JPH1083517A - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

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JPH1083517A
JPH1083517A JP8239385A JP23938596A JPH1083517A JP H1083517 A JPH1083517 A JP H1083517A JP 8239385 A JP8239385 A JP 8239385A JP 23938596 A JP23938596 A JP 23938596A JP H1083517 A JPH1083517 A JP H1083517A
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core layer
lower core
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thin
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JP8239385A
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Kiyoshi Sato
清 佐藤
Yoshiaki Shimizu
善明 清水
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Alps Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄膜のインダクティブヘッドでは、下部コア
層がメッキにより形成されるため、その両側部の段差が
上方の膜に影響を与え、また下部コア層の軟磁性材料の
選択度が限られていた。 【解決手段】 下部コア層７は、上部コア層と対向する
部分ではほぼ一定の膜厚で形成され、側端部に向かうに
したがって徐々に膜厚が薄くなっているように形成され
ている。このため、下部コア層７上に形成される非磁性
材料層８の膜厚は均一になり、その上に形成されるコイ
ル層が安定する。またスパッタにより下部コア層７を形
成しているため、軟磁性特性の優れた材料を使用でき、
高い周波数での記録が可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば浮上式磁気
ヘッドなどに使用されるインダクティブ型の薄膜磁気ヘ
ッドに係り、特に、下部コア層と、下部コア層上に絶縁
層を介して形成されるコイル層を安定して形成でき、さ
らに下部コア層をスパッタ法などで形成できるようにし
て軟磁性材料の選択度を向上できるようにした薄膜磁気
ヘッド及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図５は、従来の薄膜磁気ヘッドを記録媒
体の対向側から示した拡大断面図である。磁気抵抗効果
素子層１は、三層で構成されており、下から軟磁性層
（ＳＡＬ層）、非磁性層（ＳＨＵＮＴ層）、磁気抵抗効
果層（ＭＲ層）の順に積層されている。通常、磁気抵抗
効果層（ＭＲ層）はＦｅ―Ｎｉ系合金（パーマロイ）の
層、非磁性層（ＳＨＵＮＴ層）はタンタル（Ｔａ）の層
であり、また軟磁性層（ＳＡＬ層）は、Ｎｉ―Ｆｅ―Ｎ
ｂ系合金により形成されている。
【０００３】図に示すように、センダストやパーマロイ
などにより形成された下部シールド層２上に、アルミナ
（Ａｌ2Ｏ3）などの非磁性材料による下部ギャップ層３
が形成され、その上に前記磁気抵抗効果素子層１が成膜
されている。磁気抵抗効果素子層１の両側には、縦バイ
アス層としてハードバイアス層４が形成されている。ま
た、前記ハードバイアス層４上にＣｕ（銅）、Ｗ（タン
グステン）などの電気抵抗の小さい非磁性導電性材料の
主電極５が形成されている。さらにその上に、アルミナ
（Ａｌ2Ｏ3）などの非磁性材料による上部ギャップ層６
が形成され、前記上部ギャップ層６上に下地層（図示さ
れていない）が形成される。前記下地層はＦｅ―Ｎｉ系
合金（パーマロイ）などの磁性材料をスパッタすること
によって形成される。そして、前記下地層上に下部コア
層１３がパーマロイなどによりメッキ形成されている。
【０００４】さらに、下部コア層１３上には、アルミナ
などによる非磁性材料層１４が形成され、その上に有機
絶縁層などを介して平面的に螺旋状となるようにパター
ン形成されたコイル層９が設けられる。また、前記下部
コア層１３と対向する位置において非磁性材料層１４上
に上部コア層１０が形成されている。この上部コア層１
０は、前記下部コア層１３と同様にパーマロイがメッキ
形成されたものである。そして、前記上部コア層１０上
にはアルミナなどの保護膜１１が設けられている。
【０００５】前記下部コア層１３から保護膜１１までが
信号記録用であり、インダクティブヘッドが構成されて
いる。このインダクティブヘッドでは、コイル層９に記
録電流が与えられて、コイル層９から上部コア層１０及
び下部コア層１３に記録磁界が与えられる。そして、磁
気ギャップＧの部分における、下部コア層１３と上部コ
ア層１０との間での洩れ磁界により、ハードディスクな
どの記録媒体に磁気信号が記録される。なお、図５に示
すように、磁気抵抗効果素子層１による読み取り部と前
記インダクティブヘッドとが積層された薄膜磁気ヘッド
では、インダクティブヘッドを構成する下部コア層１３
が、磁気抵抗効果素子層１を有する読み取り部における
上部シールド層として兼用されている。上記インダクテ
ィブヘッドにおいて、記録媒体への書き込み密度を高密
度化するためには、前記磁気ギャップＧのギャップ長を
短くすることが必要であり、そのために非磁性材料層１
４ができるだけ薄く形成される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図５に示す従
来例では、前記下部コア層１３がパーマロイなどのメッ
