JPH11259902A - Device and method for recording optical disk master disk - Google Patents
Device and method for recording optical disk master diskInfo
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- JPH11259902A JPH11259902A JP10055004A JP5500498A JPH11259902A JP H11259902 A JPH11259902 A JP H11259902A JP 10055004 A JP10055004 A JP 10055004A JP 5500498 A JP5500498 A JP 5500498A JP H11259902 A JPH11259902 A JP H11259902A
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクのレジ
スト塗布面上に、露光記録用の微小な光スポットを形成
する技術に関し、特に、エバネッセント波を発生可能な
レンズを用いて露光記録を行う光ディスク原盤露光装置
を対象とする。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for forming a minute light spot for exposure recording on a resist-coated surface of an optical disc, and more particularly, to an optical disc for performing exposure recording using a lens capable of generating an evanescent wave. Target master exposure equipment.
【0002】[0002]
【従来の技術】DVD(Digital Video Disk) 等の光ディス
クは、ハードディスクなどの磁気ディスクに比べて記録
容量が大きく、また、可搬性に優れるため、今後、急速
に普及することが予想される。読み出し専用の光ディス
ク(以下、市販ディスクと呼ぶ)を製造する場合、まず
光ディスク原盤を製造し、その原盤から信号転写により
市販ディスクを製造するのが一般的である。市販ディス
クを製造する過程で、何度か信号転写が行われるため、
市販ディスクの記録信号の劣化は避けられない。このた
め、光ディスク原盤には予め、市販ディスクよりもはる
かに高い精度で信号を記録しておく必要がある。2. Description of the Related Art An optical disk such as a DVD (Digital Video Disk) has a larger recording capacity than a magnetic disk such as a hard disk and is excellent in portability, and is expected to rapidly spread in the future. When manufacturing a read-only optical disk (hereinafter referred to as a commercially available disk), it is common to first manufacture an optical disk master and then manufacture a commercial disk from the master by signal transfer. In the process of manufacturing commercial disks, signal transfer is performed several times,
Deterioration of the recording signal of a commercially available disc is inevitable. For this reason, it is necessary to record a signal on the master optical disc in advance with much higher precision than on a commercially available disc.
【0003】光ディスク原盤に信号を記録する際には光
ディスク原盤記録装置が用いられる。光ディスク原盤記
録装置は、レジストを塗布したガラス原盤を回転させた
状態で、対物レンズにより記録レーザ光を集光させてレ
ジストを感光させ、露光記録を行う。記録レーザ光は記
録信号に応じてオン・オフする信号である。対物レンズ
を原盤の内周側から外周側に高精度に移動制御すること
で、光ディスク上には、一定ピッチで螺旋状に信号が記
録される。[0003] When recording signals on an optical disk master, an optical disk master recording apparatus is used. The optical disk master recording apparatus performs exposure recording by condensing a recording laser beam with an objective lens and exposing the resist while the glass master coated with the resist is rotated. The recording laser beam is a signal that is turned on / off according to a recording signal. By controlling the movement of the objective lens from the inner circumference side to the outer circumference side of the master with high precision, a signal is spirally recorded at a constant pitch on the optical disc.
【0004】また、光ディスク原盤記録装置には、光デ
ィスク原盤面に微小なうねり(上下動)があっても、レ
ーザ光が記録面に常に焦点を結ぶように、ガラス原盤の
上下動に応じて対物レンズを追従動作させるフォーカス
サーボ機構が設けられている。[0004] Further, in the optical disk master recording apparatus, even if there is a slight undulation (vertical movement) on the optical disk master surface, the object is moved according to the vertical movement of the glass master so that the laser beam always focuses on the recording surface. A focus servo mechanism that causes the lens to perform a tracking operation is provided.
【0005】図5は従来の光ディスク原盤記録装置の概
略構成を示す斜視図である。防振台40の上には、記録
信号光生成系50、原盤回転テーブル系60、スライダ
送り系70、および対物レンズ系80が設けられてい
る。記録信号光生成系50は、レーザヘッド51と、レ
ーザヘッド51から出力されたレーザ光のパワーを安定
させる光パワー処理系52と、記録信号に応じてレーザ
光をオン・オフするシャッタ処理系53とを有する。光
パワー処理系52は、超音波光学変調素子(AOM)54を
有し、シャッタ処理系53は、フォーマッタ55と電気
光学素子(EOM) 56とを有する。EOM 56の出力は、ス
ライダ71上に設置された対物レンズ系80にスライダ
送り方向から水平導入される。FIG. 5 is a perspective view showing a schematic configuration of a conventional optical disk master recording apparatus. On the anti-vibration table 40, a recording signal light generation system 50, a master disk rotating table system 60, a slider feed system 70, and an objective lens system 80 are provided. The recording signal light generation system 50 includes a laser head 51, an optical power processing system 52 for stabilizing the power of the laser light output from the laser head 51, and a shutter processing system 53 for turning on / off the laser light according to the recording signal. And The optical power processing system 52 has an ultrasonic optical modulation element (AOM) 54, and the shutter processing system 53 has a formatter 55 and an electro-optical element (EOM) 56. The output of the EOM 56 is introduced horizontally into the objective lens system 80 installed on the slider 71 from the slider feed direction.
【0006】原盤回転テーブル系60は、光ディスク原
盤61をチャック固定するターンテーブル62と、ター
ンテーブル62を回転させるスピンドルモータ63とを
有する。スライダ送り系70は、スライダ71と、送り
モータ72とを有し、記録信号が一定のトラックピッチ
で光ディスク原盤61に記録されるように、対物レンズ
系80を水平一自由度に駆動する。[0006] The master disk rotating table system 60 has a turntable 62 for chucking the optical disk master 61 and a spindle motor 63 for rotating the turntable 62. The slider feed system 70 has a slider 71 and a feed motor 72, and drives the objective lens system 80 in one horizontal degree of freedom so that a recording signal is recorded on the optical disk master 61 at a fixed track pitch.
【0007】対物レンズ系80は、記録信号光生成系5
0から水平導入された記録レーザ光を、図示しない導入
ミラーにより垂直方向に反射させ、対物レンズ(PFL )
82により光ディスク原盤61上に焦点を結ばせる。ま
た、光ディスク原盤61上で反射された戻り光をフォー
カス位置検出器83に導いて、非点収差を利用して焦点
ずれ量を検出する。この焦点ずれ量に基づいて、フォー
カス位置調整部81はPFL 82を上下方向(光軸方向)
に移動させ、光ディスク原盤61の回転によりスポット
形成位置が上下しても、常に記録レーザ光が原盤面で合
焦するようにサーボ制御を行う。The objective lens system 80 includes the recording signal light generation system 5
The recording laser light introduced horizontally from 0 is reflected in the vertical direction by an introduction mirror (not shown), and an objective lens (PFL)
82 focuses on the optical disk master 61. The return light reflected on the optical disk master 61 is guided to the focus position detector 83, and the amount of defocus is detected using astigmatism. Based on this defocus amount, the focus position adjustment unit 81 moves the PFL 82 in the vertical direction (optical axis direction).
The servo control is performed so that the recording laser light is always focused on the master surface even if the spot forming position is moved up and down due to the rotation of the optical disk master 61.
【0008】なお、PFL 82はスライダ71と一体に移
動し、スライダ71の位置は、防振台40に固定された
ヘテロダイン干渉測長計73で測定される。この測定結
果をフィードバックすることにより、PFL 82とスライ
ダ71は、原盤61が1回転するごとに1トラックピッ
チ進むように、高精度に移動制御される。The PFL 82 moves integrally with the slider 71, and the position of the slider 71 is measured by a heterodyne interferometer 73 fixed to the vibration isolator 40. By feeding back the measurement result, the movement of the PFL 82 and the slider 71 is controlled with high precision so that the track advances by one track every time the master 61 makes one rotation.
【0009】図5に示す従来の光ディスク原盤記録装置
は、PFL 82の回折限界により、超高密度記録を行うこ
とができない。すなわち、超高密度記録を行うには、径
方向の隣接トラック間の距離(トラックピッチ)と、単
位トラック長当たりの情報量(線記録密度)とを向上さ
せる必要があるが、これらはともに、最小ピット径(回
折限界スポットサイズにより決まる)に依存する。The conventional optical disc master recording apparatus shown in FIG. 5 cannot perform ultra-high density recording due to the diffraction limit of the PFL 82. That is, in order to perform ultra-high-density recording, it is necessary to improve the distance between adjacent tracks in the radial direction (track pitch) and the amount of information per unit track length (linear recording density). It depends on the minimum pit diameter (determined by the diffraction-limited spot size).
【0010】最小ピット径Rは、エアリー径による回折
限界から、以下の(1)式で表される。 R=k・λ/NA … (1) ただし、kはレジスト材料やプロセスに依存する係数、
λは記録レーザ波長、NAはPFL 82開口数である。The minimum pit diameter R is expressed by the following equation (1) from the diffraction limit due to the Airy diameter. R = k · λ / NA (1) where k is a coefficient depending on a resist material and a process,
λ is the recording laser wavelength, and NA is the PFL 82 numerical aperture.
【0011】現状の高密度記録用の光ディスク原盤記録
装置は、紫外線領域のXr イオンレーザ(波長λ=351n
m )と高開口度(NA=0.9 )のPFL 82を用いるのが一
般的であるが、PFL 82の開口度は1以上にはできず、
記録レーザ光も、使用可能なレジストの材料制限や、透
過率を要因とするPFL 82等の光学系の材料制限から、
大幅な短波長化は難しい。このため、現状では、レジス
トやエッチングプロセスを工夫して、(1)式のkを小
さくする研究が行われている。ところが、プロセスを工
夫しても、形成可能なピット幅は0.15μm 程度が限界で
ある。At present, an optical disk master recording apparatus for high-density recording uses an Xr ion laser (wavelength λ = 351n) in the ultraviolet region.
m) and a PFL 82 having a high aperture (NA = 0.9) is generally used, but the aperture of the PFL 82 cannot be increased to 1 or more.
