JPH11258513A - 落射照明装置 - Google Patents
落射照明装置Info
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- JPH11258513A JPH11258513A JP6558798A JP6558798A JPH11258513A JP H11258513 A JPH11258513 A JP H11258513A JP 6558798 A JP6558798 A JP 6558798A JP 6558798 A JP6558798 A JP 6558798A JP H11258513 A JPH11258513 A JP H11258513A
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- illumination
- lens
- illumination light
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 照射光の照射範囲の制御が容易な落射照明装
置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源1から出射されたレーザビー
ムを拡大する集光レンズ2とフォーカスレンズ4との間
にレーザビームに収差と焦点移動を発生させるレンズ3
を着脱することにより、対物レンズ23を経て試料13
上に集光されるレーザビームのビーム径を変更するとと
もに、その強度分布をガウス分布から分散させて、均一
分布に近づける。
置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源1から出射されたレーザビー
ムを拡大する集光レンズ2とフォーカスレンズ4との間
にレーザビームに収差と焦点移動を発生させるレンズ3
を着脱することにより、対物レンズ23を経て試料13
上に集光されるレーザビームのビーム径を変更するとと
もに、その強度分布をガウス分布から分散させて、均一
分布に近づける。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、観察対象に観察光
学系と同軸で光を照射する照明光学系を備える落射照明
装置に関する。特に、観察対象の反応、加工用の光を照
射する機能を備える落射照明装置に関する。
学系と同軸で光を照射する照明光学系を備える落射照明
装置に関する。特に、観察対象の反応、加工用の光を照
射する機能を備える落射照明装置に関する。
【0002】
【従来の技術】落射照明装置は、生体細胞の観察や、回
路基板の配線状態の確認等に広く用いられており、単に
試料に照明を照射するだけでなく、反応を促す光や加工
用のレーザ光を観察光学系と同軸で照射する機能を有す
るものもある。
路基板の配線状態の確認等に広く用いられており、単に
試料に照明を照射するだけでなく、反応を促す光や加工
用のレーザ光を観察光学系と同軸で照射する機能を有す
るものもある。
【0003】このような落射照明装置としては、特開平
6−160724号公報、特開平7−56092号公報
に開示されている装置がある。これらの装置は、いずれ
も生体組織中の細胞内外における各種反応を光をトリガ
ーに用いて計測するフォトリシス用顕微鏡に関するもの
である。
6−160724号公報、特開平7−56092号公報
に開示されている装置がある。これらの装置は、いずれ
も生体組織中の細胞内外における各種反応を光をトリガ
ーに用いて計測するフォトリシス用顕微鏡に関するもの
である。
【0004】フォトリシス用顕微鏡においては、予め生
体細胞に目的の反応の引き金となる物質にニトロフェニ
ル基などの保護基を結合させたケージド化合物(Caged
Compounds)を投与しておき、落射照明を利用して強い
紫外光をトリガーとして照射してこの保護基を解離させ
ることにより、ケージド化合物を活性化させ、反応を起
こさせる。このケージド化合物の光による活性化をフォ
トリシス(photolysis)反応と呼ぶ。
体細胞に目的の反応の引き金となる物質にニトロフェニ
ル基などの保護基を結合させたケージド化合物(Caged
Compounds)を投与しておき、落射照明を利用して強い
紫外光をトリガーとして照射してこの保護基を解離させ
ることにより、ケージド化合物を活性化させ、反応を起
