JPH1124059A - マイクロレンズ基板 - Google Patents
マイクロレンズ基板Info
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- JPH1124059A JPH1124059A JP9178523A JP17852397A JPH1124059A JP H1124059 A JPH1124059 A JP H1124059A JP 9178523 A JP9178523 A JP 9178523A JP 17852397 A JP17852397 A JP 17852397A JP H1124059 A JPH1124059 A JP H1124059A
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- transparent
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- microlens
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Abstract
(57)【要約】
【課題】反りや歪みがなく、また、光の透過効率の良い
マイクロレンズ基板を提供することを目的とし、もて、
マイクロレンズ基板を組み込んだ液晶プロジェクション
装置の表示品位を向上させる。 【解決手段】透明基板上に、少なくとも、複数のマイク
ロレンズと、接着剤層と、カバーガラスとを順次積層し
てなるマイクロレンズ基板において、マイクロレンズを
形成した面と反対面側の透明基板面に、引っ張り応力を
有する透明層を形成したことを特徴とするマイクロレン
ズ基板。
マイクロレンズ基板を提供することを目的とし、もて、
マイクロレンズ基板を組み込んだ液晶プロジェクション
装置の表示品位を向上させる。 【解決手段】透明基板上に、少なくとも、複数のマイク
ロレンズと、接着剤層と、カバーガラスとを順次積層し
てなるマイクロレンズ基板において、マイクロレンズを
形成した面と反対面側の透明基板面に、引っ張り応力を
有する透明層を形成したことを特徴とするマイクロレン
ズ基板。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、3板式液晶プロジ
ェクション装置等に用いられる、透明基板上に複数のマ
イクロレンズを形成したマイクロレンズ基板に係わる。
ェクション装置等に用いられる、透明基板上に複数のマ
イクロレンズを形成したマイクロレンズ基板に係わる。
【0002】
【従来の技術】図3は、液晶プロジェクション装置の構
成部品の一つである、液晶パネル7部を模式的に示した
ものである。図中に示すように、少なくとも液晶パネル
7部は、透明基板2上に複数のマイクロレンズ3を形成
したマイクロレンズ基板1と、薄膜トランジスタ(TF
T10)等のスイッチング素子および配線等を透明基板
2’上に形成した電極基板9とからなっている。液晶パ
ネル7部は、マイクロレンズ基板1と電極基板9とを対
向させ、かつ両基板が所定のギャップをもつよう対向さ
せたうえで、両基板間に液晶8を封入し、貼り合わせる
ものである。
成部品の一つである、液晶パネル7部を模式的に示した
ものである。図中に示すように、少なくとも液晶パネル
7部は、透明基板2上に複数のマイクロレンズ3を形成
したマイクロレンズ基板1と、薄膜トランジスタ(TF
T10)等のスイッチング素子および配線等を透明基板
2’上に形成した電極基板9とからなっている。液晶パ
ネル7部は、マイクロレンズ基板1と電極基板9とを対
向させ、かつ両基板が所定のギャップをもつよう対向さ
せたうえで、両基板間に液晶8を封入し、貼り合わせる
ものである。
【0003】ここで、対向させた両基板間のギャップが
部位によりバラつき所定のギャップとならない、いわゆ
るギャップ不良となった場合、液晶表示の品位を大幅に
劣化させるものである。
部位によりバラつき所定のギャップとならない、いわゆ
るギャップ不良となった場合、液晶表示の品位を大幅に
劣化させるものである。
【0004】透明基板2表面に、例えば半球形のマイク
ロレンズ3を複数形成したマイクロレンズ基板1は、表
