JPH109812A - 位置検出デバイスおよび位置検出装置 - Google Patents

位置検出デバイスおよび位置検出装置

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JPH109812A
JPH109812A JP16614596A JP16614596A JPH109812A JP H109812 A JPH109812 A JP H109812A JP 16614596 A JP16614596 A JP 16614596A JP 16614596 A JP16614596 A JP 16614596A JP H109812 A JPH109812 A JP H109812A
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light
light source
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JP16614596A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Hotta
宏之 堀田
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光源からの拡散光を光学系を用いずに光電変
換素子によって受光し、光源の位置を検出する位置検出
デバイスおよび位置検出装置を提供する。 【解決手段】 光源からの拡散光を受光する3つの光電
変換部からなり、各光電変換部は、1対の光電変換素子
1,2および3,4および5,6からなる。位置検出演
算を簡単にするために、これら2個の光電変換素子の受
光面は、直角をなして隣接設置され、各光電変換部のう
ちの1個の光電変換素子をx−z平面上に設置してい
る。各光電変換素子は同一形状の長方形であり、対とな
る光電変換素子同士が接する辺の長さはいずれの光電変
換部についても等しい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、位置検出に関する
ものである。例えば、オフィスのデスク上や会議室にお
けるコンピュータの画面上への、光源付きのペン等を用
いてポインティング,手書き入力,コマンド入力や、組
立ておよび検査工程等における位置決めのための位置検
出に関する技術である。
【0002】位置を検出することによって人の動きや自
走台車等の動きの情報を与える、ナビゲーションなどに
応用が可能である。あわせて、コマンドの選択などの制
御情報を光信号として送信したり、組立ておよび検査工
程における測定データ等を光信号として送信することも
可能となる。
【0003】
【従来の技術】オフィスのデスク上や会議室において、
ポインティング,手書き入力,コマンド入力などの指示
や入力を行なう場合、現状では、マウス,キーボード,
またはタブレットやディスプレィの画面をペンでなぞる
ものなどが用いられている。利用者がこれらの複数のデ
バイスを操作するには、各デバイスについて操作領域が
それぞれ限定されてしまう。しかし、情報量が増えた
り、遠隔地との通信を行う機会が増えるに従い、複数の
画面を扱ったり、スムーズなコミュニケーションを行う
ために、複数のデバイスの操作を極力簡単に、そして限
定されない操作領域で操作を行うための技術が不可欠と
なってくる。
【0004】望ましくは、ペンのような簡単なデバイス
だけを用い、特定の2次元平面上での指示および入力に
限らず、3次元空間での立体画像や複数の仮想的な平
面,ディスプレイ面,デスクの上等を利用者が自由に選
択して、指示および入力を行ないたいという要望があ
る。また、そのペンなどの位置を検出する位置検出装置
自体においても、小型のデバイスと簡単な演算式によっ
て、高精度で位置を検出したいという要望がある。さら
に、組立や検査工程,ナビゲーション等の、あらゆる位
置検出に関する分野において、より小型で低コストの装
置によって、2次元または3次元の位置情報を高精度で
得たいという要望がある。
【0005】これらの要望に対して、特開昭55−56
285号公報,特開昭56−29778号公報に記載さ
れているように、専用のタブレットを用いて平面上の位
置を検出するものがある。また、実開平5−25525
号公報に記載されているように、2次元の半導***置セ
ンサ(以下、PSD:Position Sensin
g Deviceと略す)とレンズを用いて平面上の位
置を検出するものがある。しかし、これらのデバイス
は、それぞれ限定された範囲の平面上の操作領域を必要
としている。
【0006】さらに、3次元空間での位置検出または形
状測定に関する従来の技術としては、特開平3−150
623号公報等に記載されているように、複数の2次元
PSDやCCDとピンホールを用いるものがあるが、原
理的に光量を十分にとれず検出範囲が限定され、また、
文字を読み取れるほどの高い読み取り精度を持っていな
い。また、例えば、特開昭54−116258号公報に
記載されているように、複数の1次元CCDを互いに直
交方向に対向させるものがあるが、1次元CCDを配置
する位置が限られてしまうため検出装置の小型化が困難
であり、コスト的にも高価である。
【0007】別の技術として、特開平3−196326
号公報に記載されているように、レンズと2分割ピンフ
ォトダイオードを用いるものもあるが、レンズを用いる
ため、レンズの収差によって精度が劣化し、収差の除去
および組立て時の調整が困難である。特開平6−429
19号公報に記載されているように、PSDと遮光手段
を用いるものもあるが、演算が複雑で通常の回路では実
現が困難である。特開平7−198326号公報に記載
されているように、一列に配置されたフォトダイオード
にレーザ光のスポットを当てるものがあるが、フォトダ
イオードと演算回路を多数用いなければ十分な精度が得
られない。
【0008】さらに、これらの装置においては、指示及
び入力の領域は、特定の30cm立方程度に限られた領
域であり、それ以上の数mにおよぶ領域において、小型
のデバイスと簡単な演算式によって指示及び入力を行う
ことは、現状では不可能である。
【0009】一方、太陽光,放射線等の方向測定、ある
いは、装置の方向制御を目的とする技術分野において
は、レンズ等の光学系を用いないものが知られている。
特開昭60−226397号公報に記載されているよう
に、光電変換面が所定の角度をなして向き合った一対の
光電変換素子の出力差によって、太陽光の追尾を行なう
ものがある。特開昭62−142212号公報に記載さ
れているように、受光面が所定の角度をなして向き合っ
た一対の受光板の温度差によって、太陽光に対する姿勢
角の制御を行なうものがある。特開平02−99813
号公報に記載されているように、受光面が所定の角度を
なして向き合った一対の太陽電池セルの出力差によっ
て、零出力点を中心として中心付近で入射角度にほぼ比
例する光電変換出力を得て、照度に関するスケールファ
クタが既知であれば検出軸回りの姿勢角を検出できるも
のがある。
【0010】これらの技術は、光源からの光が、太陽光
などの無限遠からの平行光線であることを前提とする。
角度検出だけが可能であり、光源との距離などを検出す
ることはできない。一対の検出器の出力差が、零出力点
を中心として中心付近では光の入射角度にほぼ比例する
というものである。しかし、照度や変換効率に関するス
ケールファクタが既知でなければ、入射角度の値を検出
できない。
【0011】特開昭51−27358公報に記載されて
いるように、互いに異なる方向を向いた3個以上の光電
変換素子等の検出器を1箇所に設置し、これらの検出器
出力の違いによって太陽光等の線源の方位角および高度
(角度)を割り出すものがある。この文献には、照度や
変換効率に関するスケールファクタに影響されない演算
式が記載されている。しかし、この技術も、太陽光など
の無限遠からの平行光線である場合を前提とする。角度
検出だけが可能であり、光源と検出器との間の距離など
を求めることはできない。
【0012】したがって、このような特殊な平行光線で
はなく、ごく一般的な光源からの拡散光の方向検出を複
数の受光器によって行なう場合には、光源が一定の方向
にあっても光源からの遠近などによって複数の受光器の
出力が大きく異なるため、光源の方向を特定することは
不可能である。また、平行光線の場合には、仮に3方向
から方向検出を行なったとしても、光源の3次元位置を
特定するということは原理的に不可能である。
【0013】一方、磁場を用いる位置検出方式も、商品
名「FASTRAK」(日商エレクトロニクス)として
知られている。しかし、測定範囲は3m程度と広範囲の
ものもあるが、測定範囲およびその2倍程度の距離内に
磁性体が存在する場合には、磁場が歪められて、補正不
可能な誤差が残るため、測定条件はごく限られた条件が
許されるのみである。超音波を用いる位置検出方式も、
商品名「3D MOUSE」(旭エレクトロニクス社
製)として知られている。しかし、周辺の壁やディスプ
レイからの超音波の反射波によるノイズが多く発生し、
やはり測定条件はごく限られた条件が許されるのみであ
る。
【0014】このように、上述した従来技術では、位置
検出範囲が限られていたり、位置検出精度が十分でない
などの問題があった。レンズなどの光学系を用いないも
のもあるが、平行光線を前提にした方向検出に限られて
いた。したがって、オフィスのデスク上や会議室におい
て、ポインティング,手書き入力,コマンド入力など
の、指示および入力を行う場合、その他、組立ておよび
検査工程等における位置決めのための位置検出に用いる
には問題があった。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した事
情に鑑みてなされたもので、赤外LEDなどの一般的な
光源からの拡散光を、レンズなどの光学系を用いずに光
電変換素子によって受光し、これら光電変換素子の出力
を簡単な演算式を用いて演算することで、光源の1次元
ないし3次元の位置を高精度で検出する位置検出デバイ
スおよび位置検出装置を提供することを目的とするもの
である。
【0016】通常、レンズ等の光学系を用いて位置検出
を行う場合、その光学系を通過した光が、平面上に並ん
だ複数の光電変換素子に入射し、その各出力を用いて光
源の位置を特定するという特徴を持つ。つまり、光学系