こさせる。このケージド化合物の光による活性化をフォ
トリシス(photolysis)反応と呼ぶ。
【0005】フォトリシス反応では、トリガーとして光
を用いるため、特定の位置に集中して反応を起こさせる
ことができ、時間的、空間的に優れた分解能で反応状態
を調べることが可能となる。また、注射等での試薬注入
では試薬の拡散の影響を考慮する必要があるが、フォト
リシス反応を利用することにより、ケージド化合物の濃
度が均一になってからトリガー光を照射することで、拡
散の影響を排除することができる。
を用いるため、特定の位置に集中して反応を起こさせる
ことができ、時間的、空間的に優れた分解能で反応状態
を調べることが可能となる。また、注射等での試薬注入
では試薬の拡散の影響を考慮する必要があるが、フォト
リシス反応を利用することにより、ケージド化合物の濃
度が均一になってからトリガー光を照射することで、拡
散の影響を排除することができる。
【0006】上述の公報に開示された装置は、いずれも
観察用の照明光学系とトリガー光の照明光学系の各々に
独立して絞りを設けることにより、それぞれの光の照射
範囲を独立して制御するものである。
観察用の照明光学系とトリガー光の照明光学系の各々に
独立して絞りを設けることにより、それぞれの光の照射
範囲を独立して制御するものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】フォトリシス反応のト
リガー光としては、従来、アーク光源やキセノンフラッ
シュランプなどが用いられてきた。しかし、アーク光源
ではフォトリシス反応を引き起こすのに長時間の照射が
必要であり、一方、キセノンフラッシュランプでは連続
発光が困難である。これに対して、短パルスレーザ光を
用いれば、高いエネルギーを短時間に集中でき、高時間
分解能を確保することができる。しかし、レーザビーム
を使用し、回折限界まで絞りこんだスポット照明と、視
野の数十%程度の広い面積を照射するのを両立させるこ
とは困難であった。
リガー光としては、従来、アーク光源やキセノンフラッ
シュランプなどが用いられてきた。しかし、アーク光源
ではフォトリシス反応を引き起こすのに長時間の照射が
必要であり、一方、キセノンフラッシュランプでは連続
発光が困難である。これに対して、短パルスレーザ光を
用いれば、高いエネルギーを短時間に集中でき、高時間
分解能を確保することができる。しかし、レーザビーム
を使用し、回折限界まで絞りこんだスポット照明と、視
野の数十%程度の広い面積を照射するのを両立させるこ
とは困難であった。
【0008】そこで、本発明は、上記問題点に鑑みて、
照射光の照射範囲の制御が容易な落射照明装置を提供す
ることを課題とする。
照射光の照射範囲の制御が容易な落射照明装置を提供す
ることを課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の落射照明装置は、観察対象の像を拡大する
観察光学系と、これと観察対象側の光学系を共用して観
察対象に所定の照明光を照射する照明光学系を備える落
射照明装置であって、照明光学系は、第1の照明光を出
射する第1の照明光源と、第1の照明光と特性の異なる
第2の照明光を照射する第2の照明光源と、第1及び第
2の照明光を合成する合成手段と、合成手段と第2の照
明光源の間に着脱可能に配置され、第2の照明光の光像
に収差を発生させるとともに焦点を移動させる光学装置
と、を備えていることを特徴とする。
め、本発明の落射照明装置は、観察対象の像を拡大する
観察光学系と、これと観察対象側の光学系を共用して観
察対象に所定の照明光を照射する照明光学系を備える落
射照明装置であって、照明光学系は、第1の照明光を出
射する第1の照明光源と、第1の照明光と特性の異なる
第2の照明光を照射する第2の照明光源と、第1及び第
2の照明光を合成する合成手段と、合成手段と第2の照
明光源の間に着脱可能に配置され、第2の照明光の光像
に収差を発生させるとともに焦点を移動させる光学装置
と、を備えていることを特徴とする。
【0010】これによれば、合成手段と第2の照明光源
の間に収差を発生させ、焦点を移動させる光学装置を配
置している場合には、第2の照明光源から発せられた光
は、この光学装置により光像に収差が発生させられると
ともにその焦点が移動する。つまり、像がボケた状態に