面が凹凸となっている。このため、対向させた両基板間
のギャップ不良およびレベリング不良を防止し、液晶表
示品位を向上させるためには、マイクロレンズ基板1の
マイクロレンズ3面を平坦化する必要が生じるものであ
る。
ロレンズ3を複数形成したマイクロレンズ基板1は、表
面が凹凸となっている。このため、対向させた両基板間
のギャップ不良およびレベリング不良を防止し、液晶表
示品位を向上させるためには、マイクロレンズ基板1の
マイクロレンズ3面を平坦化する必要が生じるものであ
る。
【0005】従来、マイクロレンズ基板1表面、特にマ
イクロレンズ3面を平坦化する手段の一つとして、以下
に記す方法がとられているものである。すなわち、図3
に示すように、マイクロレンズ3側に接着剤4を塗布
し、接着剤4を介しマイクロレンズ3上に、ガラス等の
薄い透明板(以下、これをカバーガラス5と記す)を貼
り合わせ、カバーガラス5表面にて平坦面を形成する方
法である。
イクロレンズ3面を平坦化する手段の一つとして、以下
に記す方法がとられているものである。すなわち、図3
に示すように、マイクロレンズ3側に接着剤4を塗布
し、接着剤4を介しマイクロレンズ3上に、ガラス等の
薄い透明板(以下、これをカバーガラス5と記す)を貼
り合わせ、カバーガラス5表面にて平坦面を形成する方
法である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した、接
着剤4を介しマイクロレンズ3上にカバーガラス5を張
り合わせたマイクロレンズ基板1では、以下の問題が生
じていたものである。
着剤4を介しマイクロレンズ3上にカバーガラス5を張
り合わせたマイクロレンズ基板1では、以下の問題が生
じていたものである。
【0007】すなわち、カバーガラス5の張り合わせ
後、図2に示すように、マイクロレンズ基板1が反りを
生じ、例えばすり鉢状に歪むという問題である。これ
は、カバーガラス5の張り合わせに用いる接着剤4が引
っ張り応力を発生させるため、接着剤4の引っ張り応力
により、マイクロレンズ基板1が反りを生じると推定さ
れるものである。
後、図2に示すように、マイクロレンズ基板1が反りを
生じ、例えばすり鉢状に歪むという問題である。これ
は、カバーガラス5の張り合わせに用いる接着剤4が引
っ張り応力を発生させるため、接着剤4の引っ張り応力
により、マイクロレンズ基板1が反りを生じると推定さ
れるものである。
【0008】上述したマイクロレンズ基板1の反りは、
例えばマイクロレンズ基板1が対角1インチのサイズで
あった場合、すり鉢状の底部から上縁部までの深さが2
〜3μm程度にまでなっていたものである。この反りを
生じたマイクロレンズ基板1を用い液晶パネル7を構成
した場合、対向させた両基板間のギャップ不良およびレ
ベリング不良が生じるものである。また、マイクロレン
ズ基板1がすり鉢状に反った場合、マイクロレンズの焦
点位置が基板中央部方向に寄ってしまうものである。こ
のため、反りを生じたマイクロレンズ基板1を液晶プロ
ジェクション装置に組み込んだ場合、投射画像の四隅が
ボケる、または、四隅に影が生じる等、液晶プロジェク
ション装置の表示品位が大幅に劣化していたものであ
る。
例えばマイクロレンズ基板1が対角1インチのサイズで
あった場合、すり鉢状の底部から上縁部までの深さが2
〜3μm程度にまでなっていたものである。この反りを
生じたマイクロレンズ基板1を用い液晶パネル7を構成
した場合、対向させた両基板間のギャップ不良およびレ
ベリング不良が生じるものである。また、マイクロレン
ズ基板1がすり鉢状に反った場合、マイクロレンズの焦
点位置が基板中央部方向に寄ってしまうものである。こ
のため、反りを生じたマイクロレンズ基板1を液晶プロ
ジェクション装置に組み込んだ場合、投射画像の四隅が
ボケる、または、四隅に影が生じる等、液晶プロジェク
ション装置の表示品位が大幅に劣化していたものであ
る。
【0009】また、マイクロレンズ基板1を組み込んだ
液晶パネル7に画像表示を行う際、マイクロレンズ基板
1に光照射を行うものである。しかるに、ガラス等より
なる透明基板2表面の光反射率は2〜10%程度と大き
く、透明基板2表面の光反射により透明基板2を透過す
