JPH11273144A - 光情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

光情報記録媒体およびその製造方法

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JPH11273144A JP10163885A JP16388598A JPH11273144A JP H11273144 A JPH11273144 A JP H11273144A JP 10163885 A JP10163885 A JP 10163885A JP 16388598 A JP16388598 A JP 16388598A JP H11273144 A JPH11273144 A JP H11273144A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 生産歩留りが良好で、かつ***変形をほとん
ど生じさせることなく記録を行うことができる光情報記
録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板１上に記録膜２、反射膜３、樹
脂保護膜４が形成され、記録レーザ光の照射により記録
膜２に情報を記録する光情報記録媒体において、記録膜
２を反応性スパッタにより形成し、記録膜２を、記録レ
ーザ光の照射時に熱分解を起こす物質（Ｃｕ−Ｎ）、熱
分解により生じた物質（Ｃｕ）を記録膜２中に分散させ
る物質（ＣＨ4 ）、および記録膜２の光吸収率を調整す
る物質（ＺｎＳ−ＳｉＯ2 ）を含んで形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、記録レーザ光の照
射により記録膜に情報を記録する光情報記録媒体および
その製造方法に関し、この光情報記録媒体としては、光
ディスク、光カードに用いることができる。
【０００２】
【従来の技術】現在、光情報記録媒体としてＣＤ（コン
パクトディスク）と再生時互換性がある追記型ＣＤが商
品化されている。これは、透明なプラスチック基板上
に、有機色素記録膜、Ａｕ反射膜とＵＶ（紫外線）樹脂
保護膜を設け、記録レーザ光の照射時に、有機色素記録
膜の熱分解による基板の変形によって記録部の反射率を
低下させ、信号を記録するものである。
【０００３】
【および発明が解決しようとする課題】しかしながら、
この従来の追記型ＣＤは、透明基板上に有機色素をスピ
ンコータで塗布しているため、スピンコータ周囲の温度
や湿度によって、成膜条件が異なり、生産歩留まりが悪
くなるという問題がある。これに対し、特公平３−５７
５４０号公報には、スパッタ法を用いて基板上にエネル
ギー吸収性の記録膜を形成するものが開示されている。
このエネルギー吸収性の記録膜としては、Ｔｅ、Ｉｎ等
の低融点の金属とＮ、Ｏなどの元素を組み合わせたもの
が使用される。この記録膜にレーザビームが照射される
と、局部加熱により記録膜内部からガスが発生し、この
ガスにより記録膜が***変形して記録が行われる。
【０００４】この光情報記録媒体においては、スパッタ
法を用いているため、生産歩留まりはよくなるが、この
ものでは記録膜の***変形を用いているため、反射膜や
保護膜を記録膜にコートできず、ＣＤのような単板ディ
スクができないという問題がある。また、膜変形が起こ
ると、記録マーク長が不正確になり、記録マーク長さ変
調方式には適さないという問題がある。
【０００５】本発明は上記問題に鑑みたもので、生産歩
留りが良好で、かつ***変形をほとんど生じさせること
なく記録を行うことができる光情報記録媒体を得ること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明においては、記録膜を真空成膜法で形成し、
記録膜に、記録レーザ光の照射時に熱分解を起こす物質
を含み、記録レーザ光の照射により前記物質が熱分解
し、複素屈折率の変化が***変形よりも支配的に生じて
前記情報の記録が行われるようにしたことを特徴として
いる。
