JPH1096941A - Liquid crystal display device - Google Patents
Liquid crystal display deviceInfo
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- JPH1096941A JPH1096941A JP25287196A JP25287196A JPH1096941A JP H1096941 A JPH1096941 A JP H1096941A JP 25287196 A JP25287196 A JP 25287196A JP 25287196 A JP25287196 A JP 25287196A JP H1096941 A JPH1096941 A JP H1096941A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に関
する。[0001] The present invention relates to a liquid crystal display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、液晶表示装置（以下ＬＣＤともい
う）はワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、投
影形ＴＶ、小型ＴＶ等に広く利用されている。2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices (hereinafter also referred to as LCDs) have been widely used for word processors, personal computers, projection TVs, small TVs, and the like.
【０００３】従来最も広く利用されている偏光効果と偏
光子を組み合わせたＬＣＤは、例えば９０゜捻れた分子
配列をもつツイステッドネマティック（ＴＮ）型液晶で
あり、原理的に薄い液晶層厚、早い応答速度、高いコン
トラスト比を示し、低電圧で偏光制御できる。このた
め、時計や電卓に用いられるとともに単純マトリクス
や、スイッチング素子を各画素毎に具備したアクティブ
マトリクス駆動と、カラーフィルタと組み合わせて、フ
ルカラーの表示の液晶ＴＶなどに応用されている。Conventionally, the most widely used LCD combining a polarization effect and a polarizer is a twisted nematic (TN) type liquid crystal having a molecular arrangement twisted by 90 °, for example. It shows speed, high contrast ratio, and can control polarization at low voltage. For this reason, it is used for a watch or a calculator, and is applied to a full-color display liquid crystal TV or the like in combination with a simple matrix, an active matrix drive having a switching element for each pixel, and a color filter.
【０００４】しかし、これら偏光効果と偏光子を組み合
わせたＬＣＤは、原理上偏光板を用いることから素子の
透過率が著しく低く、明るい表示を得るにはバックライ
トによる照明を必要としているため、低消費電力という
液晶本来の特徴を損なうだけでなく、薄型・軽量化の要
求に対して大きな制約となっている。[0004] However, LCDs combining these polarization effects and polarizers use a polarizing plate in principle, so that the transmittance of the element is extremely low. In order to obtain a bright display, illumination by a backlight is required. This not only impairs the inherent characteristics of liquid crystal, that is, power consumption, but also greatly restricts the demand for thinner and lighter liquid crystals.
【０００５】近年、バックライト不要の反射型ＬＣＤが
注目されている。反射型ＬＣＤは、ＯＡ機器等の表示に
おいてバックライトを必要としないため、光源の電力が
必要でなく消費電力の低減が実現でき、携帯用に適して
いる。しかし、反射型ＬＣＤは透過型より光の利用効率
が低く、外光の光を利用しているため、表示の明るさが
外光によって決定され暗い場所では表示が認識できなく
なるという欠点がある。[0005] In recent years, attention has been paid to reflective LCDs that do not require a backlight. Since a reflective LCD does not require a backlight for display of an OA device or the like, it does not require power of a light source, can reduce power consumption, and is suitable for portable use. However, the reflection type LCD has a drawback in that the use efficiency of light is lower than that of the transmission type LCD and the outside light is used. Therefore, the brightness of the display is determined by the outside light and the display cannot be recognized in a dark place.
【０００６】この欠点を解消するため、図１０に示すよ
うに高分子分散型液晶層（以下、ＰＤＬＣ層ともいう）
と、ゲスト・ホスト型液晶層（以下、ＧＨ型液晶層とも
いう）の２層駆動の反射型ＬＣＤが提案されている。In order to solve this disadvantage, as shown in FIG. 10, a polymer dispersed liquid crystal layer (hereinafter, also referred to as a PDLC layer) is used.
And a guest-host type liquid crystal layer (hereinafter, also referred to as a GH type liquid crystal layer) has been proposed.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】この構成の液晶表示装
置はＰＤＬＣ層やＧＨ液晶層を単独で用いたものより良
好な表示が得られるが、２層パネルであるために視差が
大きく高精細な表示には不適である。また、光のロスが
大きく反射率の高いＬＣＤを実現するには困難である。The liquid crystal display device of this configuration can provide a better display than the one using the PDLC layer or the GH liquid crystal layer alone, but has a large parallax and a high definition because it is a two-layer panel. Not suitable for display. Further, it is difficult to realize an LCD having a large light loss and a high reflectance.
【０００８】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
であって、反射率とコントラストを改善することのでき
る液晶表示装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a liquid crystal display device capable of improving reflectance and contrast.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示装
置の第１の態様は、第１および第２の基板と、前記第１
の基板上に形成されたアクティブ素子と、前記第１の基
板上に形成され、前記アクティブ素子とは絶縁膜によっ
て絶縁されている第１のコモン電極と、前記第２の基板
上に形成された第２のコモン電極と、前記第１および第
２のコモン電極が対向するように配置された前記第１の
基板と前記第２の基板との間に挟持された第１および第
２の液晶層と、前記第１の液晶層と前記第２の液晶層と
の間に形成され、前記アクティブ素子と電気的に接続し
ている画素電極と、を備えていることを特徴とする。According to a first aspect of the liquid crystal display device according to the present invention, first and second substrates, and the first and second substrates are provided.
An active element formed on the first substrate; a first common electrode formed on the first substrate and insulated from the active element by an insulating film; and an active element formed on the second substrate. A second common electrode, and first and second liquid crystal layers sandwiched between the first substrate and the second substrate arranged so that the first and second common electrodes face each other. And a pixel electrode formed between the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer and electrically connected to the active element.
【００１０】また本発明の第２の態様は、第１の態様の
液晶表示装置において、前記第１の基板側の前記第１の
液晶層は、ポリマーにネマティック液晶を分散させた高
分子分散型液晶層であることを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, in the liquid crystal display device according to the first aspect, the first liquid crystal layer on the first substrate side is a polymer dispersion type in which a nematic liquid crystal is dispersed in a polymer. It is a liquid crystal layer.
【００１１】また本発明の第３の態様は、第２の態様の
液晶表示装置において、前記第２の基板側の前記第２の
液晶層は、ネマティック液晶に染料が添加されたゲスト
・ホスト型液晶層、またはネマティック液晶に染料が添
加されたゲスト・ホスト型液晶をポリマー中に分散させ
た高分子分散型ゲスト・ホスト液晶層であることを特徴
とする。According to a third aspect of the present invention, in the liquid crystal display device according to the second aspect, the second liquid crystal layer on the second substrate side is a guest-host type in which a nematic liquid crystal is added with a dye. The liquid crystal layer is a liquid crystal layer or a polymer-dispersed guest-host liquid crystal layer in which a guest-host liquid crystal in which a dye is added to a nematic liquid crystal is dispersed in a polymer.
