JPH11101617A - 構造体ひずみ監視方法およびその監視装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ファイバを使用して容易に構造体のひずみ
を測定することができる構造体ひずみ監視方法およびそ
の監視装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 光ファイバにマイクロベンドを与えたと
きの導波光の伝搬損失を利用する光ファイバひずみセン
サを用いた構造体ひずみ監視方法において、光ファイバ
を少なくとも１ターン以上巻いたソレノイドを備える光
ファイバひずみセンサを構造体に複数個設置して、予め
光ファイバひずみセンサの光損失とひずみとの関係を求
めて校正曲線テーブルを作成し、構造体に設置された前
記光ファイバひずみセンサにより光損失量を測定して、
前記校正曲線テーブルに基づいてひずみ量を算出する構
造体ひずみ監視方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバひずみ
センサを用いて、パイプラインや地盤のひずみを測定す
る構造体ひずみ監視方法およびその監視装置に係るもの
である。

【０００２】

【従来の技術】従来、構造体のひずみを測定するシステ
ムとして、特願昭５７−５０２８５７号に開示されたも
のがある。図５を参照して、従来の構造体のひずみの測
定方法について説明する。同図（ａ）は、パイプライン
に生ずるひずみを複数個の極微屈曲センサで検出する光
ファイバシステムの概略図であり、同図（ｂ）は１つ以
上の極微屈曲センサが作動位置にある時に検出された光
学情報を示すグラフであり、同図（ｃ）は比較的長いパ
イプライン等の複数箇所に生ずるひずみを測定する多チ
ャンネル光ファイバシステムを示し、複数個の極微屈曲
センサを各々組み合わされた複数本の光ファイバを用い
られている。

【０００３】従来の構造体のひずみを測定する光ファイ
バセンサシステム３０は、監視ステーションが適宜な位
置に設置され、複数個の極微屈曲センサ３２がパイプラ
イン３１の長さに沿って、長手方向に所定の間隔で離間
した位置に取り付けられ、複数個の極微屈曲センサ３２
が光ファイバ３３によって直列に組み合わされるように
備えられている。各々の極微屈曲センサ３２は、パイプ
ライン３１に加わる力に応じて、極微屈曲センサ３２に
挿通された光ファイバ３３に極微屈曲部が形成されるよ
うに、パイプライン３１に取り付けられる。監視ステー
ションに設置された光学的な時間領域反射計（ＯＴＤ
Ｒ）３４によって、各々の極微屈曲センサ３２からの後
方散乱光（反射光）を検出し、後方散乱光の強度とその
検出時間から、パイプライン３１に生ずるひずみの位置
および大きさを計測することができる。同図（ｃ）の多
チャンネル光ファイバシステムでは、並列に配置された
複数個の極微屈曲センサ３２は、スイッチ装置３５で切
り換えることにより、１つのＯＴＤＲ３４で測定するこ
とができる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図５の
従来例は、以下のような問題点を有している。先ず、光
ファイバセンサの出力である光損失量をひずみ量に変換
する必要があるが、従来例では、光損失量からひずみ量
に変換する変換方法についての具体的な記述がされてい
ないし、環境温度の変化や光ファイバセンサケーブルの
曲り等に起因する光損失を補正する方法についても開示
されていない。即ち、従来例の構造体ひずみ監視装置
は、パイプライン等の構造体のストレスの有無を検出す
るものであって、構造体のひずみ量の検出精度には問題
がある。

【０００５】本発明は、上述のような課題に鑑みてなさ
れたものであり、光ファイバを使用して容易に構造体の
ひずみを測定することができる構造体ひずみ監視方法お
よびその監視装置を提供することを目的とする。

【０００６】また、本発明は、光カプラおよび光スイッ
チを用いて、複数の光ファイバひずみセンサを切り換え
て測定し、測定した光損失を構造体のひずみに変換する
校正曲線テーブルによって、測定精度を向上させる構造
体ひずみ監視方法およびその監視装置を提供することを
目的とする。

