JPH11160721A - 基板接合装置及びシール剤塗布用ノズル - Google Patents

基板接合装置及びシール剤塗布用ノズル

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JPH11160721A
JPH11160721A JP32920897A JP32920897A JPH11160721A JP H11160721 A JPH11160721 A JP H11160721A JP 32920897 A JP32920897 A JP 32920897A JP 32920897 A JP32920897 A JP 32920897A JP H11160721 A JPH11160721 A JP H11160721A
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substrate
unit
stage
cell
sealant
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JP32920897A
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Masaki Chokai
正樹 鳥海
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Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】2枚の基板を所定間隔をもって接合する際に、
生産効率を向上させることができる基板接合装置を提供
すること。 【解決手段】円板状に形成されカラーフィルタ基板Fを
固定する基板固定部70を複数有する回転ステージ21
と、回転ステージ21をその軸心線回りに所定方向に回
転駆動する駆動部22と、基板固定部70にカラーフィ
ルタ基板Fとアレイ基板Aとを積層して供給される基板
受け渡し部30と、カラーフィルタ基板Fに対しアレイ
基板Aを位置合わせする基板位置合わせ部40と、カラ
ーフィルタ基板Fとアレイ基板Aとの加圧を行う基板加
圧部50と、シール剤Sに紫外線を照射する紫外線照射
部60とを備えるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネルのセル
等に用いられる2枚の基板をシール剤を介して僅かな間
隔をもって接合する基板接合装置及びシール剤を基板上
に塗布するためのシール剤塗布用ノズルに関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置の液晶表示素子は、電極が
形成されたガラス、プラスチック等の基板に形成した電
極板を電極面を相対向して配置し、電極板をシール剤を
介して重ね合わせてシールしてセルを製造し、このセル
内部に電気光学的液体である液晶を封入したものであ
る。
【0003】このようなセルCは一般に図7に示すよう
な構造となっている。すなわち、カラーフィルタ基板F
とアレイ基板Aとがシール剤Sにより接合されている。
カラーフィルタ基板Fとアレイ基板Aとの間には、スペ
ーサTが配置されており、両基板F,Aの間隔を一定距
離に規定している。また、カラーフィルタ基板Fとアレ
イ基板Aにはそれぞれ透明電極(不図示)が形成されて
いる。そして、このセルCの両基板F,Aの間隙内に液
晶が流し込まれることになる。
【0004】従来、このようなセルCを製造する場合に
は、大きく分けて次のような3つの工程が行われる。す
なわち、カラーフィルタ基板Fとアレイ基板Aとを位置
合わせするアライメント工程と、両基板F,Aを加圧し
て両基板F,Aの間隔をスペーサTで規制されるまで近
接させる加圧工程、シール剤Sを硬化させる硬化工程で
ある。
【0005】また、シール剤Sには、熱硬化型のものと
紫外線硬化型のものがある。シール剤Sとして熱硬化型
のものを使用したときは、加圧・接合工程を先に行い、
その後、アライメント工程を行う。そして、加圧治具を
使い加圧した状態で加熱硬化を行う。