なる。このようにして生成された収差を有する光は、合
成手段で第1の照明光と合成され、観察光学系の観察対
象側の光学系を利用して観察対象に照射される。この結
果、この光学装置がないときに第2の照明光が観察対象
上に投影する光像より、ボケた分だけ広い範囲に光像が
投影される。このボケを調整することで照射範囲を調整
することができる。さらに、絞りを利用していないた
め、照射範囲全体に照射される光量の総量はこの光学装
置を用いないときと同一になる。逆を言えば、この光学
装置を用いていないときには、光学装置を用いたときに
比べて小面積に強い光が集中して照射されることにな
る。単位面積あたりの光量をこの光学装置を用いた場合
と同一にするためには、光学装置の代わりにNDフィル
タを挿入する構成とすればよい。
の間に収差を発生させ、焦点を移動させる光学装置を配
置している場合には、第2の照明光源から発せられた光
は、この光学装置により光像に収差が発生させられると
ともにその焦点が移動する。つまり、像がボケた状態に
なる。このようにして生成された収差を有する光は、合
成手段で第1の照明光と合成され、観察光学系の観察対
象側の光学系を利用して観察対象に照射される。この結
果、この光学装置がないときに第2の照明光が観察対象
上に投影する光像より、ボケた分だけ広い範囲に光像が
投影される。このボケを調整することで照射範囲を調整
することができる。さらに、絞りを利用していないた
め、照射範囲全体に照射される光量の総量はこの光学装
置を用いないときと同一になる。逆を言えば、この光学
装置を用いていないときには、光学装置を用いたときに
比べて小面積に強い光が集中して照射されることにな
る。単位面積あたりの光量をこの光学装置を用いた場合
と同一にするためには、光学装置の代わりにNDフィル
タを挿入する構成とすればよい。
【0011】この第2の照明光源は、レーザ光源であっ
てもよい。本発明によれば、収差発生手段によりレーザ
光の光量分布がガウス分布から均一分布に近づく。
てもよい。本発明によれば、収差発生手段によりレーザ
光の光量分布がガウス分布から均一分布に近づく。
【0012】この光学装置は、光軸部分の透過率を外周
部の透過率より低下させていることが好ましい。これに
より、さらに光学装置を透過した光の光量分布が均一に
なる。
部の透過率より低下させていることが好ましい。これに
より、さらに光学装置を透過した光の光量分布が均一に
なる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の好適な実施の形態について説明する。なお、説明の理
解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に
対しては可能な限り同一の参照番号を附し、重複する説
明は省略する。
の好適な実施の形態について説明する。なお、説明の理
解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に
対しては可能な限り同一の参照番号を附し、重複する説
明は省略する。
【0014】図1に本発明の落射照明装置の光学系を概
略的に示す。この装置は、試料13にトリガー光を照射
してその像を観察するフォトリシス用顕微鏡システムに
含まれる。
略的に示す。この装置は、試料13にトリガー光を照射
してその像を観察するフォトリシス用顕微鏡システムに
含まれる。
【0015】図1に示されるように、この装置は、トリ
ガー光となるYAGレーザなどのハイパワーの短パルス
レーザ光を発するレーザ光源1と、このレーザ光を集光
する集光レンズ2と、この集光レンズ2の結像面より集
光レンズ2側に着脱可能に配置される収差発生及び焦点
移動用のレンズ3と、集光レンズ2の結像面より下流側
に配置され、入射光をほぼ平行光に調整するフォーカス
レンズ4と、トリガー光照射位置確認のためのガイド光
を発するレーザダイオード5と、ガイド光を平行光に調
整する調整レンズ6と、ガイド光を透過し、トリガー光
を反射することにより、両者を同軸上に合成するハーフ
ミラー7と、ガイド光、トリガー光の透過、反射を切り
換えるシャッタ8と、観察対象を撮像するカメラヘッド
9と、カメラヘッド9の前面に配置され、観察像をカメ
ラヘッドに結像する受像レンズ10と、観察像を透過
し、ガイド光とトリガー光の合成光を反射するハーフミ
