JPH11119227A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JPH11119227A
JPH11119227A JP9278575A JP27857597A JPH11119227A JP H11119227 A JPH11119227 A JP H11119227A JP 9278575 A JP9278575 A JP 9278575A JP 27857597 A JP27857597 A JP 27857597A JP H11119227 A JPH11119227 A JP H11119227A
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film
crystal display
display device
spacer material
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Keiko Inoue
桂子 井上
Shigeru Matsuyama
茂 松山
Setsuo Kobayashi
節郎 小林
Hiroaki Asuma
宏明 阿須間
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 スペーサ材の移動による表示むらの防止。 【解決手段】 液晶を介して互いに対向配置される各透
明基板のうち一方の透明基板の液晶側の面に画素電極と
基準電極とが形成され、この画素電極と基準電極との間
を透過する光の透過率を、該画素電極と基準電極との間
に発生する電界による該液晶の分子の捻じれによって制
御する液晶表示装置において、前記透明基板のそれぞれ
の間にスペーサ材が介在され、このスペーサ材は、一方
の透明基板側の前記液晶に接触される配向膜の下層の絶
縁膜に固定されて配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、いわゆる横電界方式と称される液晶表示装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】いわゆる横電界方式と称される液晶表示
装置は、液晶を介して互いに対向配置される各透明基板
のうち一方の透明基板の液晶側の面に画素電極と基準電
極とが形成され、この画素電極と基準電極との間を透過
する光の透過率を、該画素電極と基準電極との間に発生
する電界による該液晶の分子の捻じれによって制御する
構成となっている。
【０００３】このことから明らかなように、液晶の分子
の捻じれは透明基板とほぼ平行に発生する電界成分によ
ってなされ、この種の液晶表示装置がいわゆる横電界方
式と称される所以となっている。
【０００４】このような液晶表示装置は、その表示面に
対して大きな角度視野から観察しても鮮明な映像を認識
でき、いわゆる広視野角に優れたものとして知られるに
到っている。
【０００５】そして、液晶内に発生する電界の透明基板
とほぼ平行に発生する成分を大きくかつ均一にするため
には、液晶の層厚も関係してくることから、該液晶の層
厚を一定に設定することが重要となってくる。
【０００６】このため、互いに対向配置される各透明基
板の間には、液晶とともにたとえばビーズ状の同径のス
ペーサ材が多数散在されて配置されている。
【０００７】そして、このようなスペーサ材は、２枚の
透明基板を組み合わせる前の工程で少なくとも一方の基
板上に散在されており、該透明基板の間に介在されるよ
うになっている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような構
成からなる液晶表示装置は、その輸送を前提とした振動
試験によって、透明基板の間のスペーサ材が移動し、こ
れによって表示むらが生じることが確認された。
【０００９】すなわち、振動試験によって、互いに対向
する各透明基板が振動し、それにともなって液晶が流動
してしまい、該スペーサが移動し、その移動軌跡に対応
する配向膜の部分にその配向状態の変化が生じてしまう
からである。
【００１０】本発明は、このような事情に基づいてなさ
