JPH1072275A - Device for cleaning and drying crucible - Google Patents
Device for cleaning and drying crucibleInfo
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- JPH1072275A JPH1072275A JP24544296A JP24544296A JPH1072275A JP H1072275 A JPH1072275 A JP H1072275A JP 24544296 A JP24544296 A JP 24544296A JP 24544296 A JP24544296 A JP 24544296A JP H1072275 A JPH1072275 A JP H1072275A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体単結晶製造
の際に、多結晶半導体原料を溶融するために用いられる
ルツボを洗浄乾燥するための装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for cleaning and drying a crucible used for melting a polycrystalline semiconductor material at the time of manufacturing a semiconductor single crystal.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、半導体デバイスに用いられてい
るシリコン単結晶は、チョクラルスキー法（ＣＺ法）を
用いて製造されたもの（以後、ＣＺシリコンと記す。）
が主流をなしている。このＣＺ法は、多結晶シリコン塊
又は粒状多結晶シリコンを炉内の石英ルツボに装填した
後、石英ルツボ内で融解させ、種結晶を用いてシリコン
単結晶を成長させながら引き上げる方法である。2. Description of the Related Art In general, a silicon single crystal used for a semiconductor device is manufactured using a Czochralski method (CZ method) (hereinafter referred to as CZ silicon).
Are mainstream. The CZ method is a method in which a polycrystalline silicon lump or granular polycrystalline silicon is loaded into a quartz crucible in a furnace, melted in the quartz crucible, and pulled up while growing a silicon single crystal using a seed crystal.
【０００３】そのようなＣＺ法において、多結晶半導体
原料溶融用のルツボの内面に塵や埃等が付着している
と、この塵や埃がシリコン単結晶の成長に悪影響を及ぼ
すため、使用前に十分に洗浄して乾燥させ、更にその表
面に塵や埃等が存在しないよう細心の注意を払う必要が
ある。In such a CZ method, if dust or dust adheres to the inner surface of a crucible for melting a polycrystalline semiconductor raw material, the dust or dust adversely affects the growth of a silicon single crystal. It is necessary to thoroughly wash and dry the surface, and take extra care to prevent dust and dirt from being present on the surface.
【０００４】従来の石英ルツボを洗浄乾燥する装置は、
洗浄室と、乾燥室と、洗浄室から乾燥室にルツボを搬送
する搬送装置とを備えている。洗浄室はルツボを載置す
るための載置台と、ルツボの両面に洗浄液を吹き付ける
ための洗浄液噴出用ノズルとを備え、乾燥室は、ルツボ
を載置するための載置台と、ルツボの両面に乾燥空気を
吹き付けるための乾燥空気噴出用ノズルとを備えてい
る。A conventional apparatus for cleaning and drying a quartz crucible is:
The cleaning apparatus includes a cleaning chamber, a drying chamber, and a transport device that transports the crucible from the cleaning chamber to the drying chamber. The cleaning chamber includes a mounting table for mounting the crucible, and a cleaning liquid jet nozzle for spraying the cleaning liquid on both sides of the crucible, and the drying chamber includes a mounting table for mounting the crucible and both sides of the crucible. A dry air jet nozzle for blowing dry air.
【０００５】洗浄が予定されたルツボは、まず、洗浄室
内に内面を下方に伏せて載置され、そこで洗浄される。
洗浄終了後、ルツボはベルトコンベアや、ローラや、ホ
イスト等のような搬送装置により内面を下方に伏せたま
ま洗浄室から乾燥室内に搬送される。ルツボが乾燥室内
に搬送されるとそこで乾燥されて、次の半導体単結晶製
造に用いられることとなる。[0005] The crucible to be cleaned is first placed inside the cleaning chamber with its inner surface face down, and is cleaned there.
After the cleaning, the crucible is transported from the cleaning chamber to the drying chamber while the inner surface thereof is faced down by a transporting device such as a belt conveyor, a roller, and a hoist. When the crucible is conveyed into the drying chamber, it is dried there and used for the next semiconductor single crystal production.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、半導体
単結晶の製造に際しては、多結晶半導体原料を溶融する
ためのルツボの特に内面を十分に洗浄して乾燥させる必
要があるが、洗浄室内で洗浄後に搬送装置により搬送し
て乾燥室内で乾燥させる構成の従来のルツボ洗浄乾燥装
置であると、洗浄後の洗浄室から乾燥室への搬送中に空
気中の塵や埃が付着して乾燥後もルツボ内面に残ってし
まう恐れがある。However, when manufacturing a semiconductor single crystal, it is necessary to sufficiently clean and dry the inner surface of a crucible for melting the polycrystalline semiconductor material, but after cleaning in a cleaning chamber. With a conventional crucible cleaning / drying device configured to be transported by a transport device and dried in the drying chamber, dust and dust in the air adhere during transport from the cleaning chamber to the drying chamber after cleaning, and the crucible is dried even after drying. There is a risk of remaining on the inside.
