JPH11142722A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH11142722A
JPH11142722A JP31345797A JP31345797A JPH11142722A JP H11142722 A JPH11142722 A JP H11142722A JP 31345797 A JP31345797 A JP 31345797A JP 31345797 A JP31345797 A JP 31345797A JP H11142722 A JPH11142722 A JP H11142722A
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JP
Japan
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circuit
semiconductor integrated
analog
temperature
digital
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JP31345797A
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English (en)
Inventor
Osamu Nonaka
修 野中
Masataka Ide
昌孝 井出
Atsushi Maruyama
淳 丸山
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Olympus Corp
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Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】回路の実装面積の縮小を達成しながら、IC内
で行われるアナログ演算をICの温度変化に依存しない
ように正確に行って、簡単かつ低コスト、高性能の半導
体集積回路を提供する。 【解決手段】ディジタル演算処理を行なうための、発振
回路11を含むディジタル回路ブロック(熱源部20)
と、ディジタル回路ブロックが形成された半導体集積回
路基板上に形成され、焦点調節に関連するAF信号処理
回路を含み、アナログ演算処理を行なうアナログ回路ブ
ロック(アナログ微少信号処理部21)と、AF信号処
理回路の近傍に設けられ、半導体集積回路基板の温度を
測定する温度測定回路7a、7bとを具備し、AF信号
処理回路とクロック発振回路とを、半導体集積回路基板
の対角線方向において互いに離間配置すると共に、測温
結果に応じてディジタル回路ブロックがアナログ回路ブ
ロックの出力を補正する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路に関
し、特に、カメラに利用することが可能な半導体集積回
路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、カメラなどの携帯用機器の電
子回路には微小な信号を扱い、測距や測光を行うアナロ
グ演算機能を有するIC回路や、フィルムの巻き上げや
レンズ駆動を正確に行うためのメカ駆動用のドライバI
C回路に加え、これらを制御するワンチップマイコンな
どの演算制御回路を集積回路(IC)として利用するこ
とが多い。これは、できるだけ実装面積を縮小して機器
を小型化するためで、この方向をさらに押し進めて、こ
れらの異なる機能の回路を同一のIC上に構成すること
によって、さらなる小型化や低コスト化を押し進めよう
という動きもある。
【0003】しかし、これらの各回路は、扱う電流や周
波数が異なるため、同一のチップ上に構成することによ
って距離が近接し、一方の回路が熱源となり、もう一方
の敏感な回路に悪影響を与えることがあった。
【0004】このような半導体集積回路の一例として、
例えば測距用の回路がある。赤外線発光ダイオード(I
RED)より発するパルス状の赤外光をレンズにて集光
して被写体に向けて投光し、このIREDより一定の基
線長だけ離れて位置するPSD(半導***置検出素子)
にて被写体からの反射光を受光し、その受光位置に応じ
た出力電流に基づいて被写体の距離を測定するアクティ
ブ三角測距方式の測距装置が知られている。この場合、
IREDを発光させる電流はアンペアオーダーであるの
に対し、PSDの信号はマイクロアンペア、ナノアンペ
アのオーダーであり、IRED駆動用のドライブ回路が
熱源となって、PSDの信号の増幅や演算に悪影響を与
える場合があった。
【0005】また、低コストな汎用CMOSプロセスに
より、CPU及び周辺装置からなるマイクロコンピュー
タと同一半導体チップ上に構成された測距装置が特開平
6−347263号公報や、特開平9−203609号
公報に開示されており、上記PSDの信号のような微小
信号が、デジタル演算回路の高周波演算に伴う発熱によ
って、さらなる悪影響を受ける可能性が高まっている。
また特開昭63−198818号公報には測距データの
傾き、シフト量をEEPROMを用いて補正する方法が
開示されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】PSDは、入射光の位
置に従って変化する二つの出力信号電流を出力するが、
これらの出力信号電流をそれぞれIN、IFとすると、
特開平6−347263号公報に開示されているように
以下の式で表される関係が成立する。
【0007】
【数1】
【0008】従って、上記比演算を行うことにより1/
Lを求め、測距データを得ることができる。ところで、
PSDの出力信号電流IN、IFは非常に微小な電流の
ため、増幅してから信号処理する必要がある。そこで一
般には、電流増幅率βのアンプで信号を増幅して、PS
Dの出力信号電流をそれぞれ電流増幅した後に比演算を
行うことが多い。このアンプがIC内の温度の偏りによ
って、その増幅率にも偏りを生じた場合、これが上記I
N、IFの各々で異なり、それぞれがβ1、β2に変化
したとすると、比演算は以下の式となる。
【0009】 1/L = K・β1・IN/(β1・IN+β2・IF) …(2) (Kは比例定数) 上式から明らかなように、一対のアンプの電流増幅率β
1とβ2の整合性が悪いと、上記比出力は1/Lに対す
るリニアリティが劣化することとなり測距精度が劣化し
てしまう。
【0010】たとえば、β2/β1=1.5とすると、
上記式(2)の関係は図13に示すように、理想の特性
Aに対してBで示されるようにリニアリティが劣化す
る。リニアリティに対する保証値はβ2/β1=約0.