【０００７】また、本発明は、環境温度の変化や光ファ
イバセンサケーブルの曲り等に起因する光損失を補正す
るための補償用光ファイバセンサを用いる構造体ひずみ
監視方法およびその監視装置を提供することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を達
成するためになされたものであり、請求項１の発明は、
光ファイバにマイクロベンドを与えたときの導波光の伝
搬損失を利用する光ファイバひずみセンサを用いた構造
体ひずみ監視方法において、光ファイバを少なくとも１
ターン以上巻いたソレノイドを備える光ファイバひずみ
センサを構造体に複数個設置して、予め光ファイバひず
みセンサの光損失とひずみとの関係を求めて校正曲線テ
ーブルを作成し、構造体に設置された前記光ファイバひ
ずみセンサにより光損失量を測定して、前記校正曲線テ
ーブルに基づいてひずみ量を算出することを特徴とする
構造体ひずみ監視方法である。この構成では、予め光フ
ァイバひずみセンサで検出される導波光の伝搬損失（以
下、光損失）と引張や圧縮のひずみとの関係を計測して
校正曲線テーブルを作成し、構造体に設置された光ファ
イバひずみセンサの出力である光損失量から校正曲線テ
ーブルを利用して構造体のひずみ量を検出するものであ
る。

【０００９】また、請求項２の発明は、光ファイバにマ
イクロベンドを与えたときの導波光の伝搬損失を利用す
る光ファイバひずみセンサを用いた構造体ひずみ監視方
法において、前記光ファイバを少なくとも１ターン以上
巻いたソレノイドを備える光ファイバひずみセンサと、
前記光ファイバひずみセンサが構造体に複数設置され、
前記複数の光ファイバひずみセンサの伝搬路を光カプラ
および／または光スイッチによって切り換えて、個々の
光ファイバひずみセンサを通過した透過光もしくは反射
光を計測し、個々の光ファイバひずみセンサの測定光
を、予め求めた個々の光ファイバひずみセンサの光損失
とひずみとの関係を記憶した校正曲線テーブルから前記
構造体のひずみ量を求めて、前記構造体のひずみを監視
することを特徴とする構造体ひずみ監視方法である。こ
の構成では、光ファイバひずみセンサを複数備えて、導
波光の伝搬路を光カプラおよび／または光スイッチによ
って切り換えて個々の光ファイバひずみセンサによる光
損失を測定し、その測定光からひずみ量を求めて構造体
のひずみを監視する。

【００１０】また、請求項３の発明は、前記光ファイバ
ひずみセンサと同一特性の補償用光ファイバセンサを前
記構造体の近傍に設置して、前記構造体に接触させるこ
となく、かつ前記補償用光ファイバセンサの伝搬路長
を、前記構造体に設置した光ファイバひずみセンサの伝
搬路長と略等しくし、前記補償用光ファイバセンサの測
定量に基づいて、前記構造体に設置した前記光ファイバ
ひずみセンサの測定光を補正して、前記構造体のひずみ
量を計測することを特徴とする請求項１または２記載の
構造体ひずみ監視方法である。この構成では、補償用光
ファイバセンサを備えることで、構造体のひずみ量の検
出精度を高めるものである。

【００１１】また、請求項４の発明は、光ファイバにマ
イクロベンドを与えたときの導波光の伝搬損失を利用す
る光ファイバひずみセンサを用いた構造体ひずみ監視装
置において、前記光ファイバを少なくとも１ターン以上
巻いたソレノイドによる光ファイバひずみセンサを構造
体に複数個設置し、光ファイバひずみセンサの光損失量
とひずみ量との関係を示す校正曲線テーブルを備え、前
記光ファイバひずみセンサからの導波光量を測定して、
前記校正曲線テーブルからひずみ量を求める変換手段を
具備することを特徴とする構造体ひずみ監視装置であ
る。この構成では、予め光ファイバひずみセンサで検出
される光損失と検出対象である構造体の引張や圧縮のひ
ずみとの関係を計測して、作成した校正曲線テーブルに
より、構造体のひずみ量を検出するものである。

