JPH1110101A - Photorinsing apparatus - Google Patents
Photorinsing apparatusInfo
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- JPH1110101A JPH1110101A JP9161336A JP16133697A JPH1110101A JP H1110101 A JPH1110101 A JP H1110101A JP 9161336 A JP9161336 A JP 9161336A JP 16133697 A JP16133697 A JP 16133697A JP H1110101 A JPH1110101 A JP H1110101A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線ランプを用
いた光洗浄装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical cleaning device using an ultraviolet lamp.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、ドライで有効な洗浄法として、紫
外線を利用した洗浄法やオゾン、活性酸素等のガスと紫
外線を組み合わせた洗浄法がある。その光洗浄に用いら
れる従来の光洗浄装置は、図５に示すように、装置１内
には、光源として紫外線ランプ２と、被洗浄物を保持す
るホルダー４が設けられた構成である。2. Description of the Related Art In recent years, dry and effective cleaning methods include a cleaning method using ultraviolet rays and a cleaning method using a combination of a gas such as ozone or active oxygen and ultraviolet rays. As shown in FIG. 5, a conventional light cleaning device used for the light cleaning has a structure in which an ultraviolet lamp 2 as a light source and a holder 4 for holding an object to be cleaned are provided in the device 1.
【０００３】一般には、紫外線ランプ２として低圧水銀
ランプが使用され、この様な光洗浄装置はUV／オゾン洗
浄装置とも呼ばれ、有機物を分解／除去することができ
るので、食器洗浄、半導体／ガラス表面洗浄、レジスト
剥離等に広く用いられている。In general, a low-pressure mercury lamp is used as the ultraviolet lamp 2, and such a light cleaning device is also called a UV / ozone cleaning device, which can decompose / remove organic substances. Widely used for surface cleaning, resist stripping, etc.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記光洗浄装置に用い
られる低圧水銀ランプの発光スペクトル特性は、図４に
示されるように波長１８５ｎｍと２５４ｎｍに主な輝線
がある。入力電力に対するこれらの輝線への発光効率は
それほど高くはなく、多くは熱へ変換される。その発熱
のためにランプ自体の温度が高くなり、ランプからの熱
伝導、又は赤外線輻射により被洗浄物が加熱され、温度
が上がるという問題がある。The emission spectrum characteristics of a low-pressure mercury lamp used in the above-mentioned light cleaning apparatus have main emission lines at wavelengths of 185 nm and 254 nm as shown in FIG. The luminous efficiency of these bright lines with respect to input power is not very high and is mostly converted to heat. Due to the heat generated, the temperature of the lamp itself increases, and the object to be cleaned is heated by heat conduction or infrared radiation from the lamp, which raises a problem that the temperature rises.
【０００５】従って、従来の光洗浄装置は、被洗浄物が
高温になっても問題が生じない場合にのみ用いられ、被
洗浄物を高温にすることなく常温で洗浄する必要がある
場合には使用できないという問題があった。そこで、本
発明は、このような問題に鑑みて、常温状態に保つ必要
のある被洗浄物に対しても適用することができる光洗浄
装置を提供することを目的とする。Therefore, the conventional optical cleaning apparatus is used only when no problem occurs even when the temperature of the object to be cleaned becomes high, and when the object to be cleaned needs to be cleaned at room temperature without increasing the temperature. There was a problem that it could not be used. In view of such a problem, an object of the present invention is to provide an optical cleaning device that can be applied to an object to be cleaned that needs to be maintained at a normal temperature.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、第一に「紫外
線ランプから放射される紫外線を照射することにより被
洗浄物を洗浄する光洗浄装置において、前記紫外線ラン
プから放射される光のうち、前記被洗浄物に向かう３０
０ｎｍ（又は略３００ｎｍ）よりも長波長の光を遮蔽す
る部材を設けたことを特徴とする光洗浄装置（請求項
１）」を提供する。According to the present invention, there is provided an optical cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned by irradiating an ultraviolet ray emitted from an ultraviolet lamp. 30 toward the object to be cleaned
An optical cleaning device (Claim 1) characterized in that a member for shielding light having a wavelength longer than 0 nm (or approximately 300 nm) is provided.
