JPH1123838A - Dichroic filter and lighting optical system - Google Patents
Dichroic filter and lighting optical systemInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、表面に付着した汚
れを分解する機能を有するダイクロイックフィルタおよ
びこの機能を有する光学部材を備えた照明光学系に関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dichroic filter having a function of decomposing dirt attached to a surface and an illumination optical system having an optical member having this function.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、液晶パネルに光束を透過させ
てこの光束に液晶パネルに表示された画像情報を担持せ
しめ、この画像情報を担持した光束をスクリーンに投射
させる液晶ビデオプロジェクタのような照明光学系が知
られている。このような照明光学系においては、光源
と、光源から発せられた光束をＢＧＲの三原色に分解す
るためのダイクロイックフィルタ、分解された各成分の
光束に対応する画像が表示される液晶パネル、液晶パネ
ルを透過した各成分の光束を合成して射出するための投
射光学系、および光束を所望とする方向に反射させるた
めの反射ミラーなどの光学部材とを備えている。2. Description of the Related Art Conventionally, an illuminant such as a liquid crystal video projector which transmits a light beam through a liquid crystal panel, carries the image information displayed on the liquid crystal panel, and projects the light beam carrying the image information onto a screen. Optical systems are known. In such an illumination optical system, a light source, a dichroic filter for separating a light beam emitted from the light source into three primary colors of BGR, a liquid crystal panel on which an image corresponding to the separated light beam of each component is displayed, and a liquid crystal panel A projection optical system for synthesizing and emitting the light beams of the respective components transmitted through the optical system, and an optical member such as a reflection mirror for reflecting the light beams in a desired direction.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】このような液晶ビデオ
プロジェクタのような照明光学系においては、その使用
中において光源から発せられる熱により、光学系内にお
いて空気の対流が生じる。そしてこの対流により、光学
系内に外気が侵入した結果、上述したダイクロイックフ
ィルタや液晶パネルなどの光学部材の表面が外気中に含
まれる有機物等により汚れてしまい、照明光学系の光学
性能に悪影響を及ぼすおそれがある。特に結露が生じる
ような温度環境にある場合は、汚れが光学部材に固着し
てしまう。この場合、光学部材の汚れを拭き取ることが
考えられるが、液晶ビデオプロジェクタのような照明光
学系は照明装置内に組み込まれた状態にあるため、光学
部材を外部に露呈させて拭き取ることは非常に困難であ
る。また仮に拭き取ることができたとしても拭き取りの
手間がかかり、拭き取りの際に光学部材に傷が付いてし
まうおそれもある。In an illumination optical system such as a liquid crystal video projector, heat generated from a light source during use causes convection of air in the optical system. As a result of this convection, outside air enters the optical system, and as a result, the surfaces of the above-described optical members such as the dichroic filter and the liquid crystal panel are contaminated by organic substances and the like contained in the outside air, which adversely affects the optical performance of the illumination optical system. May cause. In particular, in a temperature environment where dew condensation occurs, dirt adheres to the optical member. In this case, it is conceivable to wipe off dirt on the optical member. However, since the illumination optical system such as a liquid crystal video projector is incorporated in the illumination device, it is very difficult to expose the optical member to the outside and wipe it off. Have difficulty. Even if it can be wiped, it takes time and effort to wipe it, and the optical member may be damaged during the wiping.
【０００４】本発明はこのような事情に鑑みなされたも
ので、表面の汚れの拭き取りの手間を省くことができる
ダイクロイックフィルタおよびこのようなダイクロイッ
クフィルタなどの光学部材を有する照明光学系を提供す
ることを目的とするものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a dichroic filter capable of eliminating the trouble of wiping the surface of dirt, and an illumination optical system having an optical member such as the dichroic filter. It is intended for.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明によるダイクロイ
ックフィルタは、透明基材と、該透明基材の表面に形成
されたダイクロイック層と、該ダイクロイック層の表面
および／または前記透明基材の裏面に形成された半導体
光触媒層とを有することを特徴とするものである。A dichroic filter according to the present invention comprises a transparent substrate, a dichroic layer formed on a surface of the transparent substrate, and a dichroic layer formed on a surface of the dichroic layer and / or a back surface of the transparent substrate. And a semiconductor photocatalyst layer formed.