【０００７】真空成膜法で記録膜を形成することによ
り、生産歩留りを良好とすることができる。この真空蒸
着法としては、スパッタ法、蒸着法、イオンプレーティ
ング法などを用いることができる。また、上記した熱分
解する物質を用いることにより、記録レーザ光の照射に
よって、その物質が熱分解し、熱分解した物質が記録膜
中に析出されて記録膜の複素屈折率が変化する。この場
合、***変形よりも複素屈折率の変化が支配的に生じ
る。従って、***変形をほとんど生じさせることなく情
報の記録を行うことができる。
【０００８】ここで、上記した熱分解を起こす物質とし
ては、後述するようにＣｕ−Ｎ、Ｓｎ−Ｎ、Ａｇ−Ｎ、
Ｎｉ−Ｎなどの、金属と窒素の化合物を用いることがで
きる。このような化合物を用いた場合、記録レーザ光の
照射によって、熱分解により生じたＣｕ、Ｓｎ、Ａｇ、
Ｎｉが記録膜中に析出される。この場合、請求項２に記
載の発明のように、熱分解により生じた物質を記録膜中
に分散させる物質を含むようにするのが好ましい。その
ような物質としては、Ｃ、Ｈ、Ｆ、Ｓ、Ｏ、Ｃｌ、Ｎ、
Ｐ、Ｉ、Ｂｒのうちの少なくとも１種を含むガスを導入
して形成された有機物質を用いることができる。
【０００９】また、請求項３に記載の発明のように、記
録膜の光吸収率を調整する物質を含むようにすれば、反
射膜から反射してきた光を効率的に透過させ、反射率を
高めることができる。この場合、その混入量を調整する
ことにより、反射率の制御を容易に行うことができる。
また、真空蒸着法としてスパッタ法を用いた場合、請求
項４に記載の発明のように、熱分解を起こすもととなる
物質をターゲットとし、この物質と化合物を形成して熱
分解を起こす物質を生成するための原料ガスと、Ｃ、
Ｈ、Ｆ、Ｓ、Ｏ、Ｃｌ、Ｎ、Ｐ、Ｉ、Ｂｒのうちの少な
くとも１種を含むガスを導入して反応性スパッタにより
記録膜を形成するようにすることができる。
【００１０】この場合、熱分解を起こすもととなる物質
としては、Ｃｕ、Ｓｎ、Ａｇ、Ｎｉを用いることがで
き、この物質と化合物を形成して熱分解を起こす物質を
生成するための原料ガスとしてはＮ2 ガスを用いること
ができる。また、請求項５に記載の発明のように、熱分
解を起こすもととなる物質と光吸収率を調整する物質を
異なるターゲットとして、反応性スパッタを行うように
すれば、請求項３に記載の発明のように、光吸収率を調
整する物質を含んで記録膜を形成することができる。
【００１１】上記した各請求項に記載の光情報記録媒体
としては、基板上に、記録膜、反射膜、保護膜が形成さ
れた構造（Single Layer / Single Sided Disk）のもの
以外に、ＤＶＤのような２枚張り合わせディスクにおい
て、両方の基板に記録層を設けて片方の面から２つの層
の信号を読み出す片面２層方式(Dual Layer / SingleSi
ded Disk)のもの、あるいは２層の信号面の基板を張り
合わせた両面２層方式（Dual Layer / Dual Sided Dis
k）のものにも適用することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示す実施形態
について説明する。図１に、本発明の一実施形態にかか
る光情報記録媒体の模式的な断面構成を示す。図に示す
ように、プラスチック、ガラス等の透明基板１上に、記
録膜２、反射膜３、樹脂保護膜４が形成されて光情報記
録媒体が構成されている。透明基板１には、図示してな
いが、ウォブルを持った案内溝（グルーブ）が形成され
ており、この案内溝は、例えば深さが５０ｎｍ以下で、
幅が０．７〜０．５μｍ程度のものである。
【００１３】記録膜２は、真空成膜法で形成されたもの
であって、記録レーザ光の照射時に熱分解を起こす物
質、熱分解により生じた物質を記録膜２中に分散させる
物質、および記録レーザ光に対し透明で記録膜２の光吸
収率を調整する物質を含んでいる。記録レーザ光の照射
時に熱分解を起こす物質としては、Ｃｕ−Ｎを用いるこ
とができる。また、Ｓｎ−Ｎ、Ａｇ−Ｎ、Ｎｉ−Ｎなど
を用いることもできる。また、熱分解により生じた物質