キで形成されていたために、以下のような問題点があっ
た。 （イ）下部コア層１３の膜厚が厚く、さらに下部コア層
１３の断面の形状がほぼ長方形（矩形状）であるため、
前記下部コア層１３の両側端部には段差部Ａが形成され
ている。このため、前記下部コア層１３上に形成される
前記非磁性材料層１４の膜厚を均一に形成することが難
しくなり、下部コア層１３の側端部の前記段差部Ａ付近
では非磁性材料層１４の膜厚が極端に薄くなり、下部コ
ア層１３とコイル層９間で絶縁不良を起こしやすい。特
に記録密度を高密度化するために下部コア層１３と上部
コア層１０との間隔を狭くしてギャップ長を短くする
と、非磁性材料層１４の膜厚が薄くなり、前記段差部Ａ
にて非磁性材料層１４にピンホールが形成されやすくな
る。
【０００７】（ロ）下部コア層１３の断面形状が矩形状
であり、両端部に段差部Ａが形成されているために、こ
の段差部Ａの上の非磁性材料層１４の表面にも段差が形
成される。したがって、コイル層９の形成領域よりも下
部コア層１３の面積を小さくすると、コイル層９が、前
記非磁性材料層１４の段差の上に形成されることにな
り、コイル層９を形成するのが困難になり、コイル層９
に欠陥が生じやすくなる。
【０００８】（ハ）記録媒体への信号の書き込み密度が
高くなり、磁気書き込みの周波数を高くするためには、
下部コア層１３及び上部コア層１０の軟磁性特性を向上
させ、高い飽和磁束密度で、低い保磁力及び高い比抵抗
の性質を有するようにすることが必要である。従来の下
部コア層１３及び上部コア層１０を形成していたパーマ
ロイは、飽和磁束密度が高いが、保磁力が比較的大き
く、また比抵抗も比較的小さく、記録周波数をさらに高
くした場合、うず電流損失が増大し、軟磁気特性も劣化
するため十分に満足できる磁性材料とはいえなかった。
一方、特開平６−３１６７４８号公報には、ｂｃｃ構造
のＦｅの微結晶相と、希土類元素またはＴｉ，Ｚｒ，Ｈ
ｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ、Ｗから選ばれた元素及びＯを含む
非結晶相と、が混在された軟磁性材料が開示されてい
る。この種の軟磁性材料は数１００ＭＨｚ以上の周波数
における透磁率が高く、５ｋＧ以上の高い飽和磁束密度
を有し、また低保磁力で高い比抵抗を有している。今後
の高密度記録を目指すインダクティブヘッドでは、前記
のような軟磁性特性の優れた材料で下部コア層１３およ
び上部コア層１０を形成することが好ましい。しかし、
前記公報に記載されているようなＦｅの微結晶相と、金
属元素及びＯとの非結晶相とが混在した軟磁性材料は、
メッキにより形成することができず、スパッタ法や蒸着
法でしか成膜することができない。しかし、図５に示す
構造の薄膜磁気ヘッドでは、下部コア層１３をスパッタ
法により形成することが困難であり、そのため下部コア
層１３の軟磁性材料としてパーマロイなどのメッキで形
成されるものしか使用できなかった。
【０００９】この点をさらに説明すると、下部コア層１
３をスパッタ法で形成する場合には、磁気抵抗効果素子
層１の上のアルミナなどの上部ギャップ層６上に直接に
軟磁性材料の層を形成することになるが、下部コア層１
３を所定の形状とするためには、スパッタ法により軟磁
性材料の層を形成した後に、前記所定の形状にするため
に不要部分をイオンミリング（ドライエッチング）によ
り除去することが必要になる。しかし、イオンミリング
により前記軟磁性材料の層を除去するときに、その下に
形成されているアルミナの層を損傷する問題が生じる。
一般にイオンミリングにより所定の厚さの膜を除去する
場合に、除去できる膜厚に５％程度の公差が生じるが、
下部コア層１３の厚さに対しその下の上部ギャップ層６
が薄いために、スパッタされた軟磁性材料の膜を一部除
去して上部ギャップ層６を形成するときに、前記５％程
度の除去膜厚の誤差により薄い上部ギャップ層６を損傷
しやすくなる。またイオンミリングによるミリングレー
トは、上部ギャップ層６を構成するアルミナよりも下部
コア層１３を形成する前記軟磁性材料の方が遅いため、
この点からも軟磁性材料の層をイオンミリングで除去す
るときに、上部ギャップ層６に損傷を与えやすくなる。
【００１０】また、この薄膜磁気ヘッドでは、磁気抵抗
効果素子層１による読み取り部分のギャップ長が下部ギ
ャップ層３の膜厚と上部ギャップ層６の膜厚とで決めら
れ、高密度信号に対する分解能を高めるためには、上部
ギャップ層６を薄くする必要がある。高密度信号の再生
を可能とした薄膜磁気ヘッドで上部ギャップ層６を薄く
すると、その上に下部コア層１３を形成しようとしたと
きに、前記イオンミリングの除去膜厚の誤差およびミリ
ングレートの関係とから上部ギャップ層６に大きな損傷
を与えやすくなる。
【００１１】以上から、図５に示したように磁気抵抗効
果素子層１の上に上部ギャップ層６があり、さらにその
上に下部コア層１３が形成されて、下部コア層１３が磁
気抵抗効果素子層１のシールド層として兼用されている
ものでは、下部コア層１３をメッキ工程でしか形成でき
ず、その結果、下部コア層１３を形成する軟磁性材料の
選択の範囲が狭められ、前記公報に記載されているよう
な、軟磁性特性に優れた材料を使用することができない
のが現状である。
【００１２】本発明は上記従来の課題を解決するもので
あり、インダクティブヘッドを構成する下部コア層の両
端部をなだらかに膜厚が薄くなるように構成して、下部
コア層上に非磁性材料層および絶縁層を介してコイル層
を安定して形成でき、且つ下部コア層とコイル層との絶
縁特性を安定できるようにした薄膜磁気ヘッド及びその
製造方法を提供することを目的としている。
【００１３】また本発明は、インダクティブヘッドを構
成する下部コア層（磁気抵抗効果素子層に対するシール
ド層）をスパッタ法や蒸着法により形成できるようにし
て、下部コア層となる軟磁性材料の選択度を広げ、高周
