JPH11200074A - Method for inspecting composition of etchant and apparatus for inspecting composition of etchant - Google Patents
Method for inspecting composition of etchant and apparatus for inspecting composition of etchantInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレ
イの透明電極などの微細な配線パターンをエッチングす
るエッチング液の組成検査方法およびエッチング液組成
検査装置に関する。The present invention relates to a method and an apparatus for inspecting the composition of an etching solution for etching fine wiring patterns such as transparent electrodes of a liquid crystal display.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶マトリクスディスプレイの透明電極
は、０．１〜０．０１μｍ程度のＩＴＯ膜をエッチング
して製作されるが、０．１５μｍ程度の微細な配線パタ
ーンであるため、エッチング液の組成管理を厳密に行わ
なければ精度よいエッチングを行うことができない。2. Description of the Related Art Transparent electrodes of a liquid crystal matrix display are manufactured by etching an ITO film having a thickness of about 0.1 to 0.01 .mu.m. Unless the management is strictly performed, accurate etching cannot be performed.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来、このエ
ッチング液の組成を調べる方法としては、不溶電極を用
いて液の抵抗値を調べる方法や被エッチング金属を沈め
て、その溶解電流によって組成を調べる方法などがあっ
たが、ともに表面から電流を流すものであったため、電
極表面の汚れや経年変化のために正確な測定ができず、
上記のような高精度の組成検査，組成管理をすることが
できないという問題点があった。However, conventionally, as a method of examining the composition of the etching solution, a method of examining the resistance value of the solution using an insoluble electrode or a method of submerging a metal to be etched and dissolving the composition by the dissolution current. Although there was a method to check, but because the current flowed from the surface in both cases, accurate measurements could not be performed due to dirt on the electrode surface and aging,
There is a problem that the composition inspection and composition management cannot be performed with high accuracy as described above.
【０００４】エッチング液の消費が多く経済的でないう
え、多くの廃液が発生するためその処理にも経費が掛か
り、環境的にも好ましくないという問題点があった。[0004] There is a problem that the consumption of the etching solution is large, it is not economical, and since a large amount of waste liquid is generated, the processing is expensive and the environment is not favorable.
【０００５】この発明は、エッチング液の組成をリアル
タイムで精度よく検出することができるエッチング液の
組成検査方法およびエッチング液組成検査装置を提供す
ることを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an etching solution composition inspection method and an etching solution composition inspection apparatus capable of accurately detecting the composition of an etching solution in real time.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】この出願の請求項１の発
明は、金属を腐食溶融するエッチング液の組成を検査す
る方法であって、送信コイルおよび受信コイルからなる
電磁センサ、および、比重計を前記エッチング液中に設
置し、前記送信コイルに信号を印加したとき前記受信コ
イルに生じる誘導電流、および、前記比重計が検出した
エッチング液の比重値に基づいて該エッチング液の組成
を検出することを特徴とする。The invention of claim 1 of this application is a method for inspecting the composition of an etching solution for corroding and melting a metal, comprising an electromagnetic sensor comprising a transmission coil and a reception coil, and a hydrometer. Is installed in the etching solution, and an induced current generated in the receiving coil when a signal is applied to the transmission coil, and a composition of the etching solution is detected based on a specific gravity value of the etching solution detected by the hydrometer. It is characterized by the following.
【０００７】この出願の請求項２の発明は、送信コイル
から受信コイルに伝達される誘導電流を検出する電磁セ
ンサと、液の比重を検出する比重計とをエッチング液中
に設け、前記誘導電流の強度と前記比重の値とに基づい
て前記エッチング液の組成を検査する手段を備えたこと
を特徴とする。According to a second aspect of the present invention, there is provided an electromagnetic sensor for detecting an induced current transmitted from a transmitting coil to a receiving coil, and a hydrometer for detecting a specific gravity of a liquid, provided in the etching liquid. Means for inspecting the composition of the etching solution based on the strength of the substrate and the value of the specific gravity.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】図１はこの発明の実施形態である
ＬＣＤディスプレイ用透明電極のエッチングラインの構
成を示す図である。エッチングラインは、エッチング工
程に現在使用されているエッチング液を貯留する本槽
１、電極パターンのフォトレジストが形成された透明電
極用シート２０を搬送するコンベア２、コンベア２上を
搬送される透明電極用シート２０にエッチング液をスプ
レーするノズル３、本槽１内のエッチング液をノズル３
に供給するポンプ４を有している。搬送されてきた透明
電極用シートはコンベア２上でエッチング液をスプレー
され、搬送されている間に電極パターン以外のＩＴＯ膜
が溶融除去される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a view showing a structure of an etching line of a transparent electrode for an LCD display according to an embodiment of the present invention. The etching line includes a main tank 1 for storing an etchant currently used in the etching process, a conveyor 2 for transporting a transparent electrode sheet 20 on which a photoresist of an electrode pattern is formed, and a transparent electrode transported on the conveyor 2. Nozzle 3 for spraying an etching solution onto the sheet 20 for use, and the nozzle 3
And a pump 4 for supplying to the pump. The conveyed transparent electrode sheet is sprayed with an etching solution on the conveyor 2, and the ITO film other than the electrode pattern is melted and removed while being conveyed.