5である。このように、アナログ演算回路には、電流増
幅時や、圧縮や伸張といった演算時に温度の影響を受け
ることが多い。
【0011】前記した特開昭63−198818号公報
は、こうしたアナログ演算の結果が設計値から外れた時
の補正技術について開示しているが、IC内の温度変化
による影響については何ら開示していない。
【0012】本発明はこのような課題に着目してなされ
たものであり、その目的とするところは、熱源となる回
路と微小な信号を扱うアナログ演算回路とを同一チップ
上に構成して回路の実装面積の縮小を達成しながら、I
C内で行われるアナログ演算をICの温度変化に依存し
ないように正確に行って、簡単かつ低コスト、高性能の
半導体集積回路を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、第1の発明に係る半導体集積回路は、ディジタル
演算処理を行なうための、クロック発振回路を含むディ
ジタル回路ブロックと、上記ディジタル回路ブロックが
形成された半導体集積回路基板上に形成され、焦点調節
に関連するAF信号処理回路を含み、アナログ演算処理
を行なうアナログ回路ブロックと、上記AF信号処理回
路の近傍に設けられ、上記半導体集積回路基板の温度を
測定する測温回路とを具備し、上記AF信号処理回路と
上記クロック発振回路とを、上記半導体集積回路基板の
対角線方向において互いに離間配置すると共に、測温結
果に応じて上記ディジタル回路ブロックが上記アナログ
回路ブロックの出力を補正する。
【0014】また、第2の発明に係る半導体集積回路
は、高いクロック周波数で駆動されるディジタル演算回
路または大電流を流すドライバ回路を含む熱源と、微弱
な電気信号を処理するアナログ演算回路とを同一の半導
体基板上に形成した半導体集積回路において、上記熱源
と上記アナログ演算回路とを離間配置すると共に、上記
半導体基板上に複数の温度検出回路を設け、これら温度
検出回路の出力に応答して、上記アナログ演算回路の出
力を補正する補正手段を具備する。
【0015】また、第3の発明に係る半導体集積回路
は、アナログ演算処理部を制御し、発熱回路を有するデ
ィジタル回路と、上記ディジタル回路が形成された半導
体集積回路基板上に形成されたアナログ演算回路と、上
記アナログ演算回路と上記発熱回路との間に設けられ、
上記半導体集積回路基板の温度を測定する複数の測温回
路とを具備し、上記測温回路出力に基づいて上記半導体
集積回路基板上の温度勾配を検知して、この検知結果に
応じて、上記ディジタル回路が上記アナログ演算回路の
出力を補正する。
【0016】
【発明の実施の形態】まず、本発明の実施形態の概略を
説明する。本実施形態の半導体集積回路は、高い周波数
で演算を行うデジタル演算回路、または大電流を流すド
ライバ回路等からなる熱源回路と、微小な電気信号を増
幅、演算するアナログ演算回路を同一チップ上に有する
IC回路に関するものであって、上記熱源回路と上記ア
ナログ演算回路の間を離間して配置したり、温度検出回
路を設け、その出力結果によって、上記アナログ演算回
路の出力を補正することによって、チップ上の温度の変
化や偏りによらず、正しいアナログ演算を行なえるよう
にしたものである。
【0017】上記離間の方法としては、四角いICチッ
プ内で、最も距離を離して配置できる対角線上の一方に
上記熱源回路を、他の一方に上記アナログ演算回路を配
置し、補正方法としては、同一チップ上に複数の温度検
出回路を配置し、これらの出力を利用してデジタル演算
を行い、アナログ回路の温度誤差を補正する。
【0018】以下、図面を参照して本発明の実施形態を
詳細に説明する。まず、第1実施形態を説明する。図1
(a)は本発明の第1実施形態が適用されるカメラ用I
C22の構成を示す図であり、アナログ微少信号処理部
21と、熱源部20とに大別される。アナログ微少信号
処理部21は、測距(AF)回路や測光(AE)回路8
等のアナログ演算回路と、リモコン受光回路9等のアナ
ログ信号処理回路とからなるアナログ回路ブロックであ
る。
【0019】また、熱源部20は、IRED1に接続さ
れたIREDドライバ2、モーター13aに接続された
モータードライバ13等に電流を供給する大電流制御部
12及び、発振回路11の発振周波数に基づいてデジタ
ル処理を行う演算制御部10からなるデジタル回路ブロ
ックである。
【0020】測光回路8には測光用のフォトダイオード
8aが、リモコン受光回路9にはリモコン信号受光用の
フォトダイオード9aが接続されている。これらの素子
はIC内に温度勾配があると誤動作する可能性がある
が、回路を小さい部分に収納することによって温度勾配
の影響を小さくすることが可能なので、ここでは、測距
回路を例にとって本実施形態の作用と効果について説明
する。
【0021】測距回路は、PSD3の出力信号電流I
N、IFの増幅を行うアンプ4a、4b等からなり、図
1(b)に示すようなバイポーラトランジスタのベース
電流とコレクタ電流との間のβ倍の増幅関係を利用して
増幅を行なう。このようにβ倍で増幅された信号は、A
/D変換手段6によってデジタル値に変換され、演算制
御回路10で前述の割り算を行い、距離を算出する。
【0022】しかし、バイポーラトランジスタの電流増
幅率βの温度依存性が大きいことと、アンプ4a、4b
は熱源部20からの距離が異なる位置に設けられている
ので各アンプ4a、4bでの温度は異なり2つの電流増
幅率βにアンバランスが生じてしまう。したがって、単
純に割り算を行うだけでは正確な測距が出来ない。
【0023】そこで、第1実施形態では、カメラ用IC
22上の両アンプ4a、4bの近傍に温度測定回路7