【０００７】また、本発明は、第二に「前記部材は、前
記被洗浄物に向けて波長３００ｎｍ（又は略３００ｎ
ｍ）以下の光のみを透過するフィルター部を有すること
を特徴とする請求項１記載の光洗浄装置（請求項２）」
を提供する。また、本発明は、第三に「前記紫外線ラン
プから放射された光のうち、波長３００ｎｍ（又は略３
００ｎｍ）以下の光のみを前記フィルターに向けて反射
するミラー部をさらに有することを特徴とする請求項２
記載の光洗浄装置（請求項３）」を提供する。[0007] The present invention also provides a method of manufacturing a semiconductor device, comprising:
m) The light cleaning device according to claim 1, further comprising a filter unit that transmits only the following light:
I will provide a. In addition, the present invention provides a third aspect of “the light emitted from the ultraviolet lamp has a wavelength of 300 nm (or approximately 3 nm).
3. The device according to claim 2, further comprising: a mirror unit that reflects only light having a wavelength of not more than (00 nm) toward the filter.
The present invention provides a light cleaning device (claim 3).
【０００８】また、本発明は、第四に「前記部材は、前
記被洗浄物に向けて波長３００ｎｍ（又は略３００ｎ
ｍ）以下の光のみを反射するミラー部を有することを特
徴とする請求項１記載の光洗浄装置（請求項４）」を提
供する。また、本発明は、第五に「前記紫外線ランプが
低圧水銀ランプであることを特徴とする請求項１〜４記
載の光洗浄装置（請求項５）」を提供する。Further, the present invention relates to a fourth aspect of the present invention, wherein "the member has a wavelength of 300 nm (or approximately 300 nm) toward the object to be cleaned.
m) The optical cleaning device according to claim 1, further comprising a mirror unit that reflects only the following light. Fifth, the present invention provides a "light cleaning device according to claims 1 to 4, wherein the ultraviolet lamp is a low-pressure mercury lamp (claim 5)."
【０００９】また、本発明は、第六に「前記部材、前記
フィルター部、又は前記ミラー部に強制冷却機構を設け
たことを特徴とする請求項１〜５記載の光洗浄装置（請
求項６）」を提供する。In the sixth aspect of the present invention, the optical cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein a forced cooling mechanism is provided in the member, the filter portion, or the mirror portion. )"I will provide a.
【００１０】[0010]
【発明の実施形態】以下、本発明の実施形態として、図
面を用いて説明する。図１は、本発明にかかる第１の実
施形態の光洗浄装置の概略断面図である。第１の実施形
態の光洗浄装置は、装置１内に、光源として低圧水銀ラ
ンプ２、被洗浄物５を保持するホルダー４、低圧水銀ラ
ンプ２とホルダー４の間に３００ｎｍ以下の光のみを透
過するフィルター３と、が設けられた構成である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view of an optical cleaning device according to a first embodiment of the present invention. In the optical cleaning device of the first embodiment, a low-pressure mercury lamp 2 as a light source, a holder 4 for holding an object 5 to be cleaned, and only light of 300 nm or less pass between the low-pressure mercury lamp 2 and the holder 4 in the device 1. And a filter 3 to be provided.
【００１１】図示した光洗浄装置においては、図４に示
すような低圧水銀ランプ２から放射される１８５ｎｍ及
び２５４ｎｍの光と、発熱した前記ランプ２表面から放
射された赤外線は、フィルター３により、赤外線はカッ
トされ、波長１８５ｎｍと２５４ｎｍの光のみが透過さ
れ、被洗浄物に照射され、洗浄される。そのため、赤外
線による加熱効果を防ぐことができる。In the illustrated light cleaning apparatus, the light of 185 nm and 254 nm emitted from the low-pressure mercury lamp 2 as shown in FIG. Is cut, and only light having wavelengths of 185 nm and 254 nm is transmitted, irradiated to the object to be cleaned, and cleaned. Therefore, a heating effect by infrared rays can be prevented.