ラー11と、ガイド光、トリガー光、観察像の合成光を
集光するUVレンズ12と、を有し、合成光は、顕微鏡
20に接続されている。そして、顕微鏡20は、合成光
を反射するミラー21と、これを集光するレンズ22及
び対物レンズ23からなる。
ガー光となるYAGレーザなどのハイパワーの短パルス
レーザ光を発するレーザ光源1と、このレーザ光を集光
する集光レンズ2と、この集光レンズ2の結像面より集
光レンズ2側に着脱可能に配置される収差発生及び焦点
移動用のレンズ3と、集光レンズ2の結像面より下流側
に配置され、入射光をほぼ平行光に調整するフォーカス
レンズ4と、トリガー光照射位置確認のためのガイド光
を発するレーザダイオード5と、ガイド光を平行光に調
整する調整レンズ6と、ガイド光を透過し、トリガー光
を反射することにより、両者を同軸上に合成するハーフ
ミラー7と、ガイド光、トリガー光の透過、反射を切り
換えるシャッタ8と、観察対象を撮像するカメラヘッド
9と、カメラヘッド9の前面に配置され、観察像をカメ
ラヘッドに結像する受像レンズ10と、観察像を透過
し、ガイド光とトリガー光の合成光を反射するハーフミ
ラー11と、ガイド光、トリガー光、観察像の合成光を
集光するUVレンズ12と、を有し、合成光は、顕微鏡
20に接続されている。そして、顕微鏡20は、合成光
を反射するミラー21と、これを集光するレンズ22及
び対物レンズ23からなる。
【0016】次に、本装置の動作を説明する。まず、収
差発生及び焦点移動用のレンズ3を挿入していない場合
について説明する。レーザ光源1から射出されたレーザ
パルスは、集光レンズ2とフォーカスレンズ4によりほ
ぼ平行で元のビームよりビーム径の大きなビームに拡大
されて、トリガー光としてハーフミラー7に導かれる。
一方、レーザダイオード5から出射されたガイド光は、
調整レンズ6により平行光に調整されて同じくハーフミ
ラー7に導かれる。ハーフミラー7は、ガイド光を透過
し、トリガー光を反射することにより、これら二つの光
を光軸が同一となるよう合成する。こうして生成された
合成光は、シャッタ8を透過状態に設定している場合
は、このシャッタ8を透過してミラー11に導かれ、反
射されて、UVレンズ12に入射し、集光されて顕微鏡
20に入射される。
差発生及び焦点移動用のレンズ3を挿入していない場合
について説明する。レーザ光源1から射出されたレーザ
パルスは、集光レンズ2とフォーカスレンズ4によりほ
ぼ平行で元のビームよりビーム径の大きなビームに拡大
されて、トリガー光としてハーフミラー7に導かれる。
一方、レーザダイオード5から出射されたガイド光は、
調整レンズ6により平行光に調整されて同じくハーフミ
ラー7に導かれる。ハーフミラー7は、ガイド光を透過
し、トリガー光を反射することにより、これら二つの光
を光軸が同一となるよう合成する。こうして生成された
合成光は、シャッタ8を透過状態に設定している場合
は、このシャッタ8を透過してミラー11に導かれ、反
射されて、UVレンズ12に入射し、集光されて顕微鏡
20に入射される。
【0017】顕微鏡20に入射した合成光は、ミラー2
1で反射されて、レンズ22と対物レンズ23により試
料面上の一点に集光される。ここで、各光学系は、トリ
ガ光が一点に集束されるよう収差補正が行われているこ
とが好ましい。
1で反射されて、レンズ22と対物レンズ23により試
料面上の一点に集光される。ここで、各光学系は、トリ
ガ光が一点に集束されるよう収差補正が行われているこ
とが好ましい。
【0018】一方、試料13の観察像は、合成光と逆
に、対物レンズ23、レンズ22により拡大されてミラ
ー21で反射され、顕微鏡20外部へ導かれ、UVレン
ズ12とハーフミラー11を透過し、結像レンズ10に
よりカメラヘッド9により撮像される。
に、対物レンズ23、レンズ22により拡大されてミラ
ー21で反射され、顕微鏡20外部へ導かれ、UVレン
ズ12とハーフミラー11を透過し、結像レンズ10に
よりカメラヘッド9により撮像される。
【0019】こうして、トリガー光が試料13の一点に
照射されると、試料13に予め投与されていたケージド
化合物の保護基がフォトリシス反応により分離して、生
体活性化合物となり、所望の反応を引き起こすことがで
きる。そして、その際の試料13の様子をカメラヘッド