【０００６】また、本発明による照明光学系は、光源
と、該光源から発せられた光束を光軸方向に反射または
透過させる光学部材とを有する照明光学系において、前
記光学部材の表面に半導体光触媒層が形成されているこ
とを特徴とするものである。Further, an illumination optical system according to the present invention is an illumination optical system having a light source and an optical member for reflecting or transmitting a light beam emitted from the light source in an optical axis direction, wherein a semiconductor photocatalyst is provided on the surface of the optical member. It is characterized in that a layer is formed.
【０００７】[0007]
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
形態について説明する。図１は本発明の実施形態による
ダイクロイックフィルタの構成を示す断面図である。図
１に示すように本発明の実施形態によるダイクロイック
フィルタ１は、透明基材２の表面に形成されたダイクロ
イック層３と、ダイクロイック層３の表面に形成された
半導体光触媒層４とからなるものである。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a dichroic filter according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a dichroic filter 1 according to an embodiment of the present invention includes a dichroic layer 3 formed on the surface of a transparent substrate 2 and a semiconductor photocatalyst layer 4 formed on the surface of the dichroic layer 3. is there.
【０００８】透明基材２としては、例えば、透明ガラス
板、透明プラスチック板あるいは透明プラスチックフィ
ルムなどを用いることができる。ダイクロイック層３
は、例えば、酸化シリコンと酸化チタンとを交互に積層
させて形成され、例えば波長５００ｎｍ程度以上の光の
みを透過させ、それ以下の波長の光を反射する光学特性
を有するものである。As the transparent substrate 2, for example, a transparent glass plate, a transparent plastic plate or a transparent plastic film can be used. Dichroic layer 3
Is formed by alternately stacking silicon oxide and titanium oxide, for example, and has an optical characteristic of transmitting only light having a wavelength of about 500 nm or more and reflecting light of a wavelength less than that.
【０００９】半導体光触媒層４としては、従来より半導
体光触媒として既知のものであれば特に限定されず、具
体的には酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸
化鉄、酸化錫、チタン酸ストロンチウム、酸化ビスマ
ス、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化チタンと酸化
シリコンとの混合物、酸化チタンと酸化錫との混合物、
硫化カドミウム、ガリウム燐、チタン酸鉄などの半導体
が挙げられる。好ましい半導体光触媒としては、酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化タングステンを挙げるこ
とができる。The semiconductor photocatalyst layer 4 is not particularly limited as long as it is conventionally known as a semiconductor photocatalyst. Specifically, titanium oxide, zinc oxide, tungsten oxide, iron oxide, tin oxide, strontium titanate, oxide Bismuth, zirconium oxide, niobium oxide, a mixture of titanium oxide and silicon oxide, a mixture of titanium oxide and tin oxide,
Semiconductors such as cadmium sulfide, gallium phosphide, and iron titanate can be used. Preferred semiconductor photocatalysts include titanium oxide, zinc oxide, iron oxide, and tungsten oxide.
【００１０】半導体光触媒層４の被着方法としては、例
えばスパッタリング、ＣＶＤ、真空蒸着、塗着、スプレ
ーコーティング、溶射などを挙げることができる。ま
た、膜厚としてはダイクロイックフィルタ１の光学特性
に影響を与えない程度のものとすることが必要であり、
数ｎｍ程度が望ましい。The method for applying the semiconductor photocatalyst layer 4 includes, for example, sputtering, CVD, vacuum deposition, coating, spray coating, thermal spraying, and the like. Further, it is necessary that the film thickness is such that the optical characteristics of the dichroic filter 1 are not affected.
About several nm is desirable.
