JPH1115007A - 液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示素子及びその製造方法Info
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- JPH1115007A JPH1115007A JP16427697A JP16427697A JPH1115007A JP H1115007 A JPH1115007 A JP H1115007A JP 16427697 A JP16427697 A JP 16427697A JP 16427697 A JP16427697 A JP 16427697A JP H1115007 A JPH1115007 A JP H1115007A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 可撓性基材の熱収縮などによる反りを防止す
ることにより、安価な液晶表示素子を提供する。 【解決手段】 第１の可撓性基材上に形成される第１の
透明電極と、第２の可撓性基材上に形成される第２の透
明電極とを直交するように対向配置させた液晶表示素子
であって、前記第１の透明電極は前記第１の可撓性基材
の長辺方向又は短辺方向と第１の所定角度をつけて形成
される。
ることにより、安価な液晶表示素子を提供する。 【解決手段】 第１の可撓性基材上に形成される第１の
透明電極と、第２の可撓性基材上に形成される第２の透
明電極とを直交するように対向配置させた液晶表示素子
であって、前記第１の透明電極は前記第１の可撓性基材
の長辺方向又は短辺方向と第１の所定角度をつけて形成
される。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、液晶表示素子及び
その製造方法に関する。詳しくは、２枚の可撓性の基材
上に透明電極を形成し、その透明電極が直交するように
対向配置した液晶表示素子及びその製造方法に関する。
その製造方法に関する。詳しくは、２枚の可撓性の基材
上に透明電極を形成し、その透明電極が直交するように
対向配置した液晶表示素子及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】可撓性基材からなる基板を用いた液晶表
示素子の製造方法には、上下の偏光板を加熱処理してか
ら貼り付ける方法（特開平６−６７１７２）や、偏光板
の伸びよりプラスチックフィルムの伸びが大きくなるよ
うにする方法（特開平６−２０８１０８）や、液晶パネ
ル形成後圧力をかけてアニール処理する方法（特開平７
−５４０６）や、スリットを設けて上下のフィルムの熱
膨張率を同一にする方法（特開平７−５６１２９）や、
常温で平坦になる曲率半径でプラスチック基板を形成し
プラスチック基板の凹面に透明導伝膜を形成して平坦に
する方法（特開平７−６４０６７）や、透明導電膜が形
成される面と他方の面とにコーティング層を膜厚差をつ
けて設ける方法（特開平７−１７５０５３）や、プラス
チック基板の両面に透明導電膜を設け片面をパターン形
成後もう一方の面を全剥離する方法（特開平７−１７５
０５５）や、常温で硬化反応が進むシール材を用いる方
法（特開平７−２３４４１１）などが提案されている。
示素子の製造方法には、上下の偏光板を加熱処理してか
ら貼り付ける方法（特開平６−６７１７２）や、偏光板
の伸びよりプラスチックフィルムの伸びが大きくなるよ
うにする方法（特開平６−２０８１０８）や、液晶パネ
ル形成後圧力をかけてアニール処理する方法（特開平７
−５４０６）や、スリットを設けて上下のフィルムの熱
膨張率を同一にする方法（特開平７−５６１２９）や、
常温で平坦になる曲率半径でプラスチック基板を形成し
プラスチック基板の凹面に透明導伝膜を形成して平坦に
する方法（特開平７−６４０６７）や、透明導電膜が形
成される面と他方の面とにコーティング層を膜厚差をつ
けて設ける方法（特開平７−１７５０５３）や、プラス
チック基板の両面に透明導電膜を設け片面をパターン形
成後もう一方の面を全剥離する方法（特開平７−１７５
０５５）や、常温で硬化反応が進むシール材を用いる方
法（特開平７−２３４４１１）などが提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上下の偏光板
を加熱処理してから貼り付ける方法では、偏光板の特性
が劣化するという問題があった。
を加熱処理してから貼り付ける方法では、偏光板の特性
が劣化するという問題があった。
【０００４】また、偏光板の伸びよりプラスチックフィ
ルムの伸びが大きくなるようにする方法では、セルギャ
ップが多少変化するのでＳＴＮ表示において表示均一性
が損なわれるという問題があった。
ルムの伸びが大きくなるようにする方法では、セルギャ
ップが多少変化するのでＳＴＮ表示において表示均一性
が損なわれるという問題があった。
【０００５】また、液晶パネル形成後圧力をかけてアニ
ール処理する方法では、基板の歪みは緩和されるが液晶
表示素子の反りを解消することができないという問題が
あった。
ール処理する方法では、基板の歪みは緩和されるが液晶
表示素子の反りを解消することができないという問題が
あった。
【０００６】また、常温で平坦になる曲率半径でプラス
