JPH11145677A - 電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電磁波シールド性と赤外線遮蔽性、透明性・
非視認性および良好な接着特性を有する電磁波シールド
性接着フィルムおよび該フィルムを用いた電磁波遮蔽構
成体、ディスプレイを提供する。 【解決手段】 活性エネルギー線を照射することにより
硬化する接着剤層を有する導電性金属付きプラスチック
フィルムをマイクロリソグラフ法により導電性金属で描
かれた幾何学図形を有し、その開口率が５０％以上とな
るようにした電磁波シールド性接着フィルム。この電磁
波シールド性接着フィルムをプラスチック板と構成し電
磁波遮蔽構成体とする。そして、電磁波シールド性接着
フィルムまたは電磁波遮蔽構成体をＣＲＴ、ＰＤＰ、液
晶、ＥＬなどのディスプレイ前面に用いたディスプレ
イ。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プ
ラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性および赤外線の遮蔽性を有する
電磁波シールド性接着フィルム及び該フィルムを用いた
電磁波遮蔽体、ディスプレイに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の
一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズ
と放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、
ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノ
イズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要が
あるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブ
ルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。こ
れらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド
効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレ
イ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透
明であるため適用できなかった。

【０００３】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８０
０号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、
特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５
２４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度の
ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成
し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパター
ンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８
８９号公報参照）が提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド性と透
明性を両立させる方法として、特開平１−２７８８００
号公報、特開平５−３２３１０１号公報に示されている
透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導
電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚
（数１００Å〜２、０００Å）にすると導電層の表面抵
抗が大きくなりすぎるため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要
求される３０ｄＢ以上のシールド効果に対して２０ｄＢ
以下と不十分であった。良導電性繊維を透明基材に埋め
込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公
報、特開平５−２６９９１２号公報）では、３０ＭＨｚ
〜１ＧＨｚの電磁波シールド効果は４０〜５０ｄＢと十
分大きいが、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則
配置させるために必要な繊維径が３５μｍと太すぎるた
め、繊維が見えてしまい（以後視認性という）ディスプ
レイ用途には適したものではなかった。また、特開昭６
２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報の
金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷し
た電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷精度の限界
からライン幅は、１００μｍ前後となり視認性が発現す
るため適したものではなかった。さらに特開平５−２８
３８８９号公報に記載の厚さが２ｍｍ程度のポリカーボ
ネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に
無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成した
シールド材料では、無電解めっきの密着力を確保するた
めに、透明基板の表面を粗化する必要がある。この粗化
手段として、一般にクロム酸や過マンガン酸などの毒性
の高い酸化剤を使用しなければならず、この方法は、Ａ
ＢＳ以外の樹脂では、満足できる粗化を行うことは困難
となる。この方法により、電磁波シールド性と透明性は
達成できたとしても、透明基板の厚さを小さくすること
は困難で、フィルム化の方法としては適していなかっ
た。さらに透明基板が厚いと、ディスプレイに密着させ
ることができないため、そこから電磁波の漏洩が大きく
なる。また製造面においては、シールド材料を巻物等に
することができないため嵩高くなることや自動化に適し
ていないために製造コストがかさむという欠点もあっ
た。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性
については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以
上の電磁波シールド機能の他に、ディスプレイ前面より
発生する９００〜１、１００ｎｍの赤外線はリモートコ
ントロールで操作する他のＶＴＲ機器等に悪影響を及ぼ
すため、これを遮蔽する必要がある。この他にも良好な
可視光透過性、さらに可視光透過率が大きいだけでな
く、電磁波の漏れを防止するためディスプレイ面に密着
して貼付けられる接着性、シールド材の存在を肉眼で確
認することができない特性である非視認性も必要とされ
る。接着性についてはガラスや汎用ポリマー板に対し比
較的低温で容易に貼付き、長期間にわたって良好な密着
性を有することが必要である。しかし、電磁波シールド
性、赤外線遮蔽性、透明性・非視認性、接着性等の特性
を同時に十分満たす接着フィルムとしては、これまで満
足なものは得られていなかった。本発明はかかる点に鑑
み、電磁波シールド性と赤外線遮蔽性、透明性・非視認
性および良好な接着特性を有する電磁波シールド性接着
フィルムおよび該フィルムを用いた電磁波遮蔽体、ディ
スプレイを得るすることを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の発明は、電磁波シールド性と透明性および簡便な接着
性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供するた
め、活性エネルギー線を照射することにより硬化する接
着剤層を有する導電性金属付きフィルムにおいて、マイ
クロリソグラフ法により導電性金属で描かれた幾何学図
形を有し、その開口率を５０％以上とするものである。
本発明の請求項２に記載の発明は、安価で量産性に優れ
た電磁波シールド性と透明性および簡便な接着性を有す
る電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、請求
項１のマイクロリソグラフ法の微細回路加工法にフォト
リソグラフ法を使用するものである。本発明の請求項３
に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性および簡便
な接着性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供
するため、活性エネルギー線を照射することにより硬化
する接着剤層における活性エネルギー線を紫外線または
電子線とするものである。本発明の請求項４に記載の発
明は、電磁波シールド性と透明性および簡便な接着性を
有する電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、
活性エネルギー線を照射することにより硬化する接着剤
層の硬化後の屈折率を１．４５〜１．７０とするもので
ある。本発明の請求項５に記載の発明は、電磁波シール
ド性と透明性および優れた接着性を有する電磁波シール
ド性接着フィルムを提供するため、活性エネルギー線を
照射することにより硬化する接着剤層の厚さを導電性金
属の厚さ以上とするものである。本発明の請求項６に記
載の発明は、電磁波シールド性と透明性および優れた赤
外線遮蔽性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提
供するため、活性エネルギー線を照射することにより硬
化する接着剤層中に赤外線吸収剤が含有されていること
を特徴とするものである。本発明の請求項７に記載の発
明は電磁波シールド性と非視認性に優れた電磁波シール
ド性接着フィルムを提供するため、プラスチックフィル
ム上に導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅を４
０μｍ以下、ライン間隔を１００μｍ以上、ライン厚さ
を４０μｍ以下とするものである。本発明の請求項８に
記載の発明は、加工性や密着性に優れ、安価な電磁波シ
ールド性と非視認性を有する電磁波シールド性接着フィ
ルムを提供するため、導電性金属の厚みが０．５〜４０
μｍの銅、アルミニウムまたはニッケルを使用するもの
である。本発明の請求項９に記載の発明は、電磁波シー
ルド性と透明性に優れた電磁波シールド性接着フィルム
を安価に提供するため、フォトリソグラフ法のうちケミ
カルエッチング法を利用するものである。本発明の請求
項１０に記載の発明は、透明性、安価、耐熱性良好で取
り扱い性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供
するため、プラスチックフィルムをポリエチレンテレフ
タレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムとす
るものである。本発明の請求項１１に記載の発明は、退
色性が小さく、コントラストの大きい電磁波シールド性
接着フィルムを提供するため、導電性金属を銅とし、少
なくともその表面が黒化処理されていることを特徴とす
るものである。本発明の請求項１２に記載の発明は、磁
場シールド性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを
提供するため、導電性金属に常磁性金属を使用するもの
である。