【００１１】また、本実施形態においては、半導体光触
媒の光触媒作用の活性化のため、さらに金属および／ま
たは金属酸化物を添加させてもよい。具体的には、白
金、パラジウム、ロジウム、ニッケル、金、銅などの金
属、あるいは酸化ルテニウム、酸化ニッケルなどの金属
酸化物が挙げられる。In this embodiment, a metal and / or a metal oxide may be further added for activating the photocatalysis of the semiconductor photocatalyst. Specific examples include metals such as platinum, palladium, rhodium, nickel, gold, and copper, and metal oxides such as ruthenium oxide and nickel oxide.
【００１２】このような半導体光触媒層４において光触
媒作用を機能せしめるためには、半導体光触媒のバンド
ギャップ以上のエネルギを有する光が必要となる。例え
ば、半導体光触媒として酸化チタンを用いる場合、波長
４００ｎｍ以下の紫外光が必要となる。このような、紫
外光を含む光を発する光源としては白色蛍光灯などのほ
か、キセノンランプ、高圧水銀ランプ（紫外光のみを発
生する）などを挙げることができる。In order for such a semiconductor photocatalyst layer 4 to function as a photocatalyst, light having energy greater than the band gap of the semiconductor photocatalyst is required. For example, when using titanium oxide as a semiconductor photocatalyst, ultraviolet light having a wavelength of 400 nm or less is required. Examples of such a light source that emits light including ultraviolet light include a white fluorescent lamp, a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp (which generates only ultraviolet light), and the like.
【００１３】そして、本実施形態における半導体光触媒
層４は、半導体がバンドギャップ以上のエネルギを有す
る光を吸収することにより、価電子帯に生じた正孔の酸
化力により有機物からなる汚れを分解する、いわゆる自
浄作用を有するものである。すなわち、半導体光触媒層
４に紫外光を含む光が所定時間照射されることにより、
ヒドロキシラジカル（ＯＨ）やスーパーオキサイドイオ
ン（Ｏ2 -）などの活性酸素が生成される。活性酸素は通
常の酸素とは異なり励起状態にあるため非常に反応性に
富み、例えばヒドロキシラジカルは温度でいうと３６０
００Ｋという非常に大きな酸化力を有するものである。
また、活性酸素は寿命が長く一旦生成されると半導体光
触媒層４上を拡散するものである。したがって、ダイク
ロイックフィルタ１の表面に付着した有機物等の汚れ
は、半導体光触媒層４に紫外光を含む光が照射されるこ
とにより発生する活性酸素により燃焼されて水と二酸化
炭素に分解される。The semiconductor photocatalyst layer 4 in this embodiment decomposes organic dirt by the oxidizing power of holes generated in the valence band by absorbing light having energy greater than the band gap of the semiconductor. It has a so-called self-cleaning action. That is, by irradiating the semiconductor photocatalyst layer 4 with light including ultraviolet light for a predetermined time,
Active oxygen such as hydroxy radical (OH) and superoxide ion (O 2 − ) is generated. Active oxygen is very reactive because it is in an excited state unlike ordinary oxygen. For example, hydroxyl radical is 360
It has a very large oxidizing power of 00K.
The active oxygen has a long life and once diffused on the semiconductor photocatalyst layer 4 once generated. Therefore, dirt such as organic substances attached to the surface of the dichroic filter 1 is burned by active oxygen generated when the semiconductor photocatalyst layer 4 is irradiated with light including ultraviolet light, and is decomposed into water and carbon dioxide.
【００１４】このように、本実施形態によるダイクロイ
ックフィルタ１は、上述したような紫外光を含む光を所
定時間照射することにより、半導体光触媒層４の自浄作
用により汚れが分解されるため、ダイクロイックフィル
タ１を使用した光学系の光源から発せられる光に紫外光
を含むものを使用することにより、何ら拭き取りを行う
ことなく、単に通常通り使用するのみで汚れの付着を防
止することができる。As described above, the dichroic filter 1 according to the present embodiment irradiates the light including the above-described ultraviolet light for a predetermined period of time, so that the dirt is decomposed by the self-cleaning action of the semiconductor photocatalyst layer 4. The use of the light emitted from the light source of the optical system using 1 including ultraviolet light makes it possible to prevent the adhesion of dirt by simply using the light normally without wiping.