The recording laser light is also limited by the material limitation of the usable resist and the material limitation of the optical system such as PFL 82 due to the transmittance.
It is difficult to significantly reduce the wavelength. Therefore, at present, research is being conducted to reduce k in equation (1) by devising a resist and an etching process. However, even if the process is devised, the pit width that can be formed is limited to about 0.15 μm.
【0012】以上の点から、光ディスクの大容量化を図
るには、紫外光に代わる電子ビームやX線用の原盤記録
装置を開発する必要があると一般に考えられていた。In view of the above, it has been generally considered that in order to increase the capacity of an optical disk, it is necessary to develop a master recording device for an electron beam or X-ray instead of ultraviolet light.
【0013】しかしながら、近年、近接場記録という新
たな微小スポット形成技術を利用して情報記録を行う研
究が注目を浴びており、例えば、光磁気ディスク(MOド
ライブ)の情報記録に応用した例が提案されている。However, in recent years, researches on information recording utilizing a new minute spot forming technique called near-field recording have been attracting attention. For example, an example applied to information recording on a magneto-optical disk (MO drive) is known. Proposed.
【0014】近接場記録は、従来から顕微鏡の解像度向
上に研究されていたエバネッセント波を利用して情報記
録を行うものである。より詳細には、微小開口プローブ
やソリッドイマージョンレンズ(SIL )を用いて、エバ
ネッセント波と呼ばれる虚の減衰波を生成し、この波が
減衰する前に、実波として記録媒体側に伝搬させるもの
である。In the near-field recording, information is recorded by using an evanescent wave, which has been studied for improving the resolution of a microscope. More specifically, an imaginary attenuated wave called an evanescent wave is generated using a micro-aperture probe or solid immersion lens (SIL), and propagated as a real wave to the recording medium before the wave is attenuated. is there.
【0015】図6はSIL を用いた近接場記録の原理を説
明する図である。レーザ光をプリフォーカスレンズ(PF
L :対物レンズ)91に対して垂直に入射し、PFL 91
からの出射光をSIL(Solid Immersion Lens) と呼ばれる
高屈折率の半球状レンズ92に導く。SIL 92内部に入
ったレーザ光の波長は1/n(nはレーザ光の屈折率)
に短くなるため、SIL 92中でのレーザ光の回折限界は
本来の1/nになる。すなわち、見かけ上、PFL 91の
開口数NAをn倍に増やしたことと同じになる。FIG. 6 is a diagram for explaining the principle of near-field recording using SIL. Prefocus lens (PF
L: objective lens) perpendicularly incident on the PFL 91
Is guided to a hemispherical lens 92 having a high refractive index called a SIL (Solid Immersion Lens). The wavelength of the laser light entering the SIL 92 is 1 / n (n is the refractive index of the laser light)
Therefore, the diffraction limit of the laser light in the SIL 92 becomes 1 / n of the original value. That is, this is apparently the same as increasing the numerical aperture NA of the PFL 91 by n times.
【0016】この結果、SIL 92の底面に形成される光
スポットサイズは、PFL 91の焦点位置での光スポット
サイズよりかなり小さくなる。ただし、信号記録面93
はSIL 92の底面ではなく、SIL 92底面から空気を隔
てた先にある。したがって、SIL 92内部で開口数NAが
高められても、レーザ光がSIL 92を抜けて空気中に出
ると、再びビーム径が大きくなる。As a result, the light spot size formed on the bottom surface of the SIL 92 is considerably smaller than the light spot size at the focal position of the PFL 91. However, the signal recording surface 93
Is not at the bottom of the SIL 92 but at a point that separates air from the bottom of the SIL 92. Therefore, even if the numerical aperture NA is increased inside the SIL 92, the beam diameter increases again when the laser beam passes through the SIL 92 and enters the air.
【0017】ところが、SIL 92の底面と光ディスク記
録面93とが近接している場合には、事情が異なる。SI
L 92底面に全反射角入射した光は、エバネッセント波
としてSIL 92底面から漏れ出ており、SIL 92の底面
近傍に光導伝体があると、フォトンのトンネル効果で光
導伝体への伝搬が起こるからである。しかも、エバネッ
セント波は、フォトンのトンネル効果で伝搬するため、
空気層の影響をほとんど無視でき、SIL 92の底面に形
成されるスポットサイズで信号を記録できるようにな
る。However, the situation is different when the bottom surface of the SIL 92 and the optical disk recording surface 93 are close to each other. SI
Light incident at the total reflection angle on the bottom surface of the L 92 leaks out from the bottom surface of the SIL 92 as an evanescent wave, and when there is a photo conductor near the bottom surface of the SIL 92, propagation to the photo conductor occurs due to photon tunnel effect. Because. Moreover, the evanescent wave propagates through the tunnel effect of photons,
The effect of the air layer can be almost ignored, and the signal can be recorded with the spot size formed on the bottom surface of the SIL 92.
【0018】ただし、エバネッセント波は、SIL 92の
底面からの距離に応じて指数関数的に振幅が減衰し、SI
L 92の底面からの距離が離れると信号記録に寄与しな
くなるため、SIL 92の底面と信号記録面93とを、レ
ーザ光の波長の1/2以下に近接させる必要がある。ま
た、SIL 92とPFL 91との位置関係はスポットサイズ
やスポット位置に影響するので、両レンズ間の距離は常
に一定に維持する必要がある。However, the amplitude of the evanescent wave exponentially attenuates according to the distance from the bottom surface of the SIL 92,
If the distance from the bottom surface of L 92 is large, it will not contribute to signal recording. Therefore, the bottom surface of SIL 92 and signal recording surface 93 need to be close to one half or less of the wavelength of laser light. In addition, since the positional relationship between the SIL 92 and the PFL 91 affects the spot size and the spot position, the distance between the two lenses must always be kept constant.
【0019】上述したように、光ディスクの情報記録に
SIL 92を利用する技術は、MOドライブなどですでに研
究されている。また、MOドライブの応用研究として、SI
L 92とPFL 91とを一体に構成したユニットを、ハー
ドディスク等で用いられる動圧浮上ヘッドに取り付け、
光ディスクの回転に伴う動圧浮上を利用して、ユニット
と光ディスクとの間の近接ギャップを一定に維持する技
術も提案されている。As described above, when recording information on an optical disc,
The technology using SIL 92 has already been studied in MO drives and the like. In addition, as an applied research of MO drive, SI
A unit configured integrally with L 92 and PFL 91 is attached to a dynamic pressure floating head used in a hard disk or the like,
There is also proposed a technique for maintaining a constant proximity gap between a unit and an optical disk by utilizing dynamic pressure levitation caused by rotation of the optical disk.
【0020】[0020]
【発明が解決しようとする課題】SIL 92を用いて光デ
ィスク原盤に情報を記録する場合は、従来と同じ記録レ
ーザ光を利用できるため、記録レーザ光として電子ビー
ムやX線ビームなどを用いるよりも、装置の変更が少な
くて済み、超高密度記録が可能な原盤記録装置を比較的
容易に開発できると推察できるが、実際には種々の問題
があり、実用化は容易ではない。When information is recorded on an optical disk master using SIL 92, the same recording laser light as that used in the prior art can be used, so that an electron beam or an X-ray beam is used as the recording laser light. It can be inferred that a master recording apparatus capable of performing ultra-high-density recording can be relatively easily developed with little change of the apparatus, but there are actually various problems, and practical application is not easy.
【0021】第1の問題は、記録レーザ光の波長であ
る。上述したように、光ディスク原盤には、市販ディス
クよりもはるかに厳しい精度が要求され、記録信号のス
ポットサイズも、市販ディスクのスポットサイズよりも
小さくする必要がある。現状の原盤記録装置のように、
記録レーザ光として紫外光レーザを使用する場合には、
光学レンズは紫外線用で収差がほとんどない高精度かつ
高開口度のレンズを使用する必要があり、PFL 91が重
くなってしまう。The first problem is the wavelength of the recording laser light. As described above, the master optical disc requires much higher precision than the commercial disc, and the spot size of the recording signal also needs to be smaller than the spot size of the commercial disc. Like the current master recording device,
When using an ultraviolet laser as the recording laser light,
As the optical lens, it is necessary to use a lens with high precision and high aperture which has almost no aberration for ultraviolet rays, and the PFL 91 becomes heavy.
【0022】すなわち、MOドライブのように、PFL 91
とSIL 92を一体にして、これらをハードディスクと同
様の浮上ヘッドで受動的に浮上させるようにすると、光
ディスク原盤の回転速度が遅く、かつ、PFL 91が重い
ことから、十分な近接ギャップ精度を保障しうる浮上ヘ
ッド設計が困難になる。また、記録レーザ光を短波長に
すると、透過率が低くなるため、SIL 92の底面での熱
による劣化が起こりやすく、SIL 92を定期的に交換し
なければならなくなる。このため、PFL 91とSIL 92
を一体のユニットにするのは困難である。That is, like the MO drive, the PFL 91
And SIL 92 are integrated, and these are passively levitated by a flying head similar to a hard disk. If the rotation speed of the optical disk master is slow and the PFL 91 is heavy, sufficient proximity gap accuracy is guaranteed. Floating head design becomes difficult. Further, if the recording laser beam is set to have a short wavelength, the transmittance is reduced, so that the SIL 92 is likely to be deteriorated by heat at the bottom surface, and the SIL 92 needs to be replaced periodically. Therefore, PFL 91 and SIL 92
It is difficult to make a single unit.