チック基板を形成しプラスチック基板の凹面に透明導伝
膜を形成して平坦にする方法や、透明導電膜が形成され
る面と他方の面とにコーティング層を膜厚差をつけて設
ける方法や、常温で硬化反応が進むシール材を用いる方
法では、生産効率が劣るという問題があった。
チック基板を形成しプラスチック基板の凹面に透明導伝
膜を形成して平坦にする方法や、透明導電膜が形成され
る面と他方の面とにコーティング層を膜厚差をつけて設
ける方法や、常温で硬化反応が進むシール材を用いる方
法では、生産効率が劣るという問題があった。
【０００７】また、可撓性基板は紫外線を吸収し、変色
・劣化する特性をもち、紫外線硬化による接着剤を使用
出来ないという問題があった。
・劣化する特性をもち、紫外線硬化による接着剤を使用
出来ないという問題があった。
【０００８】また、従来の可撓性基板を用いた液晶表示
素子は、市場に提供するにあたり高価になってしまうと
いう問題があった。
素子は、市場に提供するにあたり高価になってしまうと
いう問題があった。
【０００９】そこで本発明は、このような従来技術の問
題点を克服するものであって、その目的とするところ
は、可撓性基板の熱膨張や熱収縮による液晶表示素子の
反りを防止し、また、紫外線照射による可撓性基板の変
色・劣化をなくし効率的に液晶表示素子を製造する液晶
表示素子の製造方法を提供することにあり、さらに、低
価格の液晶表示素子を提供することにある。
題点を克服するものであって、その目的とするところ
は、可撓性基板の熱膨張や熱収縮による液晶表示素子の
反りを防止し、また、紫外線照射による可撓性基板の変
色・劣化をなくし効率的に液晶表示素子を製造する液晶
表示素子の製造方法を提供することにあり、さらに、低
価格の液晶表示素子を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子
は、第１の可撓性基材上に形成される第１の透明電極
と、第２の可撓性基材上に形成される透明電極とを直交
するように対向配置させた液晶表示素子であって、前記
第１の透明電極は前記第１の可撓性基材の長辺方向又は
短辺方向と第１の所定角度をつけて形成されることを特
徴とする。その際、前記第１の所定角度は５°以上８５
°以下であるとよく、より好ましくは３０°以上６０°
以下であるとよい。また、前記第２の所定角度は５°以
上８５°以下であるとよく、より好ましくは３０°以上
６０°以下であるとよい。
は、第１の可撓性基材上に形成される第１の透明電極
と、第２の可撓性基材上に形成される透明電極とを直交
するように対向配置させた液晶表示素子であって、前記
第１の透明電極は前記第１の可撓性基材の長辺方向又は
短辺方向と第１の所定角度をつけて形成されることを特
徴とする。その際、前記第１の所定角度は５°以上８５
°以下であるとよく、より好ましくは３０°以上６０°
以下であるとよい。また、前記第２の所定角度は５°以
上８５°以下であるとよく、より好ましくは３０°以上
６０°以下であるとよい。
【００１１】一般的に熱膨張又は熱収縮に起因して可撓
性基材に生じる反り等の変形はＩＴＯ等のストライプ状
透明電極を形成した方向と平行な方向で小さく、それに
直交する方向で大きい。これは、ＩＴＯ等の電極材料が
可撓性基材と比較して熱に強いからである。本発明の液
晶表示素子においては、透明電極が前記第１の可撓性基
材の長辺方向又は短辺方向と第１の所定角度をつけて形
成されているため、可撓性基材の長辺方向に生じる変形
と短辺方向で生じる変形とが均一となる。その結果、長
短辺での変形の違いに起因する基材の変形を防止でき、
製造時の組立ずれがおこらない。さらには、第１の透明
電極と第２の透明電極とを直交するように配置している
ため、液晶表示素子の上基板と下基板とで各々生じる基
板の変形が緩和され、その結果、液晶表示素子の反りが
防止できる。
性基材に生じる反り等の変形はＩＴＯ等のストライプ状
透明電極を形成した方向と平行な方向で小さく、それに
直交する方向で大きい。これは、ＩＴＯ等の電極材料が
可撓性基材と比較して熱に強いからである。本発明の液
晶表示素子においては、透明電極が前記第１の可撓性基
材の長辺方向又は短辺方向と第１の所定角度をつけて形
成されているため、可撓性基材の長辺方向に生じる変形
と短辺方向で生じる変形とが均一となる。その結果、長
短辺での変形の違いに起因する基材の変形を防止でき、
製造時の組立ずれがおこらない。さらには、第１の透明
電極と第２の透明電極とを直交するように配置している
ため、液晶表示素子の上基板と下基板とで各々生じる基
板の変形が緩和され、その結果、液晶表示素子の反りが
防止できる。
【００１２】また、本発明の液晶表示素子の製造方法
は、第１の透明電極を第１の可撓性基材の長辺方向又は
短辺方向と第１の所定角度をつけて前記第１の可撓性基
材上に形成する工程と、前記第１の透明電極と、第２の
可撓性基材に形成された第２の透明電極とが直交するよ
う前記第１の透明電極と前記第２の透明電極とを対向配
置する工程と、を有することを特徴とする。この際、前
記第１の所定角度が５°以上８５°以下であると好まし
く、より好ましくは３０°〜６０°に角度をつけるとよ
い。
は、第１の透明電極を第１の可撓性基材の長辺方向又は
短辺方向と第１の所定角度をつけて前記第１の可撓性基