【０００７】また、近年、従来よりも大口径な半導体結
晶の製造が検討されているが、それに伴い、多結晶半導
体原料を溶融するためのルツボも大きくなることが予想
される。洗浄対象のルツボが大きくなると、洗浄装置、
乾燥装置、さらにルツボを搬送する装置がルツボの大き
さに合わせて大きくなるため、装置全体として大型化し
てしまい好ましくない。[0007] In recent years, the production of semiconductor crystals having a larger diameter than in the past has been studied. With this, it is expected that the crucible for melting the polycrystalline semiconductor raw material will increase. When the crucible to be cleaned becomes large, the cleaning device,
The size of the drying device and the device for transporting the crucible are increased in accordance with the size of the crucible, so that the size of the entire device is undesirably increased.
【０００８】以上のことから本発明では、ルツボを移動
させずにルツボの洗浄と乾燥とが行えるルツボ洗浄乾燥
装置を提供することを目的としている。また、装置全体
としてコンパクトなルツボ洗浄乾燥装置を提供すること
を別の目的としている。さらに、従来よりも大口径なル
ツボを洗浄対象としても従来の洗浄乾燥装置よりコンパ
クトなルツボ洗浄乾燥装置を提供することも別の目的と
している。In view of the above, it is an object of the present invention to provide a crucible cleaning / drying apparatus capable of cleaning and drying a crucible without moving the crucible. It is another object to provide a compact crucible washing and drying apparatus as a whole. It is another object of the present invention to provide a crucible cleaning / drying apparatus which is more compact than a conventional cleaning / drying apparatus even when a crucible having a larger diameter than the conventional one is to be cleaned.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記問題を解決すべく請
求項１にかかる発明では、多結晶半導体原料を溶融する
ために用いられるルツボを洗浄する装置であって、内面
を下方に伏せた状態のルツボを保持する載置台と、前記
ルツボの外面と内面とのそれぞれに向って流体を噴出さ
せる流体噴出ノズルと、清浄空気が充填され、前記載置
台と前記流体噴出ノズルおよび前記載置台上の前記ルツ
ボを内包するチャンバーと、前記ルツボの洗浄液を貯留
した液タンクと、乾燥のための清浄空気を貯留したエア
タンクと、前記液タンク内の洗浄液又は前記エアタンク
内の清浄空気のいずれか一方を選択的に流体噴出ノズル
に供給する選択手段と、を備えているものとしている。According to the first aspect of the present invention, there is provided an apparatus for cleaning a crucible used for melting a polycrystalline semiconductor material, wherein the crucible is used with its inner surface turned down. A mounting table for holding the crucible, a fluid jet nozzle for jetting fluid toward each of the outer surface and the inner surface of the crucible, and filled with clean air, the mounting table, the fluid jet nozzle and the mounting table. A chamber containing the crucible, a liquid tank storing a cleaning liquid for the crucible, an air tank storing clean air for drying, and either a cleaning liquid in the liquid tank or clean air in the air tank are selected. And a selecting means for supplying the fluid to the fluid ejection nozzle.
【００１０】即ち、請求項１のルツボ洗浄乾燥装置は、
内面を下方に伏せた状態でルツボを保持するための載置
台と、ルツボの外面と内面とのそれぞれに向って流体を
噴出させる流体噴出ノズルとを備えている。尚、本発明
で述べるルツボとは、多結晶半導体原料を溶融するため
に適した材質よりなるルツボ全般を指しており、具体的
な例としては石英ルツボが挙げられる。That is, the crucible cleaning and drying apparatus of claim 1 is
There is provided a mounting table for holding the crucible with the inner surface face down, and a fluid ejection nozzle for ejecting a fluid toward each of the outer surface and the inner surface of the crucible. It should be noted that the crucible described in the present invention generally refers to a crucible made of a material suitable for melting a polycrystalline semiconductor material, and a specific example is a quartz crucible.
【００１１】この流体噴出のノズルは、載置台上のルツ
ボの内面と外面のそれぞれに対して後述する液タンク又
はエアタンクからの流体を噴出するものである。その様
な流体噴出ノズルとして、例えば、ルツボの全外面に対
して万遍なく流体を噴射する第１ノズルと、ルツボの全
内面に対して万遍なく流体を噴射する第２ノズルとより
なる構成のものが挙げられる。The nozzle for ejecting the fluid ejects a fluid from a liquid tank or an air tank, which will be described later, to each of an inner surface and an outer surface of the crucible on the mounting table. As such a fluid jetting nozzle, for example, a configuration including a first nozzle that jets fluid evenly to the entire outer surface of the crucible, and a second nozzle that jets fluid evenly to the entire inner surface of the crucible is used. One.