は光源からの直線的な光を各光電変換素子に対して方向
付けをするという役割を果たしている。しかし、光学系
を用いることで、その光学系自体の持つ焦点深度、収差
等の性能の限界や、光電変換素子との位置合わせの調整
工程やコストといった大きな問題点を内在する。
【0017】そこで、本発明においては、光電変換素子
同士の位置合わせという点だけは、通常の光学系を用い
た場合と同様に調整が必要であるが、その光電変換素子
を90度などの特定角度に設置することによって、従
来、光学系によって行われていた、光源からの直線的な
光の方向付けに相当する作用を自ら課すものである。こ
のように、装置を構成する部品の位置を変更すること
で、従来、装置全体として大きな問題となっていたレン
ズ等の部品を省略可能となり、検出範囲の拡大や性能向
上に寄与することができる。
【0018】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明に
おいては、前記光源の1次元位置を検出する位置検出デ
バイスにおいて、光源からの拡散光を受光する少なくと
も1つの光電変換部を有し、該光電変換部は、第1およ
び第2の光電変換手段を有し第1,第2の光電変換手段
の受光面が180度以外の角度をなして近接配置された
ものであることを特徴とするものである。
【0019】請求項2に記載の発明においては、前記光
源の2次元位置を検出する位置検出デバイスにおいて、
光源からの拡散光を受光する少なくとも2つの光電変換
部を有し、該光電変換部は、第1,第2の光電変換手段
を有し第1,第2の光電変換手段の受光面が180度以
外の角度をなして近接配置されたものであることを特徴
とするものである。
【0020】請求項3に記載の発明においては、前記光
源の3次元位置を検出する位置検出デバイスにおいて、
光源からの拡散光を受光する少なくとも3つの光電変換
部を有し該光電変換部は、第1,第2の光電変換手段を
有し第1,第2の光電変換手段の受光面が180度以外
の角度をなして近接配置されたものであることを特徴と
するものである。
【0021】請求項4に記載の発明においては、請求項
2ないし3のいずれか1項に記載の位置検出デバイスに
おいて、少なくとも2つの前記光電変換部は、第1また
は第2の光電変換手段の一方を共有し、第1または第2
の光電変換手段の他方は互いの受光面が180度以外の
角度をなして近接配置されたものであることを特徴とす
るものである。
【0022】請求項5に記載の発明においては、請求項
1ないし4のいずれか1項に記載の位置検出デバイスに
おいて、前記角度は、90度または270度であり、前
記光電変換部ごとにいずれかの値が選択されるものであ
ることを特徴とするものである。
【0023】請求項6に記載の発明においては、請求項
1ないし5のいずれか1項に記載の位置検出デバイスに
おいて、少なくとも1つの光電変換部は、光源からの拡
散光を透過光と反射光に分ける半透鏡を有し、第1の光
電変換手段は前記透過光を受光し、第2の光電変換手段
は前記反射光を受光することを特徴とするものである。
【0024】請求項7に記載の発明においては、請求項
1ないし6のいずれか1項に記載の位置検出デバイスに
おいて、少なくとも1つの光電変換部には、第1または
第2の光電変換手段の一方の受光面で反射する光が、他
方の光電変換手段の受光面に入射することを防止する遮
光手段を有することを特徴とするものである。
【0025】請求項8に記載の発明においては、請求項
1ないし7のいずれか1項に記載の位置検出デバイスに
おいて、前記光電変換部は、凹部または凸部を有する基
板を有し、第1,第2の光電変換手段は、光電変換素子
であり前記凹部または凸部における交差平面上に形成さ
れたものであることを特徴とするものである。
【0026】請求項9に記載の発明においては、請求項
1ないし8のいずれか1項に記載の位置検出デバイスに
おいて、少なくとも1つの光電変換部の第1または第2
の光電変換手段の表面で反射する光が、他の光電変換部
の第1または第2の光電変換手段に入射することを防止
する遮光手段を有することを特徴とするものである。
【0027】請求項10に記載の発明においては、位置
検出装置において、請求項1ないし9のいずれか1項に
記載の位置検出デバイスを少なくとも1つ有し、前記位
置検出デバイスにおける前記光電変換部の第1および第
2の光電変換手段の出力の比に基づいて前記光源の位置
を演算する位置演算手段を有することを特徴とするもの
である。
【0028】請求項11に記載の発明においては、位置
検出装置において、請求項1ないし9のいずれか1項に
記載の位置検出デバイスを複数個有し、前記複数の位置
検出デバイスの第1または第2の光電変換手段の少なく
とも一方の出力に基づいて、複数の前記位置検出デバイ
スのうち少なくとも1つの位置検出デバイスを選択し、
選択された位置検出デバイスにおける前記光電変換部の
第1,第2の光電変換手段の出力の比に基づいて前記光
源の位置を演算する位置演算手段を有することを特徴と
するものである。
【0029】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の位置検出デバイ
スの第1の実施の形態の斜視図である。図中、1〜6は
光電変換素子である。なお、各光電変換素子には、配置
位置および光電変換面の配列方向を表わす添字を有する
記号PDを適宜付して示すこととする。
【0030】この実施の形態は、図示しない光源の3次
元位置を検出する位置検出デバイスである。光源からの
拡散光を受光する3つの光電変換部からなり、各光電変
換部は、それぞれ2個の光電変換素子1,2および3,
4および5,6からなる。位置検出演算を簡単にするた
めに、これら2個の光電変換素子の受光面は、直角をな
して隣接設置され、各光電変換部のうちの1個の光電変
換素子をx−z平面上に設置している。各光電変換素子
は同一形状の長方形であり、対となる光電変換素子同士
が接する辺の長さはいずれの光電変換部についても等し
いものとする。
【0031】具体的に、各光電変換素子の配置および向
きを説明する。第1の光電変換部は、光電変換素子(P
1x)1および光電変換素子(PD1y)2からなる。光
電変換素子(PD1x)1は、xz平面上の−x方向に配
列され、光電変換面に垂直な方向はy方向である。光電
変換素子(PD1y)2は、yz平面上のy方向に配列さ
れ、光電変換面に垂直な方向は−x方向である。
【0032】第2の光電変換部は、光電変換素子(PD
2x)3および光電変換素子(PD2y)4からなる。光電
変換素子(PD2x)3は、xz平面上のx方向に配列さ
れ、光電変換面に垂直な方向はy方向である。光電変換
素子(PD2y)4は、yz平面上のy方向に配列され、
光電変換面に垂直な方向はx方向である。図示の状態で
は、光電変換面が見えないため、光電変換素子(P
2y)4にはハッチングを施して図示している。
【0033】第3の光電変換部は、光電変換素子(PD
3z)5および光電変換素子(PD3y)6からなる。光電
変換素子(PD3z)5は、xz平面上のz方向に配列さ
れ、光電変換面に垂直な方向はy方向である。光電変換
素子(PD3y)6は、xy平面上のy方向に配列され、
光電変換面に垂直な方向はz方向である。
【0034】したがって、第1の光電変換部の各光電変
換素子1,2はx−y平面に垂直であり、光電変換素子
同士が接する辺はz軸方向にあり、第2の光電変換部の
各光電変換素子3,4もx−y平面に垂直であり、光電
変換素子同士が接する辺もz軸方向にある。これらの第
1,第2の光電変換部は向かい合う形で設置されてい
る。第3の光電変換部の各光電変換素子5,6はy−z
平面に垂直であり、光電変換素子同士が接する辺はx軸
方向にある。
【0035】図2は、本発明の第1の実施の形態のx−
y平面の断面図である。図中、図1と同様な部分には同
じ符号を付して説明を省略する。7は光源であり、座標
をL(x,y)とする。x−y平面に垂直な第1,第2
の光電変換部について説明する。光源7からの光が各光
電変換素子に入射する場合、入射する立体角の大きさに
依存して受光量が異なり、受光量に応じた出力が各光電
変換素子1〜4の出力端子から得られる。
【0036】第1の光電変換部の各光電変換素子1,
2、第2の光電変換部の各光電変換素子3,4におい
て、光電変換素子の受光面を斜辺とした2個の直角三角
形が形成されている。この2個の直角三角形は、斜辺の
長さが同じで、光電変換素子の受光面の交点Oまたは交
点Dにおける角度の和が90度であることから、合同で
ある。さらに、それぞれは、光源の位置を含む直角三角
形OPLまたはDPLと相似であることがわかる。ここ
で、交点Oの座標を(0,0)、交点Dの座標を(d,
0)とし、Pは、交点O,Pを結ぶ直線と、この直線に
光源L(x,y)から引いた垂線との交点であり、座標
は(x,0)である。
【0037】つまり、光電変換素子(PD1x)1と光電
変換素子(PD1y)2に関しては、l1xおよびl1yを含
む三角形が合同であり、それらは三角形OPLと相似で
ある。l1xおよびl1yの長さに応じた出力V1x,V1y
光電変換素子(PD1x)1および光電変換素子(P
1y)2の各出力端子から得られる。光電変換素子(P
2x)3と光電変換素子(PD2y)4に関しても同様で
あり、l2xおよびl2yを含む三角形が合同であり、それ
らは三角形DPLと相似である。l2xおよびl2yの長さ
に応じた出力V2x,V2yが光電変換素子(PD2x)3お
よび光電変換素子(PD2y)4の各出力端子から得られ
る。
【0038】以上の関係を式で表わし、これを用いて光
源7の座標(x,y)の値を求めていく。まず、次式
(1)〜(4)が成り立つ。 V1y/V1x=l1y/l1x …(1) V2y/V2x=l2y/l2x …(2) l1y/l1x=x/y …(3) l2y/l2x=(d−x)/y …(4)
【0039】(1)〜(4)式より、次式が成り立つ。 (V2y/V2x)/(V1y/V1x)=(l2y/l2x)/(l1y/l1x) =((d−x)/y)/(x/y) =d/x−1 …(5) (5)式より、 x=d/(1+(V2y/V2x)/(V1y/V1x)) =d(V1y/V1x)/(V2y/V2x+V1y/V1x) …(6) (6)式,(1)式,(3)式を用いて、 y=d/(V2y/V2x+V1y/V1x) …(7) が求まる。
