JPH11200051A - Liquid vaporizer - Google Patents
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- JPH11200051A JPH11200051A JP836498A JP836498A JPH11200051A JP H11200051 A JPH11200051 A JP H11200051A JP 836498 A JP836498 A JP 836498A JP 836498 A JP836498 A JP 836498A JP H11200051 A JPH11200051 A JP H11200051A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置等
におけるガス供給装置で使用される液体気化装置に関
し、さらに詳細には、常温常圧で液体として存在する液
体ソースを一定量精密に気化してガス使用装置に供給す
る液体気化装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid vaporizer used in a gas supply device in a semiconductor manufacturing apparatus or the like, and more particularly, to a method of precisely vaporizing a liquid source existing as a liquid at normal temperature and normal pressure. The present invention relates to a liquid vaporizer for supplying a gas to a gas using device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、半導体集積回路中の絶縁膜と
して、気相成膜された酸化珪素薄膜等が多用されてい
る。かかる酸化珪素等の気相成膜は、成膜槽中に載置さ
れた半導体基板（以下、「ウェハ」という）上に、化学
蒸着成膜法（以下、「ＣＶＤ」という）にて行うのが普
通である。そのための珪素供給源としては、例えばモノ
シランＳiＨ4のような常温常圧で気体であるものばかり
でなく、有機シラン（以下、「ＴＥＯＳ」という）のよ
うな、常温常圧では液体である液体ソースも使用され
る。これらのうち、成膜しようとする膜に求められる諸
特性や、成膜時の温度条件等の制約等により、最も適切
なものが用いられる。しかし液体ソースを用いる場合
は、当然、気化しなければ気相反応には供しえない。2. Description of the Related Art Conventionally, as an insulating film in a semiconductor integrated circuit, a silicon oxide thin film formed in a vapor phase has been frequently used. The vapor deposition of silicon oxide or the like is performed by a chemical vapor deposition (hereinafter, referred to as “CVD”) on a semiconductor substrate (hereinafter, referred to as “wafer”) placed in a deposition tank. Is common. As a silicon supply source therefor, not only a gas source such as monosilane SiH 4 which is a gas at normal temperature and normal pressure, but also a liquid source such as organosilane (hereinafter referred to as “TEOS”) which is a liquid at normal temperature and normal pressure Is also used. Among these, the most appropriate one is used depending on various characteristics required for the film to be formed, restrictions on temperature conditions during film formation, and the like. However, when a liquid source is used, it cannot be used for a gas phase reaction unless it is vaporized.
【０００３】このために液体ソースを気化する手段とし
ては、例えば従来例として図３に示すものが挙げられ
る。図３は、特開平５―１９２５０１号公報に記載の液
体気化供給装置である。これは、パイプ５１が、ヒータ
５４の内蔵されているヒータブロック５２の貫通孔５３
内を貫通して設けられ、そのパイプ５１内には、熱伝導
性並びに耐腐食性の良好な粉体５５が充填されている。
そして、液体ソースＬを気化室５６へ導入する液体導入
管５８が、流量コントローラ６０を介して接続されてい
る。液体導入管５８には細管５９が備えられ、メッシュ
５７Ａを貫通して気化室５６内に突設されて、その先端
には粉体５５の直径よりも小さい内径を有する細径部６
１が形成されている。As a means for vaporizing a liquid source for this purpose, for example, there is a conventional one shown in FIG. FIG. 3 shows a liquid vaporization supply device described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-192501. This is because the pipe 51 is connected to the through hole 53 of the heater block 52 in which the heater 54 is built.
The pipe 51 is filled with a powder 55 having good thermal conductivity and corrosion resistance.
Then, a liquid introduction pipe 58 for introducing the liquid source L into the vaporization chamber 56 is connected via a flow rate controller 60. The liquid introduction pipe 58 is provided with a thin tube 59, which penetrates the mesh 57A and protrudes into the vaporization chamber 56, and has a small-diameter portion 6 having an inner diameter smaller than the diameter of the powder 55 at the tip thereof.
1 is formed.
【０００４】管継手６２を介してキャリアガス導入管６
４がパイプ５１側へ接続され、コントローラ６５を介し
てキャリアガス（例えば、Ｈ2 ，Ｈｅ，Ｎ2 ）Ｋを供給
する供給源へ接続されている。一方、パイプ５１の下流
側は、制御部７６によって動作が制御される圧力センサ
６８及び圧力調節器６９を備えた気化ガス導出管６７へ
接続され、その下流側には更に、接続部７０を介して気
化ガス供給ライン７１，７２が分岐して接続され、開閉
弁７３，７４を介して半導体製造装置などへ接続されて
いる。そして、本液体気化供給装置には、更にヒータブ
ロック５２、液体導入管５８、及びキャリアガス導入管
６４を収容するための断熱構造のハウジング６６が設け
られている。また、気化ガスが再冷却によって液化する
のを防止するためのヒータ７５が設けられている。A carrier gas inlet pipe 6 is connected via a pipe joint 62.
4 is connected to the pipe 51 side, and is connected to a supply source for supplying a carrier gas (for example, H 2 , He, N 2 ) K via a controller 65. On the other hand, the downstream side of the pipe 51 is connected to a vaporized gas outlet pipe 67 including a pressure sensor 68 and a pressure regulator 69 whose operations are controlled by a control unit 76, and further downstream of the pipe 51 via a connection unit 70. The vaporized gas supply lines 71 and 72 are branched and connected, and are connected to semiconductor manufacturing equipment and the like via on-off valves 73 and 74. The liquid vaporization supply device further includes a housing 66 having a heat insulating structure for accommodating the heater block 52, the liquid introduction pipe 58, and the carrier gas introduction pipe 64. Further, a heater 75 for preventing the vaporized gas from being liquefied by re-cooling is provided.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図３に
示す従来の液体気化装置では、以下に示すような問題点
があった。即ち、本液体気化装置は、液体ソースを気化
室５６へ導入し、そこで細径部６１を経て加熱された粉
体５５と接触させることで気化するようにしたものであ
る。そのための構成として、ヒータ５４を内蔵したヒー
タブロック５２の貫通孔５３内にパイプ５１貫通し、そ
のパイプ５１内には粉体５５を充填し、更にその加熱し
た粉体５５へ微細粒の液体ソースを導入するための細径
部６１を有するもので、複雑なものとなっている。これ
は、部品点数の増加により装置自体のコストを上げる原
因にもなっている。However, the conventional liquid vaporizer shown in FIG. 3 has the following problems. That is, in the present liquid vaporizer, the liquid source is introduced into the vaporization chamber 56, where the liquid source is brought into contact with the heated powder 55 via the small diameter portion 61 to vaporize. As a configuration for this purpose, a pipe 51 penetrates through a through hole 53 of a heater block 52 having a built-in heater 54, a powder 55 is filled in the pipe 51, and a fine-grain liquid source is added to the heated powder 55. And has a small-diameter portion 61 for introducing the same. This also increases the cost of the apparatus itself due to an increase in the number of parts.
