面への傷の発生が抑えられる。

【００３８】なお、上記本発明の光記録媒体において、
透明カバー層の厚さを１５０（μｍ）以下とすれば、光
学ピックアップの対物レンズの高開口数化に十分対応す
る。

【００３９】また、上記本発明の光記録媒体において、
透明カバー層を表面側に配される第１の層と記録層側に
配される第２の層により形成するようにすれば、容易に
表面側の硬度が高くなされ、且つ透明カバー層が容易に
形成される。

【００４０】さらに、上記本発明の光記録媒体におい
て、上記記録層中の少なくとも情報信号が記録される情
報信号部の領域において、上記透明カバー層の厚さｔを
ｔ＝３〜１７７（μｍ）とし、該透明カバー層厚さむら
をΔｔとしたときに、当該光記録媒体を記録及び／又は
再生する光学系の開口数ＮＡおよび波長λとの間に、Δ
ｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ⁴）（μｍ）の関係が成り立
つようにし、トラックピッチＰがＰ≦０．６４（μ
ｍ）、スキューΘがΘ≦±８４．１１５°（λ／ＮＡ ³
／ｔ）となるようにし、上記波長λがλ≦０．６８（μ
ｍ）、上記開口数ＮＡがＮＡ／λ≧１．２０をみたす記
録再生光学系で記録または再生するようにすれば、高Ｎ
Ａ化に十分対応可能で、高容量化され、例えば８（Ｇ
Ｂ）以上の記録容量が達成される。

【００４１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態について詳細に説明する。

【００４２】本例の光記録媒体は、記録層の一主面側に
表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなる透
明カバー層を有するものであり、この透明カバー層側か
ら開口数０．７以上の対物レンズを用いて光が照射され
て情報の記録及び／又は再生が行われるものである。

【００４３】なお、本発明の光記録媒体の第１の例とし
て、本発明を光磁気ディスクに適用した例について述べ
る。

【００４４】すなわち、本例の光磁気ディスクにおいて
は、透明基板の一主面上に窒化珪素等の透明誘電体膜が
形成され、その上にＴｂＦｅＣｏ等の光磁気記録膜が記
録層として形成され、さらに窒化珪素等の透明誘電体膜
が形成され、さらにはアルミニウム膜等の反射膜が形成
され、さらにまた紫外線硬化型樹脂等よりなる保護膜が
形成されている。

【００４５】そして、本例の光磁気ディスクにおいて
は、透明基板側から光を照射することから、透明基板が
透明カバー層となされ、透明基板の表面側がヤング率７
０（ＧＰａ）以上の材料により形成されていることとな
る。

【００４６】なお、本例の光磁気ディスクにおいては、
透明カバー層、すなわち透明基板の厚さが１５０（μ
ｍ）以下となされている。

【００４７】さらに、上記本発明の光磁気ディスクにお
いては、透明カバー層、すなわち透明基板の表面側がＣ
_100-XＨ_X（１（原子％）＜Ｘ＜４５（原子％）），Ｓｉ
₃Ｎ₄，ＭｇＦ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂のうちの少なくとも
１種類を含む材料により形成されて、上記のようにヤン
グ率が７０（ＧＰａ）以上となされている。

【００４８】本例の光磁気ディスクにおいては、表面側
がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなる透明基板
を透明カバー層としており、この透明カバー層側から開
口数０．７以上の対物レンズを用いてワーキングディス
タンスを狭めて光を照射するようにした場合に光学ピッ
クアップとの衝突が発生しても、透明カバー層への傷の
発生が抑えられ、光磁気ディスク表面への傷の発生が抑
えられ、破損が起こりにくく、信頼性が確保される。

【００４９】また、本例の光磁気ディスクにおいては、
透明カバー層に磁気ディスクで使用されているライナー
と称される繊維を接触させても、透明カバー層への傷の
発生が抑えられ、光磁気ディスク表面への傷の発生が抑
えられ、破損が起こりにくく、信頼性が確保される。ま
た、上記のような繊維としては、レーヨン、ポリエステ
ル、ポリプロピレン、ナイロンよりなる不織布を使用す
ることも可能であり、この場合、光磁気ディスク及び不
織布の磨耗を防止するべく、光磁気ディスクの透明カバ
ー層表面或いは不織布表面を潤滑材料によりコーティン
グしても良い。

【００５０】なお、上記本例の光磁気ディスクにおいて
は、透明カバー層、すなわち透明基板の厚さを１５０
（μｍ）以下としており、光学ピックアップの対物レン
ズの高開口数化に十分対応する。

【００５１】上述の例においては、透明カバー層である
透明基板を単層とする例について述べたが、この透明基
板を表面側に配される第１の層と記録層側に配される第
２の層により形成するようにしても良く、このようにす
れば、容易に表面側の硬度を高くすることができる。

【００５２】なお、この場合、第１の層がヤング率１５
０（ＧＰａ）以上の材料よりなることが好ましく、第１
の層のヤング率が１５０（ＧＰａ）よりも小さいと十分
な硬度を確保することができず、好ましくない。また、
第１の層の厚さが２（ｎｍ）以上，２３０（ｎｍ）以下
であることが好ましく、第１の層の厚さが２（ｎｍ）未
満であると強度を確保することが難しく、第１の層の厚
さが２３０（ｎｍ）よりも厚いと表面反射が大きくなり
過ぎて好ましくない。

【００５３】さらに、本例においては、本発明を光磁気
ディスクに適用した例について述べたが、本発明が光デ
ィスク、光透過層を有しこれを透明カバー層として光が
照射される光記録媒体の何れにも適用可能であることは
言うまでもない。

【００５４】なお、透明カバー層がアクリル系高分子材
料等よりなる紫外線硬化型樹脂よりなる場合において
は、紫外線硬化型樹脂の組成を変更したり、紫外線硬化
型樹脂中にガラス等の粒子を混入させることにより、表
面側の硬度を高めることが可能である。

【００５５】次に、本発明の光記録媒体の第２の例とし
て、光透過層を有しこれを透明カバー層として光が照射
される光ディスクに適用した例について述べる。

【００５６】本例の光ディスクにおいても、先に述べた
光磁気ディスクと同様であり、記録層の一主面側に表面
側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなる透明カ
バー層を有するものであり、この透明カバー層側から開
口数０．７以上の対物レンズを用いて光が照射されて情
報の記録及び／又は再生が行われるものである。

【００５７】そして、本例の光磁気ディスクにおいて
は、光透過層側から光を照射することから、光透過層が
透明カバー層となされ、光透過層の表面側がヤング率７
０（ＧＰａ）以上の材料により形成されていることとな
る。

【００５８】さらに、本例の光ディスクにおいては、８
（ＧＢ）程度の情報の記録を可能とするようにしてい
る。

【００５９】先ず、透明カバー層の厚さについて述べ
る。一般的にディスクスキューマージンΘと記録再生光
学系の波長λ、開口数ＮＡ、透明カバー層の厚さｔとは
相関関係にあり、実用上十分そのプレイヤビリティが実
証されているデジタルオーディオディスク（いわゆるコ
ンパクトディスク（以下、ＣＤと称する。））の例を基
準にこれらのパラメータとスキューΘとの関係が、特開
平３−２２５６５０号公報に示されている。

【００６０】これによると、Θ≦±８４．１１５°（λ
／ＮＡ³／ｔ）であればよく、これは本発明の光記録媒
体にも適用することができ、本例の光ディスクにおいて
も適用している。

【００６１】ここで、ディスクを実際に量産する場合の
スキューΘの具体的な限界値を考えると、０．４°とす
るのが妥当である。これは、量産を考えた場合、これよ
り小さくすると歩留まりが低下し、コストが高価となっ
てしまうためである。なお、既存の光記録媒体について
も、ＣＤでは０．６°、ＤＶＤでは０．４°とされてい
る。なお、本例の光ディスクにおいても、スキューΘを
０．４゜以下としている。