波数記録に対応できるようにした薄膜磁気ヘッド及びそ
の製造方法を提供することを目的としている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、軟磁性材料の
下部コア層と、下部コア層の上に非磁性材料層を介して
形成された上部コアと、両コア層に磁界を与えるコイル
層とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、前記下部コア層
は、前記上部コア層と対向する部分がほぼ均一な厚さで
形成され、両側端部に向かうにしたがって、徐々に厚さ
が薄くなるように形成されていることを特徴とするもの
である。また、さらに好ましくは、下部コア層の両側端
部分の表面が曲面的に変化して膜厚が徐々に薄くなるよ
うに構成されたものである。
【００１５】また、前記薄膜磁気ヘッドでは、下から磁
性材料製の下部シールド層、非磁性の下部ギャップ層、
磁気抵抗効果素子層、非磁性の上部ギャップ層が順に積
層され、前記上部ギャップ層上に前記下部コア層が形成
されたものとして構成できる。
【００１６】上記において、前記下部コア層及び前記上
部コア層は、Ｆｅを主成分とし、希土類元素またはＴ
ｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗのいずれかから選
択される１種類または２種類以上の元素と、Ｏとから成
る軟磁性合金によって形成でき、または、Ｃｏを主成
分、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｍｎ，Ａｌから選択される１種
類または２種類以上の元素を主要成分とし、さらに希土
類元素またはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，
Ｗ，Ｙのいずれかから選択される１種類または２種類以
上の元素と、Ｏとから成る軟磁性合金によって形成する
ことができ、これらの軟磁性材料をスパッタ法または蒸
着法により形成できる。
【００１７】さらに、本発明は、軟磁性材料の下部コア
層と、下部コア層上に非磁性材料層を介して形成される
上部コア層と、両コア層に磁界を与えるコイル層とを有
する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記下部コア
層が以下の工程により形成されることを特徴とするもの
である。 ・磁性材料の下地層を形成する工程、 ・前記下地層上にレジスト層を一定の厚さで形成する工
程、 ・前記下地層上から前記レジスト層の両側部の表面にか
けてメッキ層を形成する工程、 ・前記レジスト層を除去する工程、 ・前記レジスト層が除去された部分の下地層上に軟磁性
材料をスパッタまたは蒸着して下部コア層を形成する工
程、 ・前記メッキ層を除去する工程、
【００１８】さらに、本発明は、軟磁性材料の下部コア
層と、下部コア層上に非磁性材料層を介して形成される
上部コア層と、両コア層に磁界を与えるコイル層とを有
する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記下部コア
層が以下の工程により形成されることを特徴とするもの
である。 ・非磁性材料の下地層を形成する工程、 ・前記下地層上にレジスト層を一定の厚さで形成する工
程、 ・前記下地層上から前記レジスト層の両側部の表面にか
けてメッキ層を形成する工程、 ・前記レジスト層を除去する工程、 ・前記レジスト層が除去された部分の下地層を除去する
工程、 ・下地層が除去された部分に軟磁性材料をスパッタまた
は蒸着して下部コア層を形成する工程、 ・前記メッキ層を除去する工程、
【００１９】本発明では、インダクティブヘッドを構成
する下部コア層の形状を、その両端部にて厚さが徐々に
小さくなるように構成することにより、図５に示した従
来例のような下部コア層の両側端での段差部をなくすこ
とができ、コイル層の形成を安定でき、また下部コア層
上の非磁性材料層の膜厚を均一に形成でき、この非磁性
材料層の絶縁機能を安定させることができる。
【００２０】また、下部コア層をスパッタ法や蒸着法に
より形成できるようになるため、下部コア層を形成する
軟磁性材料の選択度を広げることができ、例えばＦｅま
たはＣｏを主成分とした、微結晶相および／または非結
晶相を有する高飽和磁束密度、低保磁力及び高比抵抗の
軟磁性材料を使用することが可能となり、高周波磁界に
よる記録を可能にできる。
【００２１】また、下部コア層の形成方法としては、ま
ず上部ギャップ層上に下地層を形成した後、前記下地層
上にレジストを塗布し、さらに前記レジスト層の両側部
の表面にかけて前記下地層からメッキ層を形成し、前記
レジスト層を除去する。この工程により、オーバハング
部を有するメッキ層が残る。この状態で軟磁性材料をス
パッタ法または蒸着法によって前記オーバハング部の間
を経て下地層を成膜すると、側端部に向かうにしたがっ
て徐々に膜厚が薄くなり、さらに側端部の表面が曲面形
状となる下部コア層を形成することができる。このた
め、前記下部コア層上に形成される非磁性材料層はほぼ
均一な幅をもつことができ、さらに、前記下部コア層を
イオンミリングする工程が必要ないため、磁気抵抗効果
素子層と下部コア層との間の上部ギャップ層を破損する
こともない。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
して説明する。尚、上述した従来例と同一部材には同一
符号を付してある。図１は、本願発明の薄膜磁気ヘッド
を記録媒体の対向側から示した拡大断面図である。ま
た、図２は、スライダ１２上に形成された本願発明の薄
膜磁気ヘッドの全体構造の概略を示す斜視図である。図
１及び図２に示す薄膜磁気ヘッドは、浮上式ヘッドを構
成するスライダ１２のトレーリング側端面に形成された
ものであり、読み出しヘッドｈ１と、記録用のインダク
ティブヘッドｈ２とが積層されたものとなっている。