【００１２】また、請求項５の発明は、光ファイバにマ
イクロベンドを与えたときの導波光の伝搬損失を利用す
る光ファイバひずみセンサを用いた構造体ひずみ監視装
置において、前記光ファイバを少なくとも１ターン以上
巻いたソレノイドによる光ファイバひずみセンサと、前
記光ファイバひずみセンサが構造体に複数設置され、前
記光ファイバひずみセンサからの測定光が透過光もしく
は反射光であって、前記複数の光ファイバひずみセンサ
を切り換えて測定するための伝搬路切替手段と、前記光
ファイバひずみセンサからの測定光から予め求めた光損
失とひずみとの関係を作成した校正曲線テーブルと、前
記伝搬路切替手段によって選択された光ファイバひずみ
センサの測定光を、前記校正曲線テーブルから測定した
光損失量に基づいて前記構造体のひずみ量を求める変換
手段と、を具備することを特徴とする構造体ひずみ監視
装置である。この構成では、伝搬路切替手段を用いるこ
とによって、並列に設置された光ファイバひずみセンサ
から出力を得て、構造体のひずみ量を監視するものであ
る。

【００１３】また、請求項６の発明は、環境温度の変化
やセンサケーブルの曲り等に起因する光損失を補正する
補償用光ファイバセンサを具備することを特徴とする請
求項４または５記載の構造体ひずみ監視装置である。こ
の構成では、補償用光ファイバセンサを備えることで、
より検出精度を高めたものである。

【００１４】また、請求項７の発明は、環境温度の変化
やセンサケーブルの曲り等に起因する光損失を補正する
ために、測定対象物に接着せず、地盤のひずみや土圧の
影響を受けないようにケースに収納され、測定箇所近傍
に配置した補償用光ファイバセンサを具備したことを特
徴とする請求項４また５記載の構造体ひずみ監視装置で
ある。この構成では、補償用光ファイバセンサをケース
に収納することで、設置環境に強い構造体ひずみ監視装
置とするものである。

【００１５】

【発明の実施の形熊】本発明に係る構造体ひずみ監視方
法およびその監視装置の実施の形態について、図面を参
照して説明する。

【００１６】図１は、本発明の一実施形態を示すブロッ
ク図である。図２は、図１に示した構造体ひずみ監視装
置に使用される光ファイバひずみセンサの一実施例を示
す図であり、同図（ａ）はその一部切欠平面図、同図
（ｂ）はその一部切欠したＸ−Ｙ断面図である。

【００１７】図１において、光ファイバひずみセンサ２
は、パイプライン等の測定対象物である構造体１に複数
個固定され、光ファイバひずみセンサ２のセンサケーブ
ル３の一端が光カプラ（光分波器）８とダミーファイバ
１１を通して、光ファイバケーブルでレーザ光源等によ
る光源６に接続され、その他端が光スイッチ９を介し
て、パワーメータ７に光ファイバケーブルで接続されて
いる。複数個の光ファイバひずみセンサ２を切り換えて
測定するために、光カプラ８と光スイッチ９が用いられ
る。光カプラ（光分波器）８は、光源６から入射した光
を複数個の光ファイバひずみセンサ２に等分岐して出射
するためのものである。光スイッチ９は、光ファイバひ
ずみセンサ２から入射した光を切り換えてパワーメータ
７に出射するためのものである。パワーメータ７は、光
ファイバひずみセンサ２を伝搬した導波光の光強度に応
じて電気信号に変換して、コンピュータ１０に伝送す
る。