9を用いて観察することができる。観察像の画像信号を
デジタル変換して、パソコン等により各種の画像処理を
施してもよい。
照射されると、試料13に予め投与されていたケージド
化合物の保護基がフォトリシス反応により分離して、生
体活性化合物となり、所望の反応を引き起こすことがで
きる。そして、その際の試料13の様子をカメラヘッド
9を用いて観察することができる。観察像の画像信号を
デジタル変換して、パソコン等により各種の画像処理を
施してもよい。
【0020】続いて、収差発生用の追加レンズ3を挿入
した場合の動作について説明する。図2は、レンズ3の
挿入の有無による光路変化を概略的に比較した図であ
り、図2(a)が上述したレンズ3を挿入していない場
合を示し、図2(b)がレンズ3を挿入した場合を示し
ている。
した場合の動作について説明する。図2は、レンズ3の
挿入の有無による光路変化を概略的に比較した図であ
り、図2(a)が上述したレンズ3を挿入していない場
合を示し、図2(b)がレンズ3を挿入した場合を示し
ている。
【0021】レンズ3の挿入によって、収差および焦点
移動が発生するため、集光レンズ2の結像面では、光が
集束せず、ボケた状態になり、トリガー光は、はガウス
分布より強度分布が均一になった状態で広い範囲に照射
される。このトリガー光は、フォーカスレンズ4から対
物レンズ23までを経て試料13に照射されるが、この
試料13の表面と前述の集光レンズ2の結像面が共役関
係にあるため、トリガー光は図2(a)に示されるレン
ズ3のない場合に比べて広い範囲にほぼ均一に照射され
ることになる。
移動が発生するため、集光レンズ2の結像面では、光が
集束せず、ボケた状態になり、トリガー光は、はガウス
分布より強度分布が均一になった状態で広い範囲に照射
される。このトリガー光は、フォーカスレンズ4から対
物レンズ23までを経て試料13に照射されるが、この
試料13の表面と前述の集光レンズ2の結像面が共役関
係にあるため、トリガー光は図2(a)に示されるレン
ズ3のない場合に比べて広い範囲にほぼ均一に照射され
ることになる。
【0022】この結果、試料13のうち照射範囲内の広
い領域内でケージド化合物の保護基がフォトリシス反応
により分離して、生体活性化合物となり、所望の反応を
引き起こすことができる。つまり、反応を引き起こす範
囲を調製することができる。
い領域内でケージド化合物の保護基がフォトリシス反応
により分離して、生体活性化合物となり、所望の反応を
引き起こすことができる。つまり、反応を引き起こす範
囲を調製することができる。
【0023】このとき、収差を発生させ、焦点を移動さ
せるレンズ3は、トリガー光の光学系にのみ配置されて
いるから、観察像光学系、ガイド光光学系は何ら影響を
受けない、つまり、トリガー光照射範囲の変更に応じて
観察像のピントを調整したり、ガイド光の集光状態を変
更する必要がないので、トリガー光照射範囲の切替が容
易である。
せるレンズ3は、トリガー光の光学系にのみ配置されて
いるから、観察像光学系、ガイド光光学系は何ら影響を
受けない、つまり、トリガー光照射範囲の変更に応じて
観察像のピントを調整したり、ガイド光の集光状態を変
更する必要がないので、トリガー光照射範囲の切替が容
易である。
【0024】図3は、試料13面に照射されるトリガー
光の照射状況を計算により求めた結果を表す図である。
ここで、対物レンズ23の焦点距離は100mmであっ
てそのF値は1.5とし、焦点位置およびその前後にお
けるトリガー光ビームの様子を示したものである。この
時に、ビーム強度分布はフラットなものとして取り扱っ
た。
光の照射状況を計算により求めた結果を表す図である。
ここで、対物レンズ23の焦点距離は100mmであっ
てそのF値は1.5とし、焦点位置およびその前後にお
けるトリガー光ビームの様子を示したものである。この
時に、ビーム強度分布はフラットなものとして取り扱っ
た。
【0025】図3(a)は、レンズ3を用いていない場
合であり、焦点位置では点状にトリガー光が集光され、
その前後では、ビーム径が拡大するとともに、強度分布
は不均一になる。図3(b)は、レンズ3を挿入して収
差を発生させた場合であり、ビーム径が拡大し、拡大さ
れた範囲に均一に近いビームが照射される。図3(c)
は、さらに収差の大きいレンズ3を挿入した場合であ