【００２３】読み出しヘッドｈ１は、磁気抵抗効果を利
用してハードディスクなどの記録媒体からの洩れ磁束を
検出し、磁気信号を読み取るものである。読み出しヘッ
ドｈ１は、スライダ１２のトレーリング側端面１２ａに
スパッタ形成されたセンダスト（Ｆｅ―Ａｌ―Ｓｉ系合
金）またはパーマロイ（Ｆｅ−Ｎｉ系合金）の下部シー
ルド層２上に、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）などの非磁性材料
により形成された下部ギャップ層３が設けられている。
下部ギャップ層３上には磁気抵抗効果素子層１が積層さ
れている。磁気抵抗効果素子層１は三層構造であり、下
から軟磁性材料（Ｃｏ―Ｚｒ―Ｍｏ系合金またはＮｉ―
Ｆｅ―Ｎｂ系合金）によるＳＡＬ層、非磁性材料のＳＨ
ＵＮＴ膜（例えばＴａ（タンタル））、磁気抵抗効果を
有するＭＲ膜（Ｆｅ―Ｎｉ系合金）により形成されてい
る。
【００２４】磁気抵抗効果素子層１の両側には、ＭＲ膜
にバイアス磁界を与えるハードバイアス層４とＭＲ膜に
検出電流を与える電極層５（Ｗ（タングステン）または
Ｃｕ（銅））が形成されている。さらにその上にアルミ
ナなどによる上部ギャップ層６が形成されている。イン
ダクティブヘッド（書き込みヘッド）ｈ２は、軟磁性材
料で形成された下部コア層７を有している。この下部コ
ア層７は、読み出しヘッドｈ１の上部シールド層として
兼用されている。下部コア層７の上に、非磁性材料層８
が形成され、その上に有機絶縁層を介して平面的に螺旋
状となるようにパターン形成されたコイル層９が設けら
れている。前記上部コア層１０は、その先端部１０ａが
図２に示すように、ＡＢＳ面１２ｂにて下部コア層７と
磁気ギャップＧｂを有して対向し、基端部１０ｂが、下
部コア層７と磁気的に接続されている。また、上部コア
層１０上にはアルミナなどの保護膜１１が設けられてい
る。
【００２５】インダクティブヘッド（書き込みヘッド）
ｈ２では、コイル層９に記録電極が与えられ、コイル層
９から下部コア層７及び上部コア層１０に記録磁界が誘
導される。そして、磁気ギャップＧｂでの、下部コア層
７と上部コア層１０の先端部１０ａとの間の漏れ磁界に
より、ハードディスクなどの記録媒体に磁気信号が記録
される。また、インダクティブヘッドｈ２によりハード
ディスクなどの記録媒体に対して高密度に信号記録がで
きるようにするために、インダクティブヘッドｈ２のギ
ャップ長Ｇｂはできる限り短く形成される。また読み出
しヘッドｈ１では、下部シールド層２と下部コア層（上
部シールド層）７との間隔によりギャップ長Ｇａが決め
られるため、高密度記録された記録媒体からの洩れ磁束
の分解能を高くするために、下部ギャップ層３および上
部ギャップ層６ができる限り短く形成される。
【００２６】図１に示すように、下部コア層７は、上部
コア層１０と対向する部分で、一定の膜厚をもって形成
され、前記下部コア層７の両側端部に向かうにしたがっ
て膜厚は徐々に薄くなっている。また、下部コア層７の
両側端部の上面７ｃ，７ｃは、曲面状に変化し、両縁部
に向かうにしたがって徐々に膜厚が薄くなるように形成
されている。そのため、前記下部コア層７上に形成され
る非磁性材料層８は、ほぼ均一な膜厚を保ちながらなだ
らかに形成される。よって、コイル層９の形成領域より
も下部コア層７の形成領域の方が狭く、下部コア層７の
両側端の上方にコイル層９が位置していても、コイル層
９が図５に示すように段差部上に形成されることがな
く、コイル層９に欠陥が生じにくい。
【００２７】また、本発明では、後述のように、下部コ
ア層７がスパッタ法により形成可能となる。下部コア層
７がスパッタ法により形成されるために、下部コア層７
を形成する軟磁性材料の選択度を広げることができ、本
発明では、数１００ＭＨｚ以上の周波数における透磁率
が高く、５ｋＧ以上の高い飽和磁束密度を有し、また低
保磁力で高比抵抗である軟磁性材料が使用可能である。
【００２８】本発明においては下部コア層７として以下
の２種類のいずれかの軟磁性材料を使用することができ
る。 （１）組成式がＦｅaＭbＯcで示され、５０≦ａ≦７
０、５≦ｂ≦３０、１０≦ｃ≦３０、ａ＋ｂ＋ｃ＝１０
０、となる関係を満足することを特徴とする軟磁性材料
である。Ｆｅが主成分で、磁性を担う元素である。高飽
和磁束密度を得るためにＦｅは多いほど好ましいが、７
０原子％以上であると比抵抗が小さくなってしまう。Ｍ
は希土類元素（すなわち、周期表の３Ａ族に属するＳ
ｃ，Ｙあるいはランタノイド）のうち１種類か２種類以
上の元素、またはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，
Ｗをはじめとする周期表の４Ａ族、５Ａ族、６Ａ族のう
ち１種類か２種類以上の元素で構成されている。前記Ｍ
は、軟磁気特性（高飽和磁束密度、低保磁力及び高比抵
抗）を得るために必要なものである。これらは酸素と結
合することで酸化物を形成する。この酸化物の含有量を
調節することで比抵抗を高めることができる。前記比抵
抗を高めることで渦電流が下部コア層７に発生しにくく
なり、高周波透磁率の低下が抑制される。好ましくは、
ｂｃｃ構造のＦｅの微結晶相と、前記ＭとＯを多量に含
む非晶質相とが混在したもので、微結晶相の比率が５０
％以下である。
【００２９】（２）Ｃｏを主成分とし、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｐ
ｄ，Ｍｎ，Ａｌより選択された１種または２種以上の元
素Ｔを主成分とする面心立方構造または体心立方構造も
しくは両者が混在した結晶相と、これらの結晶相を取り
囲むＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ，Ｙと希
土類元素から選ばれる１種又は２種以上の元素ＭとＯお
よび前記元素Ｍの酸化物の少なくとも一方と、Ｆｅと元
素Ｔを含む強磁性の非晶質相とを主体とする軟磁性材料