【００１２】また、別の構成として、ルツボの中心軸と
交差し、ルツボの外面側においてルツボの開口端から対
向する開口端に亙って直線的に流体を噴出するＵ字形の
第１ノズルと、ルツボの内面側においてルツボの開口端
から対向する開口端に亙って直線的に流体を噴出するＵ
字形の第２ノズルとよりなる構成のものが挙げられる。
この場合、流体をルツボの内外面全体に供給するため
に、ルツボと流体噴出ノズルとを相対的に移動させる相
対移動手段を設けると良い。Further, as another configuration, a U-shaped first nozzle which intersects with the central axis of the crucible and which ejects a fluid linearly from the open end of the crucible to the open end facing the crucible is provided on the outer surface side of the crucible. U that ejects fluid linearly from the open end of the crucible to the open end facing the crucible on the inner side of the crucible.
One having a configuration including a second nozzle having a character shape is exemplified.
In this case, in order to supply the fluid to the entire inner and outer surfaces of the crucible, it is preferable to provide relative moving means for relatively moving the crucible and the fluid ejection nozzle.
【００１３】更に、そのようなＵ字形のノズルの代わり
にＬ字形のノズルを用いてルツボの内外面に直線的に流
体を噴出させる構成のものや、ルツボの外面の一部に流
体を噴出させる部分噴射ノズルを複数箇所に設けてルツ
ボの全面に対して流体を噴出させる構成のもの等も挙げ
られるが、勿論、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。Further, an L-shaped nozzle is used in place of such a U-shaped nozzle to jet a fluid linearly to the inner and outer surfaces of the crucible, or a fluid is jetted to a part of the outer surface of the crucible. A configuration in which a plurality of partial injection nozzles are provided at a plurality of locations to eject a fluid to the entire surface of the crucible may be mentioned, but of course, the present invention is not limited to these.
【００１４】更に、本発明では、載置台と流体噴出ノズ
ルおよび載置台に設けられるルツボとを内包するチャン
バーを備えている。このチャンバーの上部にはチャンバ
ー内を清浄度クラス１００以上とするフィルタが設けら
れている。そのようなフィルタとしては、例えば、ＨＥ
ＰＡフィルタや、ＵＬＰＡフィルタ等が挙げられるが、
チャンバー内の清浄度クラスを１００以上とする様なも
のであれば特に限定しない。Further, the present invention includes a chamber for containing the mounting table, a fluid ejection nozzle, and a crucible provided on the mounting table. At the upper part of the chamber, a filter for keeping the inside of the chamber with a cleanliness class of 100 or more is provided. Such filters include, for example, HE
PA filter, ULPA filter, etc. are mentioned,
There is no particular limitation as long as the cleanliness class in the chamber is 100 or more.
【００１５】また、本発明の装置は、ルツボを洗浄する
ための洗浄液を貯留した液タンクと、乾燥のための清浄
空気を貯留したエアタンクとを備え、更に、液タンク内
の洗浄液又はエアタンク内の清浄空気のいずれか一方を
選択的に流体噴出ノズルに供給する選択手段を備えてい
る。The apparatus of the present invention includes a liquid tank for storing a cleaning liquid for cleaning a crucible, and an air tank for storing clean air for drying, and further includes a cleaning liquid in the liquid tank or an air tank in the air tank. There is provided a selecting means for selectively supplying any one of the clean air to the fluid ejection nozzle.
【００１６】ルツボを洗浄するための洗浄液としては、
イオン交換水や蒸留水等のような不純物含有量が極めて
少ない液体が最も適している。勿論、例えば、ＨＦやＨ
ＮＯ3 等の酸でルツボを洗浄し、その後、万遍なくイオ
ン交換水や蒸留水等で濯いで上述の酸を除去することも
できるので、ルツボを洗浄するための洗浄液として、酸
等の薬液とイオン交換水（若しくは蒸留水）等の不純物
含有量が極めて少ない液体とを組み合わせて用いること
もでき、これらに限られるものではない。The cleaning liquid for cleaning the crucible includes:
Liquids with extremely low impurity content, such as ion-exchanged water and distilled water, are most suitable. Of course, for example, HF or H
The above-mentioned acid can be removed by washing the crucible with an acid such as NO 3 and then rinsing with ion-exchanged water or distilled water evenly. It can be used in combination with a liquid having a very low impurity content such as ion-exchanged water (or distilled water), but is not limited thereto.
【００１７】尚、薬液でルツボを洗浄し、その後、イオ
ン交換水や蒸留水等で濯いで薬液を除去する場合、液タ
ンクは少なくとも二つ設けられることとなるので、後述
する選択手段が二つの液タンクのうち一方を適宜選択し
ていることは言うまでもない。When a crucible is washed with a chemical and then rinsed with ion-exchanged water or distilled water to remove the chemical, at least two liquid tanks are provided. It goes without saying that one of the liquid tanks is appropriately selected.
