JPH11233591A - 基板搬送処理装置及び基板搬送処理方法 - Google Patents
基板搬送処理装置及び基板搬送処理方法Info
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- JPH11233591A JPH11233591A JP5284698A JP5284698A JPH11233591A JP H11233591 A JPH11233591 A JP H11233591A JP 5284698 A JP5284698 A JP 5284698A JP 5284698 A JP5284698 A JP 5284698A JP H11233591 A JPH11233591 A JP H11233591A
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- substrates
- vertical
- wafer
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置全体を小型にしてスループットの向上を
図れるようにすると共に、製品歩留まりの向上を図れる
ようにすること。 【解決手段】 複数の被処理用の半導体ウエハWを水平
状態に保持するウエハ搬送アーム10と、複数の半導体
ウエハWを所定間隔をおいて垂直状態に保持するピッチ
チェンジャ20と、ウエハ搬送アーム10とピッチチェ
ンジャ20との間に位置して、複数の半導体ウエハWを
水平状態と垂直状態とに変換する姿勢変換装置30とを
具備する。姿勢変換装置30は、半導体ウエハWを挾持
する一対の保持体31を具備すると共に、保持体31の
対向する辺部に、それぞれ独立して複数の半導体ウエハ
Wを保持する複数の保持溝32A,32Bを設けてな
る。
図れるようにすると共に、製品歩留まりの向上を図れる
ようにすること。 【解決手段】 複数の被処理用の半導体ウエハWを水平
状態に保持するウエハ搬送アーム10と、複数の半導体
ウエハWを所定間隔をおいて垂直状態に保持するピッチ
チェンジャ20と、ウエハ搬送アーム10とピッチチェ
ンジャ20との間に位置して、複数の半導体ウエハWを
水平状態と垂直状態とに変換する姿勢変換装置30とを
具備する。姿勢変換装置30は、半導体ウエハWを挾持
する一対の保持体31を具備すると共に、保持体31の
対向する辺部に、それぞれ独立して複数の半導体ウエハ
Wを保持する複数の保持溝32A,32Bを設けてな
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体ウ
エハやLCD用ガラス基板等の被処理用の基板を連続的
に搬送して適宜処理する基板搬送処理装置及び基板搬送
処理方法に関するものである。
エハやLCD用ガラス基板等の被処理用の基板を連続的
に搬送して適宜処理する基板搬送処理装置及び基板搬送
処理方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体製造装置の製造工程にお
いては、半導体ウエハやLCD用ガラス等の被処理用の
基板(以下にウエハ等という)を薬液やリンス液(洗浄
液)等の処理液が貯留された処理槽や乾燥部に順次搬送
して洗浄や乾燥等の処理を行う基板搬送処理装置が広く
採用されている。
いては、半導体ウエハやLCD用ガラス等の被処理用の
基板(以下にウエハ等という)を薬液やリンス液(洗浄
液)等の処理液が貯留された処理槽や乾燥部に順次搬送
して洗浄や乾燥等の処理を行う基板搬送処理装置が広く
採用されている。
【0003】このような基板搬送処理装置において、複
数枚例えば50枚のウエハ等を効率良く洗浄等するに
は、ウエハ等を垂直に配列して搬送すると共に、各処理
ユニットに搬入し、処理ユニットから搬出する方法が好
適とされている。
数枚例えば50枚のウエハ等を効率良く洗浄等するに
は、ウエハ等を垂直に配列して搬送すると共に、各処理
ユニットに搬入し、処理ユニットから搬出する方法が好
適とされている。
【0004】また、この種の処理装置において、一般
に、未処理のウエハ等を収納する容器例えばキャリアの
搬入部と、処理済みのウエハ等を収納する容器例えばキ
ャリアの搬出部との間に複数の処理ユニットや搬送手段
の洗浄ユニット等をライン状に配列したシステムが採用
されている。
に、未処理のウエハ等を収納する容器例えばキャリアの
搬入部と、処理済みのウエハ等を収納する容器例えばキ
ャリアの搬出部との間に複数の処理ユニットや搬送手段
の洗浄ユニット等をライン状に配列したシステムが採用
されている。
【0005】また、近年の半導体デバイスの微細高集積
化、量産化に伴ないウエハも8インチウエハから12イ
ンチウエハへと大口径化が進んでいる。
化、量産化に伴ないウエハも8インチウエハから12イ
ンチウエハへと大口径化が進んでいる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ウエハ等の
大口径化に伴ないウエハ等の大きさ及び重量が嵩むた
め、ウエハを水平状態でキャリア内に収納して、処理ユ
ニットに対して、搬入・搬出しなければならない一方、
処理ユニットにおける処理時にはウエハを垂直状態に姿
勢変換しなければならない。しかし、キャリアごとウエ
ハを水平状態から垂直状態に姿勢変換すると、位置ずれ
が生じたりウエハ等の移動によりパーティクルが発生
し、製品歩留まりが低下するという問題があった。
大口径化に伴ないウエハ等の大きさ及び重量が嵩むた
め、ウエハを水平状態でキャリア内に収納して、処理ユ
ニットに対して、搬入・搬出しなければならない一方、
処理ユニットにおける処理時にはウエハを垂直状態に姿
勢変換しなければならない。しかし、キャリアごとウエ
ハを水平状態から垂直状態に姿勢変換すると、位置ずれ
が生じたりウエハ等の移動によりパーティクルが発生
し、製品歩留まりが低下するという問題があった。
【0007】そこで、発明者等は鋭意研究した結果、水
平状態のウエハを垂直状態に変換して適宜処理を施し、
また処理後のウエハを水平状態に変換するようにした基
板搬送処理装置を開発した(特願平9−116571号
参照)。この基板搬送処理装置によれば、容器内に水平
状態で収納された基板を垂直状態に変換して処理を施す
ことができ、また処理後の基板を水平状態に変換して容
器内に収納することができる。
平状態のウエハを垂直状態に変換して適宜処理を施し、
また処理後のウエハを水平状態に変換するようにした基
板搬送処理装置を開発した(特願平9−116571号
参照)。この基板搬送処理装置によれば、容器内に水平
状態で収納された基板を垂直状態に変換して処理を施す
ことができ、また処理後の基板を水平状態に変換して容
器内に収納することができる。
【0008】しかし、未処理のウエハと処理済みのウエ
ハの姿勢変換を、同一の姿勢変換手段を用いて行うと、
未処理のウエハを保持した際に付着したパーティクルが
処理済みのウエハに再付着してしまい、ウエハが汚染さ
れると共に、歩留まりの低下をきたすという問題があ
る。そのため、従来では、未処理のウエハの姿勢変換を
行う搬入側の姿勢変換手段と、処理済みのウエハの姿勢
変換を行う搬出側の姿勢変換手段とを別個に設ける必要
があった。
ハの姿勢変換を、同一の姿勢変換手段を用いて行うと、
未処理のウエハを保持した際に付着したパーティクルが
処理済みのウエハに再付着してしまい、ウエハが汚染さ
れると共に、歩留まりの低下をきたすという問題があ
る。そのため、従来では、未処理のウエハの姿勢変換を
行う搬入側の姿勢変換手段と、処理済みのウエハの姿勢
変換を行う搬出側の姿勢変換手段とを別個に設ける必要
があった。
【0009】しかしながら、2つの姿勢変換手段を設け
ることは、装置の大型化につながり、しかもウエハ等の
大口径化に伴ない搬送手段や各処理ユニット自体が更に
大型となるため、スループットの低下を招くという問題
があった。
ることは、装置の大型化につながり、しかもウエハ等の
大口径化に伴ない搬送手段や各処理ユニット自体が更に
大型となるため、スループットの低下を招くという問題
があった。
【0010】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、装置全体を小型にしてスループットの向上を図れる
ようにすると共に、製品歩留まりの向上を図れるように
した基板搬送処理装置及び基板搬送処理方法を提供する
ことを目的とするものである。
で、装置全体を小型にしてスループットの向上を図れる
ようにすると共に、製品歩留まりの向上を図れるように
した基板搬送処理装置及び基板搬送処理方法を提供する
ことを目的とするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の第1の基板搬送処理装置は、複数の被処
理用の基板を水平状態に保持する水平保持手段と、 上
記複数の基板を所定間隔をおいて垂直状態に保持する垂
直保持手段と、 上記水平保持手段と垂直保持手段との
間に位置して、上記複数の基板を水平状態と垂直状態と
に変換する姿勢変換手段と、を具備し、 上記姿勢変換
手段は、上記基板を挾持する一対の略矩形状の保持体を
具備すると共に、保持体の対向する辺部に、それぞれ独
立して上記複数の基板を保持する複数の保持溝を設けて
なる、ことを特徴とする(請求項1)。
に、この発明の第1の基板搬送処理装置は、複数の被処
理用の基板を水平状態に保持する水平保持手段と、 上
記複数の基板を所定間隔をおいて垂直状態に保持する垂
直保持手段と、 上記水平保持手段と垂直保持手段との
間に位置して、上記複数の基板を水平状態と垂直状態と
に変換する姿勢変換手段と、を具備し、 上記姿勢変換
手段は、上記基板を挾持する一対の略矩形状の保持体を
具備すると共に、保持体の対向する辺部に、それぞれ独
立して上記複数の基板を保持する複数の保持溝を設けて
なる、ことを特徴とする(請求項1)。
【0012】また、この発明の第2の基板搬送処理装置
は、被処理用の基板の搬入・搬出部との間で上記基板を
受け渡すと共に、複数の被処理用の基板を水平状態に保
持する水平保持手段と、 上記基板を適宜処理する処理
部内で基板を搬送する基板搬送手段との間で基板を受け
渡しすると共に、複数の基板を所定間隔をおいて垂直状
態に保持する垂直保持手段と、 上記水平保持手段と垂
直保持手段との間に位置して、上記複数の基板を水平状
態と垂直状態とに変換する姿勢変換手段と、を具備し、
上記姿勢変換手段は、上記基板を挾持する一対の略矩
形状の保持体を具備すると共に、保持体の対向する辺部
に、それぞれ独立して上記複数の基板を保持する複数の
保持溝を設けてなる、ことを特徴とする(請求項2)。
は、被処理用の基板の搬入・搬出部との間で上記基板を
受け渡すと共に、複数の被処理用の基板を水平状態に保
持する水平保持手段と、 上記基板を適宜処理する処理
部内で基板を搬送する基板搬送手段との間で基板を受け
渡しすると共に、複数の基板を所定間隔をおいて垂直状
態に保持する垂直保持手段と、 上記水平保持手段と垂
直保持手段との間に位置して、上記複数の基板を水平状
態と垂直状態とに変換する姿勢変換手段と、を具備し、
上記姿勢変換手段は、上記基板を挾持する一対の略矩
形状の保持体を具備すると共に、保持体の対向する辺部
に、それぞれ独立して上記複数の基板を保持する複数の
保持溝を設けてなる、ことを特徴とする(請求項2)。
【0013】この発明において、上記保持体に設けられ
る保持溝は、保持体の対向する辺部に、それぞれ独立し
て複数の基板を保持するものであれば、保持体の対向す
る両辺部の全域に設けてもよく、あるいは、保持体の中
心に対して対角線上に対向する保持溝を含むものであっ
てもよい(請求項3)。
る保持溝は、保持体の対向する辺部に、それぞれ独立し
て複数の基板を保持するものであれば、保持体の対向す
る両辺部の全域に設けてもよく、あるいは、保持体の中
心に対して対角線上に対向する保持溝を含むものであっ
てもよい(請求項3)。
【0014】また、この発明の第3の基板搬送処理装置
は、複数の被処理用の基板を水平状態に保持する水平保
持手段と、 上記複数の基板を所定間隔をおいて垂直状
態に保持する垂直保持手段と、 上記水平保持手段と垂
直保持手段との間に位置して、上記複数の基板を水平状
態と垂直状態とに変換する姿勢変換手段と、を具備し、
上記姿勢変換手段は、上記基板を挾持する一対の略矩
形状の保持体を具備すると共に、保持体の一辺と、対向
する他辺に隣接する辺部に、それぞれ独立して上記複数
の基板を保持する複数の保持溝を設けてなる、ことを特
徴とする(請求項4)。
は、複数の被処理用の基板を水平状態に保持する水平保