である。
【００３０】さらに詳しくは、組成式が（Ｃｏ1-cＴc）
xＭyＱzＸwＹsで示され、０．０５≦ｃ≦０．５、ｙ，
ｚ，ｗ，ａはａｔ％で、３≦ｙ≦３０，７≦ｚ≦４０，
０≦ｗ≦２０，０≦ｓ≦２０の関係を満足することを特
徴とする軟磁性材料である。ＣｏとＦｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，
Ｍｎ，Ａｌから選ばれた１種類または２種類以上の元素
Ｔは主成分であり、ＣｏとＦｅとＮｉは磁性を担う元素
である。特に高飽和磁束密度を得るためには、ＣｏとＦ
ｅの含有量は多いほど好ましいが、ＣｏとＦｅの含有量
が少な過ぎると飽和磁束密度が小さくなってしまう。
【００３１】ＭはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｗ
と、希土類元素（すなわち、周期表の３Ａ族に属するＳ
ｃ，Ｙあるいはランタノイド）から選ばれる１種類また
は２種類以上の元素で構成されている。前記Ｍは、軟磁
気特性を得るために必要なものである。これらは、酸素
と結合することで酸化物を形成する。この酸化物の含有
量を調節することで比抵抗を高めることができる。
【００３２】次に、元素Ｔ（Ｆｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｍｎ，
Ａｌから選ばれた１種類または２種類以上の元素）は、
Ｃｏの面心立方構造（ｆｃｃ構造）を安定化する、ある
いは、一軸異方性を大きくする作用のある元素である。
また、元素Ｙ（Ａｕ，Ａｇと白金族の元素（Ｒｕ，Ｒ
ｈ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ）のうち１種類または２種
類以上の元素）は、耐食性を向上させるが、その含有量
が２０原子％（ａｔ％）を越えると軟磁気特性が低下す
る。ＱはＯ，Ｎ，Ｃ，Ｂから選ばれた１種類または２種
類以上の元素、ＸはＳｉもしくはＣｒのうち１種類また
は２種類の元素で構成されている。
【００３３】また、より良い軟磁気特性と高い飽和磁束
密度を得るためには、ａｔ％で５≦ｙ≦２０，１０≦ｚ
≦３０の範囲とすることが好ましい。また、好ましくは
ｆｃｃ構造のＣｏを生成分とする微結晶と、ｂｃｃ構造
のＦｅを生成分とする微結晶からなる微結晶相と、前記
ＭとＯを多量に含む非晶質とが混在したもので微結晶相
の比率が５０％以下である。
【００３４】上述した軟磁性材料により下部コア層７を
形成することにより、書き込み周波数を高めることがで
きる。ただし、書き込み周波数が従来と同程度のもので
ある場合には、スパッタ法により形成される下部コア層
７の材質として、パーマロイ（Ｆｅ−Ｎｉ系合金）を使
用してもよい。
【００３５】図３は、下部コア層７の第１の製造方法を
示す拡大断面図である。図３（ａ）では、上部ギャップ
層６上にパーマロイ（Ｆｅ−Ｎｉ系合金）などの磁性材
料製の下地層１５がスパッタにより形成される。そし
て、前記下地層１５上にレジスト液が塗布され、露光現
像されることにより、図３（ｂ）に示すようなレジスト
層１６が下地層１５上に形成される。図３（ｃ）では、
Ａｕなどのメッキ層１７が、下地層１５上からレジスト
層１６の両側端部の表面にかけて形成される。このとき
前記メッキ層１７，１７のうちのレジスト層１６の上に
乗っている部分がオーバハング部１７′，１７′とな
り、このオーバハング部の間は一定の幅寸法Ｔとなる。
図３（ｄ）では、前記レジスト層１６が除去される。
【００３６】次に、図３（ｅ）に示すように、前記
（１）または（２）の軟磁性材料がスパッタ法によって
下地層１５上及びメッキ層１７上に成膜され、前記下地
層１５上には下部コア層７ａが、前記メッキ層１７上に
は軟磁性材料層７’が形成される。メッキ層１７上に形
成された軟磁性材料層７′は、メッキ層のオーバハング
部１７′から、長さ寸法Ｔｂだけ突出した形で成膜され
る。このため、長さ寸法ＴからＴｂを引いた長さＴａ部
分において、前記下部コア層７ａは一定の膜厚Ｈａを有
して形成されている。そして、長さ寸法Ｔｃ部分では、
上方にメッキ層１７のオーバハング部１７′及び軟磁性
材料層７′の突出部が存在するため、下部コア層７ａの
７１から側端部７２にかけて徐々に膜厚が薄くなりなが
らしかも図１に拡大して示すように、膜表面が曲面状に
変化しながら成膜される。
【００３７】次に、図３（ｆ）に示すように、ウエット
エッチングによってメッキ層１７が除去される。そし
て、イオンミリングによって、下部コア層７ａの側端部
７２から外側方向の下地層１５が切除され、図３（ｇ）
に示すように、下部コア層７ａの下面にのみ下地層１
５′が形成される。また、下地層１５及び上部ギャップ
層６は共に１０００オングストローム程の厚さである。
下地層１５が、イオンミリングによって切除されていく
際、前記下地層１５及び上部ギャップ層６はほぼ同程度
の厚さを有しているために、前記上部ギャップ層６は前
記イオンミリングの影響をほとんど受けない。このよう
に、本発明では、下部コア層７ａをスパッタ法によって
形成でき、更に前記下部コア層７ａ自体をイオンミリン
グによって切除しなくてもよいため、上部ギャップ層６
を破損する可能性が低く、薄膜磁気ヘッドの高寿命化を
実現できる。
【００３８】図４は、下部コア層７の第２の製造方法を
示す拡大断面図である。図４（ａ）では、上部ギャップ
層６上に、ＡｕやＣｕなどの非磁性材料製のメッキが下
地層１８として形成されている。図４（ｂ）では、前記
下地層１８上にレジスト層１６が形成され、図４（ｃ）
では、メッキ層１７が、下地層１８上からレジスト層１
６の両側端の表面にかけて形成されオーバハング部１
７′，１７′が形成される。さらに、図４（ｄ）では、
前記レジスト層１６が切除される。
【００３９】次に、図４（ｅ）に示すようにイオンミリ
ングによって、長さ寸法Ｔｄの範囲の下地層１８が切除
され、前記Ｔｄ間は、上部ギャップ層６が露出する。ま