れたものであり、その目的は、スペーサ材の移動による
表示むらを防止した液晶表示装置を提供することにあ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【００１２】手段１．液晶を介して互いに対向配置され
る各透明基板のうち一方の透明基板の液晶側の面に画素
電極と基準電極とが形成され、この画素電極と基準電極
との間を透過する光の透過率を、該画素電極と基準電極
との間に発生する電界による該液晶の分子の捻じれによ
って制御する液晶表示装置において、前記透明基板のそ
れぞれの間にスペーサ材が介在され、このスペーサ材
は、一方の透明基板側の前記液晶に接触される配向膜の
下層の絶縁膜に固定されて配置されていることを特徴と
する液晶表示装置。
【００１３】このように構成された液晶表示装置は、透
明基板の間に介在されるスペーサ材が一方の透明基板側
に固定されていることから、該スペーサ材の移動を防止
することができるようになる。
【００１４】そして、該スペーサ材は配向膜の下層の絶
縁膜に固定された構成となっており、該配向膜に被われ
て固定された構成となっている。
【００１５】これは、スペーサ材にも配向膜が被われる
構成とすることにより、該スペーサ材の周囲における液
晶の配向の状態の変化を大きくさせないことにある。
【００１６】また、スペーサ材を配向膜に固定させる場
合、該スペーサ材の表面に固着処理を付与させなければ
ならない等の煩雑な作業を回避できる構成となってい
る。
【００１７】すなわち、スペーサ材を絶縁膜に固定させ
る場合には、たとえば絶縁膜の硬化前にスペーサを散在
させ、硬化過程での適当な加熱を施すことにより、該絶
縁膜に強固に固定できるからである。
【００１８】手段２．手段１の構成において、前記スペ
ーサは、各透明基板のうち他方の透明基板の液晶側の面
に前記液晶に接触される配向膜の下層の絶縁膜に固定さ
れていることを特徴とするものである。
【００１９】このように構成された液晶表示装置は、一
対の透明基板のうち、特に画素電極および基準電極が形
成されていない側の透明基板に、スペーサ材が固着され
た構成となっている。
【００２０】該各電極が形成されていないことによっ
て、液晶と接触するようにして形成されなければならな
い配向膜の下層には、通常絶縁膜が形成されていること
から、特に他の部分の構成を変更することなく、即、こ
の絶縁膜に固着できる構成とすることができるようにな
る。
【００２１】たとえば、スペーサ材を固着させる側の透
明基板に電極（通常、配向膜の下層に形成される）が形
成されていた場合、該電極は、絶縁膜の下層に形成する
等の変更設計をしなければならず、この結果、該電極と
他の電極との間の電界は該絶縁膜を介して発生され、液
晶に影響を及ぼす電界の強度が弱まるという弊害をもた
らすことになる。
【００２２】なお、ここでいう絶縁膜は、ブラックマト
リックス層、カラーフィルタ等の他の絶縁膜を含む概念
である。
【００２３】手段３．手段２の構成において、前記絶縁
膜は、ブラックマトリックス層およびカラーフィルタを
被う平坦膜であることを特徴とするものである。
【００２４】このように構成された液晶表示装置は、ブ
ラックマトリックス層とカラーフィルタとの一部の重畳
された配置により形成される段差を該平坦膜によってそ
の表面に顕在化されることのない構成となっている。
【００２５】このため、スペーサ材の平坦膜面における
散在配置を均一化させることができるとともに、該平坦
膜面における固着も均一化させることができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、本発明による液晶表示装置
の実施例を図面を用いて説明をする。
【００２７】《全体概略構成》図２は、本発明による液
晶表示装置の一実施例を示す回路図である。
【００２８】まず、いわゆるアクティブ・マトリックス
型の液晶表示パネル３００がある。この液晶表示パネル
３００は、その表示部がマトリックス状に配置された複
数の画素の集合によって構成され、それぞれの各画素
は、該液晶表示パネルの背部に配置されたバックライト
ユニット（図示せず）からの透過光を独自に変調制御で