材上に形成する工程と、前記第１の透明電極と、第２の
可撓性基材に形成された第２の透明電極とが直交するよ
う前記第１の透明電極と前記第２の透明電極とを対向配
置する工程と、を有することを特徴とする。この際、前
記第１の所定角度が５°以上８５°以下であると好まし
く、より好ましくは３０°〜６０°に角度をつけるとよ
い。
【００１３】また、前記第２の透明電極を前記第２の可
撓性基材の長辺方向又は短辺方向と第２の所定角度をつ
けて前記第２の可撓性基材上に形成する工程をさらに有
すしてもよい。この際、前記第２の所定角度が５°以上
８５°以下であると好ましく、より好ましくは３０°〜
６０°に角度をつけるとよい。
撓性基材の長辺方向又は短辺方向と第２の所定角度をつ
けて前記第２の可撓性基材上に形成する工程をさらに有
すしてもよい。この際、前記第２の所定角度が５°以上
８５°以下であると好ましく、より好ましくは３０°〜
６０°に角度をつけるとよい。
【００１４】また、前記第１の透明電極及び前記第２の
透明電極のうち少なくとも一方の周囲に光硬性のシール
部材を塗布する工程と、前記シール部材を硬化させる工
程と、をさらに含んでも良い。その際、前記シール部材
を３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の光を照射することに
よって硬化させることを特徴とする。上記構成とするこ
とにより、光によってシール部材を硬化させるため、熱
によって生じるパネル基板の変形を防止することがで
き、さらには３８０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を用いるた
め、紫外線によるパネル基板の変色・劣化をなくすこと
ができる。
透明電極のうち少なくとも一方の周囲に光硬性のシール
部材を塗布する工程と、前記シール部材を硬化させる工
程と、をさらに含んでも良い。その際、前記シール部材
を３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の光を照射することに
よって硬化させることを特徴とする。上記構成とするこ
とにより、光によってシール部材を硬化させるため、熱
によって生じるパネル基板の変形を防止することがで
き、さらには３８０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を用いるた
め、紫外線によるパネル基板の変色・劣化をなくすこと
ができる。
【００１５】
（実施例１）図１及び図２及び図３及び図１０は、本発
明の第１の実施例を説明するものであって、図１は透明
電極形成後の概略図であり、図２は貼り合わせ工程前後
の概略図であり、図３は液晶表示素子の各製造工程の概
略図であり、図１０は完成した液晶表示素子の概略斜視
図である。図１及び図２及び図３及び図１０に基づき説
明する。
明の第１の実施例を説明するものであって、図１は透明
電極形成後の概略図であり、図２は貼り合わせ工程前後
の概略図であり、図３は液晶表示素子の各製造工程の概
略図であり、図１０は完成した液晶表示素子の概略斜視
図である。図１及び図２及び図３及び図１０に基づき説
明する。
【００１６】まず、可撓性基材１（例えば、藤森工業社
製アモレックスフィルムＡＭ７０１５Ｃ）上にＩＴＯ等
の透明電極２のストライプ方向が可撓性基材１の長辺方
向７または短辺方向８より４５度に角度をつけて、ま
た、可撓性基材４上に透明電極５のストライプの方向が
可撓性基材４の長辺方向９または短辺方向１０より４５
度に角度をつけて、フォトエッチングにより形成する
（図１及び図３（ａ））。
製アモレックスフィルムＡＭ７０１５Ｃ）上にＩＴＯ等
の透明電極２のストライプ方向が可撓性基材１の長辺方
向７または短辺方向８より４５度に角度をつけて、ま
た、可撓性基材４上に透明電極５のストライプの方向が
可撓性基材４の長辺方向９または短辺方向１０より４５
度に角度をつけて、フォトエッチングにより形成する
（図１及び図３（ａ））。
【００１７】その後、可撓性基材１、４を図２に示す形
状にカッティングし、その基板上に配向膜２０（例え
ば、日立化成工業社製ＳＴＸ−２４）を約５００Åの厚
みで印刷法にて印刷し、１３０℃にて２時間焼成し、ラ
ビングにより配向処理を施して、パネル基板３、６とす
る。（図３（ｂ））。
状にカッティングし、その基板上に配向膜２０（例え
ば、日立化成工業社製ＳＴＸ−２４）を約５００Åの厚
みで印刷法にて印刷し、１３０℃にて２時間焼成し、ラ
ビングにより配向処理を施して、パネル基板３、６とす
る。（図３（ｂ））。
【００１８】次に、配向膜２０上に一定の間隔を保つ
６．５μｍのスペーサ２１（例えば、触媒化成社製ＡＷ
−II）を静電散布法により散布し、パネル基板６にシー
ル材２２（例えば、スリーボンド社製ＴＢ−３０２５）
をディスペンサー塗布法により塗布する（図３
（ｃ））。
６．５μｍのスペーサ２１（例えば、触媒化成社製ＡＷ
−II）を静電散布法により散布し、パネル基板６にシー
ル材２２（例えば、スリーボンド社製ＴＢ−３０２５）
をディスペンサー塗布法により塗布する（図３
（ｃ））。
【００１９】次に、透明電極２及び５が直交わるするよ
うにパネル基板３及び６を貼り合わせる（図３（ｄ）及
び図５）。