a、7bを配置し、演算制御部10が図2に示すような
フローに従って測距を行なう。
【0024】すなわち、測距に先立ってまず、IN側の
アンプ4aと、IF側のアンプ4bの温度TF、TNを
それぞれ測定する(ステップS1、S2)。次に、IR
ED1を被写体に向けて投光し、被写体からの反射光を
PSD3で受光して得られた出力信号電流IN、IFを
アンプ4a、4bで増幅する。この増幅により得られた
βIN、βIFを演算制御部10に入力する(ステップ
S3)。演算増幅部10では、βINをTNで補正して
常温での値に換算することにより補正値βIN1を得る
(ステップS4)。同様にして、βIFをTFで補正し
て常温での値に換算することにより補正値βIF1を得
る(ステップS5)。次に、上記した(1)式に基づい
て被写体までの距離を計算する(ステップS6)。
【0025】ここで、βの温度依存性はICのプロセス
によって理論的に定まっているので、補正係数をあらか
じめ記憶手段14に記憶しておき、演算時にこれを参照
して得られた信号を常温に換算して補正する。この補正
後、前述の割り算を行なうことにより、回路内の温度上
昇の有無にかかわらず正確な距離測定が可能となる。
【0026】上記した第1実施形態によれば、高精度か
つ小型、低コストのAFカメラが設計できる。なお、演
算制御回路10は、ここではCMOSプロセスにより形
成することを想定しており、したがって本実施形態のI
Cは、バイポーラトランジスタとCMOSトランジスタ
とからなるBi−CMOS構成となる。また、ここでは
熱源部20としてドライバ回路以外に演算制御回路10
をも含めているが、演算制御回路10を別ICにしても
よい。この場合は、熱源部20としてドライバ回路のみ
を想定し、微小信号とパワー系を併せ持つバイポーラI
Cとして構成することが可能である。
【0027】以下に本発明の第2実施形態を説明する。
図3は本発明の第2実施形態を説明するための図であ
る。図3(a)は、微小な電流をアナログ処理するAF
回路と、モーター13aを駆動するドライバ回路等を熱
源として有するICの例であり、ディジタル演算処理部
はワンチップマイコン(CPU)10として別のチップ
上に設けられている。したがって、カメラ用IC22は
バイポーラプロセスにより形成可能である。
【0028】図3(a)に示すように、カメラ用IC2
2は同一チップ上に、PSD3の出力を増幅するアンプ
4a、4bと、温度測定回路7a、7bと、モータード
ライバやIREDドライバに電流を供給するための大電
流制御部等からなる熱源部20とを具備する。第2実施
形態では温度測定回路7a、7bがアンプ4a、4bの
近傍に設けられていないものとする。
【0029】アンプ4a、4bは電流信号を対数圧縮回
路によって電圧に変換する機能を内蔵し、この圧縮特性
は大きな温度特性を有する。この電流/電圧変換は、図
3(b)に示すように、電流IFをダイオードに流した
時に電圧VFに変換される特性を利用するもので、 VF=VT・ln(IF/IS) という関係が成り立つ。ここで、VTはサーマル電圧で
あり、ISは逆方向飽和電流であり、ICのプロセスに
よって決まる定数である。
【0030】このVFは、IFを対数変換した形になっ
ているので、両チャンネルの差をとる(減算する)こと
によって、割り算を行なうことができる。例えば、VF
1−VF2をCPU10で計算することにより、VT・
ln(IF1/IF2)を求めることができ、これによ
ってIFの比に依存した信号が得られる。
【0031】一般に、このVFについては、温度Tに対
し、 dVF/dT=−1.8mV/℃ という温度特性を示すことが知られている。したがっ
て、使用時における常温からのずれや、両アンプ間の温
度差等がわかれば、補正が可能である。
【0032】上記したように、第2実施形態では第1実
施形態とは異なり、アンプ4a、4bの近傍に温度測定
回路7a、7bが配置できない場合を想定しており、こ
こでは、温度測定回路7a、7bは、熱源部20から異
なる距離D1、D2の位置に配置されている。そこで、
第2実施形態では、これらの位置の温度差から熱勾配を
求め、この勾配、△T/(D1−D2)から、熱源部2
0からD3、D4の距離にある各アンプ4a、4bの温
度T3、T4を予測する。そして、この予測した温度T
3、T4に基づいてアンプ4a、4bの出力を補正して
距離を求める。
【0033】図3(c)のステップS11〜S18はこ
のときの処理フローを示している。ここで、ステップS
16、S17の補正時には上記温度特性を利用する。例
えば一方のアンプが35℃の場合、常温25℃の設計値
に対し、18mV低い値となっているので、この分だけ
加算して計算すれば正しい値での演算ができ、正確な測
距が可能となる。また両アンプの温度差がわかれば、そ
の差分相当だけ一方のアンプ出力に加減算して、CPU
10が上記減算を行えばよい。
【0034】以下に本発明の第3実施形態を説明する。
図4は本発明の第3実施形態を説明するための図であ
る。この実施形態はCMOSプロセスによりマイコンの
同一チップ上にAF回路を形成したものである。
【0035】図4に示すように、プリアンプ回路11
8、測距演算回路119、積分リセット・逆積分回路1
20、補正回路121、投光回路111、測距装置全体
を制御するCPUおよび周辺装置からなるマイクロコン
ピュータ(以下マイコン)10の他に、本実施形態の特
徴である温度測定用の測温回路(TN、TF)107
が、1つの半導体基板(チップ)上に設けられている。
ここで、測温回路107は、プリアンプ回路118と測
距演算装置119の近傍に配置されている。また、EE
PROM9はマイコン10と通信することが可能で、測