【００１２】また、赤外線をカットしたフィルター３は
赤外線により加熱されているので、フィルター３からの
発熱（熱伝導）を防止するために、強制冷却機構８を設
けることが好ましい。強制冷却機構８による冷却方法と
しては、フィルター３の周囲やフィルター３の保持部材
にペルチェ素子を設けたり、保持部材を水冷構造にする
方法や、フィルター３を２枚配置し、そのフィルター３
の間に液体窒素を流す方法等が挙げられる。Further, since the filter 3 from which infrared rays are cut is heated by infrared rays, it is preferable to provide a forced cooling mechanism 8 in order to prevent heat generation (heat conduction) from the filter 3. Examples of the cooling method by the forced cooling mechanism 8 include a method of providing a Peltier element around the filter 3 and a holding member of the filter 3, a method of making the holding member a water-cooled structure, and a method of disposing two filters 3,
During which liquid nitrogen flows.
【００１３】また、光洗浄装置１全体やホルダー４に強
制冷却機構を設けることにより、冷却効果をさらに向上
させることができる。このような構成にすることで、被
洗浄物を高温にすることなく常温で、光洗浄を行なうこ
とが可能となる。図２は、本発明にかかる第２の実施形
態の光洗浄装置の概略断面図である。第２の実施形態の
光洗浄装置は、装置１内に、光源として低圧水銀ランプ
２と、低圧水銀ランプ２付近に、該紫外線から放射され
た光の一部を遮蔽する遮蔽板７と、その残りの光のうち
３００ｎｍ以下の光を反射し、３００ｎｍ以上の光を透
過及び吸収するミラー６と、被洗浄物５を保持するホル
ダー４と、が設けられた構成である。By providing a forced cooling mechanism in the entire optical cleaning device 1 and the holder 4, the cooling effect can be further improved. With such a configuration, light cleaning can be performed at room temperature without increasing the temperature of the object to be cleaned. FIG. 2 is a schematic sectional view of a light cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention. The light cleaning device of the second embodiment includes, in the device 1, a low-pressure mercury lamp 2 as a light source, a shielding plate 7 near the low-pressure mercury lamp 2, and a part of light emitted from the ultraviolet light, A configuration is provided in which a mirror 6 that reflects light of 300 nm or less out of the remaining light, transmits and absorbs light of 300 nm or more, and a holder 4 that holds the object 5 to be cleaned.
【００１４】遮蔽板７の材料としては、アルミ、ステン
レス等が用いられるが、これに限らない。ミラー６は、
光学ガラス、セラミックス等の基板上に金属膜、誘電体
膜が形成されたものである。図示した光洗浄装置におい
ては、図４に示すような低圧水銀ランプ２から放射され
る１８５ｎｍ及び２５４ｎｍの光と、発熱した前記ラン
プ表面から放射された赤外線は、直接被洗浄物５に照射
されないように、その一部が遮蔽板７により遮蔽され、
その残りがミラー６に到達し、ミラー６により、赤外線
が透過及び吸収され、１８５ｎｍ及び２５４ｎｍの光の
みが反射され、被洗浄物５に照射され、被洗浄物５は洗
浄される。そのため、赤外線による加熱効果を防ぐこと
ができる。As a material of the shielding plate 7, aluminum, stainless steel or the like is used, but the material is not limited thereto. The mirror 6
A metal film and a dielectric film are formed on a substrate such as optical glass and ceramics. In the illustrated light cleaning device, light of 185 nm and 254 nm emitted from the low-pressure mercury lamp 2 as shown in FIG. 4 and infrared light emitted from the surface of the heated lamp are not directly irradiated to the object 5 to be cleaned. In addition, a part thereof is shielded by the shield plate 7,
The remainder reaches the mirror 6, the infrared ray is transmitted and absorbed by the mirror 6, only the light of 185 nm and 254 nm is reflected, irradiates the object 5 to be cleaned, and the object 5 is cleaned. Therefore, a heating effect by infrared rays can be prevented.