【００６２】従って、Θ＝０．４°として記録及び／又
は再生に使用されるレーザー光の短波長化、高ＮＡ化に
対応するべく光透過層の厚さをどの程度に設定すべきか
を計算すると、まずλ＝０．６５（μｍ）とすると、Ｎ
ＡはＮＡ／λ≧１．２０から０．７８以上が要求され
る。これからｔ≦２８８（μｍ）が導き出される。

【００６３】また、今後、短波長化が進みλ＝０．４
（μｍ）となった場合を仮定し、ＮＡをＮＡ≧０．７８
のままにすると、ｔ＝１７７（μｍ）になる。この場
合、基板の厚さが１．２（ｍｍ）であるＣＤ等の製造設
備を流用することを考慮すると、本発明を適用した光デ
ィスクの厚さは最大約１．３８（ｍｍ）となる。

【００６４】また、光磁気記録媒体（以下、ＭＯと称す
る。）の磁界変調を考慮すると透明カバー層厚さは薄い
方がよく、例えば３０（μｍ）以下に設定するとＭＯで
の記録再生が容易になる。

【００６５】一方、透明カバー層の厚さの下限は記録膜
あるいは反射膜を保護する透明カバー層の保護機能によ
って決まり、信頼性や、後に記述する、２群レンズの衝
突の影響を考慮すると３（μｍ）以上が望ましい。

【００６６】前述のように、記録密度を上げるためには
ＮＡ／λを上げることが不可欠である。この場合、例え
ば記憶容量として８（ＧＢ）を達成させるために、少な
くともＮＡを０．７以上とし、レーザーの波長λを０．
６８（μｍ）以下とすることが必要となる。このとき、
上記のように透明カバー層の厚さとスキューとの間には
上記に記述された関係があるが、現状の赤色レーザーか
ら将来的に普及が見込まれる青色レーザーまで対応する
ことを考慮すると、透明カバー層の厚さは３〜１７７
（μｍ）に設定するのが適切である。

【００６７】従って、本例の光ディスクにおいては、透
明カバー層の厚さｔを３〜１７７（μｍ）としている。

【００６８】次に、トラックピッチについて述べる。本
発明のように８（ＧＢ）の記録容量を達成するために
は、トラックピッチＰ及び線密度ｄを変える必要があ
る。その条件としては、下記式２及び式３を満たせば良
い。

【００６９】 （０．７４／Ｐ）×（０．２６７／ｄ）×４．７≧８・・・（式２） ｄ≦０．１１６１／Ｐ（μｍ／ｂｉｔ）・・・（式３） 例えば、Ｐ＝０．５６（μｍ）のときｄ≦０．２０６
（μｍ／ｂｉｔ）となるが、これはＤＶＤのＲＯＭ（Ｒ
ｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）を基準にしており、
記録再生の信号処理技術の進歩（具体的には、ＰＲＭＬ
の適用や、ＥＣＣの冗長度を減らす等）を考慮すると、
さらに１５（％）程度の線密度の増加が見込まれ、その
分トラックピッチＰを増やすことが可能である。このこ
とから、トラックピッチＰは最大で０．６４（μｍ）と
なることが導き出される。

【００７０】従って、本例の光ディスクにおいては、ト
ラックピッチＰをＰ≦０．６４（μｍ）としている。

【００７１】さらに、本例の光ディスクにおいては、ト
ラックピッチむらΔＰについても公差が厳しくなる。Ｃ
ＤやＤＶＤの記録再生パラメータをそのまま転用する
と、ＤＶＤでのピッチ０．７４（μｍ）、公差±０．０
３から、ΔＰ≦±０．０３Ｐ／０．７４＝±０．０４Ｐ
となる。したがって、Ｐ＝０．５６とすると、ΔＰ≦±
０．０２３（μｍ） となる。

【００７２】従って、本例の光ディスクにおいては、ト
ラックピッチむらΔＰをΔＰ≦±０．０４Ｐとしてい
る。

【００７３】続いて、透明カバー層厚さむらについて述
べる。本例の光ディスクにおいては、透明カバー層の厚
さむらΔｔについてもさらなる高精度さが要求される。

【００７４】透明カバー層の厚さが再生対物レンズの設
計中心からずれた場合、その厚さ誤差がスポットに与え
る収差量はＮＡの４乗に、また波長に比例する。従って
高ＮＡ化、または短波長化による高密度化を行う場合、
その量（透明カバー層厚さむら）はさらに厳しく制限さ
れる。

【００７５】具体的なシステム例としてＣＤを挙げる
と、ＣＤはＮＡ＝０．４５が実用化されており透明カバ
ー層の厚さ誤差規格は±１００（μｍ）である。また、
ＤＶＤではＮＡ＝０．６で±３０（μｍ）と規定されて
いる。すなわち、透明カバー層厚さむらΔｔはＣＤでの
許容量±１００（μｍ）を基準にすると、下記式４のよ
うに表わされる。

【００７６】 Δｔ＝±（０．４５／ＮＡ）⁴×（λ／０．７８）×１００ ＝±５．２６×（λ／ＮＡ⁴）（μｍ）・・・（式４） ここで、透明カバー層厚さ１００（μｍ）中心に対し，
波長λ＝０．６８（μｍ） 、ＮＡ＝０．８７５で透明
カバー層厚さ誤差とジッター値との関係について実験を
行った結果を図１に示す。

【００７７】図１より、例えばＤＶＤにおいてスキュー
など摂動がない場合のジッター基準である８（％）にな
るところを見ると約±７（μｍ）であることがわかる。
上式から導き出される数値は±６（μｍ）であり、この
規格を満足するディスク媒体からは良好な信号が得られ
ることになる。

【００７８】したがって、高密度化に従い、透明カバー
層厚さに許容されるむらΔｔは、±５．２６×（λ／Ｎ
Ａ⁴）（μｍ）以下でなければならない。

【００７９】そこで、本例の光ディスクにおいては、透
明カバー層厚さむらをΔｔとしたときに、当該光ディス
クを記録及び／又は再生する光学系の開口数ＮＡおよび
波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ⁴）（μ
ｍ）の関係が成り立つようにしている。

【００８０】次いで、記録及び／又は再生する光が照射
される面の表面粗さＲａについて述べる。上述した透明
カバー層厚さむらは、記録及び／又は再生を行うレーザ
ー光が照射されるディスク表面内で、均一であることを
前提としており、フォーカス点をずらすことによって収
差補正可能である。ところが、この領域内（スポット
内）でもし透明カバー層厚さむらがあるとフォーカス点
の調整では補正できない。そしてこの量は厚さ中心値に
対して±３λ／１００以下に押さえる必要がある。

【００８１】従って、本例の光ディスクにおいては、記
録及び／又は再生する光が照射される面の表面粗さＲａ
が、その表面上のスポットサイズ領域内で±３λ／１０
０以下とされている。

【００８２】次に、偏心について述べる。上記偏心Ｅに
関してもＤＶＤの５０（μｍ）に対し、Ｅ≦５０×Ｐ／
０．７４＝６７．５７Ｐ（μｍ）となる。

【００８３】そこで、本例の光ディスクにおいては、偏
心ＥをＥ≦６７．５７Ｐ（μｍ）としている。

【００８４】すなわち、本例の光ディスクにおいては、
少なくとも情報信号が記録される情報記録部の領域にお
ける透明カバー層の厚さｔを３〜１７７（μｍ）とし、
上記透明カバー層厚さむらΔｔと上記光ディスクを記録
及び／又は再生する光学系の開口数ＮＡおよび波長λと
の間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ⁴）（μｍ）が成
り立つようにし、トラックピッチＰをＰ≦０．６４（μ
ｍ）とし、トラックピッチむらΔＰをΔＰ≦±０．０４
Ｐとし、線密度ｄをｄ≦０．１１６１／Ｐ（μｍ／ｂｉ
ｔ）とし、ディスクスキューΘをΘ≦±８４．１１５°
（λ／ＮＡ³／ｔ）とし、偏心ＥをＥ＝６７．５７Ｐ
（μｍ）とし、スポットサイズ領域内での表面粗さＲａ
をＲａ＝±３λ／１００以下とするとともに、記録再生
光学系を波長λがλ≦０．６８（μｍ）となり、ＮＡ／
λ≧１．２０をみたすものとすることで、８（ＧＢ）の
記録容量を確保して高密度化を達成するようにしてい
る。