【０００６】また、外部温度に影響されることなく液体
ソースを気化させるためにヒータブロック５２、液体導
入管５８、及びキャリアガス導入管６４をも収容するハ
ウジング６６を設けたので装置自体が大型化している。
また、本液体気化装置でバッチ処理を行う際には、流量
コントローラ６０を通過した液体ソースをバッチごとに
回収できないので、再び気化動作を開始した場合にパイ
プ５１への液体ソースの供給量のコントロールが難し
く、気化した液体ソースを供給するのにバッチによる繰
り返し精度が不安定になりかねない。Further, since the housing 66 accommodating the heater block 52, the liquid introduction pipe 58, and the carrier gas introduction pipe 64 is provided in order to vaporize the liquid source without being affected by the external temperature, the apparatus itself becomes large. ing.
Further, when performing a batch process with the present liquid vaporizer, the liquid source that has passed through the flow rate controller 60 cannot be collected for each batch. Therefore, when the vaporization operation is started again, the control of the supply amount of the liquid source to the pipe 51 is performed. It is difficult to supply the vaporized liquid source, and the repetition accuracy by the batch may become unstable.
【０００７】そこで、本発明は、かかる課題を解決すべ
く、液体ソースを気化させる構成を簡易なものとして装
置自体を安価なものとし、またバッチ処理によって液体
ソースを気化させる際の繰り返し精度を向上させた液体
気化装置を提供することを目的をする。[0007] In order to solve the above problems, the present invention provides a simple structure for vaporizing a liquid source, makes the apparatus itself inexpensive, and improves the repetition accuracy in vaporizing the liquid source by batch processing. It is an object of the present invention to provide a liquid vaporizer that has been made to work.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成すべ
く、本発明の流体気化装置は、垂直に立設され、上端が
気化した液体ソースを利用する処理装置側に接続され、
下端が供給された液体ソースを充填する圧送タンクに接
続された管部材と、前記管部材の上部に少なくとも２系
統に設けられたヒータと、前記圧送タンク内に充填され
た液体ソースを前記管部材へ所定量供給する当該圧送タ
ンク内に設けられた定量ポンプと、前記圧送タンク内へ
液体ソースを供給する液体ソース供給手段と、前記ヒー
タ、定量ポンプ、及び液体ソース供給手段の動作を制御
する制御手段とを有することを特徴とする。In order to achieve the above object, a fluid vaporizer according to the present invention is vertically erected, and the upper end thereof is connected to a processing apparatus using a vaporized liquid source.
A pipe member connected at a lower end to a pressure feeding tank for filling the supplied liquid source, heaters provided in at least two systems above the pipe member, and a liquid source filled in the pressure feeding tank to the pipe member. Control pump for controlling the operation of the heater, the metering pump, and the liquid source supply unit, a liquid source supply unit for supplying a liquid source into the pressure supply tank, Means.
【０００９】従って、本発明の流体気化装置では、一連
の動作は制御手段によって制御され、定量ポンプの動作
によって液体ソース供給手段から圧送タンク内に充填さ
れた液体ソースを管部材内へ下方から圧送し、その液面
がヒータの設けられた所定位置に達したところで液体ソ
ースが加熱され気化される。そのヒータは少なくとも２
系統であるため、一方で気化され、他方で気化状態が維
持される。バッチ処理に際しては、バッチごとに定量ポ
ンプの動作によって液体ソースの液面を上下させて、ヒ
ータによる上方加熱位置と気化しない場合の下方の待機
位置とを調整する。よって、液体ソースを気化させる構
成を簡易なものとして装置自体を安価なものとし、また
バッチ処理によって液体ソースを気化させる際の繰り返
し精度を向上させた液体気化装置を提供することが可能
となる。Therefore, in the fluid vaporizer of the present invention, a series of operations are controlled by the control means, and the liquid source filled in the pressure supply tank is pressure-fed from the liquid source supply means into the pipe member from below by the operation of the metering pump. When the liquid level reaches a predetermined position where a heater is provided, the liquid source is heated and vaporized. The heater must be at least 2
Since it is a system, it is vaporized on the one hand and the vaporized state is maintained on the other hand. At the time of batch processing, the liquid level of the liquid source is moved up and down by the operation of the metering pump for each batch, and the upper heating position by the heater and the lower standby position when no vaporization is performed are adjusted. Therefore, it is possible to provide a liquid vaporization apparatus in which the configuration for vaporizing the liquid source is simplified, the apparatus itself is inexpensive, and the repetition accuracy in vaporizing the liquid source by batch processing is improved.
【００１０】また、本発明の液体気化装置は、前記管部
材の途中にあって、前記ヒータの下位に設けられたメイ
ンバルブを有することを特徴とする。従って、液体ソー
スを気化しない場合には、定量ポンプによって液面を下
方にまで下げてメインバルブを閉じれば、液体ソースは
ヒータが設けられた気化部と完全に遮断されるので、一
切の気化が停止され気化操作の正確性が向上する。その
ため、メインバルブをヒータから遠い場所に設置するこ
とが可能であり、必ずしも高温対応バルブとする必要が
なく、部品のコストダウンや信頼性の向上が図れる。Further, the liquid vaporizer of the present invention is characterized in that it has a main valve provided in the middle of the pipe member and provided below the heater. Therefore, when the liquid source is not vaporized, if the liquid level is lowered to below by the metering pump and the main valve is closed, the liquid source is completely shut off from the vaporizing section provided with the heater, and any vaporization is performed. It is stopped and the accuracy of the vaporization operation is improved. Therefore, it is possible to install the main valve at a place far from the heater, and it is not always necessary to use a high-temperature-adaptive valve, so that the cost of parts and the reliability can be improved.
【００１１】また、本発明の液体気化装置は、前記液体
ソース供給手段が、前記メインバルブより下位に配設さ
れたリザーブタンクを有し、そのリザーブタンクは、液
体ソースが途中まで満たされ、気層部分が一定圧に調整
された化学的に不活性な圧力源と前記管部材とに各々バ
ルブを介して接続され、液層部分が前記圧送タンクにバ
ルブを介して接続されたものであることを特徴とする。
従って、圧力源に接続されたバルブを開いて管部材とリ
ザーブタンク内の気圧を一定圧にすることで液体ソース
の液面を一致させることができるので、そのリザーブタ
ンク内に供給される液体ソースの液面を調整すること
で、管部材内の液体ソースの液面を所定の基準高さに設
定することができ、定量ポンプによってその液面を設定
する際の制御がより正確なものとなり、液体ソースを気
化させる際の繰り返し精度を向上させた液体気化装置を
提供することが可能となる。Further, in the liquid vaporizer of the present invention, the liquid source supply means has a reserve tank disposed below the main valve, and the reserve tank is partially filled with the liquid source, The layer portion is connected to a chemically inert pressure source adjusted to a constant pressure and the pipe member via a valve, respectively, and the liquid layer portion is connected to the pumping tank via a valve. It is characterized by.
Accordingly, by opening the valve connected to the pressure source and keeping the pressure in the pipe member and the pressure in the reserve tank constant, the liquid level of the liquid source can be matched, so that the liquid source supplied into the reserve tank can be adjusted. By adjusting the liquid level of the liquid source, the liquid level of the liquid source in the pipe member can be set to a predetermined reference height, and the control when setting the liquid level by the metering pump becomes more accurate, It is possible to provide a liquid vaporizer in which the repetition accuracy when vaporizing the liquid source is improved.