【００１８】コンピュータ１０は、ＣＰＵ（中央処理装
置）、記憶装置および入出力回路（Ｉ／Ｏ回路）からな
り、上記機器の制御と測定データの記録、保存、解析を
行う。この記憶装置には、光ファイバひずみセンサによ
る光損失量と構造物のひずみ量の関係が校正曲線として
記憶され、校正曲線テーブルが形成されている。この校
正曲線テーブルは、個々のセンサ毎に作成される。校正
曲線テーブルは、光ファイバひずみセンサによる光損失
量を構造物のひずみ量に変換するための変換手段であ
る。光源６と光カプラ８間のダミーファイバ１１は、安
定した光損失測定を行うために励振器として用いるもの
で、光ファイバひずみセンサ２に使用している光ファイ
バと同種の長尺光ファイバが用いられる。なお、光カプ
ラ８の代わりに光スイッチ９を用いてもよいことは明ら
かである。

【００１９】さらに、本構造体ひずみ監視装置は、パイ
プライン等の構造体１に固定せず、測定箇所近傍に設置
される補償用光ファイバセンサ１２（以下、ダミーセン
サ）が設置されている。ダミーセンサ１２は、光ファイ
バひずみセンサ２と実質的に同一特性のものであって、
外力による変形を受けないように保護ケースに収納され
ている。ダミーセンサ１２の出力を参照することによ
り、環境温度の変化やセンサケーブル３の曲り等に起因
する光損失を補正することができる。

【００２０】続いて、図２を参照して、光ファイバひず
みセンサ２について説明する。図２において、光ファイ
バひずみセンサ２は、そのセンサ部が光ファイバ２ｂを
ソレノイド状に少なくとも１ターン以上捲回され、その
円周方向の一部もしくは全周を軸方向全域にわたって接
着したソレノイド２ａと、ソレノイド２ａに内側に接し
て軸方向に平行に配置された棒状の２本のフォーマ１３
とで構成され、２本のフォーマ１３のそれぞれが直接ま
たは間接的に測定対象物の構造体１に固定されている。
２本のフォーマ１３は、光ファイバ２ｂがソレノイド状
に捲回された当初の真円の内径よりも若干長い間隔で配
置され、２本のフォーマ１３にソレノイド２ａが支持さ
れた状態でソレノイド２ａは楕円状となる。また、ソレ
ノイド２ａの形状は、長孔状の場合もあり、上記楕円状
とは略楕円形の意味であって、数学的に厳密な楕円を意
味するわけではないことは明らかである。

【００２１】光ファイバひずみセンサ２のセンサ部は、
ゴム製のベースプレート１４に２本のフォーマスタンド
１３ａが所定の間隔で植立され、それぞれのフォーマス
タンド１３ａの先端にフォーマアーム１３ｂが設けら
れ、互いに向かい合うフォーマアーム１３ｂの先端部に
設けられたフォーマ１３にソレノイド２ａが支持されて
構成されている。ソレノイド２ａは、フォーマ１３に設
けられたずれ止め具１３ｃで支持されている。このセン
サ部は、ゴム製のカバー１５で覆われている。ソレノイ
ド２ａを形成する光ファイバ２ｂは、金属被覆管２ｃに
挿通されている。

【００２２】また、フォーマ部分の構造は、構造体１に
固定する部分であるフォーマスタンド１３ａと、ソレノ
イド２ａを装着するフォーマ１３を先端に取り付けたフ
ォーマアーム１３ｂとからなる。このような構造である
ので、フォーマアーム１３ｂの寸法を調整することで、
２本のフォーマ間距離の調整することができる。特に、
ベースプレート１４がゴム材料の場合、フォーマスタン
ド１３ａを精度よく取り付けることは難しいため、フォ
ーマアーム１３ｂの調整によって、２本のフォーマ間距
離の調整ができる。２本のフォーマ１３にはソレノイド
２ａのずれ止め具１３ｃが設けられており、大きな曲げ
変形が加えられた場合にも、ソレノイド２ａがフォーマ
１３から抜けることがない。