【００８５】本例の光ディスクを製造するには、前述し
た本発明における光記録媒体に必要なスペックをみたす
ピッチおよびピッチむらを実現したスタンパを用い、射
出成形法にて基板を作成する。このようなピッチむらの
少ない高精度スタンパは従来の送りをネジで行う構造で
は達成が困難である為、リニアモータによる送り構造を
もった原盤露光装置で製造する。さらに光学系は空気の
揺らぎを排除する為のカバーで覆われており、露光用レ
ーザーの冷却水の振動を除去するため、レーザーと露光
装置の間に防振材を設置して作成される。

【００８６】また、本例の場合、この基板の情報信号面
上に反射膜、または記録膜を成膜し、その上方から記録
再生するので、予め成膜による信号形状の変形を考慮し
て、基板上にピットを形成する必要がある。

【００８７】例えば１０（ＧＢ）容量のＲＯＭの場合
は、基板側から見たときの信号ピットのアシンメトリー
が２５（％）であるとすると、基板と反対側から見たと
きのアシンメトリーは１０（％）である。即ち、本例に
おいては基板側とは反対側から信号を読み取ろうとする
為、例えば光照射側から見てアシンメトリー１０（％）
であるピットを形成する為には、基板に形成するピット
形状をアシンメトリー２５（％）にしておく必要があ
る。

【００８８】同様に記録ディスクに形成される案内用溝
（グルーブ）に関しても記録膜でグルーブデューティが
変化すること、例えばグルーブ記録（記録再生面からみ
て凹部への記録再生）の場合、溝が狭まるので、スタン
パの形状を広めにしておく等の対応が必要となる。例え
ばランド／グルーブ記録の場合、光照射側からみて、ラ
ンドとグルーブの巾デューティ５０（％）を得るために
は基板側からみて５５〜６５（％）に設定するのが好適
である。

【００８９】なお、この基板は、単板でディスクを構成
する場合、ある程度の剛性が要求される為０．６（ｍ
ｍ）以上であることが望ましい。同様に、２枚貼り合わ
せた構造の場合はその半分である０．３（ｍｍ）以上で
あることが好適である。

【００９０】次に、図２に示すように、この基板１０の
情報信号部１１に情報記録膜または反射膜を形成して、
記録層とする。このとき、上記基板１０は支持層とな
る。例えば該ディスクがＲＯＭの場合はＡｌなどの反射
膜を２０〜６０（ｎｍ）の厚さで成膜する。

【００９１】情報記録膜としては、例えば相変化材料を
例に取るとＡｌ膜、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂、ＧｅＳｂＴｅ、
ＺｎＳ−ＳｉＯ₂をこの順で成膜する。

【００９２】また、光磁気ディスクの場合は、Ａｌ膜、
ＳｉＮ、ＴｂＦｅＣｏ、ＳｉＮの順で形成される。

【００９３】また、追記型の場合は、ＡｕまたはＡｌを
スパッタした後、シアニン系または、フタロシアニン系
の有機色素膜をスピンコートで塗布、乾燥させて形成す
る。

【００９４】図２の例では、基板１０とは反対側から記
録再生用対物レンズＬを通じて記録再生光の照射がなさ
れる。

【００９５】次に図３に示すように、更にその上に紫外
線硬化性樹脂で、透明カバー層１２が形成される。例え
ば、上述のように形成されるいずれかの構造で成膜され
た基板１０の成膜面に、紫外線硬化性樹脂を滴下回転延
伸することにより透明カバー層１２を作成する。

【００９６】この紫外線硬化性樹脂の粘度としては、３
００（ｃｐｓ）以上６０００（ｃｐｓ）以下のものが上
記に記述した厚さを形成するのに適切である。

【００９７】例えば、２５（℃）で５８００（ｃｐｓ）
の粘度の紫外線硬化性樹脂を適用した場合には、基板上
に紫外線硬化性樹脂を滴下した後、基板を２０００（ｒ
ｐｍ）で１１秒間回転させることにより、最終的に１０
０（μｍ）程度の透明カバー層１２を形成することがで
きる。

【００９８】ここで、透明カバー層１２形成の際、基板
１０の内周部、例えば半径２５（ｍｍ）の位置に紫外線
硬化性樹脂を滴下し、回転延伸させると、遠心力と粘性
抵抗との関係から厚さに内外周差が生じる。この量は３
０（μｍ）以上にもなり、記述した厚さ範囲を満たすこ
とができない。

【００９９】これを回避するためには、基板１０の中心
孔１３を何らかの手段を用いて埋めた状態で、紫外線硬
化性樹脂滴下を行うことが有効である。例えば、０．１
（ｍｍ）厚さのポリカーボネートのシートを、直径Φが
３０（ｍｍ）の円形に加工し、基板１０の中心部に接着
した後、中心から紫外線硬化性樹脂を滴下し、回転延伸
を行い、紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化さ
せ、その後、中心孔を打ち抜く方法が考えられる。この
プロセスによれば、内外周差１０（μｍ）ｐ−ｐ（ピー
ク・トゥ・ピーク）以内の厚さの光透過層を得ることが
できる。

【０１００】なお、透明カバー層１２を形成する際に、
ディスク外周へはみ出すことが考えられるので、ディス
クの径は、ＣＤ等の径（１２０（ｍｍ））を基準とし
て、１２０（ｍｍ）＋５（ｍｍ）を最大値としておくこ
とが望ましい。

【０１０１】また、図４に示すように、例えば厚さ１０
０（μｍ）のポリカーボネートのシート１４を紫外線硬
化性樹脂１５で接着することにより、透明カバー層１２
を形成してもよい。この場合のシート１４の厚さむらと
接着用の紫外線硬化性樹脂１５の厚さむらとの和が１０
（μｍ）ｐ−ｐ（ピーク・トゥ・ピーク）以下であれば
よい。

【０１０２】例えば、基板１０と同径に加工したシート
１４を接着用の紫外線硬化性樹脂１５を介して基板１０
上に設置し、回転延伸させることにより、シート１４が
紫外線硬化性樹脂１５の重しとなって極薄の紫外線硬化
性樹脂の層が形成され、トータルの厚さむらを１０（μ
ｍ）ｐ−ｐ（ピーク・トゥ・ピーク）以下にすることが
できる。

【０１０３】なお、本発明は、図５に示すように基板１
０に形成された第１の記録層１７上に、中間層１６を介
して第２の記録層１８が形成された多層構造の光記録媒
体にも適用することができる。

【０１０４】また、上述した構成の光ディスクの場合、
スキューが発生しやすい。本発明においては特にこのス
キューを軽減する為に、図６に示すように、基板１０上
であって透明カバー層１２形成面側とは反対の面側にス
キュー補正部材１９として紫外線硬化性樹脂を塗布する
ことが有効である。

【０１０５】この場合、スキュー補正部材１９は透明カ
バー層１２と同じ材料でコートして形成してもよいし、
または、透明カバー層１２の材料である紫外線硬化性樹
脂よりも硬化収縮率が高い材料を薄く塗布して形成して
もよい。

【０１０６】なお、上記のような高密度光ディスクを記
録再生するためには、後述する高ＮＡの対物レンズを有
したピックアップが必要となる。この場合、前述のよう
に対物レンズとディスク面との間の距離、ワーキングデ
ィスタンスを従来の距離に対して狭くすることが望まし
い。