持手段と、 上記複数の基板を所定間隔をおいて垂直状
態に保持する垂直保持手段と、 上記水平保持手段と垂
直保持手段との間に位置して、上記複数の基板を水平状
態と垂直状態とに変換する姿勢変換手段と、を具備し、
上記姿勢変換手段は、上記基板を挾持する一対の略矩
形状の保持体を具備すると共に、保持体の一辺と、対向
する他辺に隣接する辺部に、それぞれ独立して上記複数
の基板を保持する複数の保持溝を設けてなる、ことを特
徴とする(請求項4)。
【0015】また、この発明の第4の基板搬送処理装置
は、被処理用の基板の搬入・搬出部との間で上記基板を
受け渡すと共に、複数の被処理用の基板を水平状態に保
持する水平保持手段と、 上記基板を適宜処理する処理
部内で基板を搬送する基板搬送手段との間で基板を受け
渡しすると共に、複数の基板を所定間隔をおいて垂直状
態に保持する垂直保持手段と、 上記水平保持手段と垂
直保持手段との間に位置して、上記複数の基板を水平状
態と垂直状態とに変換する姿勢変換手段と、を具備し、
上記姿勢変換手段は、上記基板を挾持する一対の略矩
形状の保持体を具備すると共に、保持体の一辺と、対向
する他辺に隣接する辺部に、それぞれ独立して上記複数
の基板を保持する複数の保持溝を設けてなる、ことを特
徴とする(請求項5)。
は、被処理用の基板の搬入・搬出部との間で上記基板を
受け渡すと共に、複数の被処理用の基板を水平状態に保
持する水平保持手段と、 上記基板を適宜処理する処理
部内で基板を搬送する基板搬送手段との間で基板を受け
渡しすると共に、複数の基板を所定間隔をおいて垂直状
態に保持する垂直保持手段と、 上記水平保持手段と垂
直保持手段との間に位置して、上記複数の基板を水平状
態と垂直状態とに変換する姿勢変換手段と、を具備し、
上記姿勢変換手段は、上記基板を挾持する一対の略矩
形状の保持体を具備すると共に、保持体の一辺と、対向
する他辺に隣接する辺部に、それぞれ独立して上記複数
の基板を保持する複数の保持溝を設けてなる、ことを特
徴とする(請求項5)。
【0016】また、この発明において、上記姿勢変換手
段は、両保持体を相対的に移動する移動手段と、両保持
体を垂直方向に回転する回転手段と、を具備する方が好
ましい(請求項6)。
段は、両保持体を相対的に移動する移動手段と、両保持
体を垂直方向に回転する回転手段と、を具備する方が好
ましい(請求項6)。
【0017】また、上記水平保持手段は、姿勢変換手段
に対して水平方向に移動可能に形成する方が好ましく
(請求項7)、更に好ましくは水平保持手段は、独立し
て複数の基板を水平状態に保持する複数の保持部を具備
する方がよい(請求項8)。
に対して水平方向に移動可能に形成する方が好ましく
(請求項7)、更に好ましくは水平保持手段は、独立し
て複数の基板を水平状態に保持する複数の保持部を具備
する方がよい(請求項8)。
【0018】また、上記垂直保持手段を、姿勢変換手段
に対して水平及び垂直方向に移動可能に形成するか(請
求項9)、姿勢変換手段に対して水平及び垂直方向に移
動可能に形成すると共に、水平方向に回転可能に形成す
る方が好ましい(請求項10)。
に対して水平及び垂直方向に移動可能に形成するか(請
求項9)、姿勢変換手段に対して水平及び垂直方向に移
動可能に形成すると共に、水平方向に回転可能に形成す
る方が好ましい(請求項10)。
【0019】更に、上記姿勢変換手段に設けられる各保
持溝に排気孔を設けると共に、排気孔を排気手段に接続
することも可能である(請求項11)。
持溝に排気孔を設けると共に、排気孔を排気手段に接続
することも可能である(請求項11)。
【0020】また、この発明の第1の基板搬送処理方法
は、請求項1ないし11のいずれかに記載の基板搬送処
理装置を用いた基板搬送処理方法であって、 未処理の
複数の基板を、姿勢変換手段の保持体の一方の保持溝に
て保持し、処理済みの複数の基板を、上記保持体におけ
る上記保持溝の領域とは異なる領域の他方の保持溝にて
保持する、ことを特徴とする(請求項12)。
は、請求項1ないし11のいずれかに記載の基板搬送処
理装置を用いた基板搬送処理方法であって、 未処理の
複数の基板を、姿勢変換手段の保持体の一方の保持溝に
て保持し、処理済みの複数の基板を、上記保持体におけ
る上記保持溝の領域とは異なる領域の他方の保持溝にて
保持する、ことを特徴とする(請求項12)。
【0021】また、この発明の第2の基板搬送処理方法
は、請求項1ないし11のいずれかに記載の基板搬送処
理装置を用いた基板搬送処理方法であって、 水平保持
手段にて水平状態に保持される未処理の複数の基板を、
姿勢変換手段の保持体の一方の保持溝に受け渡す工程
と、 上記保持体を垂直方向に90度回転させて上記複
数の基板を垂直状態に姿勢変換する工程と、 垂直状態
に姿勢変換された上記複数の基板を、垂直保持手段に受
け渡す工程と、 上記垂直保持手段にて垂直状態に保持
される処理済みの複数の基板を、上記姿勢変換手段の保
持体における上記保持溝の領域とは異なる領域の他方の
保持溝に受け渡す工程と、 上記保持体を垂直方向に9
0度回転させて上記複数の基板を水平状態に姿勢変換す
る工程と、水平状態に姿勢変換された上記複数の基板
を、水平保持手段に受け渡す工程と、を有することを特
徴とする(請求項13)。
は、請求項1ないし11のいずれかに記載の基板搬送処
理装置を用いた基板搬送処理方法であって、 水平保持
手段にて水平状態に保持される未処理の複数の基板を、
姿勢変換手段の保持体の一方の保持溝に受け渡す工程
と、 上記保持体を垂直方向に90度回転させて上記複
数の基板を垂直状態に姿勢変換する工程と、 垂直状態
に姿勢変換された上記複数の基板を、垂直保持手段に受
け渡す工程と、 上記垂直保持手段にて垂直状態に保持
される処理済みの複数の基板を、上記姿勢変換手段の保
持体における上記保持溝の領域とは異なる領域の他方の
保持溝に受け渡す工程と、 上記保持体を垂直方向に9
0度回転させて上記複数の基板を水平状態に姿勢変換す
る工程と、水平状態に姿勢変換された上記複数の基板
を、水平保持手段に受け渡す工程と、を有することを特
徴とする(請求項13)。
【0022】この場合、上記姿勢変換手段と垂直保持手
段との間における複数の基板の受け渡しに際して、上記
垂直保持手段に設けられる保持溝のピッチを、上記姿勢
変換手段の保持体に設けられる保持溝のピッチの半分に
形成しておき、先に上記複数の基板の受け渡しを行った
後、上記垂直保持手段を、この垂直保持手段に設けられ
る保持溝のピッチ分移動させて次の複数の基板の受け渡
しを行うことができる(請求項14)。
段との間における複数の基板の受け渡しに際して、上記
垂直保持手段に設けられる保持溝のピッチを、上記姿勢
変換手段の保持体に設けられる保持溝のピッチの半分に
形成しておき、先に上記複数の基板の受け渡しを行った
後、上記垂直保持手段を、この垂直保持手段に設けられ
る保持溝のピッチ分移動させて次の複数の基板の受け渡
しを行うことができる(請求項14)。
【0023】また、上記姿勢変換手段と垂直保持手段と
の間における複数の基板の受け渡しに際して、上記垂直
保持手段に設けられる保持溝のピッチを、上記姿勢変換
手段の保持体に設けられる保持溝のピッチの半分に形成
しておき、先に上記複数の基板の受け渡しを行った後、
上記垂直保持手段を水平方向に180度回転すると共
に、先に受け渡された上記複数の基板間の保持溝部を上
記保持体の保持溝に対向位置させて、次の複数の基板を
先の複数の基板と対向配置するように受け渡しを行うよ
うにしすることもできる(請求項15)。また、上記垂
直保持手段にて保持される表裏面が対向配置させた複数
の基板のうち、同一方向に表裏面が位置する複数の基板
を姿勢変換手段に受け渡した後、上記垂直保持手段を水
平方向に180度回転して、次の複数の基板を姿勢変換
手段に受け渡すこともできる(請求項16)。
の間における複数の基板の受け渡しに際して、上記垂直
保持手段に設けられる保持溝のピッチを、上記姿勢変換
手段の保持体に設けられる保持溝のピッチの半分に形成
しておき、先に上記複数の基板の受け渡しを行った後、
上記垂直保持手段を水平方向に180度回転すると共
に、先に受け渡された上記複数の基板間の保持溝部を上
記保持体の保持溝に対向位置させて、次の複数の基板を
先の複数の基板と対向配置するように受け渡しを行うよ
うにしすることもできる(請求項15)。また、上記垂
直保持手段にて保持される表裏面が対向配置させた複数
の基板のうち、同一方向に表裏面が位置する複数の基板
を姿勢変換手段に受け渡した後、上記垂直保持手段を水
平方向に180度回転して、次の複数の基板を姿勢変換
手段に受け渡すこともできる(請求項16)。
【0024】上記のように構成されるこの発明によれ
ば、1つの姿勢変換手段によって被処理用の複数の基板
を異なる保持溝で保持すると共に、一対の保持体間に挾
持することができ、かつ、複数の基板を水平状態と垂直
状態に姿勢変換することができる。したがって、未処理
の基板を水平保持手段から一方の保持溝で水平状態で受
け取って垂直状態に姿勢変換し、垂直状態で垂直保持手
段に受け渡すことができ、また、処理済みの基板を垂直
保持手段から他方の保持溝で垂直状態で受け取って水平
状態に姿勢変換し、水平状態で水平保持手段に受け渡す
ことができる。
ば、1つの姿勢変換手段によって被処理用の複数の基板
を異なる保持溝で保持すると共に、一対の保持体間に挾
持することができ、かつ、複数の基板を水平状態と垂直
状態に姿勢変換することができる。したがって、未処理
の基板を水平保持手段から一方の保持溝で水平状態で受
け取って垂直状態に姿勢変換し、垂直状態で垂直保持手
段に受け渡すことができ、また、処理済みの基板を垂直
保持手段から他方の保持溝で垂直状態で受け取って水平
状態に姿勢変換し、水平状態で水平保持手段に受け渡す
ことができる。
【0025】
【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄処理システムに適用した場合について説
明する。
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄処理システムに適用した場合について説
明する。
【0026】図1はこの発明に係る基板搬送処理装置を
適用した洗浄処理システムの一例を示す概略平面図、図
2はその概略側面図である。
適用した洗浄処理システムの一例を示す概略平面図、図
2はその概略側面図である。
【0027】上記洗浄処理システムは、被処理用の基板
である半導体ウエハW(以下にウエハという)を水平状
態に収納する容器例えばキャリア1を搬入、搬出するた
めの搬入・搬出部2と、ウエハWを薬液、洗浄液等の液
処理すると共に乾燥処理する処理部3と、搬入・搬出部
2と処理部3との間に位置してウエハWの受渡し、位置
調整及び姿勢変換等を行うインターフェース部4とで主
に構成されている。
である半導体ウエハW(以下にウエハという)を水平状
態に収納する容器例えばキャリア1を搬入、搬出するた
めの搬入・搬出部2と、ウエハWを薬液、洗浄液等の液
処理すると共に乾燥処理する処理部3と、搬入・搬出部
2と処理部3との間に位置してウエハWの受渡し、位置
調整及び姿勢変換等を行うインターフェース部4とで主
に構成されている。
【0028】上記搬入・搬出部2は、洗浄処理システム
の一側端部にはキャリア搬入部5aとキャリア搬出部5
bが併設されると共に、ウエハの受渡し部6が設けられ
ている。この場合、キャリア搬入部5aとウエハ受渡し
部6との間には図示しない搬送機構が配設されており、
この搬送機構によってキャリア1がキャリア搬入部5a
からウエハ受渡し部6へ搬送されるように構成されてい
る。
の一側端部にはキャリア搬入部5aとキャリア搬出部5
bが併設されると共に、ウエハの受渡し部6が設けられ
ている。この場合、キャリア搬入部5aとウエハ受渡し
部6との間には図示しない搬送機構が配設されており、
この搬送機構によってキャリア1がキャリア搬入部5a
からウエハ受渡し部6へ搬送されるように構成されてい
る。
【0029】また、キャリア搬出部5bとウエハ受渡し
部6には、それぞれキャリアリフタ(図示せず)が配設
され、このキャリアリフタによって空のキャリア1を搬
入・搬出部2上方に設けられたキャリア待機部7への受
け渡し及びキャリア待機部7からの受け取りを行うこと
ができるように構成されている。この場合、キャリア待
機部7には、水平方向(X,Y方向)及び垂直方向(Z
方向)に移動可能なキャリア搬送ロボット(図示せず)
が配設されており、このキャリア搬送ロボットによって
ウエハ受渡し部6から搬送された空のキャリア1を整列
すると共に、キャリア搬出部5bへ搬出し得るようにな