【００１２】また、本発明の液体気化装置は、前記管部
材に設けられた前記ヒータを気密な状態で画設する外部
配管と、前記管部材と外部配管とによって囲まれた気密
な空間を真空にするための真空ポンプと、前記管部材を
急速に冷却すべく冷却媒体を前記空間内へ供給するため
の冷却媒体供給源とを有することを特徴とする。従っ
て、空間を真空状態にすることで外部への熱の拡散を防
止し、液体ソースを気化させるヒータの熱効率を良く
し、制御の正確性も向上させることができる。また、緊
急時には冷却媒体を空間へ供給することで気化した液体
ソースを早急に再液化することができる。また、本発明
の液体気化装置は、管部材の加熱部分をガラス又はセラ
ミックで形成したことを特徴とする。従って、耐腐食性
に優れるとともに、熱効率もよい。Further, in the liquid vaporizer of the present invention, the airtight space enclosed by the external pipe and the external pipe which defines the heater provided in the pipe member in an airtight state is evacuated. And a cooling medium supply source for supplying a cooling medium into the space in order to rapidly cool the pipe member. Therefore, by setting the space in a vacuum state, diffusion of heat to the outside can be prevented, the thermal efficiency of the heater for vaporizing the liquid source can be improved, and the control accuracy can be improved. In an emergency, the vaporized liquid source can be quickly re-liquefied by supplying the cooling medium to the space. Further, the liquid vaporizer of the present invention is characterized in that the heating portion of the tube member is formed of glass or ceramic. Therefore, it has excellent corrosion resistance and good thermal efficiency.
【００１３】また、本発明の液体気化装置は、垂直に立
設された管部材の下方から定量ポンプによって液体ソー
スを供給して所定位置にまで当該液体ソースの液面を上
昇させ、前記所定位置に設けられたヒータで加熱するこ
とによって液体ソースを気化させるものであって、気化
によって低下する液体ソースの液面の位置を定量ポンプ
の動作によって所定位置に保つことを特徴とする。気化
量の大小は、液体ソースに加える熱量を加減することに
より可能となり、その場合、液面を一定に保つために
は、定量ポンプの吐出量を加減することにほかならな
い。従って、液体ソースを気化させる構成を簡易なもの
として装置自体を安価なものとし、またバッチ処理によ
って液体ソースを気化させる際の繰り返し精度を向上さ
せた液体気化装置を提供することが可能となる。In the liquid vaporizer of the present invention, the liquid source is supplied from below the vertically erected pipe member by a constant-rate pump to raise the liquid level of the liquid source to a predetermined position. The liquid source is vaporized by being heated by a heater provided in the apparatus, and the position of the liquid level of the liquid source, which is reduced by the vaporization, is kept at a predetermined position by the operation of the metering pump. The amount of vaporization is made possible by adjusting the amount of heat applied to the liquid source. In this case, the only way to maintain the liquid level is to adjust the discharge amount of the metering pump. Therefore, it is possible to provide a liquid vaporizing apparatus in which the configuration for vaporizing the liquid source is simplified, the apparatus itself is inexpensive, and the repetition accuracy in vaporizing the liquid source by batch processing is improved.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】次に、本発明にかかる液体気化装
置について具体的に説明する。図１、図２は、液体気化
装置の一実施の形態を示したブロック図である。本液体
気化装置は、所定の高さに液面（以下、気化面という）
を設定し、その液面高さを維持しながら加熱し気化する
ものである。先ず、ＴＥＯＳなどの液体ソースを気化さ
せるチューブ１が立設され、その下端はベローズポンプ
２を備えた圧送タンク３に接続されている。チューブ１
は、耐腐食性に良好なガラス若しくはセラミックによっ
て形成されている。そして、そのチューブ１には、気化
面４より下位に圧送タンク３側の液体ソースを遮断する
メインバルブ５が設けられている。設定された気化面４
が位置するチューブ１外周には電熱線が巻かれ、液体ソ
ースを気化するための第１ヒータ６をなしている。ま
た、液体ソースが気化された状態で存在するチューブ１
の上方には、その気化状態を維持するための第２ヒータ
７が巻かれている。Next, a liquid vaporizer according to the present invention will be specifically described. 1 and 2 are block diagrams showing an embodiment of a liquid vaporizer. The liquid vaporizer has a liquid surface at a predetermined height (hereinafter referred to as a vaporized surface).
And heats and vaporizes while maintaining the liquid level. First, a tube 1 for evaporating a liquid source such as TEOS is erected, and the lower end thereof is connected to a pressure feed tank 3 having a bellows pump 2. Tube 1
Is made of glass or ceramic having good corrosion resistance. The tube 1 is provided with a main valve 5 that shuts off the liquid source on the side of the pressure feed tank 3 below the vaporization surface 4. Set vaporization surface 4
A heating wire is wound around the outer periphery of the tube 1 at which is located, and forms a first heater 6 for vaporizing the liquid source. The tube 1 in which the liquid source exists in a vaporized state
Above is a second heater 7 for maintaining the vaporized state.
【００１５】第１ヒータ６及び第２ヒータ７が設けられ
たチューブ１上部は、熱の拡散を防止するため外部配管
８によって気密に画設され、その外部配管８にはチュー
ブ１と外部配管８との空間９を真空状態にする真空ポン
プ１０が真空導入バルブ１１を介して接続されている。
また、外部配管８は、空間９内に冷却媒体であるＮ2ガ
スを供給すべくＮ2 導入バルブ１２を介して不図示のＮ
2 源１３に接続されている。そして、チューブ１の上端
は反応チャンバ１４に接続されている。反応チャンバ１
４は、気化した液体ソースとともに、アシストガスとの
混合ガスとして供給すべく図示しない気相成膜装置（た
とえばプラズマＣＶＤ装置等）に接続されている。The upper portion of the tube 1 provided with the first heater 6 and the second heater 7 is airtightly defined by an external pipe 8 for preventing heat diffusion, and the external pipe 8 includes the tube 1 and the external pipe 8. A vacuum pump 10 for evacuating the space 9 is connected via a vacuum introduction valve 11.
In addition, the external piping 8 is connected to an N 2 supply valve 12 (not shown) to supply N 2 gas as a cooling medium into the space 9.
It is connected to two sources 13. The upper end of the tube 1 is connected to the reaction chamber 14. Reaction chamber 1
Numeral 4 is connected to a vapor phase film forming apparatus (for example, a plasma CVD apparatus or the like) (not shown) so as to supply the mixed gas with the assist gas together with the vaporized liquid source.