【０１０７】この場合、対物レンズがディスク面に衝突
してディスク表面を傷つけてしまうことが予想される。

【０１０８】これを防止するために、前述した例のよう
に透明カバー層の表面側の硬度を比較的高いものとする
べく、図７に示すように透明カバー層１２上にハードコ
ート（鉛筆硬度Ｈ以上）２０を施すことが考えられる。
また透明カバー層１２の厚さが薄くなると、ごみの影響
を受けやすくなるので、ハードコート２０は帯電防止の
機能を備えてもよい。この帯電防止により光ディスク表
面へのごみの吸着を防ぐことが可能となる。

【０１０９】また、本例の光ディスクにおいては、記録
及び／又は再生を行う光の波長を７８０（ｎｍ）とした
場合、透明カバー層の面内複屈折量は、往復で平均１５
（ｎｍ）以下、周内変動が１５（ｎｍ）ｐ−ｐ（ピーク
・トゥー・ピーク）以下であることが好ましい。

【０１１０】本例の光ディスクにおいて、例えば厚さ１
００（μｍ）のポリカーボネートのシートを用いて透明
カバー層を形成し、記録層を相変化膜とした場合に記録
再生実験を行った。この場合、線密度が０．２１（μｍ
／ｂｉｔ）でジッター８（％）が得られた。また、この
ような光ディスクの複屈折量を測定した。この測定結果
を図２３に示す。図２３において、横軸は半径方向の位
置（ｍｍ）を示し、縦軸は複屈折量（ｎｍ）を示す。図
２３においては、その分布を縦方向の線分で表示し、各
線分を横切る横線分位置が平均値となる。この複屈折量
は、往復で平均１５（ｎｍ）以下、周内変動は１５（ｎ
ｍ）ｐ−ｐ（ピーク・トゥ・ピーク）以下とすることが
できた。

【０１１１】また、本例の光ディスクにおいて、透明カ
バー層を液状光硬化性樹脂を情報記録層上に塗布し、回
転延伸した後、光硬化して形成し、記録層を相変化膜と
した場合に同様の記録再生実験を行った。

【０１１２】この場合、線密度が０．２１（μｍ／ｂｉ
ｔ）でジッター７（％）が得られた。また、このような
光ディスクの複屈折量を測定した。この測定結果を図２
４に示す。図２４において、横軸は半径方向の位置（ｍ
ｍ）を示し、縦軸は複屈折量（ｎｍ）を示す。図２４に
おいては、その分布を縦方向の線分で表示し、各線分を
横切る横線分位置が平均値となる。この複屈折量は、透
明カバー層をポリカーボネートシートにより形成した場
合よりもさらに少なくすることができ、往復で平均５
（ｎｍ）以下、周内変動は５（ｎｍ）ｐ−ｐ（ピーク・
トゥ・ピーク）以下とすることができた。

【０１１３】このように本例の光ディスクは、従来のＣ
ＤやＤＶＤの面内複屈折量が１００（ｎｍ）であること
と比較しても安定した優れた特性を有することがわか
る。

【０１１４】また、本発明の光記録媒体においては、記
録層の形成面に、シラン処理を施しても良い。このよう
にシラン処理を施すことにより、透明カバー層を形成す
る紫外線硬化性樹脂と、記録層表面との密着性を向上さ
せることができる。

【０１１５】また、本例の光記録媒体においては、透明
カバー層の表面に、反射防止膜を例えばスパッタ等の方
法で形成してもよい。

【０１１６】この反射防止膜の屈折率Ｎは、透明カバー
層の屈折率よりも低いものであることが望ましく、ま
た、この反射防止膜の厚さは、記録及び／又は再生を行
う光の波長をλとした場合に、（λ／３）／Ｎ（ｎｍ）
以下、更には（λ／４）／Ｎ（ｎｍ）程度とすることが
望ましい。

【０１１７】本例の光記録媒体のように高ＮＡになる
と、記録及び／又は再生を行う記録再生光の入射角も大
きくなり、これにより透明カバー層の表面における光の
反射が無視できなくなる。

【０１１８】例えば、ＮＡ＝０．４５の場合には、記録
再生光の入射角は、２６．７°、ＮＡ＝０．６の場合に
は、３６．９°となる。

【０１１９】そして、ＮＡ＝０．８の場合には、記録再
生光の入射角は、５３．１°にもなる。透明カバー層の
表面における光の反射率は、記録再生光の入射角に依存
していることが確かめられており、透明カバー層の屈折
率が例えば１．５２の場合には、ｓ偏光成分の表面反射
率は１５（％）を越える。（キノメレスグリオ株式会社
出版「レーザーアンドオプティクスガイド」の１６８頁
参照）この場合、光量の損失という問題を生じるととも
に実効ＮＡの低下をもたらす。

【０１２０】このため、このような問題を回避するため
に透明カバー層の表面に、反射防止膜を形成することが
有効である。

【０１２１】反射防止膜の材料には、透明カバー層の屈
折率を１．５２とした場合には、光学的に屈折率が１．
２３程度のものを用いることが理想であることが知られ
ている（共立出版 光学技術シリーズ１１ 光学薄膜
第２８頁参照）。しかし工業的には、例えばＭｇＦ₂が
用いられる。ＭｇＦ₂の屈折率Ｎは１．３８である。

【０１２２】記録再生光の波長を６５０（ｎｍ）とする
と、ＭｇＦ₂よりなる反射防止膜の厚さは、（λ／４）
／Ｎ（ｎｍ）の式に各数値を代入することにより、約１
２０（ｎｍ）の厚さに形成することが好ましいことがわ
かる。

【０１２３】ところで、透明カバー層の表面における光
の反射量は、反射防止膜の厚さを零から（λ／４）／Ｎ
（ｎｍ）の範囲で減少させていくと、（λ／４）／Ｎ
（ｎｍ）とした場合に最少となることが確かめられてい
る。一方、反射防止膜の厚さが（λ／４）／Ｎ（ｎｍ）
を越えると光の反射量は増大し、（λ／２）／Ｎ（ｎ
ｍ）となったときに最大となることも確かめられてい
る。このことから、反射防止膜の厚さは、工業上に成膜
技術も考慮し、また、実用上（λ／３）／Ｎ（ｎｍ）以
下であれば良いことが確認された。

【０１２４】上述したように透明カバー層の表面に反射
防止膜を形成したとき、例えば屈折率１．５２の透明カ
バー層上に反射防止膜としてＭｇＦ₂を単層で（λ／
４）／Ｎ（ｎｍ）の厚さに形成したとき、記録再生光と
して５５０（ｎｍ）のものを使用した場合には、記録再
生光の入射角が６０°程度までは、５０（％）以上の光
量の低減を防止することができる（キノメレスグリオ株
式会社出版「レーザーアンドオプティクスガイド」の１
７４頁参照）。

【０１２５】本発明は、単板構造のディスクのみなら
ず、図８に示すような、最終的に得る基板１０の半分の
厚さの２枚の基板５１、５２を、２枚貼り合わせる構造
の光記録媒体（光ディスク）にも適用可能である。この
場合、厚さ０．６（ｍｍ）の基板５１，５２に、最大１
７０（μｍ）の透明カバー層を形成して貼り合わせるの
で、ディスクの厚さは（０．６＋０．１７）×２＋（接
着層の厚さ）となり、接着層の厚さを０．０６（ｍｍ）
とすると、光ディスクの厚さは１．６０（ｍｍ）とな
る。また、図９に示すように、１枚の基板５０の両面に
情報信号部と透明カバー層１２を有するような構造の光
記録媒体（光ディスク）にも適用可能である。

【０１２６】上記のような光ディスクの製造例について
を説明する。図１０に示すように、押し出し成形、また
はキャスト法で作られた例えば１００（μｍ）厚さのポ
リカーボネートのシート４０を用意し、ガラス転移点よ
りも高い温度に熱せられたスタンパー４１にローラー４
２に圧力をかけることで圧着させる。この場合の圧力
は、たとえば２８０（Ｋｇｆ）とすることができる。

