JPH1094794A - 有機性排水の嫌気性処理装置 - Google Patents
有機性排水の嫌気性処理装置Info
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- JPH1094794A JPH1094794A JP24992096A JP24992096A JPH1094794A JP H1094794 A JPH1094794 A JP H1094794A JP 24992096 A JP24992096 A JP 24992096A JP 24992096 A JP24992096 A JP 24992096A JP H1094794 A JPH1094794 A JP H1094794A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理すべき有機性排水（原水）のＣＯＤcr負
荷量が高く、嫌気性ガスの発生量が多くても、それには
関係なく、汚泥が混入しない処理水を採水できると共
に、沈殿処理した汚泥を反応部に強制的に返送し、原水
中の有機物を完全に生物処理する。 【解決手段】 底部に嫌気性汚泥層２２と、該汚泥層中
に有機性排水を上向流で供給する給水管２３とを有する
反応部２１を備えた処理槽１０の内部の、上記反応部の
上方に、上端部が槽内の水面上に突出した有底の沈殿部
２４を配置し、この沈殿部の外には、上端部が槽内の水
面上に突出した仕切壁２８を沈殿部沿いに間隔を保って
配置し、上記間隔を反応部から上昇する処理水の一部が
流入する上昇水路２９にし、この上昇水路と沈殿部の内
部を連通すると共に、前記上昇水路の下端の下方に、該
上昇水路中に嫌気性ガスが進入するのを防ぐじゃま板３
２を設け、且つ沈殿部の底２４´と反応部との間には沈
殿部の底に沈降した汚泥を反応部に返送する返送管３１
を設け、沈殿部内の上部から処理水を槽外に取出す。
荷量が高く、嫌気性ガスの発生量が多くても、それには
関係なく、汚泥が混入しない処理水を採水できると共
に、沈殿処理した汚泥を反応部に強制的に返送し、原水
中の有機物を完全に生物処理する。 【解決手段】 底部に嫌気性汚泥層２２と、該汚泥層中
に有機性排水を上向流で供給する給水管２３とを有する
反応部２１を備えた処理槽１０の内部の、上記反応部の
上方に、上端部が槽内の水面上に突出した有底の沈殿部
２４を配置し、この沈殿部の外には、上端部が槽内の水
面上に突出した仕切壁２８を沈殿部沿いに間隔を保って
配置し、上記間隔を反応部から上昇する処理水の一部が
流入する上昇水路２９にし、この上昇水路と沈殿部の内
部を連通すると共に、前記上昇水路の下端の下方に、該
上昇水路中に嫌気性ガスが進入するのを防ぐじゃま板３
２を設け、且つ沈殿部の底２４´と反応部との間には沈
殿部の底に沈降した汚泥を反応部に返送する返送管３１
を設け、沈殿部内の上部から処理水を槽外に取出す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は有機性排水中の有
機物を、沈積層を構成する嫌気性微生物からなる自己造
粒汚泥（グラニュール）で最終的にメタンと二酸化炭素
を主成分とする嫌気性ガスに分解して有機物を除去し、
有機物の分解が済んだ処理水を、発生した嫌気性ガス、
及びグラニュールから分離して取出すＵＡＳＢ式（上向
流スラッジブランケット式）嫌気性処理装置に関する。
機物を、沈積層を構成する嫌気性微生物からなる自己造
粒汚泥（グラニュール）で最終的にメタンと二酸化炭素
を主成分とする嫌気性ガスに分解して有機物を除去し、
有機物の分解が済んだ処理水を、発生した嫌気性ガス、
及びグラニュールから分離して取出すＵＡＳＢ式（上向
流スラッジブランケット式）嫌気性処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４に示すように、頂部にガス抜き管１
１を有する有蓋の処理槽１０と、上端部が槽内の水面上
に突出し、水面下で傾斜して下端が槽内の高さの中程に
位置する傾斜分離板１２と、この傾斜分離板により槽内
に隔離して設けられた汚泥沈殿室１３、及び反応室１４
と、反応室の槽底部上に形成される嫌気性汚泥層１５
と、該嫌気性汚泥層中に有機性排水を供給する給水管１
６と、前記汚泥沈殿室の上部に、傾斜分離板に接して設
けられた処理水の溢流トラフ１７と、前記反応室の内部
で、汚泥沈殿室の下部に傾斜して設けられたガス分離板
１８とを備えた有機性排水の嫌気性処理装置は従来から
公知である。処理槽１０の平面形状は円筒形でも、角筒
形でもよいが、円筒形の場合は傾斜分離板１２は直径が
下向きに小さくなった円錐筒であり、ガス分離板１８は
陣笠形である。尚、傾斜分離板の円錐板は上半部１２ａ
と、上部が上半部の下部よりも直径が少し大きい下半部
１２ｂとからなり、上半部の下部と下半部の上部は内外
に同心状に嵌合し、その間に陣笠状のガス分離板の周面
に向う円錐形の通路１２´を形成している。このような
構成により、汚泥沈殿室１３の下部開口部は、流路を残