【0023】第2の問題は、PFL 91、SIL 92および
光ディスク原盤93の位置関係である。PFL 91とSIL
92とが理想の位置関係にないと、収差影響により記録
信号のスポットサイズが拡大してしまう。また、SIL 9
2と光ディスク原盤93との間のギャップ変動は、露光
光の強度変動の要因になりやすく、信号幅や信号長にば
らつきが生じて、原盤記録に要求される厳しい精度を達
成できなくなる。このため、PFL 91とSIL 92とを理
想の位置関係に維持し、かつ、SIL 92と光ディスク原
盤93とのギャップも常に一定に保つ必要がある。特
に、後者のギャップ管理は重要である。The second problem is the positional relationship between the PFL 91, the SIL 92 and the master optical disc 93. PFL 91 and SIL
If 92 is not in the ideal positional relationship, the spot size of the recording signal will increase due to the influence of aberration. In addition, SIL 9
Fluctuation in the gap between the optical disk 2 and the optical disk master 93 tends to cause a change in the intensity of the exposure light, causing variations in the signal width and signal length, making it impossible to achieve the strict accuracy required for master disk recording. For this reason, it is necessary to maintain the PFL 91 and the SIL 92 in an ideal positional relationship, and to always keep the gap between the SIL 92 and the master optical disc 93 constant. In particular, the latter gap management is important.
【0024】第3の問題は、異なる種類の光ディスク原
盤への対応である。これは、原盤記録装置の仕様の問題
でもあるが、対応する光ディスクは1種類とは限らず、
例えば、DVD 規格に複数フォーマットがあるように、将
来の高密度光ディスク規格においても、複数種類の光デ
ィスクに情報を記録できるようにする必要がある。すな
わち、光ディスクの種類によって、記録速度や原盤の厚
さが異なるため、記録速度に応じて記録レーザ光の波長
を切り換えたり、原盤の厚さに応じてPFL 91やSIL 9
2の位置関係を変更しなければならない。The third problem is how to deal with different types of master optical discs. This is also a matter of the specification of the master recording device, but the corresponding optical disk is not limited to one type.
For example, just as the DVD standard has a plurality of formats, the future high-density optical disk standard also needs to be able to record information on a plurality of types of optical disks. That is, since the recording speed and the thickness of the master differ depending on the type of the optical disc, the wavelength of the recording laser beam is switched according to the recording speed, or the PFL 91 or SIL 9 is changed according to the thickness of the master.
The positional relationship between the two must be changed.
【0025】また、仮に、原盤の厚さや記録速度が一定
としても、光ディスク原盤は研磨して再利用されるた
め、光ディスク原盤ごとに厚さにばらつきが生じる。し
たがって、ハードディスクと同様の動圧浮上ヘッドを用
いて、ヘッドの浮上量を受動的に管理するのは難しい。
速度が変われば浮力が低下し、原盤厚さが変われば与圧
力が変わるので、その結果として、浮上量が変わってし
まうからである。Further, even if the thickness and recording speed of the master are constant, the optical disc master is polished and reused, so that the thickness varies among the optical disc masters. Therefore, it is difficult to passively manage the flying height of the head using a dynamic pressure floating head similar to a hard disk.
If the speed changes, the buoyancy decreases, and if the master thickness changes, the applied pressure changes. As a result, the flying height changes.
【0026】その他にも多くの問題があり、SIL 92を
用いた近接場記録技術を光ディスク原盤記録装置に応用
するには、従来の原盤記録装置とMOドライブでのSIL 応
用例からでは、類推できない工夫が必要となる。There are many other problems, and the near-field recording technology using the SIL 92 cannot be applied to an optical disk master recording device by analogy with a conventional master recording device and an SIL application example in an MO drive. Ingenuity is required.
【0027】本発明は、このような点に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、超高密度かつ高精度に光ディ
スク原盤に信号を記録することができる光ディスク原盤
記録装置および光ディスク原盤記録方法を提供すること
にある。The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to provide an optical disk master recording apparatus and an optical disk master recording method capable of recording signals on an optical disk master with ultra-high density and high accuracy. Is to provide.
【0028】[0028]
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、請求項1の発明は、レジスト塗布された光ディ
スク原盤を回転させた状態で、前記光ディスク原盤のレ
ジスト塗布面に対して、記録信号に応じたレーザ光を照
射して露光記録を行う光ディスク原盤記録装置におい
て、前記レーザ光を集光させるプリフォーカスレンズ
と、前記プリフォーカスレンズにより集光されたレーザ
光を、予め定めた基準面にさらに集光させるエバネッセ
ント波を発生可能なレンズと、前記基準面でのビームス
ポット径と略同径のビームスポット径で露光記録を行え
るように、前記光ディスク原盤のレジスト塗布面と前記
エバネッセント波を発生可能なレンズとの距離を調整す
るギャップ調整手段と、前記プリフォーカスレンズを通
過したレーザ光が前記基準面に結像するように、前記プ
リフォーカスレンズの焦点調節を行う焦点調節制御手段
と、前記プリフォーカスレンズと前記エバネッセント波
を発生可能なレンズとの光軸合わせ調整を行う光軸合わ
せ調整手段と、を備え、前記基準面は、前記エバネッセ
ント波を発生可能なレンズの底面であり、前記ギャップ
調整手段は、前記エバネッセント波を発生可能なレンズ
の底面から漏れ出すエバネッセント波が減衰しない程度
の距離に前記光ディスク原盤のレジスト塗布面が配置さ
れるように、前記エバネッセント波を発生可能なレンズ
の位置制御を行う。According to a first aspect of the present invention, there is provided an optical disk master on which a resist is applied while rotating the optical disk master on which the resist has been applied. In an optical disc master recording apparatus for performing exposure recording by irradiating a laser beam according to a signal, a prefocus lens for condensing the laser beam, and a laser beam condensed by the prefocus lens, a predetermined reference surface A lens capable of generating an evanescent wave to be further condensed, and a resist coating surface of the optical disk master and the evanescent wave so that exposure and recording can be performed with a beam spot diameter substantially the same as the beam spot diameter on the reference surface. Gap adjusting means for adjusting the distance to a lens that can be generated, and the laser light passing through the prefocus lens is Focus adjustment control means for adjusting the focus of the prefocus lens so as to form an image on a quasi-plane, and optical axis adjustment adjustment means for adjusting the optical axis of the prefocus lens and a lens capable of generating the evanescent wave Wherein the reference plane is a bottom surface of the lens that can generate the evanescent wave, and the gap adjusting unit is a distance that does not attenuate the evanescent wave leaking from the bottom surface of the lens that can generate the evanescent wave. Then, the position of the lens capable of generating the evanescent wave is controlled so that the resist-coated surface of the optical disk master is arranged in the optical disk master.
【0029】なお、例えば図1に示すように、焦点調節
制御手段により、プリフォーカスレンズとエバネッセン
ト波を発生可能なレンズとを一体にレーザ光の光軸方向
に移動させることもできる。As shown in FIG. 1, for example, the prefocus lens and a lens capable of generating an evanescent wave can be integrally moved in the optical axis direction of the laser beam by the focus adjustment control means.
【0030】また、例えば図4に示すように、焦点調整
制御手段により、エバネッセント波を発生可能なレンズ
を移動させることなく、プリフォーカスレンズをレーザ
光の光軸方向に移動させることもできる。Further, for example, as shown in FIG. 4, the prefocus lens can be moved in the optical axis direction of the laser beam by the focus adjustment control means without moving the lens capable of generating the evanescent wave.
【0031】[0031]
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した光ディス
ク原盤記録装置について、図面を参照しながら具体的に
説明する。図1は光ディスク原盤記録装置の第1の実施
形態における対物レンズ系80aの概略構成を示す図で
ある。対物レンズ系80a以外の構成は図5に示した従
来の光ディスク原盤記録装置とほぼ同じである。図1の
対物レンズ系80aの構成を説明する前に、まず、図5
に基づいて、本実施形態の光ディスク原盤記録装置の概
略構成を説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an optical disk master recording apparatus to which the present invention is applied will be specifically described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an objective lens system 80a in the first embodiment of the optical disk master recording apparatus. The configuration other than the objective lens system 80a is almost the same as that of the conventional optical disk master recording apparatus shown in FIG. Before describing the configuration of the objective lens system 80a of FIG.
The schematic configuration of the optical disk master recording apparatus of the present embodiment will be described based on FIG.
【0032】本実施形態の光ディスク原盤記録装置は、
記録信号光生成系50と、原盤回転テーブル系60と、
スライダ送り系70と、対物レンズ系80aとを備え
る。記録信号光生成系50から出力された記録レーザ光
は、スライダ71上に配置された対物レンズ系80aに
スライダ送り方向から水平導入される。この記録レーザ
光は平行光である。The optical disk master recording apparatus according to the present embodiment comprises:
A recording signal light generation system 50, a master disc rotating table system 60,
It has a slider feed system 70 and an objective lens system 80a. The recording laser light output from the recording signal light generation system 50 is horizontally introduced into the objective lens system 80a disposed on the slider 71 from the slider feed direction. This recording laser light is parallel light.
【0033】スライダ71は対物レンズ系80aと一体
に水平方向に移動し、定盤40を基準としたスライダ7
1の位置座標はヘテロダイン式レーザ干渉計73により
測定される。このレーザ干渉計73による測定結果に基
づいて、図示しない制御計算機で予め設定した位置プロ
ファイルに従うように、送りモータ72はスライダ71
の位置制御を行う。なお、位置プロファイルは、原盤回
転テーブル系60のスピンドルモータ63や記録信号光
生成系50のフォーマッタ55と同期連動するように管
理されており、より具体的には、記録信号の記録線速度
や線密度が管理される。The slider 71 moves in the horizontal direction integrally with the objective lens system 80a, and
The position coordinates of 1 are measured by the heterodyne laser interferometer 73. On the basis of the measurement result by the laser interferometer 73, the feed motor 72 is controlled by a slider 71 so as to follow a position profile preset by a control computer (not shown).
Is performed. The position profile is managed in synchronization with the spindle motor 63 of the master rotating table system 60 and the formatter 55 of the recording signal light generation system 50, and more specifically, the recording linear velocity and linear velocity of the recording signal. Density is controlled.