うにパネル基板３及び６を貼り合わせる（図３（ｄ）及
び図５）。
【００２０】次に、加圧して所定のセルギャップにし、
３８０ｎｍ未満の光をカットするフィルター２３（例え
ば、オーク製作所社製バンドパスフィルター）を介して
高圧水銀ランプ２４（例えば、オーク製作所社製ＯＨＤ
−３２０Ｍ照射機及びＨＳＬ−３００ランプ）により３
８０ｎｍ以上の波長の光を照射しシール部材の硬化を行
う（図３（ｅ））。
３８０ｎｍ未満の光をカットするフィルター２３（例え
ば、オーク製作所社製バンドパスフィルター）を介して
高圧水銀ランプ２４（例えば、オーク製作所社製ＯＨＤ
−３２０Ｍ照射機及びＨＳＬ−３００ランプ）により３
８０ｎｍ以上の波長の光を照射しシール部材の硬化を行
う（図３（ｅ））。
【００２１】次に、液晶を注入して液晶表示素子を完成
させた（図３（ｆ）及び図１０）。
させた（図３（ｆ）及び図１０）。
【００２２】完成した液晶表示素子は、熱によるパネル
基板の収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によ
るパネル基板の劣化による表示品質の低下がない液晶表
示素子であった。
基板の収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によ
るパネル基板の劣化による表示品質の低下がない液晶表
示素子であった。
【００２３】（実施例２）図３及び図４及び図５及び図
１１は、本発明の第２の実施例を説明するものであっ
て、図３は液晶表示素子の各製造工程の概略図であり、
図４は透明電極形成後の概略図であり、図５は貼り合わ
せ工程前後の概略図であり、図１１は完成した液晶表示
素子の概略斜視図である。図３及び図４及び図５及び図
１１に基づき説明する。
１１は、本発明の第２の実施例を説明するものであっ
て、図３は液晶表示素子の各製造工程の概略図であり、
図４は透明電極形成後の概略図であり、図５は貼り合わ
せ工程前後の概略図であり、図１１は完成した液晶表示
素子の概略斜視図である。図３及び図４及び図５及び図
１１に基づき説明する。
【００２４】まず、可撓性基材１（例えば、住友ベーク
ライト社製透明導伝性フィルムＦＳＴ−５３４Ｘ）上に
透明電極のストライプ方向が第一の可撓性基板の長辺方
向７より３０度の角度をつけて、また、可撓性基材４上
に透明電極５のストライプの方向が可撓性基材４の長辺
方向９より６０度の角度をつけて、フォトエッチングに
より形成する（図３（ａ）及び図４）。その後、可撓性
基材１、４を図５に示す形状にカッティングし、その基
板上に配向膜２０（例えば、日立化成工業社製ＳＴＸ−
２４）を約５００Åの厚みで印刷法にて印刷し、１３０
℃にて２時間焼成し、ラビングにより配向処理を施し
て、パネル基板３、６とする。（図３（ｂ））。
ライト社製透明導伝性フィルムＦＳＴ−５３４Ｘ）上に
透明電極のストライプ方向が第一の可撓性基板の長辺方
向７より３０度の角度をつけて、また、可撓性基材４上
に透明電極５のストライプの方向が可撓性基材４の長辺
方向９より６０度の角度をつけて、フォトエッチングに
より形成する（図３（ａ）及び図４）。その後、可撓性
基材１、４を図５に示す形状にカッティングし、その基
板上に配向膜２０（例えば、日立化成工業社製ＳＴＸ−
２４）を約５００Åの厚みで印刷法にて印刷し、１３０
℃にて２時間焼成し、ラビングにより配向処理を施し
て、パネル基板３、６とする。（図３（ｂ））。
【００２５】次に、配向膜２０上に一定の間隔を保つ
６．５μｍのスペーサ２１（例えば、触媒化成社製ＡＷ
−II）を静電散布法により散布し、パネル基板６にシー
ル材部材２２（例えば、スリーボンド社製ＴＢ−３０２
５）をディスペンサー塗布法により塗布する（図３
（ｃ））。
６．５μｍのスペーサ２１（例えば、触媒化成社製ＡＷ
−II）を静電散布法により散布し、パネル基板６にシー
ル材部材２２（例えば、スリーボンド社製ＴＢ−３０２
５）をディスペンサー塗布法により塗布する（図３
（ｃ））。
【００２６】次に、透明電極２及び５が直交わるするよ
うにパネル基板３及び６を貼り合わせる（図３（ｄ）及
び図５）。
うにパネル基板３及び６を貼り合わせる（図３（ｄ）及
び図５）。
【００２７】次に、加圧して所定のセルギャップにし、
３８０ｎｍ未満の光をカットするフィルター２３（例え
ば、オーク製作所社製バンドパスフィルター）を介して
高圧水銀ランプ２４（例えば、オーク製作所社製ＯＨＤ
−３２０Ｍ照射機及びＨＳＬ−３００ランプ）により３
８０ｎｍ以上の波長の光を照射しシール部材の硬化を行
う（図３（ｅ））。
３８０ｎｍ未満の光をカットするフィルター２３（例え
ば、オーク製作所社製バンドパスフィルター）を介して
高圧水銀ランプ２４（例えば、オーク製作所社製ＯＨＤ
−３２０Ｍ照射機及びＨＳＬ−３００ランプ）により３
８０ｎｍ以上の波長の光を照射しシール部材の硬化を行
う（図３（ｅ））。
【００２８】次に、液晶を注入して液晶表示素子を完成
させた（図３（ｆ）及び図１１）。
させた（図３（ｆ）及び図１１）。
【００２９】完成した液晶表示素子は、熱によるパネル
基板の収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によ
るパネル基板の劣化による表示品質の低下がない液晶表