【００１５】なお、上記ダイクロイックフィルタ１はダ
イクロイック層の表面に半導体光触媒層４を設けている
が、この表面とともに透明基材２の裏面にも半導体光触
媒層を設けることにより、ダイクロイックフィルタ１の
表面のみでなく透明基材２の裏面にも汚れが付着するこ
とを防止することができるため、より好ましいものであ
る。Although the dichroic filter 1 has the semiconductor photocatalyst layer 4 provided on the surface of the dichroic layer, by providing the semiconductor photocatalyst layer on the back surface of the transparent substrate 2 together with this surface, only the surface of the dichroic filter 1 is provided. This is more preferable because it is possible to prevent dirt from adhering to the back surface of the transparent substrate 2 instead.
【００１６】次いで、本発明の照明光学系の実施形態に
ついて説明する。図２は、本実施形態による照明光学系
を用いた液晶ビデオプロジェクタ用投射光学系の構成を
示す図である。図２に示すように、本実施形態の液晶ビ
デオプロジェクタ用投射光学系は、キセノンランプや高
圧水銀ランプのように紫外光を含む光束を射出する光源
１１と、光源１１の後段に設けられ光源１１から発せら
れた光束Ｌ０を反射するコールドミラー１２と、コール
ドミラー１２により反射された光束Ｌ１に画像情報を担
持せしめてスクリーンに投射するための投射部１３とか
らなる。Next, an embodiment of the illumination optical system of the present invention will be described. FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a projection optical system for a liquid crystal video projector using the illumination optical system according to the present embodiment. As shown in FIG. 2, a projection optical system for a liquid crystal video projector according to the present embodiment includes a light source 11 that emits a light beam containing ultraviolet light, such as a xenon lamp or a high-pressure mercury lamp, and a light source 11 provided after the light source 11. A cold mirror 12 that reflects a light beam L0 emitted from the camera, and a projection unit 13 that carries image information on the light beam L1 reflected by the cold mirror 12 and projects the image information on a screen.
【００１７】コールドミラー１２は、光源１１から発せ
られる光束Ｌ０のうち可視光を反射し、赤外光を透過す
るように構成してなるものである。The cold mirror 12 is configured to reflect visible light and transmit infrared light in the light beam L0 emitted from the light source 11.
【００１８】投射部１３は、コールドミラー１２により
反射された光束Ｌ１をＧ成分ＬＧおよびＢＲ成分ＬＢ、
ＬＲに分離するためのＧ／ＢＲ分離用ダイクロイックフ
ィルタ２１と、ダイクロイックフィルタ２１により分離
されたＢＲ成分ＬＢ、ＬＲを、Ｂ成分ＬＢおよびＲ成分
ＬＲに分離するためのＢ／Ｒ分離用ダイクロイックフィ
ルタ２２と、Ｂ成分用の画像が表示される液晶パネル２
３Ｂと、Ｇ成分用の画像が表示される液晶パネル２３Ｇ
と、Ｒ成分用の画像が表示される液晶パネル２３Ｒと、
Ｇ／ＢＲ分離用ダイクロイックフィルタ２１により分離
されたＧ成分ＬＧを液晶パネル２３Ｇに向けて反射する
ためのアルミミラー（全反射ミラー）２４と、液晶パネ
ル２３Ｇを透過したＧ成分および液晶パネル２３Ｒを透
過したＲ成分を合成するためのＧＲ合成用ダイクロイッ
クフィルタ２５と、ダイクロイックフィルタ２５により
合成されたＧＲ成分および液晶パネル２３Ｂを透過した
Ｂ成分を合成するためのＢＧＲ合成用ダイクロイックフ
ィルタ２６と、液晶パネル２３Ｂを透過したＢ成分をＢ
ＧＲ合成用ダイクロイックフィルタ２６に向けて反射す
るためのアルミミラー２７（全反射ミラー）と、ＢＧＲ
合成用ダイクロイックフィルタ２６により合成された光
束Ｌ２をスクリーン上に結像させるための投射レンズ２
８とからなる。The projection unit 13 converts the light beam L1 reflected by the cold mirror 12 into a G component LG and a BR component LB,
G / BR separating dichroic filter 21 for separating into LR, and B / R separating dichroic filter 22 for separating BR components LB and LR separated by dichroic filter 21 into B component LB and R component LR. And liquid crystal panel 2 on which an image for B component is displayed
3B and a liquid crystal panel 23G on which a G component image is displayed
A liquid crystal panel 23R on which an image for an R component is displayed;