る光の透過量が減る、いわゆる光の透過効率が悪いもの
であった。これによって、従来のマイクロレンズ基板1
を組み込んだ液晶プロジェクション装置の表示画面が暗
くなりコントラスト表示が低下する等、液晶プロジェク
ション装置の表示品位を低下させていたものである。
液晶パネル7に画像表示を行う際、マイクロレンズ基板
1に光照射を行うものである。しかるに、ガラス等より
なる透明基板2表面の光反射率は2〜10%程度と大き
く、透明基板2表面の光反射により透明基板2を透過す
る光の透過量が減る、いわゆる光の透過効率が悪いもの
であった。これによって、従来のマイクロレンズ基板1
を組み込んだ液晶プロジェクション装置の表示画面が暗
くなりコントラスト表示が低下する等、液晶プロジェク
ション装置の表示品位を低下させていたものである。
【0010】本発明は、以上の事情に鑑みなされたもの
であり、反りや歪みがなく、また、光の透過効率の良い
マイクロレンズ基板を提供することを目的とし、もっ
て、マイクロレンズ基板を組み込んだ液晶プロジェクシ
ョン装置の表示品位を向上させようとするものである。
であり、反りや歪みがなく、また、光の透過効率の良い
マイクロレンズ基板を提供することを目的とし、もっ
て、マイクロレンズ基板を組み込んだ液晶プロジェクシ
ョン装置の表示品位を向上させようとするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を達成するために、まず請求項1においては、透明基板
上に、少なくとも、複数のマイクロレンズと、接着剤層
と、カバーガラスとを順次積層してなるマイクロレンズ
基板において、マイクロレンズを形成した面と反対面側
の透明基板面に、引っ張り応力を有する透明層を形成し
たことを特徴とするマイクロレンズ基板としたものであ
る。
を達成するために、まず請求項1においては、透明基板
上に、少なくとも、複数のマイクロレンズと、接着剤層
と、カバーガラスとを順次積層してなるマイクロレンズ
基板において、マイクロレンズを形成した面と反対面側
の透明基板面に、引っ張り応力を有する透明層を形成し
たことを特徴とするマイクロレンズ基板としたものであ
る。
【0012】また、請求項2においては、前記透明層を
反射防止膜としたことを特徴とする請求項1に記載のマ
イクロレンズ基板としたものである。
反射防止膜としたことを特徴とする請求項1に記載のマ
イクロレンズ基板としたものである。
【0013】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態例を
模式的に表した図1に基づき、本発明の説明を行う。な
お、本発明の実施の形態は、以下の説明および後述する
実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づ
き、種々の変形が可能なことはいうまでもない。
模式的に表した図1に基づき、本発明の説明を行う。な
お、本発明の実施の形態は、以下の説明および後述する
実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づ
き、種々の変形が可能なことはいうまでもない。
【0014】図1に示す、本発明のマイクロレンズ基板
1においては、透明基板2上に従来通りマイクロレンズ
3を形成し、しかる後、接着剤4を介しカバーガラス5
を張り合わせている。ここで、本発明のマイクロレンズ
基板1の特徴として、マイクロレンズ3を形成した面と
反対面側の透明基板2面に、引っ張り応力を有する透明
層6を形成しているものである。
1においては、透明基板2上に従来通りマイクロレンズ
3を形成し、しかる後、接着剤4を介しカバーガラス5
を張り合わせている。ここで、本発明のマイクロレンズ
基板1の特徴として、マイクロレンズ3を形成した面と
反対面側の透明基板2面に、引っ張り応力を有する透明
層6を形成しているものである。
【0015】すなわち、本発明者らは、上記課題を達成
するために鋭意検討を行ったものである。その結果、本
発明者らは、前述した(発明が解決しようとする課題)
に記したように、カバーガラス5の張り合わせに用いた
接着剤4の引っ張り応力によりマイクロレンズ基板1に