【０１２７】この操作により、図１１に示すように、シ
ート４０にスタンパー４１の情報ピットあるいは案内溝
が転写される。そしてこれを冷却した後、スタンパー４
１からシートを剥離して例えば１００（μｍ）厚の薄板
基板４３を形成する。

【０１２８】続いて、先に述べた製造方法と同様に、記
録膜または反射膜を成膜して、最終的に薄型の光記録媒
体を得ることができる。

【０１２９】また、この図１１に示した薄板基板４３を
用いて、多層構造の光記録媒体を作製することができ
る。

【０１３０】この場合、先ず、図１２に示すように、ス
タンパー１４１上に液状紫外線硬化性樹脂６０を滴下
し、図１１において示した薄板基板４３を記録層側を液
状紫外線硬化性樹脂６０に接触させて設置する。

【０１３１】そして、図１３に示すように、液状紫外線
性樹脂６０を介して回転基台６１上に配置した状態で薄
板基板４３が重ね合わされたスタンパー１４１を回転さ
せて、液状紫外線硬化性樹脂６０を延伸し、所要の厚
さ、例えば２０（μｍ）とし、その後、図１４に示すよ
うに薄板基板４３側からランプ６２により紫外線を照射
し、液状紫外線硬化性樹脂６０を光硬化させる。

【０１３２】続いて、図１５に示すように、薄板基板４
３と、例えば２０（μｍ）の厚さの光硬化された紫外線
硬化性樹脂６０を一体として、スタンパー１４１から剥
離する。

【０１３３】上述のようにして、スタンパー１４１によ
り紫外線硬化性樹脂６０に転写された微細凹凸に、例え
ばＳｉ化合物や、Ａｌ、Ａｕ等の金属薄膜を成膜するこ
とにより記録層を形成することができる。

【０１３４】また、更に図１２〜図１５を用いて説明し
た工程を繰り返し行うことによって、情報記録膜あるい
は反射膜と、透明カバー層が３層以上で積層された光デ
ィスクを作製することもできる。

【０１３５】そして、最終的に得られた記録層上に、図
１６に示すように、例えば射出成形によって得られた基
板１０を紫外線硬化性樹脂６０を介して例えば２０（μ
ｍ）の間隔で貼り合わせることにより、剛性の高い光デ
ィスクが得られる。

【０１３６】また、図１７に示すように、最終的に得ら
れた記録層上に例えばＡｌ，Ａｕ等の高反射膜７０を成
膜し、さらに保護膜７１を形成することにより、多層構
造の薄型の光ディスクを作製することができる。

【０１３７】この場合、記録層の層数をＮとしたとき、
最終的に得られる光ディスクの厚さは、薄板基板４３の
厚さの例えば１００（μｍ）と、各層間の紫外線硬化性
樹脂層のＮ倍の厚さと、高反射膜７０と保護膜７１の厚
さの例えば５（μｍ）との和となる。すなわち、例えば
各層間の紫外線硬化性樹脂層の厚さを２０（μｍ）とし
高反射膜７０と保護膜７１の厚さを５（μｍ）とした場
合であって、４層構造の光ディスクを作製したとき、光
ディスク全体としては１８５（μｍ）の厚さになる。

【０１３８】しかし、このようにして得られる光ディス
クは剛性が非常に低いので、薄板基板４３側に、剛性を
有する厚板を貼り合わせて支持するとか、記録再生時に
おいて高速回転によってフレキシブルな光ディスクがフ
ラットになることを利用して記録再生を行う等の工夫が
必要となる。

【０１３９】上記において説明した各記録層間の厚さの
例の２０（μｍ）という数値は、最終的に得られる光デ
ィスクの層数と、この光ディスクを記録再生するピック
アップのレンズの可動距離とで決定される。

【０１４０】例えば、レンズの可動距離すなわち２群レ
ンズの間隔が５０（μｍ）である場合には、図１８に示
すように基板１０と薄板基板４３とを５０（μｍ）の間
隔で紫外線硬化性樹脂を介して貼り合わせればよく、ま
た、図１９に示すように３層構造の光ディスクを作製す
る場合には、薄板基板４３と基板１０との間に、２５
（μｍ）の間隔で記録層を挟んで形成すればよい。

【０１４１】また、本発明は、上述した構造の光ディス
クの他、図２０に示すように、薄板基板４３と、例えば
射出成形で作成した例えば１．１（ｍｍ）の厚さのディ
スク状基板５０とを、紫外線硬化性樹脂を介して貼り合
わせて圧着し、透明基板側から紫外線を照射する事によ
り接着してた光ディスクにも適用することができる。

【０１４２】さらに、本発明においては、図２１に示す
ように、射出成形によって両面に記録層を形成する微細
凹凸が転写された基板５０と、薄板基板４３とを、紫外
線硬化性樹脂を介して貼り合わせて圧着し、薄板基板４
３側から紫外線を照射して接着して、最終的に４層構造
とされる光ディスクにも適用可能である。

【０１４３】次に基板上に形成されるピット、またはグ
ルーブの深さについて説明する。以下において、透明カ
バー層の屈折率をＮとする。

【０１４４】最も変調度が得られるピットまたはグルー
ブの深さは（λ／４）／Ｎであり、ＲＯＭ等はこの深さ
に設定する。

【０１４５】また、グルーブ記録やランド記録におい
て、プッシュプルでトラッキングエラー信号を得ようと
する場合、プッシュプル信号はピットまたはランドの深
さが（λ／８）／Ｎのときに最大となる。

【０１４６】さらに、ランド／グルーブ記録において、
グルーブ深さはサーボ信号の特性とともに、クロストー
クやクロスイレースの特性を考慮すべきであり、実験的
にはクロストークは（λ／６）／Ｎ若しくは（λ／３）
／Ｎ近辺で最小になり、クロスイレースは深い方が影響
が少ないことが確認されている。また、グルーブ傾き等
を考慮し、両特性を満足させようとすると、（３λ／
８）／Ｎが近辺が最適となる。本発明においては、ピッ
トまたはグルーブの深さは上記範囲内とされることが好
ましい。

【０１４７】次に、本発明の光学ディスク装置に適用し
て好適な高ＮＡを実現させるレンズの実施例について説
明する。図２２は高ＮＡを実現させるレンズの構成を示
す。

【０１４８】すなわち、第１のレンズ３１と光ディスク
２１との間に第２のレンズ３２を配置する。このよう
に、２群レンズ構成にすることで、ＮＡを０．７以上に
することが可能となり、第２のレンズ３２の第１面３２
ａと光ディスク２１の表面との間隔（Ｗ．Ｄ．）を狭く
することができる。

【０１４９】また、第１のレンズ３１及び第２のレンズ
３２の第１面３１ａ、第２面３１ｂ、第３面３２ａ、及
び第４面３２ｂは夫々非球面形状にすることが望まし
い。

【０１５０】この２群レンズを用いた光学ディスク装置
においては、上述した光ディスクの高密度記録再生を行
うことが可能となる。

【０１５１】

【実施例】次に、本発明の効果を確認するべく、以下に
示すような実験を行った。

【０１５２】実験例１ 本実験例においては、透明カバー層の表面側を形成する
材料のヤング率と傷の発生のし易さの関係を調査した。

【０１５３】すなわち、光記録媒体として半径６０（ｍ
ｍ）の各種光記録媒体を用意し、この光記録媒体の透明
カバー層となる透明基板或いは光透過層の表面にＪＩＳ
規格により定められている粉塵ＪＩＳ−１５を少量載置
した。そして、その上にポリエステル製の繊維を被せて
０．２（ｇ／ｃｍ² ）の圧力で押し付けた状態で、回転
数１８００（ｒｐｍ）で１分間回転させ、半径４０（ｍ
ｍ）の位置における傷の発生程度を目視により観察し
た。