してガス分離板１８によって下方から覆われた状態とな
っている。
１を有する有蓋の処理槽１０と、上端部が槽内の水面上
に突出し、水面下で傾斜して下端が槽内の高さの中程に
位置する傾斜分離板１２と、この傾斜分離板により槽内
に隔離して設けられた汚泥沈殿室１３、及び反応室１４
と、反応室の槽底部上に形成される嫌気性汚泥層１５
と、該嫌気性汚泥層中に有機性排水を供給する給水管１
６と、前記汚泥沈殿室の上部に、傾斜分離板に接して設
けられた処理水の溢流トラフ１７と、前記反応室の内部
で、汚泥沈殿室の下部に傾斜して設けられたガス分離板
１８とを備えた有機性排水の嫌気性処理装置は従来から
公知である。処理槽１０の平面形状は円筒形でも、角筒
形でもよいが、円筒形の場合は傾斜分離板１２は直径が
下向きに小さくなった円錐筒であり、ガス分離板１８は
陣笠形である。尚、傾斜分離板の円錐板は上半部１２ａ
と、上部が上半部の下部よりも直径が少し大きい下半部
１２ｂとからなり、上半部の下部と下半部の上部は内外
に同心状に嵌合し、その間に陣笠状のガス分離板の周面
に向う円錐形の通路１２´を形成している。このような
構成により、汚泥沈殿室１３の下部開口部は、流路を残
してガス分離板１８によって下方から覆われた状態とな
っている。
【０００３】給水管１６から処理槽内に供給された原水
（有機性排水）は、嫌気性汚泥層中を上昇する際に、含
有する有機物を該汚泥層を構成するグラニュールにより
分解されて処理水となり、処理水は分解により生成した
嫌気性ガスの上昇に随伴して一部のグラニュールを伴っ
て反応室１４内を上向流する。そして、一部の処理水は
ガス分離板１８の回りから、汚泥沈殿室１３内に下端の
入口から入って室内を上昇する上昇流Ａになる。汚泥沈
殿室の下端の入口はガス分離板１８で遮られ、グラニュ
ールを伴った処理水が直接、汚泥分離室に上向流しない
ので、ガスは分離され、汚泥沈殿室に流入した処理水の
上昇流Ａに含まれたグラニュールは室内で分離し、グラ
ニュールは汚泥沈殿室に流入する処理水に抗して沈殿室
の下端の入口からガス分離板上に落下し、ガス分離板の
回りから嫌気性汚泥層１５上に沈下する。従って、グラ
ニュールを分離した処理水は溢流トラフ１７に溢入し、
排出管１９から取出される。又、発生した嫌気性ガスの
一部はガス分離板１８の下に集まり、ガス分離板の回り
や、処理槽が角筒状の場合は山形断面のガス分離板の両
端から沈殿室の外の液面に浮上し、ガス抜き管１１から
放出される。
（有機性排水）は、嫌気性汚泥層中を上昇する際に、含
有する有機物を該汚泥層を構成するグラニュールにより
分解されて処理水となり、処理水は分解により生成した
嫌気性ガスの上昇に随伴して一部のグラニュールを伴っ
て反応室１４内を上向流する。そして、一部の処理水は
ガス分離板１８の回りから、汚泥沈殿室１３内に下端の
入口から入って室内を上昇する上昇流Ａになる。汚泥沈
殿室の下端の入口はガス分離板１８で遮られ、グラニュ
ールを伴った処理水が直接、汚泥分離室に上向流しない
ので、ガスは分離され、汚泥沈殿室に流入した処理水の
上昇流Ａに含まれたグラニュールは室内で分離し、グラ
ニュールは汚泥沈殿室に流入する処理水に抗して沈殿室
の下端の入口からガス分離板上に落下し、ガス分離板の
回りから嫌気性汚泥層１５上に沈下する。従って、グラ
ニュールを分離した処理水は溢流トラフ１７に溢入し、
排出管１９から取出される。又、発生した嫌気性ガスの
一部はガス分離板１８の下に集まり、ガス分離板の回り
や、処理槽が角筒状の場合は山形断面のガス分離板の両
端から沈殿室の外の液面に浮上し、ガス抜き管１１から
放出される。
【０００４】汚泥沈殿室に流入しなかったグラニュール
を含んだ残りの処理水は嫌気性ガスに随伴して傾斜分離
板１２の回りの反応室の上部に上昇し、嫌気性ガスは反
応室の液面に浮上し、ガス抜き管１１から放出される。
嫌気性ガスに随伴して上昇する処理水の上昇速度は、原
水中のＣＯＤcr負荷量、つまり生成される嫌気性ガスの
量によって定まり、ＣＯＤcr負荷量が高い程、嫌気性ガ
スの生成量は大になるので処理水の上昇速度は早まる。
こうして、反応室内で嫌気性ガスを放出した処理水は、
嫌気性ガスによる上昇流Ｂの反転流Ｃとして反応室内の
傾斜分離板１２の外側に沿って傾斜分離板の下方の円錐
形の通路１２´中を下降し、処理水に含まれるグラニュ
ールは嫌気性汚泥層１５上に沈下する。
を含んだ残りの処理水は嫌気性ガスに随伴して傾斜分離
板１２の回りの反応室の上部に上昇し、嫌気性ガスは反
応室の液面に浮上し、ガス抜き管１１から放出される。
嫌気性ガスに随伴して上昇する処理水の上昇速度は、原
水中のＣＯＤcr負荷量、つまり生成される嫌気性ガスの
量によって定まり、ＣＯＤcr負荷量が高い程、嫌気性ガ
スの生成量は大になるので処理水の上昇速度は早まる。
こうして、反応室内で嫌気性ガスを放出した処理水は、
嫌気性ガスによる上昇流Ｂの反転流Ｃとして反応室内の
傾斜分離板１２の外側に沿って傾斜分離板の下方の円錐
