JPH11109125A - カラーフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子、並びにカラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子、並びにカラーフィルタの製造方法Info
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- JPH11109125A JPH11109125A JP27284697A JP27284697A JPH11109125A JP H11109125 A JPH11109125 A JP H11109125A JP 27284697 A JP27284697 A JP 27284697A JP 27284697 A JP27284697 A JP 27284697A JP H11109125 A JPH11109125 A JP H11109125A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラーレジストの顔料残渣が残らないように
することにより、透過光の損失の少ないカラーフィル
タ、並びに点欠陥不良のない固体撮像素子を提供する。 【解決手段】 下地レジスト膜１１と、その上の顔料入
りレジスト膜１２から成るカラーフィルタ１０、及び受
光素子２上に、このカラーフィルタ１０が形成されて成
る固体撮像素子２０を構成する。
することにより、透過光の損失の少ないカラーフィル
タ、並びに点欠陥不良のない固体撮像素子を提供する。 【解決手段】 下地レジスト膜１１と、その上の顔料入
りレジスト膜１２から成るカラーフィルタ１０、及び受
光素子２上に、このカラーフィルタ１０が形成されて成
る固体撮像素子２０を構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、顔料を分散させた
透明な樹脂から成るカラーフィルタ及びこれを用いた固
体撮像素子、並びにカラーフィルタの製造方法に係わ
る。
透明な樹脂から成るカラーフィルタ及びこれを用いた固
体撮像素子、並びにカラーフィルタの製造方法に係わ
る。
【０００２】
【従来の技術】カラー用のＣＣＤ固体撮像素子において
は、光電変換を行うセンサ部の上方に、所定の色のオン
チップカラーフィルタを形成して、このオンチップカラ
ーフィルタを通して光をセンサ部に入射させることによ
り、その所定の色に関する信号を得ていた。
は、光電変換を行うセンサ部の上方に、所定の色のオン
チップカラーフィルタを形成して、このオンチップカラ
ーフィルタを通して光をセンサ部に入射させることによ
り、その所定の色に関する信号を得ていた。
【０００３】このオンチップカラーフィルタには、例え
ば顔料入りのカラーレジストや、染料入りのカラーレジ
スト等が用いられ、これを所定のパターンにパターニン
グすることにより、オンチップカラーフィルタを形成し
ていた。
ば顔料入りのカラーレジストや、染料入りのカラーレジ
スト等が用いられ、これを所定のパターンにパターニン
グすることにより、オンチップカラーフィルタを形成し
ていた。
【０００４】従来のオンチップカラーフィルタの製造方
法を次に示す。まず、図示しないが、シリコン基板上に
固体撮像素子の各部を形成する。その後、表面を樹脂等
の平坦化膜３０を用いて平坦化する。
法を次に示す。まず、図示しないが、シリコン基板上に
固体撮像素子の各部を形成する。その後、表面を樹脂等
の平坦化膜３０を用いて平坦化する。
【０００５】次に、図４Ａに示すように、平坦化膜３０
上に第１色目のカラーレジスト３１を塗布する。そし
て、図４Ｂに示すように、このカラーレジスト３１を露
光する。その後、図４Ｃに示すように、露光したカラー
レジスト３１を現像し、所望のパターンを得る。
上に第１色目のカラーレジスト３１を塗布する。そし
て、図４Ｂに示すように、このカラーレジスト３１を露
光する。その後、図４Ｃに示すように、露光したカラー
レジスト３１を現像し、所望のパターンを得る。
【０００６】そして、ベーキング（熱処理）又は紫外線
照射を行って、第１色目のカラーレジストパターンを固
着させる。続いて、図示しないが、第１色目のカラーレ
ジストパターンと同様にして、繰り返し第２色目、第３
色目のカラーレジストパターンを形成し、カラーフィル
タを完成させる。
照射を行って、第１色目のカラーレジストパターンを固