【0006】一方、シール剤Sとして、紫外線硬化型を
使用したときのアライメント工程では、一旦仮止め剤に
よってカラーフィルタ基板Fをアレイ基板A上に仮止め
し、図7に示すようなセルCが構成された状態となった
段階でアライメント工程を終了する。
【0007】さらに、セルCを加圧接合工程を行う加圧
接合装置(不図示)に搬送する。加圧接合装置では、カ
ラーフィルタ基板Fの背面側を所定荷重Pで加圧するこ
とによりカラーフィルタ基板Fをアレイ基板A側に近接
させる。このとき、カラーフィルタ基板Fとアレイ基板
Aとの間にはスペーサTが配置されているためスペーサ
Tの分の間隔が確保される。この状態でカラーフィルタ
基板Fとアレイ基板A全体に紫外線を照射し、シール剤
Sを硬化させ、接合を終了する。
【0008】また、仮止め工程を省き、かつ、アライメ
ント工程による位置合わせ精度を保つために上記各工程
を、単一の装置で行う、すなわちアレイ基板Aをマウン
トし、そのままアライメント、加圧、紫外線照射を行う
ようにしたものもあった。
【0009】一方、上述した基板接合装置にアレイ基板
Aとカラーフィルタ基板Fとを積層したものを供給する
前工程においては、アレイ基板Aにシール剤Sを塗布す
るシール剤塗布工程がある。
【0010】このシール剤塗布工程では、例えば図8に
示すような金属材製の容器1が用いられている。容器1
の底部には、ノズル2が一体成形されている。このよう
な容器1とノズル2とが一体化されたものでは、シール
剤Sを交換するたびに容器1の洗浄が必要であり、その
たびにシール剤Sの脱泡(空気抜き)を行うため大変効
率が悪いという問題があった。
【0011】このため、図9の(a)に示すように、使
い捨ての容器3とノズル4とが脱着可能となったものも
用いられている。容器3は、シール剤注入口3aと、ノ
ズル接続部3bと、このノズル接続部3b内に設けられ
た流路3cと、この流路3cの開口部である吐出口3d
とを備えている。ノズル4は、ノズル本体4aと、この
ノズル本体4a内に設けられた流路4bと、上述したノ
ズル接続口3bにネジ止めされるネジ止め部4cを備え
ている。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の基
板接合方法にあっては次のような問題があった。すなわ
ち、シール剤Sとして熱硬化型のものを用いた場合に
は、接合工程において、150℃前後の恒温炉中に8時
間程度入れる必要があり生産効率が低い上に、恒温炉中
では基板間ギャップを形成させるために加圧を必要とす
るため、加熱・熱膨張による影響とは別に加圧による重
ね合わせ精度の低下も発生している。
【0013】一方、シール剤Sとして紫外線硬化型のも
のを用いた場合には、アライメント工程を行うアライメ
ント装置と、加圧接合工程を行う加圧接合装置とが異な
る装置であるため、上述したように仮止め工程や搬送工
程が必要となり、基板効率及び生産効率が低くなるとい
う問題があった。
【0014】また、単一の装置でアライメント、加圧、
硬化を行う装置では、一旦装置にマウントした基板は、
接合が終了するまで装置から外さないため、最も時間の
かかる加圧工程を行っている間はアライメント装置や紫
外線照射装置を用いることができず、高価なアライメン
ト装置の使用効率が低下するという問題があった。
【0015】さらに、アライメント工程で基板のアライ
メントを行った状態で、そのまま加圧接合工程を行う装
置があるが、最も時間のかかる加圧工程があるため。こ
の加圧を行っている間は他の作業、すなわち位置合わせ
及び紫外線照射等の工程を行うことができないため、生
産効率が低下するという問題があった。
【0016】一方、図9に示すように容器3とノズル4
とが脱着可能となったものをシール剤Sの塗布に用いる
と、次のような問題があった。ノズル接続口3bの先端
5とノズル4の流路4bとの間に段差が生じ、隙間6が
生じる。この隙間6内の空気は塗布中のシール剤S中に
混じり、シール切れを発生させる虞がある。シール切れ