【００１８】また、乾燥のための清浄空気としては、塵
や埃などの不純物が混入していない気体で、石英等ルツ
ボを形成する物質や半導体結晶と反応しない性質をもつ
ものが適している。Further, as the clean air for drying, a gas which is free from impurities such as dust and dirt and has a property of not reacting with a substance forming a crucible such as quartz or a semiconductor crystal is suitable.
【００１９】これら液タンクとエアタンクは、それぞれ
選択手段に連結されている。選択手段は、流体噴出ノズ
ルの管路を液タンク又はエアタンクのいずれか一方に繋
げて、流体噴出ノズルから噴出される流体を洗浄液また
は乾燥空気とするものである。その様な選択手段として
は、例えば、電磁切替弁や、エアー弁等が挙げられる。The liquid tank and the air tank are connected to a selection means. The selection means connects the conduit of the fluid ejection nozzle to either the liquid tank or the air tank, and converts the fluid ejected from the fluid ejection nozzle into a cleaning liquid or dry air. Examples of such selection means include an electromagnetic switching valve and an air valve.
【００２０】即ち、本発明のルツボ洗浄乾燥装置は、洗
浄予定のルツボがチャンバー内に載置されると、選択手
段が流体噴出ノズルの管路を液タンクに繋げて流体噴出
ノズルから洗浄液を噴出させ、洗浄液を一定時間噴出し
た後、選択手段が流体噴出ノズルの管路を液タンクから
エアタンクに切替えて流体噴出ノズルから乾燥空気を噴
出させる構成となっている。That is, in the crucible cleaning and drying apparatus of the present invention, when the crucible to be cleaned is placed in the chamber, the selection means connects the pipe of the fluid ejection nozzle to the liquid tank and ejects the washing liquid from the fluid ejection nozzle. After the cleaning liquid is jetted out for a certain period of time, the selecting means switches the pipe line of the fluid jetting nozzle from the liquid tank to the air tank and jets dry air from the fluid jetting nozzle.
【００２１】この選択手段による供給流体の切替えは、
選択手段に設けた切替えスイッチを作業者が時間を見計
らって切替えるような構成としても良いし、選択手段に
設けたＣＰＵとメモリとにより、予めメモリ内に記憶さ
れた洗浄液の供給時間と乾燥空気の供給時間とに基づい
て、ＣＰＵが供給流体の切替えを行う構成としても良
い。The switching of the supply fluid by the selection means is as follows.
The configuration may be such that the operator switches the changeover switch provided on the selection means at a certain time, or the CPU and the memory provided on the selection means may supply the cleaning liquid supply time and the dry air stored in the memory in advance. The configuration may be such that the CPU switches the supply fluid based on the supply time.
【００２２】後者の構成の場合、洗浄予定のルツボをチ
ャンバー内に載置した後に作業者が運転スイッチを入れ
れば洗浄が開始され、一定時間経過後に自動的に乾燥が
行われるような自動式としてもよいし、洗浄予定のルツ
ボをチャンバー内に載置するとセンサがルツボを感知し
て自動的に洗浄開始のスイッチを入れ、洗浄および乾燥
を行うような完全自動式としても良い。In the case of the latter configuration, the cleaning is started when the operator turns on the operation switch after the crucible to be cleaned is placed in the chamber, and the drying is automatically performed after a certain period of time. Alternatively, when a crucible to be cleaned is placed in the chamber, the sensor detects the crucible and automatically switches on the start of cleaning, and may be a fully automatic type in which cleaning and drying are performed.
【００２３】この様に本発明は、ルツボの洗浄と乾燥を
同一の装置で行えるため、従来の洗浄乾燥装置よりも小
さくコンパクトな装置とすることが可能である。尚、ル
ツボの大きさが従来よりも大きくなればなるほど、従来
の構成の乾燥洗浄装置よりも本発明のルツボ洗浄乾燥装
置の方がコンパクトとなるので、特に、本発明のルツボ
洗浄乾燥装置は従来よりも大口径のルツボを洗浄するの
に適している。As described above, according to the present invention, since the cleaning and drying of the crucible can be performed by the same apparatus, it is possible to make the apparatus smaller and more compact than the conventional cleaning and drying apparatus. In addition, as the size of the crucible becomes larger than before, the crucible washing and drying apparatus of the present invention becomes more compact than the drying and washing apparatus of the conventional configuration. Suitable for cleaning large diameter crucibles.