っている。また、キャリア待機部7には、空キャリアだ
けでなく、ウエハWが収納された状態のキャリア1を待
機させておくことも可能である。
部6には、それぞれキャリアリフタ(図示せず)が配設
され、このキャリアリフタによって空のキャリア1を搬
入・搬出部2上方に設けられたキャリア待機部7への受
け渡し及びキャリア待機部7からの受け取りを行うこと
ができるように構成されている。この場合、キャリア待
機部7には、水平方向(X,Y方向)及び垂直方向(Z
方向)に移動可能なキャリア搬送ロボット(図示せず)
が配設されており、このキャリア搬送ロボットによって
ウエハ受渡し部6から搬送された空のキャリア1を整列
すると共に、キャリア搬出部5bへ搬出し得るようにな
っている。また、キャリア待機部7には、空キャリアだ
けでなく、ウエハWが収納された状態のキャリア1を待
機させておくことも可能である。
【0030】上記キャリア1は、図3及び図4に示すよ
うに、一側に開口部1aを有し内壁に複数枚例えば25
枚のウエハWを適宜間隔をおいて水平状態に保持する保
持溝(図示せず)を有する容器本体1bと、この容器本
体1bの開口部1aを開閉する蓋体1cとで構成されて
おり、蓋体1c内に組み込まれた係脱機構1dを後述す
る蓋開閉装置8によって操作することにより、蓋体1c
が開閉されるように構成されている。
うに、一側に開口部1aを有し内壁に複数枚例えば25
枚のウエハWを適宜間隔をおいて水平状態に保持する保
持溝(図示せず)を有する容器本体1bと、この容器本
体1bの開口部1aを開閉する蓋体1cとで構成されて
おり、蓋体1c内に組み込まれた係脱機構1dを後述す
る蓋開閉装置8によって操作することにより、蓋体1c
が開閉されるように構成されている。
【0031】上記ウエハ受渡し部6は、上記インターフ
ェース部4に開口しており、その開口部には蓋開閉装置
8が配設されている。この蓋開閉装置8によってキャリ
ア1の蓋体1cが開放あるいは閉塞されるようになって
いる。したがって、ウエハ受渡し部6に搬送された未処
理のウエハWを収納するキャリア1の蓋体1cを蓋開閉
装置8によって取り外してキャリア1内のウエハWを搬
出可能にし、全てのウエハWが搬出された後、再び蓋開
閉装置8によって蓋体1cを閉塞することができる。ま
た、キャリア待機部7からウエハ受渡し部6に搬送され
た空のキャリア1の蓋体1cを蓋開閉装置8によって取
り外してキャリア1内へのウエハWを搬入可能にし、全
てのウエハWが搬入された後、再び蓋開閉装置8によっ
て蓋体1cを閉塞することができる。なお、ウエハ受渡
し部6の開口部近傍には、キャリア1内に収納されたウ
エハWの枚数を検出するマッピングセンサ9が配設され
ている。
ェース部4に開口しており、その開口部には蓋開閉装置
8が配設されている。この蓋開閉装置8によってキャリ
ア1の蓋体1cが開放あるいは閉塞されるようになって
いる。したがって、ウエハ受渡し部6に搬送された未処
理のウエハWを収納するキャリア1の蓋体1cを蓋開閉
装置8によって取り外してキャリア1内のウエハWを搬
出可能にし、全てのウエハWが搬出された後、再び蓋開
閉装置8によって蓋体1cを閉塞することができる。ま
た、キャリア待機部7からウエハ受渡し部6に搬送され
た空のキャリア1の蓋体1cを蓋開閉装置8によって取
り外してキャリア1内へのウエハWを搬入可能にし、全
てのウエハWが搬入された後、再び蓋開閉装置8によっ
て蓋体1cを閉塞することができる。なお、ウエハ受渡
し部6の開口部近傍には、キャリア1内に収納されたウ
エハWの枚数を検出するマッピングセンサ9が配設され
ている。
【0032】上記インターフェース部4には、複数枚例
えば25枚のウエハWを水平状態に保持すると共に、ウ
エハ受渡し部6のキャリア1との間でウエハWを受け渡
す水平保持手段例えばウエハ搬送アーム10と、複数枚
例えば52枚のウエハWを所定間隔をおいて垂直状態に
保持する保持手段例えばピッチチェンジャ20と、ウエ
ハ搬送アーム10とピッチチェンジャ20との間に位置
して、複数枚例えば26枚のウエハWを水平状態と垂直
状態とに変換する姿勢変換手段例えば姿勢変換装置30
と、垂直状態に姿勢変換されたウエハWに設けられたノ
ッチ(図示せず)を検出する位置検出手段例えばノッチ
アライナ40が配設されている。また、インターフェー
ス部4には、処理部3と連なる搬送路50が設けられて
おり、この搬送路50にウエハ(基板)搬送手段例えば
ウエハ搬送チャック51が移動自在に配設されている。
えば25枚のウエハWを水平状態に保持すると共に、ウ
エハ受渡し部6のキャリア1との間でウエハWを受け渡
す水平保持手段例えばウエハ搬送アーム10と、複数枚
例えば52枚のウエハWを所定間隔をおいて垂直状態に
保持する保持手段例えばピッチチェンジャ20と、ウエ
ハ搬送アーム10とピッチチェンジャ20との間に位置
して、複数枚例えば26枚のウエハWを水平状態と垂直
状態とに変換する姿勢変換手段例えば姿勢変換装置30
と、垂直状態に姿勢変換されたウエハWに設けられたノ
ッチ(図示せず)を検出する位置検出手段例えばノッチ
アライナ40が配設されている。また、インターフェー
ス部4には、処理部3と連なる搬送路50が設けられて
おり、この搬送路50にウエハ(基板)搬送手段例えば
ウエハ搬送チャック51が移動自在に配設されている。
【0033】この場合、上記ウエハ搬送アーム10は、
ウエハ受渡し部6のキャリア1から複数枚のウエハWを
取り出して搬送すると共に、キャリア1内に複数枚のウ
エハWを収納する2つの保持部例えばアーム体11,1
2を併設してなる。これらアーム体11,12は、水平
方向(X,Y方向),垂直方向(Z方向)及び回転(θ
方向)可能な駆動台13の上部に搭載されてそれぞれ独
立してウエハWを水平状態に保持すると共に、ウエハ受
渡し部6に載置されたキャリア1と姿勢変換装置30と
の間でウエハWの受渡しを行うように構成されている。
したがって、一方のアーム体11によって未処理のウエ
ハWを保持し、他方のアーム体12によって処理済みの
ウエハWを保持することができる。
ウエハ受渡し部6のキャリア1から複数枚のウエハWを
取り出して搬送すると共に、キャリア1内に複数枚のウ
エハWを収納する2つの保持部例えばアーム体11,1
2を併設してなる。これらアーム体11,12は、水平
方向(X,Y方向),垂直方向(Z方向)及び回転(θ
方向)可能な駆動台13の上部に搭載されてそれぞれ独
立してウエハWを水平状態に保持すると共に、ウエハ受
渡し部6に載置されたキャリア1と姿勢変換装置30と
の間でウエハWの受渡しを行うように構成されている。
したがって、一方のアーム体11によって未処理のウエ
ハWを保持し、他方のアーム体12によって処理済みの
ウエハWを保持することができる。
【0034】上記姿勢変換装置30は、図5ないし図9
に示すように、ウエハWを挾持する略矩形状の一対の保
持体31a,31bを具備しており、かつ各保持体31
a,31bの対向する辺部に、それぞれ独立して複数の
ウエハWを保持する複数例えば26個の保持溝32A,
32Bが適宜間隔をおいて2組設けられている。この場
合、保持溝32A,32Bは、図10に示すように、開
口側が拡開された略Y字断面に形成されて、ウエハWを
保持する際になるべくウエハWと接触しないように考慮
されている。更に、図11に示すように、保持溝32
A,32Bは、その底部が円弧状に形成されると共に、
各組の保持溝32A,32Bの底部の曲率半径が、例え
ば300mmウエハWの中心から0.5mm偏倚した中
心点から150mmに設定されている。したがって、ウ
エハWを水平状態で保持する際に保持溝32A,32B
の底部とウエハWとの間に若干の隙間が生じるようにな
っている。
に示すように、ウエハWを挾持する略矩形状の一対の保
持体31a,31bを具備しており、かつ各保持体31
a,31bの対向する辺部に、それぞれ独立して複数の
ウエハWを保持する複数例えば26個の保持溝32A,
32Bが適宜間隔をおいて2組設けられている。この場
合、保持溝32A,32Bは、図10に示すように、開
口側が拡開された略Y字断面に形成されて、ウエハWを
保持する際になるべくウエハWと接触しないように考慮
されている。更に、図11に示すように、保持溝32
A,32Bは、その底部が円弧状に形成されると共に、
各組の保持溝32A,32Bの底部の曲率半径が、例え
ば300mmウエハWの中心から0.5mm偏倚した中
心点から150mmに設定されている。したがって、ウ
エハWを水平状態で保持する際に保持溝32A,32B
の底部とウエハWとの間に若干の隙間が生じるようにな
っている。
【0035】また、各保持溝32A,32Bには排気孔
33が設けられており、排気孔33には排気管33aを
介して排気手段例えば真空ポンプ等の排気装置34が接
続されている(図10及び図11参照)。このように各
保持溝32A,32Bに排気孔33を設けると共に、排
気装置34に接続することにより、保持体31a,31
bにてウエハWを挾持(保持)した際に保持溝32A,
32Bに付着するパーティクルを、排気装置34の駆動
によって吸引し、排気管33aを介して外部に排出する
ことができる。
33が設けられており、排気孔33には排気管33aを
介して排気手段例えば真空ポンプ等の排気装置34が接
続されている(図10及び図11参照)。このように各
保持溝32A,32Bに排気孔33を設けると共に、排
気装置34に接続することにより、保持体31a,31
bにてウエハWを挾持(保持)した際に保持溝32A,
32Bに付着するパーティクルを、排気装置34の駆動
によって吸引し、排気管33aを介して外部に排出する
ことができる。
【0036】また、両保持体31a,31bは、回転手
段例えばサーボモータ35に着脱可能に連結する回転ア
ーム36に取り付けられて、サーボモータ35の駆動に
よって両保持体31a,31bが同時に垂直方向に回転
し得るように構成されている。また、保持体31a,3
1bの一方例えばサーボモータ側の保持体31aは他方
の保持体31bに向かって相対的に進退移動可能に形成
されると共に、移動手段例えばエアーシリンダ37によ
って進退移動されるように構成されている。なお、保持
体31a,31bの回転支持部38、サーボモータ35
及びエアーシリンダ37は、架台39上に配設されてい
る。
段例えばサーボモータ35に着脱可能に連結する回転ア
ーム36に取り付けられて、サーボモータ35の駆動に
よって両保持体31a,31bが同時に垂直方向に回転
し得るように構成されている。また、保持体31a,3
1bの一方例えばサーボモータ側の保持体31aは他方
の保持体31bに向かって相対的に進退移動可能に形成
されると共に、移動手段例えばエアーシリンダ37によ
って進退移動されるように構成されている。なお、保持
体31a,31bの回転支持部38、サーボモータ35
及びエアーシリンダ37は、架台39上に配設されてい
る。
【0037】上記ノッチアライナ40は、図8に示すよ
うに、姿勢変換装置30の下部側方から姿勢変換装置3
0の下方へ移動すると共に、姿勢変換装置30の下方位
置から昇降可能な支持体41の上面に、一対のガイドロ
ーラ42,43と、両ガイドローラ42,43間に位置
する駆動ローラ44と、一方のガイドローラ例えばガイ
ドローラ42の近傍に配設される図示しないノッチセン
サとを具備してなり、両ガイドローラ42,43と駆動
ローラ44とでウエハWを垂直に保持した状態で、駆動
ローラ44を駆動してウエハWを垂直方向に回転すると
共に、ノッチセンサによる検出によって各ウエハWのノ
ッチを同一位置に揃えるすなわち位置決めが行われる。
このようにして位置決めされたウエハWは再び姿勢変換
装置30に搬送されて垂直状態に挾持(保持)される。
うに、姿勢変換装置30の下部側方から姿勢変換装置3
0の下方へ移動すると共に、姿勢変換装置30の下方位
置から昇降可能な支持体41の上面に、一対のガイドロ
ーラ42,43と、両ガイドローラ42,43間に位置
する駆動ローラ44と、一方のガイドローラ例えばガイ
ドローラ42の近傍に配設される図示しないノッチセン
サとを具備してなり、両ガイドローラ42,43と駆動
ローラ44とでウエハWを垂直に保持した状態で、駆動
ローラ44を駆動してウエハWを垂直方向に回転すると
共に、ノッチセンサによる検出によって各ウエハWのノ
ッチを同一位置に揃えるすなわち位置決めが行われる。
このようにして位置決めされたウエハWは再び姿勢変換
装置30に搬送されて垂直状態に挾持(保持)される。
【0038】一方、上記ピッチチェンジャ20は、図1
2ないし図15に示すように、ウエハWの両側部を保持