【００２３】それぞれのフォーマ１３に設けられたソレ
ノイド２ａを覆うように、ゴム製のカバー１５が覆い、
さらに保護カバー２０ａ、２０ｂで覆い、保護カバー２
０ｂに隣接して保護カバー２０ｃが光ファイバケーブル
を覆うように配置されている。保護カバー２０ａはボル
ト１８ａでフロントブロック１６と締結され、保護カバ
ー２０ｂ、２０ｃは押圧部材１９ａ、１９ｂに締結され
ている。さらに、保護カバー２０ａ〜２０ｃの上に設け
られた固定プレート２１が、保護カバー２０ａ、２０ｃ
とボルト１７で固定されている。保護カバー２０ａ〜２
０ｃと固定プレート２１は金属製であり、センサ部分は
ゴムで覆われているが、固定プレート２１と保護カバー
２０ａ〜２０ｃによる外囲器は剛体で構成されている。
ゴム製の部分と金属部分とは、接着もしくはゴム成形時
に金属部品を一体成形する。例えば、金属製のフロント
ブロック１６とベースプレート１４および押圧部材１９
ｂとベースプレート１４とが一体成形して接合されてい
る。センサの調整終了後、固定プレート２１を、保護カ
バー２０ａ、２０ｃに固定することで、２本のフォーマ
１３の距離を固定することができる。なお、光ファイバ
センサを測定対象物に装着した際、固定プレートは取り
除かれる。この光ファイバひずみセンサを、さらに保護
ケースに収納して必要な防水構造とすることで、一層耐
久性があり、環境条件に強い光ファイバひずみセンサと
することができる。

【００２４】次に、図２を参照して、光ファイバひずみ
センサ２によるひずみ計測について説明する。光ファイ
バひずみセンサ２は、フォーマ１３を直接または間接的
に測定対象物である構造体１に固定することによって、
構造体１のひずみを測定することができる。構造体１に
引張変形が発生すると、２本のフォーマ間距離は初期状
態Ｌから（Ｌ＋λｔ）となり、フォーマ１３によってソ
レノイド２ａに与えられる曲率が大きくなるために、光
伝送損失量が大きくなる。また、構造体１に圧縮変形が
発生すると、２本のフォーマ間距離は初期状態Ｌから
（Ｌ−λｃ）となり、フォーマ１３によってソレノイド
２ａに与えられる曲率が小さくなるために、光伝送損失
量が小さくなる。ただし、λｔ、λｃは変位量である。
この光伝送損失量を測定することにより、構造体１のひ
ずみを測定することができる。

【００２５】図３は、光損失とひずみの関係を示す校正
曲線の一例を示す図である。図３では、１２個の光ファ
イバひずみセンサの校正曲線が示されており、光損失を
ひずみに換算するために、予め求めた光損失とひずみと
の関係の校正曲線の例である。図３の縦軸は、ひずみ０
％の時の光パワーを基準にした光損失を示し、横軸は構
造体のひずみを示している。個々の光ファイバひずみセ
ンサ２の校正曲線を用いるのは、光ファイバひずみセン
サ２の製作上のばらつきや、光カプラ８、光スイッチ９
のチャンネル間のばらつきを補正するためである。校正
曲線は、コンピュータ１０上で起動する光損失−ひずみ
変換プログラムに組み込まれている。即ち、コンピュー
タ１０の記憶装置に校正曲線テーブルが形成されてい
る。

【００２６】従って、本発明の構造体ひずみ監視方法で
は、図１を参照して説明すると、光ファイバひずみセン
サ２を用い、測定対象の構造体がパイプラインである場
合、軸対称状に光ファイバひずみセンサ２を所定の間隔
で円周方向に複数個設置され、複数の光ファイバひずみ
センサ２の伝搬路を光カプラ８および／または光スイッ
チ９によって切り換えて、個々の光ファイバひずみセン
サ２を通過した透過光を計測し、個々の光ファイバひず
みセンサ２の測定光を、予め求めた個々の光ファイバひ
ずみセンサの光損失とひずみとの関係を記憶した校正曲
線テーブルから構造体１のひずみ量を求めて、構造体１
のひずみを監視するものである。また、光ファイバひず
みセンサ２と略同一特性の補償用光ファイバセンサ（ダ
ミーセンサ）１２を構造体１の近傍に設置して、構造体
１に接触させることなく、かつ補償用光ファイバセンサ
１２の伝搬路長を、構造体１に設置した光ファイバひず
みセンサ２の伝搬路長と略等しくなるように敷設して、
補償用光ファイバセンサ１２の測定量に基づいて、構造
体１に設置した光ファイバひずみセンサ２の測定光を補
正して、構造体１のひずみ量を計測するものである。