【０００６】本発明の請求項１３に記載の発明は、電磁
波シールド性と透明性を有する電磁波シールド性基板を
提供するため、上記の電磁波シールド性接着フィルムと
プラスチック板から構成された電磁波遮蔽構成体とする
ものである。本発明の請求項１４に記載の発明は、電磁
波シールド性と透明性を有する電磁波シールド性基板を
提供するため、上記の電磁波シールド性接着フィルムを
少なくともプラスチック板の片面に貼り合わせた電磁波
遮蔽構成体とするものである。本発明の請求項１５に記
載の発明は、上記の電磁波シールド性と透明性及び赤外
線遮蔽性を有する電磁波シールド性基板を提供するた
め、上記の電磁波シールド性接着フィルムをプラスチッ
ク板の片面に貼り合わせ、他面に赤外線遮蔽性を有する
接着剤または接着フィルムを貼り合わせた電磁波遮蔽構
成体とするものである。本発明の請求項１６に記載の発
明は、電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シール
ド性接着フィルムをディスプレイに用いたものである。
本発明の請求項１７に記載の発明は、上記の電磁波シー
ルド性と透明性を有する電磁波シールド性接着フィルム
とプラスチック板からなる電磁波遮蔽構成体をディスプ
レイに用いたものである。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明に用いる活性エネルギー線を照射することにより
硬化する接着剤層は、紫外線もしくは電子線等の活性エ
ネルギー線を照射することにより硬化する接着剤組成物
のことで、好適には導電性金属で描かれた幾何学図形、
接着剤層及びプラスチックフィルムを基本構成とする電
磁波シールド性接着フィルムを被着体であるディスプレ
イやプラスチック板に接着した後、活性エネルギー線を
照射して硬化させることが望ましい。活性エネルギー線
を被着体に接着させる前に照射して予め硬化の程度を進
めておくこともできる。この場合、硬化の程度を進めた
後の接着剤層の溶融粘度が、２００℃における回転粘度
計により測定した数値で、１００００ポイズ以下である
ことが好ましい。これは、接着剤層の硬化の程度を進め
た後でも貼り付けによる接着等の加工を可能とするため
接着剤層の流動性を確保しておくためである。硬化を完
全にした状態でも接着剤層が流動性や接着性を発現でき
るものであればそれでも良い。

【０００８】本発明で使用する活性エネルギー線である
紫外線、電子線等により硬化する接着剤層の材料として
は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、
ウレタン樹脂等をベースポリマとし、各々にラジカル重
合性あるいはカチオン重合性官能基を付与させた材料が
例示できる。ラジカル重合性官能基として、アクリル基
（アクリロイル基），メタクリル基（メタクリロイル
基），ビニル基，アリル基などの炭素−炭素二重結合が
あり、反応性の良好なアクリル基（アクリロイル基）が
好適に用いられる。カチオン重合性官能基としては、エ
ポキシ基（グリシジルエーテル基、グリシジルアミン
基）が代表的であり、高反応性の脂環エポキシ基が好適
に用いられる。具体的な材料としては、アクリルウレタ
ン、エポキシ（メタ）アクリレート、エポキシ変性ポリ
ブタジエン、エポキシ変性ポリエステル、ポリブタジエ
ン（メタ）アクリレート、アクリル変性ポリエステル等
が挙げられる。

【０００９】活性エネルギー線が紫外線の場合、紫外線
硬化時に添加される光増感剤あるいは光開始剤として
は、ベンゾフェノン系、アントラキノン系、ベンゾイン
系、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩、オニウム塩、ハ
ロニウム塩等の公知の材料を使用することができる。ま
た、上記の材料の他に汎用の熱可塑性樹脂をブレンドし
ても良い。汎用の熱可塑性樹脂としては、たとえば天然
ゴム(屈折率ｎ=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリ
−１，２−ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n=1.5
05〜1.51)、ポリブテン(n=1.513)、ポリ−２−ヘプチル
−１，３−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−２−ｔ−ブチル
−１，３−ブタジエン(n=1.506)、ポリ−１，３−ブタ
ジエン(n=1.515)などの（ジ）エン類、ポリオキシエチ
レン(n=1.456)、ポリオキシプロピレン(n=1.450)、ポリ
ビニルエチルエーテル(n=1.454)、ポリビニルヘキシル
エーテル(n=1.459)、ポリビニルブチルエーテル(n=1.45
6)などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート(n=1.4
67)、ポリビニルプロピオネート(n=1.467)などのポリエ
ステル類、ポリウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセルロー
ス(n=1.479)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポリア
クリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル(n=
1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=1.
6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリエチルアクリレ
ート(n=1.469)、ポリブチルアクリレート(n=1.466)、ポ
リ−２−エチルヘキシルアクリレート(n=1.463)、ポリ
−ｔ−ブチルアクリレート(n=1.464)、ポリ−３−エト
キシプロピルアクリレート(n=1.465)、ポリオキシカル
ボニルテトラメタクリレート(n=1.465)、ポリメチルア
クリレート(n=1.472〜1.480)、ポリイソプロピルメタク
リレート(n=1.473)、ポリドデシルメタクリレート(n=1.
474)、ポリテトラデシルメタクリレート(n=1.475)、ポ
リ−ｎ−プロピルメタクリレート(n=1.484)、ポリ−
３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート
(n=1.484)、ポリエチルメタクリレート(n=1.485)、ポリ
−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート(n=
1.487)、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレー
ト(n=1.489)、ポリメチルメタクリレート(n=1.489)など
のポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。
これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共
重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使用する
ことも可能である。

【００１０】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合樹脂としてはエポキシアクリレート(n=1.48〜1.6
0)、ウレタンアクリレート(n=1.5〜1.6)、ポリエーテル
アクリレート(n=1.48〜1.49)、ポリエステルアクリレー
ト(n=1.48〜1.54)なども使うこともできる。特に接着性
の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシ
アクリレートとしては、１、６−ヘキサンジオールジグ
リシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジ
ルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、
レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグ
リシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポ
リエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリント
リグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグ
リシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエー
テル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポ
キシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有する
ポリマーは接着性向上に有効である。これらの共重合樹
脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。こ
れらの接着剤となるポリマーの軟化温度は、取扱い性か
ら２００℃以下が好適で、１５０℃以下がさらに好まし
い。電磁波シールド性接着フィルムの用途から、使用さ
れる環境が通常８０℃以下であるので接着剤層の軟化温
度は、加工性から８０〜１２０℃が最も好ましい。一
方、ポリマーの重量平均分子量は、５００以上のものを
使用することが好ましい。分子量が５００以下では接着
剤組成物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が
低下するおそれがある。本発明で使用する接着剤樹脂組
成物には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、
充填剤、着色剤、紫外線吸収剤や粘着付与剤などの添加
剤を配合してもよい。