を記録膜２中に分散させる物質としては、Ｃ、Ｈ、Ｆ、
Ｓ、Ｏ、Ｃｌ、Ｎ、Ｐ、Ｉ、Ｂｒのうちの少なくとも１
種を含むガスを導入して形成された有機物質、例えばＣ
Y ＨX （Ｙ＝１〜２、Ｘ＝１〜６）を主成分とするもの
を用いることができ、具体的にはＣＨ4 を用いることが
できる。さらに、記録膜２の光吸収率を調整する物質と
しては、ＺｎＳ−ＳｉＯ2 を用いることができる。
【００１４】反射膜３は、スパッタ法、蒸着法により形
成された金属反射膜、例えばＡｕ、Ａｇ、Ａｌ膜または
合金を用いることができる。また、金属反射膜の代わり
に光干渉多層反射膜を用いてもよい。樹脂保護膜４とし
ては、ＵＶ硬化樹脂などを用いることができる。このよ
うに透明基板１上に記録膜２、反射膜３、樹脂保護膜４
を形成することによって、情報記録時に記録部の反射率
が低下するようにした追記型の光ディスクを構成するこ
とができる。この場合、記録膜３を真空成膜法を用いて
形成しているから、タクトタイムの短縮と生産歩留まり
の向上を図ることができる。
【００１５】なお、記録膜２は、スパッタ法以外に、蒸
着法、イオンプレーティング法などを用いて成膜しても
よい。また、光情報記録媒体としては、保護板もしくは
図１に示すものと同種の基板を接着剤、ＵＶ樹脂等で貼
り合わせた構造のものであってもよい。また、ＤＶＤの
ような２枚張り合わせディスクにおいて、両方の基板に
記録層を設けて片方の面から２つの層の信号を読み出す
片面２層方式のもの、あるいは２層の信号面の基板を張
り合わせた両面２層方式のものであってもよい。
【００１６】図２に、ＤＶＤにおける片面２層方式の構
造を示す。案内溝をもった透明基板１１に半透明の記録
膜１２と反射膜１３が形成され、もう一方の案内溝をも
った透明基板１４に反射膜１５と記録膜１６が形成され
ている。２つの基板１１、１４は、ＵＶ樹脂スペーサ１
７で張り合わされている。スペーサ１７の厚さは、３０
〜８０ｎｍである。記録・再生は、記録膜１２、１６の
いずれかに記録・再生レーザの焦点を合わせることによ
り行う。
【００１７】図３にＤＶＤにおける両面２層方式の構造
を示す。案内溝をもった透明基板２１に半透明の記録膜
２２と反射膜２３が形成され、その上に２Ｐ法により案
内溝をもったスペーサ２４が形成され、その上に記録膜
２５、反射膜２６、保護層２７が形成されている。この
ような構造のディスクが接着層２７により２枚張り合わ
せて構成されている。スペーサ２４の厚さは、３０〜８
０ｎｍである。記録・再生は、両面のどちらかの記録膜
に記録・再生レーザの焦点を合わせることにより行う。
【００１８】
【実施例】次に、上記した光情報記録媒体の実施例につ
いて説明する。 （実施例１）案内溝を持った透明なポリカーボネイト基
板１上に、反応性高周波スパッタ法（反応性ＤＣスパッ
タ法でもよい）により、ＣｕターゲットとＺｎＳ−Ｓｉ
Ｏ2ターゲットを同時にスパッタし、記録膜２を形成す
る。このとき、ＡｒとＮ2 とＣＨ4 のガスを導入する。
スパッタパワーはＣｕターゲットが２００Ｗであり、Ｚ
ｎＳ−ＳｉＯ2 ターゲットが４００Ｗである。また、ガ
ス圧は１２Ｐａであり、ＡｒとＮ2 とＣＨ4 の比率は
７：２：３である。さらに、反射膜３としてＡｕを１０
０ｎｍ形成する。最後に、樹脂保護膜４として、ＵＶ硬
化樹脂をスピンコータで塗布し、紫外線を照射すること
により、硬化させる。
【００１９】このときの記録膜２の複素屈折率は、分光
エリプソメータで測定すると、記録膜形成状態（ａｓｄ
ｅｐｏ時）には２．０−０．０３ｉであり、熱処理後は
２．０−０．５ｉとなった。なお、熱処理後の複素屈折
率は、記録レーザ光の照射時の複素屈折率を表してい
る。また、案内溝が形成されていないミラー面におい
て、膜厚に対する反射率依存性は図４に示すようになっ
た。また、基板１の案内溝を幅０．７μｍ、深さ４０ｎ
ｍとした場合、案内溝上では、膜厚に対する反射率依存
性は図５に示すようになった。図４、図５から、膜厚を
１７０ｎｍとした場合、ミラー面の反射率は８３％とな
り、案内溝上では６６％となる。従って、６５％以上の