着させる。続いて、図示しないが、第１色目のカラーレ
ジストパターンと同様にして、繰り返し第２色目、第３
色目のカラーレジストパターンを形成し、カラーフィル
タを完成させる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来の製造方法では、次のような欠点を有していた。
従来の製造方法では、次のような欠点を有していた。
【０００８】カラーレジストのうち、染料を用いたカラ
ーレジストは、レジスト中に染料が溶解している。
ーレジストは、レジスト中に染料が溶解している。
【０００９】一方、顔料を用いたカラーレジストは、レ
ジスト中に顔料を溶解することが不可能であるため、レ
ジスト中に顔料粒子が分散された状態で存在している。
この分散させた顔料粒子の内、下地の平坦化層と密着し
ている部分の顔料は、現像処理によって完全に除去する
ことができないため、図５に示すように、いわゆる残渣
３２としてレジスト除去部に残ってしまう。この顔料残
渣３２が原因となって、固体撮像素子を形成した後に、
入射光を阻害して点欠陥を生じることがあり、製造歩留
まりを著しく落としていた。
ジスト中に顔料を溶解することが不可能であるため、レ
ジスト中に顔料粒子が分散された状態で存在している。
この分散させた顔料粒子の内、下地の平坦化層と密着し
ている部分の顔料は、現像処理によって完全に除去する
ことができないため、図５に示すように、いわゆる残渣
３２としてレジスト除去部に残ってしまう。この顔料残
渣３２が原因となって、固体撮像素子を形成した後に、
入射光を阻害して点欠陥を生じることがあり、製造歩留
まりを著しく落としていた。
【００１０】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、カラーレジストの顔料残渣が残らないようにす
ることにより、透過光の損失の少ないカラーフィルタ、
並びに点欠陥不良のない固体撮像素子を提供するもので
ある。
いては、カラーレジストの顔料残渣が残らないようにす
ることにより、透過光の損失の少ないカラーフィルタ、
並びに点欠陥不良のない固体撮像素子を提供するもので
ある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
は、下地レジスト膜と、その上の顔料入りレジスト膜か
ら成るものである。
は、下地レジスト膜と、その上の顔料入りレジスト膜か
ら成るものである。
【００１２】本発明の固体撮像素子は、受光素子上に、
下地レジスト膜を介して、顔料入りレジスト膜によるカ
ラーフィルタが形成されて成るものである。
下地レジスト膜を介して、顔料入りレジスト膜によるカ
ラーフィルタが形成されて成るものである。
【００１３】本発明のカラーフィルタの製造方法は、下
地レジスト膜を形成し、下地レジスト膜の上に、所定の
色の顔料を含む顔料入りレジスト膜を形成し、下地レジ
スト膜及び顔料入りレジスト膜をパターニングして、所
定の色のフィルタを形成する。
地レジスト膜を形成し、下地レジスト膜の上に、所定の
色の顔料を含む顔料入りレジスト膜を形成し、下地レジ
スト膜及び顔料入りレジスト膜をパターニングして、所
定の色のフィルタを形成する。
【００１４】上述の本発明のカラーフィルタによれば、
顔料入りレジスト膜中に分散された顔料粒子が、間に下
地レジスト膜を介していることにより、下地層と密着す
ることがなく、現像処理によって除去することができ
る。
顔料入りレジスト膜中に分散された顔料粒子が、間に下
地レジスト膜を介していることにより、下地層と密着す
ることがなく、現像処理によって除去することができ
る。
【００１５】上述の本発明の固体撮像素子によれば、上
述のカラーフィルタを用いることにより、顔料の残渣が
なく、この残渣に起因する入射光の感度低下や点欠陥を
防止できる。
述のカラーフィルタを用いることにより、顔料の残渣が
なく、この残渣に起因する入射光の感度低下や点欠陥を
防止できる。
【００１６】上述の本発明のカラーフィルタの製造方法
によれば、顔料入りレジスト膜中の顔料が下地層との界
面に密着していても、下地レジスト膜をパターニングす
る際に、密着していた顔料が共に除去され、顔料が残渣
として残ることがない。
によれば、顔料入りレジスト膜中の顔料が下地層との界
面に密着していても、下地レジスト膜をパターニングす
る際に、密着していた顔料が共に除去され、顔料が残渣