きるように構成されている。
【００２９】そして、各画素における光変調は横電界方
式と称される方法を採用しており、その構成は後に詳述
するが、互いに対向配置される透明基板１Ａ、１Ｂの間
に介在される液晶内に発生させる電界は該透明基板１
Ａ、１Ｂと平行になるようになっている。
【００３０】このような液晶表示パネル３００は、その
表示面に対して大きな角度視野から観察しても鮮明な映
像を認識でき、いわゆる広視野角に優れたものとして知
られている。
【００３１】すなわち、この液晶表示パネル３００の液
晶を介して互いに対向配置される透明基板１Ａ、１Ｂの
うち一方の透明基板１Ａの液晶側の面に、そのｘ方向
（行方向）に延在しｙ方向（列方向）に並設される走査
信号線２および基準信号線４とが形成されている。
【００３２】この場合、同図では、透明基板１Ａの上方
から、走査信号線２、この走査信号線２と近接された基
準信号線４、この基準信号線４と比較的大きく離間され
た走査信号線２、この走査信号線２と近接された基準信
号線４、…というように順次配置されている。
【００３３】そして、これら走査信号線２および基準信
号線４とそれぞれ絶縁されてｙ方向に延在しｘ方向に並
設される映像信号線３が形成されている。
【００３４】ここで、走査信号線２、基準信号線４、お
よび映像信号線３のそれぞれによって囲まれる矩形状の
比較的広い面積の各領域において単位画素が形成される
領域となり、これら各単位画素がマトリックス状に配置
されて表示面を構成するようになっている。なお、この
画素の詳細な構成は以下に詳述する。
【００３５】そして、液晶表示パネル３００には、その
外部回路として垂直走査回路５および映像信号駆動回路
６が備えられ、該垂直走査回路５によって前記走査信号
線２のそれぞれに順次走査信号（電圧）が供給され、そ
のタイミングに合わせて映像信号駆動回路６から映像信
号線３に映像信号（電圧）を供給するようになってい
る。
【００３６】なお、垂直走査回路５および映像信号駆動
回路６には、液晶駆動電源回路７から電源が供給されて
いるとともに、ＣＰＵ８からの画像情報がコントローラ
９によってそれぞれ表示データ及び制御信号に分けられ
て入力されるようになっている。
【００３７】また、基準信号線には、液晶駆動電源回路
７から基準信号（たとえば一定電圧）が供給されるよう
になっている。
【００３８】《画素構成》図３は、前記単位画素の一実
施例を示す平面図である（図２の点線で囲んだ領域に該
当する）。なお、図３のIV−IV線における断面図を図４
に、V−V線における断面図を図５に、VI−VI線における
断面図を図６に示している。
【００３９】図３において、透明基板１Ａの主表面に、
ｘ方向に延在する基準信号線４と、この基準信号線４と
（−）ｙ方向に比較的大きく離間されかつ平行に走査信
号線２が形成されている。
【００４０】ここで、基準信号線４には、３本の基準電
極１４が一体に形成されている。すなわち、そのうちの
２本の基準電極１４は、一対の後述する映像信号線３と
で形成される画素領域のｙ方向辺、すなわち前記それぞ
れの映像信号線３に近接して（−）ｙ方向に走査信号線
２の近傍にまで延在されて形成され、残りの１本はそれ
らの間に形成されている。
【００４１】そして、これら走査信号線２、基準信号線
４、および基準電極１４が形成された透明基板１Ａの表
面にはこれら走査信号線２等をも被ってたとえばシリコ
ン窒化膜からなる絶縁膜１５（図４、図５、図６参照）
が形成されている。この絶縁膜１５は、後述する映像信
号線３に対しては走査信号線２および基準信号線４との
交差部に対する層間絶縁膜として、薄膜トランジスタＴ
ＦＴの形成領域に対してはゲート絶縁膜として、蓄積容
量Ｃｓｔｇの形成領域に対しては誘電体膜として機能す
るようになっている。
【００４２】この絶縁膜１５の表面には、まず、その薄
膜トランジスタＴＦＴの形成領域において半導体層１６
が形成されている。この半導体層１６はたとえばアモル
ファスＳｉからなり、走査信号線２上において映像信号
線３に近接された部分に重畳して形成されている。これ
により、走査信号線２の一部が薄膜トランジスタＴＦＴ