【００１２】また本発明の第４の態様の液晶表示装置
は、第１および第２の基板と、前記第１の基板上に形成
された第１のアクティブ素子と、前記第１の基板上に形
成され、前記第１のアクティブ素子と電気的に接続され
た第１の画素電極と、前記第２の基板上に形成された第
２のアクティブ素子と、前記第２の基板上に形成され、
前記第２のアクティブ素子と電気的に接続された第２の
画素電極と、前記第１および第２の画素電極が対向する
ように配置された前記第１の基板と前記第２の基板との
間に挟持された第１および第２の液晶層と、前記第１の
液晶層と前記第２の液晶層との間に形成されたコモン電
極膜と、を備えていることを特徴とする。A liquid crystal display device according to a fourth aspect of the present invention comprises a first substrate, a second substrate, a first active element formed on the first substrate, and a first active device formed on the first substrate. A first pixel electrode formed and electrically connected to the first active element, a second active element formed on the second substrate, and formed on the second substrate;
A second pixel electrode electrically connected to the second active element, and a first substrate and a second substrate arranged so that the first and second pixel electrodes face each other. It is characterized by comprising: first and second liquid crystal layers sandwiched therebetween; and a common electrode film formed between the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer.
【００１３】また本発明の第５の態様は、第４の態様の
液晶表示装置において、前記第１の基板側の前記第１の
液晶層は、ポリマーにネマティック液晶を分散させた高
分子分散型液晶層であることを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, in the liquid crystal display device according to the fourth aspect, the first liquid crystal layer on the first substrate side is a polymer dispersion type in which a nematic liquid crystal is dispersed in a polymer. It is a liquid crystal layer.
【００１４】また本発明の第６の態様は、第５の態様の
液晶表示装置において、前記第２の基板側の前記第２の
液晶層は、ネマティック液晶に染料が添加されたゲスト
・ホスト型液晶層、またはネマティック液晶に染料が添
加されたゲスト・ホスト型液晶をポリマー中に分散させ
た高分子分散型ゲスト・ホスト液晶層であることを特徴
とする。According to a sixth aspect of the present invention, in the liquid crystal display device according to the fifth aspect, the second liquid crystal layer on the second substrate side is a guest-host type in which a dye is added to a nematic liquid crystal. The liquid crystal layer is a liquid crystal layer or a polymer-dispersed guest-host liquid crystal layer in which a guest-host liquid crystal in which a dye is added to a nematic liquid crystal is dispersed in a polymer.
【００１５】また本発明の第７の態様は、第４乃至第６
の態様のいずれかの液晶表示装置において、カラーフィ
ルタを更に有し、このカラーフィルタは、前記第１の基
板と前記第１の画素電極との間に設けられる第１の絶縁
膜と前記第１の画素電極との間の位置、前記第２の基板
と前記第２の画素電極との間に設けられる第２の絶縁膜
と前記第２の画素電極との間の位置、または前記第２の
液晶層と前記コモン電極との間に設けられる配向膜と前
記コモン電極との間の位置のうちのいずれかの位置に配
置されていることを特徴とする。[0015] A seventh aspect of the present invention is the fourth aspect of the present invention.
The liquid crystal display device according to any one of the above aspects, further comprising a color filter, wherein the color filter is provided between a first insulating film provided between the first substrate and the first pixel electrode and the first filter. Position between the second pixel electrode, a position between a second insulating film provided between the second substrate and the second pixel electrode and the second pixel electrode, or a position between the second pixel electrode and the second pixel electrode. It is characterized by being arranged at any one of positions between the common electrode and an alignment film provided between a liquid crystal layer and the common electrode.
【００１６】また本発明の第８の態様は、第１乃至第３
の態様のいずれかの液晶表示装置において、カラーフィ
ルタを更に有し、このカラーフィルタは、前記絶縁膜と
前記第１のコモン電極との間の位置、前記第２の液晶層
と前記第２のコモン電極との間に形成された第１の配向
膜と前記第２のコモン電極との間の位置、または、前記
画素電極と前記第２の液晶層との間に設けられる第２の
配向膜と前記画素電極との位置のうちのいずれかの位置
に配置されていることを特徴とする。An eighth aspect of the present invention is directed to the first to third aspects.
The liquid crystal display device according to any one of the above aspects, further comprising a color filter, wherein the color filter is located at a position between the insulating film and the first common electrode, the second liquid crystal layer and the second A second alignment film provided between a first alignment film formed between the pixel electrode and the second common electrode, or between the pixel electrode and the second liquid crystal layer; And the pixel electrode.
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を参照
して説明する。本発明の第１の実施の形態の液晶表示装
置の平面図を図２に示し、この図２に示す切断線Ａ−
Ａ′で切断したときの断面図を図１に示す。この実施の
形態の液晶表示装置は、基板１上に、ゲート電極２とコ
モン電極（Ｃｓ電極）３が形成され、これらの電極２，
３は保護膜（絶縁膜）４によって覆われている。そして
ゲート電極２上の所定領域に保護膜４を介して半導体膜
（チャネル層）５、低抵抗半導体膜６、および電極７か
らなるＴＦＴ素子（アクティブ素子）が形成されてい
る。このＴＦＴ素子は保護膜（絶縁膜）８に覆われてい
る。またＣｓ電極３を覆う領域に、保護膜８を介してＩ
ＴＯコモン電極９が形成されている。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a plan view of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 1 shows a cross-sectional view taken along the line A ′. In the liquid crystal display device of this embodiment, a gate electrode 2 and a common electrode (Cs electrode) 3 are formed on a substrate 1, and these electrodes 2 and
3 is covered with a protective film (insulating film) 4. A TFT element (active element) including a semiconductor film (channel layer) 5, a low-resistance semiconductor film 6, and an electrode 7 is formed in a predetermined region on the gate electrode 2 with a protective film 4 interposed therebetween. This TFT element is covered with a protective film (insulating film) 8. In the region covering the Cs electrode 3, the I
A TO common electrode 9 is formed.
【００１８】そしてこれらのＴＦＴ素子およびＩＴＯコ
モン電極９が形成された基板１上には、ポリマーにネマ
ティック液晶を分散させた高分子分散型液晶層１０（以
下、ＰＤＬＣ層１０ともいう）が形成され、このＰＤＬ
Ｃ層１０上には保護膜１１を介してＩＴＯ電極（画素電
極）１３が形成されている。この画素電極１３はＴＦＴ
素子の電極７と電気的に接続している。On the substrate 1 on which the TFT elements and the ITO common electrode 9 are formed, a polymer-dispersed liquid crystal layer 10 in which a nematic liquid crystal is dispersed in a polymer (hereinafter, also referred to as a PDLC layer 10) is formed. , This PDL
An ITO electrode (pixel electrode) 13 is formed on the C layer 10 with a protective film 11 interposed therebetween. This pixel electrode 13 is a TFT
It is electrically connected to the electrode 7 of the element.