距データ調整値等を測距装置毎に記憶させることができ
る。
【0036】まず、マイコン10の端子T1からの発光
信号により、投光回路111を動作させ、投光回路11
1が外付けされたパワートランジスタ112をオン、オ
フする。このパワートランジスタ112の動作によっ
て、IRED113で発光されたパルス光は投光レンズ
114により集光されて、被写体距離aに位置する被写
体115に照射される。前記被写体115で反射された
反射光は、前記投光レンズ114から基線長Lを隔てて
配置された受光レンズ116を介し、その焦点距離fJ
の位置に配置された半導***置検出素子(PSD)11
7上の受光面に結像される。
【0037】CMOSでの電流増幅は困難なので、一対
の増幅NPNトランジスタ129、129aが外付けさ
れており、これに接続されたプリアンプ回路118はP
SD117のそれぞれのNCH、FCH端子から出力さ
れた出力信号電流を検出する。
【0038】測距演算回路119は前記検出された出力
信号電流から被写体の距離情報を求める。積分リセット
・逆積分回路120はこの演算出力に対してAD変換を
行い、測距データT6としてマイコン10に出力する。
補正回路121はマイコン10の制御信号D0〜D3、
D0a〜D3aに応じて、プリアンプ回路18に作用し
て、測距情報のリニアリティを補正する。上記各回路は
マイコン10からの制御信号T2〜T5によりその動作
が制御される。
【0039】図5は図4に示すプリアンプ回路118の
詳細な構成を示す図である。PSD117のNCH端
子、FCH端子のそれぞれに対応する各プリアンプ回路
の構成は全く同じであるのでここではNCH端子側の構
成についてのみ説明する。
【0040】このプリアンプ回路118は帰還部と背景
光除去部とからなる。帰還部は、PSD117のNCH
端子から出力される信号電流をベースに入力し、それぞ
れのエミッタより電流増幅率β倍の信号増幅電流を出力
する増幅用NPNトランジスタ129と、オペアンプ1
31、PMOSトランジスタ132、電流源133、電
圧源190、及び後述する補正回路121の一部である
NMOSトランジスタ180とからなり、PSD117
のNCH端子の電圧と、電圧源190の出力電圧VSと
を等しい電位にする。
【0041】また、背景光除去部は、前記信号増幅電流
をエミッタに流し込み、エミッタより対数圧縮信号を得
るMOS構造に形成された信号圧縮用寄生PNPトラン
ジスタ135と、オペアンプ136と、基準電位用PN
Pトランジスタ137と、電流源134と等しい電流値
を有する電流源138と、NMOSトランジスタ139
と、ホールドコンデンサ140と、抵抗141とからな
り、PSD117の出力信号に含まれる背景光成分を除
去する。
【0042】上記信号圧縮用寄生PNPトランジスタ1
35としては、汎用のCMOSプロセスの構造において
寄生的に形成されるPNPトランジスタを使用する。こ
れは、例えば図6に示すように、P型シリコン基板上に
CMOS構造のトランジスタを形成した場合に、P+拡
散層をエミッタ、Nウェル領域をベース、P型シリコン
基板をコレクタとする縦型寄生バイポーラPNPトラン
ジスタである。
【0043】次にプリアンプ回路118のNCH端子側
の動作について説明する。まず被写体115に投光する
前に背景光除去部による背景光除去動作を行う。マイコ
ン10のT4端子のLレベルの信号によりオペアンプ1
36をオンして、信号圧縮用寄生PNPトランジスタ3
5が接続されたオペアンプ136の非反転入力と、電流
源138とPNPトランジスタ137により形成される
基準電位となる反転入力とが等しい電位になるように帰
還ループを構成する。
【0044】これにより信号圧縮用寄生PNPトランジ
スタ135には電流源134と等しい電流しか流れ込ま
ず、PSD117の出力端子の背景光成分の電流Ico
nstをNMOSトランジスタ139のドレインより吸
い込み、抵抗141を介してGNDに排出して背景光成
分を除去する。
【0045】例えば、オペアンプ136の非反転入力端
子の電位が反転入力端子の電位よりも高いときには、オ
ペアンプ136の出力は上昇し、NMOSトランジスタ
139のドレインより、より多くの電流を吸い込む。こ
れにより電流増幅用トランジスタ129のべースに流れ
込む電流は減少し、エミッタから流れ出す電流も減少す
るので、信号圧縮用寄生PNPトランジスタ135に流
れる電流も減少して、オペアンプ136の非反転入力端
子の電位は低下する。オペアンプ136の反転入力端子
の電位が非反転入力端子の電位よりも高いときには、全
く逆の動作を行う。なお電流増幅用NPNトランジスタ
129のベース電流IBとエミッタ電流IEには以下の
関係がある。
【0046】
【数2】
【0047】βは電流増幅用トランジスタの電流増幅率
で50〜200程度の値をとる。背景光除去動作のとき
は電流増幅用NPNトランジスタ129には電流源33
の電流I BIAS 1が流れるので、この時の電流増
幅用NPNトランジスタ129のベース電流IBは以下
の式で表わされる。
【0048】 IB = I BIAS 1/β …(4) またこの時の信号圧縮用寄生PNPトランジスタ135
のエミッタ電位VEは、電流源134の電流値をI B
IAS 2とすると、以下のようになる。 VE =VT・ln(I BIAS 2/IS) …(5) (VT:熱電圧、IS:逆方向飽和電流) 次にマイコン10のT4端子信号をHレベルにしてオペ
アンプ136をオフし、被写体115に対してIRED
113より投光し、被写体115からの反射光をPSD
117で受光する信号検出動作を行う。
【0049】オペアンプ136がオフすることにより上