反射率を有し、また振幅変調度に相当するコントラスト
は約８０％となり、ＣＤ規格を満たしている。
【００２０】次に、実際にこの光ディスクに記録を行っ
た。線速２．８ｍ／ｓ（２倍速）でＥＦＭ信号を記録し
てみた結果、レーザパワー（７８０ｎｍ）１１ｍＷで記
録可能であった。ＥＦＭ信号の中でパルス幅の最も長い
信号であるＩ１１の振幅変調度は７５％となり、振幅変
調度６０％以上を必要とするＣＤ規格を満足し、良好な
再生信号を得ることができた。
【００２１】この実施例１に示すものについて、記録レ
ーザ光を照射して記録を行った部分についてＴＥＭ観察
により検討を行った。図６にその部分の平面状態を示
し、図７に図６中のＡ−Ａ断面を示す。なお、図におい
て、５は案内溝を示し、６は記録部を示す。この実施例
１においては、記録膜２にＣｕ−Ｎ、ＣＨ4 、ＺｎＳ−
ＳｉＯ2 が含まれている。記録レーザ光を照射すると、
その照射エネルギーによってＣｕ−Ｎが熱分解し、Ｃｕ
が記録膜２中に析出する（析出したＣｕを図中に符号７
で示す）。この析出したＣｕ７は、記録膜２中に分散
し、光を吸収するため、記録膜２の光学定数、すなわち
複素屈折率が変化する。この場合、ＣＨ4 は、析出した
Ｃｕ７を記録膜２中に分散させる役目を果たす。また、
案内溝５の中央が最も照射エネルギーが高くなっている
ため、析出したＣｕ７が大きく、案内溝５の周囲におい
ては析出したＣｕ７が小さくなっている。
【００２２】図８に、案内溝５に沿ってＡＦＭ（原子間
力顕微鏡）により記録膜２の表面状態を測定した結果を
示す。横軸は案内溝５の所定位置からの溝方向距離を示
し、縦軸は記録膜２の表面位置を示す。なお、基板１の
表面の粗さの影響があるため、記録膜２の表面位置に凹
凸状の変化が生じている。図から分かるように、記録領
域は、未記録領域と比較して記録膜２がほとんど変形し
ていなく、平均的な高低差からしてもせいぜい２０ｎｍ
程度の変形量である。
【００２３】また、図９に、案内溝５に沿ってＡＦＭに
より記録膜２の表面変形の記録レーザパワー依存性につ
いて測定した結果を示す。横軸は記録レーザパワーを示
し、縦軸は記録膜２の変形量を示す。また、図１０に、
反射率、振幅変調度、キャリア信号−ノイズ比（Ｃ／
Ｎ）の記録レーザパワー依存性の測定結果を示す。図
９、図１０から分かるように、Ｃ／Ｎが一番高くなる記
録レーザパワー８ｍＷにおいて、記録膜変形量は１５ｎ
ｍである。
【００２４】従って、この実施例１に示すものにおいて
は、記録レーザ光の照射により記録膜２において***変
形がほとんど生じていないといえる。すなわち、この実
施例１に示すものでは、記録レーザ光の照射によりＣｕ
−Ｎが熱分解し、複素屈折率の変化が***変形よりも支
配的に生じて情報の記録が行われている。なお、記録レ
ーザ光の照射により記録膜２に生じる***変形が５０ｎ
ｍ以下であれば、複素屈折率の変化が***変形よりも支
配的に生じていると考えられる。
【００２５】また、本発明に係る光情報記録媒体として
は、上記した実施例１以外に、以下に示す実施例２、３
によっても同様に作成することができる。 （実施例２）案内溝を持った透明なポリカーボネイト基
板１上に、反応性高周波スパッタ法により、ＣｕとＳｎ
の原子％が４０：６０の合金ターゲットをスパッタし、
記録膜２を形成する。このとき、ＡｒとＮ2 とＣＨ4 の
ガスを導入する。スパッタパワーは５００Ｗであり、ガ
ス圧は１２Ｐａであり、ＡｒとＮ2 とＣＨ4 の比率は
６：３：３である。さらに、反射膜３としてＡｕを１０
０ｎｍ形成する。最後に、樹脂保護膜４として、ＵＶ硬
化樹脂をスピンコータで塗布し、紫外線を照射すること
により、硬化させる。
【００２６】このときの記録膜２の複素屈折率は、２．
６−０．０７ｉであった。また、膜厚１２５ｎｍのとき
ミラー面の反射率が７８％となり、案内溝上では７３％
となった。従って、６０％以上の反射率を有し、ＣＤ規
格を満たしている。次に、実際にこの光ディスクに記録
を行った。線速２．８ｍ／ｓ（２倍速）でＥＦＭ信号を
記録してみた結果、レーザパワー（７８０ｎｍ）９ｍＷ