【００２４】勿論、ルツボを洗浄室から乾燥室へと搬送
する必要がないため、搬送途中で塵や埃等がルツボに付
着する等の恐れもない。更に、ルツボの洗浄と乾燥を連
続的に行えるため、ルツボの洗浄から乾燥までにかかる
時間を従来よりも短縮することができる。Needless to say, there is no need to transport the crucible from the cleaning chamber to the drying chamber, so there is no danger that dust and dirt adhere to the crucible during the transportation. Further, since cleaning and drying of the crucible can be performed continuously, the time required from cleaning to drying of the crucible can be shortened as compared with the conventional case.
【００２５】また、請求項２にかかる発明では、請求項
１に記載のルツボ洗浄乾燥装置において、前記流体噴出
ノズルは、前記ルツボの表面の一部に向って流体を噴出
させる部分噴射ノズルを備え、前記載置台と前記部分噴
射ノズルとを相対的に移動させて、前記載置台上の前記
ルツボの全面に流体を噴出させる相対移動手段を更に備
えていることを特徴とするものとしている。According to a second aspect of the present invention, in the crucible washing and drying apparatus according to the first aspect, the fluid ejection nozzle includes a partial ejection nozzle for ejecting a fluid toward a part of the surface of the crucible. And a relative moving means for relatively moving the mounting table and the partial ejection nozzle to eject a fluid to the entire surface of the crucible on the mounting table.
【００２６】即ち、本発明では、流体噴出ノズルは、噴
射領域がルツボの表面の一部分である部分噴射ノズルを
備え、部分噴射ノズルの噴射領域がルツボの全表面をカ
バーするように、相対移動手段が部分噴射ノズル又は載
置台のいずれか一方を動かすものとしている。That is, according to the present invention, the fluid ejection nozzle has a partial ejection nozzle whose ejection area is a part of the surface of the crucible, and the relative movement means such that the ejection area of the partial ejection nozzle covers the entire surface of the crucible. Moves either the partial injection nozzle or the mounting table.
【００２７】例えば、部分噴射ノズルをルツボの内面側
と外面側とのそれぞれに設け、相対移動手段が二つの部
分噴射ノズル又は載置台のいずれか一方を動かすことに
より、部分噴射ノズルの噴射領域がルツボの全内面又は
全外面をカバーする構成とすれば、ルツボの全内外面に
対して一度に流体を噴出させる構成のノズルを設けた時
よりも比較的高い圧力の流体をルツボ表面に対して供給
できるので、洗浄力又は乾燥力が上がることとなる。こ
れにより、短い時間でルツボの洗浄及び乾燥を行うこと
が可能である。For example, the partial injection nozzles are provided on the inner surface side and the outer surface side of the crucible, respectively, and the relative movement means moves one of the two partial injection nozzles or the mounting table, so that the injection area of the partial injection nozzles is changed. If it is configured to cover the entire inner surface or the entire outer surface of the crucible, a relatively higher pressure fluid is applied to the crucible surface than when a nozzle configured to eject the fluid to the entire inner and outer surface of the crucible at once is provided. Since it can be supplied, the cleaning power or the drying power is increased. This makes it possible to clean and dry the crucible in a short time.
【００２８】この相対移動手段は、例えば、モータやカ
ム機構等により回転や平行移動又は揺動等の運動をノズ
ル又は載置台に対して生じさせるものであり、ノズルの
形状及び配置はこの相対移動手段の相対移動の対象およ
び種類により決定される。The relative movement means is for causing a movement such as rotation, parallel movement or swinging with respect to the nozzle or the mounting table by a motor or a cam mechanism, for example. It is determined by the object and type of relative movement of the means.
【００２９】例えば、相対移動手段が載置台をルツボの
中心軸を中心として回転させる場合、ノズルの噴射領域
は、少なくともルツボの中心から前記ルツボの開口端に
亙る直線状領域をカバーしなければならないため、少な
くともルツボの外底面中心から前記ルツボの開口端に亙
って噴出口を有する、例えば、Ｌ字形のノズルをルツボ
の横に固定して配置することとなる。For example, when the relative moving means rotates the mounting table about the center axis of the crucible, the injection area of the nozzle must cover at least a linear area extending from the center of the crucible to the open end of the crucible. Therefore, for example, an L-shaped nozzle having an ejection port extending from at least the center of the outer bottom surface of the crucible to the opening end of the crucible is fixedly arranged beside the crucible.
【００３０】また、相対移動手段がルツボの外面側でノ
ズルを平行移動させ、流体カーテン（具体的には、液体
カーテン又はエアカーテン）を形成させる場合、ノズル
の噴射領域は、少なくともルツボの直径に亙る長さの直
線状領域をカバーしなければならないため、少なくとも
ルツボの直径に亙る長さの噴出口を有するノズルをルツ
ボの上方に配置することとなる。When the relative moving means translates the nozzle in parallel on the outer surface side of the crucible to form a fluid curtain (specifically, a liquid curtain or an air curtain), the ejection area of the nozzle is at least as large as the diameter of the crucible. The need to cover a linear region over the entire length of the crucible results in a nozzle having a spout that extends at least over the diameter of the crucible.