記背景光除去の帰還ループは遮断され、NMOSトラン
ジスタ139のゲート電位はホールドコンデンサ140
により保持されるため、NMOSトランジスタ139の
ドレインより吸い込む電流値に変化はなく、背景光成分
の電流Iconstを継続して吸い込む。従ってPSD
117より出力される信号成分電流Isigは全て電流
増幅用NPNトランジスタ129のベースに流れ込む。
【0050】これによって、信号検出動作時の電流増幅
用NPNトランジスタ129のベース電流は信号成分電
流lsig分だけ増加する。電流増幅用NPNトランジ
スタ129は信号成分電流Isigを増幅するので、エ
ミッタ電流はβ・Isig分だけ増加する。
【0051】この増加分の電流β・IsigはPMOS
トランジスタ132のソースに流れ込み、NMOSトラ
ンジスタ180のソースより信号圧縮用寄生PNPトラ
ンジスタ135のエミッタに流れ込む。従って、信号圧
縮用寄生PNPトランジスタ135のエミッタ電位VE
は信号成分電流β・Isigを対数圧縮した電位だけ上
昇する。
【0052】
【数3】 またFCH端子側に出力される信号電流をIβa・Is
iga、とすると、FCH端子側の信号圧縮用寄生PN
Pトランジスタ135aの出力VEaは、
【0053】
【数4】
【0054】NCH端子側、FCH端子側の信号圧縮用
寄生PNPトランジスタ135、135aのエミッタ電
位VE、VEaはバッファ142、142aを介して、
測距演算回路119に入力される。
【0055】図7は、上記した測距演算回路119の構
成を示す図であり、差動ペアを構成するPMOSトラン
ジスタ150、151と、この差動ペアをバイアスする
電流源152とを有し、PMOSトランジスタ150の
ドレイン電流に対してカレントミラーを構成し、これと
等しい測距演算電流出力I ENをNMOSトランジス
タ154のドレイン電流として出力するNMOSトラン
ジスタ153、154とを有する。NMOSトランジス
タ154のドレインはMOSスイッチ155を介して、
積分コンデンサ156に接続されている。
【0056】ここで前記PMOSトランジスタ150、
151の差動ペアはサブスレッショルド領域で動作する
ように設定するために、電流源152の比較的微小な定
電流IKでバイアスされている。サブスレッショルド領
域はMOSトランジスタのゲート電圧をしきい値電圧V
th以下の弱い反転状態でMOSトランジスタを動作さ
せた時の動作領域であり、この時のMOSトランジスタ
のV GS−ID特性は図8に示すように、ほぼバイポ
ーラトランジスタのV BE−IC特性に近い特性を示
すことが知られている。
【0057】従って、ゲート−ソース間電圧V GSと
ドレイン電流I DSの関係を簡略化して以下の式とす
る。 V GS = VT・ln (I DS) …(8) 差動構成のPMOSトランジスタ150、151の各ゲ
ートには、前記プリアンプ回路118のバッファ14
2、142aの出力がそれぞれ入力される。PMOSト
ランジスタ150、151のゲート−ソース間電圧をそ
れぞれV GS1、V GS2とすると、バッファの出
力はそれぞれVE、VEaであるから以下の式が成立す
る。
【0058】 V GS1 + VEa = V GS2 + VE …(9) この関係に基づいて、測距演算電流I ENを求めると、 VT・ln(I EN+VT・lN(IF/IS)= VT・ln(IK−I EN)+VT・lN(IN/IS) …(10) VT・ln(IF/IN)= VT・lN((IK−I EN)/I EN)…(11) I EN=(IN/(IN+IF))・IK …(12) そして、MOSスイッチ155は投光時にオン、非投光
時にオフし、投光回毎に前記測距演算電流I ENが積
分コンデンサ156に積分される。
【0059】図9は、上記した積分リセット・逆積分回
路120の構成を示す図である。この積分リセット・逆
積分回路120はオペアンプ157と、バッファ158
と、逆積分回路159と、逆積分の許容、禁止を行うM
OSスイッチ160と、基準電圧回路161と、オペア
ンプとコンパレータの切り換えを行うMOSスイッチ1
62と、から構成されている。
【0060】前記MOSスイッチ160はマイコンの制
御端子T5によって制御され、一連の投光制御前には制
御端子T5の出力はLレベルであって、MOSスイッチ
160はオフ状態となる。またMOSスイッチ162も
マイコンの制御端子T3によって制御されてオン状態と
なり、オペアンプ157とバッファ158とから構成さ
れるいわゆるボルテージフォロワが負帰還動作を行う。
従って、積分コンデンサ156は基準電圧回路161の
出力である定電圧VHに固定されて、リセットされる。
【0061】一連の投光動作が開始されるとともにT3
端子はLレベルになり、MOSトランジスタ162はオ
フし、前記帰還ループが切断されるのでオペアンプ15
7は判定電圧をVHとするコンパレータとして動作す
る。
【0062】そして、一連の投光が終了し積分コンデン
サ156には測距演算出力が積分されている状態とな
る。ここでマイコン10はT5端子の信号をLレベルか
らHレベルに変更すると、MOSスイッチ160がオン
して逆積分が開始されるとともに、カウントが開始され
る。
【0063】そして、逆積分開始からの時間経過ととも
に、積分コンデンサ156の電位は上昇し、オペアンプ
157の非反転入力端子の電位VHを越え、その結果コ
ンパレータとして動作しているオペアンプ157の出力
はLレベルに変化する。このオペアンプ157の出力は
マイコン10のT6端子に接続されており、マイコンは
逆積分開始からT6端子の電位がHレベルからLレベル
に変化するまでの時間をカウントすることにより、前記