An aluminum mirror (total reflection mirror) 24 for reflecting the G component LG separated by the G / BR separation dichroic filter 21 toward the liquid crystal panel 23G, and transmitting the G component transmitted through the liquid crystal panel 23G and the liquid crystal panel 23R. A dichroic filter for GR synthesis for synthesizing the obtained R component, a dichroic filter for BGR synthesis for synthesizing the GR component synthesized by the dichroic filter 25 and the B component transmitted through the liquid crystal panel 23B, and a liquid crystal panel 23B. B component transmitted through
An aluminum mirror 27 (total reflection mirror) for reflecting light toward the GR combining dichroic filter 26, and a BGR
Projection lens 2 for imaging light beam L2 synthesized by dichroic filter 26 for synthesis on a screen
8
【００１９】本実施形態においては、この液晶ビデオプ
ロジェクタ用投射光学系を構成する、Ｇ／ＢＲ分離用ダ
イクロイックフィルタ２１、Ｂ／Ｒ分離用ダイクロイッ
クフィルタ２２、ＧＲ合成用ダイクロイックフィルタ２
５およびＢＧＲ合成用ダイクロイックフィルタ２６の表
面に、上述した半導体光触媒層が形成されてなるもので
ある。In the present embodiment, a dichroic filter 21 for G / BR separation, a dichroic filter 22 for B / R separation, and a dichroic filter 2 for GR synthesis constituting the projection optical system for the liquid crystal video projector.
The semiconductor photocatalyst layer described above is formed on the surface of the dichroic filter for BGR 5 and BGR synthesis.
【００２０】次いで、本実施形態の動作について説明す
る。光源１１から発せられた光束Ｌ０は、コールドミラ
ー１２により投射部１３に向けて反射される。コールド
ミラー１２により反射された光束Ｌ１は、Ｇ／ＢＲ分離
用ダイクロイックフィルタ２１により、Ｇ成分ＬＧおよ
びＢＲ成分ＬＢ、ＬＲに分離され、分離されたＧ成分Ｌ
Ｇはアルミミラー２４により反射されて液晶パネル２３
Ｇに照射される。液晶パネル２３Ｇには、不図示の表示
手段によりＧ成分に対応する画像が表示されており、光
束のＧ成分ＬＧは液晶パネル２３Ｇを透過することによ
り、Ｇ成分に対応した画像情報を担持したものとなる。Next, the operation of this embodiment will be described. The light beam L <b> 0 emitted from the light source 11 is reflected by the cold mirror 12 toward the projection unit 13. The light beam L1 reflected by the cold mirror 12 is separated by a G / BR separation dichroic filter 21 into a G component LG and BR components LB and LR, and the separated G component L
G is reflected by the aluminum mirror 24 and the liquid crystal panel 23
G is irradiated. An image corresponding to the G component is displayed on the liquid crystal panel 23G by display means (not shown), and the G component LG of the light beam carries image information corresponding to the G component by transmitting through the liquid crystal panel 23G. Becomes
【００２１】一方、Ｇ／ＢＲ分離用ダイクロイックフィ
ルタ２１により分離されたＢＲ成分ＬＢ、ＬＲは、Ｂ／
Ｒ分離用ダイクロイックフィルタ２２によりＢ成分ＬＢ
およびＲ成分ＬＲに分離され、分離されたＢ成分ＬＢは
液晶パネル２３Ｂに照射される。液晶パネル２３Ｂには
液晶パネル２３Ｇと同様にＢ成分に対応する画像が表示
されており、光束のＢ成分ＬＢは液晶パネル２３Ｂを透
過することにより、Ｂ成分に対応した画像情報を担持し
たものとなる。On the other hand, the BR components LB and LR separated by the dichroic filter 21 for G / BR separation are
B component LB by dichroic filter 22 for R separation
And the R component LR, and the separated B component LB is irradiated to the liquid crystal panel 23B. An image corresponding to the B component is displayed on the liquid crystal panel 23B in the same manner as the liquid crystal panel 23G, and the B component LB of the light flux transmits image data corresponding to the B component by transmitting through the liquid crystal panel 23B. Become.