【0040】図3は、本発明の第1の実施の形態のy−
z平面の断面図である。図中、図1,図2と同様な部分
には同じ符号を付して説明を省略する。光源7の座標を
L(y,z)とする。y−z平面に垂直な第3の光電変
換部について説明する。図2と同様に、三角形の合同と
相似の関係を用いてzの値を求める。光電変換素子(P
3z)5と光電変換素子(PD3y)6に関して、l3z
よびl3yを含む三角形は合同であり、それらは三角形Q
RLと相似である。ここで、交点Qの座標を(0,0)
とし、Rは、交点Qからy軸方向に引いた直線と、この
直線に光源L(y,z)から引いた垂線との交点であ
り、座標は(y,0)である。l3zおよびl3yの長さに
応じた出力V3z,V3yが光電変換素子(PD3z)5およ
び光電変換素子(PD3y)6の出力端子から得られる。
【0041】まず、次式(8),(9)が成り立つ。 V3y/V3z=l3y/l3z …(8) l3y/l3z=z/y …(9) ここで、yは(7)式より求まっているのでこれを用い
て、 z=(l3y/l3z)y =d(V3y/V3z)/(V2y/V2x+V1y/V1x) …(10)
【0042】以上の(6)式,(7)式,(10)式に
より、各光電変換素子1〜6の出力V1x,V1y,V2x
2y,V3y,V3zと、線分ODの長さdを用いて、光源
の3次元座標L(x,y,z)を求めることができる。
【0043】上述した位置検出デバイスの個々の構成に
ついて説明する。光源7は主に赤外光を発光する。赤外
光は一般的なオフィスにおいて比較的少ない光である。
また、赤外光以外の外乱光については、光電変換素子1
〜6の前に図13を参照して後述する赤外光透過フィル
タを設けるか、赤外光を光強度変調して光電変換素子1
〜6の出力において、その変調された周波数のみをフィ
ルタ回路によって出力することにより、効率よく除去す
ることが可能である。
【0044】光電変換素子1〜6は、上述した光を受光
してこれを電気信号に変換する作用を有している。わず
か2個の光電変換素子を用いて、これを所定の角度に設
置することによって、1次元の位置を検出することが可
能となる。レンズを用いないため、焦点距離や収差を考
慮した設計、および、組立て時の調整の困難がなくなる
という大きな利点を有している。また、ピンホールやス
リットとは異なり、単に光電変換素子1〜6の対の組合
せという方法をとっているため、受光面積を多くとるこ
とができ、光量も大きく、広範囲での位置検出を行うこ
とが可能である。
【0045】さらに、光源7として赤外LED、光電変
換素子としてフォトダイオードという安価なデバイスを
用いることにより、低コストを実現することができ、オ
フィスのデスク上や会議室での任意の平面や空間で、手
書き文字の読み取り、コマンド入力、ポインティングな
どを可能とし、多量の情報を扱ったり、スムーズなコミ
ュニケーションを実現することが可能となる。
【0046】また、フォトダイオードの光量の分解能力
は、少なくとも1/30000程度はあるので、例えば
60cmの距離を0.02mm/dot、6mの距離を
0.2mm/dot、という非常に高い密度で分解する
ことが可能となり、通常のオフィスや家庭に限らず、一
般的な位置検出を、より簡単かつ正確に行なうことが可
能となる。なお、光源7は赤外光以外でもよく、フォト
ダイオードは、他の光電変換機能を有するデバイスであ
ればよい。
【0047】また、光電変換素子などフォトダイオード
の端部での出力が、中央部等の他の部分に比べて、光量
に対してのリニアリティが劣る場合などの問題を有する
場合には、その端部から必要な部分まで、光電変換素子
に接して遮光手段を設けることにより、精度劣化の要因
となる部分を用いずに位置検出を行うことが可能であ
る。このような場合には、図1に示したように同形状の
光電変換素子を隣接して配置することはむずかしいが、
図10ないし図12を参照して説明するように、光電変
換素子の隣接を必ずしも必要とせず、光電変換素子同士
が同面積である必要もない。
【0048】図4は、本発明の位置検出デバイスの第2
の実施の形態の斜視図である。図中、図1と同様な部分
には同じ符号を付して説明を省略する。この実施の形態
では、光電変換素子1,2からなる第1の光電変換部
と、光電変換素子3,4からなる第2の光電変換部とは
同じ方向を向いている。具体的に説明すると、光電変換
素子(PD2y)4が、光電変換素子(PD1y)2と同じ
−x方向を向いている点で、図1に示した第1の実施の
形態と相違する。なお、図1に示した配置と比較して、
光電変換素子3,4からなる第2の光電変換部の位置
が、他の光電変換部の間に設置されているが、光電変換
部間の位置関係は任意であり、この点では、図1に示し
た第1の実施の形態と原理的な相違はない。
【0049】図5は、本発明の位置検出デバイスの第2
の実施の形態のx−y平面の断面図である。図中、図2
と同様な部分には同じ符号を付して説明を省略する。x
−y平面に垂直な2つの光電変換部1,2および3,4
について説明する。図1と基本的な原理は同じであるの
で、式の展開過程を省略して最終的に得られた式を示し
ていくこととする。
【0050】 V1y/V1x=l1y/l1x …(11) V2y/V2x=l2y/l2x …(12) l1y/l1x=x/y …(13) l2y/l2x=(x−d)/y …(14)
【0051】(11)式〜(14)式より、次式が成り
立つ。 (V2y/V2x)/(V1y/V1x)=(l2y/l2x)/(l1y/l1x) =((x−d)/y)/(x/y) =1−d/x …(15) (15)式よりxは、 x=d/(1−(V2y/V2x)/(V1y/V1x)) =d(V1y/V1x)/(V1y/V1x−V2y/V2x) …(16) (16)式と(11)式,(13)式を用いて、 y=d/(V1y/V1x−V2y/V2x) …(17) が求まる。
【0052】図6は、本発明の位置検出デバイスの第2
の実施の形態のz−y平面の断面図である。図中、図3
と同様な部分には同じ符号を付して説明を省略する。z
−y平面に垂直な光電変換部5,6について説明する。
図3と同様に三角形の合同と相似の関係を用いてzの値
を求める。光電変換素子(PD3z)5と光電変換素子
(PD3y)6に関しては、l3zおよびl3yを含む三角形
は合同であり、それらは三角形QRLと相似であり、l
3zおよびl3yの長さに応じた出力V3z,V3yが光電変換
素子(PD3z)5および光電変換素子(PD3y)6の出
力端子から得られ、以下の式が成り立つ。
【0053】 V3y/V3z=l3y/l3z …(18) l3y/l3z=z/y …(19) ここで、yは(17)式より求まっているのでこれを用
いて、 z=(l3y/l3z)y =d(V3y/V3z)/(V1y/V1x−V2y/V2x) …(20)
【0054】以上により、各光電変換素子1〜6の出力
1x,V1y,V2x,V2y,V3y,V3zと、線分ODの長
さdを用いて、光源の3次元座標L(x,y,z)を求
めることができる。
【0055】なお、図1ないし図6においては、計算を
簡単にするために、光電変換素子(PD1x)1,光電変
換素子(PD2x)3,光電変換素子(PD3z)5を全て
x軸上に設置してあるが、これらはx軸上以外に移動さ
せてもかまわない。その場合には、図1ないし図6にお
ける各光電変換部の位置から移動する距離を、式の中の
x,y,zに加えることで簡単に対応できる。例えば、
図2に示した光電変換素子(PD2x)3と光電変換素子
(PD2y)4の対の位置D(d,0)をD(d,−a)
に移動させる場合は、(3)式のyにaを加えてy+a
にする、といった修正となる。この点については、後述
する他の実施の形態においても同様である。
【0056】図7は、本発明の位置検出デバイスの第3
の実施の形態の斜視図である。図中、図1と同様な部分
には同じ符号を用いて説明を省略する。この実施の形態
は、各光電変換部において、2個の光電変換素子が近接
する辺を、図1に示した実施の形態とは反対側にし、言
い換えれば、光電変換素子の受光面がなす角度を270
度としたものである。このようにすることにより、光電
変換部を構成する一方の光電変換素子で反射した光が他
方の光電変換素子に入射して誤差が生じることを避ける
ことが可能となる。
【0057】図8は、本発明の位置検出デバイスの第3
の実施の形態のx−y平面の断面図である。図中、図2
と同様な部分には同じ符号を付して説明を省略する。図
から明らかなように、図2に示した各光電変換部におい
て、交点O,Dの位置を変えることなく、光電変換素子
(PD1x)1,光電変換素子(PD2x)3の位置を左右
にずらし、光電変換素子(PD1y)2,光電変換素子
(PD2y)4の位置を下にずらしただけであるから、
(1)式〜(7)式がそのまま成り立つ。
【0058】図9は、本発明の位置検出デバイスの第3
の実施の形態のz−y平面の断面図である。図中、図3
と同様な部分には同じ符号を付して説明を省略する。図
から明らかなように、交点Qの位置を変えることなく、
光電変換素子(PD3y)6の位置を左にずらし、光電変
換素子(PD3z)5の位置を下にずらしただけであるか
ら、(8)式〜(10)式がそのまま成り立つ。なお、
光電変換素子の厚みを無視して交点O,D,Qの位置を
決めている。この厚みを考慮した場合も、後述する図1
0,図11と同様な、光電変換素子が短縮化されるケー
スとなり、特に問題はない。図4ないし図6を参照して
説明した第2の実施の形態においても同様に、2個の光
電変換素子の近接する辺を反対側とすることが可能であ
る。原理は全く同じであるので、図示および説明を省略
する。
【0059】図10は、本発明の位置検出デバイスの第
4の実施の形態のx−y平面の断面図である。図11
は、本発明の位置検出デバイスの第4の実施の形態のz
−y平面の断面図である。図中、図2,図3と同様な部
分には同じ符号を付して説明を省略する。11〜16は
光電変換素子であり、図1ないし図3に示した光電変換
素子1〜6の長さを短縮したものである。各光電変換素
子11〜16には、光電変換素子1〜6と同様に、配置
位置および光電変換面の配列方向を表わす添字を有する
記号PDを適宜付すこととする。この第4の実施の形態
は、各光電変換部を構成する2個の光電変換素子の長さ
を短縮し、さらに、2個の光電変換素子同士が接するこ
となく、それらの延長面が90度の角度で交差するもの