【００１１】本発明で用いる活性エネルギー線を照射す
ることにより硬化する接着剤層の硬化後の屈折率として
は１．４５〜１．７０の範囲のものを使用することが好
ましい。これは本発明で使用するプラスチックフィルム
と硬化後の接着剤層の屈折率、または導電性金属付きプ
ラスチックフィルムに導電性金属を接着するために使用
した接着剤と本発明で使用する硬化後の接着剤層の屈折
率が異なると可視光透過率が低下するためであり、屈折
率が１．４５〜１．７０であると可視光透過率の低下が
少なく良好で上述したポリマーの屈折率はこの範囲内に
ある。

【００１２】本発明の導電性金属として、銅、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステ
ン、クロム、チタンなどの金属、あるいはそれらの金属
の２種以上を組み合わせた合金を使用することができ
る。導電性や回路加工の容易さ、価格の点から銅、アル
ミニウムまたはニッケルが適しており、厚さが０．５〜
４０μｍの金属箔、めっき金属、蒸着などの真空下で形
成される金属が使われる。厚さが４０μｍを超えると、
細かいライン幅の形成が困難であったり、視野角が狭く
なる。また厚さが０．５μｍ未満では、表面抵抗が大き
くなり、電磁波シールド効果が劣る傾向にある。

【００１３】導電性金属が銅であり、少なくともその表
面が黒化処理されたものであると、コントラストが高く
なり好ましい。また導電性金属が経時的に酸化され退色
されることが防止できる。黒化処理は、幾何学図形の形
成前後で行えばよいが、通常形成後において、プリント
配線板分野で行われている方法を用いて行うことができ
る。例えば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸
化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２
ｇ／ｌ）の水溶液中、９５℃で２分間処理することによ
り行うことができる。また導電性金属が、常磁性金属で
あると、磁場シールド性に優れるために好ましい。かか
る導電性金属を上記プラスチックフィルムに密着させる
方法としては、アクリルやエポキシ系樹脂を主成分とし
た上記の活性エネルギー線を照射することにより硬化す
る接着剤を介して貼り合わせるのが最も簡便である。導
電性金属の導電層の厚みを小さくする必要がある場合は
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化
学蒸着法、無電解・電気めっき法などの薄膜形成技術の
うちの１または２以上の方法を組み合わせることにより
達成できる。導電性金属の厚みは４０μｍ以下とするこ
とが好ましく、厚みが薄いほどディスプレイの視野角が
広がり電磁波シールド材料として好ましく、１８μｍ以
下とすることがさらに好ましい。

【００１４】本発明で使用するプラスチックフィルムと
しては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ
エチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポ
リオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
などのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサル
ホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ア
クリル樹脂などのプラスチックからなるフィルムで全可
視光透過率が７０％以上で厚さが１ｍｍ以下のものが好
ましい。これらは単層で使うこともできるが、２層以上
を組み合わせた多層フィルムとして使用してもよい。前
記プラスチックフィルムのうち透明性、耐熱性、取り扱
いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレートフ
ィルムまたはポリカーボネートフィルムが好ましい。プ
ラスチックフィルム厚さは、５〜５００μｍが好まし
い。５μｍ未満だと取り扱い性が悪くなり、５００μｍ
を超えると可視光の透過率が低下してくる。１０〜２０
０μｍとすることがより好ましい。

【００１５】本発明の導電性金属で描かれた幾何学図形
は、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角
形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの
四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角
形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形（ｎは正の整
数）、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、
これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上組
み合わせで使うことも可能である。電磁波シールド性の
観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性の
点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が大き
いほど開口率が上がるが、可視光透過性の点から開口率
は５０％以上が必要とされる。開口率は、６０％以上が
さらに好ましい。開口率は、電磁波シールド性接着フィ
ルムの有効面積に対する有効面積から導電性金属で描か
れた幾何学図形の導電性金属の面積を引いた面積の比の
百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波シール
ド性接着フィルムの有効面積とした場合、その画面が見
える割合となる。

【００１６】このような幾何学図形を形成させる方法と
しては、上記導電性金属付きのプラスチックフィルムを
マイクロリソグラフ法で作製するのが回路加工の精度お
よび回路加工の効率の点から有効である。このマイクロ
リソグラフ法には、フォトリソグラフ法、Ｘ線リソグラ
フ法、電子線リソグラフ法、イオンビームリソグラフ法
などがあり、これらの他にスクリーン印刷法なども含ま
れる。これらの中でも、その簡便性、量産性の点からフ
ォトリソグラフ法が最も効率がよい。なかでも、ケミカ
ルエッチング法を使用したフォトリソグラフ法は、その
簡便性、経済性、回路加工精度などの点から最も好まし
い。フォトリソグラフ法の中ではケミカルエッチング法
の他にも無電解めっきや電気めっきによる方法、または
無電解めっきや電気めっきとケミカルエッチング法を組
み合わせて幾何学図形を形成することも可能である。

【００１７】このような幾何学図形のライン幅は４０μ
ｍ以下、ライン間隔は１００μｍ以上、ライン厚みは４
０μｍ以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形
の非視認性の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光
透過率の点からライン間隔は１２０μｍ以上、ライン厚
み１８μｍ以下がさらに好ましい。ライン幅は、４０μ
ｍ以下、好ましくは２５μｍ以下が好ましく、あまりに
小さく細くなると表面抵抗が大きくなりすぎてシールド
効果に劣るので１μｍ以上が好ましい。ライン厚みは４
０μｍ以下が好ましく、あまりに厚みが薄いと表面抵抗
が大きくなりすぎてシールド効果に劣るので０．５μｍ
以上が好ましく、１μｍ以上がさらに好ましい。ライン
間隔は、大きいほど開口率は向上し、可視光透過率は向
上する。前述のようにディスプレイ前面に使用する場
合、開口率は５０％以上が必要であるが、６０％以上が
さらに好ましい。ライン間隔が大きくなり過ぎると、電
磁波シールド性が低下するため、ライン幅は１０００μ
ｍ（１ｍｍ）以下とするのが好ましい。なお、ライン間
隔は、幾何学図形等の組合せで複雑となる場合、繰り返
し単位を基準として、その面積を正方形の面積に換算し
てその一辺の長さをライン間隔とする。