のゲート電極を兼ねた構成となっている。
【００４３】そして、このようにして形成された絶縁膜
１５の表面には、図３に示すように、そのｙ方向に延在
しｘ方向に並設される映像信号線３が形成されている。
【００４４】そして、映像信号線３は、薄膜トランジス
タＴＦＴの前記半導体層１６の表面の一部にまで延在さ
れて形成されたドレイン電極３Ａが一体となって備えら
れている。
【００４５】さらに、画素領域における絶縁膜１５の表
面には画素電極１８が形成されている。この画素電極１
８は前記基準電極１４の間を走行するようにして形成さ
れている。すなわち、画素電極１８の一端は前記薄膜ト
ランジスタＴＦＴのソース電極１８Ａを兼ね、そのまま
（＋）ｙ方向に延在され、さらに基準信号線４上に沿っ
てｘ方向に延在された後に、（−）方向に延在して他端
を有するコ字形状となっている。
【００４６】この場合、画素電極１８の基準信号線４に
重畳される部分は、前記基準信号線４との間に誘電体膜
としての前記絶縁膜１５を備える蓄積容量Ｃｓｔｇを構
成している。この蓄積容量Ｃｓｔｇによってたとえば薄
膜トランジスタＴＦＴがオフした際に画素電極１８に映
像情報を長く蓄積させる効果を奏するようになってい
る。
【００４７】なお、前述した薄膜トランジスタＴＦＴの
ドレイン電極３Ａとソース電極１８Ａとの界面に相当す
る半導体層１６の表面にはリン（Ｐ）がドープされて高
濃度層となっており、これにより前記各電極におけるオ
ーミックコンタクトを図っている。この場合、半導体層
１６の表面の全域には前記高濃度層が形成されており、
前記各電極を形成した後に、該電極をマスクとして該電
極形成領域以外の高濃度層をエッチングするようにして
上記の構成とすることができる。
【００４８】そして、このように薄膜トランジスタＴＦ
Ｔ、映像信号線３、画素電極１８、および蓄積容量Ｃｓ
ｔｇが形成された絶縁膜１５の上面にはたとえばシリコ
ン窒化膜からなる保護膜１９（図４、図５、図６参照）
が形成され、この保護膜１９の上面には配向膜２０が形
成されて、液晶表示パネル１００の透明基板１Ａを構成
している。なお、この透明基板１Ａの液晶層側と反対側
の面には偏光板２１が配置されている。
【００４９】そして、透明基板１Ｂの液晶側の部分に
は、図４に示すように、表示領域を各画素毎に区分して
ブラックマトリックス層２２が形成されている。このブ
ラックマトリックス層２２は、前記薄膜トランジスタＴ
ＦＴへ直接光が照射されるのを防止するための機能と表
示コントラストの向上を図る機能とを備えるものとなっ
ている。このブラックマトリックス層２２は、図３の破
線に示す領域に形成され、それに形成された開口部が実
質的な画素を構成するものとなっている。
【００５０】さらに、ブラックマトリックス層２２の開
口部を被ってカラーフィルタ２３が形成され、このカラ
ーフィルタ２３はｘ方向に隣接する画素領域におけるそ
れとは異なった色を備えるとともに、それぞれブラック
マトリックス層２２上において境界部を有するようにな
っている。また、このようにカラーフィルタ２３が形成
された面には樹脂膜等からなる平坦膜２４が形成され、
この平坦膜２４の表面には配向膜２５が形成されてい
る。なお、この透明基板１Ｂの液晶層側と反対側の面に
は偏光板２６が配置されている。
【００５１】ここで、透明基板１Ａ側に形成された配向
膜２０と偏光板２１、透明基板１Ｂ側に形成された配向
膜２５と偏光板２６との関係を図７を用いて説明する。
【００５２】画素電極１８と基準電極１４との間に印加
される電界の方向２０７に対して、配向膜２０および２
５のいずれのラビング方向２０８の角度はφＬＣとなっ
ている。また、一方の偏光板２１の偏光透過軸方向２０
９の角度はφＰとなっている。他方の偏光板２６の偏光
透過軸は、φＰと直交している。また、φＬＣ＝φＰと
なっている。また、液晶層ＬＣとしては、誘電率異方性
Δεが正でその値が７．３（１ｋＨｚ）、屈折率異方性
Δｎが０．０７３（５８９ｎｍ、２０℃）のネマチック
液晶の組成物を用いている。
【００５３】このような関係からなる配向膜２０、２５
と偏光板２１、２６等の構成は、いわゆるノーマリブラ