する複数例えば52個の保持溝21aを有する互いに平
行な一対の側部保持部22,23と、ウエハWの下部を
保持する複数例えば52個の保持溝21bを有する互い
に平行な一対の下部保持部24,25とを有する保持テ
ーブル26と、この保持テーブル26の水平方向の向き
を変換する方向変換用モータ27と、保持テーブル26
及び方向変換用モータ27を搭載した基台60を垂直方
向(Z方向)に移動する垂直移動機構28と、基台60
及び垂直移動機構28を取り付けた摺動板61を水平の
Y方向に移動する水平移動機構62とを具備してなる。
2ないし図15に示すように、ウエハWの両側部を保持
する複数例えば52個の保持溝21aを有する互いに平
行な一対の側部保持部22,23と、ウエハWの下部を
保持する複数例えば52個の保持溝21bを有する互い
に平行な一対の下部保持部24,25とを有する保持テ
ーブル26と、この保持テーブル26の水平方向の向き
を変換する方向変換用モータ27と、保持テーブル26
及び方向変換用モータ27を搭載した基台60を垂直方
向(Z方向)に移動する垂直移動機構28と、基台60
及び垂直移動機構28を取り付けた摺動板61を水平の
Y方向に移動する水平移動機構62とを具備してなる。
【0039】この場合、上記保持テーブル26は、方向
変換用モータ27に連結される回転板27aに固定され
る固定テーブル26aと、回転板27a上に固設された
保持切換用エアーシリンダ26cによって昇降可能な可
動テーブル26bとで構成されている。また、上記側部
保持部22,23と下部保持部24,25は、それぞれ
固定テーブル26aに固定されて可動テーブル26bの
上方に延在する側部保持棒22a,23a及び下部保持
棒24a,25aと、可動テーブル26bに固定されて
固定テーブル26aの上方に延在する側部保持棒22
b,23b及び下部保持棒24b,25bとで構成され
ており、保持切換用エアーシリンダ26cの駆動によっ
て可動テーブル26bが下方位置にあるときは、固定テ
ーブル26aに固定された側部保持棒22a,23aと
下部保持棒24a,25aによってウエハWを垂直状態
に保持し、また保持切換用エアーシリンダ26cの駆動
によって可動テーブル26bが上昇位置にあるときは、
側部保持棒22b,23bと下部保持棒24b,25b
とでウエハWを垂直状態に保持し得るように構成されて
いる。
変換用モータ27に連結される回転板27aに固定され
る固定テーブル26aと、回転板27a上に固設された
保持切換用エアーシリンダ26cによって昇降可能な可
動テーブル26bとで構成されている。また、上記側部
保持部22,23と下部保持部24,25は、それぞれ
固定テーブル26aに固定されて可動テーブル26bの
上方に延在する側部保持棒22a,23a及び下部保持
棒24a,25aと、可動テーブル26bに固定されて
固定テーブル26aの上方に延在する側部保持棒22
b,23b及び下部保持棒24b,25bとで構成され
ており、保持切換用エアーシリンダ26cの駆動によっ
て可動テーブル26bが下方位置にあるときは、固定テ
ーブル26aに固定された側部保持棒22a,23aと
下部保持棒24a,25aによってウエハWを垂直状態
に保持し、また保持切換用エアーシリンダ26cの駆動
によって可動テーブル26bが上昇位置にあるときは、
側部保持棒22b,23bと下部保持棒24b,25b
とでウエハWを垂直状態に保持し得るように構成されて
いる。
【0040】なお、側部保持部22,23すなわち側部
保持棒22a,23a;22b,23bと下部保持部2
4,25すなわち下部保持棒24a,25a;24b,
25bに形成される52個の保持溝21a,21bのピ
ッチは上記姿勢変換装置30の保持体31に設けられた
26個の保持溝32A,32Bのピッチの半分に設定さ
れている。また、上記側部保持棒22a,23a;22
b,23b及び下部保持棒24a,25a;24b,2
5bは、それぞれ固定テーブル26a又は可動テーブル
26bに片持ち状態に固定されているため、ある程度の
強度を有する必要がある。そのため、ここでは、例えば
ステンレス鋼製心棒の表面に例えばポリエーテルエーテ
ルケトン(PEEK)製合成樹脂を被着して各保持棒を
形成している。
保持棒22a,23a;22b,23bと下部保持部2
4,25すなわち下部保持棒24a,25a;24b,
25bに形成される52個の保持溝21a,21bのピ
ッチは上記姿勢変換装置30の保持体31に設けられた
26個の保持溝32A,32Bのピッチの半分に設定さ
れている。また、上記側部保持棒22a,23a;22
b,23b及び下部保持棒24a,25a;24b,2
5bは、それぞれ固定テーブル26a又は可動テーブル
26bに片持ち状態に固定されているため、ある程度の
強度を有する必要がある。そのため、ここでは、例えば
ステンレス鋼製心棒の表面に例えばポリエーテルエーテ
ルケトン(PEEK)製合成樹脂を被着して各保持棒を
形成している。
【0041】上記垂直移動機構28は、垂直に配置され
た正逆回転可能なモータ28aによって回転されるねじ
軸28bと、このねじ軸28bとの間に多数のボール
(図示せず)を介在して螺合するナット28cとからな
るボールねじにて構成されている。なお、基台60はね
じ軸28aと平行に配設される一対のガイドレール28
d上を摺動する摺動子28eを具備している。また、上
記移動機構62は、水平に配置された正逆回転可能なモ
ータ63によって回転されるねじ軸64と、このねじ軸
64との間に多数のボール(図示せず)を介在して螺合
するナット65とからなるボールねじにて構成されてい
る。このように構成される移動機構すなわちボールねじ
62のナット65を上記摺動板61に固定すると共に、
摺動板61に取り付けられた摺動子66をねじ軸64と
平行に配設されたガイドレール67に摺動可能に係合さ
せ、モータ63を駆動することにより、摺動板61に取
り付けられた基台60及び保持テーブル26等をY方向
に移動するように構成されている。このように構成する
ことにより、ピッチチェンジャ20を上記姿勢変換装置
30の下方とウエハ搬送チャック51の下方へ移動する
ことができ、また姿勢変換装置30又はウエハ搬送チャ
ック51に対して昇降移動させて姿勢変換装置30又は
ウエハ搬送チャック51との間でウエハWを受渡し得る
ようになっている。
た正逆回転可能なモータ28aによって回転されるねじ
軸28bと、このねじ軸28bとの間に多数のボール
(図示せず)を介在して螺合するナット28cとからな
るボールねじにて構成されている。なお、基台60はね
じ軸28aと平行に配設される一対のガイドレール28
d上を摺動する摺動子28eを具備している。また、上
記移動機構62は、水平に配置された正逆回転可能なモ
ータ63によって回転されるねじ軸64と、このねじ軸
64との間に多数のボール(図示せず)を介在して螺合
するナット65とからなるボールねじにて構成されてい
る。このように構成される移動機構すなわちボールねじ
62のナット65を上記摺動板61に固定すると共に、
摺動板61に取り付けられた摺動子66をねじ軸64と
平行に配設されたガイドレール67に摺動可能に係合さ
せ、モータ63を駆動することにより、摺動板61に取
り付けられた基台60及び保持テーブル26等をY方向
に移動するように構成されている。このように構成する
ことにより、ピッチチェンジャ20を上記姿勢変換装置
30の下方とウエハ搬送チャック51の下方へ移動する
ことができ、また姿勢変換装置30又はウエハ搬送チャ
ック51に対して昇降移動させて姿勢変換装置30又は
ウエハ搬送チャック51との間でウエハWを受渡し得る
ようになっている。
【0042】一方、上記処理部3には、ウエハWに付着
するパーティクルや有機物汚染を除去する第1の処理ユ
ニット52と、ウエハWに付着する金属汚染を除去する
第2の処理ユニット53と、ウエハWに付着する化学酸
化膜を除去すると共に乾燥処理する洗浄・乾燥処理ユニ
ット54及びチャック洗浄ユニット55が直線状に配列
されており、これら各ユニット52〜55と対向する位
置に設けられた搬送路50に、X,Y方向(水平方
向)、Z方向(垂直方向)及び回転(θ)可能なウエハ
搬送チャック(ウエハ搬送手段)が配設されている。な
お、チャック洗浄ユニット55は、必ずしも洗浄・乾燥
処理ユニット54とインターフェース部4との間に配設
する必要はなく、例えば第2の処理ユニット53と洗浄
・乾燥処理ユニット54との間に配設してもよく、ある
いは第1の処理ユニット52に隣接して配設してもよ
い。
するパーティクルや有機物汚染を除去する第1の処理ユ
ニット52と、ウエハWに付着する金属汚染を除去する
第2の処理ユニット53と、ウエハWに付着する化学酸
化膜を除去すると共に乾燥処理する洗浄・乾燥処理ユニ
ット54及びチャック洗浄ユニット55が直線状に配列
されており、これら各ユニット52〜55と対向する位
置に設けられた搬送路50に、X,Y方向(水平方
向)、Z方向(垂直方向)及び回転(θ)可能なウエハ
搬送チャック(ウエハ搬送手段)が配設されている。な
お、チャック洗浄ユニット55は、必ずしも洗浄・乾燥
処理ユニット54とインターフェース部4との間に配設
する必要はなく、例えば第2の処理ユニット53と洗浄
・乾燥処理ユニット54との間に配設してもよく、ある
いは第1の処理ユニット52に隣接して配設してもよ
い。
【0043】この場合、ウエハ搬送チャック51は、図
1、図12及び図13に示すように、搬送路50に設け
られたガイドレール(図示せず)に沿って移動する昇降
可能な駆動台51aと、この駆動台51aから突設され
る下部保持アーム51b及び下部保持アーム51bに対
して円弧状に移動可能な一対の側部保持アーム51cと
で構成されている。
1、図12及び図13に示すように、搬送路50に設け
られたガイドレール(図示せず)に沿って移動する昇降
可能な駆動台51aと、この駆動台51aから突設され
る下部保持アーム51b及び下部保持アーム51bに対
して円弧状に移動可能な一対の側部保持アーム51cと
で構成されている。
【0044】次に、上記洗浄処理ユニットのウエハWの
搬送及び処理工程について説明する。まず、オペレータ
あるいは搬送ロボットによって未処理のウエハWを収納
したキャリア1をキャリア搬入部5aに載置すると、図
示しない搬送機構が移動してキャリア1がウエハ受渡し
部6に搬入される。ウエハ受渡し部6に搬入されたキャ
リア1は蓋開閉装置8によって蓋体1cが開放された状
態でインターフェース部4に向かって待機する。このと
きマッピングセンサ9が作動してキャリア1内に収納さ
れているウエハWの枚数を検出する。
搬送及び処理工程について説明する。まず、オペレータ
あるいは搬送ロボットによって未処理のウエハWを収納
したキャリア1をキャリア搬入部5aに載置すると、図
示しない搬送機構が移動してキャリア1がウエハ受渡し
部6に搬入される。ウエハ受渡し部6に搬入されたキャ
リア1は蓋開閉装置8によって蓋体1cが開放された状
態でインターフェース部4に向かって待機する。このと
きマッピングセンサ9が作動してキャリア1内に収納さ
れているウエハWの枚数を検出する。
【0045】マッピングセンサ9によってキャリア1内
のウエハWの枚数が検出された後、インターフェース部
4内に配設されたウエハ搬送アーム10がキャリア1内
に進入してキャリア1内に収納された複数枚例えば25
枚のウエハWを取り出し、取出したウエハWを姿勢変換
装置30に搬送すると共に、開いた状態で待機する一対
の保持体31a,31b間にウエハWを移動する。する
と、エアーシリンダ37が駆動して、一方の保持体31
aが他方の保持体31b側に移動してウエハ搬送アーム
10によって保持されているウエハWを保持体31a,
31bによって挾持すると共に、保持溝32Aによって
保持する。このとき、ウエハWは保持溝32Aの底部と
の間に僅かな隙間をおいて保持される(図11(a)参
照)。ウエハWが姿勢変換装置30によって保持された
後、ウエハ搬送アーム10は姿勢変換装置30から後退
する。なお、ウエハWが取り出された空のキャリア1は
図示しないキャリアリフタによってインターフェース部
4上方のキャリア待機部7に搬送される。
のウエハWの枚数が検出された後、インターフェース部
4内に配設されたウエハ搬送アーム10がキャリア1内
に進入してキャリア1内に収納された複数枚例えば25
枚のウエハWを取り出し、取出したウエハWを姿勢変換
装置30に搬送すると共に、開いた状態で待機する一対
の保持体31a,31b間にウエハWを移動する。する
と、エアーシリンダ37が駆動して、一方の保持体31