形の通路１２´中を下降し、処理水に含まれるグラニュ
ールは嫌気性汚泥層１５上に沈下する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来装置はＣＯＤ
cr負荷量が１５ｋｇ／ＣＯＤ／ｍ3 ／日程度までの有機
性排水であれば、充分に処理を行うことができるが、Ｃ
ＯＤ負荷量が２０ｋｇ／ＣＯＤ／ｍ3 ／日、或いはそれ
以上に高い有機性排水の場合は、生成する嫌気ガスの量
が多いので反応室内の上昇流Ｂと、その後の傾斜分離板
の外側に沿って通路１２´中を下降する反転流Ｃは高速
になり、ガス分離板１８上に激しく衝突し、一部が反射
的な上向きの衝突流Ｄになって沈殿室１３の内部に浸入
し、沈殿室でのグラニュールの沈殿を妨げたり、沈殿す
べきグラニュールが溢流トラフ１７に流入し、排出管１
９から取出される処理水にグラニュールが混ざることが
ある。つまり、反応室内の傾斜分離板１２に沿って下降
する反転流Ｃが、嫌気性ガスによって反応室内を上昇す
る上昇流Ｂの反転流を利用したものであるため、ＣＯＤ
cr負荷量の上昇に伴う上昇流Ｂの流速の上昇が反転流Ｃ
の流速の上昇につながり、結果として沈殿室１３内に反
射的に上昇して室内を攪拌する垂直上向きの衝突流Ｄが
無視できない悪影響を及ぼし、前述したように沈殿室で
のグラニュールの沈殿を妨げたり、グラニュールが排出
管１９に流出するのである。又、汚泥沈殿室内で分離し
たグラニュールは該室に流入して上昇流Ａとなる処理水
の流れに抗してガス分離板上に落下しなければならない
ので汚泥沈殿室にグラニュールが滞流し、嫌気性汚泥層
１５の汚泥量が不足することがある。
cr負荷量が１５ｋｇ／ＣＯＤ／ｍ3 ／日程度までの有機
性排水であれば、充分に処理を行うことができるが、Ｃ
ＯＤ負荷量が２０ｋｇ／ＣＯＤ／ｍ3 ／日、或いはそれ
以上に高い有機性排水の場合は、生成する嫌気ガスの量
が多いので反応室内の上昇流Ｂと、その後の傾斜分離板
の外側に沿って通路１２´中を下降する反転流Ｃは高速
になり、ガス分離板１８上に激しく衝突し、一部が反射
的な上向きの衝突流Ｄになって沈殿室１３の内部に浸入
し、沈殿室でのグラニュールの沈殿を妨げたり、沈殿す
べきグラニュールが溢流トラフ１７に流入し、排出管１
９から取出される処理水にグラニュールが混ざることが
ある。つまり、反応室内の傾斜分離板１２に沿って下降
する反転流Ｃが、嫌気性ガスによって反応室内を上昇す
る上昇流Ｂの反転流を利用したものであるため、ＣＯＤ
cr負荷量の上昇に伴う上昇流Ｂの流速の上昇が反転流Ｃ
の流速の上昇につながり、結果として沈殿室１３内に反
射的に上昇して室内を攪拌する垂直上向きの衝突流Ｄが
無視できない悪影響を及ぼし、前述したように沈殿室で
のグラニュールの沈殿を妨げたり、グラニュールが排出
管１９に流出するのである。又、汚泥沈殿室内で分離し
たグラニュールは該室に流入して上昇流Ａとなる処理水
の流れに抗してガス分離板上に落下しなければならない
ので汚泥沈殿室にグラニュールが滞流し、嫌気性汚泥層
１５の汚泥量が不足することがある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこで本発明は、原水の
ＣＯＤcr負荷量が高くても、嫌気性ガスによる処理水の
上昇流の影響を受けることなく処理水中に含まれている
グラニュールを確実に沈殿分離し、分離したグラニュー
ルを強制的に嫌気性汚泥層に返送することにより上記し
た従来装置の問題点を完全に解消したもので、有機性排
水の嫌気性処理装置として、底部に嫌気性汚泥層と、該
汚泥層中に有機性排水を上向流で供給する給水管とを有
する反応部を備えた処理槽の内部の、上記反応部の上方
に、上端部が槽内の水面上に突出した有底の沈殿部を配
置し、この沈殿部内の上部に処理水を処理槽外に取出す
ための溢流トラフを設け、該沈殿部の外には、上端部が
槽内の水面上に突出した仕切壁を沈殿部沿いに間隔を保
って配置し、沈殿部と仕切壁との間の上記間隔を反応部
から上昇する処理水の一部が流入する上昇水路にし、こ
の上昇水路と沈殿部の内部を連通すると共に、前記上昇
水路の下端の下方に、該上昇水路中に嫌気性ガスが進入
するのを防ぐじゃま板を設け、且つ沈殿部の底と反応部
との間には沈殿部の底上に沈降した汚泥を反応部に返送
する返送管を設けたことを特徴とする。
ＣＯＤcr負荷量が高くても、嫌気性ガスによる処理水の
上昇流の影響を受けることなく処理水中に含まれている
グラニュールを確実に沈殿分離し、分離したグラニュー
ルを強制的に嫌気性汚泥層に返送することにより上記し
た従来装置の問題点を完全に解消したもので、有機性排
水の嫌気性処理装置として、底部に嫌気性汚泥層と、該
汚泥層中に有機性排水を上向流で供給する給水管とを有
する反応部を備えた処理槽の内部の、上記反応部の上方
に、上端部が槽内の水面上に突出した有底の沈殿部を配
置し、この沈殿部内の上部に処理水を処理槽外に取出す
ための溢流トラフを設け、該沈殿部の外には、上端部が