反りが生じると推定されるため、マイクロレンズ3を形
成した面と反対面側の透明基板2面に、引っ張り応力を
有する透明層6を形成すれば、基板両面に生じた応力同
志が相殺し合い、マイクロレンズ基板1の反りが解消出
来ることを見いだしたものである。
するために鋭意検討を行ったものである。その結果、本
発明者らは、前述した(発明が解決しようとする課題)
に記したように、カバーガラス5の張り合わせに用いた
接着剤4の引っ張り応力によりマイクロレンズ基板1に
反りが生じると推定されるため、マイクロレンズ3を形
成した面と反対面側の透明基板2面に、引っ張り応力を
有する透明層6を形成すれば、基板両面に生じた応力同
志が相殺し合い、マイクロレンズ基板1の反りが解消出
来ることを見いだしたものである。
【0016】次いで、本発明者らは、マイクロレンズ基
板1の光透過効率を良くするという課題に基づき、さら
に検討を行ったものである。その結果、本発明者らは、
マイクロレンズ3を形成した面と反対面側の透明基板2
面に光反射防止膜を形成すれば、透明基板2面の光反射
が押さえられ上記課題を解決できることを見いだしたも
のである。すなわち、本発明者らは、上述した透明層6
を光反射防止膜とすることに想達し、請求項2に係わる
発明に至ったものである。
板1の光透過効率を良くするという課題に基づき、さら
に検討を行ったものである。その結果、本発明者らは、
マイクロレンズ3を形成した面と反対面側の透明基板2
面に光反射防止膜を形成すれば、透明基板2面の光反射
が押さえられ上記課題を解決できることを見いだしたも
のである。すなわち、本発明者らは、上述した透明層6
を光反射防止膜とすることに想達し、請求項2に係わる
発明に至ったものである。
【0017】ここで、本発明に用いる透明層6の材質
は、接着剤4により生じる引っ張り応力と同程度の引っ
張り応力が発生し、また、光反射防止膜となるものであ
れば、無機材料であっても、また有機材料であっても構
わない。
は、接着剤4により生じる引っ張り応力と同程度の引っ
張り応力が発生し、また、光反射防止膜となるものであ
れば、無機材料であっても、また有機材料であっても構
わない。
【0018】例えば、有機材料にて透明層6を形成する
場合には、低屈折率オーバーコート材(例えば、日本化
薬(株)製、商品名「AR7468−405N」)等が
好適に用いることができ、また、無機材料にて単層の透
明層6を形成する場合、低屈折率の無機材料(例えば、
MgF2 )が好適に用いられる。
場合には、低屈折率オーバーコート材(例えば、日本化
薬(株)製、商品名「AR7468−405N」)等が
好適に用いることができ、また、無機材料にて単層の透
明層6を形成する場合、低屈折率の無機材料(例えば、
MgF2 )が好適に用いられる。
【0019】なお、有機材料もしくは無機材料にて単層
の透明層6を形成する際、透明層6を光反射防止膜とす
るため、透明層6の屈折率を(n)とした場合、透明層
6の光学的膜厚(n×d)がλ/4(λはマイクロレン
ズ基板に照射する光の波長)となるよう、透明層6の膜
厚(d)を設定することが肝要といえる。さらに、透明
基板2の屈折率が(n0 )であった場合、以下の(数
1)を満たす屈折率(n)を有する素材にて単層の透明
層6を形成することも肝要といえる。
の透明層6を形成する際、透明層6を光反射防止膜とす
るため、透明層6の屈折率を(n)とした場合、透明層
6の光学的膜厚(n×d)がλ/4(λはマイクロレン
ズ基板に照射する光の波長)となるよう、透明層6の膜
厚(d)を設定することが肝要といえる。さらに、透明
基板2の屈折率が(n0 )であった場合、以下の(数
1)を満たす屈折率(n)を有する素材にて単層の透明
層6を形成することも肝要といえる。
【0020】
【数1】
【0021】次いで、低屈折率の無機材料(例えば、S
iO2 、MgF2 等)よりなる透明薄膜と、高屈折率の
無機材料(例えば、TiO2 、ZrO2 、ZnS等)よ
りなる透明薄膜とを、交互に所定の層数積層した、所
謂、多層光干渉フィルターを透明基板2面に形成し、本
発明に係わる透明層6として構わない。なお、多層光干
渉フィルターの光透過率は、交互に積層する各透明薄膜
の光学的膜厚(透明薄膜の屈折率と透明薄膜の膜厚との