【００１９】これらの画素電極１３および保護膜１１上
には垂直配向膜１３が形成され、この配向膜１３上には
ネマティック液晶に染料が添加されたゲスト・ホスト型
液晶層（以下ＧＨ液晶層ともいう）２６が形成されてい
る。このＧＨ液晶層２６上には垂直配向膜２３、ＩＴＯ
コモン電極２２を介してガラス基板２１が設けらてい
る。なお、ＰＤＬＣ層１０内にはスペーサ２４が散乱し
ており、ＧＨ液晶層２６内にはスペーサ２５が散乱して
いる。また基板１の外側には反射フィルム２８が貼られ
ている。A vertical alignment film 13 is formed on the pixel electrode 13 and the protective film 11. On the alignment film 13, a guest-host type liquid crystal layer in which a nematic liquid crystal is added with a dye (hereinafter referred to as a GH liquid crystal layer). 26) are formed. On the GH liquid crystal layer 26, a vertical alignment film 23, ITO
A glass substrate 21 is provided via a common electrode 22. The spacers 24 are scattered in the PDLC layer 10, and the spacers 25 are scattered in the GH liquid crystal layer 26. A reflection film 28 is stuck on the outside of the substrate 1.
【００２０】このように構成された本実施の形態の液晶
表示装置は、２枚の基板１，２１間にＰＤＬＣ層１０と
ＧＨ液晶層２６を挟持した２層型液晶表示装置であっ
て、ＰＤＬＣ層１０と、ＧＨ液晶層２６との間に画素電
極１３が設けられ、この画素電極１３が基板１上に設け
られたアクティブ素子によって駆動される構成となって
いる。The liquid crystal display device of the present embodiment thus configured is a two-layer liquid crystal display device in which the PDLC layer 10 and the GH liquid crystal layer 26 are sandwiched between two substrates 1 and 21. A pixel electrode 13 is provided between the layer 10 and the GH liquid crystal layer 26, and the pixel electrode 13 is driven by an active element provided on the substrate 1.
【００２１】この構成では、各液晶層に印加される電圧
は画素電極１３の電位と２つの対向コモン電極９，２２
の電位との調製で制御出来る。このため、白を表示させ
るには高分子分散層１０がＯＦＦすることによる光散乱
とＧＨ液晶層２６がＯＮすることによる光透過の組み合
わせを利用し、黒を表示させるには高分子分散層１０が
ＯＮによる光透過とＧＨ層２６がＯＦＦによる光吸収の
組み合わせを利用する。また、２層ともＯＮあるいはＯ
ＦＦを選択すれば、その中間調の表示も可能である。In this configuration, the voltage applied to each liquid crystal layer is the same as the potential of the pixel electrode 13 and the two common electrodes 9 and 22.
It can be controlled by adjusting the potential. Therefore, to display white, a combination of light scattering when the polymer dispersion layer 10 is turned off and light transmission when the GH liquid crystal layer 26 is turned on is used, and to display black, the polymer dispersion layer 10 is used. Uses a combination of light transmission by ON and light absorption by GH layer 26 OFF. Also, both layers are ON or O
If FF is selected, it is possible to display the halftone.
【００２２】なお、上記実施の形態においては、視認者
側と反対側基板１の外側に反射フィルム２８が貼られて
いるが、反射フィルム２８の代わりに、黒色フィルムを
用いても良い。In the above embodiment, the reflection film 28 is adhered to the outside of the substrate 1 on the side opposite to the viewer, but a black film may be used instead of the reflection film 28.
【００２３】また、これらのフィルムの代わりに、視認
者側と反対側基板の電極を高反射率電極（Ａｇ ｏｒ
Ａｌ）や黒色電極（ＭｏＷ：モリブ・タングステン）で
形成して視差対策を兼ねても良い。なお、視認者側の基
板はゲスト・ホスト液晶層２６が形成されている基板２
１、高分子分散型液晶層１０が形成されている基板１の
どちらでも良い。In place of these films, the electrodes on the substrate on the side opposite to the viewer are replaced with high-reflectance electrodes (Agor).
Al) or a black electrode (MoW: molybdenum / tungsten) may also serve as a countermeasure for parallax. The substrate on the viewer side is the substrate 2 on which the guest / host liquid crystal layer 26 is formed.
1. The substrate 1 on which the polymer dispersed liquid crystal layer 10 is formed may be used.
【００２４】本実施の形態の液晶表示装置においてフィ
ルム２８に反射フィルム、黒色フィルムを用い、このフ
ィルムが設けられている位置をＧＨ液晶層２６側の基板
２１の外側、ＰＤＬＣ層１０側の基板１の外側とした場
合のコントラスト比と反射率の測定結果を下記の表１に
示す。In the liquid crystal display device of the present embodiment, a reflective film or a black film is used for the film 28, and the position where this film is provided is outside the substrate 21 on the GH liquid crystal layer 26 side and the substrate 1 on the PDLC layer 10 side. Table 1 below shows the measurement results of the contrast ratio and the reflectance in the case where the value is outside the range.
【００２５】[0025]
【表１】 以上説明したように本実施の形態の液晶表示装置によれ
ば、コントラストと反射率を高くすることが可能とな
る。なお、ＧＨ液晶層２６の代わりに、ゲスト・ホスト
液晶をポリマー中に分散させた高分子分散型ゲスト・ホ
スト液晶層を用いても同様の効果を奏することは云うま
でもない。[Table 1] As described above, according to the liquid crystal display device of the present embodiment, it is possible to increase the contrast and the reflectance. Needless to say, a similar effect can be obtained by using a polymer-dispersed guest-host liquid crystal layer in which a guest-host liquid crystal is dispersed in a polymer instead of the GH liquid crystal layer 26.
【００２６】次に図１に示す第１の実施の形態の液晶表
示装置の製造方法を本発明の第２の実施の形態として説
明する。Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to the first embodiment shown in FIG. 1 will be described as a second embodiment of the present invention.