【0034】以上に説明した光ディスク原盤記録装置の
構成は、従来の光ディスク原盤記録装置と同じである。
次に、本実施形態の特徴部分である対物レンズ系80a
の概略構成を図1に基づいて説明する。対物レンズ系8
0aは、PFL 82の焦点調節を行うフォーカスサーボ系
10と、フォーカスサーボ系10の制御を行う制御系1
1と、PFL 82とSIL 14の光軸合わせ調整を行う非点
収差検出径90とを有する。フォーカスサーボ系10
は、導入ミラー81とともに、スライダ71に接続され
ており、導入ミラー81は、記録信号光生成系50から
水平導入された記録レーザ光を垂直方向に反射させてPF
L 82に導入する。The configuration of the optical disk master recording apparatus described above is the same as the conventional optical disk master recording apparatus.
Next, the objective lens system 80a which is a feature of the present embodiment is described.
Will be described with reference to FIG. Objective lens system 8
0a is a focus servo system 10 for adjusting the focus of the PFL 82 and a control system 1 for controlling the focus servo system 10.
1 and an astigmatism detection diameter 90 for adjusting the optical axis of the PFL 82 and the SIL 14. Focus servo system 10
Is connected to the slider 71 together with the introduction mirror 81. The introduction mirror 81 reflects the recording laser light horizontally introduced from the recording signal light generation system 50 in the vertical direction, and
L 82.
【0035】フォーカスサーボ系10は、PFL 82の焦
点調節を行うフォーカスアクチュエータ12と、PFL 8
2を支持するPFL ホルダ13と、SIL 14の位置制御を
行うSIL 位置調整部15とを有する。フォーカスアクチ
ュエータ12は、制御系11からの指示に応じてPFL 8
2とSIL 14を一体に光軸方向に移動制御する。なお、
PFL 82とSIL 14を合わせた開口数NAは1以下に設定
する必要があるため、PFL 82の開口数NAは、従来のPF
L 82の開口数NAよりも小さくしている(例えばNA=0.
53)。The focus servo system 10 comprises a focus actuator 12 for adjusting the focus of the PFL 82 and a PFL 8
2 has a PFL holder 13 for supporting the SIL 2, and a SIL position adjusting unit 15 for controlling the position of the SIL 14. The focus actuator 12 controls the PFL 8 in response to an instruction from the control system 11.
2 and the SIL 14 are integrally moved and controlled in the optical axis direction. In addition,
Since the numerical aperture NA of the PFL 82 and the SIL 14 needs to be set to 1 or less, the numerical aperture NA of the PFL 82 is
The numerical aperture NA of L82 is set to be smaller (for example, NA = 0.
53).
【0036】SIL 14はφ=0.8 の球面レンズであり、
動圧浮上ヘッド16に接着固定されている。動圧浮上ヘ
ッド16は、弾性支持部材17の一端に上下方向(光軸
方向)に移動可能に支持され、弾性支持部材17の他端
は、光軸方向に数μ程度変位可能なSIL 位置調整部15
に固定されている。SIL 14 is a spherical lens with φ = 0.8,
It is adhesively fixed to the dynamic pressure floating head 16. The dynamic pressure floating head 16 is supported by one end of an elastic support member 17 so as to be movable in the vertical direction (optical axis direction), and the other end of the elastic support member 17 is capable of displacing the SIL by about several μm in the optical axis direction. Part 15
It is fixed to.
【0037】SIL 位置調整部15は、SIL 14とPFL 8
2との位置関係を微調整できるように、XY微動アクチュ
エータ21、XY微動ステージ22、Z微動アクチュエー
タ23、Z微動ステージ24を順にPFL ホルダ13上に
積層した構造になっている。なお、Z微動アクチュエー
タ23とXY微動アクチュエータ21との積層順序は逆で
もかまわない。The SIL position adjuster 15 is provided with the SIL 14 and the PFL 8
The structure is such that an XY fine movement actuator 21, an XY fine movement stage 22, a Z fine movement actuator 23, and a Z fine movement stage 24 are sequentially stacked on the PFL holder 13 so that the positional relationship with the 2 can be finely adjusted. The order of laminating the Z fine movement actuator 23 and the XY fine movement actuator 21 may be reversed.
【0038】また、動圧浮上ヘッド16と弾性支持部材
17は、弾性支持部材17の保持端が原盤面に対して所
定高さにあり、かつ、原盤が線速3m/s で回転している
ときに、約50nm浮上するように設計されている。また、
弾性支持部材17の保持端の高さ位置が1μm の誤差以
内であれば、浮上誤差は5nm以下となる仕様で設計され
ている。In the dynamic pressure floating head 16 and the elastic support member 17, the holding end of the elastic support member 17 is at a predetermined height with respect to the master surface, and the master is rotating at a linear velocity of 3 m / s. Sometimes designed to fly about 50nm. Also,
If the height position of the holding end of the elastic support member 17 is within an error of 1 μm, the design is such that the floating error is 5 nm or less.
【0039】次に、PFL 82とSIL 14との光軸合わせ
調整について説明する。本実施形態では、PFL 82とSI
L 14とを別体にし、かつ、SIL 14を弾性支持部材1
7により支持するため、PFL 82とSIL 14の光軸合わ
せ調整は不可欠である。また、記録レーザとして紫外線
領域の短波長レーザを使用し、SIL 14に高屈折率の媒
体を使用する関係上、SIL 14は熱による性能劣化を起
こしやすく、定期的にSIL 14を浮上ヘッド16および
弾性支持部材17ごと交換する必要がある。このため、
SIL 14とPFL 82とがほぼ理想的な位置関係になるよ
うに光軸合わせ調整処理を定期的に行うのが望ましい。Next, adjustment of the optical axis alignment between the PFL 82 and the SIL 14 will be described. In the present embodiment, PFL 82 and SI
L14 and SIL 14 are elastic support members 1
7, the alignment of the optical axes of the PFL 82 and the SIL 14 is indispensable. Further, since a short-wavelength laser in the ultraviolet region is used as a recording laser and a medium having a high refractive index is used for the SIL 14, the SIL 14 tends to deteriorate in performance due to heat. It is necessary to replace the entire elastic support member 17. For this reason,
It is desirable to periodically perform the optical axis alignment adjustment processing so that the SIL 14 and the PFL 82 have an almost ideal positional relationship.
【0040】光軸合わせ調整は、原盤61を置かない状
態、すなわち、エバネッセント光が発生せず、全反射角
入射した光がほぼ完全に戻り光となる状態で行う。戻り
光は、非点収差検出系90に導入され、非点収差検出系
90内の4分割フォトディテクタにより、SIL 14の底
面でのデフォーカス量が検出される。The optical axis alignment adjustment is performed in a state where the master 61 is not placed, that is, in a state where evanescent light is not generated and light incident at a total reflection angle is almost completely returned light. The returned light is introduced into the astigmatism detection system 90, and the defocus amount on the bottom surface of the SIL 14 is detected by the four-segment photodetector in the astigmatism detection system 90.
【0041】図2は4分割フォトディテクタで検出され
る戻り光スポットの形状を示す図である。各フォトディ
テクタの検出値をそれぞれa,b,c,d とすると、フォーカ
ス誤差(デフォーカス量)FEは、(2)式で表され
る。 FE=(a+c)−(b+d) … (2) PFL 82とSIL 14が理想位置関係にある場合に、図2
(a)のように、4分割フォトディテクタの中央部に円
形スポットが形成されるようにすれば、この場合のフォ
ーカス誤差FEは0となる。一方、図2(b)のよう
に、PFL 82に対してSIL 14が理想位置よりも遠い場
合にはFE>0となり、逆に、図2(c)のように、PF
L 82に対してSIL 14が理想位置よりも近い場合には
FE<0となる。したがって、4分割フォトディテクタ
により検出されるフォーカス誤差FEの値と正負符号に
より、SIL 14とPFL 82との位置関係を簡易かつ正確
に検出することができる。FIG. 2 is a diagram showing the shape of the return light spot detected by the four-segment photodetector. Assuming that the detection values of the respective photodetectors are a, b, c, and d, the focus error (defocus amount) FE is expressed by equation (2). FE = (a + c) − (b + d) (2) When the PFL 82 and the SIL 14 are in an ideal positional relationship, FIG.
If a circular spot is formed at the center of the four-segmented photodetector as shown in (a), the focus error FE in this case becomes zero. On the other hand, when the SIL 14 is farther than the ideal position with respect to the PFL 82 as shown in FIG. 2B, FE> 0, and conversely, as shown in FIG.
If SIL 14 is closer to L82 than the ideal position, FE <0. Therefore, the positional relationship between the SIL 14 and the PFL 82 can be easily and accurately detected based on the value of the focus error FE detected by the four-divided photodetector and the sign.
【0042】PFL 82とSIL 14との光軸合わせ調整
は、以下の手順で行われる。初期状態では、図1に示し
た動圧浮上ヘッド16には浮力が働かないため、弾性支
持部材17は伸びた状態であり、焦点がはずれている。
この状態でZ微動アクチュエータ23によりFE=0と
なるまでZ微動ステージ24を引き上げる。ただし、F
E=0であっても、SIL 14とPFL 82とが水平方向に
ずれていると、図2(f)のように合焦しなくなる。し
かし、逆に、4分割フォトディテクタからの信号に基づ
いて、プッシュプル式にXY微動アクチュエータ21を駆
動すれば、SIL 14とPFL 82との光軸を合わせること
ができる。The optical axis alignment between the PFL 82 and the SIL 14 is adjusted in the following procedure. In the initial state, no buoyancy acts on the dynamic pressure floating head 16 shown in FIG. 1, so that the elastic support member 17 is in an extended state and is out of focus.
In this state, the Z fine movement stage 24 is pulled up by the Z fine movement actuator 23 until FE = 0. Where F
Even if E = 0, if the SIL 14 and the PFL 82 are displaced in the horizontal direction, focusing will not be performed as shown in FIG. However, conversely, if the XY fine movement actuator 21 is driven in a push-pull manner based on a signal from the four-segment photodetector, the optical axes of the SIL 14 and the PFL 82 can be aligned.