【００１５】また、遮蔽板７及びミラー６は赤外線を吸
収しているので、遮蔽板７及びミラー６からの発熱（熱
伝導）を防止するために、遮蔽板７及びミラー６に強制
冷却機構８を設けることが好ましい。強制冷却機構によ
る冷却方法としては、遮蔽板７及びミラー６の裏面を水
冷構造にする方法、裏面にペルチェ素子を設ける方法等
が挙げられる。Since the shield plate 7 and the mirror 6 absorb infrared rays, a forced cooling mechanism 8 is provided on the shield plate 7 and the mirror 6 to prevent heat generation (heat conduction) from the shield plate 7 and the mirror 6. Is preferably provided. Examples of the cooling method by the forced cooling mechanism include a method in which the back surfaces of the shielding plate 7 and the mirror 6 are made to have a water cooling structure, a method in which a Peltier element is provided on the back surface, and the like.
【００１６】さらに、第１の実施形態と同様に、光洗浄
装置１全体やホルダー４に強制冷却機構を設けることに
より、冷却効果をさらに向上させることができる。この
ような構成にすることで、被洗浄物を高温にすることな
く常温で、光洗浄を行なうことが可能となる。図３は、
本発明にかかる第３の実施形態の光洗浄装置の概略断面
図である。Further, as in the first embodiment, the cooling effect can be further improved by providing a forced cooling mechanism in the entire optical cleaning device 1 and the holder 4. With such a configuration, light cleaning can be performed at room temperature without increasing the temperature of the object to be cleaned. FIG.
It is a schematic sectional drawing of the optical cleaning device of the 3rd Embodiment concerning this invention.
【００１７】第３の実施形態の光洗浄装置は、装置１内
に、光源として低圧水銀ランプ２と、被洗浄物５を保持
するホルダー４と低圧水銀ランプ２とホルダー４の間
に、３００ｎｍ以下の光のみを透過するフィルター３
と、フィルター３の設置位置とは反対位置に、低圧水銀
ランプ２を介して３００ｎｍ以下の光を反射し、３００
ｎｍ以上の光を透過及び吸収するミラー６と、が設けら
れた構成である。In the optical cleaning apparatus according to the third embodiment, a low-pressure mercury lamp 2 as a light source, a holder 4 for holding an object 5 to be cleaned, and a space between the low-pressure mercury lamp 2 and the holder 4 of 300 nm or less are provided in the apparatus 1. Filter 3 that transmits only light
At a position opposite to the installation position of the filter 3, the light of 300 nm or less is reflected through the low-pressure mercury lamp 2,
and a mirror 6 that transmits and absorbs light of nm or more.
【００１８】図示した光洗浄装置においては、図４に示
すような低圧水銀ランプ２から放射される１８５ｎｍ及
び２５４ｎｍの光と、発熱した前記ランプ表面から放射
された赤外線は、ミラー６により、赤外線が吸収され、
１８５ｎｍ及び２５４ｎｍの光のみが反射され、フィル
ター３により、赤外線がカットされ、１８５ｎｍ及び２
５４ｎｍの光のみが被洗浄物に照射され、被洗浄物５は
洗浄される。In the illustrated optical cleaning device, the light of 185 nm and 254 nm emitted from the low-pressure mercury lamp 2 as shown in FIG. Absorbed,
Only the light of 185 nm and 254 nm is reflected, the infrared rays are cut off by the filter 3, and the light of 185 nm and 2
The object to be cleaned is irradiated with only light of 54 nm, and the object to be cleaned 5 is cleaned.
【００１９】即ち、低圧水銀ランプ２から放射された光
のうち、フィルター３とは反対方向に放射された光は、
ミラー６により、赤外線が透過及び吸収され、１８５ｎ
ｍ及び２５４ｎｍの光のみが反射され、フィルター３を
透過するので、フィルター３とは反対方向に放射された
光を有効に利用することができ、効率的に光洗浄するこ
とができる。そのため、赤外線による加熱効果を防ぐこ
とができる。That is, of the light emitted from the low-pressure mercury lamp 2, the light emitted in the opposite direction to the filter 3 is:
The infrared rays are transmitted and absorbed by the mirror 6, and 185n
Since only the light of m and 254 nm is reflected and transmitted through the filter 3, the light emitted in the opposite direction to the filter 3 can be effectively used, and the light can be efficiently washed. Therefore, a heating effect by infrared rays can be prevented.