【００１８】本発明で使用する赤外線吸収剤として、酸
化鉄、酸化セリウム、酸化スズや酸化アンチモンなどの
金属酸化物、またはインジウム−スズ酸化物（以下ＩＴ
Ｏ）、六塩化タングステン、塩化スズ、硫化第二銅、ク
ロム−コバルト錯塩、チオール−ニッケル錯体またはア
ミニウム化合物、ジイモニウム化合物（日本化薬株式会
社製商品名）またはアントラキノン系（ＳＩＲ−１１
４）、金属錯体系（ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、
ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９、ＳＩＲ−１５２、Ｓ
ＩＲ−１６２）、フタロシアニン系（ＳＩＲ−１０３）
（以上、三井東圧化学株式会社製商品名）などの有機系
赤外線吸収剤などが挙げられ、これらを上記接着剤層中
に含有させることが好ましい。この他にバインダー樹脂
中に分散させた組成物を接着剤としてプラスチックフィ
ルム上に形成した活性エネルギー線を照射することによ
り硬化する接着剤層の面に塗布したり、プラスチックの
面に直接塗布しさらにその上に活性エネルギー線を照射
することにより硬化する接着剤層を形成したり、プラス
チックフィルムに形成した接着剤層の面と反対側のフィ
ルム背面に塗布することもできる。また、予めプラスチ
ックフィルム中に赤外線吸収剤を含有させたプラスチッ
クフィルムを使用することもできる。これらの赤外線吸
収性化合物のうち、最も効果的に赤外線を吸収する効果
があるのは、硫化第二銅、ＩＴＯ、アミニウム化合物、
ジイモニウム化合物や金属錯体系などの赤外線吸収剤で
ある。有機系赤外線吸収剤以外の赤外線吸収剤の場合、
これらの化合物の一次粒子の粒径に注意する必要があ
る。粒径が赤外線の波長より大きすぎると遮蔽効率は向
上するが、粒子表面で乱反射が起き、ヘイズが増大する
ため透明性が低下する。一方、粒径が赤外線の波長に比
べて短かすぎると遮蔽効果が低下する。好ましい粒径は
０．０１〜５μｍで０．１〜３μｍがさらに好ましい。

【００１９】赤外線吸収性の材料である赤外線吸収剤
は、バインダー樹脂として、例えば、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノ
ボラック型エポキシ樹脂などのエポキシ系樹脂、ポリイ
ソプレン、ポリ−１，２−ブタジエン、ポリイソブテ
ン、ポリブテンなどのジエン系樹脂、エチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、ｔ−ブチルアクリレートなどからなるポリアクリ
ル酸エステル共重合体、ポリビニルアセテート、ポリビ
ニルプロピオネートなどのポリエステル系樹脂、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどの
ポリオレフィン系樹脂などのバインダー樹脂中に均一に
分散される。その配合の最適量は、バインダー樹脂１０
０重量部に対して赤外線吸収剤が０．０１〜１０重量部
であるが、０．１〜５重量部がさらに好ましい。０．０
１重量部未満では赤外線遮蔽効果が少なく、１０重量部
を超えると透明性が損なわれる。

【００２０】接着剤層中に、上記の赤外線吸収剤を含有
させた接着剤層はプラスチックフィルムの片面に形成さ
れ、さらにその接着剤層の面に導電性金属が被覆される
と好ましい。また、前述したように、赤外線吸収剤を含
有した組成物をプラスチックフィルム面に形成し、その
上に活性エネルギー線を照射することにより硬化する接
着剤層（赤外線吸収剤を含有または含有してなくても良
い）を形成してもよいし、プラスチックフィルム面に活
性エネルギー線を照射することにより硬化する接着剤層
を形成し、その上に赤外線吸収剤を含有した組成物を形
成しても良い。さらに、電磁波シールド性接着フィルム
の導電性金属の反対側の面に形成しても良い。また、電
磁波シールド性接着フィルムとプラスチック板から構成
された電磁波遮蔽構成体のいずれかの層に形成しても良
い。例えば、１枚の電磁波シールド性接着フィルムと１
枚のプラスチック板から構成された電磁波遮蔽構成体で
あれば、電磁波シールド性接着フィルムの面Ａ、電磁波
シールド性接着フィルムとプラスチック板の間の面Ｂ、
プラスチック板の面Ｃのいずれの面に形成しても良い。
この場合、赤外線吸収剤を含有した組成物は、これを直
接上記のＡ，Ｂ，Ｃの少なくとも一つの面に形成しても
良い。赤外線吸収剤を含有した層が少なくとも１層は必
要であり、それ以外の層は赤外線吸収剤を含有してなく
ても良い。赤外線吸収剤を含有した層は、接着性を有し
ていた方が、作業性や加工性が容易となり好ましい。具
体的には、電磁波シールド性接着フィルムの接着剤層面
またはフィルム背面に０．１〜１０μｍの厚さで塗布さ
れる。塗布された、赤外線吸収性の化合物を含む組成物
は熱や紫外線を使用して硬化させてもよい。一方、赤外
線吸収剤は上述した活性エネルギー線を照射することに
より硬化する接着剤層の接着剤組成物に直接混合して使
うことも可能である。その際の添加量は接着剤の主成分
となるポリマー１００重量部に対して効果と透明性か
ら、０．０１〜５重量部が最適である。

【００２１】本発明で使用するプラスチック板は、プラ
スチックからなる板であり、具体的には、ポリスチレン
樹脂(n=1.59)、アクリル樹脂(n=1.49)、ポリメチルメタ
クリレート樹脂(n=1.49)、ポリカーボネート樹脂(n=1.5
8)、ポリ塩化ビニル樹脂(n=1.54)、ポリ塩化ビニリデン
樹脂(n=1.6〜1.63)、ポリエチレン樹脂(n=1.51)、ポリ
プロピレン樹脂(n=1.50)、ポリアミド樹脂(n=1.52)、ポ
リアミドイミド樹脂(n=1.5)、ポリエーテルイミド樹脂
(n=1.5)、ポリエーテルケトン樹脂(n=1.45)、ポリアリ
レート樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリアセタール樹脂(n=1.5〜
1.6)、ポリブチレンテレフタレート樹脂(n=1.57)、ポリ
エチレンテレフタレート樹脂(n=1.58)などの熱可塑性ポ
リエステル樹脂、酢酸セルロース樹脂(n=1.49)、フッ素
樹脂(n=1.4〜1.5)、ポリスルホン樹脂(n=1.63)、ポリエ
ーテルスルホン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリメチルペンテ
ン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリウレタン樹脂(n=1.45〜1.
6)、フタル酸ジアリル樹脂(n=1.45〜1.6)などの熱可塑
性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの中でも透
明性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメ
チルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ
塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポ
リメチルペンテン樹脂が好適に用いられる。本発明で使
用するプラスチック板の厚みは、０．５ｍｍ〜５ｍｍが
ディスプレイの保護や強度、取扱性から好ましい。