である。
【0060】図10において、光電変換素子(PD1x
11、光電変換素子(PD1y)12を、ともに光電変換
部の延長面の交線とは反対側の辺を起点として30%の
長さに短縮した場合について例示する。仮に、残りの7
0%の部分の側に光電変換素子があったとすると、この
場合は、単に図2に示した光電変換素子(PD1x)1、
光電変換素子(PD1y)2の縮尺を変えただけであり、
演算式に特別な補正が不要であることは明らかである。
その結果、残りの30%部分の側に光電変換素子がある
図10の場合についても同様に、演算式に特別な補正を
必要とせずに位置検出できることがわかる。
【0061】一般に、光電変換素子の受光面上の任意の
1点において、光源7からの光と光電変換素子の受光面
とのなす角度が大きいほど照射光量の密度が高い。光電
変換素子の長さが光源との距離に比べて小さければこの
角度は大きく変わらないから、照射光量の密度も大きく
は変わらない。しかし、厳密にいうと、光電変換素子の
受光面内の照射光の光量分布には傾きが生じている。
【0062】そこで、図10,図11に示したように、
光電変換素子の長さを短縮した場合の光量分布の傾きの
影響を考えてみる。光電変換素子(PD1x)11と光電
変換素子(PD1y)12の間、光電変換素子(PD2x
13と光電変換素子(PD2y)14の間、光電変換素子
(PD3z)15と光電変換素子(PD3y)16の間に
は、各光電変換素子について同様な傾向の光量分布が生
じている。すなわち、それぞれ、交点O(0,0),交
点D(d,0),交点Q(0,0)から離れるほど、光
源7からの光と光電変換素子の受光面とのなす角度が大
きくなり、照射光量の密度が高くなる。したがって、同
じ割合で長さを短縮する場合には、特に補正の必要はな
い。光電変換素子の長さの短縮に関しては、第1の実施
の形態以外についても同様に可能であるが、原理は同様
なので図示および説明を省略する。
【0063】図12は、本発明の位置検出デバイスの第
5の実施の形態のz−y平面の断面図である。図3と同
様な部分には同じ符号を付して説明を省略する。21,
22は光電変換素子である。光電変換素子21と光電変
換素子22で構成される光電変換部について例示する。
図中、光電変換素子(PD3z)21は、図3に示した光
電変換素子(PD3z)5と同様なものであり、光電変換
素子(PD3y)22は、図3に示した光電変換素子(P
3y)6の長さが短縮されたものである。したがって、
光電変換部を構成する2個の光電変換素子の面積が異な
る場合の例である。
【0064】この図では、紙面垂直方向の長さが同じで
ある光電変換素子を前提にしているので、面積に応じて
長さが異なることになる。光電変換素子の出力は、その
受光面の面積に比例するので、演算回路において、少な
くとも一方の光電変換素子の出力に補正係数をかけて、
両方の面積が等しい場合に相当するようにすればよい。
光電変換素子(PD3z)21が光電変換素子(PD3y
22の130%の長さであるとすると、光電変換素子
(PD3y)22の出力であるV3yに1.3をかければ補
正が可能になる。光電変換素子(PD3z)21が、図3
に示した光電変換素子(PD3z)5の長さに対して短縮
される場合でも同様である。光電変換素子の面積が異な
ることに関しては、他の実施の形態においても可能であ
るが、原理は同様なので図示および説明を省略する。
【0065】図13は、本発明の位置検出デバイスの第
1の実施の形態の部分的な第1の変形例であり、赤外光
透過フィルタを用いた例の説明図である。図13(A)
は平板状赤外光透過フィルタ31、図13(B)はドー
ム状赤外光透過フィルタ32を用いた例である。図中、
図3と同様な部分には同じ符号を用いて説明を省略す
る。光電変換素子5と光電変換素子6で構成される光電
変換部について例示する。
【0066】図3に示した光源7として赤外光を採用し
た場合に、光源7と光電変換部の間に、赤外光を選択的
に透過するフィルタを設置する。平板状赤外光透過フィ
ルタ31を用いる場合、またはドーム状赤外光透過フィ
ルタ32を用いる場合がある。一般には、ドーム状赤外
光透過フィルタ32を使用する場合が多いが、本発明に
おいては、平板状赤外光透過フィルタ31、またはこれ
に近いものが望ましい。光源7からの光が、赤外光透過
フィルタを透過する際に屈折するため、光源からの光の
入射角が、光電変換素子(PD3z)5,光電変換素子
(PD3y)6に対して、より厳密には各光電変換素子上
の受光点の位置に対して、等しくなくなる。しかし、平
板状赤外光透過フィルタ31の場合の方が、比較的等し
い。
【0067】赤外光透過フィルタとしては種々のものが
市販されており、特に制限はない。例えば、赤外光以外
の光を吸収する色素を含有するガラス製または透明合成
樹脂製のもの、あるいは、赤外光以外の光を反射する干
渉薄膜を表面にコーティングしたガラス製または透明合
成樹脂製のものなどがある。赤外光透過フィルタの設置
に関しては、他の光電変換部および他の実施の形態の位
置検出デバイスにおいても同様に可能である。
【0068】図14は、本発明の位置検出デバイスの第
1の実施の形態の部分的な第2の変形例であり、遮光板
を設けた例の説明図である。図14(A)は光電変換部
内における反射防止の説明図である。光電変換素子(P
1x)11と光電変換素子(PD1y)12で構成される
光電変換部について例示する。図14(B)は2つの光
電変換部の間における反射防止の説明図である。光電変
換素子1,2よりなる第1の光電変換部と光電変換素子
3,4よりなる第2の光電変換部について例示する。図
中、図2,図10,図13と同様な部分には同じ符号を
付して説明を省略する。図を簡単にするため、光源7か
らの光は1本の線で表している。41,42は遮光板で
あり、光を吸収するものを用いる。
【0069】図14(A)においては、光源7からの光
が光電変換素子11または12の一方の受光面の表面で
反射し、他方の光電変換素子の受光面に入射する結果、
位置検出演算に誤差が生じることを防止するために、遮
光板41が設置されている。光電変換素子11,12は
短縮されている。図示の例では、遮光板41は、光電変
換素子11,12間に設置され、光電変換素子11に接
しこれと直交する部分と、光電変換素子12に接しこれ
と直交する部分とが一体となった逆L字状のものであ
る。
【0070】図14(B)においては、光源7からの光
が一方の光電変換部側の光電変換素子1,2または平板
状赤外光透過フィルタ31の表面で反射して、他方の光
電変換部側の光電変換素子3,4に入射する結果、位置
検出演算に誤差が生じることを防止するために、光電変
換部の間の空間に平板状の遮光板42が設置されてい
る。このような反射光の入射防止に関しては、他の実施
の形態においても同様に可能である。
【0071】図15は、本発明の位置検出デバイスの第
1の実施の形態の部分的な第3の変形例であり、半透鏡
を設けた例の説明図である。光電変換素子5と光電変換
素子6で構成される光電変換部について例示する。図
中、図3と同様な部分には同じ符号を用いて説明を省略
する。43は半透鏡(ハーフミラー)である。
【0072】光源7からの光が光電変換部を構成する2
個の光電変換素子5,6の一方の受光面の表面で反射し
て、他方の光電変換素子の受光面に入射する結果、位置
検出演算に誤差が生じることを防止するために、光源7
からの光を半透鏡43を用いて分離するものである。図
3に示した光電変換素子(PD3z)5を、図示破線で示
されたPD3z’の位置から、半透鏡43について線対
称の位置へ移したものである。
【0073】この場合の光電変換出力を用いても、図1
ないし図3を参照して説明した第1の実施の形態、図4
ないし図6を参照して説明した第2の実施の形態の場合
と同様の計算が可能である。(6)式,(7)式,(1
0)式、または、(16)式,(17)式,(20)式
によって、光源7の3次元座標(x,y,z)が求ま
る。ここでは半透鏡43の透過率は、光源7の光の波長
に関して50%であるとしているが、50%以外の場合
においても、光電変換素子(PD3y)6と光電変換素子
(PD3z)5の出力の割合の補正を行うことにより、5
0%の場合と同様な位置演算式を用いることができる。
半透鏡43の設置に関しては、他の実施の形態において
も可能である。
【0074】図16は、本発明の位置検出デバイスの第
6の実施の形態の斜視図である。図中、図1と同様な部
分には同じ符号を付して説明を省略する。51は光電変
換素子である。第1の光電変換部の光電変換素子(PD
1x)1と第3の光電変換部の光電変換素子(PD3z)5
を一つの光電変換素子51で兼用し、光電変換素子(P
1y)2および光電変換素子(PD3y)6が接して配置
されている。位置検出演算は、上述した(1)式〜(1
0)式と同様である。光電変換素子の兼用は、他の実施
例においても同様に可能である。
【0075】上述した、図1ないし図16を参照して説
明した各実施の形態および部分的変形例においては、直
角または270度に設置した光電変換部を3つ、また、
光電変換素子を兼用する場合に光電変換部を2つ有する
ことで、光源7の3次元位置座標を検出した。光電変換
部の数はこれより多くてもよく、その場合には、従来技
術の一つとして説明した特開昭51−27358号公報
中に、「側面」の追加について記載されているのと同様
に、位置検出できる光源の範囲を広げたり、あるいは、
位置検出精度を高めたり、各光電変換部の故障を検出し
たりすることが可能となる。
【0076】また、直角または270度に設置した光電
変換素子の対を1つ有することで、1地点からみた光源
の方向(角度)、あるいは、光源の1次元位置座標を検
出することが可能である。例えば、図3に示した光電変
換素子5,6からなる光電変換部だけで位置検出デバイ
スを構成した場合には、z/yの値から光の入射角の値
を求めることができ、また、光源7が、常にy軸上にあ
るという前提がある場合には、zの値を求めることがで
きる。y軸上にある必要はなく、任意の直線上にあると
いう前提がある場合に、この直線上の光源7の1次元位
置を求めることができる。光電変換部を複数設ける場合
には上述したように位置検出精度を高めることなどが可
能である。
【0077】また、90度または270度に設置した光
電変換素子の対を2つ有することで、光源の2次元位置