【００２０】また、第１及び第２の実施形態と同様に、
フィルター３及び／又はミラー６に強制冷却機構８を設
けることが好ましい。さらに、第１の実施形態と同様
に、光洗浄装置１全体やホルダー４に強制冷却機構を設
けることにより、冷却効果をさらに向上させることがで
きる。このような構成にすることで、高温になることな
く常温で、光洗浄を行なうことが可能となる。Further, similarly to the first and second embodiments,
It is preferable to provide a forced cooling mechanism 8 on the filter 3 and / or the mirror 6. Furthermore, as in the first embodiment, the cooling effect can be further improved by providing a forced cooling mechanism in the entire optical cleaning device 1 and the holder 4. With such a configuration, light cleaning can be performed at room temperature without increasing the temperature.
【００２１】なお、第１の実施形態〜第３の実形態の光
洗浄装置は、光洗浄する際、装置内に空気が満たされて
いる状態であっても光洗浄は可能であるが、ドライエア
ー又はドライＮ2とドライＯ2の混合ガスで満たされてい
る方が好ましい。上記エアーの導入は、光洗浄装置内を
強制冷却するという機能も有する。 ［実施例１］ 図１に示す光洗浄装置を用いて光洗浄を行った。In the light cleaning apparatus according to the first to third embodiments, the light cleaning can be performed even when the apparatus is filled with air. It is preferable to be filled with air or a mixed gas of dry N2 and dry O2. The introduction of the air also has a function of forcibly cooling the inside of the optical cleaning device. Example 1 Light cleaning was performed using the light cleaning device shown in FIG.
【００２２】光源２は、出力が１０ｍＷの低圧水銀ラン
プである。光洗浄装置のホルダー４に被洗浄物５をセッ
トした。被洗浄物は、Φ３０ｍｍ-ｔ３ｍｍの石英ガラ
ス基板上にＭｇＦ2とＬａＦ2との交互層からなる反射防
止膜を片面に成膜したものである。被洗浄物５に低圧水
銀ランプから発生する光を１０分間、照射し続けた。The light source 2 is a low-pressure mercury lamp having an output of 10 mW. The object 5 to be cleaned was set on the holder 4 of the optical cleaning device. The object to be cleaned is such that an antireflection film composed of alternating layers of MgF2 and LaF2 is formed on one surface of a quartz glass substrate having a diameter of 30 mm-t3 mm. The object 5 was continuously irradiated with light generated from a low-pressure mercury lamp for 10 minutes.
【００２３】被洗浄物は、温度が上昇することなく表面
吸着物を除去することができた。また、本発明にかかる
光洗浄装置は、光学薄膜成膜前の光学基板や鏡筒内にレ
ンズを組み込んだ光学製品の洗浄にも使用することがで
きる。また、鏡筒内にレンズを組み込んだ半導体製造装
置用光学製品を被洗浄物として、光洗浄を行った。The object to be cleaned was able to remove surface adsorbed substances without increasing the temperature. Further, the optical cleaning apparatus according to the present invention can also be used for cleaning optical products in which a lens is incorporated in an optical substrate or lens barrel before forming an optical thin film. Light cleaning was performed using an optical product for a semiconductor manufacturing apparatus in which a lens was incorporated in a lens barrel as an object to be cleaned.
【００２４】この光学製品は、常に、常温±３℃の状態
を保つ必要があるが、このような光学製品に対しても、
常温±３℃の状態を保持しつつ、十分な洗浄を行うこと
ができた。This optical product must always be kept at a room temperature of ± 3 ° C.
Sufficient cleaning could be performed while maintaining the state of normal temperature ± 3 ° C.
【００２５】[0025]
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかる光
洗浄装置によれば、水銀ランプから放射される光のうち
１８５ｎｍ及び２５４ｎｍの光のみを、被洗浄物に照射
することができるので、被洗浄物を常温状態に保ったま
ま、十分な光洗浄を行うこができる。As described above, according to the light cleaning apparatus of the present invention, only 185 nm and 254 nm light out of the light emitted from the mercury lamp can be irradiated to the object to be cleaned. Sufficient light cleaning can be performed while the object to be cleaned is kept at room temperature.