【００２７】本発明の第２の実施の形態の製造工程断面
図を図３乃至図５に示す。まず、１０．４インチガラス
基板１上に金属材料からなる膜をスパッタにより形成し
た後、パターニングすることによりゲート電極２および
Ｃｓ電極３を形成する（図３（ａ）参照）。続いてＣＶ
Ｄ法（Chemical Vapour Deposition法）を用いて、Ｓｉ
Ｏｘからなる厚さが４０００オングストロームの保護膜
４を形成する（図３（ｂ）参照）。FIGS. 3 to 5 are cross-sectional views showing a manufacturing process according to the second embodiment of the present invention. First, a film made of a metal material is formed on a 10.4 inch glass substrate 1 by sputtering, and then patterned to form a gate electrode 2 and a Cs electrode 3 (see FIG. 3A). Then CV
D method (Chemical Vapor Deposition method)
Consisting O x thickness to form a protective film 4 of 4000 angstroms (see Figure 3 (b)).
【００２８】次にプラズマＣＶＤ法を用いて、Ｓｉ
Ｎｘ、アモルファスシリコン、ＳｉＮｘを順次堆積し、
パターニングすることにより、半導体膜５を形成する
（図３（ｃ）参照）。Next, using plasma CVD, the Si
N x , amorphous silicon, SiN x are sequentially deposited,
The semiconductor film 5 is formed by patterning (see FIG. 3C).
【００２９】続いてｎ型の不純物が導入されたアモルフ
ァスシリコンを、プラズマＣＶＤ法を用いて５００オン
グストローム堆積し、パターニングすることにより低抵
抗半導体膜６を形成する（図３（ｄ）参照）。その後、
図３（ｄ）に示すようにスパッタ法を用いて金属膜を堆
積し、パターニングすることによりＴＦＴ電極７（ソー
ス電極及びドレイン電極）と信号線（図２参照）を形成
する。Subsequently, a low-resistance semiconductor film 6 is formed by depositing amorphous silicon into which n-type impurities are introduced by 500 angstrom using a plasma CVD method and patterning the amorphous silicon (see FIG. 3D). afterwards,
As shown in FIG. 3D, a metal film is deposited using a sputtering method and patterned to form a TFT electrode 7 (source electrode and drain electrode) and a signal line (see FIG. 2).
【００３０】次にＳｉＮｘからなる保護膜８をＣＶＤ法
を用いて基板全面に２０００オングストローム堆積した
後、この保護膜８上にＩＴＯ膜を堆積し、ＴＦＴ形成領
域上のＩＴＯ膜を、その周辺に１０μｍのマージンを取
って、エッチング除去し、コモン電極９を形成する（図
４（ａ）参照）。[0030] Then after 2000 Angstroms deposited on the whole surface of the substrate a protective film 8 made of SiN x by CVD, an ITO film is deposited on the protective film 8, the ITO film on the TFT forming region, around the Then, a common electrode 9 is formed by etching away with a margin of 10 μm (see FIG. 4A).
【００３１】次に誘電異方性が正のネマティック液晶
（例えばＥ７（ＢＤＨ社製））とＰＶＡ（ポリビニルア
ルコール）と水とを、混合比が１：４：１となるように
混合し、撹拌した後、更に１０分間の超音波撹拌を行
い、エマルジョンにする。このエマルジョンをＴＦＴが
形成されたアレイ基板１上に５μｍの厚さに塗布し、４
０℃、３０分間乾燥させることによりＰＤＬＣ層１０を
形成する（図４（ｂ）参照）。次に、ＰＤＬＣ層１０上
にＳｉＯｘからなる保護膜１１をＣＶＤ法を用いて１０
００オングストローム堆積する（図４（ｃ）参照）。続
いてＲＩＥ（ReactiveIon Etching）法を用いてソース
電極７上のＰＤＬＣ層１０に１０μｍ×１０μｍのコン
タクトホール１２を形成する（図４（ｄ）参照）。な
お、このコンタクトホール１２は四角錐であり、そのテ
ーパ角が３０度以下となるようにエッチング条件を制御
する。Next, a nematic liquid crystal having a positive dielectric anisotropy (for example, E7 (manufactured by BDH)), PVA (polyvinyl alcohol) and water are mixed at a mixing ratio of 1: 4: 1, and stirred. After that, ultrasonic stirring is further performed for 10 minutes to form an emulsion. This emulsion is applied on the array substrate 1 on which the TFT is formed to a thickness of 5 μm,
The PDLC layer 10 is formed by drying at 0 ° C. for 30 minutes (see FIG. 4B). Next, a protective film 11 made of SiO x is formed on the PDLC layer 10 by CVD method.
00 angstrom is deposited (see FIG. 4C). Subsequently, a contact hole 12 of 10 μm × 10 μm is formed in the PDLC layer 10 on the source electrode 7 using RIE (Reactive Ion Etching) (see FIG. 4D). Note that the contact hole 12 is a quadrangular pyramid, and the etching conditions are controlled so that the taper angle is 30 degrees or less.
【００３２】次にＰＤＬＣ層１０上にスパッタ法を用い
て厚さが１０００オングストロームのＩＴＯ膜を堆積し
た後、パターニングすることにより画素電極１３を形成
する（図５（ａ）参照）。続いて基板全面に垂直配向用
の配向膜１４を塗布し、アレイ基板を完成する。Next, an ITO film having a thickness of 1000 angstroms is deposited on the PDLC layer 10 by sputtering, and then patterned to form a pixel electrode 13 (see FIG. 5A). Subsequently, an alignment film 14 for vertical alignment is applied to the entire surface of the substrate to complete the array substrate.
【００３３】次に、もう１枚のガラス基板２１上にスパ
ッタ法により厚さが１０００オングストロームのＩＴＯ
膜２２を形成した後、垂直配向膜２２を塗布し、直径が
８μｍのスペーサ２５を１ｍｍ2 当たり１００個となる
ように散布し、対向基板とする。続いてこの対向基板の
周辺部に、直径７．５μｍのファイバを混入したシール
剤２７（例えばＸＮ−２１−ＦＡ：三井東圧化学製）を
注入口を開ける形状で塗布する。この対向基板と上記ア
レイ基板をシール剤２７で張り合わせ、空セルを形成す
る（図５（ｄ）参照）。Next, another 1000 Å thick ITO film was formed on another glass substrate 21 by sputtering.
After the film 22 is formed, the vertical alignment film 22 is applied, and the spacers 25 having a diameter of 8 μm are scattered so that the number of the spacers 25 becomes 100 per 1 mm 2 . Subsequently, a sealant 27 (for example, XN-21-FA: manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals) in which a fiber having a diameter of 7.5 μm is mixed is applied to the periphery of the counter substrate in a shape that allows opening of an inlet. The opposing substrate and the array substrate are bonded with a sealant 27 to form an empty cell (see FIG. 5D).