示素子であった。
基板の収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によ
るパネル基板の劣化による表示品質の低下がない液晶表
示素子であった。
【００３０】（実施例３）図３及び図６及び図７及び図
１２は、本発明の第３の実施例を説明するものであっ
て、図３は液晶表示素子の各製造工程の概略図であり、
図６は透明電極形成後の概略図であり、図７は貼り合わ
せ工程前後の概略図であり、図１２は完成した液晶表示
素子の概略斜視図である。図３及び図６及び図７及び図
１２に基づき説明する。
１２は、本発明の第３の実施例を説明するものであっ
て、図３は液晶表示素子の各製造工程の概略図であり、
図６は透明電極形成後の概略図であり、図７は貼り合わ
せ工程前後の概略図であり、図１２は完成した液晶表示
素子の概略斜視図である。図３及び図６及び図７及び図
１２に基づき説明する。
【００３１】まず、可撓性基板１（例えば、藤森工業社
製アモレックスフィルムＡＭ７０１５Ｃ）上に透明電極
２のストライプ方向が可撓性基板の短辺方向８より６０
度に角度をつけて、また、可撓性基材４上に透明電極５
のストライプの方向が可撓性基材４の長辺方向９より３
０度に角度をつけて、フォトエッチングにより形成する
（図３（ａ）及び図６）。その後、可撓性基材１、４を
図７に示す形状にカッティングし、パネル基板上に配向
膜２０（例えば、日立化成工業社製ＳＴＸ−２４）を約
５００Åの厚みで印刷法にて印刷し、１３０℃にて２時
間焼成し、ラビングにより配向処理を施して、パネル基
板３、６とする。（図３（ｂ））。
製アモレックスフィルムＡＭ７０１５Ｃ）上に透明電極
２のストライプ方向が可撓性基板の短辺方向８より６０
度に角度をつけて、また、可撓性基材４上に透明電極５
のストライプの方向が可撓性基材４の長辺方向９より３
０度に角度をつけて、フォトエッチングにより形成する
（図３（ａ）及び図６）。その後、可撓性基材１、４を
図７に示す形状にカッティングし、パネル基板上に配向
膜２０（例えば、日立化成工業社製ＳＴＸ−２４）を約
５００Åの厚みで印刷法にて印刷し、１３０℃にて２時
間焼成し、ラビングにより配向処理を施して、パネル基
板３、６とする。（図３（ｂ））。
【００３２】次に、配向膜２０上に一定の間隔を保つ
６．５μｍのスペーサ２１（例えば、触媒化成社製ＡＷ
−II）を静電散布法により散布し、パネル基板６上にシ
ール部材２２（例えば、スリーボンド社製ＴＢ−３０２
５）をディスペンサー塗布法により塗布する（図３
（ｃ））。
６．５μｍのスペーサ２１（例えば、触媒化成社製ＡＷ
−II）を静電散布法により散布し、パネル基板６上にシ
ール部材２２（例えば、スリーボンド社製ＴＢ−３０２
５）をディスペンサー塗布法により塗布する（図３
（ｃ））。
【００３３】次に、透明電極２及び５が直交わるするよ
うにパネル基板３及び６を貼り合わせる（図３（ｄ）及
び図７）。
うにパネル基板３及び６を貼り合わせる（図３（ｄ）及
び図７）。
【００３４】次に、加圧して所定のセルギャップにし、
３８０ｎｍ未満の光をカットするフィルター２３（例え
ば、オーク製作所社製バンドパスフィルター）を介して
高圧水銀ランプ２４（例えば、オーク製作所社製ＯＨＤ
−３２０Ｍ照射機及びＨＳＬ−３００ランプ）により３
８０ｎｍ以上の波長の光を照射しシール材の硬化を行う
（図３（ｅ））。
３８０ｎｍ未満の光をカットするフィルター２３（例え
ば、オーク製作所社製バンドパスフィルター）を介して
高圧水銀ランプ２４（例えば、オーク製作所社製ＯＨＤ
−３２０Ｍ照射機及びＨＳＬ−３００ランプ）により３
８０ｎｍ以上の波長の光を照射しシール材の硬化を行う
（図３（ｅ））。
【００３５】次に、液晶を注入して液晶表示素子を完成
させた。（図３（ｆ）） 完成した液晶表示素子は、熱によるパネル基板の収縮の
影響による反りがなく、また、紫外線によるパネル基板
の劣化による表示品質の低下がない液晶表示素子であっ
た。
させた。（図３（ｆ）） 完成した液晶表示素子は、熱によるパネル基板の収縮の
影響による反りがなく、また、紫外線によるパネル基板
の劣化による表示品質の低下がない液晶表示素子であっ
た。
【００３６】（実施例４）図３及び図８及び図９及び図
１３は、本発明の第２の実施例を説明するものであっ
て、図３は液晶表示素子の各製造工程の概略図であり、
図８は電極郡形成後の概略図であり、図９は貼り合わせ
工程前後の概略図であり、図１３は完成した液晶表示素
子の概略斜視図である。図３及び図８及び図９及び図１
３に基づき説明する。
１３は、本発明の第２の実施例を説明するものであっ
て、図３は液晶表示素子の各製造工程の概略図であり、
図８は電極郡形成後の概略図であり、図９は貼り合わせ
工程前後の概略図であり、図１３は完成した液晶表示素
子の概略斜視図である。図３及び図８及び図９及び図１
３に基づき説明する。
【００３７】まず、第一の可撓性基板１（例えば、住友
ベークライト社製透明導伝性フィルムＦＳＴ−５３４
Ｘ）上に第一の電極群２のストライプ方向が第一の可撓
性基板の短辺方向８より４５度に角度をつけて、また、
第二の可撓性基板４上に第二の電極群５のストライプの
方向が第二の可撓性基板４の短辺方向１０より４５度に