ックモードと称されるもので、液晶層ＬＣ内に透明基板
１Ａと平行な電界Ｅを発生せしめることにより、該液晶
層ＬＣに光を透過するようになっている。しかし、この
実施例では、このようなノーマリブラックモードに限定
されるものではなく、無電界時に液晶層ＬＣを透過する
光が最大となるノーマリホワイトモードであってもよい
ことはいうまでもない。
【００５４】《液晶表示パネルの全体断面構成》図１
は、液晶表示パネルの全体断面を示す構成図である。こ
の図面の一画素に相当する断面図が前記図４に相当す
る。
【００５５】図１では、特に、各透明基板１Ａ、１Ｂの
間に複数の同径のスペーサ材３０が散在されて介在され
ていることを示している。上述したように、このスペー
サ材３０によって各透明基板１Ａ、１Ｂの間隔、ひいて
は液晶ＬＣの層厚を規制するようになっている。
【００５６】ここで、スペーサ材３０はたとえばビーズ
状をなし、ポリマーであるジビニルベンゼン、スチレン
等の材料から構成されている。
【００５７】そして、このスペーサ材３０は、画素電極
１８および基準電極１４が形成されている透明基板１Ａ
と異なる他方の透明基板１Ｂ側の平坦膜２４に固定され
て形成されている。
【００５８】この場合、平坦膜２４に対するスペーサ材
３０の固定は、たとえば平坦膜形成後、硬化前にスペー
サを散在させ、硬化過程での適度な加熱を施すことによ
り、該平坦膜２４に強固に固定させる方法等が用いられ
る。
【００５９】スペーサ材３０の平坦膜２４に対する固定
によって、該平坦膜２４の上面に形成される配向膜２５
は、該スペーサ材３０の表面をも被って形成されるよう
になっている。
【００６０】これにより、たとえば、平坦膜２４の表面
の全域に配向膜２５が形成され、この配向膜２５にスペ
ーサ材３０が当接されている従来の構成と比較して、ス
ペーサ材３０の近傍における液晶の配向性が向上するこ
とが確認されている。
【００６１】このように構成された液晶表示装置は、透
明基板１Ａ、１Ｂの間に介在されるスペーサ材３０が一
方の透明基板（実施例では、透明基板１Ｂ）側に固定さ
れていることから、該スペーサ材３０の移動を防止する
ことができるようになる。
【００６２】そして、該スペーサ材３０は配向膜２５の
下層の平坦膜２４に固定された構成となっており、該配
向膜２５に直接固定されていない構成となっている。
【００６３】これは、スペーサ材３０にも配向膜２５が
被われる構成とすることにより、該スペーサ材３０の周
囲における液晶の配向の状態の変化を大きくさせないこ
とにある。
【００６４】また、スペーサ材３０を配向膜２５に固定
させる場合、該スペーサ材３０の表面に固着処理を付与
させなければならない等の煩雑な作業を回避できる構成
となっている。
【００６５】すなわち、スペーサ材３０を平坦膜２４に
固定させる場合には、たとえば平坦膜の硬化前にスペー
サを散在させ、硬化過程での適当な加熱を施すことによ
り、該平坦膜２４に強固に固定できるからである。
【００６６】上述した実施例では、スペーサ材３０を平
坦膜２４に固定させた構成としたものであるが、平坦膜
２４の存在しない液晶表示装置にも適用できることはい
うまでもない。
【００６７】この場合、スペーサ材３０はブラックマト
リックス層２２あるいはカラーフィルタ２３に固定さ
れ、これらスペーサ材３０、ブラックマトリックス層２
２、およびカラーフィルタ２３を被って配向膜２５が形
成されることになる。
【００６８】このようにした場合においても同様の効果
が得られるからである。
【００６９】なお、同図において、各透明基板１Ａ、１
Ｂの縁に沿ってシール剤４０が形成され、そのシール剤
の一部に形成された開口部から液晶が封入されるように
なっている。
【００７０】《製造方法》図８は、透明基板１Ａ、１Ｂ
のうち、画素電極１８および基準電極１４が形成されて
いない側の透明基板１Ｂの製造方法の一実施例を示す工
程図である。
【００７１】以下、工程順に説明する。
【００７２】工程Ａ．図８（Ａ） 透明基板１Ｂを用意し、その表面を洗浄した後、その主
表面の全域にたとえば炭素を含有させた合成樹脂層２２
Ａを形成する。
【００７３】工程Ｂ．図８（Ｂ） そして、該合成樹脂層２２Ａの表面の全域にフォトレジ