た、長さ寸法Ｔｅ間の下地層１８′は、その上部にメッ
キ層１７のオーバハング部１７′が存在しているために
イオンミリングされにくく、図のように１８ｂから１８
ａにかけて徐々に膜厚が厚くなりながら形成されてい
る。前記下地層１８及び上部ギャップ層６はほぼ同じ膜
厚で形成されている。このため、前記下地層１８がイオ
ンミリングによって切除される際、前記上部ギャップ層
６が破損される可能性は低い。
【００４０】次に、図４（ｆ）に示すように前記（１）
または（２）の軟磁性材料がスパッタ法によって、前記
Ｔｄ間、Ｔｅ間及びメッキ層１７上に成膜され、前記Ｔ
ｄ及びＴｅ間に下部コア層７ｂが、前記メッキ層１７上
に軟磁性材料層７′が形成されている。前記下部コア層
７ｂは、長さ寸法Ｔｆ間で、一定の膜厚Ｈｆを保ちなが
ら形成され、側端部１８ａに向かうにしたがって、徐々
に膜厚が薄くなり、表面が曲面形状となる。そして、図
４（ｇ）に示すように、レジスト層１７が除去され、図
４（ｈ）のように、下地層１８′が下部コア層７ｂの側
端部１８ａから外側方向にイオンミリングによって切除
され、下地層１８″がわずかに上部ギャップ層６上に残
されている。
【００４１】図３と図４では、ともに同じ形状の下部コ
ア層７が形成される。ただし、図３（ｇ）では、下部コ
ア層７ａの下に磁性材料の下地層１５′が形成されてい
るため、下部コア層７ａと下地層１５′の双方が、磁気
抵抗効果素子層１の上方の上部シールド層として機能す
る。また、図４では、下地層１８が非磁性材料であるた
め、下部コア層７ｂの下に下地層１８が残ると、下地層
１８が上部ギャップ層６の一部となり、下地層１８が読
み出し部ｈ１のギャップ長を実質的に長くしてしまう。
そこで、図４では、下部コア層７ｂの下側に位置する下
地層１８が除去されたものとしている。
【００４２】図１に示される上部コア層１０はその断面
が長方形になっている。この上部コア層１０は、スパッ
タ法で形成してもよいし、またはメッキで形成してもよ
い。また図３と図４において、軟磁性材料を蒸着して下
部コア層を形成することもできる。
【００４３】
【発明の効果】以上詳述した本発明によれば、下部コア
層の両側端部に段差部がなくなるため、コイル層を安定
して形成でき、また下部コア層上の非磁性材料層の膜厚
の変化を少なくでき、ピンホールの発生などを防止でき
る。
【００４４】また、上部コア層はスパッタ法などで形成
できるため、下部コア層となる軟磁性材料の選択度を広
げることができ、高い飽和磁束密度、低い保磁力及び高
い比抵抗の性質を有する軟磁性材料を使用でき、書き込
み周波数を高くすることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の薄膜磁気ヘッドの読み出しヘッド及び
インダクティブヘッド（書き込みヘッド）の構造を示す
拡大断面図、
【図２】薄膜磁気ヘッドでの下部コア層及び上部コア層
の形状を示す半断面斜視図、
【図３】（ａ）ないし（ｇ）は下部コア層の第１の製造
方法を工程別に示す拡大断面図、
【図４】（ａ）ないし（ｈ）は下部コア層の第２の製造
方法を工程別に示す拡大断面図、
【図５】従来の薄膜磁気ヘッドの読み出しヘッド及びイ
ンダクティブヘッド（書き込みヘッド）の構造を示す拡
大断面図、
【符号の説明】
１ 磁気抵抗効果素子層 ６ 上部ギャップ層 ７，７ａ，７ｂ 下部コア層 ８ 非磁性材料層 ９ コイル層 １０ 上部コア層 Ｇａ，Ｇｂ 磁気ギャップ長 ｈ１ 磁気抵抗効果を利用した読み出しヘッド ｈ２ インダクティブヘッド（書き込みヘッド）

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 軟磁性材料の下部コア層と、下部コア層
    の上に非磁性材料層を介して形成された上部コアと、両
    コア層に磁界を与えるコイル層とを有する薄膜磁気ヘッ
    ドにおいて、前記下部コア層は、前記上部コア層と対向
    する部分がほぼ均一な厚さで形成され、両側端部に向か
    うにしたがって、徐々に厚さが薄くなるように形成され
    ていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
  2. 【請求項２】 下から磁性材料製の下部シールド層、非
    磁性の下部ギャップ層、磁気抵抗効果素子層、非磁性の
    上部ギャップ層が順に積層され、前記上部ギャップ層上
    に前記下部コア層が形成されている請求項１記載の薄膜
    磁気ヘッド。
  3. 【請求項３】 前記下部コア層及び前記上部コア層は、
    Ｆｅを主成分とし、希土類元素またはＴｉ，Ｚｒ，Ｈ
    ｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗのいずれかから選択される１種
    類または２種類以上の元素と、Ｏとから成る軟磁性合金
    によって形成されている請求項１または２記載の薄膜磁
    気ヘッド。
  4. 【請求項４】 前記下部コア層及び前記上部コア層は、
    Ｃｏを主成分、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｍｎ，Ａｌから選択
    される１種類または２種類以上の元素を主要成分とし、
    さらに希土類元素またはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｔ
    ａ，Ｍｏ，Ｗ，Ｙのいずれかから選択される１種類また
    は２種類以上の元素と、Ｏとから成る軟磁性合金によっ
    て形成されている請求項１または２記載の薄膜磁気ヘッ
    ド。
  5. 【請求項５】 軟磁性材料の下部コア層と、下部コア層
    上に非磁性材料層を介して形成される上部コア層と、両
    コア層に磁界を与えるコイル層とを有する薄膜磁気ヘッ
    ドの製造方法において、前記下部コア層が以下の工程に