【0043】本実施形態の非点収差検出系90では、X
軸およびY軸方向のずれXE,YEが図2(d),(e)の
ように検出されるため、XE=b−d,YE=c−aをずれ
量として、XE,YEが「0」となるようにフィードバック
制御して光軸を合わせる。調整後はXY微動ステージ22
をPFL ホルダ13に固定するとともに、Z微動ステージ
24を元のデフォーカス位置に戻す。なお、PFL 82と
SIL 14との光軸合わせ調整は、それほど頻繁に行うも
のではないため、必ずしも図1のようなXY微動アクチ
ュエータ21を用いてXY微動調整を行う必要はない。In the astigmatism detection system 90 of this embodiment, X
Since the displacements XE and YE in the axial and Y-axis directions are detected as shown in FIGS. 2D and 2E, XE and YE are set to “0” with the displacement amounts XE = bd and YE = ca. The optical axis is adjusted by feedback control so that XY fine movement stage 22 after adjustment
Is fixed to the PFL holder 13 and the Z fine movement stage 24 is returned to the original defocus position. In addition, PFL 82 and
Since the optical axis alignment adjustment with the SIL 14 is not performed so frequently, it is not always necessary to perform the XY fine movement adjustment using the XY fine movement actuator 21 as shown in FIG.
【0044】次に、光ディスク原盤61への記録手順を
図3のフローチャートに基づいて詳細に説明する。この
フローチャートは、制御系11の処理動作を示すもので
ある。なお、上述したPFL 82とSIL 14との光軸合わ
せ調整は、事前に終了しているものと仮定する。Next, the recording procedure on the optical disk master 61 will be described in detail with reference to the flowchart of FIG. This flowchart shows the processing operation of the control system 11. It is assumed that the optical axis alignment adjustment between the PFL 82 and the SIL 14 has been completed in advance.
【0045】まず、レジストを塗布した光ディスク原盤
61をターンテーブル62の中央部にチャッキングした
後、制御系11は、スライダ位置較正処理等の従来と同
様の測定開始処理を行う(図3のステップS1)。次
に、制御系11は、PFL 82の粗近接処理を行う(図3
のステップS2)。ここで行う粗近接処理は、従来から
行われていた処理で、光ディスク原盤61の厚さが100
μm程度ばらついていても、フォーカスアクチュエータ
12中立点がほぼ合焦位置になるように原盤61とPFL
82との間の距離を調整する。First, after the optical disk master 61 coated with the resist is chucked at the center of the turntable 62, the control system 11 performs the same measurement start processing as the conventional one such as slider position calibration processing (step in FIG. 3). S1). Next, the control system 11 performs rough proximity processing of the PFL 82 (FIG. 3).
Step S2). The rough proximity processing performed here is processing that has been performed conventionally, and the thickness of the optical disk master 61 is 100%.
The master 61 and the PFL are adjusted so that the neutral point of the focus actuator 12 is almost at the in-focus position even if it varies about μm.
Adjust the distance between the two.
【0046】なお、図1では省略しているが、本実施形
態では、原盤61を回転させるスピンドルモータ63を
除振台40に対して2mmのストロークで上下できるスピ
ンドル上下機構を備えており、非点収差検出系40の0
位置(合焦位置)まで、スピンドルモータ63ごと原盤
61を緩やかに上昇させて、原盤61とPFL 82とを近
接させる。また、PFL 82が降下するに従って徐々に動
圧浮上ヘッド16に浮力が発生し、弾性支持部材17が
縮んで、PFL 82とSIL 14間の距離が変化し始める。
原盤61の回転に伴って動圧浮上ヘッド16に作用する
浮力は、複雑な式で表されるため省略するが、一般にギ
ャップの単調減少関数で表され、Z微動ステージ24が
原盤面に対し所定の高さ位置になったときに非点収差検
出系40は合焦と判断する。Although not shown in FIG. 1, in the present embodiment, the spindle motor 63 for rotating the master 61 is provided with a spindle up-and-down mechanism capable of moving up and down with respect to the anti-vibration table 40 with a stroke of 2 mm. 0 of the astigmatism detection system 40
The master 61 along with the spindle motor 63 is gently lifted up to a position (in-focus position) to bring the master 61 and the PFL 82 close to each other. Further, as the PFL 82 descends, buoyancy is gradually generated in the dynamic pressure flying head 16, the elastic support member 17 contracts, and the distance between the PFL 82 and the SIL 14 starts to change.
The buoyancy acting on the dynamic pressure floating head 16 as the master 61 rotates is omitted because it is expressed by a complicated equation, but is generally expressed by a monotonically decreasing function of the gap, and the Z fine movement stage 24 is positioned at a predetermined distance from the master surface. Is reached, the astigmatism detection system 40 determines that focus is achieved.
【0047】次に、制御系14は、合焦位置でスピンド
ル上下機構をロックした後、フォーカスサーボ系10に
よるPFL フォーカスサーボ(精フォーカス)を開始する
(図3のステップS3)。PFL フォーカスサーボは、広
帯域特性を有するので、PFLフォーカスサーボの最中に
おけるSIL 14は、光ディスク原盤61から100nm 以下
で浮上した位置を保ち、かつ、PFL 82とSIL 14はと
もに光ディスク原盤面のうねりに沿って上下する。Next, after locking the spindle up / down mechanism at the in-focus position, the control system 14 starts PFL focus servo (fine focus) by the focus servo system 10 (step S3 in FIG. 3). Since the PFL focus servo has a wide band characteristic, during the PFL focus servo, the SIL 14 keeps a position floating below the optical disk master 61 by 100 nm or less, and both the PFL 82 and the SIL 14 are undulated on the optical disk master surface. Move up and down along.
【0048】なお、光ディスク原盤61の最内周は上下
動が小さいので、弾性支持部材17での与圧変動を無視
でき、フォーカスサーボをロックしなくても、浮上ギャ
ップは一定となるが、本実施形態では、万全を来すた
め、浮上ギャップが一定になった時点でサーボロックす
る。The vertical movement of the innermost circumference of the optical disk master 61 is small, so that the pressure fluctuation in the elastic support member 17 can be ignored, and the floating gap is constant without locking the focus servo. In the embodiment, in order to ensure the safety, the servo lock is performed when the floating gap becomes constant.
【0049】次に、制御系14は、ギャップ調整処理を
行う(図3のステップS4)。高密度原盤記録では、記
録レーザ光の光量管理が厳しく、記録速度に応じて光量
制御を行う必要があるが、SIL 14の底面と原盤61と
のギャップは透過効率に大きく影響するため、SIL 14
の底面と原盤61とのギャップは、記録速度等を変えて
も一定に保つ必要がある。Next, the control system 14 performs a gap adjusting process (step S4 in FIG. 3). In high-density master recording, the control of the amount of recording laser light is strict, and it is necessary to control the amount of light according to the recording speed. However, the gap between the bottom surface of the SIL 14 and the master 61 greatly affects the transmission efficiency.
The gap between the bottom surface of the master and the master 61 must be kept constant even if the recording speed is changed.
【0050】ギャップ検出の一例として、ギャップに応
じて反射光量が変化することを利用する方法がある。こ
の方法は、全反射角入射した光の戻り光強度は、SIL 1
4と原盤61とのギャップに応じて急激に変化する特性
を利用したものである。ただし、本実施形態では、この
方法の代わりに、レジストに反応しない波長(640nm)
の光を用いたホモダイン式の干渉測長法を用いる。As an example of the gap detection, there is a method utilizing the fact that the amount of reflected light changes according to the gap. In this method, the return light intensity of the light incident at the angle of total reflection is SIL 1
This utilizes a characteristic that changes rapidly according to the gap between the master 4 and the master 61. However, in this embodiment, instead of this method, a wavelength that does not react with the resist (640 nm)
A homodyne-type interferometric length measurement method using the above light is used.
【0051】この方法は、SIL 14の底面においても全
反射しない程度に狭ビームの測長レーザ光をPFL 82と
SIL 14に導入し、この測長レーザ光の戻り光の強度を
フォトディテクタで計測する。SIL 14の底面には、測
長レーザ光を選択的に反射させる特殊コーティングが施
してあり、SIL 14の底面からの反射光と原盤面からの
反射光とは互いに干渉しあう。ギャップに応じて干渉の
仕方が変化し、フォトディテクタで検出される戻り光の
強度も変化する。In this method, the laser beam having a narrow beam length measured by the PFL 82 so as not to be totally reflected even at the bottom surface of the SIL 14 is used.
The laser beam is introduced into the SIL 14, and the intensity of the return light of the laser beam is measured by a photodetector. The bottom surface of the SIL 14 is provided with a special coating that selectively reflects the length measuring laser light, and the light reflected from the bottom surface of the SIL 14 and the light reflected from the master surface interfere with each other. The manner of interference changes according to the gap, and the intensity of the return light detected by the photodetector also changes.
【0052】より詳しくは、戻り光の強度は、ギャップ
に応じて正弦波的に周期変化するが、ギャップが100nm
以下の場合には、戻り光の強度は単純増加関数になり、
ギャップと戻り光の強度とは一意に定まる。したがっ
て、約50nmのギャップに相当する戻り光強度が得られる
ように、Z微動アクチュエータ23を調整すれば、ギャ
ップを精度よく調整することができる。すなわち、SIL
14の底面とPFL 82との垂直方向位置を一定にして、
Z微動ステージ24のPFL 82に対する垂直方向位置を
変えれば、動圧浮上ヘッド16への与圧力が変化し、動
圧浮上ヘッド16の浮上量を調整できる。なお、以上の
手法で測定したギャップ測定値は制御系11に送られ、
ローパスフィルタに通してS/N比の改善を図る。More specifically, the intensity of the returning light varies periodically in a sinusoidal manner according to the gap.