スト膜を塗布し、フォトリソグラフィ技術によりブラッ
クマトリックス層の形成領域に相当する領域のみに該フ
ォトレジスト膜を残存させ、他を除去する。
【００７４】さらに、残存されたフォトレジスト膜をマ
スクとして、このフォトレジスト膜から露出された前記
合成樹脂層２２Ａをエッチングする。
【００７５】そして、マスクとなったフォトレジスト膜
を除去することにより、所定のパターンのブラックマト
リッスク層２２を得ることができる。
【００７６】工程Ｃ．図８（Ｃ） 次に、ブラックマトリックス層２２をも含んで、透明基
板１Ｂの表面の全域にたとえば赤色（Ｒ）の顔料が含有
された合成樹脂層を形成する。
【００７７】そして、この合成樹脂層の表面の全域にフ
ォトレジスト膜を塗布し、フォトリソグラフィ技術によ
りカラーフィルタ（Ｒ）の形成領域に相当する領域のみ
に該フォトレジスト膜を残存させ、他を除去する。
【００７８】さらに、残存されたフォトレジスト膜をマ
スクとして、このフォトレジスト膜から露出された前記
合成樹脂層をエッチングする。
【００７９】そして、マスクとなったフォトレジスト膜
を除去することにより、所定のパターンのカラーフィル
タ層２３Ｒを得ることができる。
【００８０】工程Ｄ．図８（Ｄ） その後は、緑色用のカラーフィルタ層２３Ｇを上述した
と同様の工程で形成し、また、青色用のカラーフィルタ
層２３Ｂを上述したと同様の工程で形成する。
【００８１】工程Ｅ．図８（Ｅ） 次に、ブラックマトリックス層２２、カラーフィルタ２
３をも含んで、透明基板の表面の全域に平坦膜２４を形
成する。この平坦膜２４は、たとえばＣＶＤ法により形
成されたＳｉＯ2膜、ＳｉＮ膜等であってもよく、ま
た、塗布工程等で形成された合成樹脂層であってもよ
い。
【００８２】工程Ｆ．図８（Ｆ） 平坦膜２４の表面にスペース材３０を散在させる。そし
て、加熱処理を行う。
【００８３】工程Ｈ．図８（Ｇ） 配向膜を形成する。
【００８４】以上示した実施例による液晶表示装置によ
れば、次のような効果を得ることができるようになる。
【００８５】透明基板１Ａ、１Ｂの間に介在されるスペ
ーサ材３０が一方の透明基板１Ｂ側に固定されているこ
とから、該スペーサ材３０の移動を防止することができ
るようになる。
【００８６】そして、該スペーサ材３０は配向膜２５の
下層の平坦膜２４に固定された構成となっており、該配
向膜２５に被われている構成となっている。
【００８７】これは、スペーサ材３０にも配向膜２５が
被われる構成とすることにより、該スペーサ材３０の周
囲における液晶の配向の状態の変化を大きくさせないこ
とにある。
【００８８】また、スペーサ材３０を配向膜２５に固定
させる場合、該スペーサ材３０の表面に接着剤等を付着
させなければならない等の煩雑な作業を回避できる構成
となっている。
【００８９】すなわち、スペーサ材３０を平坦膜２４に
固定させる場合には、たとえば平坦膜の硬化前にスペー
サを散在させ、硬化過程での適当な加熱を施すことによ
り、該平坦膜２４に強固に固定できるからである。
【００９０】また、上述した実施例による液晶表示装置
は、その一対の透明基板１Ａ、１Ｂのうち、特に画素電
極１８および基準電極１４が形成されていない側の透明
基板１Ｂに、スペーサ材が固着された構成となってい
る。
【００９１】該各電極が形成されていないことによっ
て、液晶と接触するようにして形成されなければならな
い配向膜２５の下層には、平坦膜２４が形成されている
ことから、特に他の部分の構成を変更することなく、
即、この平坦膜２４に固着できる構成とすることができ
るようになる。
【００９２】たとえば、スペーサ材を固着させる側の透
明基板に電極（通常、配向膜の下層に形成される）が形
成されていた場合、該電極は、絶縁膜の下層に形成する
等の変更設計をしなければならず、この結果、該電極と
他の電極との間の電界は該絶縁膜を介して発生され、液
晶に影響を及ぼす電界の強度が弱まるという弊害をもた
らすことになる。
【００９３】さらに、上述した実施例による液晶表示装
置は、ブラックマトリックス層２２とカラーフィルタ２