角度をつけて、フォトエッチングにより形成する（図３
（ａ）及び図８）。その後、可撓性基材１、４を図５又
は１１に示す形状にカッティングし、パネル基板上に配
向膜２０（例えば、日立化成工業社製ＳＴＸ−２４）を
約５００Åの厚みで印刷法にて印刷し、１３０℃にて２
時間焼成し、ラビングにより配向処理を施して、パネル
基板３、６とする。（図３（ｂ））。
ベークライト社製透明導伝性フィルムＦＳＴ−５３４
Ｘ）上に第一の電極群２のストライプ方向が第一の可撓
性基板の短辺方向８より４５度に角度をつけて、また、
第二の可撓性基板４上に第二の電極群５のストライプの
方向が第二の可撓性基板４の短辺方向１０より４５度に
角度をつけて、フォトエッチングにより形成する（図３
（ａ）及び図８）。その後、可撓性基材１、４を図５又
は１１に示す形状にカッティングし、パネル基板上に配
向膜２０（例えば、日立化成工業社製ＳＴＸ−２４）を
約５００Åの厚みで印刷法にて印刷し、１３０℃にて２
時間焼成し、ラビングにより配向処理を施して、パネル
基板３、６とする。（図３（ｂ））。
【００３８】次に、配向膜２０上に一定の間隔を保つ
６．５μｍのスペーサ２１（例えば、触媒化成社製ＡＷ
−II）を静電散布法により散布し、パネル基板６にシー
ル部材２２（例えば、スリーボンド社製ＴＢ−３０２
５）をディスペンサー塗布法により塗布する（図３
（ｃ））。
６．５μｍのスペーサ２１（例えば、触媒化成社製ＡＷ
−II）を静電散布法により散布し、パネル基板６にシー
ル部材２２（例えば、スリーボンド社製ＴＢ−３０２
５）をディスペンサー塗布法により塗布する（図３
（ｃ））。
【００３９】次に、透明電極２及び５が直交わるするよ
うにパネル基板３及び６を貼り合わせる（図３（ｄ）及
び図９）。
うにパネル基板３及び６を貼り合わせる（図３（ｄ）及
び図９）。
【００４０】次に、加圧して所定のセルギャップにし、
３８０ｎｍ未満の光をカットするフィルター２３（例え
ば、オーク製作所社製バンドパスフィルター）を介して
高圧水銀ランプ２４（例えば、オーク製作所社製ＯＨＤ
−３２０Ｍ照射機及びＨＳＬ−３００ランプ）により３
８０ｎｍ以上の波長の光を照射しシール材の硬化を行う
（図３（ｅ））。
３８０ｎｍ未満の光をカットするフィルター２３（例え
ば、オーク製作所社製バンドパスフィルター）を介して
高圧水銀ランプ２４（例えば、オーク製作所社製ＯＨＤ
−３２０Ｍ照射機及びＨＳＬ−３００ランプ）により３
８０ｎｍ以上の波長の光を照射しシール材の硬化を行う
（図３（ｅ））。
【００４１】次に、液晶を注入して液晶表示素子を完成
させた（図３（ｆ）及び図１３）。
させた（図３（ｆ）及び図１３）。
【００４２】完成した液晶表示素子は、熱による可撓性
基板の収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によ
るパネル基板の劣化による表示品質の低下がない液晶表
示素子であった。
基板の収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によ
るパネル基板の劣化による表示品質の低下がない液晶表
示素子であった。
【００４３】（実施例５）実施例１の液晶表示素子の製
造方法を用いて液晶表示素子を作成した。
造方法を用いて液晶表示素子を作成した。
【００４４】作成された液晶表示素子は、可撓性基板の
熱収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によるパ
ネル基板の劣化による表示品質の低下もなく、表示特性
も同様であり、従来よりも安価であった。
熱収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によるパ
ネル基板の劣化による表示品質の低下もなく、表示特性
も同様であり、従来よりも安価であった。
【００４５】（実施例６）実施例２の液晶表示素子の製
造方法を用いて液晶表示素子を作成した。
造方法を用いて液晶表示素子を作成した。
【００４６】作成された液晶表示素子は、パネル基板の
熱収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によるパ
ネル基板の劣化による表示品質の低下もなく、表示特性
も同様であり、従来よりも安価であった。
熱収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によるパ
ネル基板の劣化による表示品質の低下もなく、表示特性
も同様であり、従来よりも安価であった。
【００４７】（実施例７）実施例３の液晶表示素子の製
造方法を用いて液晶表示素子を作成した。
造方法を用いて液晶表示素子を作成した。
【００４８】作成された液晶表示素子は、パネル基板の
熱収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によるパ
ネル基板の劣化による表示品質の低下もなく、表示特性
も同様であり、従来よりも安価であった。
熱収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によるパ
ネル基板の劣化による表示品質の低下もなく、表示特性
も同様であり、従来よりも安価であった。
【００４９】（実施例８）実施例４の液晶表示素子の製