【００３１】更に、相対移動手段がルツボの外面側のノ
ズルを揺動させる場合では、選択手段が流体噴出ノズル
の管路を液タンクからエアタンクに切替えて流体噴出ノ
ズルから乾燥空気が噴出された時にノズルが揺動される
構成とし、相対移動手段によるノズルの揺動により形成
されたエアワイパーにより液滴を追いやると同時に乾燥
させる構成としてもよい。この場合、ワイパーの噴射領
域が扇型であることから、ルツボに対し複数位置にワイ
パーを設けてそれらの全噴射領域がルツボ全外面をカバ
ーするように配置することとなる。Further, when the relative moving means swings the nozzle on the outer surface side of the crucible, when the selecting means switches the conduit of the fluid ejection nozzle from the liquid tank to the air tank and the dry air is ejected from the fluid ejection nozzle. The nozzle may be oscillated, and the air wiper formed by oscillating the nozzle by the relative moving means may drive and simultaneously dry the droplets. In this case, since the ejection area of the wiper is fan-shaped, wipers are provided at a plurality of positions with respect to the crucible, and all the ejection areas are arranged so as to cover the entire outer surface of the crucible.
【００３２】さらに、請求項３にかかる発明では、請求
項２に記載のルツボ洗浄乾燥装置において、前記部分噴
射ノズルは、前記ルツボの内面中心に設けられた内面ノ
ズルと、前記ルツボの外面中心から前記ルツボの開口端
に亙って設けられた外面ノズルとを備え、前記相対移動
手段は、ルツボの中心を中心軸として前記載置台を回転
させることを特徴とするものとしている。Further, in the invention according to claim 3, in the crucible cleaning / drying apparatus according to claim 2, the partial spray nozzle includes an inner surface nozzle provided at the center of the inner surface of the crucible, and a center of the outer surface of the crucible. An outer surface nozzle provided over an opening end of the crucible; and the relative moving means rotates the mounting table around a center of the crucible as a central axis.
【００３３】即ち、本発明では、相対移動手段として電
動モータ等の回転機構を用い、この相対移動手段がルツ
ボの中心軸を中心として載置台を回転させる構成とする
と共に、噴射ノズルの噴射領域がルツボの外面中心から
前記ルツボの開口端に亙る直線状領域をカバーするもの
としている。この様な構成の回転機構としては、例え
ば、その回転軸が載置台の回転軸と重なるよう構成さ
れ、回転機構が回転が直に載置台を回転させる構成のも
のや、回転機構が歯車を回転させ、この歯車が載置台の
外側端面と噛合して載置台を回転させる構成のもの等が
挙げられる。That is, in the present invention, a rotating mechanism such as an electric motor is used as the relative moving means, and the relative moving means is configured to rotate the mounting table about the central axis of the crucible. It covers a linear region extending from the center of the outer surface of the crucible to the open end of the crucible. As a rotation mechanism having such a configuration, for example, the rotation axis is configured to overlap with the rotation axis of the mounting table, and the rotation mechanism is configured to directly rotate the mounting table, or the rotation mechanism rotates the gear. Then, there is a configuration in which this gear meshes with the outer end surface of the mounting table to rotate the mounting table.
【００３４】尚、この場合、ルツボの内面側に配置する
ノズルとして外面側と同形のＬ字形ノズルを用い、ルツ
ボの内面側の一箇所に固定する構成としても良いが、ル
ツボ内面の中心位置に固定し３６０度に亙って流体を噴
出する構成としても装置全体としては場所を取らないの
で、ルツボの内面側に配置するノズルを外面側と同様な
Ｌ字形のノズルに限定する必要はない。In this case, an L-shaped nozzle having the same shape as the outer surface may be used as a nozzle disposed on the inner surface side of the crucible, and may be fixed to one position on the inner surface side of the crucible. Even when the apparatus is fixed and ejects the fluid over 360 degrees, the apparatus as a whole does not take up much space. Therefore, it is not necessary to limit the nozzles disposed on the inner surface side of the crucible to L-shaped nozzles similar to the outer surface side.
【００３５】また、請求項４にかかる発明では、請求項
２に記載のルツボ洗浄乾燥装置において、前記部分噴射
ノズルは、前記ルツボの内面中心に設けられた内面ノズ
ルと、前記ルツボの外面中心から前記ルツボの開口端に
亙って設けられた外面ノズルとを備え、前記回転手段
は、ルツボの中心を中心軸として前記内面ノズルと前記
外面ノズルとを回転させることを特徴とするものであ
る。According to a fourth aspect of the present invention, in the crucible cleaning / drying apparatus according to the second aspect, the partial spray nozzle includes an inner nozzle provided at the center of the inner surface of the crucible and a center located at the center of the outer surface of the crucible. An outer surface nozzle provided over an opening end of the crucible; wherein the rotating means rotates the inner surface nozzle and the outer surface nozzle around a center of the crucible as a central axis.