で記録可能であった。ＥＦＭ信号の中でパルス幅の最も
長い信号であるＩ１１の振幅変調度は７４％となり、振
幅変調度６０％以上を必要とするＣＤ規格を満足し、良
好な再生信号を得ることができた。 （実施例３）案内溝を持った透明なポリカーボネイト基
板１上に、反応性高周波スパッタ法により、Ａｇターゲ
ットとＺｎＳ−ＳｉＯ2 ターゲットを同時にＲＦスパッ
タし、記録膜２を形成する。このとき、ＡｒとＮ2 とＣ
Ｈ4 のガスを導入する。スパッタパワーはＡｇターゲッ
トが１００Ｗであり、ＺｎＳ−ＳｉＯ2 ターゲットが５
００Ｗである。また、ガス圧は１２Ｐａであり、Ａｒと
Ｎ2 とＣＨ4 の比率は１：１：１である。このとき反応
性によりＡｇ−Ｎが形成される。さらに、反射膜３とし
てＡｕを１００ｎｍ形成する。最後に樹脂保護膜４とし
て、ＵＶ硬化樹脂をスピンコータで塗布し、紫外線を照
射することにより、硬化させる。
【００２７】このときの記録膜２の複素屈折率は、２．
５−０．０５ｉであった。また、膜厚１３０ｎｍのとき
ミラー面の反射率が８１％となり、案内溝上では７６％
となった。従って、この実施例３においても６０％以上
の反射率を有し、ＣＤ規格を満たしている。次に、実際
にこの光ディスクに記録を行った。線速２．８ｍ／ｓ
（２倍速）でＥＦＭ信号を記録してみた結果、レーザパ
ワー（７８０ｎｍ）９ｍＷで記録可能であった。Ｉ１１
の振幅変調度は６６％となり、ＣＤ規格を満足する良好
な再生信号を得ることができた。
【００２８】なお、上記した実施例１〜３において、記
録レーザ光の照射時に熱分解を起こす物質として、Ｃｕ
−Ｎ、Ｓｎ−Ｎ、Ａｇ−Ｎ、Ｎｉ−Ｎを示したが、Ｃｕ
−Ｎは３００℃で熱分解し、ＳｎＮは３６０℃で熱分解
し、Ａｇ−Ｎは１６５℃で熱分解し、Ｎｉ−Ｎは３００
℃で熱分解する。従って、Ｃｕ−Ｎ、Ｓｎ−Ｎ、Ａｇ−
Ｎ、Ｎｉ−Ｎは通常の記録レーザ光で十分熱分解する。
これに対し、従来技術の欄で記載したＴｅ、Ｉｎと窒素
の化合物は、通常の記録レーザ光の温度では熱分解しな
いため、これらのものでは熱分解による複素屈折率の変
化はほとんど生じていない。 （実施例４）案内溝をもった厚さ０．６ｍｍの透明基板
１１に半透明の記録膜１２を実施例１と同様の方法で１
１０ｎｍ形成し、その上にＳｉ−Ｃの半透明反射膜１３
を６０ｎｍ形成する。このときの透過率は、６０％であ
った。もう一方の案内溝をもった厚さ０．６ｍｍの透明
基板１４に、反射膜１５としてＡｕを８０ｎｍ形成し、
実施例１と同様の方法で記録膜を１１０ｎｍ形成する。
２つの基板１１，１４を液体状のＵＶ樹脂で張り合わ
せ、スピンナーでＵＶ樹脂を振り切り、スペーサ１７の
厚さを５５μｍにする。次に、ＵＶ照射し、硬化させ
る。このときの記録膜１２の反射率は２４％であり、基
板１を通した記録膜１６の反射率は２３％であった。
【００２９】線速３．８４ｍ／ｓにおいて、波長６３５
ｎｍのレーザにより、ＤＶＤ信号を記録した結果、記録
膜１２は９ｍＷで記録でき、このときのジッターは７ｎ
ｓであった。同様に、記録膜１６の記録パワーは８ｍＷ
であり、このときのジッターは８ｎｓであった。 （実施例５）案内溝をもった厚さ０．６ｍｍの透明基板
２１に半透明の記録膜２２を実施例１と同様の方法で１
１０ｎｍ形成し、その上にＳｉ−Ｃの半透明反射膜２３
を６０ｎｍ形成する。このときの透過率は、６０％であ
った。この半透明反射膜２３上にＵＶ樹脂を付け、案内
溝のあるスタンパーを押し付け、スピン回転によりスペ
ーサ２４の厚さを５５ｎｍにする。次に、ＵＶ照射によ
り硬化させ、スタンパーを剥離する。さらに、記録膜２
５を実施例１と同様の方法で１１０ｎｍ形成し、その上
に反射膜２６としてＡｕを８０ｎｍ形成し、さらに保護
層２７を形成する。そして、上記のようにして形成され
た２つの基板を液体状のＵＶ樹脂で張り合わせ、スピン
ナーで樹脂を振り切り、次に、ＵＶ照射し、硬化させ
る。このときの記録膜２２の反射率は２４％であり、基
板２１を通した記録膜２５の反射率は２３％であった。
【００３０】線速３．８４ｍ／ｓにおいて、波長６３５