    より形成されることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造
    方法。 ・磁性材料の下地層を形成する工程、 ・前記下地層上にレジスト層を一定の厚さで形成する工
    程、 ・前記下地層上から前記レジスト層の両側部の表面にか
    けてメッキ層を形成する工程、 ・前記レジスト層を除去する工程、 ・前記レジスト層が除去された部分の下地層上に軟磁性
    材料をスパッタまたは蒸着して下部コア層を形成する工
    程、 ・前記メッキ層を除去する工程、
  6. 【請求項６】 軟磁性材料の下部コア層と、下部コア層
    上に非磁性材料層を介して形成される上部コア層と、両
    コア層に磁界を与えるコイル層とを有する薄膜磁気ヘッ
    ドの製造方法において、前記下部コア層が以下の工程に
    より形成されることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造
    方法。 ・非磁性材料の下地層を形成する工程、 ・前記下地層上にレジスト層を一定の厚さで形成する工
    程、 ・前記下地層上から前記レジスト層の両側部の表面にか
    けてメッキ層を形成する工程、 ・前記レジスト層を除去する工程、 ・前記レジスト層が除去された部分の下地層を除去する
    工程、 ・下地層が除去された部分に軟磁性材料をスパッタまた
    は蒸着して下部コア層を形成する工程、 ・前記メッキ層を除去する工程、
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US08/921,806 US5894388A (en) 1996-09-10 1997-09-02 Combination read/write thin film magnetic head
KR1019970046405A KR100261614B1 (ko) 1996-09-10 1997-09-09 복합형 박막 자기 헤드 및 그 제조방법
FR9711177A FR2753293B1 (fr) 1996-09-10 1997-09-09 Tetes magnetiques de lecture/ecriture en combinaison a couche mince, et leur procede de fabrication
US09/156,953 US6010745A (en) 1996-09-10 1998-09-18 Method for manufacturing a combination read/write thin film magnetic head

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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100265986B1 (ko) 1997-01-31 2000-09-15 가타오카 마사타카 복합형 박막자기헤드 및 그 제조방법
JP3188232B2 (ja) * 1997-12-09 2001-07-16 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
US6232775B1 (en) * 1997-12-26 2001-05-15 Alps Electric Co., Ltd Magneto-impedance element, and azimuth sensor, autocanceler and magnetic head using the same
JP2000057531A (ja) * 1998-08-07 2000-02-25 Fujitsu Ltd 磁気ヘッド、その製造方法及びディスク装置
US6278590B1 (en) * 1998-12-02 2001-08-21 International Business Machines Corporation High moment laminated layer with nickel cobalt or nickel iron cobalt based alloy layer for first pole piece of write head
US6330128B1 (en) * 1999-04-26 2001-12-11 International Business Machines Corporation Magnetic head assembly having open yoke write head with highly defined narrow track width
US6762910B1 (en) * 1999-06-03 2004-07-13 Western Digital (Fremont), Inc. Data storage and retrieval apparatus with thin film read head having inset extra gap insulation layer and method of fabrication
US6306311B1 (en) 1999-11-01 2001-10-23 Headway Technologies, Inc. Method to make a high data rate stitched writer for a giant magneto-resistive head
US6519121B1 (en) * 1999-11-22 2003-02-11 International Business Machines Corporation Spin valve sensor with composite pinned layer structure for improving biasing of free layer structure with reduced sense current shunting