積)で決まるものであり、所望する波長域の光が透過す
るよう、適宜、積層する透明薄膜の屈折率、膜厚、およ
び積層数を設定するものである。なお、透明基板2面に
形成する透明層6(多層光干渉フィルター)の例とし
て、(透明基板/TiO2 /SiO2 /TiO2 /Si
O2 )というように、透明基板2上にTiO2 とSiO
2 とを交互に各々2層積層した、4層構成の透明層6
(多層光干渉フィルター)があげられる。
iO2 、MgF2 等)よりなる透明薄膜と、高屈折率の
無機材料(例えば、TiO2 、ZrO2 、ZnS等)よ
りなる透明薄膜とを、交互に所定の層数積層した、所
謂、多層光干渉フィルターを透明基板2面に形成し、本
発明に係わる透明層6として構わない。なお、多層光干
渉フィルターの光透過率は、交互に積層する各透明薄膜
の光学的膜厚(透明薄膜の屈折率と透明薄膜の膜厚との
積)で決まるものであり、所望する波長域の光が透過す
るよう、適宜、積層する透明薄膜の屈折率、膜厚、およ
び積層数を設定するものである。なお、透明基板2面に
形成する透明層6(多層光干渉フィルター)の例とし
て、(透明基板/TiO2 /SiO2 /TiO2 /Si
O2 )というように、透明基板2上にTiO2 とSiO
2 とを交互に各々2層積層した、4層構成の透明層6
(多層光干渉フィルター)があげられる。
【0022】次いで、透明層6の形成方法は、透明層6
の材質に応じ、塗布法、蒸着法、スパッタリング法等、
適宜最適なものを選択して構わない。また、塗布法を用
いることで、透明層6の形成がマイクロレンズ3に変形
等の影響を与えなければ、マイクロレンズ3の形成前、
マイクロレンズ3の形成後もしくはカバーガラス5の張
り合わせ後に、透明層6を形成して構わない。逆に、蒸
着法、スパッタリング法等、加熱処理を必要とする透明
層6の形成法であった場合、透明層6の形成の際の加熱
処理によりマイクロレンズ3に変形等の影響を与えるた
め、マイクロレンズ3の形成に先立ち、透明層6を形成
することが望ましい。
の材質に応じ、塗布法、蒸着法、スパッタリング法等、
適宜最適なものを選択して構わない。また、塗布法を用
いることで、透明層6の形成がマイクロレンズ3に変形
等の影響を与えなければ、マイクロレンズ3の形成前、
マイクロレンズ3の形成後もしくはカバーガラス5の張
り合わせ後に、透明層6を形成して構わない。逆に、蒸
着法、スパッタリング法等、加熱処理を必要とする透明
層6の形成法であった場合、透明層6の形成の際の加熱
処理によりマイクロレンズ3に変形等の影響を与えるた
め、マイクロレンズ3の形成に先立ち、透明層6を形成
することが望ましい。
【0023】また、透明層6の層厚は、上述した光学的
条件を満たし、かつ、接着剤4により生じる引っ張り応
力を相殺する引っ張り応力を発生するよう、接着剤4の
材質、厚み、透明層6の材質等に応じ、適宜設定するも
のである。
条件を満たし、かつ、接着剤4により生じる引っ張り応
力を相殺する引っ張り応力を発生するよう、接着剤4の
材質、厚み、透明層6の材質等に応じ、適宜設定するも
のである。
【0024】
【実施例】以下に、本発明のマイクロレンズ基板の一実
施例を、製造工程の一例を模式的に示す図4に基づき記
す。まず、透明基板2(対角 1.3インチ角のコーニング
社製7059材)上に、ポジ型フォトレジスト層11を形
成し、図4(a)を得た。なお、本実施例では、ポジ型
フォトレジストとして東京応化(株)製、商品名「TM
R−P3」(粘度80CP)を用い、レジストを透明基板2
上に滴下後、1000回転/分にて4分間透明基板2を回転
するスピンコート法を用い透明基板2上にポジ型フォト
レジスト層を形成後、90℃にて1時間加熱するプレベー
クを行い、層厚4μmのフォトレジスト層11としたもの
である。
施例を、製造工程の一例を模式的に示す図4に基づき記
す。まず、透明基板2(対角 1.3インチ角のコーニング
社製7059材)上に、ポジ型フォトレジスト層11を形
成し、図4(a)を得た。なお、本実施例では、ポジ型
フォトレジストとして東京応化(株)製、商品名「TM
R−P3」(粘度80CP)を用い、レジストを透明基板2
上に滴下後、1000回転/分にて4分間透明基板2を回転