【０００９】エッチング液としては、臭酸水溶液（ＨＢ
ｒ）または塩化第二鉄・塩酸水溶液（ＦｅＣｌ3 ＋ＨＣ
ｌ）が用いられるが、図１の例ではＨＢｒを用いた例を
示している。As an etching solution, an aqueous solution of bromic acid (HB
r) or ferric chloride / hydrochloric acid aqueous solution (FeCl 3 + HC)
1) is used, but the example of FIG. 1 shows an example using HBr.
【００１０】また、本槽１内にはエッチング液を攪拌す
るポンプ５が設けられており、本槽１内のエッチング液
を上部から底部に搬送することによって攪拌し、槽内の
エッチング液の組成を均一に保つ。また、このポンプ５
が攪拌のために吸い出したエッチング液の一部は分岐し
てサンプリング槽６に送り込まれる。サンプリング槽６
は、電磁センサ７および比重計８を備えており、エッチ
ング液の電解質濃度を電磁センサ７で検出し、エッチン
グ液の比重を比重計８で検出する。エッチング液中に存
在する電解質は、エッチング機能成分のＨＢｒおよびエ
ッチングされた溶融金属であるインジウムＩｎ、スズＳ
ｎである。そして、比重計８で計測された比重と上記電
解質濃度とを比較することにより、エッチング液中のＨ
Ｂｒの量およびインジウムＩｎ、スズＳｎの量を算出す
ることができる。この量の算出はコントローラ１０の演
算処理によって行われる。サンプリング槽６には、ポン
プ５によって本槽１のエッチング液が常時送り込まれて
いるため、コントローラ１０は、本槽１のエッチング液
の組成をリアルタイムに常時検出することができる。ま
た、コントローラ１０にはワークセンサ９が接続されて
いる。このワークセンサ９はコンベア２で搬送される透
明電極用シート２０（ワーク）を画像として読み取るＣ
ＣＤカメラなどで構成されており、コントローラ１０は
この読取画像によって、一定時間当たりに搬送されるワ
ークの枚数およびワーク１枚当たりのエッチング面積を
割り出すことができる。Further, a pump 5 for stirring the etching solution is provided in the main tank 1, and the etching solution in the main tank 1 is stirred by being conveyed from the top to the bottom, so that the composition of the etching solution in the tank is changed. Is kept uniform. Also, this pump 5
A part of the etching solution sucked out for stirring is branched and sent to the sampling tank 6. Sampling tank 6
Is provided with an electromagnetic sensor 7 and a hydrometer 8, the electrolyte concentration of the etching solution is detected by the electromagnetic sensor 7, and the specific gravity of the etching solution is detected by the hydrometer 8. The electrolyte present in the etching solution is HBr as an etching functional component and indium In and tin S which are molten metal etched.
n. Then, by comparing the specific gravity measured by the specific gravity meter 8 with the above-mentioned electrolyte concentration, H in the etching solution is obtained.
The amount of Br and the amounts of indium In and tin Sn can be calculated. The calculation of this amount is performed by the arithmetic processing of the controller 10. Since the etching liquid in the main tank 1 is constantly fed into the sampling tank 6 by the pump 5, the controller 10 can always detect the composition of the etching liquid in the main tank 1 in real time. Further, the work sensor 9 is connected to the controller 10. The work sensor 9 reads the transparent electrode sheet 20 (work) conveyed by the conveyor 2 as an image.
The controller 10 is constituted by a CD camera or the like, and the controller 10 can determine the number of works conveyed per a fixed time and the etching area per work based on the read image.