として残ることがない。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明は、下地レジスト膜と、そ
の上の顔料入りレジスト膜から成るカラーフィルタであ
る。
の上の顔料入りレジスト膜から成るカラーフィルタであ
る。
【００１８】本発明は、受光素子上に、下地レジスト膜
を介して、顔料入りレジスト膜によるカラーフィルタが
形成されて成る固体撮像素子である。
を介して、顔料入りレジスト膜によるカラーフィルタが
形成されて成る固体撮像素子である。
【００１９】また本発明は、上記固体撮像素子におい
て、下地レジスト膜と、顔料入りレジスト膜とは、同じ
タイプのレジスト膜である構成とする。
て、下地レジスト膜と、顔料入りレジスト膜とは、同じ
タイプのレジスト膜である構成とする。
【００２０】また本発明は、上記固体撮像素子におい
て、同じタイプのレジスト膜が、ネガ型のレジストであ
る構成とする。
て、同じタイプのレジスト膜が、ネガ型のレジストであ
る構成とする。
【００２１】本発明は、下地レジスト膜を形成し、下地
レジスト膜の上に、所定の色の顔料を含む顔料入りレジ
スト膜を形成し、下地レジスト膜及び顔料入りレジスト
膜をパターニングして、所定の色のフィルタを形成する
カラーフィルタの製造方法である。
レジスト膜の上に、所定の色の顔料を含む顔料入りレジ
スト膜を形成し、下地レジスト膜及び顔料入りレジスト
膜をパターニングして、所定の色のフィルタを形成する
カラーフィルタの製造方法である。
【００２２】また本発明は、上記カラーフィルタの製造
方法において、下地レジスト膜と、顔料入りレジスト膜
とを一括露光し、現像処理する。
方法において、下地レジスト膜と、顔料入りレジスト膜
とを一括露光し、現像処理する。
【００２３】以下、図面を参照して、本発明に係るカラ
ーフィルタ及び固体撮像素子の一実施の形態を説明す
る。図１に示す固体撮像素子２０は、本発明に係る固体
撮像素子の一実施の形態の１画素に対応する素子の断面
図である。
ーフィルタ及び固体撮像素子の一実施の形態を説明す
る。図１に示す固体撮像素子２０は、本発明に係る固体
撮像素子の一実施の形態の１画素に対応する素子の断面
図である。
【００２４】この固体撮像素子２０は、半導体基板１内
にセンサ（受光部）２が形成され、この受光部２以外の
半導体基板１上にはゲート絶縁膜３を介して転送電極４
が形成されている。転送電極４上には層間絶縁膜５を介
して遮光膜６が形成され、この遮光膜６は転送電極４へ
の光の入射を防止する。また、遮光膜６には受光部２上
に開口が設けられて、受光部２に光が入射するようにし
ている。また、遮光膜６を覆って層間絶縁層７が形成さ
れ、この層間絶縁層７上には、平坦化膜８が形成され
て、その上面が平坦化されている。
にセンサ（受光部）２が形成され、この受光部２以外の
半導体基板１上にはゲート絶縁膜３を介して転送電極４
が形成されている。転送電極４上には層間絶縁膜５を介
して遮光膜６が形成され、この遮光膜６は転送電極４へ
の光の入射を防止する。また、遮光膜６には受光部２上
に開口が設けられて、受光部２に光が入射するようにし
ている。また、遮光膜６を覆って層間絶縁層７が形成さ
れ、この層間絶縁層７上には、平坦化膜８が形成され
て、その上面が平坦化されている。
【００２５】そして、本実施の形態においては、特に平
坦化膜８上に、下地レジスト膜１１と顔料入りカラーレ
ジスト膜１２の２層構造から成るカラーフィルタ１０が
形成されている。さらに、カラーフィルタ１０上には、
オンチップマイクロレンズ１３が形成されている。
坦化膜８上に、下地レジスト膜１１と顔料入りカラーレ
ジスト膜１２の２層構造から成るカラーフィルタ１０が
形成されている。さらに、カラーフィルタ１０上には、
オンチップマイクロレンズ１３が形成されている。
【００２６】これら積層構造のレジスト膜１１，１２
は、所定のパターンを形成するために、後述するよう
に、一括して露光現像され、所定の色のカラーフィルタ
１０が形成される。
は、所定のパターンを形成するために、後述するよう
に、一括して露光現像され、所定の色のカラーフィルタ
１０が形成される。
【００２７】次に、本発明に係るカラーフィルタ１０の
製造工程を、図面を参照して説明する。
製造工程を、図面を参照して説明する。
【００２８】まず、図示しないが、従来公知の方法によ
り、図１に示した固体撮像素子２０の遮光膜６、及び層