aが他方の保持体31b側に移動してウエハ搬送アーム
10によって保持されているウエハWを保持体31a,
31bによって挾持すると共に、保持溝32Aによって
保持する。このとき、ウエハWは保持溝32Aの底部と
の間に僅かな隙間をおいて保持される(図11(a)参
照)。ウエハWが姿勢変換装置30によって保持された
後、ウエハ搬送アーム10は姿勢変換装置30から後退
する。なお、ウエハWが取り出された空のキャリア1は
図示しないキャリアリフタによってインターフェース部
4上方のキャリア待機部7に搬送される。
【0046】ウエハWを水平状態で保持した後、サーボ
モータ35が駆動して両保持体31a,31bが90度
回転されてウエハWの姿勢が垂直状態に変換される(図
9参照)。このとき、ウエハWは保持溝32A内を移動
して保持溝32Aの底部に当接する(図10参照)。ま
たこの際、排気装置34の駆動により排気孔33を介し
て保持溝32A内が吸引されるので、保持溝32Aに付
着するパーティクルを除去することができる。
モータ35が駆動して両保持体31a,31bが90度
回転されてウエハWの姿勢が垂直状態に変換される(図
9参照)。このとき、ウエハWは保持溝32A内を移動
して保持溝32Aの底部に当接する(図10参照)。ま
たこの際、排気装置34の駆動により排気孔33を介し
て保持溝32A内が吸引されるので、保持溝32Aに付
着するパーティクルを除去することができる。
【0047】姿勢変換装置30によってウエハWを垂直
状態に姿勢変換した後、姿勢変換装置30の下方にノッ
チアライナ40が移動し、そして上昇してガイドローラ
42,43及び駆動ローラ44上にウエハWを保持した
状態で両保持体31a,31bが開いてウエハWをノッ
チアライナ40に受け渡す。ノッチアライナ40にて保
持された複数枚のウエハWは、ノッチアライナ40によ
って各ウエハWのノッチの位置が揃えられて位置決めが
行われる。位置決めされたウエハWは再び姿勢変換装置
30の保持体31に受け取られる。ウエハWを姿勢変換
装置30に受け渡したノッチアライナ40は元の待機位
置に後退する。
状態に姿勢変換した後、姿勢変換装置30の下方にノッ
チアライナ40が移動し、そして上昇してガイドローラ
42,43及び駆動ローラ44上にウエハWを保持した
状態で両保持体31a,31bが開いてウエハWをノッ
チアライナ40に受け渡す。ノッチアライナ40にて保
持された複数枚のウエハWは、ノッチアライナ40によ
って各ウエハWのノッチの位置が揃えられて位置決めが
行われる。位置決めされたウエハWは再び姿勢変換装置
30の保持体31に受け取られる。ウエハWを姿勢変換
装置30に受け渡したノッチアライナ40は元の待機位
置に後退する。
【0048】次に、姿勢変換装置30の下方にピッチチ
ェンジャ20が移動した後、上昇してピッチチェンジャ
20に設けられた側部保持部22,23(例えば側部保
持棒22a,23a)と下部保持部24,25(例えば
下部保持棒24a,25a)によって複数枚のウエハW
を垂直状態のまま保持すると共に、ウエハW間のピッチ
を調整する(図7参照)。ウエハWを受け取ってピッチ
を調整した後、ピッチチェンジャ20は待機側に移動上
昇し、上方に待機するウエハ搬送チャック51にウエハ
Wを受け渡す。なお、ウエハWをピッチチェンジャ20
に受け渡した後、サーボモータ35が駆動して保持体3
1a,31bが、最初の状態から180度回転して、未
処理のウエハWを保持した保持溝32Aとは別の対向す
る辺部の保持溝32Bが下方に位置した状態で待機す
る。
ェンジャ20が移動した後、上昇してピッチチェンジャ
20に設けられた側部保持部22,23(例えば側部保
持棒22a,23a)と下部保持部24,25(例えば
下部保持棒24a,25a)によって複数枚のウエハW
を垂直状態のまま保持すると共に、ウエハW間のピッチ
を調整する(図7参照)。ウエハWを受け取ってピッチ
を調整した後、ピッチチェンジャ20は待機側に移動上
昇し、上方に待機するウエハ搬送チャック51にウエハ
Wを受け渡す。なお、ウエハWをピッチチェンジャ20
に受け渡した後、サーボモータ35が駆動して保持体3
1a,31bが、最初の状態から180度回転して、未
処理のウエハWを保持した保持溝32Aとは別の対向す
る辺部の保持溝32Bが下方に位置した状態で待機す
る。
【0049】ウエハWを受け取ったウエハ搬送チャック
51は、受け取ったウエハWをまず第1の処理ユニット
52に搬送する。第1の処理ユニット52に搬送された
ウエハWは、薬液例えばAPM溶液(アンモニア,過酸
化水素水及び純水の混合溶液)によってパーティクルや
有機物汚染が除去された後、洗浄液例えば純水によって
洗浄される。このようにして一次洗浄されたウエハWは
再びウエハ搬送チャック51に受け取られて第2の処理
ユニット53に搬送されて薬液例えばHPM溶液(塩
酸,過酸化水素水及び純水の混合溶液)によって金属汚
染が除去された後、純水によって洗浄される。このよう
にして洗浄処理されたウエハWは再びウエハ搬送チャッ
ク51に受け取られて洗浄・乾燥処理ユニット54に搬
送され、洗浄・乾燥処理ユニット54内においてフッ化
水素酸によって化学酸化膜が除去された後、乾燥蒸気例
えばイソピルアルコール(IPA)ガスが接触されて乾
燥される。
51は、受け取ったウエハWをまず第1の処理ユニット
52に搬送する。第1の処理ユニット52に搬送された
ウエハWは、薬液例えばAPM溶液(アンモニア,過酸
化水素水及び純水の混合溶液)によってパーティクルや
有機物汚染が除去された後、洗浄液例えば純水によって
洗浄される。このようにして一次洗浄されたウエハWは
再びウエハ搬送チャック51に受け取られて第2の処理
ユニット53に搬送されて薬液例えばHPM溶液(塩
酸,過酸化水素水及び純水の混合溶液)によって金属汚
染が除去された後、純水によって洗浄される。このよう
にして洗浄処理されたウエハWは再びウエハ搬送チャッ
ク51に受け取られて洗浄・乾燥処理ユニット54に搬
送され、洗浄・乾燥処理ユニット54内においてフッ化
水素酸によって化学酸化膜が除去された後、乾燥蒸気例
えばイソピルアルコール(IPA)ガスが接触されて乾
燥される。
【0050】乾燥処理されたウエハWは再びウエハ搬送
チャック51によって受け取られた後、ピッチチェンジ
ャ20に受け渡される。このとき、ウエハWを未処理の
ウエハWを保持した側部保持棒22a,23aと下部保
持棒24a,25aとは別の側部保持棒22b,23b
と下部保持棒24b,25bとで保持することにより、
処理済みのウエハWが既に保持した部分に付着するパー
ティクル等によって汚染されるのを防止することができ
る。
チャック51によって受け取られた後、ピッチチェンジ
ャ20に受け渡される。このとき、ウエハWを未処理の
ウエハWを保持した側部保持棒22a,23aと下部保
持棒24a,25aとは別の側部保持棒22b,23b
と下部保持棒24b,25bとで保持することにより、
処理済みのウエハWが既に保持した部分に付着するパー
ティクル等によって汚染されるのを防止することができ
る。
【0051】ウエハ搬送チャック51からウエハWを受
け取ったピッチチェンジャ20は、姿勢変換装置30の
下方へ移動した後、上昇して、ウエハWを開いた状態の
保持体31a,31b間に移動する。すると、エアーシ
リンダ37が駆動して一方の保持体31aが他方の保持
体31b側に向かって移動して保持体31a,31b間
にウエハWを挾持すると共に、未処理のウエハWを保持
した保持溝32Aとは別の保持溝32Bによって保持す
る(図11(b)参照)。したがって、未処理のウエハ
Wを保持した保持溝32Aに付着するパーティクル等が
処理済みのウエハWに付着する心配がない。ウエハWが
姿勢変換装置30によって保持された後、ピッチチェン
ジャ20は姿勢変換装置30から後退する。
け取ったピッチチェンジャ20は、姿勢変換装置30の
下方へ移動した後、上昇して、ウエハWを開いた状態の
保持体31a,31b間に移動する。すると、エアーシ
リンダ37が駆動して一方の保持体31aが他方の保持
体31b側に向かって移動して保持体31a,31b間
にウエハWを挾持すると共に、未処理のウエハWを保持
した保持溝32Aとは別の保持溝32Bによって保持す
る(図11(b)参照)。したがって、未処理のウエハ
Wを保持した保持溝32Aに付着するパーティクル等が
処理済みのウエハWに付着する心配がない。ウエハWが
姿勢変換装置30によって保持された後、ピッチチェン
ジャ20は姿勢変換装置30から後退する。
【0052】ピッチチェンジャ20からウエハWを受け
取った後、サーボモータ35が駆動して保持体31a,
31bが90度回転されて、ウエハWを垂直状態から水
平状態に姿勢変換する(図5参照)。この状態で、他方
のウエハ搬送アーム10すなわち未処理のウエハWを保
持したアーム体11とは別のアーム体12が姿勢変換装
置30側に移動し、水平状態に保持された各ウエハWの
間に侵入してウエハWを保持する。アーム体12によっ
てウエハWが保持されるのを確認して、エアーシリンダ
37が駆動して両保持体31a,31bが開いてウエハ
Wをウエハ搬送アーム10のアーム体12に受け渡す。
このときのアーム体12の送り量は、アーム体11の送
り量より多く保持体31a,31b側に移動して、ウエ
ハWを受け取る。
取った後、サーボモータ35が駆動して保持体31a,
31bが90度回転されて、ウエハWを垂直状態から水
平状態に姿勢変換する(図5参照)。この状態で、他方
のウエハ搬送アーム10すなわち未処理のウエハWを保
持したアーム体11とは別のアーム体12が姿勢変換装
置30側に移動し、水平状態に保持された各ウエハWの
間に侵入してウエハWを保持する。アーム体12によっ
てウエハWが保持されるのを確認して、エアーシリンダ
37が駆動して両保持体31a,31bが開いてウエハ
Wをウエハ搬送アーム10のアーム体12に受け渡す。
このときのアーム体12の送り量は、アーム体11の送
り量より多く保持体31a,31b側に移動して、ウエ
ハWを受け取る。
【0053】ウエハWを受け取った後、ウエハ搬送アー
ム10はウエハ受け渡し部6に移動して、ウエハ受渡し
部6で待機する空のキャリア1内にウエハWを収納す
る。その後、蓋開閉装置8によってキャリア1の蓋体1
cが閉塞されて、ウエキャリア1はウエハ受渡し部6か
らキャリア搬出部5bに搬送される。
ム10はウエハ受け渡し部6に移動して、ウエハ受渡し
部6で待機する空のキャリア1内にウエハWを収納す
る。その後、蓋開閉装置8によってキャリア1の蓋体1
cが閉塞されて、ウエキャリア1はウエハ受渡し部6か
らキャリア搬出部5bに搬送される。
【0054】なお、処理部3において、洗浄処理後のウ
エハWを洗浄・乾燥処理ユニット54に搬送したウエハ
搬送チャック51には薬液や洗浄液等が付着しているの
で、次の未処理のウエハWを受け取る前、又は処理済み
のウエハWを受け取る前に、チャック洗浄ユニット55
に移動して、ウエハ搬送チャック51のアーム51b,
51c部を洗浄すると共に乾燥して、次のウエハWの搬
送に供される。
エハWを洗浄・乾燥処理ユニット54に搬送したウエハ
搬送チャック51には薬液や洗浄液等が付着しているの
で、次の未処理のウエハWを受け取る前、又は処理済み
のウエハWを受け取る前に、チャック洗浄ユニット55
に移動して、ウエハ搬送チャック51のアーム51b,
51c部を洗浄すると共に乾燥して、次のウエハWの搬
送に供される。
【0055】なお、図示しないが、上記搬入・搬出部2
と処理部3とインターフェース部4上に、例えばHEP
Aフィルタ,ULPAフィルタ等のファンフィルタユニ
ットを設けることにより、より清浄度の高い装置が提供
できる。
と処理部3とインターフェース部4上に、例えばHEP
Aフィルタ,ULPAフィルタ等のファンフィルタユニ
ットを設けることにより、より清浄度の高い装置が提供
できる。
【0056】上記実施形態では、キャリア1内に収納さ
れた25枚のウエハWを同時に取り出して、姿勢変換、
ノッチ合せ、ピッチ調整した後、適宜洗浄処理を施す場
合について説明したが、以下にウエハWを所定枚数ごと
に分割して搬送する場合について、図16ないし図19
を参照して説明する。
れた25枚のウエハWを同時に取り出して、姿勢変換、
ノッチ合せ、ピッチ調整した後、適宜洗浄処理を施す場
合について説明したが、以下にウエハWを所定枚数ごと
に分割して搬送する場合について、図16ないし図19
を参照して説明する。
【0057】図16はウエハ搬送アーム10から姿勢変
換装置30へ未処理のウエハWを受け渡す状態(a)及