造方法を用いて液晶表示素子を作成した。
造方法を用いて液晶表示素子を作成した。
【００５０】作成された液晶表示素子は、パネル基板の
熱収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によるパ
ネル基板の劣化による表示品質の低下もなく、表示特性
も同様であり、従来よりも安価であった。
熱収縮の影響による反りがなく、また、紫外線によるパ
ネル基板の劣化による表示品質の低下もなく、表示特性
も同様であり、従来よりも安価であった。
【図１】実施例１における可撓性基材上に透明電極形成
後の概略図。
後の概略図。
【図２】実施例１における貼り合わせ工程前後の概略斜
視図。
視図。
【図３】パネル基板を用いた液晶表示素子の製造工程の
概略図。
概略図。
【図４】実施例２における可撓性基材上に透明電極形成
後の概略図。
後の概略図。
【図５】実施例２における貼り合わせ工程前後の概略斜
視図。
視図。
【図６】実施例３における可撓性基材上に透明電極形成
後の概略図。
後の概略図。
【図７】実施例３における貼り合わせ工程前後の概略斜
視図。
視図。
【図８】実施例４における可撓性基材上に透明電極形成
後の概略図。
後の概略図。
【図９】実施例４における貼り合わせ工程前後の概略斜
視図。
視図。
【図１０】実施例１における完成した液晶表示素子の概
略斜視図。
略斜視図。
【図１１】実施例２における完成した液晶表示素子の概
略斜視図。
略斜視図。
【図１２】実施例３における完成した液晶表示素子の概
略斜視図。
略斜視図。
【図１３】実施例４における完成した液晶表示素子の概
略斜視図。
略斜視図。
１．可撓性基材 ２．透明電極 ３．パネル基板 ４．可撓性基材 ５．透明電極 ６．パネル基板 ７．可撓性基材の長辺方向 ８．可撓性基材の短辺方向 ９．可撓性基材の長辺方向 １０．可撓性基材の短辺方向 ２０．配向膜 ２２．シール部材
Claims (10)
- 【請求項１】第１の可撓性基材上に形成される第１の透
明電極と、第２の可撓性基材上に形成される第２の透明
電極とを直交するように対向配置させた液晶表示素子で
あって、前記第１の透明電極は前記第１の可撓性基材の
長辺方向又は短辺方向と第１の所定角度をつけて形成さ
れることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項２】請求項１に記載の液晶表示素子であって、
前記第２の透明電極は前記第２の可撓性基材の長辺方向
又は短辺方向と第２の所定角度をつけて形成されること
を特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項３】請求項１又は請求項２に記載の液晶表示素
子であって、前記第１の所定角度は５°以上８５°以下
であることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項４】請求項２又は請求項３に記載の液晶表示素
子であって、前記第２の所定角度は５°以上８５°以下
であることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項５】第１の透明電極を第１の可撓性基材の長辺
方向又は短辺方向と第１の所定角度をつけて前記第１の
可撓性基材上に形成する工程と、前記第１の透明電極
と、第２の可撓性基材に形成された第２の透明電極とが
直交するよう前記第１の透明電極と前記第２の透明電極
とを対向配置する工程と、を有することを特徴とする液
晶表示素子の製造方法。 - 【請求項６】請求項５記載の液晶表示素子の製造方法で
あって、前記第１の所定角度が５°以上８５°以下であ
ることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項７】請求項５又は請求項６に記載の液晶表示素
子の製造方法であって、前記第２の透明電極を前記第２
の可撓性基材の長辺方向又は短辺方向と第２の所定角度
をつけて前記第２の可撓性基材上に形成する工程をさら
に有する液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項８】請求項７に記載の液晶表示素子の製造方法
であって、 前記第２の所定角度が５°以上８５°以下であることを
特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項９】請求項５乃至請求項８に記載の液晶表示素
子の製造方法であって、前記第１の透明電極及び前記第
２の透明電極のうち少なくとも一方の周囲に光硬性のシ
ール部材を塗布する工程と、前記シール部材を硬化させ
る工程と、をさらに含むことを特徴とする液晶表示素子
の製造方法。 - 【請求項１０】請求項９記載の液晶表示素子の製造方法
であって、前記シール部材を３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ
以下の光を照射することによって硬化させることを特徴