槽内の水面上に突出した仕切壁を沈殿部沿いに間隔を保
って配置し、沈殿部と仕切壁との間の上記間隔を反応部
から上昇する処理水の一部が流入する上昇水路にし、こ
の上昇水路と沈殿部の内部を連通すると共に、前記上昇
水路の下端の下方に、該上昇水路中に嫌気性ガスが進入
するのを防ぐじゃま板を設け、且つ沈殿部の底と反応部
との間には沈殿部の底上に沈降した汚泥を反応部に返送
する返送管を設けたことを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】前記沈殿部の内部に、上端部が槽
内の水面上に突出し、下端が沈殿部中に位置するフィー
ドウェルを立設し、前記上昇水路と、フィードウェルと
の間には上昇水路の水面から溢入する処理水をフィード
ウェルを介して沈殿部に供給する連絡水路を設け、又、
沈殿部内のフィードウェルの下端の下方にバッフルを設
けることが好ましい。
内の水面上に突出し、下端が沈殿部中に位置するフィー
ドウェルを立設し、前記上昇水路と、フィードウェルと
の間には上昇水路の水面から溢入する処理水をフィード
ウェルを介して沈殿部に供給する連絡水路を設け、又、
沈殿部内のフィードウェルの下端の下方にバッフルを設
けることが好ましい。
【０００８】
【実施例】図１，２の各実施例において、２０は頂部に
ガス抜き管２０´を有する有蓋の処理槽、２２は処理槽
の内部に形成されたグラニュールからなる嫌気性汚泥
層、２３は上記嫌気性汚泥層中に原水（有機性排水）を
供給して上向流させる給水管であり、嫌気性汚泥層を構
成するグラニュールは上向流する原水により処理槽の高
さの中程まで流動状態に展開する。原水の給水管２３
と、流動状態に展開する嫌気性汚泥層２２とにより処理
槽内の下半部に反応部２０が構成される。
ガス抜き管２０´を有する有蓋の処理槽、２２は処理槽
の内部に形成されたグラニュールからなる嫌気性汚泥
層、２３は上記嫌気性汚泥層中に原水（有機性排水）を
供給して上向流させる給水管であり、嫌気性汚泥層を構
成するグラニュールは上向流する原水により処理槽の高
さの中程まで流動状態に展開する。原水の給水管２３
と、流動状態に展開する嫌気性汚泥層２２とにより処理
槽内の下半部に反応部２０が構成される。
【０００９】処理槽の内部の上記反応部２１の上方に、
上端部が槽内の水面Ｗ上に突出した有底の沈殿部２４を
配置する。沈殿部２４の底２４´は、図示の実施例では
夫々断面Ｖ字形に閉じ、前記反応部２１の上に離れて位
置する。この沈殿部内の上部には沈殿部内の処理水が溢
入する溢流トラフ２５が設けてあり、溢流トラフに溢入
した処理水は排水管２６で槽外に取出される。
上端部が槽内の水面Ｗ上に突出した有底の沈殿部２４を
配置する。沈殿部２４の底２４´は、図示の実施例では
夫々断面Ｖ字形に閉じ、前記反応部２１の上に離れて位
置する。この沈殿部内の上部には沈殿部内の処理水が溢
入する溢流トラフ２５が設けてあり、溢流トラフに溢入
した処理水は排水管２６で槽外に取出される。
【００１０】上記沈殿部２４の内部には、上端が槽内の
水面上に突出したフィードウェル２７が立設してある。
フィードウェルの下端は沈殿部の高さの中程に位置す
る。このフィードウェルは円筒形でも、角筒形でもよ
い。このようにフィードウェル２７を設けると、沈殿部
内の上部の水流が攪乱されることがないので好ましい。
水面上に突出したフィードウェル２７が立設してある。
フィードウェルの下端は沈殿部の高さの中程に位置す
る。このフィードウェルは円筒形でも、角筒形でもよ
い。このようにフィードウェル２７を設けると、沈殿部
内の上部の水流が攪乱されることがないので好ましい。
【００１１】沈殿部２４の外には、上端部が槽内の水面
上に突出した仕切壁２８を沈殿部沿いに間隔を保って配
置し、沈殿部と仕切壁との間の上記間隔で、反応部２１
から上昇する処理水が流入する上昇水路２９を形成す
る。そして、この上昇水路２９と、前記フィードウェル
２７との間には上昇水路の水面から溢入する処理水をフ
ィードウェルの内部の水面下に導入し、フィードウェル
の下端から沈殿部の内部に供給する連絡水路３０を設け
る。
上に突出した仕切壁２８を沈殿部沿いに間隔を保って配
置し、沈殿部と仕切壁との間の上記間隔で、反応部２１
から上昇する処理水が流入する上昇水路２９を形成す
る。そして、この上昇水路２９と、前記フィードウェル
２７との間には上昇水路の水面から溢入する処理水をフ
ィードウェルの内部の水面下に導入し、フィードウェル
の下端から沈殿部の内部に供給する連絡水路３０を設け
る。
【００１２】図１〜３では好ましい実施例を示している
が、フィードウェル、連絡水路を省略し、上昇水路中の
水を沈殿部内に直接、導入するようにしてもよい。例え
ば、沈殿部を構成する壁に上昇水路と沈殿部の内部とを
連通する連絡開口を設け、上昇水路から沈殿部に水を直
接、供給してもよい。
が、フィードウェル、連絡水路を省略し、上昇水路中の
水を沈殿部内に直接、導入するようにしてもよい。例え
ば、沈殿部を構成する壁に上昇水路と沈殿部の内部とを