び姿勢変換装置30からピッチチェンジャ20へ未処理
のウエハWを受け渡す状態(b)を示す概略構成図であ
り、図17はピッチチェンジャ20から姿勢変換装置3
0へ処理済みのウエハWを受け渡す状態(a)及び姿勢
変換装置30からウエハ搬送アーム10へ処理済みのウ
エハWを受け渡す状態(b)を示す概略構成図である。
ここで、姿勢変換装置30は保持体31a,31bを代
表して示されており、この保持体31a,31b(以下
に符号31で代表する)には、未処理のウエハWを保持
する保持溝32Aと処理済みのウエハWを保持する保持
溝32Bを、それぞれ2つの領域A,CとB,Dの計4
つの領域に区別してあり、1つの領域には13個の保持
溝が設けられている。
換装置30へ未処理のウエハWを受け渡す状態(a)及
び姿勢変換装置30からピッチチェンジャ20へ未処理
のウエハWを受け渡す状態(b)を示す概略構成図であ
り、図17はピッチチェンジャ20から姿勢変換装置3
0へ処理済みのウエハWを受け渡す状態(a)及び姿勢
変換装置30からウエハ搬送アーム10へ処理済みのウ
エハWを受け渡す状態(b)を示す概略構成図である。
ここで、姿勢変換装置30は保持体31a,31bを代
表して示されており、この保持体31a,31b(以下
に符号31で代表する)には、未処理のウエハWを保持
する保持溝32Aと処理済みのウエハWを保持する保持
溝32Bを、それぞれ2つの領域A,CとB,Dの計4
つの領域に区別してあり、1つの領域には13個の保持
溝が設けられている。
【0058】◎次に、13枚仕様のウエハWの搬送形態
の具体例について説明する。
の具体例について説明する。
【0059】まず、13枚のウエハWをウエハ搬送ア
ーム10(具体的にはアーム体11)で水平状態に保持
して、姿勢変換装置30すなわち保持体31の領域Cに
よってウエハWを水平状態で受け取った後、保持体31
を90度回転してウエハWを垂直状態に姿勢変換する。
その後ノッチアライナ40でノッチ合せを行って再び保
持体31でウエハWを垂直に保持した状態で、ピッチチ
ェンジャ20の基端部側の保持部の1つおきの保持溝に
て13枚のウエハWを例えば10mmピッチで保持する
(図18(a)参照)。
ーム10(具体的にはアーム体11)で水平状態に保持
して、姿勢変換装置30すなわち保持体31の領域Cに
よってウエハWを水平状態で受け取った後、保持体31
を90度回転してウエハWを垂直状態に姿勢変換する。
その後ノッチアライナ40でノッチ合せを行って再び保
持体31でウエハWを垂直に保持した状態で、ピッチチ
ェンジャ20の基端部側の保持部の1つおきの保持溝に
て13枚のウエハWを例えば10mmピッチで保持する
(図18(a)参照)。
【0060】次に、再び保持体31の領域Cが水平状
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ20が5mm移動し
て既に13枚のウエハWを保持した保持溝間の保持溝を
位置させ、その状態で上昇して保持体31から13枚の
ウエハWを受け取って26枚のウエハWを5mmピッチ
にピッチ調整する(図18(b)参照)。
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ20が5mm移動し
て既に13枚のウエハWを保持した保持溝間の保持溝を
位置させ、その状態で上昇して保持体31から13枚の
ウエハWを受け取って26枚のウエハWを5mmピッチ
にピッチ調整する(図18(b)参照)。
【0061】次に、再び保持体31の領域Cが水平状
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ20の先端部側の保
持溝を位置させて上昇して先端部の保持溝の1つおきの
保持溝にて13枚のウエハWを例えば10mmピッチで
保持する(図18(c)参照)。
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ20の先端部側の保
持溝を位置させて上昇して先端部の保持溝の1つおきの
保持溝にて13枚のウエハWを例えば10mmピッチで
保持する(図18(c)参照)。
【0062】次に、再び保持体31の領域Cが水平状
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ20が5mm移動し
て既に13枚のウエハWを保持した先端部側の保持溝間
の保持溝を位置させて上昇して保持体31から13枚の
ウエハWを受け取って52枚のウエハWを5mmピッチ
にピッチ調整する(図18(d)参照)。このようにし
て、52枚のウエハWのピッチ調整を行う。そして、ピ
ッチ調整された52枚のウエハWをウエハ搬送チャック
51によって受け取って処理部3の各処理ユニット52
〜54に搬送して適宜処理を施す。なお、ウエハ搬送チ
ャック51の保持アーム51b,51cには、ピッチチ
ェンジャ20の保持溝の溝ピッチ(10mm)間に既に
ウエハWがピッチチェンジャ20に保持されている場合
のウエハWが通過するための切欠(図示せず)が設けら
れている。
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ20が5mm移動し
て既に13枚のウエハWを保持した先端部側の保持溝間
の保持溝を位置させて上昇して保持体31から13枚の
ウエハWを受け取って52枚のウエハWを5mmピッチ
にピッチ調整する(図18(d)参照)。このようにし
て、52枚のウエハWのピッチ調整を行う。そして、ピ
ッチ調整された52枚のウエハWをウエハ搬送チャック
51によって受け取って処理部3の各処理ユニット52
〜54に搬送して適宜処理を施す。なお、ウエハ搬送チ
ャック51の保持アーム51b,51cには、ピッチチ
ェンジャ20の保持溝の溝ピッチ(10mm)間に既に
ウエハWがピッチチェンジャ20に保持されている場合
のウエハWが通過するための切欠(図示せず)が設けら
れている。
【0063】処理が施された52枚の処理済みのウエハ
Wは、上記手順と逆の動作によって13枚ずつからのキ
ャリア1内に搬送されるのであるが、この際、保持体3
1の保持溝を未処理のウエハWを保持した領域Cと対角
線状の別の領域Bを使用する点が異なる。すなわち、図
17(a)に示すように、保持体の領域Bを垂直状態に
待機した状態でピッチチェンジャ20から13枚の処理
済みのウエハWを受け取った後、図17(b)に示すよ
うに、保持体31を90度回転して13枚のウエハWを
水平状態に姿勢変換した後、ウエハ搬送アーム10(具
体的にはアーム体12)にウエハWを受け渡して空のキ
ャリア1内に収納する。このとき、アーム体12の送り
量は、アーム体11の送り量より多く保持体31側に移
動してウエハWを受け取る。ウエハWをウエハ搬送アー
ム10に受け渡した後、保持体31は再び90度回転し
て領域Bを垂直状態にして待機させ、上記と同様にピッ
チチェンジャ20から13枚の処理済みのウエハWを受
け取る。以下、同様の動作を繰り返して52枚の処理済
みのウエハWをからのキャリア1内に収納して処理を完
了する。
Wは、上記手順と逆の動作によって13枚ずつからのキ
ャリア1内に搬送されるのであるが、この際、保持体3
1の保持溝を未処理のウエハWを保持した領域Cと対角
線状の別の領域Bを使用する点が異なる。すなわち、図
17(a)に示すように、保持体の領域Bを垂直状態に
待機した状態でピッチチェンジャ20から13枚の処理
済みのウエハWを受け取った後、図17(b)に示すよ
うに、保持体31を90度回転して13枚のウエハWを
水平状態に姿勢変換した後、ウエハ搬送アーム10(具
体的にはアーム体12)にウエハWを受け渡して空のキ
ャリア1内に収納する。このとき、アーム体12の送り
量は、アーム体11の送り量より多く保持体31側に移
動してウエハWを受け取る。ウエハWをウエハ搬送アー
ム10に受け渡した後、保持体31は再び90度回転し
て領域Bを垂直状態にして待機させ、上記と同様にピッ
チチェンジャ20から13枚の処理済みのウエハWを受
け取る。以下、同様の動作を繰り返して52枚の処理済
みのウエハWをからのキャリア1内に収納して処理を完
了する。
【0064】上記のように、26枚のウエハWをピッチ
チェンジャ20の基端部側に保持した後に、残りの26
枚のウエハをピッチチェンジャ20の先端部側に保持さ
せるようにすることにより、ピッチチェンジャ20の移
動量を少なくすることができると共に、受渡し動作の迅
速化を図ることができる。また、保持体31の対角線上
の領域CとBを使用して未処理のウエハWと処理済みの
ウエハWを保持すると共に、姿勢変換することにより、
両領域C,Bが上下位置に重なることがないので、処理
済みのウエハWが領域Cに付着したパーティクル等によ
って汚染されるのを防止することができる。つまり、処
理済みのウエハWを保持体31の領域Bで受け取る際、
未処理のウエハWを保持した領域Cは対角線上に位置す
るので、領域Cに付着したパーティクルは領域Bに落下
する心配がなく、処理済みのウエハWを安全に保持して
姿勢変換することができる。
チェンジャ20の基端部側に保持した後に、残りの26
枚のウエハをピッチチェンジャ20の先端部側に保持さ
せるようにすることにより、ピッチチェンジャ20の移
動量を少なくすることができると共に、受渡し動作の迅
速化を図ることができる。また、保持体31の対角線上
の領域CとBを使用して未処理のウエハWと処理済みの
ウエハWを保持すると共に、姿勢変換することにより、
両領域C,Bが上下位置に重なることがないので、処理
済みのウエハWが領域Cに付着したパーティクル等によ
って汚染されるのを防止することができる。つまり、処
理済みのウエハWを保持体31の領域Bで受け取る際、
未処理のウエハWを保持した領域Cは対角線上に位置す
るので、領域Cに付着したパーティクルは領域Bに落下
する心配がなく、処理済みのウエハWを安全に保持して
姿勢変換することができる。
【0065】◎次に、ウエハWの鏡面同士を対向配置し
た状態で処理を施す場合の13仕様の搬送形態について
説明する。なお、ウエハWを水平状態で保持する場合
は、一般に鏡面は上面側に向くように保持されている。
た状態で処理を施す場合の13仕様の搬送形態について
説明する。なお、ウエハWを水平状態で保持する場合
は、一般に鏡面は上面側に向くように保持されている。
【0066】まず、13枚のウエハWをウエハ搬送ア
ーム10(具体的にはアーム体11)で水平状態に保持
して、姿勢変換装置30すなわち保持体31の領域Cに
よってウエハWを水平状態で受け取った後、保持体31
を90度回転してウエハWを垂直状態に姿勢変換する。
その後ノッチアライナ40でノッチ合せを行って再び保
持体31でウエハWを垂直に保持した状態で、ピッチチ
ェンジャ20の基端部側の保持部の1つおきの保持溝に
て13枚のウエハWを例えば10mmピッチで保持する
(図19(a)参照)。なお、ウエハWは水平状態に保
持される場合は、鏡面(イ)は上面側に位置し、裏面
(ロ)は下面側に位置する。また、ウエハWが垂直状態
に保持される場合は、図において鏡面(イ)は左向き
に、裏面(ロ)は右向きに位置する。
ーム10(具体的にはアーム体11)で水平状態に保持
して、姿勢変換装置30すなわち保持体31の領域Cに
よってウエハWを水平状態で受け取った後、保持体31
を90度回転してウエハWを垂直状態に姿勢変換する。
その後ノッチアライナ40でノッチ合せを行って再び保
持体31でウエハWを垂直に保持した状態で、ピッチチ
ェンジャ20の基端部側の保持部の1つおきの保持溝に
て13枚のウエハWを例えば10mmピッチで保持する
(図19(a)参照)。なお、ウエハWは水平状態に保
持される場合は、鏡面(イ)は上面側に位置し、裏面
(ロ)は下面側に位置する。また、ウエハWが垂直状態
に保持される場合は、図において鏡面(イ)は左向き
に、裏面(ロ)は右向きに位置する。
【0067】次に、再び保持体31の領域Cが水平状
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ20が移動して先端
部側の保持溝を位置させ、その状態で上昇して先端部側
の保持部の1つおきの保持溝にて保持体31から13枚
のウエハWを受け取って26枚のウエハWを10mmピ
ッチにピッチ調整する(図19(b)参照)。
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ20が移動して先端
部側の保持溝を位置させ、その状態で上昇して先端部側
の保持部の1つおきの保持溝にて保持体31から13枚
のウエハWを受け取って26枚のウエハWを10mmピ