【００２６】また、本発明にかかる光洗浄装置のフィル
ター、ミラー、遮蔽板に強制冷却機構を設けると、赤外
線により加熱されたフィルター、ミラー、遮蔽板からの
熱伝導を防止できるので、より一層、上記本発明の効果
を向上させることができる。Further, when a forced cooling mechanism is provided to the filter, the mirror and the shielding plate of the optical cleaning apparatus according to the present invention, heat conduction from the filter, the mirror and the shielding plate heated by infrared rays can be prevented. The effects of the present invention can be improved.
【図１】本発明にかかる第１の実施形態の光洗浄装置の
概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view of an optical cleaning device according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明にかかる第２の実施形態の光洗浄装置の
概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view of a light cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention.
【図３】本発明にかかる第３の実施形態の光洗浄装置の
概略断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view of an optical cleaning device according to a third embodiment of the present invention.
【図４】低圧水銀ランプの発光スペクトル特性図であ
る。FIG. 4 is an emission spectrum characteristic diagram of a low-pressure mercury lamp.
【図５】従来の光洗浄装置の概略断面図である。FIG. 5 is a schematic sectional view of a conventional optical cleaning device.
１・・・光洗浄装置 ２・・・低圧水銀ランプ ３・・・フィルター ４・・・ホルダー ５・・・被洗浄物 ６・・・ミラー ７・・・遮蔽板 ８・・・強制冷却機構 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light washing apparatus 2 ... Low-pressure mercury lamp 3 ... Filter 4 ... Holder 5 ... Cleaning object 6 ... Mirror 7 ... Shielding plate 8 ... Forced cooling mechanism
Claims (6)
することにより被洗浄物を洗浄する光洗浄装置におい
て、 前記紫外線ランプから放射される光のうち、前記被洗浄
物に向かう３００ｎｍ（又は略３００ｎｍ）よりも長波
長の光を遮蔽する部材を設けたことを特徴とする光洗浄
装置。1. An optical cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned by irradiating ultraviolet light emitted from an ultraviolet lamp, wherein 300 nm (or approximately 300 nm) of light emitted from the ultraviolet lamp toward the object to be cleaned. An optical cleaning device comprising a member for shielding light having a longer wavelength than that of the optical cleaning device.
００ｎｍ（又は略３００ｎｍ）以下の光のみを透過する
フィルター部を有することを特徴とする請求項１記載の
光洗浄装置。2. The apparatus according to claim 1, wherein the member is arranged at a wavelength of 3.
The optical cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a filter unit that transmits only light having a wavelength of 00 nm (or approximately 300 nm) or less.
ち、波長３００ｎｍ（又は略３００ｎｍ）以下の光のみ
を前記フィルターに向けて反射するミラー部をさらに有
することを特徴とする請求項２記載の光洗浄装置。3. The mirror according to claim 2, further comprising a mirror portion for reflecting only light having a wavelength of 300 nm (or approximately 300 nm) or less out of the light emitted from the ultraviolet lamp toward the filter. Light cleaning equipment.
００ｎｍ（又は略３００ｎｍ）以下の光のみを反射する
ミラー部を有することを特徴とする請求項１記載の光洗
浄装置。4. The apparatus according to claim 1, wherein the member has a wavelength of 3.
2. The optical cleaning device according to claim 1, further comprising a mirror portion that reflects only light having a wavelength of 00 nm (or approximately 300 nm) or less.
ことを特徴とする請求項１〜４記載の光洗浄装置。5. An optical cleaning apparatus according to claim 1, wherein said ultraviolet lamp is a low-pressure mercury lamp.
ラー部に強制冷却機構を設けたことを特徴とする請求項
１〜５記載の光洗浄装置。6. An optical cleaning apparatus according to claim 1, wherein a forced cooling mechanism is provided in said member, said filter section or said mirror section.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9161336A JPH1110101A (en) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | Photorinsing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9161336A JPH1110101A (en) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | Photorinsing apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1110101A true JPH1110101A (en) | 1999-01-19 |
Family
ID=15733154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9161336A Pending JPH1110101A (en) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | Photorinsing apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1110101A (en) |
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| US11788959B1 (en) | 2022-11-23 | 2023-10-17 | Uv Systems, Inc. | Lighting apparatus with filter having improved transmissivity, improved solarization rate, or both improved transmissivity and improved solarization rate |
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