３との一部の重畳された配置により形成される段差を該
平坦膜２５によってその表面に顕在化されることのない
構成となっている。
【００９４】このため、スペーサ材３０の平坦膜２４面
における散在配置を均一化させることができるととも
に、該平坦膜面２４における固着も均一化させることが
できるようになる。
【００９５】上述した実施例では、スペーサ材３０の固
着は、各透明基板１Ａ、１Ｂのうち画素電極１８および
基準電極１４が形成されていない側の透明基板に対して
行ったものである。
【００９６】しかし、これに限定されることなく、画素
電極１８および基準電極１４が形成されている側の透明
基板１Ａに対して固着させてもよいことはいうまでもな
い。
【００９７】この場合、スペーサ材３０は、保護膜１９
に固定されることになる。
【００９８】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明による液晶表示装置によれば、スペーサ材の移動
による表示むらを防止できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による液晶表示装置の液晶表示パネルの
一実施例を示す断面図である。
【図２】本発明による液晶表示装置の全体構成の一実施
例を示す等価回路図である。
【図３】本発明による液晶表示装置の液晶表示パネルの
画素領域の一実施例を示す平面図である。
【図４】図３のIV−IV線における断面図である。
【図５】図３のV−V線における断面図である。
【図６】図３のVI−VI線における断面図である。
【図７】本発明による液晶表示装置の液晶表示パネルの
電界方向とラビング方向、および偏光板との関係を示す
説明図である。
【図８】本発明による液晶表示装置の液晶表示パネルの
製造方法の一実施例を示す工程図である。
【符号の説明】
１Ａ、１Ｂ……透明基板、１４……基準電極、１８……
画素電極、２２……ブラックマトリックス層、２３……
カラーフィルタ、２４……平坦膜、２５……配向膜、３
０……スペーサ材。
フロントページの続き (72)発明者 阿須間 宏明 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 液晶を介して互いに対向配置される各透
    明基板のうち一方の透明基板の液晶側の面に画素電極と
    基準電極とが形成され、この画素電極と基準電極との間
    を透過する光の透過率を、該画素電極と基準電極との間
    に発生する電界による該液晶の分子の捻じれによって制
    御する液晶表示装置において、 前記透明基板のそれぞれの間にスペーサ材が介在され、
    このスペーサ材は、一方の透明基板側の前記液晶に接触
    される配向膜の下層の絶縁膜に固定されて配置されてい
    ることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 【請求項２】 前記スペーサは、各透明基板のうち他方
    の透明基板の液晶側の面に前記液晶に接触される配向膜
    の下層の絶縁膜に固定されていることを特徴とする請求
    項１記載の液晶表示装置。
  3. 【請求項３】 前記絶縁膜は、ブラックマトリックス層
    およびカラーフィルタを被う平坦膜であることを特徴と
    する請求項２記載の液晶表示装置。
  4. 【請求項４】 液晶を介して互いに対向配置される各透
    明基板のうち一方の透明基板の液晶側の面に画素電極と
    基準電極とが形成され、この画素電極と基準電極との間
    を透過する光の透過率を、該画素電極と基準電極との間
    に発生する電界による該液晶の分子の捻じれによって制
    御する液晶表示装置の製造方法において、 前記各透明基板のうち他方の透明基板の液晶側の面に、
    絶縁膜を形成する工程と、この絶縁膜の面にスペーサ材
    を散在させる工程と、熱を加えることにより該スペーサ
    材を絶縁膜に対して固定させる工程と、を含むことを特
    徴とする液晶表示装置の製造方法。
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