とする液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16427697A JPH1115007A (ja) | 1997-06-20 | 1997-06-20 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16427697A JPH1115007A (ja) | 1997-06-20 | 1997-06-20 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1115007A true JPH1115007A (ja) | 1999-01-22 |
Family
ID=15790020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16427697A Withdrawn JPH1115007A (ja) | 1997-06-20 | 1997-06-20 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1115007A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003102673A3 (en) * | 2002-05-29 | 2004-04-08 | Sipix Imaging Inc | Electrode and connecting designs for roll-to-roll format flexible display manufacturing |
| US7230669B1 (en) * | 1999-05-24 | 2007-06-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and method of fabricating the same |
-
1997
- 1997-06-20 JP JP16427697A patent/JPH1115007A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7230669B1 (en) * | 1999-05-24 | 2007-06-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and method of fabricating the same |
| US7369212B2 (en) | 1999-05-24 | 2008-05-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and method of fabricating the same |
| US7372535B2 (en) | 1999-05-24 | 2008-05-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and method of fabricating the same |
| US7733457B2 (en) | 1999-05-24 | 2010-06-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and method of fabricating the same |
| US7738073B2 (en) | 1999-05-24 | 2010-06-15 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and method of fabricating the same |
| US7897003B2 (en) | 1999-05-24 | 2011-03-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and method of fabricating the same |
| US8289481B2 (en) | 1999-05-24 | 2012-10-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device comprising a shading film with a plurality of light incident holes above each of the transfers and method of fabricating the same |
| WO2003102673A3 (en) * | 2002-05-29 | 2004-04-08 | Sipix Imaging Inc | Electrode and connecting designs for roll-to-roll format flexible display manufacturing |
| US7327346B2 (en) | 2002-05-29 | 2008-02-05 | Sipix Imaging, Inc. | Electrode and connecting designs for roll-to-roll format flexible display manufacturing |
| US8162212B2 (en) | 2002-05-29 | 2012-04-24 | Sipix Imaging, Inc. | Price tag system |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040907 |