【００１６】一方、圧送タンク３には、液体導入バルブ
２０を介してリザーブタンク２１が接続されている。リ
ザーブタンク２１は、立設されたチューブ１のメインバ
ルブ５より下位に設けられ、バッチサイクルにおける液
体ソースの開始基準面１６（図２参照）とリザーブタン
ク２１内の液体ソースの液面とを同一にすべく、バルブ
２２を介して接続されている。また、リザーブタンク２
１は、タンク内の気圧を調整するために、バルブ２３を
介して一定圧に調圧された不活性ガス（例えばＮ2 ガス
等）源に接続されている。そして、リザーブタンク２１
は、液体ソースを蓄えたメインタンク２４に接続されて
いる。メインタンク２４には、その液体ソースをリザー
ブタンク２１側へ圧送すべく、Ｎ2 ガスなどの不活性ガ
スを供給してタンク内の圧力を上げる加圧源２５が接続
されている。メインタンク２４と加圧源２５、メインタ
ンク２４とリザーブタンク２１とを接続する配管には、
それぞれコック２６、ガス導入バルブ２７及びコック２
８、液体導入バルブ２９が設けられている。On the other hand, a reserve tank 21 is connected to the pressure feed tank 3 via a liquid introduction valve 20. The reserve tank 21 is provided below the main valve 5 of the erected tube 1 and has the same reference surface 16 (see FIG. 2) of the liquid source in the batch cycle as the liquid surface of the liquid source in the reserve tank 21. Is connected via a valve 22. Also, reserve tank 2
Numeral 1 is connected to a source of an inert gas (for example, N 2 gas or the like) adjusted to a constant pressure via a valve 23 in order to adjust the atmospheric pressure in the tank. And the reserve tank 21
Are connected to a main tank 24 storing a liquid source. The main tank 24 is connected to a pressurizing source 25 for supplying an inert gas such as N 2 gas to increase the pressure in the tank in order to pressurize the liquid source to the reserve tank 21 side. The piping connecting the main tank 24 and the pressurizing source 25 and the main tank 24 and the reserve tank 21 includes:
Cock 26, gas introduction valve 27 and cock 2 respectively
8. A liquid introduction valve 29 is provided.
【００１７】次いで、本液体気化装置は、その自動制御
を管理するコントローラ３１が設けられている。そのコ
ントローラ３１は、例えばＣＰＵや動作プログラムが記
憶されたメモリが内蔵されている。コントローラ３１
は、先ずヒータケーブルによってチューブ１に巻回され
た第１ヒータ６及び第２ヒータ７にそれぞれ接続され、
その温度検出を行う第１温度センサ３２及び第２温度セ
ンサ３３にもセンサケーブルによって接続されている。
また、コントローラ３１は、流路系に設けられた前記各
バルブ５，１１，１２，２０，２２，２３，２７，２９
の開閉を制御すべく信号線を介して接続されている。そ
して、リザーブタンク２１には、その中に蓄えられた液
体ソースの液面を検出する液面検出センサ３４が設けら
れ、それがコントローラ３１にセンサーケーブルを介し
て接続されている。更に、チューブ１内の液体ソースの
液面を調整するベローズポンプ２にはポンプコントロー
ラ３５が接続され、そのポンプコントローラ３５がコン
トローラ３１に接続されている。Next, the liquid vaporizer is provided with a controller 31 for managing the automatic control thereof. The controller 31 has, for example, a CPU and a memory in which an operation program is stored. Controller 31
Are respectively connected to the first heater 6 and the second heater 7 wound around the tube 1 by a heater cable,
The first temperature sensor 32 and the second temperature sensor 33 that perform the temperature detection are also connected by a sensor cable.
Further, the controller 31 includes the valves 5, 11, 12, 20, 22, 23, 27, 29 provided in the flow path system.
Are connected via signal lines to control the opening and closing of the The reserve tank 21 is provided with a liquid level detection sensor 34 for detecting the liquid level of the liquid source stored therein, which is connected to the controller 31 via a sensor cable. Further, a pump controller 35 is connected to the bellows pump 2 for adjusting the liquid level of the liquid source in the tube 1, and the pump controller 35 is connected to the controller 31.
【００１８】次に、本流体気化装置の動作について説明
する。先ず、バルブ５が閉状態、コック２６，２８が開
状態にあり、コントローラ３１からの開信号によりガス
導入バルブ２７が開かれ、メインタンク２４に加圧源２
５からのＮ2 ガスなどが供給される。また、コントロー
ラ３１からの開信号により液体導入バルブ２９，２０及
びバルブ２２，２３も開かれているので、メインタンク
２４内の気圧の上昇によって、蓄えられていた液体ソー
スがリザーブタンク２１内へ圧送され、更には、圧送タ
ンク３及びチューブ１へ液体ソースが流れ込むこととな
る。Next, the operation of the fluid vaporizer will be described. First, the valve 5 is closed, the cocks 26 and 28 are open, the gas introduction valve 27 is opened by an open signal from the controller 31, and the pressurized source 2
The N 2 gas from 5 is supplied. Further, since the liquid introduction valves 29 and 20 and the valves 22 and 23 are also opened by an open signal from the controller 31, the stored liquid source is pressure-fed into the reserve tank 21 by an increase in the pressure in the main tank 24. Then, the liquid source flows into the pressure feed tank 3 and the tube 1.
【００１９】このとき、バルブ２３が開状態のあるため
リザーブタンク２１内は調圧された加圧源２５より低い
圧力となり、その加圧源２５からの加圧に従ってリザー
ブタンク２１内の液面が上昇する。一方、バルブ５が閉
状態、バルブ２２が開状態にあることから、チューブ１
の液面上方の気層部もリザーブタンク２１内の気層部と
同一圧力となり、チューブ１及びリザーブタンク２１内
の液面は一致する。そのため、液面検出センサ３４によ
ってリザーブタンク２１内の液面を検出することで、バ
ッチサイクルにおける開始基準面１６を確認する（図２
参照）。直接チューブ１に液面検出センサ３４を設けな
いのは、リザーブタンク２１の断面積を大きくすること
で、液面上昇速度を遅くすることにより液面検出精度を
向上させるためである。そこで、チューブ１内の液面が
開始基準面１６に達したならば、その検出信号を受けた
コントローラ３１から閉信号が送信され、液体導入バル
ブ２９、バルブ２２及び液体導入バルブ２０が閉じられ
る。このようにして、チューブ１及び圧送タンク３内へ
の液体ソースの充填を完了する。At this time, since the valve 23 is in the open state, the pressure inside the reserve tank 21 becomes lower than the regulated pressure source 25, and the liquid level in the reserve tank 21 rises according to the pressure from the pressure source 25. Rise. On the other hand, since the valve 5 is closed and the valve 22 is open, the tube 1
The gas layer above the liquid level in the reservoir 1 also has the same pressure as the gas layer in the reserve tank 21, and the liquid levels in the tube 1 and the reserve tank 21 match. Therefore, the start reference plane 16 in the batch cycle is confirmed by detecting the liquid level in the reserve tank 21 by the liquid level detection sensor 34 (FIG. 2).
reference). The reason why the liquid level detection sensor 34 is not provided directly on the tube 1 is to improve the liquid level detection accuracy by increasing the cross-sectional area of the reserve tank 21 to reduce the liquid level rising speed. Therefore, when the liquid level in the tube 1 reaches the start reference plane 16, a closing signal is transmitted from the controller 31 which has received the detection signal, and the liquid introduction valve 29, the valve 22, and the liquid introduction valve 20 are closed. Thus, the filling of the tube 1 and the pressure feed tank 3 with the liquid source is completed.
【００２０】一方、このような充填に伴ってチューブ１
への加熱が行われる。チューブ１を上昇した液体ソース
を気化させる気化面４（図１参照）が位置するチューブ
１の所定箇所、及びその液体ソースが気化した状態で存
在する気化面４上方を第１ヒータ６及び第２ヒータ７に
よって加熱する。第１ヒータ６及び第２ヒータ７の温度
は、第１温度センサ３２及び第２温度センサ３３によっ
て検出され、常に適当な温度になるようコントローラ３
１によって制御されている。また、真空ポンプ１０によ
って外部配管８内の空間９は真空状態にされ、断熱効果
が発揮されている。On the other hand, the tube 1
Heating is performed. A first heater 6 and a second heater 2 are provided at a predetermined position of the tube 1 where the vaporizing surface 4 (see FIG. 1) for evaporating the liquid source which has risen the tube 1 and above the vaporizing surface 4 where the liquid source is vaporized. Heated by the heater 7. The temperatures of the first heater 6 and the second heater 7 are detected by the first temperature sensor 32 and the second temperature sensor 33, and the controller 3 controls the temperature so that it always becomes an appropriate temperature.