連通する連絡開口を設け、上昇水路から沈殿部に水を直
接、供給してもよい。
【００１３】沈殿部２４の底と、反応部２１との間には
沈殿部の底に沈降した汚泥を反応部に返送する返送管３
１を設ける。返送管３１にはポンプＰを接続し、ポンプ
を連続的、又は間欠的に運転し、沈殿部の底から汚泥を
反応部に供給する。
沈殿部の底に沈降した汚泥を反応部に返送する返送管３
１を設ける。返送管３１にはポンプＰを接続し、ポンプ
を連続的、又は間欠的に運転し、沈殿部の底から汚泥を
反応部に供給する。
【００１４】沈殿部の外面と、仕切壁の内面との間の間
隔に形成された上昇水路２９の下端の下方に、反応部２
１から浮上した嫌気性ガスが上昇水路に流入するのを防
止するじゃま板３２を配置する。沈殿部の底２４´が図
示のようにＶ形に閉じ、仕切壁２８の下端が沈殿部の下
半部のＶ形に上から短く沿って終る図１の実施例の場合
は、仕切壁２８の下端から下に少し離して沈殿部のＶ形
の下半部に対しほゞ直角のハ字形にじゃま板を沈殿部の
下半部に固定する。又、仕切壁２８の下端が、沈殿部の
Ｖ形に閉じた底の近くにまで沿って長く延びている図２
の実施例の場合は仕切壁２８の二つの下端から下に少し
離して山形断面のじゃま板を配置する。
隔に形成された上昇水路２９の下端の下方に、反応部２
１から浮上した嫌気性ガスが上昇水路に流入するのを防
止するじゃま板３２を配置する。沈殿部の底２４´が図
示のようにＶ形に閉じ、仕切壁２８の下端が沈殿部の下
半部のＶ形に上から短く沿って終る図１の実施例の場合
は、仕切壁２８の下端から下に少し離して沈殿部のＶ形
の下半部に対しほゞ直角のハ字形にじゃま板を沈殿部の
下半部に固定する。又、仕切壁２８の下端が、沈殿部の
Ｖ形に閉じた底の近くにまで沿って長く延びている図２
の実施例の場合は仕切壁２８の二つの下端から下に少し
離して山形断面のじゃま板を配置する。
【００１５】又、沈殿部２４の内部には、フィードウェ
ル２７の下端から下に少し離して山形断面のバッフル３
３を配置してもよい。
ル２７の下端から下に少し離して山形断面のバッフル３
３を配置してもよい。
【００１６】処理槽２０と、沈殿部２４の平面形状は円
形でも、角形でもよい。更に、処理槽の平面形状が角
形、沈殿部の平面形状が円形でもよいし、逆に処理槽の
平面形状が円形、沈殿部の平面形状が角形でもよい。図
３（Ａ）は処理槽、沈殿部がともに円形で、同心状に配
置された場合を示す。この場合は、沈殿部の上半部は円
筒形、その下半部と底２４´は尖端を下に向けた円錐形
になり、これに伴い仕切壁２８も沈殿部の上半部に沿う
部分は円筒形、その下半部と底２４´に沿う部分は下向
きに直径を減少した円錐形になり、図１のじゃま板３２
は逆に下向きに直径を拡大した円錐形であり、図２のじ
ゃま板は陣笠形になる。そして、溢流トラフ２５は円筒
形の沈殿部の上部内周に沿って設け、フィードウェル２
７は円筒形で、沈殿部の中心に立設し、フィードウェル
の下方には陣笠形のバッフル３３を同心状に配置する。
沈殿部、仕切壁、図２の陣笠形のじゃま板は、図示して
いないが放射状の支持体で処理槽に支持する。
形でも、角形でもよい。更に、処理槽の平面形状が角
形、沈殿部の平面形状が円形でもよいし、逆に処理槽の
平面形状が円形、沈殿部の平面形状が角形でもよい。図
３（Ａ）は処理槽、沈殿部がともに円形で、同心状に配
置された場合を示す。この場合は、沈殿部の上半部は円
筒形、その下半部と底２４´は尖端を下に向けた円錐形
になり、これに伴い仕切壁２８も沈殿部の上半部に沿う
部分は円筒形、その下半部と底２４´に沿う部分は下向
きに直径を減少した円錐形になり、図１のじゃま板３２
は逆に下向きに直径を拡大した円錐形であり、図２のじ
ゃま板は陣笠形になる。そして、溢流トラフ２５は円筒
形の沈殿部の上部内周に沿って設け、フィードウェル２
７は円筒形で、沈殿部の中心に立設し、フィードウェル
の下方には陣笠形のバッフル３３を同心状に配置する。
沈殿部、仕切壁、図２の陣笠形のじゃま板は、図示して
いないが放射状の支持体で処理槽に支持する。
【００１７】これに対して、図３（Ｂ）は処理槽の平面
形状を四角にした場合を示す。この場合は処理槽の相対
向した２つの側壁２０ａと２０ｂから内側に少し離して
下端がＶ字形に閉じたコーン形の沈殿部２４と、沈殿部
の両方の外側に沿う２枚の仕切壁２８，２８を固定す
る。沈殿部と、２枚の仕切壁２８，２８の側壁２０ａ，
２０ｂと対向する端部は端壁で塞ぐ。そして、沈殿部の
中央に立設するフィードウェル２７は両側壁２０ａと２
０ｂとの間に１つに限定されず、図示の如く２つなど、
複数設けることができる。又、溢流トラフ２５は、沈殿
部の直立した２つの上半部の内側上部に個々に設けても
よいし、この両方の溢流トラフを、沈殿部の両端を塞ぐ
端壁に沿って設けたトラフ２５´，２５´で図示の如く
接続して回廊状にしてもよい。図１のじゃま板３２は、
仕切壁２８，２８の下端から下に離して沈殿部の左右の
下半部にハ字形に固定する。又、図２のじゃま板３２