【００２２】本発明の電磁波遮蔽構成体は、電磁波シー
ルド性接着フィルムとプラスチック板から構成され、そ
の組合せは多数有る。図１は本発明の電磁波シールド性
接着フィルムの斜視図（ａ）と断面図（ｂ）であり、加
熱または加圧により流動する接着剤層１と導電性金属で
描かれた幾何学図形２とプラスチックフィルム３から電
磁波シールド性接着フィルム４が構成される。この電磁
波シールド性接着フィルム４は、図２（ａ）に示すよう
にディスプレイの画面５に直接形成しても良いし、図２
（ｂ）に示すようにプラスチック板６の片面に形成しど
ちらかの面をディスプレイ画面に接着剤又は取付治具を
介してディスプレイ画面に設ける。図２（ｃ）は、前述
した赤外線吸収剤を含有した接着剤組成物７をプラスチ
ック板６の一方の面に、他方の面に電磁波シールド性接
着フィルム４を形成した電磁波遮蔽構成体８の例であ
る。また、図２（ｄ）はプラスチックフィルム３の片面
に赤外線吸収剤を含有した接着剤組成物７を形成し接着
剤面をプラスチック板６に接着させ、他方の面に電磁波
シールド性接着フィルム４を形成した電磁波遮蔽構成体
８の例である。図２（ｅ）は、電磁波シールド性接着フ
ィルム４とプラスチック板６より構成され、電磁波シー
ルド性接着フィルム４の上面に接着剤層９を形成し、こ
の接着剤層９をディスプレイ画面５に張り合わせる電磁
波遮蔽構成体８である。図２（ｆ）は、電磁波シールド
性接着フィルム４のプラスチックフィルム面側に接着剤
層９を形成しその面にプラスチック板６を設け、電磁波
シールド性接着フィルム４の導電性金属で描かれた幾何
学図形が形成された面にプラスチック板６を形成した電
磁波遮蔽構成体８である。電磁波シールド性接着フィル
ムや電磁波遮蔽構成体のいずれかの面には、赤外線遮蔽
性を有する層、反射防止処理を有する層、防眩処理を有
する層、表面硬度の高い耐擦性を有する層を形成するこ
とができる。これらは例示であり、この他の形態で使用
することができる。ガラス板の片面に電磁波シールド性
接着フィルムを接着し、このガラス板をディスプレイ前
面に取り付けガラス面がディスプレイ装置の外側になる
ようにしても良い。

【００２３】本発明の電磁波シールド性接着フィルム
は、活性エネルギー線を照射することにより硬化する接
着剤層、幾何学図形を有する導電性金属及びプラスチッ
クフィルムから基本的に構成される。導電性金属は金属
箔の使用が好ましく、この場合接着性向上のため金属箔
の面を粗化形状にすることが多く、幾何学図形を形成す
ると、除去された金属部分は、接着層にその粗化形状を
転写して金属と接している接着剤層の部分に粗化形状が
転写されてしまい可視光線がそこで散乱されてしまうの
で光線透過率が低下し透明性が損なわれる。また、プラ
スチックフィルムにおいても、フィルムの成形加工性向
上のため微量のフィラーを添加しフィルム表面に凹凸を
付与しフィルム巻き取り時のフィルム同士の滑りを良く
して巻き取り性を向上させたり、フィルム表面に接着剤
との接着性向上のためマット加工等の粗化処理をされる
ことがある。このように、接着剤層の導電性金属が除去
された部分やプラスチックフィルム自体は密着性向上等
のために意図的に凹凸を有していたり、導電性金属の背
面形状を転写したりするためにその表面で光が散乱さ
れ、透明性が損なわれるが、本発明の活性エネルギー線
を照射することにより硬化する接着剤層は、基本的には
架橋・硬化構造を形成してないので流動性に優れプラス
チックフィルムの凹凸面を埋めその凹凸面にプラスチッ
クフィルムと屈折率が近い樹脂が平滑に塗布されると乱
反射が最小限に押さえられ、また導電性金属の粗化形状
の転写は、接着剤層が流動することにより解消され被着
体の表面形状に沿って流動するので透明性が発現するよ
うになると考えられる。そして、活性エネルギー線によ
り流動させてから架橋・硬化させるので、耐熱性に優れ
た接着剤層となる。さらにプラスチックフィルム上の導
電性材料で形成された幾何学図形は、ライン幅が非常に
小さいため肉眼で視認されない。またライン間隔も十分
に大きいため見掛け上透明性を発現すると考えられる。
一方、遮蔽すべき電磁波の波長に比べて、幾何学図形の
ライン間隔は十分に小さく、優れたシールド性を発現す
ると考えられる。

【００２４】

【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。 （実施例１） ＜電磁波シールド性接着フィルム１及び電磁波遮蔽構成
体１作製例＞プラスチックフィルムとして厚さ５０μｍ
のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東
洋紡績株式会社製、商品名Ａ−４１００、屈折率ｎ=
１．５７５）を用い、その片面に下記の赤外線吸収剤を
含む接着剤層1を室温でアプリケータを用いて所定の乾
燥塗布厚になるように塗布し、９０℃、２０分間加熱乾
燥させた。その接着剤層１を介して導電性金属である厚
さ１２μｍの電解銅箔を、その粗化面が接着剤層側にな
るようにして、１８０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で
加熱ラミネートして導電性金属付きプラスチックフィル
ムである銅箔付きＰＥＴフィルムを得た。得られた銅箔
付きＰＥＴフィルムにケミカルエッチング法を使ったフ
ォトリソグラフ工程（レジストフィルム貼付け−露光−
現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を
経て、ライン幅２５μｍ、ライン間隔２５０μｍの銅格
子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し、電磁波シール
ド性接着フィルム１を得た。この電磁波シールド性接着
フィルム１の可視光透過率は２０％以下であった。この
電磁波シールド性接着フィルム１を熱プレス機を使用し
市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品
名、厚み３ｍｍ、ｎ＝１．４９）に接着剤層が形成され
ている面が接するようにして１１０℃、２０Ｋｇ／ｃｍ
²、１５分の条件で加熱圧着し、紫外線照射装置により
ＰＥＴフィルム側から３Ｊ／ｃｍ²の紫外線により接着
剤層を硬化させ電磁波遮蔽構成体１を得た。接着剤層１
の組成物を使用し、乾燥後の接着剤層１の厚みが２０μ
ｍになるようにして作製した電磁波シールド性接着フィ
ルム１とプラスチック板から得た電磁波遮蔽構成体１を
実施例１とした。

【００２５】 ＜接着剤層１の組成物＞ バイロンＢＫ−４１０３（東洋紡績株式会社製商品名；アクリル変性ポリエステ ル樹脂、Ｍｎ=４万） １００重量部 ＳＩＲ−１５９（赤外線吸収剤１：三井東圧株式会社製商品名） ０．５重量部 ベンゾフェノン（和光純薬工業株式会社製） ５重量部 トルエン ４５０重量部 酢酸エチル １０重量部 上記の接着剤層１の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
５２、２００℃の溶融粘度は１５００ポイズであった。

【００２６】（実施例２） ＜電磁波シールド性接着フィルム２及び電磁波遮蔽構成
体２作製例＞厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムの片面に下
記の赤外線吸収剤を含む接着剤層２を室温でアプリケー
タを用いて塗布し、９０℃、２０分間加熱乾燥させた。
その接着剤層２を介して厚さ２５μｍのアルミ箔を加熱
ラミネート（１３０℃、２０Ｋｇ／ｃｍ²）してアルミ
箔付きＰＥＴフィルムを得た。このアルミ箔付きＰＥＴ
フィルムに実施例１の電磁波シールド性接着フィルム１
及び電磁波遮蔽構成体１作製例と同様のフォトリソグラ
フ工程を経て、ライン幅１５μｍ、ライン間隔１２５μ
ｍのアルミ格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し
た。この電磁波シールド性接着フィルム２の可視光透過
率は２０％以下であった。この電磁波シールド性接着フ
ィルム２を市販のアクリル板（コモグラス；株式会社ク
ラレ製商品名、厚み３ｍｍ）に接着剤層が形成されてい
る面が接するように１２０℃、３０Ｋｇｆ／ｃｍ²、３
０分の条件で熱プレス機を使用し加熱圧着し、紫外線照
射装置によりＰＥＴフィルム側から３Ｊ／ｃｍ²の紫外
線を照射して接着剤層を硬化させ電磁波遮蔽構成体２を
得た。 接着剤層２の組成物を使用し、乾燥後の接着剤
層２の厚みが４０μｍになるようにして作製した電磁波
シールド性接着フィルム２とプラスチック板から得た電
磁波遮蔽構成体２を実施例２とした。