座標を検出することが可能である。例えば、図2に示し
た光電変換素子1,光電変換素子2からなる第1の光電
変換部、光電変換素子3、光電変換素子4からなる第2
の光電変換部だけで位置検出デバイスを構成した場合に
は、x−y平面上にある光源7の2次元位置座標の値を
求めることができる。光電変換素子の対を3つ以上有す
る場合には位置検出精度を高めることが可能である。
【0078】図17は、本発明の位置検出デバイスを半
導体プロセスによって作製する工程の説明図である。図
17(A)は、エッチングにより凹凸が形成されたガラ
ス基板の側面図である。図17(B)は、光電変換素子
の下部電極,半導体層,上部電極が積層されたガラス基
板の側面図である。図17(C)は、光電変換素子の上
部電極と半導体層とがパターニングされたガラス基板の
側面図である。図中、図1と同様な部分には同じ符号を
付して説明を省略する。61はガラス基板、62は凹
凸、63は下部電極、64は半導体層、65は上部電極
である。半導体層64はシリコンフォトダイオード、下
部電極63はTa,Ti,Crなど、上部電極4は透明
なITOである。
【0079】本発明の位置検出デバイスでは、光電変換
素子をL字型に組み合せる必要があるため、あらかじ
め、基板または基板上に形成された膜に加工を施して凹
凸を作製しておくことが望ましい。膜を形成する場合に
は、二酸化シリコンや窒化シリコン膜を用いればよい。
ここでは簡単のため、ガラス基板61を加工する場合を
示す。基本的には、図4を参照して説明した第2の実施
の形態の光電変換素子1〜4を形成する例を用いて説明
する。光電変換素子の加工時に光電変換素子間にすき間
ができるため、図10および図11に示した第4の実施
の形態のように対をなす光電変換素子同士が接していな
い構成になる。
【0080】図17(A)において、ガラス基板61を
エッチングすることによって凹凸62を作製する。次
に、図17(B)において、ガラス基板61の凹凸62
に光電変換素子の下部電極63、半導体層64、上部電
極65を積層する。そして、図17(C)において、上
部電極65、半導体層64と、図示を省略した上部電極
65の配線のパターニングを行なう。なお、光電変換部
は、規定の90度または略90度にして設置する必要が
あるが、製造上完全に90度にすることができない場合
にも、特に高精度を求めない用途に使用することができ
る。また、光電変換部を270度にする場合には、凹凸
62の上面および側面に光電変換素子を形成すればよ
い。凹凸62の図示紙面に平行な側面に光電変換素子を
形成することもできる。
【0081】図示を省略するが、図17(C)のように
形成された光電変換部の上に、例えば、液状の合成樹脂
で基板61および光電変換素子1〜4を覆って固化させ
ることによりポリイミド等の有機膜を形成してもよい。
この有機膜は保護膜となり、さらにその上にフィルタ層
を形成するかまたは貼り付けてもよい。また、有機膜を
着色し赤外光透過フィルタの機能をもたせてもよい。
【0082】図18は、本発明の位置検出デバイスにお
ける光電変換部のなす角度が90度,270度以外であ
る場合の説明図である。図中、図3と同様な部分には同
じ符号を付して説明を省略する。図3に示した第1の実
施の形態における第3の光電変換素子を前提として説明
するが、他の光電変換部あるいは、他の実施の形態にお
ける光電変換部についても同様にして位置検出演算が可
能である。
【0083】図3に示した第1の実施の形態における第
3の光電変換部に対する相違部分は、光電変換素子(P
3y)6を、y軸上からz軸の負の方向に回転し、光電
変換素子(PD3y)6と光電変換素子(PD3z)5がな
す角度をθ3 とした点である。θ3 は、光源7からの光
線により図示のようにθ3yとθ3zに分けられる。ここで
は次式が成り立つ。
【0084】 tanθ3z=y/z …(21) l3y/l3z =sin(θ3y)/sin(θ3z) =sin(θ3 −θ3z)/sin(θ3z) =(sin(θ3 )cos(θ3z)−cos(θ3 )sin(θ3z)) /sin(θ3z) =sin(θ3 )/tan(θ3z)−cos(θ3 ) …(22) (22)式を変形してtan(θ3z)を求めると、 tan(θ3z)=sin(θ3 )/ (l3y/l3z+cos(θ3 )) …(23) となる。
【0085】(23)式を(21)式に代入すると、次
式のように、求めるy/zを、PD対の出力比l3y/l
3zと、既知のθ3 という値で表すことができ、 y/z=sin(θ3 )/(l3y/l3z+cos(θ3 )) …(24) となる。なお、θ3 が180度の場合には、分母および
分子が0となるため位置検出演算ができない。
【0086】この例では、光電変換素子(PD3z)5
は、z軸を含んで設置されているが、光電変換素子(P
3z)5を、z軸を含まずにy軸の正または負の方向に
回転した場合を考える。簡単のため、PD3zとPD3y
共に反時計回りにθだけ回転させた場合を考える。ここ
で、上述した考え方と同様の考え方を用いるために、回
転後の光電変換素子(PD3z)5の方向を新たなz軸と
仮定して、同様に(23)式を用いることで、新たなz
軸である光電変換素子(PD3z)5の方向に対する光源
7の方向が特定できる。あとは、真のz軸から回転した
角度θだけ時計回りに回転させた角度が、求める光源7
の方向である。
【0087】同様にして、(3)式ないし(5)式,
(13)式ないし(15)式を修正することが可能とな
るので、これらを用いて、光電変換部の出力比を求め、
さらに光源7の3次元(x,y,z)座標を求めること
ができる。
【0088】次に、図19ないし図25を参照して、本
発明の位置検出デバイスを用いた位置検出装置の具体例
を説明する。
【0089】図19は、本発明の位置検出装置の第1の
具体例の説明図である。図19(A)は、衝撃センサ,
加速度センサへの応用例を説明する図であり、図19
(B)は、衝撃センサ,加速度センサの従来例を説明す
る図である。図中、71は位置検出デバイス、72は光
源、73は支持棒、74は衝撃センサまたは加速度セン
サ、75は圧電素子である。この実施の形態は、衝撃セ
ンサまたは加速度センサに代表される片持ちばりを用い
たセンサを、本発明の位置検出装置によってさらに高精
度化した例である。衝撃センサは、物品に取り付けられ
物品の輸送時に衝撃が加わったかどうかを輸送後に検出
するためのバッチとして用いられる。
【0090】図19(B)に示すように、従来の衝撃セ
ンサまたは加速度センサは、圧電素子75などの積層構
造からなる片持ちばりを用いているために、その検出特
性が片持ちばりの材料や張り合わせの特性に大きく依存
しており、検出特性に極力影響を与えない材料を選択す
るか、または出力の補正が不可欠であった。さらに、圧
電素子75の積層構造からなる場合には、1次元方向の
衝撃または加速度しか得られなかった。
【0091】しかし、図19(A)に示すように、圧電
素子75等を用いることなく自由な材質の支持棒73に
よって光源72を支持し、その位置を位置検出デバイス
71によって検出することができる。位置検出デバイス
71と光源72を先端の小部分に有した支持棒73とを
ケース74に収納することにより衝撃センサまたは加速
度センサとなる。光源72の位置の時間的変化は、CP
U等による演算によって算出されるが、ケース74内に
このような演算手段を内蔵するか、あるいは、外部のパ
ーソナルコンピュータや専用の情報処理装置において演
算することができる。支持棒73の材質に制限は少な
く、また1次元のみならず2次元方向の衝撃および加速
度を検出することが可能である。
【0092】位置検出デバイス71を小さく形成できる
ため、位置検出デバイス71と光源72の配置を逆にし
て、位置検出デバイス71を可動側に取り付けることも
できる。このような逆配置の構成は、後述するいずれの
実施の形態においても同様に可能である。なお、光源7
2としては、自ら発光する発光源に限られず、図示しな
い他の発光源の光を反射する反射板であってもよい。あ
るいは、支持棒73の先端自体が光を反射する表面を有
していてもよい。これらの反射領域が実質的な光源にな
る。特に、位置検出を行う対象物に光源72や位置検出
デバイス71を取り付けることが困難な場合、対象物に
反射領域を設けることによって、反射領域の3次元位置
検出を行なうことが可能となる。反射領域以外の部分は
測定用の光をなるべく反射しないようにすることが望ま
しい。
【0093】その際、発光源と位置検出デバイス71を
1つのパッケージに収容し、さらに、プリント基板等へ
実装するために従来のICと同様の外部接続ピンを設け
てもよい。図17に示したような同一の基板上に少なく
とも1つの光電変換部とともに発光ダイオード等の光源
72を作製して一体化すればさらに小型化が可能にな
る。
【0094】また、図19(B)の圧電素子75の先端
に光源72を設け、光源72および位置検出デバイス7
1とともに圧電素子75も用い、衝撃センサまたは加速
度センサとしてもよい。この場合、異なる2つの方法で
衝撃や加速度を検出することができ、両者を補完的に用
いたり、一方で他方の較正をすることができる。
【0095】図20は、本発明の位置検出装置の第2の
具体例の説明図である。図20(A)は光源を感光ドラ
ムの外周面に設けたもの、図20(B)は光源を感光ド
ラムの側面に設けたもの、図20(C)は光源を感光ド
ラムの回転軸に設けたものの説明図である。図中、図1
9と同様な部分には同じ符号を用いて説明を省略する。
81は感光ドラム、82は回転軸である。この実施の形
態は、複写機、ファクシミリ、プリンタ等の電子写真記
録機構への応用例であって、感光ドラム81の動作測定
などに用いるものである。光源72としては、発光源を
用いてもよいが、この具体例では、光源72として反射
領域を用い、図示しない発光源からの拡散光を反射させ
て実質的な光源とする。
【0096】図20(A)においては、感光ドラム81
の感光面上の一小部分に光源72を設け、感光ドラム8
1とは非接触でこれに近接した位置に位置検出デバイス
71を設置し、感光ドラム81が回転して光源72が位
置検出デバイス71に近づいた時に光源72からの光に
よって、光源72の位置を検出し、その値から感光ドラ
ム81の角速度,偏心,軸方向のずれ等の3次元の位置
変化情報を演算して測定することができる。