は、山形断面板を沈殿部の底から下に少し離して配置す
る。そして、フィードウェルの下方に配置するバッフル
３３は、山形断面板の両端を沈殿部の両端を塞ぐ端壁に
固定して設置する。沈殿部、及び仕切壁の両方の端壁と
図２の山形断面板のバッフル３３は、図示していないが
処理槽の両方の側壁２０ａ，２０ｂに支持体で支持し、
側壁２０ａ，２０ｂとの間に間隔を保つ。
形状を四角にした場合を示す。この場合は処理槽の相対
向した２つの側壁２０ａと２０ｂから内側に少し離して
下端がＶ字形に閉じたコーン形の沈殿部２４と、沈殿部
の両方の外側に沿う２枚の仕切壁２８，２８を固定す
る。沈殿部と、２枚の仕切壁２８，２８の側壁２０ａ，
２０ｂと対向する端部は端壁で塞ぐ。そして、沈殿部の
中央に立設するフィードウェル２７は両側壁２０ａと２
０ｂとの間に１つに限定されず、図示の如く２つなど、
複数設けることができる。又、溢流トラフ２５は、沈殿
部の直立した２つの上半部の内側上部に個々に設けても
よいし、この両方の溢流トラフを、沈殿部の両端を塞ぐ
端壁に沿って設けたトラフ２５´，２５´で図示の如く
接続して回廊状にしてもよい。図１のじゃま板３２は、
仕切壁２８，２８の下端から下に離して沈殿部の左右の
下半部にハ字形に固定する。又、図２のじゃま板３２
は、山形断面板を沈殿部の底から下に少し離して配置す
る。そして、フィードウェルの下方に配置するバッフル
３３は、山形断面板の両端を沈殿部の両端を塞ぐ端壁に
固定して設置する。沈殿部、及び仕切壁の両方の端壁と
図２の山形断面板のバッフル３３は、図示していないが
処理槽の両方の側壁２０ａ，２０ｂに支持体で支持し、
側壁２０ａ，２０ｂとの間に間隔を保つ。
【００１８】給水管２３から処理槽内に供給されて反応
部２１中を上向流し、嫌気性汚泥層２２を流動状態に展
開した原水（有機性排水）は、流動状態に展開する汚泥
（グラニュール）と接触して含有する有機物を分解され
て処理水となる。そして、処理水は分解により生成して
浮上する嫌気性ガスに随伴し、一部のグラニュールを伴
って反応部２１から更に上向流する。
部２１中を上向流し、嫌気性汚泥層２２を流動状態に展
開した原水（有機性排水）は、流動状態に展開する汚泥
（グラニュール）と接触して含有する有機物を分解され
て処理水となる。そして、処理水は分解により生成して
浮上する嫌気性ガスに随伴し、一部のグラニュールを伴
って反応部２１から更に上向流する。
【００１９】上向流する処理水の一部は上昇水路２９に
下から流入して水路中を上昇し、又、処理水の残部は処
理槽仕切壁２８の外を上昇し、この処理水に含まれてい
る嫌気性ガスの気泡は処理槽の水面に浮上し、ガス抜き
管２０´から外に放出される。上昇水路２９に流入して
上昇する一部の処理水中に嫌気性ガスが含まれていて
も、嫌気性ガスは上昇水路の液面に浮上してガス抜き管
２０´から放出されるので支障はないが、上昇水路の下
端の下方に離してじゃま板３２を設けておくと、上昇水
路に流入する処理水は、主にじゃま板に向かって上昇
し、じゃま板の縁を迂回して来るものであるため、この
処理水に含まれている嫌気性ガスはじゃま板の下に蓄積
し、上昇水路２９に進入するのを防止でき、ガスと共に
巻き上げられたグラニュールが沈殿部に流入するのを大
部分、防止できる。
下から流入して水路中を上昇し、又、処理水の残部は処
理槽仕切壁２８の外を上昇し、この処理水に含まれてい
る嫌気性ガスの気泡は処理槽の水面に浮上し、ガス抜き
管２０´から外に放出される。上昇水路２９に流入して
上昇する一部の処理水中に嫌気性ガスが含まれていて
も、嫌気性ガスは上昇水路の液面に浮上してガス抜き管
２０´から放出されるので支障はないが、上昇水路の下
端の下方に離してじゃま板３２を設けておくと、上昇水
路に流入する処理水は、主にじゃま板に向かって上昇
し、じゃま板の縁を迂回して来るものであるため、この
処理水に含まれている嫌気性ガスはじゃま板の下に蓄積
し、上昇水路２９に進入するのを防止でき、ガスと共に
巻き上げられたグラニュールが沈殿部に流入するのを大
部分、防止できる。
【００２０】上昇水路２９に流入した処理水は、水面上
に開口した連絡水路３０の上端に溢入し、該水路内を流
れてフィードウェル２７の内部に流入し、フィードウェ
ルの下端から沈殿部２４の高さの中程に供給される。沈
殿部は上端部が処理槽内の水面上に突出し、底は閉じて
いるため、仕切壁２８の外方を上向流する処理水や、浮
上する嫌気性ガスによる水流の影響を受けることがない
ので、沈殿部に供給された処理水に含まれているグラニ
ュールや、その前駆体（小粒径のグラニュール）は、そ
れ自身の沈降性に従って沈殿部の底に自由沈降し、グラ
ニュールを分離した上澄み処理水は溢流トラフ２５に溢
入し、排水管２６から槽外に流出する。沈殿部内での処
理水の上昇流速は３〜３０ｍ／時程度が良い。
に開口した連絡水路３０の上端に溢入し、該水路内を流
れてフィードウェル２７の内部に流入し、フィードウェ
ルの下端から沈殿部２４の高さの中程に供給される。沈