【０１５４】なお、光記録媒体としては、透明カバー層
がポリカーボネートよりなるもの、透明カバー層が紫外
線硬化型樹脂よりなるものを用意し、ポリカーボネート
よりなる透明カバー層上に厚さ１００（μｍ）のポリカ
ーボネートよりなる膜を形成したもの、紫外線硬化型樹
脂よりなる透明カバー層上に厚さ１００（μｍ）の紫外
線硬化型樹脂よりなる膜を形成したもの、紫外線硬化型
樹脂よりなる透明カバー層上に厚さ５０（ｎｍ）のＣＨ
（アモルファス水素化炭素）をＣＶＤ法により形成した
もの、Ｓｉ₃Ｎ₄，ＭｇＦ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂をそれぞ
れスパッタ法により形成したものを用意した。すなわ
ち、結果的に、透明カバー層を表面側に配される第１の
層と記録層側に配される第２の層により構成することと
した。

【０１５５】結果を表１に示す。

【０１５６】

【表１】

【０１５７】なお、表１においては、第１の層形成材
料、第１の層厚さ、第１の層形成材料ヤング率、第１の
層形成材料鉛筆硬度、第２の層形成材料、傷の程度を併
せて示すこととする。ただし、上記ヤング率はバルク状
態におけるヤング率を示し、上記鉛筆硬度は正確なヤン
グ率の測定が不可能である紫外線硬化型樹脂の硬さを表
すために示すこととし、ここで示す各樹脂の鉛筆硬度は
ガラス基板上に硬化させた状態での硬度を示す。

【０１５８】表１の結果から、表面側の第１の層を柔ら
かい材料であるポリカーボネートや紫外線硬化型樹脂に
より形成している光記録媒体においては、非常に多くの
擦り傷が見られることがわかる。ただし、これらの中で
も第１の層を比較的硬度が高い紫外線硬化型樹脂により
形成している光ディスクの方が傷の発生が抑えられてお
り、透明カバー層の表面側の硬さが傷の発生に大きく関
与していることがわかる。

【０１５９】また、表１の結果から、表面側の第１の層
をヤング率が７０（ＧＰａ）以上のＳｉＯ₂，ＭｇＦ₂に
より形成している光記録媒体においては、擦り傷がかな
り抑えられており、表面側の第１の層をヤング率が１５
０（ＧＰａ）以上のＡｌ₂Ｏ₃，Ｓｉ₃Ｎ₄，ＣＨ（アモル
ファス水素化炭素）により形成している光記録媒体にお
いては、擦り傷が全く発生していないことがわかる。こ
れは表面の硬度が十分に硬いためと思われる。

【０１６０】すなわち、本発明のように、透明カバー層
の表面側のヤング率を７０（ＧＰａ）以上の材料により
形成すれば、透明カバー層の表面側の傷の発生が抑えら
れ、光記録媒体表面への傷の発生が抑えられ、破損が起
こりにくく、信頼性が確保されることが確認された。

【０１６１】また、本発明のように、透明カバー層を表
面側に配される第１の層と記録層側に配される第２の層
により形成し、第１の層をヤング率１５０（ＧＰａ）以
上の材料により形成すれば、透明カバー層の表面側の傷
の発生がさらに抑えられ、光記録媒体表面への傷の発生
がさらに抑えられ、破損がさらに起こりにくく、信頼性
がさらに確保されることが確認された。

【０１６２】さらに、本発明のように透明カバー層の表
面側をＣ_100-XＨ_X（１（原子％）＜Ｘ＜４５（原子
％）），Ｓｉ₃Ｎ₄，ＭｇＦ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂のうち
の少なくとも１種類を含む材料により形成すれば、透明
カバー層の表面側の硬度を容易に向上させることが可能
であることが確認された。

【０１６３】実験例２ 本実験例においては、透明カバー層の表面側となる第１
の層の厚さと傷の発生し易さの関係、透明カバー層の表
面側となる第１の層の厚さと反射率の関係を調査した。

【０１６４】すなわち、光記録媒体として実験例１と同
様に直径６０（ｍｍ）で透明カバー層が紫外線硬化型樹
脂よりなるものを用意し、紫外線硬化型樹脂よりなる透
明カバー層上にＳｉＯ₂よりなる膜をスパッタ法により
厚さ１（ｎｍ），２（ｎｍ），１０（ｎｍ），５０（ｎ
ｍ），２００（ｎｍ）でそれぞれ形成したもの、紫外線
硬化型樹脂よりなる透明カバー層上にＳｉ₃Ｎ₄よりなる
膜を厚さ１（ｎｍ），２（ｎｍ），１０（ｎｍ），５０
（ｎｍ）でそれぞれ形成したものを用意した。

【０１６５】そして、これら光記録媒体の傷の発生し易
さを実験例１と同様にして調査した。結果を表２に示
す。

【０１６６】

【表２】

【０１６７】なお、表２においても、第１の層形成材
料、第１の層厚さ、第２の層形成材料、傷の程度を併せ
て示すこととする。

【０１６８】表２の結果から、第１の層形成材料の種類
に関係なく、第１の層厚さが厚い程、傷の発生が抑えら
れることがわかる。また、第１の層形成材料をＳｉ₃Ｎ₄
で形成した場合においては、第１の層厚さが２（ｎｍ）
で効果が得られることがわかる。

【０１６９】ところで、第１の層厚さには、成膜時間の
問題の他、光学的な問題に起因して上限がある。

【０１７０】すなわち、屈折率の異なる第１の層と第２
の層を重ねることとなるため、大気と第１の層の境界で
の反射光と第１の層と第２の層の境界での反射光が干渉
し、ある厚さにおいて反射率が非常に高くなり、記録層
に達する光量が減少してしまう。これにより、再生信号
のレベルの低下や記録パワーの不足等の問題が生じてし
まうためである。

【０１７１】そこで、透明カバー層の大気に対する屈折
率を１．５２に固定し、第１の層厚さを変更した場合に
おける波長６４０（ｎｍ）の光に対する反射率の変化を
計算により求めた。なお、第１の層はＭｇＦ₂，Ｓｉ
Ｏ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，ＣＨ，Ｓｉ₃Ｎ₄のそれぞれにより形成
することとした。結果を図２５に示す。図２５中横軸は
第１の層厚さを示し、縦軸は反射率を示し、図中×はＭ
ｇＦ₂の結果を示し、図中○はＳｉＯ₂の結果を示し、図
中△はＡｌ₂ Ｏ₃ の結果を示し、図中◎はＣＨの結果を
示し、図中□はＳｉ₃Ｎ₄の結果を示す。

【０１７２】なお、各材料の屈折率は、ＭｇＦ₂が１．
３８、ＳｉＯ₂が１．４６、Ａｌ₂Ｏ₃が１．６０、ＣＨ
が１．８０、Ｓｉ₃Ｎ₄が２．００である。

【０１７３】また、透明カバー層の大気に対する屈折率
を１．３８に固定し、第１の層厚さを変更した場合にお
ける波長６４０（ｎｍ）の光に対する反射率の変化を計
算により求めた。なお、第１の層はＳｉＯ₂，Ａｌ
₂Ｏ₃，ＣＨ，Ｓｉ₃Ｎ₄のそれぞれにより形成することと
した。結果を図２６に示す。図２６中横軸は第１の層厚
さを示し、縦軸は反射率を示し、図中○はＳｉＯ₂ の結
果を示し、図中△はＡｌ₂Ｏ₃の結果を示し、図中◎はＣ
Ｈの結果を示し、図中□はＳｉ₃Ｎ₄の結果を示す。