【0097】光源72の位置は、図20(B)に示され
るように感光ドラム81の側面の一部分、または、図2
0(C)に示されるように感光ドラム81の回転軸82
の外周面の一部分に設置することもできる。光源72を
1箇所に設置した場合には、その1箇所での角速度,偏
心,軸方向のずれなどの測定を行うことができるが、光
源72を多数箇所に設置した場合は、感光ドラム81の
全体での回転方向の速度,偏心,軸方向のずれを常時測
定することで、より詳細な測定が可能となる。なお、複
数の光源72を区別する必要があるときは、各光源72
のパルス周波数を異ならせ、位置検出デバイス71側
で、パルス周波数を弁別すればよい。
【0098】光源72を反射領域とする場合には、反射
板を用いなくても、反射領域の感光ドラム81または回
転軸82自体が光を反射する表面を有していてもよい。
反射板を蛍光体に置き換えることもできる。感光ドラム
の全面露光の過程において、蛍光体が露光光源の照射を
受けて発する蛍光を反射光とする。また、図20(A)
のように、感光ドラム81の面上に発光源または反射領
域を設置する場合は、感光ドラム81が反応しない波長
の光を用いる必要がある。
【0099】図21は、本発明の位置検出装置の第3の
具体例の説明図である。図中、図20と同様な部分には
同じ符号を用いて説明を省略する。91は対象物である
基板、92はPAD、93は検査用プローブである。こ
の実施の形態は、検査用プローブ93への応用例であっ
て、対象物である基板91と検査用プローブ93の相対
位置関係を検出して位置合わせするものである。半導体
のチップまたはウエハを対象物である基板91とするこ
とができる。
【0100】対象物である基板91上には所定の位置に
ワイヤボンディング用等のための金属のPAD92と光
源72が設けられている。光源72は、位置検出時に載
置してもよいが、対象物である基板上にあらかじめ取り
付けられていてもよい。対象物である基板91上の光源
72への電源供給は、可撓性を有するリード線で供給し
てもよいが、電磁波、電磁誘導などにより非接触でエネ
ルギーを供給できる手段を用いて対象物である基板91
側に供給してもよい。あるいは、小型の電池を対象物で
ある基板91上に搭載してもよい。
【0101】この光源72の位置を検査用プローブ93
の先端または近傍に設けた位置検出デバイス71によっ
て検出し、PAD92と検査用プローブ93との相対的
な位置、すなわち、水平面上の位置および垂直高さを測
定する。同時に、測定値をフィードバックさせながら相
対位置を図示しない駆動装置によって変え、正確にプロ
ービングを行うことができ、検査用プローブ93の先端
がPAD92を切断してしまうようなことがない。
【0102】図22は、本発明の位置検出装置の第4の
具体例の説明図である。図中、図20,図21と同様な
部分には同じ符号を用いて説明を省略する。94はワイ
ヤボンディング用プローブ、95はワイヤである。この
実施の形態は、ワイヤボンディング用プローブ95への
応用例であって、対象物である基板91とワイヤボンデ
ィング用プローブ94の相対位置関係を検出し、ワイヤ
ボンディング時の位置合わせを行うものである。
【0103】金線などのワイヤ95が引き出されるワイ
ヤボンディング用プローブ94の先端または近傍に位置
検出デバイス71が設けられ、対象物である基板91上
には所定の位置にPAD92と光源72が設けられてい
る。位置検出デバイス71によって、PAD72とワイ
ヤボンディング用プローブ94との相対位置を測定し、
測定値をフィードバックさせながら相対位置を図示しな
い駆動装置によって変え、正確にワイヤボンディングを
行なうことができる。
【0104】図21または図22においても、光源72
を複数箇所に設けることもできる。この場合、対象物で
ある基板91のねじれを検出することができる。光源7
2を反射領域とする場合には、対象物である基板72上
に比較的光を反射させやすいPAD92などの部分を反
射領域とすることも可能である。
【0105】なお、類似の応用例として、検査用プロー
ブ93を一般的な製造ラインにおいても使用される組立
て作業用ロボットの可動アームに置き換えると、可動ア
ームの位置検出および位置制御に用いることができる。
特に、光源72と光位置検出装置71の両方が移動して
いる場合においても、相対的な位置を検出することによ
って、正確な組立てが可能となる。
【0106】図23は、本発明の位置検出装置の第5の
具体例の説明図である。図中、図19と同様な部分には
同じ符号を用いて説明を省略する。101,102はレ
ンズ、103,104はレンズ支持体である。この実施
の形態は、複写機、ファックシミリ、プリンタ、カメ
ラ、望遠鏡、光ディスクドライブ等における、レンズ移
動機構への応用例であって、レンズ101,102、レ
ンズ支持体103,104または、図示を省略したレン
ズ移動機構の動作測定等に用いるものである。
【0107】2枚のレンズ101,102が、それぞ
れ、レンズ支持体103,104に取り付けられ、水平
方向に所定間隔で置かれ、それぞれ、レンズ移動機構に
より水平移動し両者の相対位置が変化する。レンズ支持
体103,104の一小部分に、光源72を設置し、こ
れらと近接した位置に、それぞれ、位置検出デバイス7
1を設置する。光源72をレンズ101,102の端部
に設けることもでき、この場合には光源72を反射領域
とすると好適である。
【0108】レンズ101,102およびレンズ支持体
103,104が移動した時に、各光源72からの光に
より、レンズ支持体103,104の位置を検出し、そ
の値からレンズ101,102の位置を測定する。さら
に、位置の時間変化を演算することにより、速度、加速
度等の位置変化に関する3次元の情報を測定することも
できる。これらによって、レンズ101,102の位置
あるいは位置ずれを定量的に解析することができるの
で、位置ずれなどのトラブルを未然に発見することがで
き、このずれ量をフィードバックすることにより位置ず
れをなくすこともできる。図示を省略したレンズ移動機
構に光源72を設ければ、レンズ移動機構自体の特定部
分の位置やその位置変化を測定することができる。
【0109】また、ズームレンズ機構においてレンズ位
置の検出をすることができる。また、レンズ101,1
02を中心軸に垂直な面内において移動させるレンズ移
動機構においては、レンズ101,102の各中心軸の
ずれを検出して中心軸を合わせることもできる。なお、
レンズ移動機構は、一方のレンズ側のみに取り付けても
よく、この場合は、本発明を用いてレンズ101,10
2間またはレンズ支持体103,104間の距離を検出
することができる。
【0110】また、本発明の3次元位置検出装置は、一
般的なナビゲーションに関する技術分野にも応用でき
る。例えば、暦本、「インタラクティブソフトウェ
ア」、日本ソフトウェア科学会,WISS’95、p.
49〜56に記載されているような、簡易なディスプレ
イを保持してビル内を歩く時のナビゲーションにおい
て、壁などに設置した基準の位置標識に対する、本人ま
たはディスプレイの正確な3次元位置を知ることが可能
となる。この場合は、壁に光源を設置して、人が携帯す
るディスプレイなどの物、または、身につける物に光位
置検出装置を設けると好適である。
【0111】同様に、組立てラインの自走台車の走行方
向の制御に関しても、本発明の位置検出装置を用いるこ
とによって、床の上に誘導用テープを貼り付けることな
く、自走制御が可能となる。例えば、壁などに設置した
光源と、自走台車に設置した光位置検出装置によって、
自走台車の2次元位置はもちろん、段差がある組立てラ
インにおいても、その上下方向の位置も同時に検出し
て、自走台車の走行方向の制御に用いることが可能とな
る。上述したように、非接触で、位置,速度,加速度な
どの測定ができるので、従来よりも飛躍的に高精度な3
次元での位置測定が可能となる。
【0112】図24は、本発明の位置検出装置の第6の
具体例の説明図である。図中、111は3次元位置検出
ユニット、112はペン、113はディスプレイ、11
4はキーボード、115はデスク、116,117は仮
想平面である。この具体例は、図1,図4,図7,図1
6等を参照して説明した位置検出デバイスの構成をまと
めて1つの3次元位置検出ユニット111とし、ディス
プレィの上に設置したものである。ここでは、80×4
0×40cmの空間の3次元位置検出を行なう。
【0113】デスク115の上には、ディスプレイ11
3、キーボード114などが置かれている。3次元位置
検出ユニット111は、小型に構成できるため、例え
ば、ディスプレイ113と略同一平面内、具体的には、
その上部に取り付けることができ、デスク115上で場
所を取ることなく、ペン112と3次元位置検出ユニッ
ト111との間に使用者の手がはいって影になることを
避けることが可能である。
【0114】図示の例では、デスク115上とこれに垂
直な平面上に、それぞれ仮想平面116,117を設定
している。使用者は、これらの仮想平面116,117
上で光源を備えたペン112を動かすことによって、ポ
インティング、例えば、特定点の指示や、コマンドの入
力、アンダーライン入力、手書きの文字,図形の入力な
どを行なうことができる。3次元位置検出ユニット11
1は、光源の位置の3次元座標を出力できるから、その
まま3次元座標入力装置としても用いることができる。
【0115】使用者は、使い勝手に合わせて、デスク1
15の上または空間上の入力範囲や仮想平面116,1
17を、80×40×40cmの空間の中で自由に設定
することが可能である。例えば、立体的な物体やツリー
構造等をディスプレイ113上に表示して、これをマウ
スではなく、ペン112を用いることで自然な入力を行
なうことが可能となる。また、例えば、ディスプレイ1
13に接する面を仮想平面に設定して、タッチパネルの
ように使ったり、仮想平面116をタブレットのように
使ったり、2つのディスプレイ113の手前にそれぞれ
仮想平面117を設定したりするなど、自由に指示入力
の領域を決めることができる。
【0116】3次元位置検出ユニット111中には、演
算手段を内蔵する必要は必ずしもない。例えば、図1に
示した光電変換素子1〜6の出力に応じたアナログ出力
をユニット外に設けられた信号処理装置に伝送したり、
あるいは、A/D変換してディジタル伝送路を通して信