が発生すると、後工程で行われる液晶注入時にその部分
から液晶が漏れる虞がある。その結果、不良品が発生
し、生産効率が低下するという問題があった。
【0017】そこで本発明は、カラーフィルタ基板とア
レイ基板等の2枚の基板を所定間隔をもって接合する際
に、生産効率を向上させることができる基板接合装置を
提供することを目的としている。また、本発明は、基板
接合の際に塗布されるシール剤内に空気が混入しないシ
ール剤塗布用ノズルを提供し、生産効率を向上させるこ
とを目的としている。
【0018】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、請求項1に記載された発明は、相対向
する第1基板と第2基板とをこれら基板の間隙に配置さ
れたスペーサにより所定間隔を維持した状態で紫外線硬
化型のシール剤を介して重ね合わせ上記シール剤を硬化
して接合する基板接合装置において、円板状に形成され
上記第1基板を固定する固定部を複数有するステージ
と、このステージをその軸心線回りに所定方向に回転駆
動する駆動部と、上記固定部に上記第1基板と上記第2
基板とを積層して供給する基板供給部と、この基板供給
部と上記ステージの周方向に沿って所定距離離間して配
置され、上記固定部に固定された上記第1基板に対し上
記第2基板を位置合わせする基板位置合わせ部と、この
基板位置合わせ部の上記ステージの周方向に沿って配置
され、上記第1基板と上記第2基板との加圧を行う基板
加圧部と、この基板加圧部と上記ステージの周方向に沿
って所定距離離間して配置され、上記シール剤に紫外線
を照射する紫外線照射部とを備えるようにした。
【0019】請求項2に記載された発明は、請求項1に
記載された発明において、上記基板加圧部は、上記第1
基板と上記第2基板とで形成される間隙内を減圧するこ
とにより上記第1基板及び上記第2基板を大気圧により
加圧する減圧部を具備する。
【0020】請求項3に記載された発明は、請求項2に
記載された発明において、上記減圧部は、上記第1基板
周囲と上記第2基板の上記第1基板側の面との間を閉塞
し閉塞空間を形成する閉塞手段と、上記閉塞空間内を減
圧する減圧手段とを具備する。
【0021】請求項4に記載された発明は、シール剤が
収容された容器の吐出口に脱着自在に取付けられるシー
ル剤塗布用ノズルにおいて、上記容器に取り付けられる
ノズル本体と、このノズル本体内に設けられ、上記吐出
口にその一端側の開口部が対向配置されるとともに、そ
の開口部内径が上記吐出口の内径と略同一となるように
形成された流路とを備えるようにした。
【0022】上記手段を講じた結果、次のような作用が
生じる。すなわち、請求項1に記載された発明では、固
定部に固定された第1基板及び第2基板はステージの回
転に伴ってその固定が保たれた状態で、位置合わせ部、
基板加圧部、紫外線照射部とを順次移送されてゆくの
で、各部における工程が終了したら次の工程に移行する
ことができる。このため、時間のかかる基板加圧部にお
ける加圧工程の終了を待つことなく、位置合わせ部にお
ける位置合わせ工程や紫外線照射部における紫外線照射
工程を行うことができるので、各装置の使用効率を向上
させることができる。
【0023】請求項2に記載された発明では、基板加圧
部は、第1基板と第2基板との間隙内を減圧することに
より第1基板及び第2基板を大気圧により加圧する減圧
部を具備するようにしたので、大気圧による荷重が基板
に均一にかかり、第1基板と第2基板との間隙を一定に
保つことが可能となる。
【0024】請求項3に記載された発明では、減圧部
は、第1基板周囲と第2基板の第1基板側の面との間を
閉塞し閉塞空間を形成する閉塞手段と、閉塞空間内を減
圧する減圧手段とを具備するようにしたので、第1基板
及び第2基板に付着した異物が基板を傷付けることを防
止できる。
【0025】請求項4に記載された発明では、容器に取
り付けられるノズル本体と、このノズル本体内に設けら
れ、吐出口にその一端側の開口部が対向配置されるとと
もに、その開口部が吐出口の領域に含まれるように形成