【００３４】次にカイラル剤が添加されたネマティック
液晶組物２６に二色性染料を混入し、上記空セル内に上
記注入口を介して真空注入する（図５（ｂ）参照）。そ
して注入口を紫外線硬化樹脂を用いて封止した後、視認
者側と反対側の基板の外側に反射フィルム２８、または
黒色フィルムを貼る液晶表示装置を完成する。Next, a dichroic dye is mixed into the nematic liquid crystal assembly 26 to which the chiral agent has been added, and vacuum-injected into the empty cell through the injection port (see FIG. 5B). After sealing the injection port with an ultraviolet curable resin, a liquid crystal display device in which a reflective film 28 or a black film is attached to the outside of the substrate on the side opposite to the viewer side is completed.
【００３５】この第２の実施の形態の製造方法によって
製造された液晶表示装置も第１の実施の形態と同様の効
果を奏することは云うまでもない。Needless to say, the liquid crystal display device manufactured by the manufacturing method according to the second embodiment also has the same effect as the first embodiment.
【００３６】なおこのようにして構成された第１および
第２の実施の形態の液晶表示装置によれば、図６（ａ）
に示す従来のアレイとＩＴＯ画素電極１３との間にＰＤ
ＬＣ層１０が挿入されるため、図６（ｂ）に示すように
変調部面積（図６（ｂ）の斜線部）が拡大でき、表示性
能が向上する。なお、従来の２層セルでは図６（ａ）に
示すアレイを２枚重ねにするため、変調部面積は図６
（ａ）に示すＩＴＯ電極の面積で決まる。According to the liquid crystal display devices of the first and second embodiments configured as described above, FIG.
PD between the conventional array shown in FIG.
Since the LC layer 10 is inserted, the area of the modulation section (the shaded area in FIG. 6B) can be enlarged as shown in FIG. 6B, and the display performance is improved. In the conventional two-layer cell, since the two arrays shown in FIG.
It is determined by the area of the ITO electrode shown in FIG.
【００３７】次に本発明の第３の実施の形態の構成を示
す断面図を図７に示す。この実施の形態の液晶表示装置
は２枚のガラス基板３１の各々の上に半導体膜（チャネ
ル層）３５、低抵抗半導体膜３６、ＴＦＴ電極３８から
なるアクティブ素子と、ＩＴＯからなる画素電極３７と
が形成されている。そしてこれらの２つの基板の間には
ＰＤＣＬ層４０と、ＧＨ液晶層５６とが挟持され、これ
らのＰＤＣＬ層４０とＧＨ液晶層５６との間に透明な対
向電極４１が形成されている。Next, FIG. 7 is a sectional view showing the configuration of the third embodiment of the present invention. The liquid crystal display device of this embodiment has an active element including a semiconductor film (channel layer) 35, a low-resistance semiconductor film 36, and a TFT electrode 38 on each of two glass substrates 31, and a pixel electrode 37 made of ITO. Are formed. A PDCL layer 40 and a GH liquid crystal layer 56 are sandwiched between these two substrates, and a transparent counter electrode 41 is formed between the PDCL layer 40 and the GH liquid crystal layer 56.
【００３８】次に図７に示す本実施の形態の液晶表示装
置の製造方法を第４の実施の形態として説明する。Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device of the present embodiment shown in FIG. 7 will be described as a fourth embodiment.
【００３９】本発明の第４の実施の形態の製造工程断面
図を図８、図９に示す。FIGS. 8 and 9 are sectional views showing a manufacturing process according to the fourth embodiment of the present invention.
【００４０】まず、１０．４インチガラス基板３１上に
金属材料からなる膜をスパッタにより形成した後、パタ
ーニングすることによりゲート電極３２およびＣｓ電極
３３を形成する（図８（ａ）参照）。続いてＣＶＤ法を
用いて、ＳｉＯｘからなる厚さが４０００オングストロ
ームの保護膜３４を形成する（図８（ｂ）参照）。First, a film made of a metal material is formed on a 10.4 inch glass substrate 31 by sputtering, and then patterned to form a gate electrode 32 and a Cs electrode 33 (see FIG. 8A). Then using the CVD method, the thickness consisting of SiO x is formed a protective film 34 of 4000 Å (see Figure 8 (b)).
【００４１】次にプラズマＣＶＤ法を用いて、Ｓｉ
Ｎｘ、アモルファスシリコン、ＳｉＮｘを順次堆積し、
パターニングすることにより、半導体膜（チャネル層）
５を形成する（図８（ｃ）参照）。Next, using plasma CVD,
N x , amorphous silicon, SiN x are sequentially deposited,
Semiconductor film (channel layer) by patterning
5 (see FIG. 8C).
【００４２】続いてｎ型の不純物が導入されたアモルフ
ァスシリコンを、プラズマＣＶＤ法を用いて５００オン
グストローム堆積し、パターニングすることにより低抵
抗半導体膜３６を形成する（図８（ｄ）参照）。続いて
スパッタ法を用いてＩＴＯ膜を堆積し、パターニングす
ることにより画素電極３７を形成する（図８（ｄ）参
照）。Subsequently, a low-resistance semiconductor film 36 is formed by depositing amorphous silicon into which n-type impurities are introduced by 500 angstrom using a plasma CVD method and patterning the amorphous silicon (see FIG. 8D). Subsequently, an ITO film is deposited using a sputtering method, and is patterned to form a pixel electrode 37 (see FIG. 8D).
【００４３】その後、図８（ｄ）に示すようにスパッタ
法を用いて金属膜を堆積し、パターニングすることによ
りＴＦＴ電極３８（ソース電極及びドレイン電極）と信
号線を形成する。そしてＳｉＮｘからなる保護膜３９を
ＣＶＤ法を用いて基板全面に２０００オングストローム
堆積する（図８（ｄ）参照）。Thereafter, as shown in FIG. 8D, a metal film is deposited by sputtering and patterned to form a TFT electrode 38 (source electrode and drain electrode) and a signal line. Then, a protective film 39 made of SiN x is deposited on the entire surface of the substrate to a thickness of 2000 angstroms by using the CVD method (see FIG. 8D).
【００４４】次に誘電異方性が正のネマティック液晶
（例えばＥ７（ＢＤＨ社製））とＰＶＡ（ポリビニルア
ルコール）と水とを、混合比が１：４：１となるように
混合し、撹拌した後、更に１０分間の超音波撹拌を行
い、エマルジョンにする。このエマルジョンをＴＦＴが
形成されたアレイ基板３１上に５μｍの厚さに塗布し、
４０℃、３０分間乾燥させることによりＰＤＬＣ層４０
を形成する（図９（ａ）参照）。そしてＰＤＬＣ層４０
上にスパッタ法を用いて厚さが１０００オングストロー
ムのＩＴＯ膜（対向電極）４１を形成した後、垂直配向
膜４２を塗布し、対向基板を形成する（図９（ａ）参
照）。Next, a nematic liquid crystal having a positive dielectric anisotropy (for example, E7 (manufactured by BDH)), PVA (polyvinyl alcohol) and water are mixed at a mixing ratio of 1: 4: 1, and stirred. After that, ultrasonic stirring is further performed for 10 minutes to form an emulsion. This emulsion is applied to a thickness of 5 μm on the array substrate 31 on which the TFT is formed,
The PDLC layer 40 is dried at 40 ° C. for 30 minutes.