【００１１】一方、本槽１内のエッチング液の組成を補
正するために、ＨＢｒを貯蔵する薬品槽１１および純水
を貯蔵する純水槽１２が設けられ、これら薬品槽１１，
純水槽１２には、薬品および純水を本槽１に供給するた
めのポンプ１３，１４がそれぞれ設けられている。この
ポンプ１３，１４は、前記コントローラ１０によって制
御される。コントローラ３は、ワークセンサ９の映像に
よって割り出したワークの搬送枚数およびエッチング面
積に基づいて、エッチング液が一定時間にどの程度疲労
するかを割り出し、この疲労をキャンセルするようにＨ
Ｂｒを本槽１に補給する。また、前記電磁センサ７，比
重計８の検出内容を常時監視し、エッチング液の組成が
許容範囲から外れたとき、これを許容範囲に戻すため
に、ＨＢｒまたは純水を本槽１に補給する。On the other hand, in order to correct the composition of the etching solution in the main tank 1, a chemical tank 11 for storing HBr and a pure water tank 12 for storing pure water are provided.
The pure water tank 12 is provided with pumps 13 and 14 for supplying a chemical and pure water to the main tank 1, respectively. The pumps 13 and 14 are controlled by the controller 10. The controller 3 determines how much the etchant will be fatigued in a certain period of time based on the number of conveyed workpieces and the etched area determined based on the image of the work sensor 9, and cancels the fatigue so as to cancel the fatigue.
Br is supplied to the main tank 1. Further, the detection contents of the electromagnetic sensor 7 and the hydrometer 8 are constantly monitored, and when the composition of the etching solution is out of the allowable range, HBr or pure water is supplied to the main tank 1 in order to return the composition to the allowable range. .
【００１２】本槽１には、エッチング液がリミットまで
収容されているため、コントローラ１０のポンプ１３，
１４の駆動によってＨＢｒや純水が供給されると、それ
まで収容されていた古いエッチング液の一部がオーバー
フローする。このようにして本槽１内のエッチング液が
更新されてゆく。このように、このエッチングラインで
は、ＨＢｒや純水が補給されたとき、その補給分に対応
する容量の廃液が出るのみであるため、従来のバッチ処
理に比べて廃液の量を極めて少なく（約１／３）するこ
とができる。なお、上記オーバーフローした廃液は、イ
ンジウムなどの金属を分離する処理工程に送られる。Since the main bath 1 contains the etching solution to the limit, the pump 13 of the controller 10
When HBr or pure water is supplied by the drive of 14, a part of the old etching solution that has been stored up to that point overflows. Thus, the etching solution in the main tank 1 is renewed. As described above, in this etching line, when HBr or pure water is replenished, only a volume of waste liquid corresponding to the replenishment is discharged, so that the amount of waste liquid is extremely small as compared with the conventional batch processing (about about 1/3). The overflowed waste liquid is sent to a treatment step for separating metals such as indium.
【００１３】図２は上記サンプリング槽６に設けられる
電磁センサ７の構成を示す図である。電磁センサ７は縦
に重ねられた発信コイル７２および受信コイル７３を有
しており、発信コイル７２，受信コイル７３ともにトロ
イダルコアに巻回されたトロイダルコイルで構成されて
いる。発信コイル７２、受信コイル７３は、コイルの中
空部に合わせて上下とも開口した円筒状の樹脂ケース７
４に収納されている。この樹脂ケース７４がケーブルで
吊るされ、縦向きに（中空部が上下方向に開口するよう
に）エッチング液中に没して設置される。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of the electromagnetic sensor 7 provided in the sampling tank 6. The electromagnetic sensor 7 has a transmission coil 72 and a reception coil 73 that are vertically stacked, and both the transmission coil 72 and the reception coil 73 are configured by a toroidal coil wound around a toroidal core. The transmitting coil 72 and the receiving coil 73 are formed in a cylindrical resin case 7 which is opened at both upper and lower sides in accordance with the hollow portion of the coil.
4 The resin case 74 is suspended by a cable, and is immersed in an etching solution in a vertical direction (a hollow portion is opened in the vertical direction).
【００１４】また、発信コイル７２，受信コイル７３か
らは、図示しないリード線がケース外に引き出され、同
図（Ｂ）に示す発振回路７６，受信回路７７にそれぞれ
接続されている。Further, lead wires (not shown) are drawn out of the case from the transmitting coil 72 and the receiving coil 73, and are connected to an oscillation circuit 76 and a receiving circuit 77 shown in FIG.