In the following cases, the intensity of the return light becomes a simple increasing function,
The gap and the intensity of the return light are uniquely determined. Therefore, if the Z fine movement actuator 23 is adjusted so that a return light intensity corresponding to a gap of about 50 nm is obtained, the gap can be adjusted with high accuracy. That is, SIL
With the vertical position of the bottom of 14 and the PFL 82 constant,
If the vertical position of the Z fine movement stage 24 with respect to the PFL 82 is changed, the pressure applied to the dynamic pressure flying head 16 changes, and the floating amount of the dynamic pressure flying head 16 can be adjusted. The gap measurement value measured by the above method is sent to the control system 11,
The S / N ratio is improved by passing through a low-pass filter.
【0053】なお、本実施形態では、原盤記録の最中を
含めて常時ギャップの測定を行ってZ微動アクチュエー
タ23を低帯域制御するため、記録レーザ光と干渉測長
用レーザ光とを同時にSIL 14に導入しても、干渉測長
用レーザ光からの戻り光を正確に検出できるように、波
長選択性のあるミラーを用いて分光する。ただし、光軸
方向のZ微調整は、ステップS1の測定開始処理だけで
も十分なので、ステップS1の測定開始処理が終了した
時点でZ微動アクチュエータ23をロックしてもよい。In this embodiment, since the gap is constantly measured even during the recording of the master disc to control the Z fine motion actuator 23 in the low band, the recording laser beam and the laser beam for interferometric length measurement are simultaneously transmitted by the SIL. Even when the light is introduced into the light source 14, the light is separated using a mirror having wavelength selectivity so that return light from the laser beam for interferometric measurement can be accurately detected. However, the Z fine adjustment in the optical axis direction is sufficient only by the measurement start processing in step S1, and therefore, the Z fine movement actuator 23 may be locked when the measurement start processing in step S1 ends.
【0054】図3のステップS4の処理が終了すると、
次に制御系14は、従来のフォーカスサーボ引き込み後
の処理と同様に、スライダ71を所望の送り速度になる
ように記録開始位置に向かって加速させ、記録信号生成
系50や原盤回転テーブル系60を同期を取りつつ動作
させ、光ディスク原盤61の内周側から外周側に螺旋状
に露光記録を行う(図3のステップS5)。When the processing in step S4 in FIG. 3 is completed,
Next, the control system 14 accelerates the slider 71 toward the recording start position so as to have a desired feed speed, similarly to the processing after the conventional focus servo pull-in, and the recording signal generation system 50 and the master disk rotating table system 60. Are operated in synchronization with each other, and exposure recording is performed spirally from the inner peripheral side to the outer peripheral side of the optical disk master 61 (step S5 in FIG. 3).
【0055】ここで、露光記録中の処理について詳述す
る。なお、スライダ送り系70や原盤回転数の制御、お
よびフォーマット信号の関係は、従来と変わらないため
説明を省略し、以下では、露光記録中のPFL 82の制御
について説明する。Here, the processing during exposure recording will be described in detail. The control of the slider feed system 70, the rotation speed of the master disk, and the relationship between the format signal are the same as those in the related art, and a description thereof will be omitted. Hereinafter, control of the PFL 82 during exposure recording will be described.
【0056】記録レーザ光は、PFL 82により絞り込ま
れてSIL 14に導入され、SIL 14の底面からの戻り光
に基づいて、非点収差検出系40でSIL 14の底面に対
するずれ量(フォーカス誤差)が検出される。このフォ
ーカス誤差がなくなるように、フォーカスサーボ系10
は、フォーカスアクチュエータ12(例えばボイスコイ
ルモータ)を駆動する。SIL 14は、動圧浮上ヘッド1
6の位置に応じて上下し、原盤61の回転により記録面
が上下しても、記録面とSIL 14とのギャップは常に一
定に保たれる。The recording laser beam is narrowed down by the PFL 82 and introduced into the SIL 14. Based on the return light from the bottom surface of the SIL 14, the astigmatism detection system 40 shifts the focus laser beam from the bottom surface of the SIL 14 (focus error). Is detected. In order to eliminate this focus error, the focus servo system 10
Drives a focus actuator 12 (for example, a voice coil motor). SIL 14 is the dynamic pressure floating head 1
6, the gap between the recording surface and the SIL 14 is always kept constant even if the recording surface moves up and down due to the rotation of the master 61.
【0057】また、PFL 82は、フォーカスアクチュエ
ータ12により能動的に駆動され、原盤上下動がフォー
カスサーボ系10の制御帯域内であれば、PFL 82とSI
L 14とは一体に動作し、収差はほとんど発生しない。
もちろん、原盤61に急峻な上下変動が生じた場合は、
PFL 82とSIL 14との間の距離が変化してしまうが、
実用上は問題にならない。The PFL 82 is actively driven by the focus actuator 12. If the vertical movement of the master is within the control band of the focus servo system 10, the PFL 82 and the SI
It operates integrally with L14, and hardly generates aberration.
Of course, when a steep vertical movement occurs in the master 61,
The distance between PFL 82 and SIL 14 will change,
This is not a problem in practical use.
【0058】本実施形態では、フォーカスサーボ系10
の他にも、上述したZ微動アクチュエータ23でのギャ
ップ制御を行っている。図3のステップS4の処理を行
えば、Z微動アクチュエータ23を制御しなくてもほぼ
50nmのギャップが得られるが、記録線密度を変更しなけ
ればならない特殊記録の場合には、浮上ギャップが変化
して適当な露光パワーが得られなくなる。このため、本
実施形態では、Z微動アクチュエータ23でギャップ管
理を行う。ただし、ギャップ制御は、原盤回転周期より
も十分に低い帯域の制御系を組んでいるため、記録線速
度の変化は緩やかでなければ意味を持たない。In this embodiment, the focus servo system 10
In addition, the gap control by the Z fine movement actuator 23 described above is performed. By performing the processing in step S4 of FIG. 3, even if the Z fine movement actuator 23 is not controlled,
Although a gap of 50 nm can be obtained, in the case of special recording in which the recording linear density needs to be changed, the flying gap changes and an appropriate exposure power cannot be obtained. Therefore, in the present embodiment, the gap is managed by the Z fine movement actuator 23. However, the gap control has a control system of a band sufficiently lower than the rotation period of the master, and therefore has no meaning unless the change in the recording linear velocity is gentle.
【0059】以上に説明したように、第1の実施形態で
は、PFL 82とSIL 14とを別体にし、SIL 14のみを
動圧浮上ヘッド16の先端に固定するようにしたため、
光ディスク原盤61の回転により発生される流体抵抗が
小さくても、安定にSIL 14を浮上させることができ、
SIL 14と原盤記録面とのギャップを常に一定に維持す
ることができる。As described above, in the first embodiment, the PFL 82 and the SIL 14 are separately provided, and only the SIL 14 is fixed to the tip of the dynamic pressure floating head 16.
Even if the fluid resistance generated by the rotation of the optical disc master 61 is small, the SIL 14 can be stably levitated,
The gap between the SIL 14 and the recording surface of the master can always be kept constant.
【0060】なお、図1のようにPFL 82とSIL 14と
を別体構成にすると、SIL 14の取り付け位置のばらつ
きにより、PFL 82とSIL 14の光軸がずれるおそれが
ある。このため、第1の実施形態では、非点収差検出系
40を設けてPFL 82とSIL14の光軸合わせ調整を行
っており、これにより、収差の影響を少なくでき、か
つ、光スポットサイズの外乱による影響を受けなくな
る。また、PFL 82とSIL14の光軸合わせ調整は簡易
な手順で行えるため、消耗品であるSIL 14を交換して
も、精度を一定に維持できる。When the PFL 82 and the SIL 14 are formed separately as shown in FIG. 1, the optical axes of the PFL 82 and the SIL 14 may be shifted due to a variation in the mounting position of the SIL 14. For this reason, in the first embodiment, the astigmatism detection system 40 is provided to adjust the optical axis of the PFL 82 and the SIL 14, so that the influence of aberration can be reduced and disturbance of the light spot size can be reduced. No longer affected by Further, since the optical axis alignment adjustment between the PFL 82 and the SIL 14 can be performed in a simple procedure, the accuracy can be maintained constant even when the consumable SIL 14 is replaced.
【0061】また、フォーカスアクチュエータ12によ
りPFL 82とSIL 14とを一体に移動制御するため、PF
L 82とSIL 14との間隔を一定に維持でき、PFL 82
とSIL 14とを一体ユニットにした場合と等価的に同じ
効果が得られる。Since the focus actuator 12 controls the movement of the PFL 82 and the SIL 14 integrally, the PF
The distance between L 82 and SIL 14 can be kept constant, and PFL 82
The same effect can be obtained equivalently to the case where the SIL 14 and the SIL 14 are integrated.
【0062】また、SIL 位置調整部15を設けるため、
PFL 82とSIL 14の距離を一定に維持しながら、弾性
支持部材17の与圧量を任意に可変できるようになり、
その結果として、SIL 14の動圧浮上量を任意に調整可
能となる。これにより、信号記録時の光ディスク原盤の
線速を変える場合であっても、浮上量を任意に設定する
ことができ、また、周速度一定で内周と外周とで流速が
異なるような特殊な信号記録を行う場合でも、SIL 14
の浮上量が一定になるような制御が可能となる。In order to provide the SIL position adjusting unit 15,
While maintaining the distance between the PFL 82 and the SIL 14 constant, the amount of pressurization of the elastic support member 17 can be arbitrarily changed,
As a result, the dynamic pressure floating amount of the SIL 14 can be arbitrarily adjusted. As a result, even when the linear velocity of the master optical disc during signal recording is changed, the flying height can be set arbitrarily. Even when performing signal recording, SIL 14
Can be controlled so that the flying height of the surface becomes constant.