ッチにピッチ調整する(図19(b)参照)。
【0068】次に、再び保持体31の領域Cが水平状
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行う。この際、ピッチチェンジャ20は、最初の
状態から180度回転して基端部側の既に13枚のウエ
ハWを保持した保持溝の間の保持溝を位置させ、その状
態で上昇して基端部側の保持溝にて26枚(全体では3
9枚)のウエハWを例えば5mmピッチで保持すると共
に、ウエハWの鏡面(イ)同士を対向配置する(図19
(c)参照)。
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行う。この際、ピッチチェンジャ20は、最初の
状態から180度回転して基端部側の既に13枚のウエ
ハWを保持した保持溝の間の保持溝を位置させ、その状
態で上昇して基端部側の保持溝にて26枚(全体では3
9枚)のウエハWを例えば5mmピッチで保持すると共
に、ウエハWの鏡面(イ)同士を対向配置する(図19
(c)参照)。
【0069】次に、再び保持体31の領域Cが水平状
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ20が移動して先端
部側の既に13枚のウエハWを保持した保持溝の間の保
持溝を位置させ、その状態で上昇して保持体31から1
3枚のウエハWを受け取って52枚のウエハWを5mm
ピッチにピッチ調整すると共に、先端部側においても鏡
面(イ)同士を対向配置する(図19(d)参照)。こ
のようにして、52枚のウエハWのピッチ調整を行うと
共に、鏡面(イ)同士を対向配置する。そして、ピッチ
調整及び対向配置された52枚のウエハWを、上記と同
様にウエハ搬送チャック51によって受け取って処理部
3の各処理ユニット52〜54に搬送して適宜処理を施
す。
態で次の13枚のウエハWをウエハ搬送アーム10から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ20が移動して先端
部側の既に13枚のウエハWを保持した保持溝の間の保
持溝を位置させ、その状態で上昇して保持体31から1
3枚のウエハWを受け取って52枚のウエハWを5mm
ピッチにピッチ調整すると共に、先端部側においても鏡
面(イ)同士を対向配置する(図19(d)参照)。こ
のようにして、52枚のウエハWのピッチ調整を行うと
共に、鏡面(イ)同士を対向配置する。そして、ピッチ
調整及び対向配置された52枚のウエハWを、上記と同
様にウエハ搬送チャック51によって受け取って処理部
3の各処理ユニット52〜54に搬送して適宜処理を施
す。
【0070】処理が施された52枚の処理済みのウエハ
Wは、上記手順と逆の動作によって13枚ずつ空のキャ
リア1内に搬送されるのであるが、この際、上述した1
3枚仕様の搬送形態と同様に、保持体31の保持溝を未
処理のウエハWを保持した領域Cと対角線状の別の領域
Bを使用する点が異なる。すなわち、図17(a)に示
すように、保持体の領域Bを垂直状態に待機した状態で
ピッチチェンジャ20の先端部側の13枚の処理済みの
ウエハWを受け取った後、図17(b)に示すように、
保持体31を90度回転して13枚のウエハWを鏡面
(イ)が上面となるように水平状態に姿勢変換した後、
ウエハ搬送アーム10(具体的にはアーム体12)にウ
エハWを受け渡して空のキャリア1内に収納する。ウエ
ハWをウエハ搬送アーム10に受け渡した後、保持体3
1は再び90度回転して領域Bを垂直状態にして待機さ
せ、次にピッチチェンジャ20の基端部側の13枚の処
理済みのウエハWを受け取り、その後保持体31が90
度回転してウエハWの鏡面(イ)が上面になるように水
平状態にする。
Wは、上記手順と逆の動作によって13枚ずつ空のキャ
リア1内に搬送されるのであるが、この際、上述した1
3枚仕様の搬送形態と同様に、保持体31の保持溝を未
処理のウエハWを保持した領域Cと対角線状の別の領域
Bを使用する点が異なる。すなわち、図17(a)に示
すように、保持体の領域Bを垂直状態に待機した状態で
ピッチチェンジャ20の先端部側の13枚の処理済みの
ウエハWを受け取った後、図17(b)に示すように、
保持体31を90度回転して13枚のウエハWを鏡面
(イ)が上面となるように水平状態に姿勢変換した後、
ウエハ搬送アーム10(具体的にはアーム体12)にウ
エハWを受け渡して空のキャリア1内に収納する。ウエ
ハWをウエハ搬送アーム10に受け渡した後、保持体3
1は再び90度回転して領域Bを垂直状態にして待機さ
せ、次にピッチチェンジャ20の基端部側の13枚の処
理済みのウエハWを受け取り、その後保持体31が90
度回転してウエハWの鏡面(イ)が上面になるように水
平状態にする。
【0071】次に、保持体31は再び90度回転して領
域Bを垂直状態にして待機する一方、ピッチチェンジャ
20が180度回転して、先端部側の13枚のウエハW
を位置させ、その状態で上昇して、ピッチチェンジャ2
0の先端部側の残りの処理済みの13枚のウエハWを保
持体31に受け渡す。その後、保持体31が90度回転
してウエハWの鏡面(イ)が上面になるように水平状態
にして、ウエハ搬送アーム10に受け渡す。そして、保
持体31は再び90度回転して領域Bを垂直状態にして
待機させ、次にピッチチェンジャ20の基端部側の残り
の13枚の処理済みのウエハWを受け取り、その後保持
体31が90度回転してウエハWの鏡面(イ)が上面に
なるように水平状態にして、ウエハ搬送アーム10に受
け渡して、空のキャリア1内に処理済みの52枚のウエ
ハWを収納して搬送処理は完了する。
域Bを垂直状態にして待機する一方、ピッチチェンジャ
20が180度回転して、先端部側の13枚のウエハW
を位置させ、その状態で上昇して、ピッチチェンジャ2
0の先端部側の残りの処理済みの13枚のウエハWを保
持体31に受け渡す。その後、保持体31が90度回転
してウエハWの鏡面(イ)が上面になるように水平状態
にして、ウエハ搬送アーム10に受け渡す。そして、保
持体31は再び90度回転して領域Bを垂直状態にして
待機させ、次にピッチチェンジャ20の基端部側の残り
の13枚の処理済みのウエハWを受け取り、その後保持
体31が90度回転してウエハWの鏡面(イ)が上面に
なるように水平状態にして、ウエハ搬送アーム10に受
け渡して、空のキャリア1内に処理済みの52枚のウエ
ハWを収納して搬送処理は完了する。
【0072】なお、上記実施形態では、姿勢変換装置3
0の保持体31a,31bの対向する辺に、保持溝32
A,32Bを列設した場合について説明したが、以下に
示すように、保持体31a,31bの一辺と、他辺の隣
接する辺部に保持溝32A,32Bを互いに直交状に列
設してもよい。
0の保持体31a,31bの対向する辺に、保持溝32
A,32Bを列設した場合について説明したが、以下に
示すように、保持体31a,31bの一辺と、他辺の隣
接する辺部に保持溝32A,32Bを互いに直交状に列
設してもよい。
【0073】すなわち、図20に示すように、略矩形状
に形成される一対の保持体31a,31bの一辺(図面
における左側辺)に保持溝32Aを列設し、保持溝32
Aを列設した辺と対向する辺と隣接する辺(図面におけ
る右下側辺)に保持溝32Bを列設してもよい。このよ
うに構成することにより、保持溝32Aと32Bは、保
持体31a,31bの一辺と、対向する他辺に隣接する
辺に直交状に配列される。なお、図20に示す姿勢変換
装置30において、その他の部分は上記実施形態と同じ
であるので、説明は省略する。
に形成される一対の保持体31a,31bの一辺(図面
における左側辺)に保持溝32Aを列設し、保持溝32
Aを列設した辺と対向する辺と隣接する辺(図面におけ
る右下側辺)に保持溝32Bを列設してもよい。このよ
うに構成することにより、保持溝32Aと32Bは、保
持体31a,31bの一辺と、対向する他辺に隣接する
辺に直交状に配列される。なお、図20に示す姿勢変換
装置30において、その他の部分は上記実施形態と同じ
であるので、説明は省略する。
【0074】次に、上記のように構成される姿勢変換装
置30を用いて複数のウエハWを搬送する手順につい
て、図21及び図22に示す概略構成図を参照して説明
する。なお、ここでは、保持体を符号31で代表して説
明する。まず、複数枚例えば50枚の未処理のウエハW
をウエハ搬送アーム10(具体的にはアーム体11)で
水平状態に保持して、姿勢変換装置すなわち保持体31
の領域Aの保持溝32AによってウエハWを水平状態で
受け取る(図21(a)参照)。
置30を用いて複数のウエハWを搬送する手順につい
て、図21及び図22に示す概略構成図を参照して説明
する。なお、ここでは、保持体を符号31で代表して説
明する。まず、複数枚例えば50枚の未処理のウエハW
をウエハ搬送アーム10(具体的にはアーム体11)で
水平状態に保持して、姿勢変換装置すなわち保持体31
の領域Aの保持溝32AによってウエハWを水平状態で
受け取る(図21(a)参照)。
【0075】次に、保持体31を垂直方向に90度回転
してウエハWを垂直状態に姿勢変換する。その後、ノッ
チアライナ40でノッチ合せを行って再び保持体31で
ウエハWを垂直に保持した状態で、ピッチチェンジャ2
0の保持部の保持溝にて50枚のウエハWを保持する
(図21(b)参照)。そして、50枚のウエハWをウ
エハ搬送チャックによって受け取って処理部30の各処
理ユニット52〜54に搬送して適宜処理を施す。
してウエハWを垂直状態に姿勢変換する。その後、ノッ
チアライナ40でノッチ合せを行って再び保持体31で
ウエハWを垂直に保持した状態で、ピッチチェンジャ2
0の保持部の保持溝にて50枚のウエハWを保持する
(図21(b)参照)。そして、50枚のウエハWをウ
エハ搬送チャックによって受け取って処理部30の各処
理ユニット52〜54に搬送して適宜処理を施す。
【0076】処理が施された50枚の処理済みのウエハ
Wは、上記手順と逆の動作によって搬送されるのである
が、この際、保持体31の保持溝を、未処理のウエハW
を保持した領域Aの保持溝32Aとは異なる領域Bの保
持溝を使用する点が異なる。すなわち、まず、図22
(a)に示すように、保持体31の領域Bの保持溝32
Bを垂直状態に待機した状態で、ピッチチェンジャ20
から50枚の処理済みのウエハWを受け取る。次に、図
22(b)に示すように、保持体31を垂直方向に90
度回転して50枚のウエハWを水平状態に姿勢変換した
後、ウエハ搬送アーム10(具体的にはアーム体12)
にウエハWを受け渡して空のキャリア1内にウエハWを
収納して処理を完了する。
Wは、上記手順と逆の動作によって搬送されるのである
が、この際、保持体31の保持溝を、未処理のウエハW
を保持した領域Aの保持溝32Aとは異なる領域Bの保
持溝を使用する点が異なる。すなわち、まず、図22
(a)に示すように、保持体31の領域Bの保持溝32
Bを垂直状態に待機した状態で、ピッチチェンジャ20
から50枚の処理済みのウエハWを受け取る。次に、図
22(b)に示すように、保持体31を垂直方向に90
度回転して50枚のウエハWを水平状態に姿勢変換した
後、ウエハ搬送アーム10(具体的にはアーム体12)
にウエハWを受け渡して空のキャリア1内にウエハWを
収納して処理を完了する。
【0077】上記のように、未処理のウエハWを保持体
31の領域Aの保持溝32Aにて保持し、処理済みのウ
エハWを保持体31の別の領域Bで、かつ保持溝32A
とは直交する方向に列設される保持溝32Bにて保持す
るので、領域Aに付着したパーティクルは領域Bに落下
する心配がなく、処理済みのウエハWを安全に保持して
姿勢変換することができる。
31の領域Aの保持溝32Aにて保持し、処理済みのウ
エハWを保持体31の別の領域Bで、かつ保持溝32A
とは直交する方向に列設される保持溝32Bにて保持す
るので、領域Aに付着したパーティクルは領域Bに落下
する心配がなく、処理済みのウエハWを安全に保持して
姿勢変換することができる。
【0078】なお、上記実施形態では、この発明に係る
基板搬送処理装置を半導体ウエハの洗浄処理システムに
適用した場合について説明したが、洗浄処理以外の処理
システムにも適用できることは勿論であり、また、半導
体ウエハ以外のLCD用ガラス基板等にも適用できるこ
とは勿論である。
基板搬送処理装置を半導体ウエハの洗浄処理システムに
適用した場合について説明したが、洗浄処理以外の処理
システムにも適用できることは勿論であり、また、半導
体ウエハ以外のLCD用ガラス基板等にも適用できるこ
とは勿論である。