【００２７】図４は、本発明の他の実施形態を示すブロ
ック図である。図４において、光ファイバひずみセンサ
２は、反射型とし、測定対象物である構造体１に固定さ
れ、光ファイバひずみセンサ２のセンサケーブル３の一
端に光スイッチ９を介して時間領域反射計（ＯＴＤＲ）
４に接続される。光スイッチ９は、複数個の光ファイバ
ひずみセンサ２を切り換えて測定するために用いられ
る。コンピュータ１０は、これらの機器のコントロール
と測定データの記録、保存、解析を行う。上記実施形態
と同様にコンピュータ１０の記憶装置に、光損失−ひず
み変換テーブルである校正曲線テーブルが作成されてい
る。ＯＴＤＲ４と光スイッチ９間のダミーファイバ１１
は、安定した光損失測定を行うために励振器として用い
るもので、光ファイバひずみセンサ２に使用している光
ファイバと同種の長尺光ファイバである。ＯＴＤＲ４を
用いた後方散乱光の測定では、光ファイバひずみセンサ
２の直前と直後の光の強度の差分を光損失として出力す
ることができるため、環境温度の変化やセンサケーブル
３の曲り等に起因する光損失の補正を同時に行うことが
できる。従って、本実施形態では、上記実施形態のよう
なダミーセンサ１２を特には必要としない。

【００２８】

【発明の効果】上述のように、本発明は、以下のような
効果が得られる。先ず、本発明によれば、光ファイバひ
ずみセンサを使用して構造体のひずみを測定する構造体
ひずみ監視方法および監視装置において、光カプラおよ
び光スイッチを用いて複数の光ファイバひずみセンサを
切り換えて測定し、測定した光損失をひずみに変換する
校正曲線テーブルを個々のセンサ毎に持つことにより、
ひずみ測定精度が向上した。

【００２９】また、本発明によれば、光ファイバひずみ
センサを使用して構造体のひずみを測定する構造体ひず
み監視システムであり、環境温度の変化やセンサケープ
ルの曲り等に起因する光損失を補正するためのダミーセ
ンサを用いることにより、測定精度を向上させることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る構造体ひずみ監視方法およびその
監視装置の一実施形態を示すブロック図である。

【図２】本発明の光ファイバひずみセンサの一実施形態
を示す図である。

【図３】本発明の光損失とひずみの関係の校正曲線の一
例を示す図である。

【図４】本発明に係る構造体ひずみ監視方法およびその
監視装置の他の実施形態を示すブロック図である。

【図５】従来の構造体のひずみ監視システムの一例を示
す図である。

【符号の説明】

１ 構造体 ２ 光ファイバひずみセンサ ２ａ ソレノイド ３ センサケーブル ４ ＯＴＤＲ ６ 光源 ７ パワーメータ ８ 光カプラ ９ 光スイッチ １０ コンピュータ １１ ダミーファイバ １２ 補償用光ファイバセンサ １３ フォーマ １３ａ フォーマスタンド １３ｂ フォーマアーム １３ｃ ずれ止め具 １４ ベースプレート １５ 保護カバー １６ フロントブロック １７、１８ａ〜１８ｄ ボルト １９ａ、１９ｂ 押圧部材 ２０ａ〜２０ｃ 保護カバー ２１ 固定プレート