Is formed (see FIG. 9A). And the PDLC layer 40
After forming an ITO film (counter electrode) 41 having a thickness of 1000 angstroms by using a sputtering method, a vertical alignment film 42 is applied to form a counter substrate (see FIG. 9A).
【００４５】もう１枚のガラス基板上に前述した同様に
してＴＦＴおよび画素電極３７を形成した後、保護膜３
９を形成する。そしてこの保護膜３９上に垂直配向膜５
０を塗布し、直径８μｍのスペーサ５５を１００個／ｍ
ｍ2 の密度で空中散布し、アレイ基板を形成する（図９
（ｂ）参照）。After the TFT and the pixel electrode 37 are formed on another glass substrate in the same manner as described above, the protective film 3 is formed.
9 is formed. The vertical alignment film 5 is formed on the protective film 39.
0 and apply 100 spacers / m of spacers 8 having a diameter of 8 μm.
Aerial spraying at a density of m 2 to form an array substrate (FIG. 9)
(B)).
【００４６】続いて、このアレイ基板の周辺部に直径
７．５μｍのファイバが混入されたシール剤５７（ＸＮ
−２１−ＦＡ：三井東圧化学製）を、注入口を開ける形
状となるように塗布する。そしてこのアレイ基板と上記
対向基板とをシール剤５７を用いて貼合わせ、空セルを
形成する。Subsequently, a sealing agent 57 (XN) in which a fiber having a diameter of 7.5 μm is mixed around the array substrate.
21-FA: manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals Co., Ltd.) so as to form an inlet. Then, the array substrate and the counter substrate are attached to each other using a sealant 57 to form an empty cell.
【００４７】次にカイラル剤が添加されたネマティック
液晶組成物５６に二色性染料を混入してゲスト・ホスト
型液晶とし、このゲスト・ホスト型液晶を上記空セル内
に上記注入口を介して真空注入する。そしてこの注入口
を紫外線硬化樹脂を用いて封止した後、反射フィルム５
９を貼り、液晶表示装置を完成する。Next, a dichroic dye is mixed into the nematic liquid crystal composition 56 to which the chiral agent has been added to form a guest-host type liquid crystal. Inject vacuum. After sealing the injection port with an ultraviolet curing resin, the reflection film 5 is formed.
9 to complete the liquid crystal display device.
【００４８】なお反射フィルム５９の代わりに黒色フィ
ルムを用いても良い。また、これらのフィルムの代わり
に、視認者側と反対側基板の電極を高反射率電極（Ａｇ
ｏｒ Ａｌ）や黒色電極（ＭｏＷ：モリブ・タングス
テン）で形成して視差対策を兼ねても良い。なお、視認
者側の基板はゲスト・ホスト液晶層、高分子分散型液晶
層のどちらでも良い。A black film may be used instead of the reflection film 59. Also, instead of these films, the electrodes on the substrate on the side opposite to the viewer were replaced with high-reflectance electrodes (Ag).
or Al) or a black electrode (MoW: molybdenum / tungsten) may also serve as a countermeasure for parallax. The substrate on the viewer side may be either a guest / host liquid crystal layer or a polymer dispersed liquid crystal layer.
【００４９】以上説明したように、第３の実施の形態の
液晶表示装置および第４の実施の形態の製造方法によっ
て製造された液晶表示装置においては、上下の基板にア
クティブ素子を有しているとともにＰＤＬＣとゲスト・
ホスト液晶層との間に上下アクティブ素子共通の対向電
極を有しているため、完全に独立して各層への印加電圧
を制御することができる。As described above, the liquid crystal display device according to the third embodiment and the liquid crystal display device manufactured by the manufacturing method according to the fourth embodiment have active elements on the upper and lower substrates. With PDLC and guests
Since a common electrode is provided between the host liquid crystal layer and the upper and lower active elements, the voltage applied to each layer can be controlled completely independently.
【００５０】白を表示させるには高分子分散層４０をＯ
ＦＦすることによる光散乱とゲスト・ホスト層５６をＯ
Ｎすることによる光透過の組み合わせを利用し、黒を表
示させるには高分子分散層４０をＯＮすることによる光
透過とゲスト・ホスト層５６をＯＦＦすることによる光
吸収の組み合わせを利用する。また、２層ともＯＮある
いはＯＦＦを選択すれば、その中間調の表示も可能であ
る。To display white, the polymer dispersion layer 40 must be
Light scattering by FF and the guest / host layer 56
In order to display black, a combination of light transmission by turning on the polymer dispersion layer 40 and light absorption by turning off the guest / host layer 56 are used to display black. If ON or OFF is selected for both layers, the display of the halftone is also possible.
【００５１】上記第３または第４の実施の形態におい
て、フィルム５９に反射フィルム、黒フィルムを用い、
このフィルムが設けられている位置を、ゲスト・ホスト
液晶層５６側の基板３１の外側、ＰＤＬＣ層４０側の基
板３１の外側とした場合のコントラスト比と、反射率の
測定結果を下記の表２に示す。In the third or fourth embodiment, a reflective film or a black film is used for the film 59,
Table 2 shows the measurement results of the contrast ratio and the reflectance when the film is provided outside the substrate 31 on the guest / host liquid crystal layer 56 side and outside the substrate 31 on the PDLC layer 40 side. Shown in
【００５２】[0052]
【表２】 この表２に示す各々の場合における表示は良好な白黒
（ヘーパー・ホワイト）表示であった。[Table 2] The display in each case shown in Table 2 was a good black-and-white (header white) display.
【００５３】なお、第３または第４の実施の形態におい
て、ゲスト・ホスト液晶層５６の代わりに、ゲスト・ホ
スト液晶をポリマー中に分散させた高分子分散型ゲスト
・ホスト液晶層を用いても同様の効果を奏することは云
うまでもない。In the third or fourth embodiment, a polymer-dispersed guest-host liquid crystal layer in which a guest-host liquid crystal is dispersed in a polymer may be used instead of the guest-host liquid crystal layer 56. It goes without saying that the same effect is achieved.