【００３６】即ち、本発明では、相対移動手段として電
動モータ等の回転機構を用い、この相対移動手段が内面
ノズルと外面ノズルとのそれぞれをルツボの中心を中心
軸として回転させてルツボ表面を洗浄する構成としてい
る。That is, in the present invention, a rotating mechanism such as an electric motor is used as the relative moving means, and the relative moving means rotates the inner nozzle and the outer nozzle about the center of the crucible as a center axis to clean the crucible surface. Configuration.
【００３７】尚、この場合も、ルツボの内面側に配置す
るノズルを外面側と同形としてスプリンクラーのように
回転させても良いが、ルツボ内面の中心位置に固定し３
６０度に亙って流体を噴出する構成としても装置全体と
しては場所を取らないので、ルツボの内面側に配置する
ノズルを外面側と同様なＬ字形のノズルに限定する必要
はない。Also in this case, the nozzle arranged on the inner surface side of the crucible may have the same shape as the outer surface side and may be rotated like a sprinkler, but it is fixed at the center position of the inner surface of the crucible.
Even if the configuration is such that the fluid is ejected over 60 degrees, the entire apparatus does not take up space, so it is not necessary to limit the nozzles disposed on the inner surface side of the crucible to L-shaped nozzles similar to the outer surface side.
【００３８】以上説明したすべての発明における洗浄乾
燥装置は、特に石英ルツボの洗浄に適している。また、
洗浄対象となるルツボもどのようなサイズでもよいが、
特に本発明の洗浄乾燥装置は、ルツボのサイズが大きく
なればなるほど、その効果を発揮する。The cleaning and drying apparatus according to all the inventions described above is particularly suitable for cleaning a quartz crucible. Also,
The crucible to be cleaned may be of any size,
In particular, the cleaning and drying apparatus of the present invention exerts its effect as the size of the crucible increases.
【００３９】[0039]
【実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図１に示し
て詳細に説明するが、勿論、本発明はこの実施形態のみ
に限定されるものではない。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to FIG. 1, but of course the present invention is not limited to this embodiment.
【００４０】図１（ａ）は、本発明のルツボ反転装置を
簡単に示した概略説明図であり、図１（ｂ）は本発明の
ルツボ反転装置に用いられるルツボ載置台２の上面図で
ある。この図では、清浄空気が充填されたチャンバー１
内に、洗浄対象である石英ルツボ８が載置される載置台
２と、載置台２の石英ルツボ８の内面側と外面側とのそ
れぞれに流体噴出ノズルである内面噴射ノズル３ａと外
面噴射ノズル３ｂとが固定配置されている。そして、チ
ャンバー１の上部にはＨＥＰＡフィルタ９ａが設けられ
ており、チャンバー１内が清浄度クラス１００に保たれ
ている。FIG. 1 (a) is a schematic explanatory view simply showing a crucible reversing device of the present invention, and FIG. 1 (b) is a top view of a crucible mounting table 2 used in the crucible reversing device of the present invention. is there. In this figure, chamber 1 filled with clean air
Inside, the mounting table 2 on which the quartz crucible 8 to be cleaned is mounted, and the inner jet nozzle 3a and the outer jet nozzle which are fluid jet nozzles on the inner surface and the outer surface of the quartz crucible 8 of the mounting table 2, respectively. 3b are fixedly arranged. An HEPA filter 9a is provided on the upper part of the chamber 1, and the inside of the chamber 1 is maintained at a cleanliness class 100.
【００４１】載置台２は、石英ルツボ８の中心を中心と
して回転可能に構成され、相対移動手段である電動モー
タ４によりその回転方向および速度が制御されている。
この載置台２の石英ルツボ載置面側には、石英ルツボ８
を載置するために図１（ｂ）に示したような４つの凸部
２ｃが設けられると共に、洗浄液又は乾燥空気を石英ル
ツボ８の外面側に排出するための開口２ａ、２ｂが設け
られており、これら凸部２ｃ以外の面は開口２ａ、２ｂ
に向って洗浄液が流れるように傾斜が付けられている。The mounting table 2 is configured to be rotatable around the center of the quartz crucible 8, and its rotation direction and speed are controlled by an electric motor 4 as relative moving means.
A quartz crucible 8 is placed on the quartz crucible placing surface side of the placing table 2.
Are provided with four convex portions 2c as shown in FIG. 1 (b), and openings 2a and 2b for discharging the cleaning liquid or dry air to the outer surface side of the quartz crucible 8 are provided. And the surfaces other than these convex portions 2c are the openings 2a, 2b
The cleaning liquid is inclined so that the cleaning liquid flows toward the cleaning liquid.