殿部は上端部が処理槽内の水面上に突出し、底は閉じて
いるため、仕切壁２８の外方を上向流する処理水や、浮
上する嫌気性ガスによる水流の影響を受けることがない
ので、沈殿部に供給された処理水に含まれているグラニ
ュールや、その前駆体（小粒径のグラニュール）は、そ
れ自身の沈降性に従って沈殿部の底に自由沈降し、グラ
ニュールを分離した上澄み処理水は溢流トラフ２５に溢
入し、排水管２６から槽外に流出する。沈殿部内での処
理水の上昇流速は３〜３０ｍ／時程度が良い。
【００２１】フィードウェル２７の下方にバッフル３３
を設けておくと、フィードウェルの下端から沈殿部内に
下向きに供給される処理水はバッフルによって向きを斜
め下向きに変え、沈殿部の下端上に沈積したグラニュー
ルを舞い上げたり、沈降しようとするグラニュールを乱
したりすることがないので好ましい。
を設けておくと、フィードウェルの下端から沈殿部内に
下向きに供給される処理水はバッフルによって向きを斜
め下向きに変え、沈殿部の下端上に沈積したグラニュー
ルを舞い上げたり、沈降しようとするグラニュールを乱
したりすることがないので好ましい。
【００２２】そして、沈殿部２４の底に沈積したグラニ
ュールは、ポンプＰの運転により連続的、又は間欠的に
返送管３１で反応部２１に戻される。返送管３１で反応
部に返送されるグラニュールの量は、排水管２６で取出
される上澄み処理水の水量の約１〜５％程度が良い。
ュールは、ポンプＰの運転により連続的、又は間欠的に
返送管３１で反応部２１に戻される。返送管３１で反応
部に返送されるグラニュールの量は、排水管２６で取出
される上澄み処理水の水量の約１〜５％程度が良い。
【００２３】
【発明の効果】以上で明らかなように、本発明では、沈
殿部は下端が閉じ、沈殿部の内部は仕切壁の外を上昇す
る処理水や、浮上する嫌気性ガスの水流により影響を全
く受けないため処理水中に含まれるグラニュールや、そ
の前駆体を自身の沈降性で自然沈降させ、処理水を沈殿
部の溢流トラフから槽外に取出すことができ、処理水中
に汚泥が流出するのを防止できる。従って有機性排水の
ＣＯＤcr負荷量が高く、嫌気性ガスの発生量が多くて
も、それ等に関係なく、汚泥が混ざらない上澄み処理水
を採水することができる。そして、沈殿部上に沈降した
汚泥は返送管で強制的に反応部に返送するため、反応部
での嫌気性汚泥の量の不足を防止し、原水中の有機物を
完全に生物処理することができる。
殿部は下端が閉じ、沈殿部の内部は仕切壁の外を上昇す
る処理水や、浮上する嫌気性ガスの水流により影響を全
く受けないため処理水中に含まれるグラニュールや、そ
の前駆体を自身の沈降性で自然沈降させ、処理水を沈殿
部の溢流トラフから槽外に取出すことができ、処理水中
に汚泥が流出するのを防止できる。従って有機性排水の
ＣＯＤcr負荷量が高く、嫌気性ガスの発生量が多くて
も、それ等に関係なく、汚泥が混ざらない上澄み処理水
を採水することができる。そして、沈殿部上に沈降した
汚泥は返送管で強制的に反応部に返送するため、反応部
での嫌気性汚泥の量の不足を防止し、原水中の有機物を
完全に生物処理することができる。
【図１】本発明の嫌気性処理装置の第１実施例の概略縦
断面図である。
断面図である。
【図２】本発明の嫌気性処理装置の第２実施例の概略縦
断面図である。
断面図である。
【図３】（Ａ）は図１，図２のＡ−Ｂ線での一例の横断
平面図であり、（Ｂ）は本発明の嫌気性処理装置の他の
一例の概略縦断面図である。
平面図であり、（Ｂ）は本発明の嫌気性処理装置の他の
一例の概略縦断面図である。
【図４】従来の嫌気性処理装置の概略縦断面図である。
２０ 処理槽 ２１ 反応部 ２２ 反応部の嫌気性汚泥層 ２３ 反応部の給水管 ２４ 沈殿部 ２４´ 沈殿部の底 ２５ 反応部の溢流トラフ ２６ 溢流トラフからの排水管 ２７ フィードウェル ２８ 仕切壁 ２９ 上昇水路 ３０ 連絡水路 ３１ 返送管 ３２ じゃま板 ３３ バッフル
Claims (2)
- 【請求項１】 底部に嫌気性汚泥層と、該汚泥層中に有
機性排水を上向流で供給する給水管とを有する反応部を
備えた処理槽の内部の、上記反応部の上方に、上端部が
槽内の水面上に突出した有底の沈殿部を配置し、この沈
殿部内の上部に処理水を処理槽外に取出すための溢流ト
ラフを設け、該沈殿部の外には、上端部が槽内の水面上
に突出した仕切壁を沈殿部沿いに間隔を保って配置し、
沈殿部と仕切壁との間の上記間隔を反応部から上昇する
処理水の一部が流入する上昇水路にし、この上昇水路と
沈殿部の内部を連通すると共に、前記上昇水路の下端の
下方に、該上昇水路中に嫌気性ガスが進入するのを防ぐ
じゃま板を設け、且つ沈殿部の底と反応部との間には沈
殿部の底上に沈降した汚泥を反応部に返送する返送管を
設けたことを特徴とする有機性排水の嫌気性処理装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の有機性排水の嫌気性処
理装置において、前記沈殿部の内部に、上端部が槽内の