号処理装置または汎用のコンピュータに伝送し、ここで
光源の位置座標を演算したり、直接にカーソル等の表示
位置を指示するデータを出力してもよい。
【0117】ペン112は、例えば、通常用いられるボ
ールペン等に光源を設けたもので、ペン筺体の先端部、
すなわちペン先に赤外LEDユニットが取り付けられ
る。この赤外LEDユニットが環状に配置されている場
合には、ペンの持ち方に影響されずに3次元位置検出ユ
ニット111に光を照射することができる。位置検出装
置専用の光源を用いなくてもよい。例えば、ノート型コ
ンピュータの入力手段として使用されている、リモコン
マウス等の赤外線リモコンなどの赤外線通信用の赤外発
光を利用してもよい。この場合、3次元位置検出ユニッ
ト111は、光強度変調された赤外光を受光するから、
これを復調すれば、他の情報の入力手段としても機能す
ることができる。
【0118】図25は、本発明の位置検出装置の第7の
具体例の説明図である。図中、図24と同様な部分には
同じ符号を用いて説明を省略する。118はテーブルで
ある。この位置検出システムは、広範囲の3次元位置検
出を行うために、複数個の3次元位置検出ユニット11
1を設けて、より高精度な位置検出を行なうもので、会
議室への応用例を示す。
【0119】この会議室では、正面に大型のディスプレ
イ113が設けられ、テーブル118に複数の出席者が
着席する。特に、手書き文字を0.1mmという高精度
で検出するために、3個の3次元位置検出ユニット11
1が、常にペン112との距離が3m程度になるような
場所、例えば、天井に取り付けられている。ここでは、
3×3×3mの空間の3次元位置検出を行なう。ちなみ
に、ペン112と3次元位置検出ユニット111の距離
が10mの場合でも、精度は1mm以上確保できるが、
手書き文字の軌跡の位置検出などを行う場合は、この具
体例のような3個の3次元位置検出ユニット111を用
いる方法が有効である。会議の出席者各自の目前に仮想
平面117が設定されている。
【0120】また、図が複雑になるために図示を省略し
たが、図23と同様に、複数のディスプレイ113を設
けて、各々のポインティング等のために、複数の仮想平
面117を設定することも可能である。これらの仮想平
面117は、出席者ごとに別の仮想平面117を設定す
ることができる。会議の出席者は、ペン112で目前の
仮想平面117に筆記することによって、その筆記を、
例えば大型のディスプレイ113に反映させることがで
きる。
【0121】最もペン112からの距離が近く、高精度
で位置検出を行える3次元位置検出ユニット111を選
ぶために、各3次元位置検出ユニット111内の光電変
換素子の少なくとも1つの光電変換出力について、各3
次元位置検出ユニット111の間で比較し、光電変換出
力が最大となる3次元位置検出ユニット111をアナロ
グまたはディジタル演算により選び、この選択された3
次元位置検出ユニット111の出力に基づいて位置検出
演算をし3次元位置を検出する。選択される3次元位置
検出ユニット111は1つに限られず、例えば、光電変
換出力の大きい方から2,3を選んで、そこから得られ
た3次元位置の平均値を求めてもよい。同時に、出力の
いずれかが所定の出力以下になった光電変換素子を有す
る3次元位置検出ユニット111を選択しないようにす
ることもできる。
【0122】また、3次元位置検出ユニット111が個
別に位置検出演算をして位置を出力する場合は、各3次
元位置検出ユニット111の位置出力を各3次元位置検
出ユニット111の間で比較し、ペン112との距離が
最も近い3次元位置検出ユニット111を選択し、この
選択された3次元位置検出ユニット111の位置出力を
最適な位置出力とすることも可能である。
【0123】ここで、ペン112の向きの変化などによ
って、選択された3次元位置検出ユニット111であっ
ても、光電変換素子の出力が小さくなり、光電変換素子
の検出限界に近づくか、これ以下になった場合には、大
型のディスプレイ113の表示画面上において、ペン1
12の位置に対応する位置に表示されていたカーソル等
が、意に反した位置にとどまることになる。そこで、光
電変換素子の出力を常時モニターしておき、これが所定
出力以下となった場合は、ディスプイ113上でカーソ
ル等の表示を消すか、表示位置を直前の位置に保持して
異なる色または形状のカーソルを表示したり、特定の所
定位置に表示させる等、表示を変更することによって、
混乱を避けることができる。すなわち、光源の位置を表
示部に表示する位置表示装置において、光電変換素子の
出力が低下している期間において光源の位置の表示を中
止または変更する手段を有することができる。
【0124】図26は、光源の駆動と光電変換素子の出
力との関係を説明する図である。図15(A)は光源か
ら出力されるパルス光の波形図、図15(B)は光電変
換素子出力の波形図、図15(C)はオフセット分が除
去された光電変換素子出力の波形図である。図中、12
1は光パルス、122は光電変換素子出力、123はオ
フセット電圧が除去された光電変換素子出力である。光
源の駆動および光電変換素子出力の信号処理方法につい
て説明する。
【0125】図1等に示した光電変換素子1〜6には、
光源7からの光以外にも、外光、室内照明の蛍光灯、デ
イスプレイからの光などの外乱光も入射する。その結
果、光電変換素子1〜6の出力には、これらの光が光電
変換されたものが成分として含まれる。これに対して、
光源7として赤外光を用いて、光電変換素子1〜6の前
に赤外光透過フィルタを設置することが望ましいが、完
全に外乱光を除去することは困難である。
【0126】そこで、図25(A)に示すように、光パ
ルス121を発光するように光源7を駆動すると、光電
変換素子出力122が図25(B)のように表される。
さらに、この出力には外乱光が含まれるため、基底レベ
ルが変動し、一種のオフセット電圧が発生する。図25
(C)に示すように、このオフセット電圧を除去するこ
とにより、オフセット電圧が除去された光電変換素子出
力123を得て、これを用いることにより、さらに正確
な位置検出が可能となる。このオフセット電圧除去技術
に関しては、例えば、トランジスタ技術、(1990−
8)、p.473〜476に記載されている例のよう
に、特定の光パルスによる光源の駆動と、サンプルホー
ルド等によるオフセット除去回路を含んだ光電変換素子
の演算回路がある。
【0127】
【発明の効果】オフィスのデスク上や会議室において、
ポインティング、手書き入力、およびコマンド入力など
の、指示および入力を行う場合に、マウス、キーボー
ド、またはタブレットやディスプレィの画面をペンでな
ぞるタッチパネルといった、複数のデバイスについて、
操作領域を限定されず、各自で任意に領域を設定して操
作することが可能となる。例えばペンのような簡単なデ
バイスだけを用いて、特定の2次元平面での指示および
入力に限らず、3次元空間での仮想的な平面やディスプ
レイ面や机の上での指示および入力を個人で自由に選択
して、これを行うことができる。また、電話のダイヤル
入力、TV会議におけるマイクやスピーカおよびカメラ
のリモコン操作など、既成の概念にとらわれない幅広い
操作をペンなどの簡単なデバイスを用いて行うことがで
きる。
【0128】特に、情報量が増えたり、遠隔地との通信
を行う機会が増える場合などで、複数の画面を簡単な操
作によって扱ったり、スムーズなコミュニケーションを
行うことが可能となる。また、広範囲に3次元光位置検
出が可能となるため、会議室等においても、従来、プレ
ゼンター以外の人の、発表資料への書き込みや指示が困
難であった状況から、会議室の任意の場所から自由に発
表資料にコメント、質問などを書き加えることが可能と
なり、会議時間の有効利用およびコミュニケーションの
円滑化が実現する。
【0129】さらに、一般的な位置検出技術への応用と
して、組立てラインや一般の製品における部品や可動部
分の位置制御、加速度等の物理量の測定、および、人の
動きや自走台車等の動きに位置情報を与えるナビゲーシ
ョン等に関して、簡易な構成で高精度な3次元位置の検
出およびデータ通信が可能となる。また、一般的な3次
元位置検出として、バーチャル・リアリティへの応用も
可能である。
【0130】請求項1に記載の発明によれば、光源から
の拡散光を受光する少なくとも1つの光電変換部を有
し、この光電変換部が、第1および第2の光電変換手段
を有し第1,第2の光電変換手段の受光面が180度以
外の角度をなして近接配置されたものであることから、
簡素な構成で光源の1次元位置を容易に検出することが
できるという効果がある。光電変換部は1つあればよい
が、その数を増やすことによって、検出精度を高めるこ
となどが可能となる。
【0131】請求項2に記載の発明によれば、光源から
の拡散光を受光する少なくとも2つの光電変換部を有
し、この光電変換部が、第1,第2の光電変換手段を有
し第1,第2の光電変換手段の受光面が180度以外の
角度をなして近接配置されたものであることから、簡素
な構成で光源の2次元位置を容易に検出することができ
るという効果がある。光電変換部は2つあればよいが、
その数を増やすことによって、検出精度を高めることな
どが可能となる。
【0132】請求項3に記載の発明によれば、光源から
の拡散光を受光する少なくとも3つの光電変換部を有し
この光電変換部が、第1,第2の光電変換手段を有し第
1,第2の光電変換手段の受光面が180度以外の角度
をなして近接配置されたものであることから、簡素な構
成で光源の3次元位置を容易に検出することができると
いう効果がある。光電変換部は3つあればよいが、その
数を増やすことによって、検出精度を高めることなどが
可能となる。
【0133】請求項4に記載の発明によれば、少なくと
も2つの前記光電変換部が、第1または第2の光電変換
手段の一方を共有し、第1または第2の光電変換手段の
他方は互いの受光面が180度以外の角度をなして近接
配置されたものであることから、検出に必要とする光電
変換手段の個数を減らすことができるという効果があ
る。
【0134】請求項5に記載の発明によれば、角度が、
90度または270度であり、光電変換部ごとにいずれ
かの値が選択されるものであることから、構造上、第1
および第2の光電変換手段の配置が容易になるととも
に、所望の位置検出範囲に応じた配置が可能となる効果