【０１７４】図２５及び図２６の結果から、屈折率が高
いＣＨ，Ｓｉ₃Ｎ₄を用いた場合においては、第１の層厚
さによっては反射率が１０（％）以上となってしまうこ
とがわかる。通常のポリカーボネートよりなる透明基板
の反射率は５（％）程度であり、再生信号レベルは表面
反射により表面反射が全くない場合に比べて０．９５×
０．９５＝０．９０となる。この従来の値の０．９に比
べて１０（％）低い値までを許容量とすると、表面反射
率は１０（％）まで許容される。

【０１７５】この条件を満たすには、第１の層形成材料
の屈折率が１．６５以下であるか、もしくは第１の層形
成材料の屈折率が１．６５よりも大きい場合、例えば屈
折率が２．０の場合において、第１の層厚さが３０（ｎ
ｍ）以下又は１３０（ｎｍ）以上，１９０（ｎｍ）以下
である必要がある。

【０１７６】しかしながら、本実験例で使用されている
材料の屈折率程度の範囲の屈折率を有する材料を用いる
場合には、上記の表面反射率の変化と、厚さが厚い程、
強度が向上することを考え併せるとその厚さの上限は２
３０（ｎｍ）程度と考えられる。これ以上の厚さとする
と、屈折率が高い材料を使用した場合において厚さの変
動等により表面反射率が許容値とならなくなることが懸
念され、また成膜時間が実用的でなくなることから好ま
しくない。

【０１７７】すなわち、本実験例の結果から、本発明の
光記録媒体において、透明カバー層を表面側に配される
第１の層と記録層側に配される第２の層により形成する
場合においては、第１の層の厚さを２（ｎｍ）以上，２
３０（ｎｍ）以下とすることが好ましいことが確認され
た。

【０１７８】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の光記録媒体においては、記録層の一主面側に表面側
がヤング率７０（ＧＰａ）以上の材料よりなる透明カバ
ー層が形成されているため、この透明カバー層側から開
口数０．７以上の対物レンズを用いてワーキングディス
タンスを狭めて光を照射するようにした場合に光学ピッ
クアップとの衝突が発生しても、透明カバー層表面への
傷の発生が抑えられ、光記録媒体表面への傷の発生が抑
えられ、破損が起こりにくく、信頼性が確保される。

【０１７９】また、本発明の光記録媒体においては、透
明カバー層に磁気ディスクで使用されているような繊維
を接触させても、透明カバー層への傷の発生が抑えら
れ、光記録媒体表面への傷の発生が抑えられ、破損が起
こりにくく、信頼性が確保される。

【０１８０】なお、上記本発明の光記録媒体において、
透明カバー層の厚さを１５０（μｍ）以下とすれば、光
学ピックアップの対物レンズの高開口数化に十分対応す
る。

【０１８１】また、上記本発明の光記録媒体において、
透明カバー層を表面側に配される第１の層と記録層側に
配される第２の層により形成するようにすれば、容易に
表面側の硬度が高くなされ、且つ透明カバー層が容易に
形成される。

【０１８２】さらに、上記本発明の光記録媒体におい
て、上記記録層中の少なくとも情報信号が記録される情
報信号部の領域において、上記透明カバー層の厚さｔを
ｔ＝３〜１７７（μｍ）とし、該透明カバー層厚さむら
をΔｔとしたときに、当該光記録媒体を記録及び／又は
再生する光学系の開口数ＮＡおよび波長λとの間に、Δ
ｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ⁴）（μｍ）の関係が成り立
つようにし、トラックピッチＰがＰ≦０．６４（μ
ｍ）、スキューΘがΘ≦±８４．１１５°（λ／ＮＡ³
／ｔ）となるようにし、上記波長λがλ≦０．６８（μ
ｍ）、上記開口数ＮＡがＮＡ／λ≧１．２０をみたす記
録再生光学系で記録または再生するようにすれば、高Ｎ
Ａ化に十分対応可能で、高容量化され、例えば８（Ｇ
Ｂ）以上の記録容量が達成される。また、本発明の光記
録媒体は、簡便な記録再生装置のままで従来に比べ高容
量化を図ることが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】透明カバー層の厚さ誤差によるジッター値の変
化の関係を示す。

【図２】基板上に記録層が形成された状態を模式的に示
す要部概略断面図である。

【図３】本発明を適用した光ディスクの一例を模式的に
示す要部概略断面図である。

【図４】本発明を適用した光ディスクの他の例を模式的
に示す要部概略断面図である。

【図５】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を
模式的に示す要部概略断面図である。

【図６】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を
模式的に示す要部概略断面図である。

【図７】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を
模式的に示す要部概略断面図である。

【図８】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を
模式的に示す要部概略断面図である。

【図９】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例を
模式的に示す要部概略断面図である。

【図１０】シートをスタンパーに圧着させる工程を模式
的に示す側面図である。

【図１１】薄板基板を用意する工程を示す側面図であ
る。

【図１２】スタンパー上に紫外線硬化性樹脂を介して薄
板基板を配する工程を模式的に示す断面図である。

【図１３】紫外線硬化性樹脂を延伸させる工程を模式的
に示す断面図である。

【図１４】紫外線硬化性樹脂を硬化させる工程を模式的
に示す断面図である。

【図１５】スタンパーから剥離する工程を模式的に示す
断面図である。

【図１６】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例
を模式的に示す要部概略断面図である。

【図１７】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例
を模式的に示す要部概略断面図である。

【図１８】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例
を模式的に示す要部概略断面図である。

【図１９】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例
を模式的に示す要部概略断面図である。

【図２０】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例
を模式的に示す要部概略断面図である。

【図２１】本発明を適用した光ディスクのさらに他の例
を模式的に示す要部概略断面図である。

【図２２】本発明を適用した光ディスクを記録再生する
光学ディスク装置に用いる２群レンズを示す拡大図であ
る。

【図２３】本発明を適用した光ディスクの透明カバー層
の複屈折量の測定結果の一例を示す。

【図２４】本発明を適用した光ディスクの透明カバー層
の複屈折量の測定結果の他の例を示す。

【図２５】第１の層厚さと反射率の関係の一例を示す特
性図である。

【図２６】第１の層厚さと反射率の関係の他の例を示す
特性図である。

【符号の説明】

１０，５０，５１，５２ 基板、１１ 情報信号部、１
２ 透明カバー層、１３ 中心孔、１４，４０ シー
ト、１５ 紫外線硬化性樹脂、１６ 中間層、１７ 第
１の記録層、１８ 第２の記録層、１９ スキュー補正
部材、２０ ハードコート、２１ 光ディスク、３１
第１のレンズ、３２ 第２のレンズ、４１，１４１ ス
タンパー、４２ ローラー、４３ 薄板基板、６０ 液
状紫外線硬化性樹脂、６１ 回転基台、６２ ランプ、
７０ 高反射膜、７１ 保護膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３４ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３４Ｋ ５３４Ｍ ５４１ ５４１Ｆ ５６１ ５６１Ｎ ５６１Ｐ 7/00 7/00 Ｑ 7/135 7/135 Ｚ