【００２７】 ＜接着剤層２の組成物＞ バイロンＥＰ−２９４０（東洋紡績株式会社製商品名；エポキシ変性ポリエステ ル樹脂、Ｍｎ=４万） １００重量部 ＵＦＰ−ＨＸ（赤外線吸収剤２：住友金属鉱山株式会社製商品名；ＩＴＯ、平均 粒径０．１μｍ） ０．４重量部 サイラキュアＵＶＩ−６９７０（ユニオンカーバイド日本株式会社商品名、芳香 族スルホニウム塩化合物） ５重量部 ＭＥＫ ３３０重量部 シクロヘキサノン １５重量部 上記の接着剤層２組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．５
４、２００℃の溶融粘度は１２００ポイズであった。

【００２８】（実施例３） ＜電磁波シールド性接着フィルム３及び電磁波遮蔽構成
体３作製例＞厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムの片面に下
記の接着剤層３を室温でアプリケータを用いて塗布し、
９０℃、２０分間加熱乾燥させた。その接着剤層に、マ
スク層を用いて無電解ニッケルめっきを格子状に形成す
ることによりライン幅１０μｍ、ライン間隔１００μ
ｍ、厚さ１μｍのニッケル格子パターンをＰＥＴフィル
ム上に形成した電磁波シールド性接着フィルム３を作製
した。この電磁波シールド性接着フィルム３の可視光透
過率は２０％以下であった。この電磁波シールド性接着
フィルム３をロールラミネータを使用し市販のアクリル
板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍ
ｍ）に接着剤層が形成されている面が接するようにして
１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で加熱圧着し、紫
外線照射装置によりＰＥＴフィルム側から３Ｊ／ｃｍ²
の紫外線を照射して接着剤層を硬化させ電磁波遮蔽構成
体３を得た。接着剤層３の組成物を使用し、乾燥後の接
着剤層３の厚みが５μｍになるようにして作製した電磁
波シールド性接着フィルム３とプラスチック板から得た
電磁波遮蔽構成体３を実施例３とした。

【００２９】 ＜接着剤層３の組成物＞ ポリベックＲ−４５ＡＣＲ−ＬＣ（出光石油化学株式会社製商品名；アクリロイ ル変性ポリブタジエン樹脂） １００重量部 ＩＲＧ―００２（赤外線吸収剤３：日本化薬株式会社株製商品名；アミニウム系 化合物） １．２重量部 ベンゾフェノン（和光純薬工業株式会社製） ５重量部 ＭＥＫ ２８５重量部 シクロヘキサノン ５重量部 上記の接着剤層３の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
５０、２００℃での溶融粘度は７０ポイズであった。

【００３０】（実施例４） ＜電磁波シールド性接着フィルム４及び電磁波遮蔽構成
体４作製例＞実施例１の電磁波シールド性接着フィルム
１及び電磁波遮蔽構成体１作製例において、接着剤層１
の組成物からベンゾフェノンを除き、下記の接着剤層４
の組成物とし、紫外線照射装置に代えて電子線照射装置
を使用し、ＰＥＴフィルム側から５Ｍｒａｄ照射して接
着剤層４を硬化させ電磁波遮蔽構成体４を得た。接着剤
層４の組成物を使用し、乾燥後の接着剤層４の厚みが２
０μｍになるようにし、その他は電磁波シールド性接着
フィルム１及び電磁波遮蔽構成体１と同様にして作製し
た電磁波シールド性接着フィルム４とプラスチック板か
ら得た電磁波遮蔽構成体４を実施例４とした。

【００３１】 ＜接着剤層４の組成物＞ バイロンＢＫ−４１０３（東洋紡績株式会社製商品名；アクリル変性ポリエステ ル樹脂、Ｍｎ=４万） １００重量部 ＳＩＲ−１５９（赤外線吸収剤１：三井東圧株式会社製商品名） ０．５重量部 トルエン ４５０重量部 酢酸エチル １０重量部 上記の接着剤層４の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
５２、２００℃の溶融粘度は１５００ポイズであった。

【００３２】（実施例５）下記の接着剤層５の組成物を
使用し、乾燥後の接着剤層の厚みが２０μｍになるよう
にし、その他は実施例１の電磁波シールド性接着フィル
ム１及び電磁波遮蔽構成体１と同様にして作製した電磁
波シールド性接着フィルム５とプラスチック板から得た
電磁波遮蔽構成体５を実施例５とした。

【００３３】 ＜接着剤層５の組成物＞ ＢＡＣ４５（出光石油化学株式会社製商品名；ダイレクトアクリロイル変性ポリ ブタジエン樹脂） １００重量部 ＩＲＧ―００２（赤外線吸収剤３：日本化薬株式会社製商品名；アミニウム系化 合物） １．２重量部 ＭＥＫ ２８５重量部 シクロヘキサノン ５重量部 上記接着剤層５の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．５
１、２００℃での溶融粘度は６０ポイズであった。

【００３４】（実施例６）プラスチックフィルムをＰＥ
Ｔ（５０μｍ）フィルムからポリカーボネート（５０μ
ｍ、ｎ＝１．５８）フィルムに、接着剤層の厚みを４０
μｍから３０μｍにした以外は全て実施例２と同様にし
て得た電磁波遮蔽構成体６を実施例６とした。

【００３５】（実施例７）ライン幅を１０μｍから３０
μｍに、ライン間隔を１００μｍから５００μｍに、接
着剤層の厚みを５μｍから１０μｍにした以外は実施例
３と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例７とし
た。

【００３６】（実施例８）フォトリソグラフ工程を経て
ＰＥＴフィルム上に形成した銅格子パターンに黒化処理
を施したこと以外は実施例１と同様にして得た電磁波遮
蔽構成体８を実施例８とした。

【００３７】（比較例１）接着剤層１の組成物としこれ
で作製した電磁波遮蔽構成体を比較例１とした。活性エ
ネルギー線の照射はせず、それ以外の条件は実施例１と
同様にした。

【００３８】（比較例２）実施例３で使用した接着剤層
３の組成物のポリベックＲ−４５ＡＣＲ−ＬＣの代わり
に、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂（Ｍｗ=５万）
を使用し、接着剤層７の組成物とした。活性エネルギー
線の照射はせず、それ以外の条件は全て実施例３と同様
にして得た電磁波遮蔽構成体を比較例２とした。接着剤
層７の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．７３、２００
℃での溶融粘度は３００ポイズであった。

【００３９】（比較例３）接着剤層の厚みを２０μｍか
ら５μｍとし、活性エネルギー線の照射はせず、それ以
外は実施例１と同様にして電磁波遮蔽構成体を作製し比
較例３とした。