り、さらにビーム径が拡大することができることがわか
る。
合であり、焦点位置では点状にトリガー光が集光され、
その前後では、ビーム径が拡大するとともに、強度分布
は不均一になる。図3(b)は、レンズ3を挿入して収
差を発生させた場合であり、ビーム径が拡大し、拡大さ
れた範囲に均一に近いビームが照射される。図3(c)
は、さらに収差の大きいレンズ3を挿入した場合であ
り、さらにビーム径が拡大することができることがわか
る。
【0026】いずれの場合も、照射範囲内に照射される
トリガー光の総光量は一定であるため、照射強度を制御
したい場合は、レーザ光源1から出射されるレーザの光
量を制御することで、容易に制御することができる。
トリガー光の総光量は一定であるため、照射強度を制御
したい場合は、レーザ光源1から出射されるレーザの光
量を制御することで、容易に制御することができる。
【0027】収差発生用のレンズ3には、図4に示され
るように表面上に遮光膜3a1〜3a4を設けてもよい。
この遮光膜3aは、入射ビームの強度分布に応じて、中
心3a1の透過率を低くし、周辺に行くにしたがってそ
の透過率を高く設定することにより、出射光の強度分布
を均一に近づけている。この遮光膜3aの透過率設定
は、図4に示されるように段階的に設定しても、連続的
に設定してもよい。
るように表面上に遮光膜3a1〜3a4を設けてもよい。
この遮光膜3aは、入射ビームの強度分布に応じて、中
心3a1の透過率を低くし、周辺に行くにしたがってそ
の透過率を高く設定することにより、出射光の強度分布
を均一に近づけている。この遮光膜3aの透過率設定
は、図4に示されるように段階的に設定しても、連続的
に設定してもよい。
【0028】また、レンズ3ではなく、平行なガラス板
を配置してもよい。この場合は、ガラス内の屈折により
収差が発生し、同様の効果を得ることができる。この場
合も、表面に遮光膜を設けることで、レンズ3に遮光膜
3aを設けた場合と同様の効果を得ることができる。
を配置してもよい。この場合は、ガラス内の屈折により
収差が発生し、同様の効果を得ることができる。この場
合も、表面に遮光膜を設けることで、レンズ3に遮光膜
3aを設けた場合と同様の効果を得ることができる。
【0029】これらのレンズ、ガラス等の収差発生用の
光学部材は、レーザ光の拡散光束中、集光光束中のいず
れに配置してもよいが、特に、高出力のレーザビームを
用いる場合、レーザ光の吸収による発熱及び光化学反応
を防ぐため、結像面からできるだけ離して配置すること
が好ましい。
光学部材は、レーザ光の拡散光束中、集光光束中のいず
れに配置してもよいが、特に、高出力のレーザビームを
用いる場合、レーザ光の吸収による発熱及び光化学反応
を防ぐため、結像面からできるだけ離して配置すること
が好ましい。
【0030】本発明では、収差と焦点移動を利用してレ
ーザ光の分布状態を変えているのでレーザ光を有効に利
用することができ、また、収差発生用の光学部材での吸
収を抑えることができるので、ハイパワーレーザ光源に
対しても同様に利用可能である。
ーザ光の分布状態を変えているのでレーザ光を有効に利
用することができ、また、収差発生用の光学部材での吸
収を抑えることができるので、ハイパワーレーザ光源に
対しても同様に利用可能である。
【0031】以上の説明では、フォトリシス用顕微鏡に
利用する例について説明してきたが、本発明はこれに限
られるものではなく、基板の配線状態を確認しながら補
修を行うレーザリペア顕微鏡など各種の落射照明装置に
適用可能である。
利用する例について説明してきたが、本発明はこれに限
られるものではなく、基板の配線状態を確認しながら補
修を行うレーザリペア顕微鏡など各種の落射照明装置に
適用可能である。
【0032】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
照射光の一方の光学系のみに収差発生及び焦点移動用の
光学装置を着脱することにより、この収差発生及び焦点
移動を利用して観察対象に照射される照射光の一方のス
ポット径を拡大しつつ、その強度分布も均一化すること
ができる。
照射光の一方の光学系のみに収差発生及び焦点移動用の
光学装置を着脱することにより、この収差発生及び焦点
移動を利用して観察対象に照射される照射光の一方のス
ポット径を拡大しつつ、その強度分布も均一化すること
ができる。