1 is controlled. Further, the space 9 in the external pipe 8 is evacuated by the vacuum pump 10 to exhibit a heat insulating effect.
【００２１】次いで、液体ソースの圧送及び気化プロセ
スについて説明する。前述したように開始基準面１６に
まで液体ソースが充填されたところで、気化プロセスの
開始信号をコントローラ３１が受け、メインバルブ５へ
開信号が、ポンプコントローラ３５へ動作信号が送信さ
れる。そのため、メインバルブ５が開き、ポンプコント
ローラ３５の操作によってベローズポンプ２が動作す
る。ベローズポンプ２の上下動作により、圧送タンク３
内の有効容積が変化する。従って、ベローズポンプ２が
上方に伸びて圧送タンク３内の容積が減少することによ
って、その圧送タンク３内の液体ソースはチューブ１へ
流れ込む。そのため、チューブ１内に充填された液体ソ
ースの液面は開始基準面１６から除々に上昇し、気化面
４にまで達する。Next, the process of pumping and vaporizing the liquid source will be described. As described above, when the liquid source is filled up to the start reference plane 16, the controller 31 receives a start signal of the vaporization process, and sends an open signal to the main valve 5 and an operation signal to the pump controller 35. Therefore, the main valve 5 is opened, and the bellows pump 2 operates by the operation of the pump controller 35. The vertical movement of the bellows pump 2 causes the pressure feed tank 3
The effective volume inside changes. Therefore, as the bellows pump 2 extends upward and the volume in the pumping tank 3 decreases, the liquid source in the pumping tank 3 flows into the tube 1. Therefore, the liquid level of the liquid source filled in the tube 1 gradually rises from the starting reference plane 16 and reaches the vaporization plane 4.
【００２２】このとき、液体導入バルブ２０は閉じられ
ているため、圧送タンク３内の液体ソースがリザーブタ
ンク２１へ逆流することはなく。また、バルブ２２が閉
じられているため、チューブ１内の液体ソースがリザー
ブタンク２１へ流れ込むこともない。従って、ベローズ
ポンプ２の動作による液体ソースのチューブ１への送り
込み量は、開始基準面１６と気化面４との間の体積とし
て予め分かっているので、ベローズポンプ２のストロー
クに比例してチューブ１内へ液体ソースが圧送され、そ
の液面の上昇を精度良く調整できる。At this time, since the liquid introduction valve 20 is closed, the liquid source in the pressure feed tank 3 does not flow backward to the reserve tank 21. Further, since the valve 22 is closed, the liquid source in the tube 1 does not flow into the reserve tank 21. Therefore, the amount of the liquid source fed into the tube 1 by the operation of the bellows pump 2 is known in advance as the volume between the starting reference surface 16 and the vaporizing surface 4, so that the tube 1 is proportional to the stroke of the bellows pump 2. The liquid source is pressure-fed into the inside, and the rise of the liquid level can be adjusted accurately.
【００２３】液体ソースの液面がチューブ１内を気化面
４まで上昇したところで、液体ソースが加熱され、その
液体ソースが液面から除々に気化されていく。気化され
た液体ソースは、チューブ１内を上昇し反応チャンバ１
４へと取り込まれる。このとき、第２ヒータ７により加
熱されるので、一旦気化した液体ソースが再液化するこ
とはない。このように、チューブ１内を液体ソースが上
昇し気化する過程において、第１ヒータ６は、気化面４
が位置する気化部を、そして第２ヒータ７は液体ソース
が気化した状態で位置する保温部を加熱するため、それ
ぞれの伝熱量が異なる。しかし、第１ヒータ６及び第２
ヒータ７は、コントローラ３１によって個別に温度制御
が行われているため、それぞれが常に適当な温度に保た
れている。よって、加熱された液体ソースの気化量は安
定するため、その気化に伴う液体ソースの液面の下降速
度が分かる。When the liquid level of the liquid source rises in the tube 1 to the vaporizing surface 4, the liquid source is heated, and the liquid source is gradually vaporized from the liquid surface. The vaporized liquid source rises inside the tube 1 and goes into the reaction chamber 1
It is taken into 4. At this time, since the liquid source is heated by the second heater 7, the liquid source once vaporized does not re-liquefy. As described above, in the process in which the liquid source rises and evaporates in the tube 1, the first heater 6 causes
Since the second heater 7 heats the vaporizing section where the liquid source is located and the second heater 7 heats the heat retaining section where the liquid source is vaporized, the respective heat transfer amounts are different. However, the first heater 6 and the second heater 6
Since the temperature of the heaters 7 is individually controlled by the controller 31, each of the heaters 7 is always maintained at an appropriate temperature. Therefore, since the amount of vaporization of the heated liquid source is stabilized, the descending speed of the liquid level of the liquid source accompanying the vaporization can be known.
【００２４】コントローラ３１には、使用する液体ソー
スの目的の気化ガス供給量に対する温度とベローズポン
プ２による送り込み量との関係がデータとして記憶され
ている。従って、気化面４の液体ソースが刻々気化して
消費されるのに対し、ベローズポンプ２が定量づつ上方
に伸びて圧送タンク３内の容積を減少させることによっ
て、その圧送タンク３内の液体ソースをチューブ１へ一
定量圧送し続ける。そのため、気化による液体ソースの
消費量分が補われ、その液面が常に気化面４に一致する
こととなる。また、このように液体ソースの液面を気化
面４に常に一致させることによって気化量が安定し、正
確な制御が行える。このような液体ソースの気化、及び
気化に伴うベローズポンプ２による液体ソースの圧送プ
ロセスは、半導体製造チャンバのバッチ処理の限られた
時間内続けられる。The controller 31 stores, as data, the relationship between the temperature of the liquid source to be used and the amount of the vaporized gas supplied by the bellows pump 2 with respect to the supply amount of the vaporized gas. Accordingly, while the liquid source on the vaporizing surface 4 is vaporized and consumed every moment, the bellows pump 2 extends upward by a fixed amount to reduce the volume in the pressure feed tank 3, thereby reducing the liquid source in the pressure feed tank 3. To the tube 1 by a constant amount. Therefore, the consumed amount of the liquid source due to the vaporization is compensated for, and the liquid level always coincides with the vaporized surface 4. In addition, by always making the liquid level of the liquid source coincide with the vaporizing surface 4, the amount of vaporization is stabilized, and accurate control can be performed. Such a vaporization of the liquid source and a pumping process of the liquid source by the bellows pump 2 accompanying the vaporization are continued within a limited time of the batch processing in the semiconductor manufacturing chamber.