がある。また、第1および第2の光電変換手段の出力を
用いた位置検出演算が容易になるという効果がある。
【0135】請求項6に記載の発明によれば、少なくと
も1つの光電変換部が、光源からの拡散光を透過光と反
射光に分ける半透鏡を有し、第1の光電変換手段は前記
透過光を受光し、第2の光電変換手段は前記反射光を受
光することから、一方の光電変換手段の受光面で反射し
た光が、他方の光電変換手段の受光面に入射することを
防止するため、位置検出精度の低下を防止することがで
きるという効果がある。
【0136】請求項7に記載の発明によれば、少なくと
も1つの光電変換部には、第1または第2の光電変換手
段の一方の受光面で反射する光が、他方の光電変換手段
の受光面に入射することを防止する遮光手段を有するこ
とから、位置検出精度の低下を防止することができると
いう効果がある。
【0137】請求項8に記載の発明によれば、光電変換
部が、凹部または凸部を有する基板を有し、第1,第2
の光電変換手段が、光電変換素子であり凹部または凸部
における交差平面上に形成されたものであることから、
構造上、第1および第2の光電変換手段の位置決めが容
易になるという効果がある。特に、多数の光電変換部を
備える場合に好適であり、また、半導体薄膜形成プロセ
スで、第1および第2の光電変換手段を実現する場合に
好適であるという効果がある。
【0138】請求項9に記載の発明によれば、少なくと
も1つの光電変換部の第1または第2の光電変換手段の
表面で反射する光が、他の光電変換部の第1または第2
の光電変換手段に入射することを防止する遮光手段を有
することから、位置検出精度の低下を防止することがで
きるという効果がある。
【0139】請求項10に記載の発明によれば、請求項
1ないし9のいずれか1項に記載の位置検出デバイスを
少なくとも1つ有し、位置検出デバイスにおける光電変
換部の第1および第2の光電変換手段の出力の比に基づ
いて光源の位置を演算する位置演算手段を有することか
ら、位置検出演算において光源の光量の大きさや光量の
変化などの影響を受けないという効果がある。
【0140】請求項11に記載の発明によれば、請求項
1ないし9のいずれか1項に記載の位置検出デバイスを
複数個有し、複数の位置検出デバイスの第1または第2
の光電変換手段の少なくとも一方の出力に基づいて、複
数の位置検出デバイスのうち少なくとも1つの位置検出
デバイスを選択し、選択された位置検出デバイスにおけ
る光電変換部の第1,第2の光電変換手段の出力の比に
基づいて光源の位置を演算する位置演算手段を有するこ
とから、高精度な位置検出演算が可能となる位置検出デ
バイスを選択して位置を検出することが可能となるとい
う効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の位置検出デバイスの第1の実施の形
態の斜視図である。
【図2】 本発明の第1の実施の形態のx−y平面の断
面図である。
【図3】 本発明の第1の実施の形態のy−z平面の断
面図である。
【図4】 本発明の位置検出デバイスの第2の実施の形
態の斜視図である。
【図5】 本発明の位置検出デバイスの第2の実施の形
態のx−y平面の断面図である。
【図6】 本発明の位置検出デバイスの第2の実施の形
態のz−y平面の断面図である。
【図7】 本発明の位置検出デバイスの第3の実施の形
態の斜視図である。
【図8】 本発明の位置検出デバイスの第3の実施の形
態のx−y平面の断面図である。
【図9】 本発明の位置検出デバイスの第3の実施の形
態のz−y平面の断面図である。
【図10】 本発明の位置検出デバイスの第4の実施の
形態のx−y平面の断面図である。
【図11】 本発明の位置検出デバイスの第4の実施の
形態のz−y平面の断面図である。
【図12】 本発明の位置検出デバイスの第5の実施の
形態のz−y平面の断面図である。
【図13】 本発明の位置検出デバイスの第1の実施の
形態の部分的な第1の変形例であり、赤外光透過フィル
タを用いた例の説明図である。
【図14】 本発明の位置検出デバイスの第1の実施の
形態の部分的な第2の変形例であり、遮光板を設けた例
の説明図である。
【図15】 本発明の位置検出デバイスの第1の実施の
形態の部分的な第3の変形例であり、半透鏡を設けた例
の説明図である。
【図16】 本発明の位置検出デバイスの第6の実施の
形態の斜視図である。
【図17】 本発明の位置検出デバイスを半導体プロセ
スによって作製する工程の説明図である。
【図18】 本発明の位置検出デバイスにおける1対の
光電変換素子のなす角度が90度,270度以外である
場合の説明図である。
【図19】 本発明の位置検出装置の第1の具体例の説
明図である。
【図20】 本発明の位置検出装置の第2の具体例の説
明図である。
【図21】 本発明の位置検出装置の第3の具体例の説
明図である。
【図22】 本発明の位置検出装置の第4の具体例の説
明図である。
【図23】 本発明の位置検出装置の第5の具体例の説
明図である。
【図24】 本発明の位置検出装置の第6の具体例の説
明図である。
【図25】 本発明の位置検出装置の第7の具体例の説
明図である。
【図26】 光源の駆動と光電変換素子の出力との関係
を説明する図である。
【符号の説明】
1〜6,11〜16,21,22,51…光電変換素
子、7,72…光源、31…平板状赤外光透過フィル
タ、32…ドーム状赤外光透過フィルタ、41,42…
遮光板、43…半透鏡、61…ガラス基板、62…凹
凸、63…下部電極、64…半導体層、65…上部電
極、71…位置検出デバイス、73…支持棒、75…圧
電素子、81…感光ドラム、82…回転軸、91…対象
物である基板、92…PAD、93…検査用プローブ、
94…ワイヤボンディング用プローブ、101,102
…レンズ、103,104…レンズ支持体、111…3
次元位置検出ユニット、112…ペン、113…ディス
プレイ、114…キーボード、116,117…仮想平
面、121…光パルス、122…光電変換素子出力、1
23…オフセット電圧が除去された光電変換素子出力。

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源からの拡散光を受光する少なくとも
    1つの光電変換部を有し、該光電変換部は、第1および
    第2の光電変換手段を有し第1,第2の光電変換手段の
    受光面が180度以外の角度をなして近接配置されたも
    のであることを特徴とする前記光源の1次元位置を検出
    する位置検出デバイス。
  2. 【請求項2】 光源からの拡散光を受光する少なくとも
    2つの光電変換部を有し、該光電変換部は、第1,第2
    の光電変換手段を有し第1,第2の光電変換手段の受光
    面が180度以外の角度をなして近接配置されたもので
    あることを特徴とする前記光源の2次元位置を検出する
    位置検出デバイス。
  3. 【請求項3】 光源からの拡散光を受光する少なくとも
    3つの光電変換部を有し、該光電変換部は、第1,第2
    の光電変換手段を有し第1,第2の光電変換手段の受光
    面が180度以外の角度をなして近接配置されたもので
    あることを特徴とする前記光源の3次元位置を検出する
    位置検出デバイス。
  4. 【請求項4】 少なくとも2つの前記光電変換部は、第
    1または第2の光電変換手段の一方を共有し、第1また
    は第2の光電変換手段の他方は互いの受光面が180度
    以外の角度をなして近接配置されたものであることを特
    徴とする請求項2ないし3のいずれか1項に記載の位置
    検出デバイス。
  5. 【請求項5】 前記角度は、90度または270度であ
    り、前記光電変換部ごとにいずれかの値が選択されるも
    のであることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか
    1項に記載の位置検出デバイス。
  6. 【請求項6】 少なくとも1つの光電変換部は、光源か
    らの拡散光を透過光と反射光に分ける半透鏡を有し、第
    1の光電変換手段は前記透過光を受光し、第2の光電変
    換手段は前記反射光を受光することを特徴とする請求項
    1ないし5のいずれか1項に記載の位置検出デバイス。
  7. 【請求項7】 少なくとも1つの光電変換部には、第1
    または第2の光電変換手段の一方の受光面で反射する光
    が、他方の光電変換手段の受光面に入射することを防止
    する遮光手段を有することを特徴とする請求項1ないし
    6のいずれか1項に記載の位置検出デバイス。
  8. 【請求項8】 前記光電変換部は、凹部または凸部を有
    する基板を有し、第1,第2の光電変換手段は、光電変
    換素子であり前記凹部または凸部における交差平面上に
    形成されたものであることを特徴とする請求項1ないし
    7のいずれか1項に記載の位置検出デバイス。
  9. 【請求項9】 少なくとも1つの光電変換部の第1また
    は第2の光電変換手段の表面で反射する光が、他の光電
    変換部の第1または第2の光電変換手段に入射すること
    を防止する遮光手段を有することを特徴とする請求項1
    ないし8のいずれか1項に記載の位置検出デバイス。
  10. 【請求項10】 請求項1ないし9のいずれか1項に記
    載の位置検出デバイスを少なくとも1つ有し、前記位置
    検出デバイスにおける前記光電変換部の第1および第2
    の光電変換手段の出力の比に基づいて前記光源の位置を
    演算する位置演算手段を有することを特徴とする位置検
    出装置。
  11. 【請求項11】 請求項1ないし9のいずれか1項に記
    載の位置検出デバイスを複数個有し、前記複数の位置検
    出デバイスの第1または第2の光電変換手段の少なくと
    も一方の出力に基づいて、複数の前記位置検出デバイス
    のうち少なくとも1つの位置検出デバイスを選択し、選
    択された位置検出デバイスにおける前記光電変換部の第
    1,第2の光電変換手段の出力の比に基づいて前記光源
    の位置を演算する位置演算手段を有することを特徴とす
    る位置検出装置。
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