【0079】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、1つの姿勢変換手段によって被処理用の複数の基板
を異なる保持溝で保持すると共に、一対の保持体間に挾
持することができ、かつ、複数の基板を水平状態と垂直
状態に姿勢変換するので、未処理の基板を水平保持手段
から一方の保持溝で水平状態で受け取って垂直状態に姿
勢変換し、垂直状態で垂直保持手段に受け渡すことがで
き、また、処理済みの基板を垂直保持手段から他方の保
持溝で垂直状態で受け取って水平状態に姿勢変換し、水
平状態で水平保持手段に受け渡すことができる。したが
って、装置の小型化が図れると共に、スループットの向
上及び製品歩留まりの向上を図ることができる。
ば、1つの姿勢変換手段によって被処理用の複数の基板
を異なる保持溝で保持すると共に、一対の保持体間に挾
持することができ、かつ、複数の基板を水平状態と垂直
状態に姿勢変換するので、未処理の基板を水平保持手段
から一方の保持溝で水平状態で受け取って垂直状態に姿
勢変換し、垂直状態で垂直保持手段に受け渡すことがで
き、また、処理済みの基板を垂直保持手段から他方の保
持溝で垂直状態で受け取って水平状態に姿勢変換し、水
平状態で水平保持手段に受け渡すことができる。したが
って、装置の小型化が図れると共に、スループットの向
上及び製品歩留まりの向上を図ることができる。
【図1】この発明に係る基板搬送処理装置を適用した洗
浄処理システムの一例を示す概略平面図である。
浄処理システムの一例を示す概略平面図である。
【図2】上記洗浄処理システムの概略側面図である。
【図3】この発明におけるキャリアの一例を示す斜視図
である。
である。
【図4】上記キャリアの横断面図である。
【図5】この発明における姿勢変換装置とピッチチェン
ジャを示す概略側面図である。
ジャを示す概略側面図である。
【図6】上記姿勢変換装置の概略平面図である。
【図7】図6の側面図である。
【図8】この発明における姿勢変換装置、ウエハ搬送ア
ーム、ノッチアライナー及びピッチチェンジャを示す斜
視図である。
ーム、ノッチアライナー及びピッチチェンジャを示す斜
視図である。
【図9】上記姿勢変換装置の垂直保持状態を示す概略断
面図である。
面図である。
【図10】この発明における姿勢変換装置の保持溝の拡
大断面図である。
大断面図である。
【図11】上記姿勢変換装置によって未処理のウエハを
保持した状態の概略平面図(a)及び処理済みのウエハ
を保持した状態の概略平面図(b)である。
保持した状態の概略平面図(a)及び処理済みのウエハ
を保持した状態の概略平面図(b)である。
【図12】この発明におけるピッチチェンジャを示す概
略側面図である。
略側面図である。
【図13】図12の側面図である。
【図14】上記ピッチチェンジャの要部を示す斜視図で
ある。
ある。
【図15】上記ピッチチェンジャの保持部の要部を示す
側面図(a)及びその平面図(b)である。
側面図(a)及びその平面図(b)である。
【図16】この発明における保持体による未処理のウエ
ハをウエハ搬送アームからピッチチェンジャに受け渡す
状態を示す概略構成図である。
ハをウエハ搬送アームからピッチチェンジャに受け渡す
状態を示す概略構成図である。
【図17】上記保持体による処理済みのウエハをピッチ
チェンジャからウエハ搬送アームに受け渡す状態を示す
概略構成図である。
チェンジャからウエハ搬送アームに受け渡す状態を示す
概略構成図である。
【図18】13枚仕様のウエハをピッチチェンジャに搬
送する手順を示す説明図である。
送する手順を示す説明図である。
【図19】13枚仕様のウエハを鏡面を対向させてピッ
チチェンジャに搬送する手順を示す説明図である。
チチェンジャに搬送する手順を示す説明図である。
【図20】この発明における姿勢変換装置の別の実施形
態の要部を示す斜視図である。
態の要部を示す斜視図である。
【図21】図20の姿勢変換装置における保持体による
未処理のウエハをウエハ搬送アームからピッチチェンジ
ャに受け渡す状態を示す概略構成図である。
未処理のウエハをウエハ搬送アームからピッチチェンジ
ャに受け渡す状態を示す概略構成図である。
【図22】図20の姿勢変換装置における保持体による
処理済みのウエハをピッチチェンジャからウエハ搬送ア
ームに受け渡す状態を示す概略構成図である。
処理済みのウエハをピッチチェンジャからウエハ搬送ア
ームに受け渡す状態を示す概略構成図である。
【符号の説明】 W 半導体ウエハ(基板) 1 キャリア(容器) 3 処理部 4 インターフェース部 5a キャリア搬入部 5b キャリア搬出部 6 ウエハ受渡し部 10 ウエハ搬送アーム(水平保持手段) 11,12 アーム体(保持部) 20 ピッチチェンジャ(垂直保持手段) 30 姿勢変換装置(姿勢変換手段) 31,31a,31b 保持体 32A,32B 保持溝 33 排気孔 33a 排気管 34 排気装置 35 サーボモータ(回転手段) 37 エアーシリンダ(移動手段) 51 ウエハ搬送チャック(基板搬送手段)
Claims (16)
- 【請求項1】 複数の被処理用の基板を水平状態に保持
する水平保持手段と、 上記複数の基板を所定間隔をおいて垂直状態に保持する
垂直保持手段と、 上記水平保持手段と垂直保持手段との間に位置して、上
記複数の基板を水平状態と垂直状態とに変換する姿勢変
換手段と、を具備し、 上記姿勢変換手段は、上記基板を挾持する一対の略矩形
状の保持体を具備すると共に、保持体の対向する辺部
に、それぞれ独立して上記複数の基板を保持する複数の
保持溝を設けてなる、ことを特徴とする基板搬送処理装
置。 - 【請求項2】 被処理用の基板の搬入・搬出部との間で
上記基板を受け渡すと共に、複数の被処理用の基板を水
平状態に保持する水平保持手段と、 上記基板を適宜処理する処理部内で基板を搬送する基板
搬送手段との間で基板を受け渡しすると共に、複数の基
板を所定間隔をおいて垂直状態に保持する垂直保持手段
と、 上記水平保持手段と垂直保持手段との間に位置して、上
記複数の基板を水平状態と垂直状態とに変換する姿勢変
換手段と、を具備し、 上記姿勢変換手段は、上記基板を挾持する一対の略矩形
状の保持体を具備すると共に、保持体の対向する辺部
に、それぞれ独立して上記複数の基板を保持する複数の
保持溝を設けてなる、ことを特徴とする基板搬送処理装
置。 - 【請求項3】 請求項1又は2記載の基板搬送処理装置
において、 上記保持体に設けられる保持溝が、保持体の中心に対し
て対角線上に対向する保持溝を含む、ことを特徴とする
基板搬送処理装置。 - 【請求項4】 複数の被処理用の基板を水平状態に保持
する水平保持手段と、 上記複数の基板を所定間隔をおいて垂直状態に保持する
垂直保持手段と、 上記水平保持手段と垂直保持手段との間に位置して、上
記複数の基板を水平状態と垂直状態とに変換する姿勢変
換手段と、を具備し、 上記姿勢変換手段は、上記基板を挾持する一対の略矩形
状の保持体を具備すると共に、保持体の一辺と、対向す
る他辺に隣接する辺部に、それぞれ独立して上記複数の
基板を保持する複数の保持溝を設けてなる、ことを特徴
とする基板搬送処理装置。 - 【請求項5】 被処理用の基板の搬入・搬出部との間で
上記基板を受け渡すと共に、複数の被処理用の基板を水
平状態に保持する水平保持手段と、 上記基板を適宜処理する処理部内で基板を搬送する基板
搬送手段との間で基板を受け渡しすると共に、複数の基
板を所定間隔をおいて垂直状態に保持する垂直保持手段
と、 上記水平保持手段と垂直保持手段との間に位置して、上
記複数の基板を水平状態と垂直状態とに変換する姿勢変
換手段と、を具備し、 上記姿勢変換手段は、上記基板を挾持する一対の略矩形
状の保持体を具備すると共に、保持体の一辺と、対向す
る他辺に隣接する辺部に、それぞれ独立して上記複数の
基板を保持する複数の保持溝を設けてなる、ことを特徴
とする基板搬送処理装置。 - 【請求項6】 請求項1ないし5のいずれかに記載の基
板搬送処理装置において、 上記姿勢変換手段は、両保持体を相対的に移動する移動
手段と、両保持体を垂直方向に回転する回転手段と、を
具備することを特徴とする基板搬送処理装置。 - 【請求項7】 請求項1ないし5のいずれかに記載の基
板搬送処理装置において、 上記水平保持手段を、姿勢変換手段に対して水平方向に
移動可能に形成してなる、ことを特徴とする基板搬送処
理装置。 - 【請求項8】 請求項1ないし5又は7のいずれかに記
載の基板搬送処理装置において、 上記水平保持手段は、独立して複数の基板を水平状態に
保持する複数の保持部を具備する、ことを特徴とする基
板搬送処理装置。 - 【請求項9】 請求項1ないし5のいずれかに記載の基
板搬送処理装置において、 上記垂直保持手段を、姿勢変換手段に対して水平及び垂
直方向に移動可能に形成してなる、ことを特徴とする基
板搬送処理装置。 - 【請求項10】 請求項1ないし5のいずれかに記載の
基板搬送処理装置において、 上記垂直保持手段を、姿勢変換手段に対して水平及び垂
直方向に移動可能に形成すると共に、水平方向に回転可
能に形成してなる、ことを特徴とする基板搬送処理装
置。 - 【請求項11】 請求項1ないし5のいずれかに記載の
基板搬送処理装置において、 上記姿勢変換手段に設けられる各保持溝に排気孔を設け
ると共に、排気孔を排気手段に接続してなる、ことを特
徴とする基板搬送処理装置。 - 【請求項12】 請求項1ないし11のいずれかに記載
の基板搬送処理装置を用いた基板搬送処理方法であっ
て、 未処理の複数の基板を、姿勢変換手段の保持体の一方の
保持溝にて保持し、処理済みの複数の基板を、上記保持
体における上記保持溝の領域とは異なる領域の他方の保
持溝にて保持する、ことを特徴とする基板搬送処理方
法。 - 【請求項13】 請求項1ないし11のいずれかに記載
の基板搬送処理装置を用いた基板搬送処理方法であっ
て、 水平保持手段にて水平状態に保持される未処理の複数の
基板を、姿勢変換手段の保持体の一方の保持溝に受け渡
す工程と、 上記保持体を垂直方向に90度回転させて上記複数の基
板を垂直状態に姿勢変換する工程と、 垂直状態に姿勢変換された上記複数の基板を、垂直保持
手段に受け渡す工程と、 上記垂直保持手段にて垂直状態に保持される処理済みの
複数の基板を、上記姿勢変換手段の保持体における上記
保持溝の領域とは異なる領域の他方の保持溝に受け渡す
工程と、 上記保持体を垂直方向に90度回転させて上記複数の基
板を水平状態に姿勢変換する工程と、 水平状態に姿勢変換された上記複数の基板を、上記水平
保持手段に受け渡す工程と、を有することを特徴とする
基板搬送処理方法。 - 【請求項14】 請求項13記載の基板搬送処理方法に
おいて、 上記姿勢変換手段と垂直保持手段との間における複数の
基板の受け渡しに際して、上記垂直保持手段に設けられ
る保持溝のピッチを、上記姿勢変換手段の保持体に設け
られる保持溝のピッチの半分に形成しておき、先に上記
複数の基板の受け渡しを行った後、上記垂直保持手段
を、この垂直保持手段に設けられる保持溝のピッチ分移
動させて次の複数の基板の受け渡しを行うようにした、
ことを特徴とする基板搬送処理方法。 - 【請求項15】 請求項13記載の基板搬送処理方法に
おいて、 上記姿勢変換手段と垂直保持手段との間における複数の
基板の受け渡しに際して、上記垂直保持手段に設けられ
る保持溝のピッチを、上記姿勢変換手段の保持体に設け
られる保持溝のピッチの半分に形成しておき、先に上記
複数の基板の受け渡しを行った後、上記垂直保持手段を
水平方向に180度回転すると共に、先に受け渡された
上記複数の基板間の保持溝部を上記保持体の保持溝に対
向位置させて、次の複数の基板を先の複数の基板と対向
配置するように受け渡しを行うようにした、ことを特徴
とする基板搬送処理方法。 - 【請求項16】 請求項15記載の基板搬送処理方法に
おいて、 上記垂直保持手段にて保持される表裏面が対向配置させ
た複数の基板のうち、同一方向に表裏面が位置する複数
の基板を姿勢変換手段に受け渡した後、上記垂直保持手
段を水平方向に180度回転して、次の複数の基板を姿
勢変換手段に受け渡すようにした、ことを特徴とする基
板搬送処理方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5284698A JP3413567B2 (ja) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | 基板搬送処理装置及び基板搬送処理方法 |
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