ｎｍのレーザにより、ＤＶＤ信号を記録した結果、記録
膜２２は９ｍＷで記録でき、このときのジッターは７ｎ
ｓであった。同様に、記録膜２５の記録パワーは８ｍＷ
であり、このときのジッターは８ｎｓであった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す光情報記録媒体の模
式的な断面構成図である。
【図２】ＤＶＤにおける片面２層方式の構造を示す図で
ある。
【図３】ＤＶＤにおける両面２層方式の構造を示す図で
ある。
【図４】実施例１において案内溝が形成されていないミ
ラー面での膜厚に対する反射率依存性を示す図である。
【図５】実施例１において案内溝上での膜厚に対する反
射率依存性を示す図である。
【図６】実施例１において記録レーザ光を照射して記録
を行った部分の平面状態を示す図である。
【図７】図４中のＡ−Ａ断面を示す図である。
【図８】実施例１において案内溝に沿ってＡＦＭにより
記録膜２の表面状態を測定した結果を示す図である。
【図９】実施例１において案内溝５に沿ってＡＦＭによ
り記録膜２の表面変形の記録レーザパワー依存性につい
て測定した結果を示す図である。
【図１０】実施例１において反射率、振幅変調度、Ｃ／
Ｎの記録レーザパワー依存性の測定結果を示す図であ
る。
【符号の説明】
１…透明基板、２…記録膜、３…反射膜、４…樹脂保護
膜、５…案内溝、６…記録部、７…析出したＣｕ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐野 直樹 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 株式会 社デンソー内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 透明基板上に記録膜および反射膜が形成
    され、記録レーザ光の照射により前記記録膜に情報を記
    録する光情報記録媒体において、 前記記録膜は、真空成膜法で形成されたものであって、
    前記記録レーザ光の照射時に熱分解を起こす物質を含ん
    でおり、 前記記録レーザ光の照射により前記物質が熱分解し、複
    素屈折率の変化が***変形よりも支配的に生じて前記情
    報の記録が行われるようにしたことを特徴とする光情報
    記録媒体。
  2. 【請求項２】 前記記録膜は、前記熱分解により生じた
    物質を前記記録膜中に分散させる物質を含んでいること
    を特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
  3. 【請求項３】 前記記録膜は、光吸収率を調整する物質
    を含んでいることを特徴とする請求項１又は２に記載の
    光情報記録媒体。
  4. 【請求項４】 透明基板上に記録膜および反射膜を形成
    してなり、記録レーザ光の照射により前記記録膜に情報
    を記録する光情報記録媒体の製造方法において、 前記記録膜は、前記記録レーザ光の照射時に熱分解を起
    こす物質を含み、前記記録レーザ光の照射により前記物
    質が熱分解し、複素屈折率の変化が***変形よりも支配
    的に生じて前記情報の記録が行われるものであって、 前記熱分解を起こすもととなる物質をターゲットとし、
    この物質と化合物を形成して前記熱分解を起こす物質を
    生成するための原料ガスと、Ｃ、Ｈ、Ｆ、Ｓ、Ｏ、Ｃ
    ｌ、Ｎ、Ｐ、Ｉ、Ｂｒのうちの少なくとも１種を含むガ
    スを導入して反応性スパッタにより前記記録膜を形成す
    ることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
  5. 【請求項５】 前記熱分解を起こすもととなる物質と光
    吸収率を調整する物質を異なるターゲットとして、前記
    反応性スパッタを行うことを特徴とする請求項４に記載
    の光情報記録媒体の製造方法。
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