【0063】特に、どのような信号記録条件であって
も、浮上量が一定で、かつ、SIL 14による効率が一定
に保たれれば、各信号記録条件での光量管理に従来のデ
ータベースを活用できる。In particular, under any signal recording conditions, if the flying height is constant and the efficiency by the SIL 14 is kept constant, a conventional database is used for light quantity management under each signal recording condition. it can.
【0064】なお、SIL 14を用いることにより、PFL
82の開口数NAを小さくすることができ、従来は開口数
NA=0.9 であったのに対し、本実施形態では、開口数NA
=0.53のものを使用できる。また、SIL 14の材料とし
ては、屈折率n413 =1.894のLaSFを使用し、SIL 14
の内部の見かけ上の開口数NA' =1、内部波長λ' =18
5nm となり、光ディスク原盤がSIL 14に十分に近接し
ているとした場合の最小ピット径R' は、(2)式で表
される。 R' =k・λ' /NA' =k・λ/(n2 ・NA)=0.47R …(2) ただし、RはNA=0.9 のPFL 82を用いた従来方式の最
小ピット径である。By using SIL 14, the PFL
82, the numerical aperture NA can be reduced.
While NA = 0.9, in the present embodiment, the numerical aperture NA
= 0.53 can be used. Further, as a material of SIL 14, LaSF having a refractive index n 413 = 1.894 is used.
Numerical aperture NA '= 1 inside the lens, internal wavelength λ' = 18
The minimum pit diameter R 'when the optical disk master is assumed to be sufficiently close to the SIL 14 is expressed by the equation (2). R '= k · λ' / NA '= k · λ / (n 2 · NA) = 0.47R ... (2) Here, R is the minimum pit diameter of a conventional method using the PFL 82 of NA = 0.9.
【0065】(2)式に示すように、本実施形態によれ
ば、従来の半分以下のピットを形成でき、超高密度記録
が可能となる。As shown in the equation (2), according to the present embodiment, less than half of the conventional pits can be formed, and ultrahigh-density recording becomes possible.
【0066】また、本実施形態は、対物レンズ系80a
の構成を除けば、図5に示した従来の構成とほぼ同じで
あるため、電子線やX線を用いた原盤露光装置を開発す
る場合に比べて、構成の変更がはるかに少なく、設計変
更に要するコストも少なくて済む。In this embodiment, the objective lens system 80a
Except for the configuration described above, the configuration is almost the same as the conventional configuration shown in FIG. 5, so that the configuration change is much smaller than when a master exposure apparatus using electron beams or X-rays is developed, Costs are low.
【0067】〔第2の実施形態〕第2の実施形態は、PF
L 82とSIL 14とを独立して移動制御できるようにし
たものである。図4は光ディスク原盤記録装置の第2の
実施形態における対物レンズ系80bの概略構成を示す
図である。図4では、図1と同じ構成部分には同一符号
を付しており、以下では図1との相違点を中心に説明す
る。[Second Embodiment] In the second embodiment, the PF
The movement of the L 82 and the SIL 14 can be controlled independently. FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of an objective lens system 80b in the second embodiment of the optical disc master recording apparatus. In FIG. 4, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the following description will focus on the differences from FIG.
【0068】PFL 82はPFL ホルダ13に支持され、PF
L 82とPFL ホルダ13はフォーカスアクチュエータ1
2により光軸方向に移動制御される。一方、SIL 14の
移動制御を行うSIL 位置調整部15は、図1と異なり、
スライダ71に直接支持される。SIL 位置調整部15
は、SIL 14を水平方向(光軸に直交する方向)に移動
制御するXY微動アクチュエータ21と、XY微動アク
チュエータ21を支持するXY微動ステージ22と、SI
L 14を光軸方向に移動制御するZ微動アクチュエータ
23と、Z微動アクチュエータ23を支持するZ微動ス
テージ24とを有する。The PFL 82 is supported by the PFL holder 13 and the PF
L 82 and PFL holder 13 are the focus actuator 1
2 controls the movement in the optical axis direction. On the other hand, the SIL position adjuster 15 for controlling the movement of the SIL 14 is different from FIG.
It is directly supported by the slider 71. SIL position adjustment unit 15
The XY fine movement actuator 21 for controlling the movement of the SIL 14 in the horizontal direction (the direction orthogonal to the optical axis), the XY fine movement stage 22 for supporting the XY fine movement actuator 21,
It has a Z fine movement actuator 23 that controls the movement of L 14 in the optical axis direction, and a Z fine movement stage 24 that supports the Z fine movement actuator 23.
【0069】一方、SIL 14はφ0.8 の球面レンズであ
り、動圧浮上ヘッド16の一端に接着固定される。動圧
浮上ヘッド16は、弾性支持部材17により上下方向
(光軸方向)に移動可能に支持され、弾性支持部材17
は、上述したSIL 位置調整部15内のZ微動ステージ2
4に接続される。On the other hand, the SIL 14 is a spherical lens having a diameter of φ0.8, and is adhered and fixed to one end of the dynamic pressure floating head 16. The dynamic pressure floating head 16 is supported by an elastic support member 17 so as to be movable in the vertical direction (optical axis direction).
Is the Z fine movement stage 2 in the SIL position adjustment unit 15 described above.
4 is connected.
【0070】第2の実施形態では、図1と異なり、Z微
動ステージ24がPFL 82に積層されていないため、光
ディスク原盤61が上下動してもPFL 82は移動せず、
結果として、動圧浮上ヘッド16の与圧力に変化が生じ
る。動圧浮上ヘッド16と弾性支持部材17は、原盤6
1の上下動があっても、ギャップ変動が鈍くなるように
設計されているので問題ないはずであるが、記録レーザ
光の強度はギャップ変動に大きく依存するため、光ディ
スク原盤61の上下変動が大きい外周側で、ジッタが悪
くなるおそれがある。In the second embodiment, unlike FIG. 1, since the Z fine movement stage 24 is not stacked on the PFL 82, the PFL 82 does not move even if the optical disk master 61 moves up and down.
As a result, the applied pressure of the dynamic pressure flying head 16 changes. The dynamic pressure floating head 16 and the elastic support member 17
Even if there is a vertical movement of 1, there should be no problem because the gap fluctuation is designed to be slow. However, since the intensity of the recording laser beam largely depends on the gap fluctuation, the vertical fluctuation of the optical disk master 61 is large. On the outer peripheral side, jitter may be deteriorated.
【0071】このため、第2の実施形態では、Z微動ア
クチュエータ23として、ボイスコイルモータのような
比較的高帯域の制御性能のよいアクチュエータを用いる
ことにより、SIL 14と光ディスク原盤61とのギャッ
プが一定になるような制御を行う。また、ギャップ測定
は、第1の実施形態と同様に行うが、ギャップ制御は、
第1の実施形態とは異なり、低周波ローパスフィルタを
介さずにフィードバックし、Z微動アクチュエータ23
が弾性支持部材17による固有振動を励起しないように
位相の進み遅れ補償を工夫する。これにより、記録面全
体にわたり、キャップ変動がきわめて小さくなり、安定
した信号露光が可能となる。For this reason, in the second embodiment, the gap between the SIL 14 and the optical disk master 61 is reduced by using an actuator having a relatively high band and good controllability such as a voice coil motor as the Z fine movement actuator 23. Control is performed so as to be constant. The gap measurement is performed in the same manner as in the first embodiment.
Unlike the first embodiment, feedback is performed without passing through a low-frequency low-pass filter, and the Z fine movement actuator 23
Devises phase lead / lag compensation so as not to excite the natural vibration by the elastic support member 17. As a result, the fluctuation of the cap is extremely small over the entire recording surface, and stable signal exposure can be performed.
【0072】また、光ディスク原盤61がすり鉢状の場
合には、内周側と外周側で原盤高さのDC値が変化する
が、このような原盤に記録する場合も、動圧浮上ヘッド
16への与圧力が一定に管理され、結果として、SIL 1
4と光ディスク原盤61とのギャップが変動しなくな
る。When the optical disk master 61 is in the shape of a mortar, the DC value of the master height changes between the inner circumference and the outer circumference. Pressure is constantly controlled, and as a result, SIL 1
4 and the optical disk master 61 no longer fluctuate.
【0073】なお、上述した各実施形態では、エバネッ
セント波を発生可能なレンズとして、球面レンズを用い
たが、エバネッセント波を発生可能なレンズであれば、
レンズ形状は問わない。また、光ディスク原盤記録装置
の構成も、図1等に示したものに限定されない。In each of the above embodiments, a spherical lens is used as a lens capable of generating an evanescent wave. However, any lens capable of generating an evanescent wave may be used.
The lens shape does not matter. Further, the configuration of the optical disk master recording apparatus is not limited to the configuration shown in FIG.
【0074】[0074]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、第1の光学系を通過したレーザ光が第2の光学系
を介して常に基準面に結像するように制御し、かつ、第
1および第2の光学系の光軸が一致するように制御する
ため、レジスト塗布面でのビームスポット径を従来より
もはるかに小さくでき、記録密度を大幅に向上できる。
また、光ディスク原盤が回転により上下動しても、ま
た、第2の光学系を途中で取り替えても、常に同一精度
で露光記録を行うことができる。As described in detail above, according to the present invention, control is performed such that laser light passing through the first optical system always forms an image on the reference plane via the second optical system. In addition, since the control is performed so that the optical axes of the first and second optical systems coincide with each other, the beam spot diameter on the resist-coated surface can be made much smaller than before, and the recording density can be greatly improved.
Also, even if the optical disk master moves up and down due to rotation, or if the second optical system is replaced halfway, exposure recording can always be performed with the same accuracy.
【図1】光ディスク原盤記録装置の第1の実施形態にお
ける対物レンズ系の概略構成を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an objective lens system in a first embodiment of an optical disc master recording apparatus.
【図2】4分割フォトディテクタで検出される戻り光ス
ポットの形状を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a shape of a return light spot detected by a four-segment photodetector.
【図3】光ディスク原盤への記録手順を示すフローチャ
ート。FIG. 3 is a flowchart showing a recording procedure on a master optical disc.