【００２５】次いで、気化及び圧送プロセスの終了後の
気化終了プロセスについて説明する。コントローラ３１
が気化プロセスの終了信号を受け取ると、コントローラ
３１からポンプコントローラ３５へ信号が送信され、ベ
ローズポンプ２の引き込み動作が行われる。従って、ベ
ローズポンプ２が下方に縮んで圧送タンク３内の容積が
増加すると、チューブ１内の液体ソースが圧送タンク３
内へ引き戻され、その液体ソースの液面が開始基準面１
６か或いはそれ以下にまで引き下げられる。そして、そ
のベローズポンプ２の動作終了後にコントローラ３１か
らの信号によってメインバルブ５が閉じられる。そのた
め、液体ソースは、第１ヒータ６の設けられたチューブ
１の気化部と完全に遮断され気化されることはなくな
る。Next, a vaporization ending process after the vaporization and pressure feeding process is completed will be described. Controller 31
Receives the end signal of the vaporization process, a signal is transmitted from the controller 31 to the pump controller 35, and the drawing operation of the bellows pump 2 is performed. Therefore, when the bellows pump 2 contracts downward and the volume in the pressure feed tank 3 increases, the liquid source in the tube 1 is
Is pulled back into the liquid source and the liquid level of the liquid source is changed to the starting reference plane 1
Reduced to 6 or less. After the operation of the bellows pump 2, the main valve 5 is closed by a signal from the controller 31. Therefore, the liquid source is completely shut off from the vaporizing portion of the tube 1 provided with the first heater 6, and is not vaporized.
【００２６】ところで、半導体製造装置が気化プロセス
を実行していないときは（例えば、ウェハのアンドロー
ド、ロード、冷却時、昇温時など）、コントローラ３１
に記憶された準備プログラムによって、次のバッチ処理
に備えた液体ソースの充填が実行される。充填処理は前
述したと同様に、メインタンク２４内の気圧の上昇によ
って蓄えられていた液体ソースがリザーブタンク２１内
へ圧送され、更には、圧送タンク３及びチューブ１へ液
体ソースが供給され、その液面が開始基準面１６に位置
するよう設定される。そして、再び、気化プロセスが開
始されたならば、チューブ１内を液体ソースが上昇し気
化される。By the way, when the semiconductor manufacturing apparatus is not performing the vaporization process (for example, when loading and unloading, loading, cooling, and raising the temperature of the wafer), the controller 31
Is filled with the liquid source in preparation for the next batch process. In the filling process, as described above, the liquid source stored due to the increase in the atmospheric pressure in the main tank 24 is pressure-fed into the reserve tank 21, and further, the liquid source is supplied to the pressure-feed tank 3 and the tube 1. The liquid level is set so as to be located at the start reference plane 16. Then, when the vaporization process is started again, the liquid source rises in the tube 1 and is vaporized.
【００２７】また、本液体気化装置では、バッチ処理中
に緊急事態が発生し液体ソースの気化を止めなければな
らない場合には、液体ソースの緊急遮断が実行される。
即ち、コントローラ３１へ緊急遮断信号が入ると、その
コントローラ３１から発信される信号を受けたポンプコ
ントローラ３５によってベローズポンプ２が即座に引き
込まれる。従って、気化面４にまで充填されていたチュ
ーブ１内の液体ソースは、その液面が一気にメインバル
ブ５下位にまで下げられ、コントローラ３１からの信号
を受けたメインバルブ５が閉じられる。よって、液体ソ
ースは、瞬時にチューブ１の気化部との間で遮断される
こととなる。また、その時点で既に気化された液体ソー
スは、冷却されて再び液化され反応チャンバ１４への送
り込みが阻止される。即ち、前記液面の下降と同時に、
コントローラ３１から真空導入バルブ１１へは閉信号
が、Ｎ2 導入バルブ１２へは開信号が送信される。その
ため、真空導入バルブ１１が閉じられるとともにＮ2 導
入バルブ１２が開かれることで、冷却媒体であるＮ2 ガ
スがＮ2 源１３から空間９へ供給されてチューブ１内が
冷却され、気化された液体ソースが再び液化されること
となる。Further, in the present liquid vaporizer, when an emergency occurs during the batch processing and the vaporization of the liquid source must be stopped, the liquid source is urgently shut off.
That is, when an emergency shutoff signal is input to the controller 31, the bellows pump 2 is immediately pulled in by the pump controller 35 which has received the signal transmitted from the controller 31. Accordingly, the liquid source in the tube 1 that has been filled up to the vaporization surface 4 is immediately lowered to the lower level of the main valve 5 and the main valve 5 that has received the signal from the controller 31 is closed. Therefore, the liquid source is instantly shut off between the liquid source and the vaporizing part of the tube 1. Further, the liquid source that has already been vaporized at that time is cooled and liquefied again, so that the liquid source is prevented from being sent into the reaction chamber 14. That is, simultaneously with the drop of the liquid level,
A close signal is transmitted from the controller 31 to the vacuum introduction valve 11, and an open signal is transmitted to the N 2 introduction valve 12. Therefore, when the vacuum introduction valve 11 is closed and the N 2 introduction valve 12 is opened, N 2 gas as a cooling medium is supplied from the N 2 source 13 to the space 9, and the inside of the tube 1 is cooled and vaporized. The liquid source will be liquefied again.
【００２８】以上説明した本実施の形態の液体気化装置
は、第１ヒータ６によって加熱したチューブ１の気化面
４に液体ソースの液面を設定し、そこで気化させる方法
をとったものであるため、その基本構造としてチューブ
１、ベローズポンプ２を備えた圧送タンク３及びメイン
バルブ５からなるため、その構成が簡素化されたことに
より装置自体のコストを安価なものとすることができ
た。また、これらは小さい部品で構成することも可能で
あり、液体気化装置の小型化を図ることができた。ま
た、メインバルブ５を必ずしも高温対応型とする必要が
なくなり、部品のコストダウンや信頼性の向上が図られ
た。また、気化に際しベローズポンプ２のストロークに
よって液体ソースの液面を気化面４に常に一致するよう
調整し、第１ヒータ６及び第２ヒータ７の温度を常に適
温にするよう構成したことで、バッチ処理に際し安定し
た気化の供給ができ、その制御も簡易なものとなった。
更に、液体ソースは第１ヒータ６が設けられた気化部と
完全に遮断し、一切の気化を停止するので気化操作の正
確性が向上した。The liquid vaporizer of the present embodiment described above employs a method in which the liquid surface of the liquid source is set on the vaporizing surface 4 of the tube 1 heated by the first heater 6 and vaporized there. Since the basic structure is composed of the pressure feeding tank 3 having the tube 1, the bellows pump 2, and the main valve 5, the structure is simplified, and the cost of the apparatus itself can be reduced. Further, these can be constituted by small components, and the size of the liquid vaporizer can be reduced. In addition, the main valve 5 does not necessarily have to be a high temperature compatible type, and cost reduction and reliability improvement of parts have been achieved. In addition, during the vaporization, the liquid level of the liquid source is adjusted by the stroke of the bellows pump 2 so as to always coincide with the vaporization surface 4, and the temperature of the first heater 6 and the second heater 7 is always set to an appropriate temperature. Stable vaporization was supplied during the treatment, and the control was simplified.
Further, the liquid source is completely shut off from the vaporizing section provided with the first heater 6, and all vaporization is stopped, so that the accuracy of the vaporizing operation is improved.