するスピンコート法を用い透明基板2上にポジ型フォト
レジスト層を形成後、90℃にて1時間加熱するプレベー
クを行い、層厚4μmのフォトレジスト層11としたもの
である。
【0025】次いで、所定のパターンを有する露光用パ
ターンマスクを介し透明基板2にパターン露光を行っ
た。なお、パターン露光の際、 300mJ/cm2 の紫外線を
照射した。
ターンマスクを介し透明基板2にパターン露光を行っ
た。なお、パターン露光の際、 300mJ/cm2 の紫外線を
照射した。
【0026】次いで、アルカリ現像液にて透明基板2に
現像を行い、フォトレジスト層11の未硬化部位を溶解除
去した。次いで、透明基板2に 180℃にて40分間の加熱
を行い、透明基板2上に残ったフォトレジスト層のマイ
クロレンズ化を行い、図4(b)を得た。
現像を行い、フォトレジスト層11の未硬化部位を溶解除
去した。次いで、透明基板2に 180℃にて40分間の加熱
を行い、透明基板2上に残ったフォトレジスト層のマイ
クロレンズ化を行い、図4(b)を得た。
【0027】次いで、接着剤4を用い、透明基板2上に
50μm厚のカバーガラス5を張り合わせ図4(c)を得
た。なお、接着剤として紫外線硬化型のエポキシ系接着
剤(共立化学(株)製、商品名「TEK−OG−12
5」)を用いたものであり、透明基板2上に接着剤を滴
下後、透明基板2を5000 rpmにて60秒間回転した後、50
μm厚さのカバーガラス5を貼り合わせ、しかる後、紫
外線をカバーガラス5側より照射し、紫外線硬化型接着
剤を硬化し、カバーガラス5の固着を行った。
50μm厚のカバーガラス5を張り合わせ図4(c)を得
た。なお、接着剤として紫外線硬化型のエポキシ系接着
剤(共立化学(株)製、商品名「TEK−OG−12
5」)を用いたものであり、透明基板2上に接着剤を滴
下後、透明基板2を5000 rpmにて60秒間回転した後、50
μm厚さのカバーガラス5を貼り合わせ、しかる後、紫
外線をカバーガラス5側より照射し、紫外線硬化型接着
剤を硬化し、カバーガラス5の固着を行った。
【0028】次いで、公知のフォトリソグラフィ法に
て、カバーガラス5上に金属クロムよりなるブラックマ
トリックス層12を形成後、スパッタ法にてITO(酸化
スズと酸化インジウムからなる混合酸化物)層13を形成
し図4(d)を得た。なお、ITO層13を形成する際の
スパッタは、 0.4%の酸素(O2 )ガスを含むアルゴン
(Ar)ガスの雰囲気中( 200℃、2mTorr)に
て、2KWのスパッタ出力にて行ったものである。
て、カバーガラス5上に金属クロムよりなるブラックマ
トリックス層12を形成後、スパッタ法にてITO(酸化
スズと酸化インジウムからなる混合酸化物)層13を形成
し図4(d)を得た。なお、ITO層13を形成する際の
スパッタは、 0.4%の酸素(O2 )ガスを含むアルゴン
(Ar)ガスの雰囲気中( 200℃、2mTorr)に
て、2KWのスパッタ出力にて行ったものである。
【0029】次いで、マイクロレンズ3を形成した面と
反対面側の透明基板2面に、低屈折率の無機材料である
MgF2 にて透明層6を形成し、図4(e)に示す本発
明のマイクロレンズ基板1を得た。なお、透明層6を形
成する際、電子ビーム加熱方式により加熱蒸気化したM
gF2 を、イオンアシスト蒸着法にて蒸着速度 3.0Å/
秒で透明基板2に蒸着成膜したものである。すなわち、
透明基板2へのMgF2 の蒸着時、酸素とアルゴンの割
合を1対9とした混合ガスを用い、カウフマン型イオン
銃(型式名「KIS−80D」)により混合ガスのイオ
ン化を行ったものである。さらに、イオン化した混合ガ
スとは別に、蒸着装置内にガス分圧3×10-2Paの酸素
ガスをガス流量7SCCMにて供給したものである。
反対面側の透明基板2面に、低屈折率の無機材料である
MgF2 にて透明層6を形成し、図4(e)に示す本発
明のマイクロレンズ基板1を得た。なお、透明層6を形
成する際、電子ビーム加熱方式により加熱蒸気化したM
gF2 を、イオンアシスト蒸着法にて蒸着速度 3.0Å/
秒で透明基板2に蒸着成膜したものである。すなわち、
透明基板2へのMgF2 の蒸着時、酸素とアルゴンの割