【００５４】次に本発明の第５の実施の形態を説明す
る。この第５の実施の形態の液晶表示装置は、図７に示
す第３の実施の形態の液晶表示装置において、ＰＤＬＣ
層４０が設けられている対向基板の保護膜３４とＩＴＯ
電極（画素電極）３７の間にＹ（黄）、Ｍ（マゼン
タ）、Ｃ（シアン）の３色からなるカラーフィルタを設
けたものである。この場合の色表示には、高分子分散型
液晶層４０とゲスト・ホスト液晶層５６を光透過状態に
して、カラーフィルタでの光反射を利用する。また、白
表示時には高分子分散型液晶層４０の光散乱を、黒表示
にはゲスト・ホスト液晶層５６の光吸収を利用する。な
お、視認者側の基板はゲスト・ホスト液晶層５６、高分
子分散型液晶層４０のどちらでも良い。表示性能はコン
トラスト１０：１、反射率４０％であった。Next, a fifth embodiment of the present invention will be described. The liquid crystal display device according to the fifth embodiment is different from the liquid crystal display device according to the third embodiment shown in FIG.
The protective film 34 of the opposite substrate on which the layer 40 is provided and the ITO
A color filter composed of three colors of Y (yellow), M (magenta), and C (cyan) is provided between the electrodes (pixel electrodes) 37. For color display in this case, the polymer-dispersed liquid crystal layer 40 and the guest / host liquid crystal layer 56 are in a light transmitting state, and light reflection by a color filter is used. The light scattering of the polymer dispersed liquid crystal layer 40 is used for white display, and the light absorption of the guest / host liquid crystal layer 56 is used for black display. The substrate on the viewer side may be either the guest-host liquid crystal layer 56 or the polymer dispersed liquid crystal layer 40. The display performance was a contrast of 10: 1 and a reflectance of 40%.
【００５５】なお、上記第５の実施の形態においては、
カラーフィルタは対向基板の保護膜３４とＩＴＯ電極３
７の間に形成したが、代わりにゲスト・ホスト液晶層５
６が設けられたアレイ基板の保護膜３４とＩＴＯ電極３
７の間、またはＩＴＯ電極（対向電極）４０と対向膜４
１との間に設けても良い。Incidentally, in the fifth embodiment,
The color filter is composed of the protection film 34 of the opposite substrate and the ITO electrode 3.
7, but instead of the guest-host liquid crystal layer 5
6 and the protective film 34 of the array substrate provided with the ITO electrodes 3
7, or ITO electrode (counter electrode) 40 and counter film 4
1 may be provided.
【００５６】また図１に示す第１の実施の形態の液晶表
示装置にカラーフィルタを設ける場合は、（ａ）アレイ
基板の保護膜８とＩＴＯ電極９との間、（ｂ）対向基板
のＩＴＯ電極（コモン電極）２２と配向膜２３の間、ま
たは（ｃ）ＩＴＯ電極（画素電極）１３と配向膜１４と
の間のいずれかに設ければ良い。When a color filter is provided in the liquid crystal display device of the first embodiment shown in FIG. 1, (a) between the protective film 8 of the array substrate and the ITO electrode 9, and (b) ITO of the opposite substrate. It may be provided either between the electrode (common electrode) 22 and the alignment film 23 or (c) between the ITO electrode (pixel electrode) 13 and the alignment film 14.
【００５７】[0057]
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、反射
率とコントラストが高い表示を実現することができる。As described above, according to the present invention, a display with high reflectance and high contrast can be realized.
【図１】本発明の第１の実施の形態の液晶表示装置の構
成を示す断面図。FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第１の実施の形態の液晶表示装置の平
面図。FIG. 2 is a plan view of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第２の実施の形態の製造方法の製造工
程断面図。FIG. 3 is a sectional view showing a manufacturing process of a manufacturing method according to a second embodiment of the present invention.
【図４】第２の実施の形態の製造工程断面図。FIG. 4 is a sectional view showing a manufacturing process according to the second embodiment;
【図５】第２の実施の形態の製造工程断面図。FIG. 5 is a sectional view showing a manufacturing process according to the second embodiment;
【図６】第１および第２の実施の形態の効果の説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram of the effects of the first and second embodiments.
【図７】本発明の第３の実施の形態の構成を示す断面
図。FIG. 7 is a sectional view showing a configuration of a third embodiment of the present invention.
【図８】本発明の第４の実施の形態の製造工程断面図。FIG. 8 is a sectional view showing a manufacturing process according to a fourth embodiment of the present invention.
【図９】第４の実施の形態の製造工程断面図。FIG. 9 is a sectional view of a manufacturing process according to a fourth embodiment.
【図１０】従来の２層駆動反射型液晶表示装置の構成を
示すブロック図。FIG. 10 is a block diagram showing a configuration of a conventional two-layer drive reflection type liquid crystal display device.
１ ガラス基板 ２ ゲート電極 ３ Ｃｓ電極 ４ 保護（絶縁膜）膜 ５ 半導体膜（チャネル層） ６ 低抵抗半導体膜 ７ ＴＦＴ電極（ソース電極、ドレイン電極） ８ 保護膜（ＳｉＯｘ） ９ ＩＴＯコモン電極 １０ ＰＤＬＣ層 １１ ＳｉＯｘ保護膜 １２ コンタクトホール １３ ＩＴＯ電極（画素電極） １４ 垂直配向膜 ２１ ガラス基板 ２２ ＩＴＯコモン電極 ２３ 垂直配向膜 ２４，２５ スペーサ ２６ ゲスト・ホスト液晶層 ２７ シール剤 ２８ 反射フィルム ３１ ガラス基板 ３２ ゲート電極 ３３ Ｃｓ電極 ３４ 保護膜 ３５ 半導体膜（チャネル層） ３６ 低抵抗半導体膜 ３７ ＩＴＯ電極（画素電極） ３８ ＴＦＴ電極（ソース電極、ドレイン電極） ３９ 保護膜（ＳｉＯｘ） ４０ ＰＤＬＣ層 ４１ ＩＴＯ膜（対向電極） ４２ 垂直配向膜 ５０ 垂直配向膜 ５５ スペーサ ５６ ゲスト・ホスト液晶層 ５７ シール剤 ５９ 反射フィルムDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Gate electrode 3 Cs electrode 4 Protective (insulating film) film 5 Semiconductor film (channel layer) 6 Low resistance semiconductor film 7 TFT electrode (source electrode, drain electrode) 8 Protective film (SiO x ) 9 ITO common electrode 10 PDLC layer 11 SiOx protective film 12 Contact hole 13 ITO electrode (pixel electrode) 14 Vertical alignment film 21 Glass substrate 22 ITO common electrode 23 Vertical alignment film 24, 25 Spacer 26 Guest / host liquid crystal layer 27 Sealant 28 Reflective film 31 Glass substrate Reference Signs List 32 gate electrode 33 Cs electrode 34 protective film 35 semiconductor film (channel layer) 36 low-resistance semiconductor film 37 ITO electrode (pixel electrode) 38 TFT electrode (source electrode, drain electrode) 39 protective film (SiO x ) 40 PDLC layer 41 ITO Film (counter electrode) 42 Vertical alignment film 50 Vertical alignment film 55 Spacer 56 Guest / host liquid crystal layer 57 Sealant 59 Reflective film
Claims (8)
絶縁膜によって絶縁されている第１のコモン電極と、 前記第２の基板上に形成された第２のコモン電極と、 前記第１および第２のコモン電極が対向するように配置
された前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持さ
れた第１および第２の液晶層と、 前記第１の液晶層と前記第２の液晶層との間に形成さ
れ、前記アクティブ素子と電気的に接続している画素電
極と、 を備えていることを特徴とする液晶表示装置。An active element formed on the first substrate; an active element formed on the first substrate; an active element formed on the first substrate, insulated from the active element by an insulating film. A first common electrode; a second common electrode formed on the second substrate; and the first and second substrates arranged so that the first and second common electrodes face each other. First and second liquid crystal layers sandwiched between the first and second substrates, and formed between the first and second liquid crystal layers and electrically connected to the active element. A liquid crystal display device comprising: a pixel electrode;
ポリマーにネマティック液晶を分散させた高分子分散型
液晶層であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示
装置。2. The first liquid crystal layer on the first substrate side,
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is a polymer dispersed liquid crystal layer in which a nematic liquid crystal is dispersed in a polymer.