間絶縁層７まで順次形成する。次に、例えばスチレン系
樹脂から成る平坦化膜８を回転塗布することにより、表
面を平坦化する。
り、図１に示した固体撮像素子２０の遮光膜６、及び層
間絶縁層７まで順次形成する。次に、例えばスチレン系
樹脂から成る平坦化膜８を回転塗布することにより、表
面を平坦化する。
【００２９】次に、図２Ａに示すように、例えばアクリ
ル樹脂から成るネガ型レジスト膜１２を、０．５μｍ〜
１．０μｍの膜厚で回転塗布する。
ル樹脂から成るネガ型レジスト膜１２を、０．５μｍ〜
１．０μｍの膜厚で回転塗布する。
【００３０】次に、図２Ｂに示すように、例えばＣ．
Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７等の赤色顔料をア
クリル樹脂に分散させた顔料入りカラーレジスト膜１２
を、１．０μｍ〜３．０μｍの膜厚で回転塗布し、積層
構造のレジストを形成する。続いて、積層構造となった
レジストを、９０℃〜１２０℃の温度でプリベーク（熱
処理）する。
Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７等の赤色顔料をア
クリル樹脂に分散させた顔料入りカラーレジスト膜１２
を、１．０μｍ〜３．０μｍの膜厚で回転塗布し、積層
構造のレジストを形成する。続いて、積層構造となった
レジストを、９０℃〜１２０℃の温度でプリベーク（熱
処理）する。
【００３１】そして、図２Ｃに示すように、縮小投影露
光装置等を用いて、レジストに所望のパターンを露光し
て、さらに従来と同様の方法により現像を行い、未露光
部のカラーレジスト膜１２及びネガ型レジスト膜１１を
除去する。
光装置等を用いて、レジストに所望のパターンを露光し
て、さらに従来と同様の方法により現像を行い、未露光
部のカラーレジスト膜１２及びネガ型レジスト膜１１を
除去する。
【００３２】１８０℃〜２２０℃のベーク（熱処理）又
は紫外線照射により、カラーレジスト膜１２を固着さ
せ、例えば赤色のフィルタ成分１０Ｒを形成する。そし
て、図２Ａ〜図２Ｄに示した各工程を、緑、青の各色の
顔料入りカラーレジストで繰り返すことにより、赤、
緑、青のフィルター成分１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂから成
る３色のオンチップカラーフィルタ１０を得る（図３Ａ
参照）。
は紫外線照射により、カラーレジスト膜１２を固着さ
せ、例えば赤色のフィルタ成分１０Ｒを形成する。そし
て、図２Ａ〜図２Ｄに示した各工程を、緑、青の各色の
顔料入りカラーレジストで繰り返すことにより、赤、
緑、青のフィルター成分１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂから成
る３色のオンチップカラーフィルタ１０を得る（図３Ａ
参照）。
【００３３】このようにして形成した３色の原色系カラ
ーフィルタ１０の断面図を図３Ａに、同様に従来製法に
より形成した３色の原色系カラーフィルタ３１の断面図
を図３Ｂに示す。図３Ａより、赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂのそれ
ぞれのカラーレジスト膜１２が、下地レジスト膜１１に
よって、下地層例えば平坦化膜８や他の色のカラーレジ
スト膜１２から分離されて形成されている。従って、平
坦化膜８への顔料の被着や、各色フィルタ成分１０Ｒ，
１０Ｇ及び１０Ｂ相互間の混色等の問題を回避すること
ができる。尚、隣接するカラーレジスト膜１２の間の側
面にも下地レジスト膜１１があるのは、１色目のパター
ニングが終了した後に、再び全面的に下地レジスト膜１
１を形成して、続いて２色目のカラーレジスト膜１２を
形成することによる。このとき、固着された１色目のカ
ラーレジスト膜１２より上方にはみ出す下地レジスト膜
１１及び２色目のカラーレジスト膜１２は、回転塗布し
ながら外部に除去される。３色目についても同様であ
る。
ーフィルタ１０の断面図を図３Ａに、同様に従来製法に
より形成した３色の原色系カラーフィルタ３１の断面図
を図３Ｂに示す。図３Ａより、赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂのそれ
ぞれのカラーレジスト膜１２が、下地レジスト膜１１に
よって、下地層例えば平坦化膜８や他の色のカラーレジ
スト膜１２から分離されて形成されている。従って、平