【図4】光ディスク原盤記録装置の第2の実施形態にお
ける対物レンズ系の概略構成を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of an objective lens system in a second embodiment of the optical disc master recording apparatus.
【図5】従来の光ディスク原盤記録装置の概略構成を示
す斜視図。FIG. 5 is a perspective view showing a schematic configuration of a conventional optical disk master recording apparatus.
【図6】SIL を用いた近接場記録の原理を説明する図。FIG. 6 is a view for explaining the principle of near-field recording using SIL.
10 フォーカスサーボ系 11 制御系 12 フォーカスアクチュエータ 13 PFL ホルダー 14 SIL 15 SIL 位置調整部 16 動圧浮上ヘッド 17 弾性支持部材 21 XY微動アクチュエータ 22 XY微動ステージ 23 Z微動アクチュエータ 24 Z微動ステージ 80,80a,80b 対物レンズ系 81 導入ミラー 82 PFL 90 非点収差検出系 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Focus servo system 11 Control system 12 Focus actuator 13 PFL holder 14 SIL 15 SIL Position adjustment part 16 Dynamic pressure floating head 17 Elastic support member 21 XY fine movement actuator 22 XY fine movement stage 23 Z fine movement actuator 24 Z fine movement stage 80, 80a, 80b Objective lens system 81 Introducing mirror 82 PFL 90 Astigmatism detection system
Claims (7)
させた状態で、前記光ディスク原盤のレジスト塗布面に
対して、記録信号に応じたレーザ光を照射して露光記録
を行う光ディスク原盤記録装置において、 前記レーザ光を集光させるプリフォーカスレンズと、 前記プリフォーカスレンズにより集光されたレーザ光
を、予め定めた基準面にさらに集光させるエバネッセン
ト波を発生可能なレンズと、 前記基準面でのビームスポット径と略同径のビームスポ
ット径で露光記録を行えるように、前記光ディスク原盤
のレジスト塗布面と前記エバネッセント波を発生可能な
レンズとの距離を調整するギャップ調整手段と、 前記プリフォーカスレンズを通過したレーザ光が前記基
準面に結像するように、前記プリフォーカスレンズの焦
点調節を行う焦点調節制御手段と、 前記プリフォーカスレンズと前記エバネッセント波を発
生可能なレンズとの光軸合わせ調整を行う光軸合わせ調
整手段と、を備え、 前記基準面は、前記エバネッセント波を発生可能なレン
ズの底面であり、 前記ギャップ調整手段は、前記エバネッセント波を発生
可能なレンズの底面から漏れ出すエバネッセント波が減
衰しない程度の距離に前記光ディスク原盤のレジスト塗
布面が配置されるように、前記エバネッセント波を発生
可能なレンズの位置決めが可能であることを特徴とする
光ディスク原盤記録装置。An optical disc master recording apparatus for performing exposure recording by irradiating a laser beam corresponding to a recording signal to a resist applied surface of the optical disc master while rotating the optical disc master coated with a resist, A prefocus lens for condensing the laser light; a lens capable of generating an evanescent wave for further condensing the laser light condensed by the prefocus lens on a predetermined reference surface; and a beam on the reference surface. Gap adjusting means for adjusting the distance between the resist-coated surface of the optical disc master and a lens capable of generating the evanescent wave, so that exposure recording can be performed with a beam spot diameter substantially the same as the spot diameter; The focus of the pre-focus lens is adjusted so that the laser light that has passed through forms an image on the reference plane. Focusing adjustment control means, and optical axis alignment adjustment means for adjusting the optical axis of the prefocus lens and the lens capable of generating the evanescent wave, wherein the reference plane is capable of generating the evanescent wave A bottom surface of the lens, wherein the gap adjusting means is configured to set the evanescent wave such that the resist coating surface of the optical disc master is disposed at a distance such that evanescent waves leaking from the bottom surface of the lens capable of generating the evanescent waves are not attenuated. An optical disk master recording apparatus, wherein a lens capable of generating a wave can be positioned.
体抵抗により、前記エバネッセント波を発生可能なレン
ズが前記光ディスク原盤のレジスト塗布面から100nm 以
下の高さに受動的に浮上するように、前記エバネッセン
ト波を発生可能なレンズを支持する動圧浮上機構を備
え、 前記動圧浮上機構は、前記プリフォーカスレンズの支持
体とは別個に設けられ、 前記ギャップ調整手段は、前記動圧浮上機構の一端に接
続され、前記動圧浮上機構と前記エバネッセント波を発
生可能なレンズとを一体に移動制御することを特徴とす
る請求項1に記載の光ディスク原盤記録装置。2. The method according to claim 1, wherein the evanescent wave is generated such that a lens capable of generating the evanescent wave passively floats to a height of 100 nm or less from a resist coating surface of the optical disk master due to fluid resistance generated by rotation of the optical disk master. A dynamic pressure levitation mechanism that supports a lens capable of generating the following. The dynamic pressure levitation mechanism is provided separately from a support of the prefocus lens, and the gap adjustment unit is provided at one end of the dynamic pressure levitation mechanism. 2. The optical disk master recording apparatus according to claim 1, wherein the dynamic pressure levitation mechanism and the lens capable of generating the evanescent wave are integrally moved and controlled.
性支持部材とを有し、 前記動圧浮上ヘッドの一端には前記エバネッセント波を
発生可能なレンズが固定され、前記動圧浮上ヘッドの他
端には前記弾性支持部材の一端が接続され、前記弾性支
持部材の他端には前記ギャップ調整手段が接続されるこ
とを特徴とする請求項2に記載の光ディスク原盤記録装
置。3. The dynamic pressure levitation mechanism includes a dynamic pressure levitation head and an elastic support member, and a lens capable of generating the evanescent wave is fixed to one end of the dynamic pressure levitation head. The optical disk master recording apparatus according to claim 2, wherein one end of the elastic support member is connected to the other end of the head, and the gap adjusting means is connected to the other end of the elastic support member.
セント波を発生可能なレンズとを前記光ディスク原盤の
レジスト塗布面に略平行な方向に移動制御するスライダ
を備え、 前記焦点調節制御手段は、前記プリフォーカスレンズと
前記エバネッセント波を発生可能なレンズとを一体に前
記レーザ光の光軸方向に移動させることを特徴とする請
求項2または3に記載の光ディスク原盤記録装置。4. A slider for controlling movement of the prefocus lens and the lens capable of generating the evanescent wave in a direction substantially parallel to a resist coating surface of the optical disk master, wherein the focus adjustment control means includes: 4. The optical disk master recording apparatus according to claim 2, wherein a lens and a lens capable of generating the evanescent wave are integrally moved in an optical axis direction of the laser beam.
セント波を発生可能なレンズとを前記光ディスク原盤の
レジスト塗布面に略平行な方向に移動制御するスライダ
を備え、 前記焦点調整制御手段は、前記エバネッセント波を発生
可能なレンズを移動させることなく、前記プリフォーカ
スレンズを前記レーザ光の光軸方向に移動させることを
特徴とする請求項2または3に記載の光ディスク原盤記
録装置。5. A slider for controlling movement of the prefocus lens and the lens capable of generating the evanescent wave in a direction substantially parallel to a resist coating surface of the optical disk master, wherein the focus adjustment control means includes: The optical disk master recording apparatus according to claim 2 or 3, wherein the prefocus lens is moved in the optical axis direction of the laser light without moving a lens capable of generating the optical disc.
カスレンズを移動させることなく、前記エバネッセント
波を発生可能なレンズを前記レーザ光の光軸方向に移動
させることを特徴とする請求項2〜5のいずれかに記載
の光ディスク原盤記録装置。6. The apparatus according to claim 2, wherein said gap adjusting means moves a lens capable of generating said evanescent wave in an optical axis direction of said laser beam without moving said prefocus lens. An optical disc master recording apparatus according to any one of the above.
させた状態で、前記光ディスク原盤のレジスト塗布面
に、記録信号に応じたレーザ光を照射して露光記録を行
う光ディスク原盤記録方法において、 記録信号に応じたレーザ光をプリフォーカスレンズで集
光させた後に、エバネッセント波を発生可能なレンズで
さらに集光させるようにし、 エバネッセント波を発生可能なレンズの底面から漏れ出
すエバネッセント波が減衰しない程度の距離に前記光デ
ィスク原盤のレジスト塗布面が配置されるように、前記
エバネッセント波を発生可能なレンズの位置決めを行
い、 前記エバネッセント波を発生可能なレンズの位置変動に
かかわらず、前記レーザ光が前記エバネッセント波を発
生可能なレンズの底面で合焦するように、前記プリフォ
ーカスレンズの位置決めを行い、 前記プリフォーカスレンズと前記エバネッセント波を発
生可能なレンズとの光軸合わせ調整を行った後に露光記
録を行うことを特徴とする光ディスク原盤記録方法。7. An optical disk master recording method for performing exposure recording by irradiating a laser beam corresponding to a recording signal to a resist-coated surface of the optical disk master while rotating the optical disk master coated with the resist. After focusing the laser beam according to the pre-focus lens, the lens that can generate the evanescent wave is further focused, and the evanescent wave leaking from the bottom of the lens that can generate the evanescent wave is not attenuated. Positioning the lens capable of generating the evanescent wave so that the resist-coated surface of the optical disk master is disposed at a distance, and the laser beam is generated by the evanescent wave regardless of a position change of the lens capable of generating the evanescent wave. In order to focus on the bottom surface of the lens that can generate waves, Performs positioning of the lens, the master optical disc recording method characterized by performing exposure recording after the optical axis alignment adjustment between pre-focus lens enables generating the evanescent wave lens.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10055004A JPH11259902A (en) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | Device and method for recording optical disk master disk |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP10055004A JPH11259902A (en) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | Device and method for recording optical disk master disk |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH11259902A true JPH11259902A (en) | 1999-09-24 |
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JP10055004A Pending JPH11259902A (en) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | Device and method for recording optical disk master disk |
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