【0033】特に、レーザ光の場合には、レーザ光がガ
ウス分布を有しているため、特に有効である。
ウス分布を有しているため、特に有効である。
【0034】光学部材の表面に遮光膜を設ければ、さら
に強度分布を均一化することができる。
に強度分布を均一化することができる。
【図1】本発明に係る落射照明装置の光学系の概略図で
ある。
ある。
【図2】収差発生用レンズの有無による集光光学系を比
較した図である。
較した図である。
【図3】収差発生用レンズの有無による集光状態を比較
した図である。
した図である。
【図4】収差発生用レンズの別の形態を示す図である。
1…レーザ光源、2…集光レンズ、3…収差発生用レン
ズ、4…フォーカスレンズ、5…ガイド光光源、6…調
整レンズ、7、11…ハーフミラー、8…シャッタ、9
…カメラヘッド、10…撮像レンズ、12…UVレン
ズ、13…試料、20…顕微鏡、21…ミラー、22…
レンズ、23…対物レンズ。
ズ、4…フォーカスレンズ、5…ガイド光光源、6…調
整レンズ、7、11…ハーフミラー、8…シャッタ、9
…カメラヘッド、10…撮像レンズ、12…UVレン
ズ、13…試料、20…顕微鏡、21…ミラー、22…
レンズ、23…対物レンズ。
Claims (3)
- 【請求項1】 観察対象の像を拡大する観察光学系と、
前記観察光学系と前記観察対象側の光学系を共用して前
記観察対象に所定の照明光を照射する照明光学系を備え
る落射照明装置において、 前記照明光学系は、前記照明光を出射する第1の照明光
源と、前記第1の照明光源の照明光と特性の異なる第2
の照明光を照射する第2の照明光源と、前記第1及び第
2の照明光源の光を合成する合成手段と、前記合成手段
と前記第2の照明光源の間に着脱可能に配置され、第2
の照明光の光像に収差を発生させるとともに焦点を移動
させる光学装置と、を備えていることを特徴とする落射
照明装置。 - 【請求項2】 前記第2の照明光源は、レーザ光源であ
ることを特徴とする請求項1記載の落射照明装置。 - 【請求項3】 前記光学装置は、光軸部分の透過率を外
周部の透過率より低下させていることを特徴とする請求
項1、2のいずれかに記載の落射照明装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6558798A JPH11258513A (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 落射照明装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6558798A JPH11258513A (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 落射照明装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11258513A true JPH11258513A (ja) | 1999-09-24 |
Family
ID=13291301
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6558798A Pending JPH11258513A (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 落射照明装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11258513A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006139027A (ja) * | 2004-11-11 | 2006-06-01 | Olympus Corp | 顕微鏡の照明装置 |
-
1998
- 1998-03-16 JP JP6558798A patent/JPH11258513A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006139027A (ja) * | 2004-11-11 | 2006-06-01 | Olympus Corp | 顕微鏡の照明装置 |
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