【００１５】発信コイル７２に接続されている発振回路
７６は、１ｋＨｚ〜２０ｋＨｚ程度の低周波信号を発振
して発信コイル７２に印加する。また、受信コイル７３
に接続されている受信回路７７は、受信コイル７３に流
れる誘導電流を数十μＡ程度のオーダーで高精度に検出
する。An oscillation circuit 76 connected to the transmitting coil 72 oscillates a low frequency signal of about 1 kHz to 20 kHz and applies the signal to the transmitting coil 72. Also, the receiving coil 73
Receive the induced current flowing through the receiving coil 73 with high accuracy on the order of several tens of μA.
【００１６】上記のように電磁センサ７（発振コイル７
２，受信コイル７３）の中央部は上下に開口しておりエ
ッチング液が自由に流通するため、この液の透磁率、す
なわち、液中の電解質濃度によって発信コイル７２と受
信コイル７３の結合係数Ｍが変化し、受信コイル７３に
流れる誘導電流の大きさも変化する。したがって、発信
コイル７２に常時所定の電流を流しておき、受信コイル
７３に流れる誘導電流の値を検出することにより、その
ときのエッチング液の電解質濃度を割り出すことができ
る。As described above, the electromagnetic sensor 7 (oscillation coil 7
2, the center of the receiving coil 73) is open vertically, and the etching liquid flows freely. Therefore, the coupling coefficient M between the transmitting coil 72 and the receiving coil 73 depends on the magnetic permeability of the liquid, that is, the electrolyte concentration in the liquid. And the magnitude of the induced current flowing through the receiving coil 73 also changes. Therefore, by constantly flowing a predetermined current through the transmitting coil 72 and detecting the value of the induced current flowing through the receiving coil 73, the electrolyte concentration of the etching solution at that time can be determined.
【００１７】一方、比重計８は、エッチング液中に浮子
を沈めこの浮子に生じる浮力を歪みゲージで検出するこ
とによって比重を求める方式のもの（本出願人の特願平
３−２３４５２８号）や一定容量を収容できる容器にエ
ッチング液を流し込みこの容器の重量を測定することに
よってエッチング液の比重を求める方式のもの（本出願
人の特願平９−２７２４２９号）などを適用することが
できる。On the other hand, the specific gravity meter 8 is of a type in which a float is immersed in an etching solution and the buoyancy generated by the float is detected by a strain gauge to obtain a specific gravity (Japanese Patent Application No. 3-234528 of the present applicant), A method in which an etching solution is poured into a container capable of accommodating a fixed capacity and the specific gravity of the etching solution is determined by measuring the weight of the container (Japanese Patent Application No. 9-272429 of the present applicant) can be applied.
【００１８】このように、電磁センサ７，比重計８とも
に、検出部（プローブ）が反応などで変化するものでは
ないため、半永久的に継続使用することができる。ま
た、電磁センサ７，比重計８ともに、検出部の表面状態
は問題にならず、電極などのように表面の汚れが測定精
度に影響を与えることもないため、経年使用によって指
示値が変化し、測定精度が低下するということもない。As described above, since both the electromagnetic sensor 7 and the hydrometer 8 do not change the detection unit (probe) due to a reaction or the like, they can be used semi-permanently. Also, in both the electromagnetic sensor 7 and the hydrometer 8, the surface condition of the detection unit does not matter, and the contamination of the surface does not affect the measurement accuracy unlike the electrodes and the like, so that the indicated value changes with aging. Also, the measurement accuracy does not decrease.
【００１９】これにより、このエッチングラインでは、
電磁センサ７，比重計８およびコントローラ１０によっ
て、エッチング液の組成の自動制御，リアルタイムフィ
ードバック制御が可能になる。As a result, in this etching line,
The electromagnetic sensor 7, the hydrometer 8, and the controller 10 enable automatic control of the composition of the etching solution and real-time feedback control.