ネマティック液晶に染料が添加されたゲスト・ホスト型
液晶層、またはネマティック液晶に染料が添加されたゲ
スト・ホスト型液晶をポリマー中に分散させた高分子分
散型ゲスト・ホスト液晶層であることを特徴とする請求
項２記載の液晶表示装置。3. The second liquid crystal layer on the second substrate side,
It is a guest-host liquid crystal layer in which a dye is added to a nematic liquid crystal, or a polymer-dispersed guest-host liquid crystal layer in which a guest-host liquid crystal in which a dye is added to a nematic liquid crystal is dispersed in a polymer. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein
と、 前記第１の基板上に形成され、前記第１のアクティブ素
子と電気的に接続された第１の画素電極と、 前記第２の基板上に形成された第２のアクティブ素子
と、 前記第２の基板上に形成され、前記第２のアクティブ素
子と電気的に接続された第２の画素電極と、 前記第１および第２の画素電極が対向するように配置さ
れた前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持され
た第１および第２の液晶層と、 前記第１の液晶層と前記第２の液晶層との間に形成され
たコモン電極膜と、 を備えていることを特徴とする液晶表示装置。4. A first and a second substrate, a first active element formed on the first substrate, and an electrical element formed on the first substrate and electrically connected to the first active element. A first pixel electrode connected to the second active element formed on the second substrate; and a second active element formed on the second substrate and electrically connected to the second active element. A second pixel electrode, and first and second liquid crystals sandwiched between the first substrate and the second substrate arranged so that the first and second pixel electrodes face each other. A liquid crystal display device comprising: a first electrode layer; and a common electrode film formed between the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer.
ポリマーにネマティック液晶を分散させた高分子分散型
液晶層であることを特徴とする請求項４記載の液晶表示
装置。5. The first liquid crystal layer on the first substrate side,
The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the liquid crystal display device is a polymer dispersed liquid crystal layer in which a nematic liquid crystal is dispersed in a polymer.
ネマティック液晶に染料が添加されたゲスト・ホスト型
液晶層、またはネマティック液晶に染料が添加されたゲ
スト・ホスト型液晶をポリマー中に分散させた高分子分
散型ゲスト・ホスト液晶層であることを特徴とする請求
項５記載の液晶表示装置。6. The second liquid crystal layer on the second substrate side,
It is a guest-host liquid crystal layer in which a dye is added to a nematic liquid crystal, or a polymer-dispersed guest-host liquid crystal layer in which a guest-host liquid crystal in which a dye is added to a nematic liquid crystal is dispersed in a polymer. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein
ィルタは、前記第１の基板と前記第１の画素電極との間
に設けられる第１の絶縁膜と前記第１の画素電極との間
の位置、前記第２の基板と前記第２の画素電極との間に
設けられる第２の絶縁膜と前記第２の画素電極との間の
位置、または前記第２の液晶層と前記コモン電極との間
に設けられる配向膜と前記コモン電極との間の位置のう
ちのいずれかの位置に配置されていることを特徴とする
請求項４乃至６のいずれかに記載の液晶表示装置。7. A color filter, further comprising: a color filter between a first insulating film provided between the first substrate and the first pixel electrode and the first pixel electrode. Position, a position between a second insulating film provided between the second substrate and the second pixel electrode and the second pixel electrode, or a position between the second liquid crystal layer and the common electrode 7. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the liquid crystal display device is disposed at any one of positions between an alignment film provided between the common electrode and the common electrode.
ィルタは、前記絶縁膜と前記第１のコモン電極との間の
位置、前記第２の液晶層と前記第２のコモン電極との間
に形成された第１の配向膜と前記第２のコモン電極との
間の位置、または、前記画素電極と前記第２の液晶層と
の間に設けられる第２の配向膜と前記画素電極との位置
のうちのいずれかの位置に配置されていることを特徴と
する請求項１乃至３のいずれかに記載の液晶表示装置。8. A color filter, further comprising a color filter disposed between the insulating film and the first common electrode, and between the second liquid crystal layer and the second common electrode. A position between the formed first alignment film and the second common electrode, or a second alignment film provided between the pixel electrode and the second liquid crystal layer and the pixel electrode. 4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is arranged at any one of the positions.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25287196A JPH1096941A (en) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | Liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25287196A JPH1096941A (en) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | Liquid crystal display device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1096941A true JPH1096941A (en) | 1998-04-14 |
Family
ID=17243333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25287196A Pending JPH1096941A (en) | 1996-09-25 | 1996-09-25 | Liquid crystal display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1096941A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010131784A1 (en) * | 2009-05-11 | 2010-11-18 | Jhiyeon Jeanne Oh | Reflection type display and manufacturing method thereof |
-
1996
- 1996-09-25 JP JP25287196A patent/JPH1096941A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2010131784A1 (en) * | 2009-05-11 | 2010-11-18 | Jhiyeon Jeanne Oh | Reflection type display and manufacturing method thereof |
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