【００２２】また、Ｂ／Ｒ分離用ダイクロイックフィル
タ２２により分離されたＲ成分ＬＲは液晶パネル２３Ｒ
に照射される。液晶パネル２３Ｒには液晶パネル２３
Ｂ、２３Ｇと同様にＲ成分に対応する画像が表示されて
おり、光束のＲ成分ＬＲは液晶パネル２３Ｒを透過する
ことにより、Ｒ成分に対応した画像情報を担持したもの
となる。The R component LR separated by the B / R separating dichroic filter 22 is applied to the liquid crystal panel 23R.
Is irradiated. The liquid crystal panel 23R includes the liquid crystal panel 23
An image corresponding to the R component is displayed similarly to B and 23G, and the R component LR of the light beam carries image information corresponding to the R component by transmitting through the liquid crystal panel 23R.
【００２３】このように、液晶パネル２３Ｂ、２３Ｇ、
２３Ｒに表示された画像情報を担持したＢ成分ＬＢ、Ｇ
成分ＬＧおよびＲ成分ＬＲのうち、Ｇ成分ＬＧおよびＲ
成分ＬＲは、ＧＲ合成用ダイクロイックフィルタ２５に
より合成されるとともに、ＢＧＲ合成用ダイクロイック
フィルタ２６に照射される。一方、Ｂ成分ＬＢはアルミ
ミラー２７により反射されてＢＧＲ合成用ダイクロイッ
クフィルタ２６に照射される。そして、ＢＧＲ合成用ダ
イクロイックフィルタ２６においてＢ成分ＬＢ、Ｇ成分
ＬＧおよびＲ成分ＬＲが合成され、カラー画像情報を担
持した光束Ｌ２とされる。カラー画像情報を担持した光
束Ｌ２は投射レンズ２８を透過して不図示のスクリーン
上に結像され、これにより、スクリーンには液晶パネル
２３Ｂ、２３Ｇ、２３Ｒに表示された画像が合成された
カラー画像が表示されることとなる。As described above, the liquid crystal panels 23B, 23G,
B component LB, G carrying image information displayed on 23R
Of the component LG and the R component LR, the G component LG and R
The component LR is synthesized by the GR synthesizing dichroic filter 25 and is also radiated to the BGR synthesizing dichroic filter 26. On the other hand, the B component LB is reflected by the aluminum mirror 27 and irradiated to the BGR synthesizing dichroic filter 26. Then, the B component LB, the G component LG, and the R component LR are synthesized in the BGR synthesizing dichroic filter 26 to form a light beam L2 carrying color image information. The light beam L2 carrying the color image information is transmitted through the projection lens 28 to form an image on a screen (not shown), whereby the color image obtained by combining the images displayed on the liquid crystal panels 23B, 23G, and 23R is displayed on the screen. Will be displayed.