US6859997B1 (en) 2000-09-19 2005-03-01 Western Digital (Fremont), Inc. Method for manufacturing a magnetic write element
US6778358B1 (en) 2002-05-01 2004-08-17 Western Digital (Fremont), Inc. Magnetically soft, high saturation magnetization laminates of iron-cobalt-nitrogen and iron-nickel
US7522377B1 (en) * 2002-05-01 2009-04-21 Western Digital (Fremont), Llc Magnetic write head with high moment magnetic thin film formed over seed layer
JP4389932B2 (ja) * 2004-05-17 2009-12-24 日立金属株式会社 薄膜磁気ヘッド用基板およびその製造方法
JP4390677B2 (ja) * 2004-10-15 2009-12-24 ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ 磁気ヘッド及びそれを搭載した磁気記録再生装置
FR2913974A1 (fr) 2007-03-19 2008-09-26 Arkema France Procede de vaporisation de glycerol
US8085497B2 (en) * 2008-12-22 2011-12-27 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method of multi-angled bump processing for magnetic pole fabrication and systems thereof

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3908194A (en) * 1974-08-19 1975-09-23 Ibm Integrated magnetoresistive read, inductive write, batch fabricated magnetic head
US4325733A (en) * 1979-12-28 1982-04-20 International Business Machines Corporation Amorphous Co-Ti alloys
US4853080A (en) * 1988-12-14 1989-08-01 Hewlett-Packard Lift-off process for patterning shields in thin magnetic recording heads
JP2728487B2 (ja) * 1989-02-08 1998-03-18 株式会社日立製作所 録再分離複合型磁気ヘッド
US5264980A (en) * 1989-08-02 1993-11-23 Seagate Technology, Inc. Magnetoresistive head and head setting method
US5032945A (en) * 1989-11-07 1991-07-16 International Business Machines Corp. Magnetic thin film structures fabricated with edge closure layers
US5808843A (en) * 1991-05-31 1998-09-15 Hitachi, Ltd. Magnetoresistance effect reproduction head
JP3291099B2 (ja) * 1993-03-05 2002-06-10 アルプス電気株式会社 軟磁性合金および平面型磁気素子
JP3083218B2 (ja) * 1993-03-17 2000-09-04 富士通株式会社 薄膜磁気ヘッド
EP0627729A3 (en) * 1993-05-31 1995-11-02 Tdk Corp Magnetic recording/reproducing method.
JP2854513B2 (ja) * 1993-10-21 1999-02-03 アルプス電気株式会社 複合型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
US5435053A (en) * 1994-03-02 1995-07-25 International Business Machines Corporation Simplified method of making merged MR head
US5515221A (en) * 1994-12-30 1996-05-07 International Business Machines Corporation Magnetically stable shields for MR head
US5793579A (en) * 1995-11-30 1998-08-11 Sanyo Electric Co., Ltd. Thin film magnetic head and process for producing same
JPH09293209A (ja) * 1996-04-26 1997-11-11 Fujitsu Ltd 薄膜磁気ヘッド、磁気記録装置及び薄膜磁気ヘッドの製造方法

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