【００４０】（比較例４）ライン間隔を２５０μｍから
５０μｍとし、活性エネルギー線の照射はせず、それ以
外は実施例１と同様にして電磁波遮蔽構成体を作製し比
較例４とした。

【００４１】（比較例５）ライン幅を２５μｍから５０
μｍにライン間隔を２５０μｍから１５０μｍとし、活
性エネルギー線の照射はせず、それ以外は実施例１と同
様にして電磁波遮蔽構成体を作製し比較例５とした。

【００４２】（比較例６）接着剤層２の組成物から赤外
線吸収剤を除き、活性エネルギー線の照射はせず、それ
以外は実施例２と同様にして電磁波遮蔽構成体を作製し
比較例６とした。

【００４３】（比較例７）導電材料として０．１μｍ
（１、０００Å）全面蒸着させたＩＴＯ蒸着ＰＥＴを使
用し、パターンを形成しないで、直接接着剤層１の組成
物から赤外線吸収剤を除いた組成物を塗布し、活性エネ
ルギー線の照射はせず、それ以外は実施例１と同様にし
て得た電磁波遮蔽構成体を比較例７とした。

【００４４】（比較例８）接着剤としてポリジメチルシ
ロキサン（Ｍｗ=４．５万、ｎ=１．４３）を使用し、接
着剤層８の組成物とした。活性エネルギー線の照射はせ
ず、それ以外の条件は全て実施例３と同様にして得た電
磁波遮蔽構成体を比較例８とした。

【００４５】以上のようにして得られた電磁波シールド
性接着フィルムの導電性金属材料で描かれた幾何学図形
の開口率、電磁波シールド性、可視光透過率、非視認
性、赤外線遮蔽率、加熱処理前後の接着特性を測定し
た。結果を表１、２に示した。

【００４６】なお接着剤層の組成物の屈折率は、屈折計
（株式会社アタゴ光学機械製作所製、アッベ屈折計）で
測定した。導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率は
顕微鏡写真をもとに実測した。電磁波シールド性は、同
軸導波管変換器（日本高周波株式会社製、ＴＷＣ−Ｓ−
０２４）のフランジ間に試料を挿入し、スペクトラムア
ナライザー（ＹＨＰ製、８５１０Ｂベクトルネットワー
クアナライザー）を用い、周波数３０ＭＨz〜１ＧＨｚ
で測定した。可視光透過率の測定は、ダブルビーム分光
光度計（株式会社日立製作所製、２００−１０型）を用
いて、４００〜７００ｎｍの透過率の平均値を用いた。
非視認性は、アクリル板に電磁波シールド性接着フィル
ムを貼り付けた電磁波遮蔽構成体を０．５ｍ離れた場所
から目視して導電性金属で形成された幾何学図形を認識
できるかどうかで評価し、認識できないものを良好と
し、認識できるものをＮＧとした。赤外線遮蔽率は、分
光光度計（株式会社日立製作所製、Ｕ−３４１０）を用
いて、９００〜１、１００ｎｍの領域の赤外線吸収率の
平均値を用いた。接着力は、引張り試験機（東洋ボール
ドウィン株式会社製、テンシロンＵＴＭ−４−１００）
を使用し、幅１０ｍｍ、９０°方向、剥離速度５０ｍｍ
／分で測定した。

【００４７】

【表１】

【００４８】

【表２】

【００４９】比較例１は、接着剤層が架橋されていない
ため８０℃の高温での接着力に劣った。比較例２は、接
着剤層７の屈折率が１．７３と高く接着剤層とプラスチ
ック板との界面での散乱が大きく可視光透過率に劣っ
た。比較例３は、接着剤層１の厚み５μｍが導電性金属
である銅箔の厚み１２μｍより薄いため、接着剤層１が
流動してプラスチック板との密着性は良いが、導電性金
属を十分に埋めることができず可視光透過率に劣った。
比較例４は、ライン間隔が５０μｍで電磁波シールド性
が良好であり、ライン幅が２５μｍと細いため非視認性
に優れるが、ライン間隔が狭く開口率が５０％以下の２
５％であるため可視光透過率に劣った。比較例５は、ラ
イン幅が、５０μｍであり、非視認性に劣った。比較例
６は、赤外線吸収剤を配合しない接着剤層を使用したも
のであり、赤外線遮蔽性に劣った。比較例７は、ＰＥＴ
フィルムにＩＴＯ（インジウム−スズ酸化物）を蒸着し
たものであるが、電磁波シールド性に劣った。比較例８
は、接着剤層に屈折率が１．４３の接着剤層８を使用し
たものであるが、比較例３と同様、接着剤層とプラスチ
ック板との界面での散乱が大きく可視光透過率に劣っ
た。これらの比較例に対して、本発明の実施例で示し
た、導電性金属で描かれた幾何学図形を有し、その開口
率が５０％以上で、接着剤層に活性エネルギー線を照射
することにより硬化する接着剤層を有し、屈折率が１．
４５〜１．７０の範囲にあり、接着剤層の厚みが導電性
金属の厚さ以上で、赤外線吸収剤が含有されている接着
剤層が好ましい。また、導電性金属で描かれたライン幅
が、４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライ
ン厚みが４０μｍ以下の導電性金属が好ましい値を示し
た。表には示してないが、接着剤層が流動性が良いので
電磁波シールド性フィルムとプラスチック板から電磁波
遮蔽構成体を作製する際に気泡の巻き込みが少なく良好
であり、その後に活性エネルギー線を照射して硬化・架
橋させるので耐熱性に優れていた。また、実施例８で示
した銅を黒化処理した電磁波遮蔽構成体は、コントラス
トが大きく鮮明な画像を快適に鑑賞することができた。

【００５０】

【発明の効果】本発明で得られる電磁波シールド性接着
フィルムは実施例からも明らかなように、被着体に容易
に貼付けて使用でき、しかも密着性が優れているので電
磁波漏れがなくシールド機能が特に良好である。また可
視光透過率、非視認性などの光学的特性が良好で、しか
も長時間にわたって高温での接着特性に変化が少なく良
好であり、優れた接着フィルムを提供することができ
る。請求項２に記載のマイクロリソグラフ法をフォトリ
ソグラフ法とすることにより、安価で量産性に優れた電
磁波シールド性と透明性、および簡便な接着性を有する
電磁波シールド性接着フィルムを提供することができ
る。請求項３に記載の接着剤層を活性エネルギー線を照
射することにより硬化することにより、被着体に低温・
短時間で容易に貼付けることができ、取り扱い性に優れ
た電磁波シールド性接着フィルムを提供することができ
る。請求項４に記載の接着剤層の屈折率を１．４５〜
１．７０とすることにより、透明性、像鮮明性に優れた
電磁波シールド性接着フィルムを提供することができ
る。請求項５に記載の接着剤層の厚さを導体厚さ以上に
することにより、透明性、接着性に優れた電磁波シール
ド性接着フィルムを提供することができる。請求項６に
記載の活性エネルギー線を照射することにより硬化する
接着剤層中に赤外線吸収剤が含有されていることによ
り、赤外線遮蔽性および透明性に優れた電磁波シールド
性接着フィルムを提供することができる。請求項７に記
載の導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅が４０
μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚みが
４０μｍ以下ことにより、電磁波シールド性と透明性及
び広視野角の電磁波シールド性接着フィルムを得ること
ができる。請求項８に記載の導電性金属付きフィルムの
金属を、厚さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウムまた
はニッケルとすることにより、電磁波シールド性、加工
性、及び安価な電磁波シールド性接着フィルムを提供す
ることができる。請求項９に記載のケミカルエッチング
法により導電性金属を描画することにより、安価で可視
光透過率に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供
することができる。請求項１０に記載の導電性金属付き
プラスチックフィルムのプラスチックフィルムをポリエ
チレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネート
することにより、安価で透明性、耐熱性に優れた電磁波
シールド性接着フィルムを提供することができる。請求
項１１に記載の導電性金属が銅であり、少なくともその
表面が黒化処理されていることにより、コントラストと
電磁波シールド性に優れた電磁波シールド性接着フィル
ムを提供することができる。請求項１２に記載の導電性
金属を常磁性金属とすることにより、磁場シールド性に
優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することが
できる。