された流路とを備えているので、吐出口と流路の開口部
との近傍に段差が形成されず、空気が滞留することはな
い。このため、シール剤に空気が混じることを防止する
ことができる。
【0026】
【発明の実施の形態】図1の(a),(b)は本発明の
実施の形態に係る基板接合装置10を示す概略図、図2
〜図4はこの基板接合装置10の要部を示す図、図5は
シール剤塗布装置に組込まれたシール剤塗布用ノズル2
00の要部を示す縦断面図である。図1〜図4中矢印Z
方向は鉛直方向を示している。
【0027】基板接合装置10は、カラーフィルタ基板
F(第1基板)をトランジスタ等が予め組み込まれたア
レイ基板A(第2基板)に紫外線硬化性のシール剤Sを
介して接合することによって液晶表示素子用のセルCを
製造するための装置である。
【0028】図1に示すように基板接合装置10は、ス
テージ装置20と、このステージ装置20の各位置に設
けられた基板受け渡し部30、基板位置合わせ部40、
基板加圧部50、紫外線照射部60とを備えている。な
お、図1中100は前工程を行うシール剤塗布装置(不
図示)から基板受け渡し部30へセルCを搬送するとと
もに、基板受け渡し部30からセルCを後工程へ搬送す
る搬送ロボットを示している。
【0029】ステージ装置20は、その軸心線を鉛直に
配置した円環状の回転ステージ21と、この回転ステー
ジ21を間欠的に回転駆動する回転駆動機構22とを備
えている。回転ステージ21には、周方向に沿って90
度毎に設けられセルCを保持する4つの基板保持部70
が設けられている。
【0030】基板保持部70は、図2に示すように回転
ステージ21に嵌め込まれ紫外線を透過する石英板71
と、この石英板71に対向配置された上部カバー72
と、この上部カバー72を回転ステージ21に対して上
下方向に案内するためのガイド73と、このガイド73
に沿って上部カバー72を上下動させるエアシリンダ7
4とを備えている。
【0031】石英板71にはバキューム孔71aと、後
述するリフトピン32を通過させる貫通孔71bが設け
られている。上部カバー72は、矩形枠状の本体72a
と、この本体72aの下面に設けられた弾性リング72
bと、本体72aの開口部の内側に設けられた弾性シー
ト72cと、本体72aに設けられた真空吸引孔72d
とを備えている。
【0032】基板受け渡し部30は、床面上に配置さ
れ、図1の(a)中矢印Z方向に沿って作動するエアシ
リンダ31と、このエアシリンダ31の上端に設けられ
た4本のリフトピン32とを備えている。
【0033】基板位置合わせ部40は、床面上に配置さ
れた架台41と、この架台41に設けられ図3中矢印Z
方向に作動するエアシリンダ42と、このエアシリンダ
42の下端に取り付けられX方向、Y方向、Z方向回り
のθ方向の位置決めを行うXYθステージ43と、この
XYθステージ43の下面に板ばね44を介して図3中
矢印Z方向に沿って上下動自在に支持された微動Z軸4
5と、この微動Z軸45の下端に取り付けられたバキュ
ームチャック46と、このバキュームチャック46と回
転ステージ21を挟んで配置された一対の顕微鏡機構4
7と、回転ステージ21を図3中上下方向から挟むよう
に構成されたクランプ48とを備えている。なお、図3
中矢印Xは紙面に垂直な方向、矢印Yは矢印Xに直交す
る水平方向を示している。
【0034】顕微鏡機構47は、架台41に取り付けら
れ、XYZ方向の位置決めを行うXYZステージ47a
と、このXYZステージ47aに支持された顕微鏡47
bとを備えている。
【0035】紫外線照射部60は、ランプハウス61
と、このランプハウス61内に配置された紫外線ランプ
62と、この紫外線ランプ62の上部に配置されたコー
ルドミラー63と、このコールドミラー63の上方に配
置されたフィルタ64と、ランプハウス61内に紫外線
ランプ62を冷却するための冷却水を導入する導入口6
5と、冷却水を排出するための排出口66とを備えてい
る。なお、コールドミラー63とフィルタ64はセルC
の温度上昇を避けるために赤外線等の余分な光を遮光す