測距演算出力のAD変換を実行する。
【0064】次に図5に戻り補正回路121について説
明する。補正回路121は、前記プリアンプ回路118
内の、ドレインとゲートをショートしたNMOSトラン
ジスタ180と、このNMOSトランジスタ180とゲ
ート及びソースがそれぞれ共通に接続されてカレントミ
ラーを構成するNMOSトランジスタ181、182、
183、184と、前記NMOSトランジスタ181、
182、183、184のそれぞれのドレインと電源の
間に挿入されるMOSスイッチ185、186、18
7、188とから構成されている。これらのMOSスイ
ッチはマイコン10からの制御信号D0、D1、D2、
D3により独立して制御することができる。
【0065】ここでNMOSトランジスタ181、18
2、183、184はNMOSトランジスタ180に対
して、ゲートのサイズを変更してあり、それぞれのドレ
イン電流はNMOSトランジスタ180のドレイン電流
に対し、×1/16,×1/8,×1/4,×1/2と
なるように設定されている。
【0066】従って、信号圧縮用寄生PNPトランジス
タ135のエミッタに流れ込む電流ILを以下のように
補正することができる。 IL= β・Isig・(1+(1/16)・D0+(1/8)・D1十(1/4)・ D2+(1/2)・D3) (D0、D1、D2、D3は0または1) …(13) 例えばNCH端子の電流増幅トランジスタ129の電流
増幅率β1がFCH端子の電流増幅トランジスタ129
aの電流増幅率β2に比較して+25%の差を有すると
する。この時マイコン10は、FCH端子の補正回路1
21aに対して、D0a〜D3aを制御してMOSスイ
ッチ187aをオンさせ、対数圧縮用寄生PNPトラン
ジスタ135aに流す電流ILaを+25%増加させ
る。
【0067】 ILa = β2・Isig + 0.25・β2・ISIG = 1・25・β2・Isig …(14) このように調整することにより、前記アンプや測距演算
の温度に基づく電流増幅率の差によって生ずるリニアリ
ティを補正することができる。つまり、マイコン10は
測距に先立って、測温回路107の出力をモニタし、そ
の結果にしたがって上記SW185〜188(185a
〜188a)を制御する。例えば、FCH端子側が発熱
した時には、先の圧縮特性より、信号圧縮用寄生PNP
トランジスタ135aの電位が下がるので、その時の温
度上昇にしたがって、SWを切り替えて電流を追加す
る。また、温度が低い場合には、NCH端子側の電流を
増やしてバランスをとる。
【0068】このように本実施形態では、アナログ回路
を含むCMOSプロセスのワンチップマイコンの例とし
ているが、補正をデジタル演算ではなく、アナログ的に
行なう点に特徴がある。
【0069】温度と補正量が製品ごとに異なる場合は、
カメラの組立て時に、熱源回路を作動させてICを発熱
させ、組立て工場において、NCH端子とFCH端子の
プリアンプ回路118の出力およぴ測温回路107の出
力をモニターして、両端子の出力のバランスをとるよう
に、または実際の測距データと理想的測距データの差を
キャンセルするようにD0〜D3、D0a〜D3a信号
を調整し、このデータをカメラ内のEEPROM9に記
憶させて、測距を行う毎にこのデータを設定により補正
するようにすればよい。
【0070】図10は本実施形態の動作を示すタイミン
グチャートであり、図11は前記タイミングチャートを
実現するためのマイコンのプログラムを示すフローチャ
ートである。
【0071】以下、本実施形態の動作をこのタイミング
チャート及びフローチャートを参照しながら説明する。
まず、各端子の初期設定を行い(ステップS101)、
T3をHレベル、T1、T2、T4、T5をLレベルに
設定する。この時、マイコンの端子T3のHレベルの信
号により積分コンデンサ156のリセットが行われる。
【0072】次にマイコンのT3端子をHレベルからL
レベルにして積分リセットを解除する(ステップS10
2)。これにより測距演算出力が積分コンデンサ156
に積分可能となる。次に投光回数Nを16に設定し(ス
テップS103)、マイコン端子T4の信号をLレベル
からHレベルにして背景光ホールド状態にする(S10
4)。そしてマイコンの端子T1の信号をLレベルから
HレベルにしてIRED113を発光させ(ステップS
105)、60μsec間待機し(ステップS10
6)、その後端子T2の信号をLレベルからHレベルに
して積分状態にする(ステップS107)。この端子T
2の信号がHレベルの間だけ測距演算出力IENが積分
コンデンサ56に積分される。
【0073】次に前記端子T2の信号をHレベルからL
レベルにして積分を停止し(ステップS109)、端子
T1をLレベルにして投光を停止し(ステップS11
0)、さらに端子T4をLレベルにして、背景光ホール
ドを解除する。これにより背景光電流をバイパスするた
めの帰還ループが形成され背景光の変化に追従して背景
光電流を除去し続ける(S111)。
【0074】そして1msec待機(ステップS11
2)した後、回数Nをデクリメントする(ステップS1
13)。次に回数Nが0になったか否かを判定し(ステ
ップS114)、投光回数がN=0でないならば、ステ
ップS104に戻る。N=0ならばステップS115に
移行する。
【0075】そして端子T5の信号をLレベルからHレ
ベルにして逆積分を開始し、同時にマイコン10内でカ
ウントをスタートさせる(ステップS116)。次に端
子T6の信号がLレベルか否かを判定し(ステップS1
17)、Lレベルでなければカウント値がカウントリミ
ットを越えたか否かを判定する(ステップS118)。