【００２４】このような液晶ビデオプロジェクタ用投射
光学系においては、光源１１から発せられる熱により光
学系内部の空気が対流し、光学系内に外気が侵入し、こ
の外気中に含まれる有機物等によりダイクロイックフィ
ルタ２１、２２、２５、２６が汚れてしまう。この場
合、汚れを拭き取ればよいが、このような投射光学系は
照明装置内部に設けられていることから、ダイクロイッ
クフィルタ２１、２２、２３、２４を露出させて汚れを
拭き取ることは困難であり、また汚れを拭き取ることが
できたとしても、拭き取りの際にフィルタ表面に傷が付
いてしまうおそれがある。In such a projection optical system for a liquid crystal video projector, heat generated from the light source 11 causes air inside the optical system to convect, and outside air enters the optical system. The dichroic filters 21, 22, 25, 26 become dirty. In this case, it is only necessary to wipe off the dirt. However, since such a projection optical system is provided inside the illumination device, it is difficult to expose the dichroic filters 21, 22, 23, and 24 to wipe off the dirt. Further, even if the dirt can be wiped off, the filter surface may be damaged during the wiping.
【００２５】本実施形態の投射光学系においては、ダイ
クロイックフィルタ２１、２２、２５、２６の表面に半
導体光触媒層が形成され、かつ光源１１をキセノンラン
プや高圧水銀ランプなどの紫外光を含む光束を射出する
ものとしたため、本実施形態の光学系を使用するのみ
で、ダイクロイックフィルタ２１、２２、２５、２６の
表面に付着した汚れは半導体光触媒層の自浄作用により
分解される。したがって、汚れの拭き取りを行うことな
く汚れを除去することができメインテナンスが容易とな
り、またダイクロイックフィルタ２１、２２、２５、２
６の表面に傷を付けることも防止できる。In the projection optical system of this embodiment, a semiconductor photocatalyst layer is formed on the surface of the dichroic filters 21, 22, 25 and 26, and the light source 11 emits a light beam containing ultraviolet light such as a xenon lamp or a high-pressure mercury lamp. Since the light is emitted, dirt adhering to the surfaces of the dichroic filters 21, 22, 25, and 26 is decomposed by the self-cleaning action of the semiconductor photocatalyst layer only by using the optical system of the present embodiment. Therefore, the dirt can be removed without wiping the dirt, maintenance is facilitated, and the dichroic filters 21, 22, 25, and 2 are removed.
6 can also be prevented from being scratched.
【００２６】なお、上記実施形態においては、液晶ビデ
オプロジェクタ用投射光学系を構成するダイクロイック
フィルタ２１、２２、２５、２６に半導体光触媒層を設
けているが、光源１１、コールドミラー１２、液晶パネ
ル２３Ｂ、２３Ｇ、２３Ｒの表面およびアルミミラー２
４、２７あるいは投射レンズ２８に半導体光触媒層を形
成してもよい。In the above embodiment, the dichroic filters 21, 22, 25, and 26 constituting the projection optical system for the liquid crystal video projector are provided with the semiconductor photocatalyst layer. However, the light source 11, the cold mirror 12, and the liquid crystal panel 23B , 23G, 23R surface and aluminum mirror 2
The semiconductor photocatalyst layer may be formed on the projection lens 27 or the projection lens 28.
【００２７】また、上記実施形態においては、本発明の
照明光学系を液晶ビデオプロジェクタ用投射光学系に適
用しているが、これに限定されるものではなく、照明光
学系であればいかなるものにも適用することができるも
のである。In the above embodiment, the illumination optical system of the present invention is applied to a projection optical system for a liquid crystal video projector. However, the present invention is not limited to this, and any illumination optical system may be used. Is also applicable.
【００２８】[0028]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
るダイクロイックフィルタによれば、ダイクロイック層
の表面および／または透明基材の裏面に半導体光触媒層
を設けたため、この半導体光触媒層の自浄作用により拭
き取りなどを行うことなく表面の汚れを除去することが
できる。As described above in detail, according to the dichroic filter according to the present invention, the semiconductor photocatalyst layer is provided on the surface of the dichroic layer and / or on the back surface of the transparent base material. Dirt on the surface can be removed without wiping or the like.