る機能を有している。
【0036】シール剤塗布装置(不図示)に設けられて
いるシール剤塗布用ノズル200は、図5に示すよう
に、ノズル本体201と、このノズル本体201内に設
けられた流路202と、ノズル接続口3bにネジ止めさ
れるネジ止め部203とを備えている。流路202の容
器3側の開口部202aは容器3の吐出口3dに対向配
置されている。また、流路202の下端は吐出口202
bが形成されている。
【0037】流路202の容器3側の開口部202aの
内径は容器3の流路3cの吐出口3dの内径とほぼ同一
となるように形成されている。このように構成されたシ
ール剤塗布用ノズル200を備えたシール剤塗布装置
(不図示)では、次のようにしてシール剤Sの塗布が行
われる。すなわち、容器3側から圧力をかけてシール剤
Sを吐出口3dから吐出する。吐出されたシール剤Sは
シール剤塗布用ノズル200内の流路202内に流入す
る。このとき、容器3の吐出口3dの内径と流路202
の開口部202aの内径とはほぼ同一なので、段差がな
く、空気が溜まる余地がないように形成されている。こ
のため、空気がシール剤Sに混じることなく、吐出口2
02bから吐出される。このため、シール剤切れが発生
せず、良好な塗布を行うことができる。
【0038】このように構成された基板接合装置10は
次のようにしてカラーフィルタ基板Fと、アレイ基板A
との接合を行う。なお、基板接合を行う工程は大きく分
けて基板受け渡し部30における受け取り工程、基板位
置合わせ部40における位置合わせ工程、基板加圧部5
0における加圧工程、紫外線照射部60における紫外線
照射工程、基板受け渡し部30における受け渡し工程と
からなっている。
【0039】最初に図2に示すようにリフトピン32を
上昇させておく。そして、アレイ基板Aとカラーフィル
タ基板Fとを紫外線硬化樹脂のシール剤Sをシール剤塗
布用ノズル200を用いて環状に塗布した後仮止めした
状態のセルCをリフトピン32上に載置する。次にエア
シリンダ31を作動させてゆっくりとリフトピン32を
下降させ、セルCを石英板71上に載置する。そして、
バキュームチャック71aを作動させてセルCを石英板
71上に固定する。
【0040】次にエアシリンダ74を作動させて上部カ
バー72を下降させ、弾性シート72cをセルC上面の
外周部に密着させるとともに、弾性リング72bを石英
板71上に密着させる。これによりセルC内は密閉した
空間Gとなる。
【0041】次に回転駆動機構22を作動させて回転ス
テージ21を図1中矢印R方向に90度回転させて、セ
ルCを基板位置合わせ部40に移動させる。そして、回
転ステージ21をクランプ48で挟み固定する。
【0042】次にエアシリンダ42によりバキュームチ
ャック46を下降させアレイ基板Aの上面を吸着保持す
る。なお、このときバキュームチャック46の下面とア
レイ基板Aの上面の平面のずれは板ばね44により吸収
され、片当たりを防止する。そして、XYステージ47
aにより顕微鏡47bを所定の位置に移動させ、アレイ
基板Aとフィルタ基板Fに設けられたアライメントマー
クのずれ量を検出する。このずれ量に基づいてXYθス
テージ43を作動させ、ずれ量が誤差許容範囲内に収ま
るように調整する。
【0043】次に真空吸引孔72dより減圧を行う。こ
のため、空間G内が減圧され、カラーフィルタ基板Fと
アレイ基板Aとがカラーフィルタ基板Fの上面側から大
気圧により加圧される。この加圧によりシール剤Sが押
しつけられカラーフィルタ基板Fとアレイ基板Aとの隙
間がスペーサTにより規制されるまで狭まる。
【0044】このとき、再度顕微鏡48bによりアライ
メントマークのずれ量を検出し、許容範囲から逸脱して
いる場合には、空間G内を一旦大気圧に戻し、XYθス
テージ43により調整を行い再度減圧を行う。空間Gを
減圧した状態でアライメントマークのずれ量が許容範囲
内であればその状態を維持する。
【0045】次にクランプ48を解除し、回転ステージ
21を回転させ、セルCを基板加圧部50に移動する。