【００２９】また、緊急時にはベローズポンプ２とメイ
ンバルブ５との動作によって瞬時に液体ソースの遮断が
可能となり、安全性が向上された。冷却媒体であるＮ2
ガスの供給によってチューブ１を冷却することで、気化
された液体ソースを再び液化させるので緊急停止も完全
なものとできた。また、バルブ２２，２３を開いてチュ
ーブ１とリザーブタンク２１内の気圧を大気圧にするこ
とで液面を一致させ、そのリザーブタンク２１内に供給
する液体ソースの液面を調整することで、チューブ１内
の液体ソースの液面を開始基準面１６に設定するので、
ベローズポンプ２による液面の調整が正確に行うことが
でき、液体ソースを気化させる際の繰り返し精度を向上
させることができた。In an emergency, the operation of the bellows pump 2 and the main valve 5 allows the liquid source to be shut off instantaneously, thereby improving safety. N 2 as a cooling medium
By cooling the tube 1 by gas supply, the vaporized liquid source is liquefied again, so that the emergency stop can be completed completely. The valves 22 and 23 are opened to bring the pressure in the tube 1 and the reservoir tank 21 to the atmospheric pressure so that the liquid levels coincide, and the liquid level of the liquid source supplied into the reserve tank 21 is adjusted. Since the liquid level of the liquid source in the tube 1 is set to the start reference plane 16,
The liquid level could be accurately adjusted by the bellows pump 2, and the repetition accuracy in evaporating the liquid source could be improved.
【００３０】なお、本発明は、前記実施の形態のものに
限定されるわけではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で
様々な変更が可能である。たとえば、前記実施の形態で
はリザーブタンク内の液体ソースの液面を検出すること
で、チューブ１内の液体ソースの液面を開始基準面１６
に合わせるようにしたが、チューブ１内の液体ソースの
液面を直接検出することで、その液面を開始基準面１６
に合わせるようにしてもよい。It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiment, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above-described embodiment, by detecting the liquid level of the liquid source in the reserve tank, the liquid level of the liquid source in the tube 1 is changed to the start reference plane 16.
However, by directly detecting the liquid level of the liquid source in the tube 1, the liquid level is set to the start reference plane 16.
You may make it match.
【００３１】[0031]
【発明の効果】本発明は、垂直に立設され、上端が気化
した液体ソースを利用する処理装置側に接続され、下端
が供給された液体ソースを充填する圧送タンクに接続さ
れた管部材と、その管部材の上部に少なくとも２系統に
設けられたヒータと、圧送タンク内に充填された液体ソ
ースを管部材へ所定量供給する当該圧送タンク内に設け
られた定量ポンプと、圧送タンク内へ液体ソースを供給
する液体ソース供給手段と、ヒータ、定量ポンプ、及び
液体ソース供給手段の動作を制御する制御手段とを有す
る構成としたので、液体ソースを気化させる構成を簡易
なものとして装置自体を安価なものとし、またバッチ処
理によって液体ソースを気化させる際の繰り返し精度を
向上させた液体気化装置を提供することが可能となっ
た。According to the present invention, there is provided a pipe member which is vertically erected, the upper end of which is connected to a processing apparatus using a vaporized liquid source, and the lower end of which is connected to a pressure feed tank which fills the supplied liquid source. A heater provided in at least two systems above the pipe member, a metering pump provided in the pumping tank for supplying a predetermined amount of the liquid source filled in the pumping tank to the pipe member, and into the pumping tank. Since the liquid source supply means for supplying the liquid source, and the heater, the metering pump, and the control means for controlling the operation of the liquid source supply means are configured, the apparatus itself is simplified as a structure for vaporizing the liquid source. It has become possible to provide a liquid vaporizer that is inexpensive and has improved repetition accuracy when vaporizing a liquid source by batch processing.
【００３２】また、本発明は、管部材の途中にあって、
ヒータの下位に設けられたメインバルブを有する構成と
したので、液体ソースをヒータが設けられた気化部と完
全に遮断することができ、一切の気化が停止して気化操
作の正確性を向上させた、若しくは緊急時の安全性を向
上させた液体気化装置を提供することが可能となった。
また、本発明は、液体ソース供給手段が、メインバルブ
より下位に配設されたリザーブタンクを有し、そのリザ
ーブタンクは、液体ソースが途中まで満たされ、気層部
分が一定圧に調整された化学的に不活性な圧力源と管部
材とに各々バルブを介して接続され、液層部分が圧送タ
ンクにバルブを介して接続されるよう構成したので、リ
ザーブタンク内に供給する液体ソースの液面を調整する
ことで、管部材内の液体ソースの液面を所定の基準高さ
に設定することができ、定量ポンプによってその液面を
設定する際の制御がより正確なものとなり、液体ソース
を気化させる際の繰り返し精度を向上させた液体気化装
置を提供することが可能となった。Also, the present invention provides a method of
With the main valve provided below the heater, the liquid source can be completely shut off from the vaporization section provided with the heater, and all vaporization stops, improving the accuracy of the vaporization operation. Also, it has become possible to provide a liquid vaporizer with improved safety in an emergency.
Further, in the present invention, the liquid source supply means has a reserve tank disposed below the main valve, and the reserve tank is partially filled with the liquid source, and the gas layer is adjusted to a constant pressure. Since the liquid source is connected to the chemically inert pressure source and the pipe member via a valve, and the liquid layer portion is connected to the pumping tank via the valve, the liquid of the liquid source supplied into the reserve tank is provided. By adjusting the surface, the liquid level of the liquid source in the pipe member can be set to a predetermined reference height, and the control when setting the liquid level by the metering pump becomes more accurate, and the liquid source It has become possible to provide a liquid vaporizer in which the repetition accuracy when vaporizing is improved.
【００３３】また、本発明は、管部材に設けられたヒー
タを気密な状態で画設する外部配管と、管部材と外部配
管とによって囲まれた気密な空間を真空にするための真
空ポンプと、管部材を急速に冷却すべく冷却媒体を空間
内へ供給するための冷却媒体供給源とを有する構成とし
たので、空間を真空状態にすることで外部への熱の拡散
を防止し、液体ソースを気化させるヒータの熱効率が良
く、制御の正確性が向上した液体気化装置を、若しく
は、緊急時には冷却媒体を空間へ供給することで気化し
た液体ソースを早急に再液化する液体気化装置を提供す
ることが可能となった。また、本発明は、管部材の加熱
部分をガラス又はセラミックで形成したので、耐腐食性
に優れるとともに、熱効率のよい液体気化装置を提供す
ることが可能となった。Also, the present invention provides an external pipe for defining a heater provided in a pipe member in an airtight state, and a vacuum pump for evacuating an airtight space surrounded by the pipe member and the external pipe. And a cooling medium supply source for supplying a cooling medium into the space in order to rapidly cool the pipe member, so that the space is evacuated to prevent diffusion of heat to the outside, Provide a liquid vaporizer with a heater that vaporizes the source with good thermal efficiency and improved control accuracy, or a liquid vaporizer that immediately re-liquefies a vaporized liquid source by supplying a cooling medium to the space in an emergency. It became possible to do. Further, according to the present invention, since the heating portion of the tube member is formed of glass or ceramic, it is possible to provide a liquid vaporizer having excellent corrosion resistance and high thermal efficiency.