【００２０】なお、上記実施形態ではＨＢｒエッチング
液を用いた装置について説明したが、塩化第二鉄＋塩酸
のエッチング液を用いた装置においても同様に適用する
ことができる。この例を図３に示す。同図は図１に示し
たエッチングラインのコントローラ１０および薬品槽部
分のみを示した図である。同図（Ａ）では、塩酸ＨＣｌ
を貯蔵した薬品槽３１および塩化第二鉄ＦｅＣｌ3 を貯
蔵した薬品槽３２を備え、それぞれの薬品を本槽１に補
給するためのポンプ３３，２４を備えている。各ポンプ
３３，３４はコントローラ１０によって制御される。ま
た、同図（Ｂ）装置では、塩酸ＨＣｌを補給するための
ポンプ３３および塩化第二鉄ＦｅＣｌ3を補給するため
のポンプ３４はともにミキシング槽３５に接続され、ミ
キシング槽３５において予めＨＣｌとＦｅＣｌ3 が混合
される。そして、必要に応じてポンプ３６によってこの
混合液が本槽１に補給される。In the above embodiment, the apparatus using the HBr etching solution has been described. However, the present invention can be similarly applied to an apparatus using an etching solution of ferric chloride + hydrochloric acid. This example is shown in FIG. FIG. 3 is a diagram showing only the controller 10 and the chemical tank portion of the etching line shown in FIG. In FIG.
And a chemical tank 32 for storing ferric chloride FeCl 3, and pumps 33 and 24 for replenishing the respective chemicals to the main tank 1. Each of the pumps 33 and 34 is controlled by the controller 10. In the apparatus shown in FIG. 2B, a pump 33 for replenishing HCl and a pump 34 for replenishing ferric chloride FeCl 3 are both connected to a mixing tank 35, and HCl and FeCl 3 are previously stored in the mixing tank 35. 3 are mixed. Then, the mixed liquid is supplied to the main tank 1 by the pump 36 as necessary.
【００２１】[0021]
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、検出部
の劣化がなく表面の汚れが問題にならない電磁センサお
よび比重計を用いてエッチング液の組成を検出するよう
にしたことにより、リアルタイムに高精度にエッチング
液の組成を検出することができ、且つ、メンテナンスフ
リーで長期間の継続使用が可能になる。As described above, according to the present invention, the composition of the etching solution is detected by using an electromagnetic sensor and a hydrometer which do not cause deterioration of the detecting portion and cause no contamination of the surface. Therefore, the composition of the etching solution can be detected with high accuracy, and maintenance-free operation can be performed for a long period of time.
【図１】この発明の実施形態であるＬＣＤマトリクスデ
ィスプレイの透明電極のエッチングラインの構成を示す
図FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a transparent electrode etching line of an LCD matrix display according to an embodiment of the present invention.
【図２】同エッチングラインに用いられる電磁センサの
構成図FIG. 2 is a configuration diagram of an electromagnetic sensor used in the etching line.
【図３】前記エッチングラインの他の実施形態を示す図FIG. 3 is a view showing another embodiment of the etching line.
１…本槽、６…サンプリング槽、７…電磁センサ、８…
比重計、１０…コントローラ、７２…発信コイル、７３
…受信コイル、７４…ケース、７６…発振回路、７７…
受信回路、1 ... main tank, 6 ... sampling tank, 7 ... electromagnetic sensor, 8 ...
Specific gravity meter, 10 ... controller, 72 ... transmission coil, 73
... Reception coil, 74 ... Case, 76 ... Oscillation circuit, 77 ...
Receiving circuit,
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成１０年１２月１４日[Submission date] December 14, 1998
【手続補正１】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【特許請求の範囲】[Claims]
【手続補正２】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】０００６[Correction target item name] 0006
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】この出願の請求項１の発
明は、金属を腐食溶融するエッチング液の組成を検査す
る方法であって、送信コイルおよび受信コイルからなる
電磁センサ、および、比重計を前記エッチング液中に設
置し、前記送信コイルに信号を印加したとき前記受信コ
イルに生じる誘導電流、および、前記比重計が検出した
エッチング液の比重値に基づいて該エッチング液の機能
成分および被エッチング金属を含む複数の電解質の含有
量をそれぞれ検出することを特徴とする。The invention of claim 1 of this application is a method for inspecting the composition of an etching solution for corroding and melting a metal, comprising an electromagnetic sensor comprising a transmission coil and a reception coil, and a hydrometer. Is installed in the etching solution, the induced current generated in the receiving coil when a signal is applied to the transmission coil, and the function of the etching solution based on the specific gravity value of the etching solution detected by the hydrometer.
Includes multiple electrolytes, including components and metals to be etched
It is characterized in that the amounts are respectively detected.