Claims (35)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録層の一主面側に透明カバー層を有
   し、この透明カバー層側から開口数ＮＡが０．７以上の
   対物レンズを用いて光が照射されて情報の記録及び／又
   は再生が行われる光記録媒体において、 透明カバー層の表面側がヤング率７０（ＧＰａ）以上の
   材料よりなることを特徴とする光記録媒体。
2. 【請求項２】 上記透明カバー層の厚さが１５０（μ
   ｍ）以下であることを特徴とする請求項１記載の光記録
   媒体。
3. 【請求項３】 上記透明カバー層が、表面側に配される
   第１の層と記録層側に配される第２の層よりなることを
   特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
4. 【請求項４】 上記第１の層がヤング率１５０（ＧＰ
   ａ）以上の材料よりなることを特徴とする請求項３記載
   の光記録媒体。
5. 【請求項５】 上記第１の層の厚さが２（ｎｍ）以上，
   ２３０（ｎｍ）以下であることを特徴とする請求項３記
   載の光記録媒体。
6. 【請求項６】 上記透明カバー層の表面側がＣ_100-XＨ_X
   （１（原子％）＜Ｘ＜４５（原子％）），Ｓｉ₃Ｎ₄，Ｍ
   ｇＦ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂のうちの少なくとも１種類を
   含む材料よりなることを特徴とする請求項１記載の光記
   録媒体。
7. 【請求項７】 上記記録層は、支持層上に配されてお
   り、 上記記録層中の少なくとも情報信号が記録される情報信
   号部の領域において、上記透明カバー層の厚さｔがｔ＝
   ３〜１７７（μｍ）であって、 該透明カバー層厚さむらをΔｔとしたときに、当該光記
   録媒体を記録及び／又は再生する光学系の開口数ＮＡお
   よび波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／ＮＡ⁴）
   （μｍ）の関係が成り立つことを特徴とする請求項１記
   載の光記録媒体。
8. 【請求項８】 トラックピッチをＰ、スキューをΘとす
   ると、 Ｐ≦０．６４（μｍ）且つΘ≦±８４．１１５°（λ／
   ＮＡ³／ｔ）を満たすことを特徴とする請求項７記載の
   光記録媒体。
9. 【請求項９】 上記波長λがλ≦０．６８（μｍ）、上
   記開口数ＮＡがＮＡ／λ≧１．２０をみたす記録再生光
   学系で記録または再生されることを特徴とする請求項７
   記載の光記録媒体。
10. 【請求項１０】 平面円形をなし、外径が１２５（ｍ
    ｍ）以下であって、厚さが１．６０（ｍｍ）以下である
    ことを特徴とする請求項７記載の光記録媒体。
11. 【請求項１１】 記録容量が８（ＧＢ）とされる線密度
    であることを特徴とする請求項７記載の光記録媒体。
12. 【請求項１２】 上記透明カバー層の屈折率をＮとした
    ときに、グルーブまたは情報ピット深さが（λ／８）／
    Ｎから（３λ／８）Ｎの範囲にあることを特徴とする請
    求項７記載の光記録媒体。
13. 【請求項１３】 トラックピッチをＰ（μｍ）としたと
    き、トラックピッチむらΔＰがΔＰ≦±０．０４Ｐ（μ
    ｍ）であり、偏心ＥがＥ≦６７．５７Ｐ（μｍ）、スキ
    ューが０．４°以下であることを特徴とする請求項７記
    載の光記録媒体。
14. 【請求項１４】 記録及び／又は再生する光が照射され
    る面の表面粗さＲａが、その表面上のスポットサイズ領
    域内で±３λ／１００以下であることを特徴とする請求
    項７記載の光記録媒体。
15. 【請求項１５】 上記支持層が熱可塑性樹脂からなり
    ０．３〜１．２（ｍｍ）の厚さを有する基板とされ、 上記基板上に案内溝が転写形成され、 上記案内溝上に順次多層膜が形成あるいは有機色素がス
    ピンコートされて記録層とされており、 その上に少なくとも１種類の紫外線硬化性樹脂が３〜１
    ７７（μｍ）の厚さでコートされて透明カバー層とされ
    ていることを特徴とする請求項７記載の光記録媒体。
16. 【請求項１６】 上記支持層が熱可塑性樹脂からなり
    ０．３〜１．２（ｍｍ）の厚さを有する基板とされ、 上記基板上に案内溝が転写形成され、 上記案内溝上に順次多層膜が形成あるいは有機色素がス
    ピンコートされて記録層とされており、 その上に透明カバー層として、紫外線硬化性樹脂を介し
    て光透過性フィルムが貼られ、両者の厚さの和が３〜１
    ７７（μｍ）とされていることを特徴とする請求項７記
    載の光記録媒体。
17. 【請求項１７】 上記透明カバー層は、射出成形または
    キャスト法によって作られたシートにマスタスタンパー
    から高温加熱により信号または案内溝を転写したもので
    あることを特徴とする請求項７記載の光記録媒体。
18. 【請求項１８】 上記信号または案内溝を転写したシー
    トに厚さが０．６〜１．２（ｍｍ）の支持基板が貼り合
    わされてなることを特徴とする請求項１７記載の光記録
    媒体。
19. 【請求項１９】 上記支持基板が透明板であることを特
    徴とする請求項１８記載の光記録媒体。
20. 【請求項２０】 上記支持基板は、紫外線硬化性樹脂を
    介して信号または案内溝を転写したシートに接着されて
    いることを特徴とする請求項１８記載の光記録媒体。
21. 【請求項２１】 上記紫外線硬化性樹脂はスピンコート
    により塗布されていることを特徴とする請求項２０記載
    の光記録媒体。
22. 【請求項２２】 両面同時成形あるいは貼り合わせによ
    り、両面に情報信号部と透明カバー層を有する両面構造
    になっていることを特徴とする請求項７記載の光記録媒
    体。
23. 【請求項２３】 情報記録膜あるいは反射膜と、透明カ
    バー層が複数積層される、多層構造であることを特徴と
    する請求項７記載の光記録媒体。
24. 【請求項２４】 上記複数の反射膜の反射率が、光の入
    射する側に向かうに従って小さくなるようにされている
    ことを特徴とする請求項２３記載の光記録媒体。
25. 【請求項２５】 上記透明カバー層とは反対側の面にも
    紫外線硬化性樹脂が塗布されていることを特徴とする請
    求項７記載の光記録媒体。
26. 【請求項２６】 上記透明カバー層とは反対側に塗布さ
    れる紫外線硬化性樹脂が、上記透明カバー層を形成する
    材料よりも硬化収縮率が高いものであることを特徴とす
    る請求項２５記載の光記録媒体。
27. 【請求項２７】 上記透明カバー層の表面に、ハードコ
    ートがなされていることを特徴とする請求項７記載の光
    記録媒体。
28. 【請求項２８】 上記紫外線硬化性樹脂が塗布される記
    録層の表面にシラン処理がなされていることを特徴とす
    る請求項１５記載の光記録媒体。
29. 【請求項２９】 上記紫外線硬化性樹脂が塗布される記
    録層の表面にシラン処理がなされていることを特徴とす
    る請求項１６記載の光記録媒体。
30. 【請求項３０】 上記透明カバー層の表面に、反射防止
    膜が形成されていることを特徴とする請求項７記載の光
    記録媒体。
31. 【請求項３１】 上記反射防止膜の屈折率Ｎが、上記透
    明カバー層の屈折率よりも低く、 上記反射防止膜の厚さは、記録及び／又は再生を行う光
    の波長をλとした場合に、（λ／３）／Ｎ（ｎｍ）以下
    であることを特徴とする請求項３０記載の光記録媒体。
32. 【請求項３２】 記録層の一主面側に透明カバー層を有
    し、上記記録層中の少なくとも情報信号が記録される情
    報信号部の領域において、上記透明カバー層の厚さｔが
    ｔ＝３〜１７７（μｍ）である光学ディスクを記録及び
    ／又は再生する光学ディスク装置であって、 波長が６８０（ｎｍ）以下のレーザー光源と、 上記光学ディスク信号記録面にレーザー光を収束させる
    ための開口数ＮＡが０．７以上のレンズとを備えたこと
    を特徴とする光学ディスク装置。
33. 【請求項３３】 上記光学ディスクは、該ディスクの透
    明カバー層の厚さむらをΔｔとしたときに、上記光学デ
    ィスクを記録及び／又は再生する光学系の開口数ＮＡお
    よび波長λとの間に、Δｔ ≦±５．２６( λ／Ｎ
    Ａ⁴ ）（μｍ）の関係が成り立つものであることを特徴
    とする請求項３２記載の光学ディスク装置。
34. 【請求項３４】 上記レンズが２群構成であることを特
    徴とする請求項３２記載の光学ディスク装置。
35. 【請求項３５】 上記レンズは開口数ＮＡが０．７８以
    上であることを特徴とする請求項３２記載の光学ディス
    ク装置。