坦化膜８への顔料の被着や、各色フィルタ成分１０Ｒ，
１０Ｇ及び１０Ｂ相互間の混色等の問題を回避すること
ができる。尚、隣接するカラーレジスト膜１２の間の側
面にも下地レジスト膜１１があるのは、１色目のパター
ニングが終了した後に、再び全面的に下地レジスト膜１
１を形成して、続いて２色目のカラーレジスト膜１２を
形成することによる。このとき、固着された１色目のカ
ラーレジスト膜１２より上方にはみ出す下地レジスト膜
１１及び２色目のカラーレジスト膜１２は、回転塗布し
ながら外部に除去される。３色目についても同様であ
る。
【００３４】一方、図３Ｂに示す従来製法の場合には、
平坦化膜等の下地層３０の上に直接形成されるので、顔
料の残渣３２が生じたり、隣接する他の色のフィルタ成
分（３１Ｒ，３１Ｇ又は３１Ｂ）との混色を生じること
がある。
平坦化膜等の下地層３０の上に直接形成されるので、顔
料の残渣３２が生じたり、隣接する他の色のフィルタ成
分（３１Ｒ，３１Ｇ又は３１Ｂ）との混色を生じること
がある。
【００３５】上述のようにカラーフィルタ１０を形成す
ることによって、カラーレジスト膜１２中に分散された
顔料粒子は、間にネガ型の下地レジスト膜１１が挟まる
ことにより、下地となる平坦化層８や、他の色のカラー
レジスト膜１２に付着することがなくなるので、次の現
像処理によって完全に除去することができる。
ることによって、カラーレジスト膜１２中に分散された
顔料粒子は、間にネガ型の下地レジスト膜１１が挟まる
ことにより、下地となる平坦化層８や、他の色のカラー
レジスト膜１２に付着することがなくなるので、次の現
像処理によって完全に除去することができる。
【００３６】尚、一般的に、顔料入りのカラーレジスト
膜１２はネガ型であるので、上述の実施の形態では下層
の下地レジスト膜１１も同じタイプのネガ型としたが、
カラーレジスト膜１２がポジ型である場合は、下地レジ
スト膜１１もポジ型とすることが好ましい。
膜１２はネガ型であるので、上述の実施の形態では下層
の下地レジスト膜１１も同じタイプのネガ型としたが、
カラーレジスト膜１２がポジ型である場合は、下地レジ
スト膜１１もポジ型とすることが好ましい。
【００３７】また、各色のフィルタ成分１０Ｒ，１０
Ｇ，１０Ｂを形成する順序は、上述の実施の形態では
赤、緑、青の順序であったが、他の順序でも差し支えな
い。
Ｇ，１０Ｂを形成する順序は、上述の実施の形態では
赤、緑、青の順序であったが、他の順序でも差し支えな
い。
【００３８】上述の実施の形態によれば、カラーレジス
ト膜１２中に分散した顔料が、下地層８と密着する部分
が無くなるため、未露光部のカラーレジスト膜１２中の
顔料は、現像処理によってレジスト膜１１，１２と共に
完全に除去され、残渣として残ることはなくなる。この
ため、顔料残渣による点欠陥不良が低減され、固体撮像
素子２０の歩留まりが向上するといった効果がある。
ト膜１２中に分散した顔料が、下地層８と密着する部分
が無くなるため、未露光部のカラーレジスト膜１２中の
顔料は、現像処理によってレジスト膜１１，１２と共に
完全に除去され、残渣として残ることはなくなる。この
ため、顔料残渣による点欠陥不良が低減され、固体撮像
素子２０の歩留まりが向上するといった効果がある。
【００３９】また、顔料残渣を考慮する必要が無くなる
ため、カラーレジスト膜１２中に分散させる顔料の量を
増加させることができ、同等の分光特性を得るためのカ
ラーレジスト膜１２の膜厚を薄くすることができる。
ため、カラーレジスト膜１２中に分散させる顔料の量を
増加させることができ、同等の分光特性を得るためのカ
ラーレジスト膜１２の膜厚を薄くすることができる。
【００４０】さらに、赤、緑、青の各色のカラーレジス
ト膜１２の間に無色の下地レジスト膜１１が挟まれるた
め、それぞれの色が混ざりあってしまう、いわゆる混色
の問題を回避できる。
ト膜１２の間に無色の下地レジスト膜１１が挟まれるた
め、それぞれの色が混ざりあってしまう、いわゆる混色
の問題を回避できる。
【００４１】本実施の形態においては、図１に示すよう
なＣＣＤ固体撮像素子２０に用いるオンチップカラーフ
ィルタ１０としたが、その他の構成の固体撮像素子や、
例えばカラー液晶表示装置等においても、本発明のカラ
ーフィルタを適用することができる。
なＣＣＤ固体撮像素子２０に用いるオンチップカラーフ
ィルタ１０としたが、その他の構成の固体撮像素子や、