【００２９】また、本発明による照明光学系において
は、光学部材の表面に半導体光触媒層を設けたため、単
に光源から発せられる光束を照射するのみで、光学部材
の表面に付着した汚れを除去することができる。したが
って、汚れの拭き取りを行う必要がなくなり、これによ
りメインテナンスが容易となり、かつ拭き取りによって
光学部材に傷が付いてしまうことを防止することができ
る。Further, in the illumination optical system according to the present invention, since the semiconductor photocatalyst layer is provided on the surface of the optical member, it is possible to remove dirt adhering to the surface of the optical member only by irradiating a light beam emitted from a light source. Can be. Therefore, it is not necessary to wipe off dirt, thereby facilitating maintenance and preventing the optical member from being damaged by the wiping.
【図１】本発明の実施形態によるダイクロイックフィル
タの構成を示す断面図FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a dichroic filter according to an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の照明光学系の実施形態である液晶ビデ
オプロジェクタ用投射光学系の構成を示す図FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a projection optical system for a liquid crystal video projector, which is an embodiment of the illumination optical system of the present invention.
１ ダイクロイックフィルタ ２ 透明基材 ３ ダイクロイック層 ４ 半導体光触媒層 １１ 光源 １２ コールドミラー １３ 投射部 ２１、２２、２５、２６ ダイクロイックフィルタ ２３Ｂ、２３Ｇ、２３Ｒ 液晶パネル ２４、２７ アルミミラー ２８ 投射レンズ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dichroic filter 2 Transparent base material 3 Dichroic layer 4 Semiconductor photocatalyst layer 11 Light source 12 Cold mirror 13 Projection part 21, 22, 25, 26 Dichroic filter 23B, 23G, 23R Liquid crystal panel 24, 27 Aluminum mirror 28 Projection lens
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０４Ｎ 5/74 Ｈ０４Ｎ 5/74 Ａ 9/31 9/31 Ｃ ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H04N 5/74 H04N 5/74 A 9/31 9/31 C
Claims (2)
の裏面に形成された半導体光触媒層とを有することを特
徴とするダイクロイックフィルタ。A transparent substrate, a dichroic layer formed on a surface of the transparent substrate, and a semiconductor photocatalyst layer formed on a surface of the dichroic layer and / or a back surface of the transparent substrate. Features a dichroic filter.
させる光学部材とを有する照明光学系において、 前記光学部材の表面に半導体光触媒層が形成されている
ことを特徴とする照明光学系。2. An illumination optical system comprising: a light source; and an optical member for reflecting or transmitting a light beam emitted from the light source in an optical axis direction, wherein a semiconductor photocatalyst layer is formed on a surface of the optical member. Characteristic illumination optical system.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9187762A JPH1123838A (en) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | Dichroic filter and lighting optical system |
| DE19826509A DE19826509A1 (en) | 1997-06-27 | 1998-06-15 | Dichroitic filter for optical illumination system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9187762A JPH1123838A (en) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | Dichroic filter and lighting optical system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1123838A true JPH1123838A (en) | 1999-01-29 |
Family
ID=16211768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9187762A Withdrawn JPH1123838A (en) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | Dichroic filter and lighting optical system |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1123838A (en) |
| DE (1) | DE19826509A1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6623129B2 (en) | 2001-03-27 | 2003-09-23 | Seiko Epson Corporation | Optical component and projector using the same |
| US7029374B2 (en) * | 2003-06-18 | 2006-04-18 | Hon Hai Precision Ind. Co., Ltd. | Method for cleaning semiconductor wafers |
-
1997
- 1997-06-27 JP JP9187762A patent/JPH1123838A/en not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-06-15 DE DE19826509A patent/DE19826509A1/en not_active Ceased
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6623129B2 (en) | 2001-03-27 | 2003-09-23 | Seiko Epson Corporation | Optical component and projector using the same |
| US7029374B2 (en) * | 2003-06-18 | 2006-04-18 | Hon Hai Precision Ind. Co., Ltd. | Method for cleaning semiconductor wafers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19826509A1 (en) | 1999-02-04 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040907 |