基板加圧部50では、セルCの状態をそのまま維持す
る。これにより大気圧による加圧が十分に行われ、スペ
ーサTが所定の径(例えば5〜6μm)になるまで押し
潰される。所定時間経過後、回転ステージ21を回転さ
せ、紫外線照射部60に移動する。
【0046】容器に取り付けられるノズル本体と、この
ノズル本体内に設けられ、吐出口にその一端側の開口部
が対向配置されるとともに、その開口部が吐出口の領域
に含まれるように形成された流路とを備えているので、
吐出口と流路の開口部との近傍に段差が形成されず、空
気が滞留することはない。このため、シール剤に空気が
混じることを防止することができる。
【0047】紫外線照射部60では、石英板71の下方
から紫外線ランプ62を点灯し、シール剤Sに紫外線を
照射し、その照射エネルギが例えば3000〜5000
J/cm2 に達した時点で紫外線照射工程は終了する。
これにより、カラーフィルタ基板Fとアレイ基板Aとが
接合したセルCが完成する。
【0048】次に回転ステージ21を回転させ、セルC
を基板受け渡し部30へ移動する。そして、空間G内を
大気圧に戻し、エアシリンダ74を上昇させて上部プレ
ート72を上昇させ、セルCから離間させる。また、エ
アチャック71aによる吸引を解除する。そして、エア
シリンダ31を作動させ、リフトピン32を上昇させ
る。そして、搬送ロボット100によりセルC内に液晶
を注入する次工程へ搬送する。
【0049】上述したように本実施の形態に係る基板接
合装置10によれば、カラーフィルタ基板Fをアレイ基
板A上に位置決めした状態のまま押圧し、その状態でシ
ール剤Sを硬化するようにしているので、位置ずれが発
生せず、位置決めが保たれたまま接合を行うことができ
る。このため、高精度のセルCを製造することができ
る。
【0050】基板固定部70に固定されたカラーフィル
タ基板F及びアレイ基板Aは回転ステージ21の回転に
伴ってその固定が保たれた状態で、基板位置合わせ部4
0、基板加圧部50、紫外線照射部60とを順次移送さ
れてゆくので、各部における工程が終了したら次の工程
に移行することができる。このため、時間のかかる基板
加圧部50における加圧工程の終了を待つことなく、基
板位置合わせ部40における位置合わせ工程や紫外線照
射部60における紫外線照射工程を行うことができるの
で、各装置の使用効率を向上させることができる。
【0051】さらに、加圧工程における加圧は大気圧に
よりアレイ基板Aの上面からカラーフィルタ基板Fに対
してかかる。このため、カラーフィルタ基板Fと石英板
71との間にはカラーフィルタ基板F及びアレイ基板A
の自重程度しかかからない。したがって、カラーフィル
タ基板Fと石英板71との間にごみ等が挟まれていた場
合であってもごみ等によってカラーフィルタ基板Fが傷
付き難くなり歩留まりを向上させることができる。
【0052】また、カラーフィルタ基板Fとアレイ基板
Aとの間を減圧して大気圧による加圧を行うようにして
いるので、各基板に大気圧による荷重が均一にかかる。
このため、アレイ基板Aをバキュームチャック46で直
接加圧する場合に発生するアレイ基板Aとバキュームチ
ャック46との平面度の違いからくる加圧むらを防止す
ることができる。したがって、高精度の製品を生産する
ことができる。
【0053】図6は上述した基板接合装置10の変形例
に係る基板接合装置10Aを示す図である。本基板接合
装置10Aが基板接合装置10と異なる点は、回転ステ
ージ21は60度ずつ回転し、基板加圧部50が3箇所
設けられている点にある。すなわち、大気圧による加圧
を3箇所の基板加圧部50で行うことになる。したがっ
て、基板受け渡し部30、基板位置決め部40及び紫外
線照射部60におけるセルCの滞留時間を短縮しても十
分に加圧時間をとることができる。このため、基板接合
装置10Aのスループットを向上させることができる。
なお、必要な加圧時間に応じて基板加圧部50を適宜増
減してもよい。
【0054】なお、本発明は上述した実施の形態に限定