例えばカラー液晶表示装置等においても、本発明のカラ
ーフィルタを適用することができる。
【００４２】カラー液晶表示装置に適用した場合にも、
顔料の残渣によって入射光が損失することがないので、
特に微細化して画素数を増やした場合に有効である。
顔料の残渣によって入射光が損失することがないので、
特に微細化して画素数を増やした場合に有効である。
【００４３】本発明のカラーフィルタ、及びこれを用い
た固体撮像素子、並びにカラーフィルタの製造方法は、
上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
た固体撮像素子、並びにカラーフィルタの製造方法は、
上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
【００４４】
【発明の効果】上述の本発明によれば、カラーフィルタ
において、カラーレジスト膜の下地に下地レジスト膜を
形成することにより、カラーレジスト中に分散した顔料
が、さらに下地の平坦化層等と密着する部分が無くなる
ため、未露光部のレジスト中の顔料は、現像処理によっ
てカラーレジスト膜及び下地レジスト膜と共に完全に除
去され、残渣として残ることはなくなる。このため、顔
料残渣による点欠陥不良が低減され、固体撮像素子の歩
留まりが向上する。
において、カラーレジスト膜の下地に下地レジスト膜を
形成することにより、カラーレジスト中に分散した顔料
が、さらに下地の平坦化層等と密着する部分が無くなる
ため、未露光部のレジスト中の顔料は、現像処理によっ
てカラーレジスト膜及び下地レジスト膜と共に完全に除
去され、残渣として残ることはなくなる。このため、顔
料残渣による点欠陥不良が低減され、固体撮像素子の歩
留まりが向上する。
【００４５】また、顔料残渣を考慮する必要が無くなる
ため、レジスト中に分散させる顔料の量を増加させるこ
とができ、同等の分光特性を得るためのカラーレジスト
の膜厚をより薄くすることができる。従って、基板から
オンチップレンズまでの距離を短縮することができ、固
体撮像素子の小型化や感度向上を図ることができる。
ため、レジスト中に分散させる顔料の量を増加させるこ
とができ、同等の分光特性を得るためのカラーレジスト
の膜厚をより薄くすることができる。従って、基板から
オンチップレンズまでの距離を短縮することができ、固
体撮像素子の小型化や感度向上を図ることができる。
【００４６】さらに、本発明によれば、各色のカラーレ
ジストの間に無色のレジストが挟まれるため、混色の問
題を回避できる。
ジストの間に無色のレジストが挟まれるため、混色の問
題を回避できる。
【図１】本発明に係る固体撮像素子の画素の概略構成図
（断面図）である。
（断面図）である。
【図２】Ａ〜Ｄ 本発明に係るカラーフィルタの製造工
程図である。
程図である。
【図３】本発明製法と従来製法とを比較する図である。 Ａ 本発明製法による原色系カラーフィルタの概略構成
図（断面図）である。 Ｂ 従来製法による原色系カラーフィルタの概略構成図
（断面図）である。
図（断面図）である。 Ｂ 従来製法による原色系カラーフィルタの概略構成図
（断面図）である。
【図４】Ａ〜Ｃ 従来のカラーフィルタの製造工程図で
ある。
ある。
【図５】顔料の残渣の状態を示す図である。
１ 半導体基板、２ 受光部（センサ）、３ ゲート絶
縁膜、４ 転送電極、５層間絶縁膜、６ 遮光膜、７
層間絶縁層、８ 平坦化膜、１０ カラーフィルタ、１
０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ 色フィルタ成分、１１ 下地レ
ジスト膜、１２顔料入りカラーレジスト膜、１３ オン
チップマイクロレンズ、２０ 固体撮像素子、３０ 平
坦化膜、３１ カラーレジスト、３２ 顔料残渣
縁膜、４ 転送電極、５層間絶縁膜、６ 遮光膜、７
層間絶縁層、８ 平坦化膜、１０ カラーフィルタ、１
０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ 色フィルタ成分、１１ 下地レ
ジスト膜、１２顔料入りカラーレジスト膜、１３ オン
チップマイクロレンズ、２０ 固体撮像素子、３０ 平
坦化膜、３１ カラーレジスト、３２ 顔料残渣
Claims (6)
- 【請求項１】 下地レジスト膜と、その上の顔料入りレ
ジスト膜から成ることを特徴とするカラーフィルタ。 - 【請求項２】 受光素子上に、下地レジスト膜を介し