【００５１】請求項１３に記載の電磁波シールド性接着
フィルムとプラスチック板から構成される電磁波遮蔽構
成体とすることにより、透明性を有する電磁波シールド
性に優れた基板とすることができ、ディスプレイに提供
することができる。請求項１４に記載の電磁波シールド
性接着フィルムをプラスチック板の少なくとも片面に張
り合わせ電磁波遮蔽構成体とすることにより、透明性を
有する電磁波シールド性に優れた基板とすることがで
き、取扱性が容易で、ディスプレイに提供することがで
きる。請求項１５に記載の電磁波シールド性接着フィル
ムをプラスチック板の片面に張り合わせ、他面に赤外線
遮蔽性を有する接着剤または接着フィルムを貼り合わせ
た電磁波遮蔽構成体とすることにより、赤外線遮蔽性、
透明性を有する電磁波シールド性基板を提供することが
できる。請求項１６に記載の電磁波シールド性と透明性
を有する電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイ
に用いることにより、軽量、コンパクトで透明性に優れ
電磁波漏洩が少ないディスプレイを提供することができ
る。請求項１７に記載の電磁波シールド性と透明性を有
する電磁波遮蔽構成体をディスプレイに用いることによ
り、軽量、コンパクトで電磁波漏洩が少なくディスプレ
イ保護板を兼用したディスプレイを提供することができ
る。 ディスプレイに使用した場合、可視光透過率が大
きく、非視認性が良好であるのでディスプレイの輝度を
高めることなく通常の状態とほぼ同様の条件下で鮮明な
画像を快適に鑑賞することができる。本発明の電磁波シ
ールド性接着フィルム及び電磁波遮蔽構成体は、電磁波
シールド性や透明性に優れているため、ディスプレイの
他に電磁波を発生したり、あるいは電磁波から保護する
測定装置、測定機器や製造装置の内部をのぞく窓や筐
体、特に透明性を要求される窓のような部位に設けて使
用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の電磁波シールド性接着フィルムの斜
視図（ａ）とその断面図（ｂ）である。

【図２】 本発明の電磁波シールド性接着フィルムのデ
ィスプレイ使用例（ａ）及び電磁波シールド性接着フィ
ルムとプラスチック板から構成される電磁波遮蔽構成体
（（ｂ）〜（ｆ））の例。

【符号の説明】

１．接着剤層 ２．導電性金属で描かれた幾何学図形 ３．プラスチックフィルム ４．電磁波シールド性接着フィルム ５．ディスプレイの画面 ６．プラスチック板 ８．電磁波遮蔽構成体 ９．接着剤層

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 活性エネルギー線を照射することにより
   硬化する接着剤層を有する導電性金属付きプラスチック
   フィルムにおいて、マイクロリソグラフ法により導電性
   金属で描かれた幾何学図形を有し、その開口率が５０％
   以上である電磁波シールド性接着フィルム。
2. 【請求項２】 マイクロリソグラフ法がフォトリソグラ
   フ法である請求項１に記載の電磁波シールド性接着フィ
   ルム。
3. 【請求項３】 活性エネルギー線が紫外線もしくは電子
   線である請求項１または請求項２に記載の電磁波シール
   ド性接着フィルム
4. 【請求項４】 活性エネルギー線を照射することにより
   硬化する接着剤層の硬化後の屈折率が１．４５〜１．７
   ０の範囲にある請求項１ないし請求項３のいずれかに記
   載電磁波シールド性接着フィルム。
5. 【請求項５】 活性エネルギー線を照射することにより
   硬化する接着剤層の厚さが導電性金属の厚さ以上である
   ことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに
   記載の電磁波シールド性接着フィルム。
6. 【請求項６】 活性エネルギー線を照射することにより
   硬化する接着剤層中に赤外線吸収剤が含有されているこ
   とを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれかに記
   載の電磁波シールド性接着フィルム。
7. 【請求項７】 導電性金属で描かれた幾何学図形のライ
   ン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ラ
   イン厚さが４０μｍ以下である請求項１ないし請求項６
   のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
8. 【請求項８】 導電性金属付きプラスチックフィルムの
   導電性金属が、厚さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウ
   ムまたはニッケルである請求項１ないし請求項７のいず
   れかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
9. 【請求項９】 フォトリソグラフ法がケミカルエッチン
   グ法である請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の
   電磁波シールド性接着フィルム。
10. 【請求項１０】 導電性金属付きプラスチックフィルム
    のプラスチックフィルムがポリエチレンテレフタレート
    フィルムまたはポリカーボネートフィルムである請求項
    １ないし請求項９のいずれかに記載の電磁波シールド性
    接着フィルム。
11. 【請求項１１】 導電性金属が銅であり、少なくともそ
    の表面が黒化処理されていることを特徴とする請求項１
    ないし請求項１０のいずれかに記載の電磁波シールド性
    接着フィルム。
12. 【請求項１２】 導電性金属が常磁性金属である請求項
    １ないし請求項１１のいずれかに記載の電磁波シールド
    性接着フィルム。
13. 【請求項１３】 請求項１ないし請求項１１のいずれか
    に記載の電磁波シールド性接着フィルムとプラスチック
    板から構成された電磁波遮蔽構成体。
14. 【請求項１４】 請求項１ないし請求項１２のいずれか
    に記載の電磁波シールド性接着フィルムをプラスチック
    板の少なくとも片面に貼り合わせた電磁波遮蔽構成体。
15. 【請求項１５】 請求項１ないし請求項１２のいずれか
    に記載の電磁波シールド性接着フィルムをプラスチック
    板の片面に貼り合わせ、他面に赤外線遮蔽性を有する接
    着剤または接着フィルムを貼り合わせた電磁波遮蔽構成
    体。
16. 【請求項１６】 請求項1ないし請求項１２のいずれか
    に記載の電磁波シールド性接着フィルムを用いたディス
    プレイ。
17. 【請求項１７】 請求項１３ないし請求項１５のいずれ
    かに記載の電磁波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。