されるものではない。すなわち実施の形態では、カラー
フィルタ基板Fとアレイ基板Aとを接合することにより
液晶表示装置用のセルCを製造する場合について説明し
ているが、これらのものに限られない。このほか、本発
明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能であるの
は勿論である。
【0055】
【発明の効果】本発明によれば、液晶表示装置の生産効
率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係る基板接合装置の概
略構成を示す図であって、(a)は上面図、(b)は
(a)におけるα−α線で切断し矢印方向に見た断面
図。
【図2】同基板接合装置に組込まれた基板受け渡し部及
び基板保持機構を示す図であって、(a)は上面図、
(b)は(a)におけるβ−β線で切断し矢印方向に見
た断面図、(c)は(a)におけるγ−γ線で切断し矢
印方向に見た断面図。
【図3】同基板接合装置に組込まれた基板位置決め部を
示す縦断面図。
【図4】同基板接合装置に組込まれた紫外線照射部を示
す縦断面図。
【図5】シール剤塗布装置に組込まれたシール剤塗布用
ノズルの要部を示す縦断面図。
【図6】同基板接合装置の変形例を示す図。
【図7】液晶セルの構造を示す斜視図。
【図8】従来のシール剤塗布用ノズルの一例を示す縦断
面図。
【図9】従来のシール剤塗布用ノズルの別の例を示す縦
断面図。
【符号の説明】
10…基板接合装置 21…回転ステージ 30…基板受け渡し部 40…基板位置合わせ部 50…基板加圧部 60…紫外線照射部 200…シール剤塗布用ノズル

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】相対向する第1基板と第2基板とをこれら
    基板の間隙に配置されたスペーサにより所定間隔を維持
    した状態で紫外線硬化型のシール剤を介して重ね合わせ
    上記シール剤を硬化して接合する基板接合装置におい
    て、 円板状に形成され上記第1基板を固定する固定部を複数
    有するステージと、 このステージをその軸心線回りに所定方向に回転駆動す
    る駆動部と、 上記固定部に上記第1基板と上記第2基板とを積層して
    供給する基板供給部と、 この基板供給部と上記ステージの周方向に沿って所定距
    離離間して配置され、上記固定部に固定された上記第1
    基板に対し上記第2基板を位置合わせする基板位置合わ
    せ部と、 この基板位置合わせ部の上記ステージの周方向に沿って
    配置され、上記第1基板と上記第2基板との加圧を行う
    基板加圧部と、 この基板加圧部と上記ステージの周方向に沿って所定距
    離離間して配置され、上記シール剤に紫外線を照射する
    紫外線照射部とを備えていることを特徴とする基板接合
    装置。
  2. 【請求項2】上記基板加圧部は、上記第1基板と上記第
    2基板とで形成される間隙内を減圧することにより上記
    第1基板及び上記第2基板を大気圧により加圧する減圧
    部を具備することを特徴とする請求項1に記載の基板接
    合装置。
  3. 【請求項3】上記減圧部は、上記第1基板周囲と上記第
    2基板の上記第1基板側の面との間を閉塞し閉塞空間を
    形成する閉塞手段と、上記閉塞空間内を減圧する減圧手
    段とを具備することを特徴とする請求項2に記載の基板
    接合装置。
  4. 【請求項4】シール剤が収容された容器の吐出口に脱着
    自在に取付けられるシール剤塗布用ノズルにおいて、 上記容器に取り付けられるノズル本体と、 このノズル本体内に設けられ、上記吐出口にその一端側
    の開口部が対向配置されるとともに、その開口部内径が
    上記吐出口の内径と略同一となるように形成された流路
    とを備えていることを特徴とするシール剤塗布用ノズ
    ル。
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