そして端子T6の電位がLレベルかまたはカウント値が
リミットを越えた場合はカウントをストップする(ステ
ップS119)。次に端子T5の信号をLレベルにし
て、逆積分を停止する(ステップS120)。そしてメ
モリMにカウント値を格納する(ステップS121)。
以上のようにして一連の測距動作が終了して、メモリM
には測距演算(比演算)出力が得られる。
【0076】このように、CMOSプロセスで構成する
測距装置において、CMOSプロセス構造で形成の困難
な電流増幅素子を別チップとした場合でも、温度による
リニアリティの劣化を補正可能として、測距精度を確保
することができる。
【0077】また、上記補正回路を同一半導体基板上に
構成することによりコストアップすることなく補正回路
を構成することが可能である。また、上記記憶装置であ
るEEPROMに補正データを記憶させることにより、
測距装置毎のばらつきを補正することが可能となる。
【0078】また、このようなアナログ、デジタル混在
のICでは、発熱だけでなく、ノイズの影響も考慮せね
ばならない。特にマイコンの原振を作る発振回路など
は、高周波のノイズに注意が必要で、IC上のレイアウ
トにも充分な考慮が必要である。
【0079】以下に本発明の第4実施形態を説明する。
図12は本発明の第4実施形態の構成を示す図である。
22はカメラ用ICであり、AF回路21、ドライバ回
路や発振回路を含むノイズ源、熱源回路20が設けられ
ている。1はIREDであり、11aは発振回路であ
る。AF回路21はノイズに弱く、また、ノイズ源、熱
源回路20は、回路だけでなく、その電気信号が伝わる
ラインからもノイズや熱が発生しうるので、これらの回
路から出力される信号やこれらの回路に入力される信号
は、最短ラインでlC22の外部と接続されるようにし
た方が望ましい。
【0080】そこで、本実施形態では、ノイズ源、熱源
回路20をチップ22端部のピン1a及び11bのすぐ
近くに配置している。また、PSDからの微弱信号も、
あまり長い距離を経て増幅されると増幅前にノイズの影
響を受けやすいので、本実施形態ではIC22のピン2
1aのすぐ近くにAF回路21を配置している。
【0081】熱源回路20及びAF回路21をチップ2
2端部に配置するとともに、これらをできるだけ離して
配置するには、チップ22の対角線上の反対側にこれら
を配置するのが効果的である。
【0082】そのため本実施形態では、高い周波数で演
算を行うデジタル演算回路、または大電流を流すドライ
バ回路等からなる熱源回路と、微小な電気信号を増幅、
演算するアナログ演算回路とを同一チップ上に形成する
にあたって、上記熱源回路と、アナログ演算回路に関連
する端子(ピン)群を各々、チップ22上の対角線上に
配置している。このとき測距部の温度を測定するため
に、温度測定用の回路7をAF回路21に近接させて配
置する。
【0083】さらに、定電圧源等、比較的ノイズに強い
回路を、熱源回路20とAF回路21との間に配置する
ことにより、無駄なスペースをとることはない。さらに
図のように、配線用のアルミパターンを各回路の周囲に
巡らして接地することによって、シールド効果や放熱効
果を利用すれば、さらに高精度のアナログ演算が可能と
なる。
【0084】以上説明したように、本実施例では、IC
のピン配置やチップ上のレイアウトを利用して、ワンチ
ップ上にデジタル、アナログを混在させながら、温度や
ノイズによる誤差の少ないアナログ演算を達成できる。
【0085】なお、上記した具体的実施形態には以下の
ような構成の発明が含まれている。 (1)高いクロック周波数で駆動されるディジタル演算
回路または大電流を流すドライバ回路を含む熱源と、微
弱な電気信号を処理するアナログ演算回路とを同一の半
導体基板上に形成した半導体集積回路において、上記熱
源と上記アナログ演算回路とを離間配置すると共に、上
記半導体基板上に複数の温度検出回路を設け、これら温
度検出回路の出力に応答して、上記ディジタル演算回路
が当該半導体基板上の温度勾配を検知すると共に、この
検知結果に基づいて、上記アナログ演算回路の出力を補
正することを特徴とする半導体集積回路。 (2)高いクロック周波数で駆動されるディジタル演算
回路または大電流を流すドライバ回路を含む熱源と、微
弱な電気信号を処理するアナログ演算回路とを同一の半
導体基板上に形成した半導体集積回路において、上記熱
源と上記アナログ演算回路とを離間配置すると共に、上
記熱源と上記アナログ演算回路に関する端子群をそれぞ
れ上記半導体基板の対角線方向に配置することを特徴と
する半導体集積回路。 (3)同一の半導体集積回路基板上に形成されるアナロ
グ演算回路ブロックと発振ブロックとを、それぞれ上記
半導体集積回路基板の対角線方向に離間させて配置した
ことを特徴とする半導体集積回路。 (4)高いクロック周波数に応答するディジタル演算回
路と、微弱な電気信号を処理するアナログ演算回路とを
同一基板上に形成した半導体集積回路において、上記半
導体集積回路の基板の温度を検知する回路を設け、温度
検出結果に基づいて、上記ディジタル演算回路が上記ア
ナログ演算回路の出力を補正することを特徴とする半導
体集積回路。 (5)ディジタル演算処理を行なうための、クロック発
振回路を含むディジタル回路ブロックと、上記ディジタ
ル回路ブロックが形成された半導体集積回路基板上に形
成され、焦点調節に関連するAF信号処理回路を含み、
アナログ演算処理を行なうアナログ回路ブロックと、上
記AF信号処理回路の近傍に設けられ、上記半導体集積
回路基板の温度を測定する測温回路と、を具備し、上記
AF信号処理回路と上記クロック発振回路とを、上記半