合を1対9とした混合ガスを用い、カウフマン型イオン
銃(型式名「KIS−80D」)により混合ガスのイオ
ン化を行ったものである。さらに、イオン化した混合ガ
スとは別に、蒸着装置内にガス分圧3×10-2Paの酸素
ガスをガス流量7SCCMにて供給したものである。
【0030】当実施例で得られた図4(d)に示すマイ
クロレンズ基板は、すり鉢状に反りを生じていたもので
あり、基板の反り量、すなわち、すり鉢状の底部から基
板の上縁部までの深さは2〜3μm程度になっていたも
のである。しかるに、図4(e)に示す本発明のマイク
ロレンズ基板1の反り量は1μm以下となっており、こ
れは実用上十分な平坦性といえた。
クロレンズ基板は、すり鉢状に反りを生じていたもので
あり、基板の反り量、すなわち、すり鉢状の底部から基
板の上縁部までの深さは2〜3μm程度になっていたも
のである。しかるに、図4(e)に示す本発明のマイク
ロレンズ基板1の反り量は1μm以下となっており、こ
れは実用上十分な平坦性といえた。
【0031】
【発明の効果】本発明のマイクロレンズ基板1では、接
着剤4を介しマイクロレンズ3上にカバーガラス5を張
り合わせても、マイクロレンズ3を形成した面と反対面
側の透明基板2面に形成した透明層6の引っ張り応力に
より、マイクロレンズ基板1の反り、歪みが防止され、
表面平坦なマイクロレンズ基板1としているものであ
る。
着剤4を介しマイクロレンズ3上にカバーガラス5を張
り合わせても、マイクロレンズ3を形成した面と反対面
側の透明基板2面に形成した透明層6の引っ張り応力に
より、マイクロレンズ基板1の反り、歪みが防止され、
表面平坦なマイクロレンズ基板1としているものであ
る。
【0032】これにより、本発明のマイクロレンズ基板
1を液晶パネルに組み込んでもギャップ不良、レベリン
グ不良が生じず、さらにはマイクロレンズの焦点位置が
所望の位置に保たれるため、本発明のマイクロレンズ基
板1を液晶プロジェクション装置に組み込んでも、投射
画像の四隅がボケる、または、四隅に影が生じる等の問
題が生じず、液晶プロジェクション装置の表示品位を向
上させることが可能となる。
1を液晶パネルに組み込んでもギャップ不良、レベリン
グ不良が生じず、さらにはマイクロレンズの焦点位置が
所望の位置に保たれるため、本発明のマイクロレンズ基
板1を液晶プロジェクション装置に組み込んでも、投射
画像の四隅がボケる、または、四隅に影が生じる等の問
題が生じず、液晶プロジェクション装置の表示品位を向
上させることが可能となる。
【0033】また、透明基板2面に形成した透明層6を
光反射防止膜としたことで、透明基板2表面の光反射が
減り、マイクロレンズ基板1を透過する光の透過量が増
えるものであり、光透過効率が向上するといえる。これ
により、本発明のマイクロレンズ基板1を液晶プロジェ
クション装置に組み込んでも、表示画面が暗くなりコン
トラスト表示が低下する等の問題が生じず、液晶プロジ
ェクション装置の表示品位を向上させることが可能とな
る等、本発明は表示品位の優れた液晶プロジェクション
装置を得るうえで実用上優れているといえる。
光反射防止膜としたことで、透明基板2表面の光反射が
減り、マイクロレンズ基板1を透過する光の透過量が増
えるものであり、光透過効率が向上するといえる。これ
により、本発明のマイクロレンズ基板1を液晶プロジェ
クション装置に組み込んでも、表示画面が暗くなりコン
トラスト表示が低下する等の問題が生じず、液晶プロジ
ェクション装置の表示品位を向上させることが可能とな
る等、本発明は表示品位の優れた液晶プロジェクション
装置を得るうえで実用上優れているといえる。
【0034】
【図1】本発明のマイクロレンズ基板の一実施例を示す
断面説明図。
断面説明図。
【図2】従来のマイクロレンズ基板で生じる反りの例を
示す説明図。
示す説明図。
【図3】液晶パネル部の要部を示す断面説明図。
【図4】(a)〜(e)は本発明のマイクロレンズ基板
の製造工程の一例を工程順に示す説明図。
の製造工程の一例を工程順に示す説明図。
1 マイクロレンズ基板 2 透明基板 3 マイクロレンズ 4 接着剤 5 カバーガラス 6 透明層 7 液晶パネル 8 液晶 9 電極基板 10 TFT 11 フォトレジスト層 12 ブラックマトリックス層 13 ITO層