て、顔料入りレジスト膜によるカラーフィルタが形成さ
れて成ることを特徴とする固体撮像素子。 - 【請求項３】 上記下地レジスト膜と、上記顔料入りレ
ジスト膜とは、同じタイプのレジスト膜であることを特
徴とする請求項２に記載の固体撮像素子。 - 【請求項４】 上記同じタイプのレジスト膜が、ネガ型
のレジストであることを特徴とする請求項３に記載の固
体撮像素子。 - 【請求項５】 下地レジスト膜を形成し、 該下地レジスト膜の上に、所定の色の顔料を含む顔料入
りレジスト膜を形成し、 上記下地レジスト膜及び上記顔料入りレジスト膜をパタ
ーニングして、 所定の色のフィルタを形成することを特徴とするカラー
フィルタの製造方法。 - 【請求項６】 上記下地レジスト膜と、上記顔料入りレ
ジスト膜とを一括露光し、現像処理することを特徴とす
る請求項４に記載のカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27284697A JPH11109125A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | カラーフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子、並びにカラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27284697A JPH11109125A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | カラーフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子、並びにカラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11109125A true JPH11109125A (ja) | 1999-04-23 |
Family
ID=17519598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27284697A Pending JPH11109125A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | カラーフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子、並びにカラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11109125A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007235048A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | カラーフィルタを備える固体撮像素子とその製造方法 |
| JP2016076682A (ja) * | 2014-10-06 | 2016-05-12 | 采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司ＶｉｓＥｒａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏｍｐａｎｙ Ｌｉｍｉｔｅｄ | イメージセンサーとその形成方法 |
-
1997
- 1997-10-06 JP JP27284697A patent/JPH11109125A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007235048A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | カラーフィルタを備える固体撮像素子とその製造方法 |
| JP2016076682A (ja) * | 2014-10-06 | 2016-05-12 | 采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司ＶｉｓＥｒａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏｍｐａｎｙ Ｌｉｍｉｔｅｄ | イメージセンサーとその形成方法 |
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