導体集積回路基板の対角線方向において互いに離間配置
すると共に、測温結果に応じて上記ディジタル回路ブロ
ックが上記アナログ回路ブロックの出力を補正すること
を特徴とする半導体集積回路。 (6)上記ディジタル回路ブロックは、相補型MOS素
子にて構成され、上記アナログ回路ブロックは、上記相
補型MOS素子に付随して形成される寄生バイポーラト
ランジスタ素子を含むことを特徴とする(5)に記載の
半導体集積回路。
【0086】
【発明の効果】本発明によれば、熱源となる回路と微小
な信号を扱うアナログ演算回路とを同一チップ上に構成
して回路の実装面積の縮小を達成しながら、IC内で行
われるアナログ演算をICの温度変化に依存しないよう
に正確に行って、簡単かつ低コスト、高性能の半導体集
積回路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態が適用されるカメラ用I
Cの構成を示す図である。
【図2】演算制御部の測距動作を説明するためのフロー
チャートである。
【図3】本発明の第2実施形態を説明するための図であ
る。
【図4】本発明の第3実施形態を説明するための図であ
る。
【図5】図4に示すプリアンプの詳細な構成を示す図で
ある。
【図6】信号圧縮用寄生PNPトランジスタとして用い
られる縦型寄生バイポーラPNPトランジスタの断面構
造を示す図である。
【図7】測距演算回路の構成を示す図である。
【図8】MOSトランジスタのゲート電圧をしきい値電
圧Vth以下の弱い反転状態で動作させた時の、MOS
トランジスタのV GS−ID特性を示す図である。
【図9】積分リセット・逆積分回路の構成を示す図であ
る。
【図10】本発明の第3実施形態の動作を示すタイミン
グチャートである。
【図11】図10に示すタイミングチャートを実現する
ためのマイコンのプログラムを示すフローチャートであ
る。
【図12】本発明の第4実施形態の構成を示す図であ
る。
【図13】従来技術において、リニアリティの劣化につ
いて説明するための図である。
【符号の説明】
1…IRED、 2…IREDドライバ、 3…PSD、 4a、4b…アンプ、 6…A/D変換手段、 7a、7b…温度測定回路、 8…測光(AE)回路、 9…リモコン受光回路、 10…演算制御部(CPU)、 11…発振回路、 12…大電流制御部、 13a…モーター、 13…モータードライバ、 14…記憶手段、 20…熱源部、 21…アナログ微少信号処理部、 22…カメラ用IC。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // G01B 11/00 H01L 27/04 A G01C 3/06

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ディジタル演算処理を行なうための、ク
    ロック発振回路を含むディジタル回路ブロックと、 上記ディジタル回路ブロックが形成された半導体集積回
    路基板上に形成され、焦点調節に関連するAF信号処理
    回路を含み、アナログ演算処理を行なうアナログ回路ブ
    ロックと、 上記AF信号処理回路の近傍に設けられ、上記半導体集
    積回路基板の温度を測定する測温回路と、を具備し、 上記AF信号処理回路と上記クロック発振回路とを、上
    記半導体集積回路基板の対角線方向において互いに離間
    配置すると共に、測温結果に応じて上記ディジタル回路
    ブロックが上記アナログ回路ブロックの出力を補正する
    ことを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 高いクロック周波数で駆動されるディジ
    タル演算回路または大電流を流すドライバ回路を含む熱
    源と、微弱な電気信号を処理するアナログ演算回路とを
    同一の半導体基板上に形成した半導体集積回路におい
    て、 上記熱源と上記アナログ演算回路とを離間配置すると共
    に、上記半導体基板上に複数の温度検出回路を設け、こ
    れら温度検出回路の出力に応答して、上記アナログ演算
    回路の出力を補正する補正手段を具備することを特徴と
    する半導体集積回路。
  3. 【請求項3】 アナログ演算処理部を制御し、発熱回路
    を有するディジタル回路と、 上記ディジタル回路が形成された半導体集積回路基板上
    に形成されたアナログ演算回路と、 上記アナログ演算回路と上記発熱回路との間に設けら
    れ、上記半導体集積回路基板の温度を測定する複数の測
    温回路と、を具備し、 上記測温回路出力に基づいて上記半導体集積回路基板上
    の温度勾配を検知して、この検知結果に応じて、上記デ
    ィジタル回路が上記アナログ演算回路の出力を補正する
    ことを特徴とする半導体集積回路。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7015849B2 (en) 2002-11-08 2006-03-21 Olympus Corporation Control circuit
JP2009128437A (ja) * 2007-11-20 2009-06-11 Olympus Imaging Corp 焦点検出装置
JP2011145072A (ja) * 2010-01-12 2011-07-28 Denso Corp 電流検出装置
JP2017208449A (ja) * 2016-05-18 2017-11-24 キヤノン株式会社 半導体集積回路および電子機器

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