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光ファイバにマイクロベンドを与えたと
   きの導波光の伝搬損失を利用する光ファイバひずみセン
   サを用いた構造体ひずみ監視方法において、 光ファイバを少なくとも１ターン以上巻いたソレノイド
   を備える光ファイバひずみセンサを構造体に複数個設置
   して、予め光ファイバひずみセンサの光損失とひずみと
   の関係を求めて校正曲線テーブルを作成し、構造体に設
   置された前記光ファイバひずみセンサにより光損失量を
   測定して、前記校正曲線テーブルに基づいてひずみ量を
   算出することを特徴とする構造体ひずみ監視方法。
2. 【請求項２】 光ファイバにマイクロベンドを与えたと
   きの導波光の伝搬損失を利用する光ファイバひずみセン
   サを用いた構造体ひずみ監視方法において、 前記光ファイバを少なくとも１ターン以上巻いたソレノ
   イドを備える光ファイバひずみセンサが構造体に複数設
   置され、前記複数の光ファイバひずみセンサの伝搬路を
   光カプラおよび／または光スイッチによって切り換え
   て、個々の光ファイバひずみセンサを通過した透過光も
   しくは反射光を計測し、個々の光ファイバひずみセンサ
   の測定光を、予め求めた個々の光ファイバひずみセンサ
   の光損失とひずみとの関係を記憶した校正曲線テーブル
   から前記構造体のひずみ量を求めて、前記構造体のひず
   みを監視することを特徴とする構造体ひずみ監視方法。
3. 【請求項３】 前記光ファイバひずみセンサと同一特性
   の補償用光ファイバセンサを前記構造体の近傍に設置し
   て、前記構造体に接触させることなく、かつ前記補償用
   光ファイバセンサの伝搬路長を、前記構造体に設置した
   光ファイバひずみセンサの伝搬路長と略等しくし、前記
   補償用光ファイバセンサの測定量に基づいて、前記構造
   体に設置した前記光ファイバひずみセンサの測定光を補
   正して、前記構造体のひずみ量を計測することを特徴と
   する請求項１または２記載の構造体ひずみ監視方法。
4. 【請求項４】 光ファイバにマイクロベンドを与えたと
   きの導波光の伝搬損失を利用する光ファイバひずみセン
   サを用いた構造体ひずみ監視装置において、 前記光ファイバを少なくとも１ターン以上巻いたソレノ
   イドによる光ファイバひずみセンサを構造体に複数個設
   置し、個々の光ファイバひずみセンサの光損失量とひず
   み量との関係を示す校正曲線テーブルを備え、前記光フ
   ァイバひずみセンサからの導波光量を測定して、前記校
   正曲線テーブルからひずみ量を求める変換手段を具備す
   ることを特徴とする構造体ひずみ監視装置。
5. 【請求項５】 光ファイバにマイクロベンドを与えたと
   きの導波光の伝搬損失を利用する光ファイバひずみセン
   サを用いた構造体ひずみ監視装置において、 前記光ファイバを少なくとも１ターン以上巻いたソレノ
   イドによる光ファイバひずみセンサと、 前記光ファイバひずみセンサが構造体に複数設置され、
   前記光ファイバひずみセンサからの測定光が透過光もし
   くは反射光であって、前記複数の光ファイバひずみセン
   サを切り換えて測定するための伝搬路切替手段と、 前記光ファイバひずみセンサからの測定光から予め求め
   た光損失とひずみとの関係を作成した校正曲線テーブル
   と、 前記伝搬路切替手段によって選択された光ファイバひず
   みセンサの測定光を、前記校正曲線テーブルから測定し
   た光損失量に基づいて前記構造体のひずみ量を求める変
   換手段と、 を具備することを特徴とする構造体ひずみ監視装置。
6. 【請求項６】 環境温度の変化やセンサケーブルの曲り
   等に起因する光損失を補正する補償用光ファイバセンサ
   を具備することを特徴とする請求項４または５記載の構
   造体ひずみ監視装置。
7. 【請求項７】 環境温度の変化やセンサケーブルの曲り
   等に起因する光損失を補正するために、測定対象物に接
   着せず、地盤のひずみや土圧の影響を受けないようにケ
   ースに収納され、測定箇所近傍に配置した補償用光ファ
   イバセンサを具備したことを特徴とする請求項４また５
   記載の構造体ひずみ監視装置。