水面上に突出し、下端が沈殿部中に位置するフィードウ
ェルを立設し、前記上昇水路と、フィードウェルとの間
には上昇水路の水面から溢入する処理水をフィードウェ
ルを介して沈殿部に供給する連絡水路を設け、沈殿部内
のフィードウェルの下端の下方にバッフルを設けたこと
を特徴とする有機性排水の嫌気性処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24992096A JPH1094794A (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 有機性排水の嫌気性処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24992096A JPH1094794A (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 有機性排水の嫌気性処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1094794A true JPH1094794A (ja) | 1998-04-14 |
Family
ID=17200160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24992096A Pending JPH1094794A (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 有機性排水の嫌気性処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1094794A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007144401A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-06-14 | Kurita Water Ind Ltd | 生物反応器 |
| JP2012035194A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Kobelco Eco-Solutions Co Ltd | 嫌気処理装置及び嫌気処理方法 |
| WO2012049909A1 (ja) * | 2010-10-15 | 2012-04-19 | 株式会社明電舎 | 廃水処理装置 |
| CN111072141A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-28 | 河南省力华全环保科技有限公司 | 一种环形活塞布水换热装置 |
| WO2021059554A1 (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-01 | 株式会社フジタ | バイオガス発生装置 |
-
1996
- 1996-09-20 JP JP24992096A patent/JPH1094794A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007144401A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-06-14 | Kurita Water Ind Ltd | 生物反応器 |
| JP4720709B2 (ja) * | 2005-11-07 | 2011-07-13 | 栗田工業株式会社 | 生物反応器 |
| JP2012035194A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Kobelco Eco-Solutions Co Ltd | 嫌気処理装置及び嫌気処理方法 |
| WO2012049909A1 (ja) * | 2010-10-15 | 2012-04-19 | 株式会社明電舎 | 廃水処理装置 |
| JP2012086109A (ja) * | 2010-10-15 | 2012-05-10 | Meidensha Corp | 廃水処理装置 |
| WO2021059554A1 (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-01 | 株式会社フジタ | バイオガス発生装置 |
| CN111072141A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-28 | 河南省力华全环保科技有限公司 | 一种环形活塞布水换热装置 |
| CN111072141B (zh) * | 2019-12-31 | 2024-04-12 | 河南省力华全环保科技有限公司 | 一种环形活塞布水换热装置 |
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