【手続補正３】[Procedure amendment 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】０００７[Correction target item name] 0007
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【０００７】この出願の請求項２の発明は、送信コイル
から受信コイルに伝達される誘導電流を検出する電磁セ
ンサと、液の比重を検出する比重計とをエッチング液中
に設け、前記誘導電流の強度と前記比重の値とに基づい
て前記エッチング液の機能成分および被エッチング金属
を含む複数の電解質の含有量をそれぞれ検査する手段を
備えたことを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, there is provided an electromagnetic sensor for detecting an induced current transmitted from a transmitting coil to a receiving coil, and a hydrometer for detecting a specific gravity of a liquid, provided in the etching liquid. The functional components of the etching solution and the metal to be etched based on the strength of the metal and the value of the specific gravity.
Means for inspecting the content of each of a plurality of electrolytes, including:
【手続補正４】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００２１[Correction target item name] 0021
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【００２１】[0021]
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、検出部
の劣化がなく表面の汚れが問題にならない電磁センサお
よび比重計を用いてエッチング液の組成を検出するよう
にしたことにより、リアルタイムに高精度にエッチング
液の機能成分および被エッチング金属を含む複数の電解
質の含有量をそれぞれ検出することができ、且つ、メン
テナンスフリーで長期間の継続使用が可能になる。As described above, according to the present invention, the composition of the etching solution is detected by using an electromagnetic sensor and a hydrometer which do not cause deterioration of the detecting portion and cause no contamination of the surface. Electrolysis including the functional components of the etchant and the metal to be etched with high precision
The content of each substance can be detected, and maintenance-free, long-term continuous use becomes possible.
Claims (2)
を検査する方法であって、 送信コイルおよび受信コイルからなる電磁センサ、およ
び、比重計を前記エッチング液中に設置し、 前記送信コイルに信号を印加したとき前記受信コイルに
生じる誘導電流、および、前記比重計が検出したエッチ
ング液の比重値に基づいて該エッチング液の組成を検出
することを特徴とするエッチング液の組成検査方法。1. A method for inspecting a composition of an etching solution for corroding and melting a metal, comprising: installing an electromagnetic sensor including a transmission coil and a reception coil; and a hydrometer in the etching solution; Detecting a composition of the etching solution based on an induced current generated in the receiving coil when the voltage is applied and a specific gravity value of the etching solution detected by the hydrometer.
誘導電流を検出する電磁センサと、液の比重を検出する
比重計とをエッチング液中に設け、 前記誘導電流の強度と前記比重の値とに基づいて前記エ
ッチング液の組成を検査する手段を備えたことを特徴と
するエッチング液組成検査装置。2. An etching sensor comprising: an electromagnetic sensor for detecting an induced current transmitted from a transmitting coil to a receiving coil; and a hydrometer for detecting a specific gravity of a liquid, the intensity of the induced current and the value of the specific gravity. A means for inspecting the composition of the etching solution based on the following.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP213898A JPH11200074A (en) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | Method for inspecting composition of etchant and apparatus for inspecting composition of etchant |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP213898A JPH11200074A (en) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | Method for inspecting composition of etchant and apparatus for inspecting composition of etchant |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11200074A true JPH11200074A (en) | 1999-07-27 |
Family
ID=11520987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP213898A Pending JPH11200074A (en) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | Method for inspecting composition of etchant and apparatus for inspecting composition of etchant |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11200074A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160010258A (en) * | 2014-07-17 | 2016-01-27 | 가부시키가이샤 히라마 리카 켄큐쇼 | Etching solution managing apparatus, etching solution managing method and concentration measuring method for component of etching solution |
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1998
- 1998-01-08 JP JP213898A patent/JPH11200074A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160010258A (en) * | 2014-07-17 | 2016-01-27 | 가부시키가이샤 히라마 리카 켄큐쇼 | Etching solution managing apparatus, etching solution managing method and concentration measuring method for component of etching solution |
| CN105304462A (en) * | 2014-07-17 | 2016-02-03 | 株式会社平间理化研究所 | Etching liquid management device and method, and determination method of ingredient concentration of etching liquid |
| JP2016025138A (en) * | 2014-07-17 | 2016-02-08 | 株式会社平間理化研究所 | Etchant management device, etchant management method, and constituent concentration measurement method of etchant |
| TWI682067B (en) * | 2014-07-17 | 2020-01-11 | 平間理化研究所股份有限公司 | Etching solution managing apparatus, etching solution managing method and concentration measuring method for component of etching solution |
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