【００３４】また、本発明は、垂直に立設された管部材
の下方から定量ポンプによって液体ソースを供給して所
定位置にまで当該液体ソースの液面を上昇させ、所定位
置に設けられたヒータで加熱することによって液体ソー
スを気化させるものであって、気化によって低下する液
体ソースの液面の位置を定量ポンプの動作によって所定
位置に保つよう構成したので、液体ソースを気化させる
構成を簡易なものとして装置自体を安価なものとした液
体気化装置を、若しくはバッチ処理によって液体ソース
を気化させる際の繰り返し精度を向上させた液体気化装
置を提供することが可能となった。Further, according to the present invention, a liquid source is supplied from below a vertically erected tube member by a metering pump to raise the liquid level of the liquid source to a predetermined position, and a heater provided at a predetermined position is provided. Since the liquid source is vaporized by heating at a predetermined temperature, the position of the liquid surface of the liquid source, which is reduced by the vaporization, is maintained at a predetermined position by the operation of the metering pump, so that the configuration for vaporizing the liquid source is simplified. As a result, it has become possible to provide a liquid vaporizer in which the apparatus itself is inexpensive, or a liquid vaporizer in which the repetition accuracy in vaporizing a liquid source by batch processing is improved.
【図１】本発明にかかる液体気化装置の一実施の形態を
示したブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a liquid vaporizer according to the present invention.
【図２】本発明にかかる液体気化装置の一実施の形態を
示したブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing one embodiment of a liquid vaporizer according to the present invention.
【図３】従来の液体気化装置を示した概略構成図であ
る。FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a conventional liquid vaporizer.
１ チューブ ２ ベローズポンプ ３ 圧送タンク ４ 気化面 ５ メインバルブ ６ 第１ヒータ ７ 第２ヒータ ８ 外部配管 ９ 空間 １０ 真空ポンプ １６ 開始基準面 ２１ リザーブタンク １８ メインタンク ３１ コントローラ ３２ 第１温度センサ ３３ 第２温度センサ ３４ 液面検出センサ ３５ ポンプコントローラ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Tube 2 Bellows pump 3 Pressure tank 4 Vaporization surface 5 Main valve 6 First heater 7 Second heater 8 External piping 9 Space 10 Vacuum pump 16 Start reference plane 21 Reserve tank 18 Main tank 31 Controller 32 First temperature sensor 33 Second Temperature sensor 34 Liquid level detection sensor 35 Pump controller
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/285 Ｈ０１Ｌ 21/285 Ｃ 21/31 21/31 Ｂ ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 21/285 H01L 21/285 C 21/31 21/31 B
Claims (6)
ースを利用する処理装置側に接続され、下端が供給され
た液体ソースを充填する圧送タンクに接続された管部材
と、 前記管部材の上部に少なくとも２系統に設けられたヒー
タと、 前記圧送タンク内に充填された液体ソースを前記管部材
へ所定量供給する当該圧送タンク内に設けられた定量ポ
ンプと、 前記圧送タンク内へ液体ソースを供給する液体ソース供
給手段と、 前記ヒータ、定量ポンプ、及び液体ソース供給手段の動
作を制御する制御手段とを有することを特徴とする液体
気化装置。1. A pipe member which is vertically erected, an upper end of which is connected to a processing apparatus using a vaporized liquid source, and a lower end which is connected to a pressure feed tank which fills the supplied liquid source; A heater provided in at least two systems on the upper part of the pump, a metering pump provided in the pumping tank for supplying a predetermined amount of the liquid source filled in the pumping tank to the pipe member, and a liquid into the pumping tank. A liquid vaporizer comprising: a liquid source supply unit that supplies a source; and a control unit that controls operations of the heater, the metering pump, and the liquid source supply unit.
て、 前記管部材の途中にあって、前記ヒータの下位に設けら
れたメインバルブを有することを特徴とする液体気化装
置。2. The liquid vaporizer according to claim 1, further comprising a main valve provided in the middle of the pipe member and provided below the heater.
て、 前記液体ソース供給手段は、前記メインバルブより下位
に配設されたリザーブタンクを有し、 そのリザーブタンクは、液体ソースが途中まで満たさ
れ、気層部分が一定圧に調整された化学的に不活性な圧
力源と前記管部材とに各々バルブを介して接続され、液
層部分が前記圧送タンクにバルブを介して接続されたも
のであることを特徴とする液体気化装置。3. The liquid vaporizer according to claim 2, wherein the liquid source supply means has a reserve tank disposed below the main valve, and the reserve tank fills the liquid source partway. The gas layer portion is connected to a chemically inert pressure source adjusted to a constant pressure and the pipe member via a valve, respectively, and the liquid layer portion is connected to the pumping tank via a valve. A liquid vaporizer characterized by the following.
の液体気化装置において、 前記管部材に設けられた前記ヒータを気密な状態で画設
する外部配管と、 前記管部材と外部配管とによって囲まれた気密な空間を
真空にするための真空ポンプと、 前記管部材を急速に冷却すべく冷却媒体を前記空間内へ
供給するための冷却媒体供給源とを有することを特徴と
する液体気化装置。4. The liquid vaporizer according to claim 1, wherein an external pipe defining the heater provided in the pipe member in an airtight state, and the pipe member and the external pipe. And a vacuum pump for supplying a cooling medium into the space for rapidly cooling the pipe member. Liquid vaporizer.
の液体気化装置において、 管部材の加熱部分をガラス又はセラミックで形成したこ
とを特徴とする液体気化装置。5. The liquid vaporizer according to claim 1, wherein a heating portion of the tube member is formed of glass or ceramic.
ポンプによって液体ソースを供給して所定位置にまで当
該液体ソースの液面を上昇させ、前記所定位置に設けら
れたヒータで加熱することによって液体ソースを気化さ
せるものであって、気化によって低下する液体ソースの
液面の位置を定量ポンプの動作によって所定位置に保つ
ことを特徴とする液体気化装置。6. A liquid source is supplied by a metering pump from below a vertically erected pipe member, the liquid level of the liquid source is raised to a predetermined position, and the liquid source is heated by a heater provided at the predetermined position. A liquid source that vaporizes the liquid source, and maintains a liquid surface level of the liquid source that is reduced by the vaporization at a predetermined position by an operation of a metering pump.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP836498A JPH11200051A (en) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | Liquid vaporizer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP836498A JPH11200051A (en) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | Liquid vaporizer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11200051A true JPH11200051A (en) | 1999-07-27 |
Family
ID=11691192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP836498A Pending JPH11200051A (en) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | Liquid vaporizer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11200051A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100402678B1 (en) * | 2000-12-29 | 2003-10-22 | 주식회사 세미텔 | A evaporation vapor deposition system |
| JP2009530854A (en) * | 2006-03-20 | 2009-08-27 | ラサーク | Vaporizer for sending low vapor pressure gas |
| JP2011068920A (en) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Nakata Coating Co Ltd | Surface modification apparatus and surface modification method |
-
1998
- 1998-01-20 JP JP836498A patent/JPH11200051A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100402678B1 (en) * | 2000-12-29 | 2003-10-22 | 주식회사 세미텔 | A evaporation vapor deposition system |
| JP2009530854A (en) * | 2006-03-20 | 2009-08-27 | ラサーク | Vaporizer for sending low vapor pressure gas |
| JP2011068920A (en) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Nakata Coating Co Ltd | Surface modification apparatus and surface modification method |
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