Claims (2)
- 【請求項1】透明基板上に、少なくとも、複数のマイク
ロレンズと、接着剤層と、カバーガラスとを順次積層し
てなるマイクロレンズ基板において、マイクロレンズを
形成した面と反対面側の透明基板面に、引っ張り応力を
有する透明層を形成したことを特徴とするマイクロレン
ズ基板。 - 【請求項2】前記透明層を光反射防止膜としたことを特
徴とする請求項1に記載のマイクロレンズ基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9178523A JPH1124059A (ja) | 1997-07-03 | 1997-07-03 | マイクロレンズ基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9178523A JPH1124059A (ja) | 1997-07-03 | 1997-07-03 | マイクロレンズ基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1124059A true JPH1124059A (ja) | 1999-01-29 |
Family
ID=16049970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9178523A Pending JPH1124059A (ja) | 1997-07-03 | 1997-07-03 | マイクロレンズ基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1124059A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006071981A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | マイクロレンズアレイおよび光学部材並びにマイクロレンズアレイの作製方法 |
CN103529555A (zh) * | 2013-10-28 | 2014-01-22 | 四川省宜宾普什集团3D有限公司 | 能够实现360度观看裸眼3d图像的制品及其制造方法 |
CN112908985A (zh) * | 2021-01-27 | 2021-06-04 | Tcl华星光电技术有限公司 | 一种阵列基板及显示面板 |
CN113495305A (zh) * | 2020-03-19 | 2021-10-12 | 精工爱普生株式会社 | 多透镜阵列、光源装置以及投影仪 |
-
1997
- 1997-07-03 JP JP9178523A patent/JPH1124059A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006071981A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | マイクロレンズアレイおよび光学部材並びにマイクロレンズアレイの作製方法 |
JP4555030B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2010-09-29 | 富士フイルム株式会社 | マイクロレンズアレイおよび光学部材並びにマイクロレンズアレイの作製方法 |
CN103529555A (zh) * | 2013-10-28 | 2014-01-22 | 四川省宜宾普什集团3D有限公司 | 能够实现360度观看裸眼3d图像的制品及其制造方法 |
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CN112908985A (zh) * | 2021-01-27 | 2021-06-04 | Tcl华星光电技术有限公司 | 一种阵列基板及显示面板 |
CN112908985B (zh) * | 2021-01-27 | 2023-10-31 | Tcl华星光电技术有限公司 | 一种阵列基板及显示面板 |
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