【００４２】尚、この実施形態では、載置台上に石英ル
ツボを載置するために４つの凸部を設ける構成とした
が、例えば、石英ルツボの口端と合致する円環状凸部等
のように別の構成としてもよい。In this embodiment, four convex portions are provided for mounting the quartz crucible on the mounting table. However, for example, an annular convex portion matching the mouth end of the quartz crucible or the like is used. Alternatively, another configuration may be adopted.
【００４３】更に載置台２の中心には、相対移動手段で
ある電動モータ４が設けられており、この電動モータ４
の中心軸は、後述する内面噴射ノズル３ａに流体を供給
するための管路を通すために中空となっている。尚、こ
の電動モータ４は、図示しない制御系からの指示により
始動又は停止して載置台１の回転状態を制御している。Further, an electric motor 4 as a relative moving means is provided at the center of the mounting table 2.
Is hollow for passing a conduit for supplying a fluid to an inner surface injection nozzle 3a described later. The electric motor 4 is started or stopped by an instruction from a control system (not shown) to control the rotation state of the mounting table 1.
【００４４】載置台２上には直径約１ｍ、高さ約０．６
ｍの石英ルツボが内面を下方に向けて載置されており、
この石英ルツボ８の内側と外側のそれぞれには内面噴射
ノズル３ａと外面噴射ノズル３ｂとが配置されている。
内面噴射ノズル３ａは、石英ルツボ８の内底面中心から
開口の一端に亙る略直線上に洗浄液又は乾燥空気を噴出
する噴出口を備えており、外面噴射ノズル３ｂは石英ル
ツボ８の外底面中心から開口の一端に亙る略直線上に洗
浄液又は乾燥空気を噴出する噴出口を備えている。The mounting table 2 has a diameter of about 1 m and a height of about 0.6.
m quartz crucible is placed with its inner surface facing down,
An inner jet nozzle 3a and an outer jet nozzle 3b are arranged inside and outside the quartz crucible 8, respectively.
The inner jet nozzle 3a has a jet port for jetting a cleaning liquid or dry air in a substantially straight line extending from the center of the inner bottom surface of the quartz crucible 8 to one end of the opening. A jet port for jetting a cleaning liquid or dry air is provided substantially linearly over one end of the opening.
【００４５】これら内面噴射ノズル３ａと外面噴射ノズ
ル３ｂには、チャンバー１の外側に設けられたポンプＰ
により、一定の噴出圧の流体が供給されている。チャン
バー１の外部にはポンプＰの他に洗浄液である超純水を
保持した液タンク７と、乾燥空気として圧縮空気を貯留
したエアタンク６と、選択手段である電磁切替弁５ａと
が設けられており、液タンク７とエアタンク６との両方
が電磁切替弁５ａに連結されている。The inner jet nozzle 3a and the outer jet nozzle 3b are provided with pumps P provided outside the chamber 1.
Thus, a fluid having a constant ejection pressure is supplied. Outside the chamber 1, in addition to the pump P, a liquid tank 7 holding ultrapure water as a cleaning liquid, an air tank 6 storing compressed air as dry air, and an electromagnetic switching valve 5a as selection means are provided. In addition, both the liquid tank 7 and the air tank 6 are connected to the electromagnetic switching valve 5a.
【００４６】これら液タンク７とエアタンク６は、電磁
切替弁５ａの切替え状態に応じてどちらか一方の流路が
ポンプＰへ繋げられ、内面噴射ノズル３ａと外面噴射ノ
ズル３ｂとに流体を供給している。尚、チャンバー１の
清浄度を保つため、エアタンク６と電磁切替弁５ａとの
間には、ガスラインフィルタ９ｂが設けられている。Either the liquid tank 7 or the air tank 6 has one of the flow paths connected to the pump P in accordance with the switching state of the electromagnetic switching valve 5a, and supplies fluid to the inner jet nozzle 3a and the outer jet nozzle 3b. ing. In order to maintain the cleanliness of the chamber 1, a gas line filter 9b is provided between the air tank 6 and the electromagnetic switching valve 5a.
【００４７】電磁切替弁５ａは、ＣＰＵとメモリとを有
する制御装置５ｂによりその作動が制御されている。制
御装置５ｂのメモリ内には洗浄液噴出時間と乾燥空気噴
出時間とが設定されており、スタートスイッチが入れら
れると、電磁切替弁５ａに対してこれらの時間に基づい
た指示を出すようになっている。The operation of the electromagnetic switching valve 5a is controlled by a control device 5b having a CPU and a memory. The cleaning liquid ejection time and the dry air ejection time are set in the memory of the control device 5b, and when the start switch is turned on, an instruction based on these times is issued to the electromagnetic switching valve 5a. I have.
【００４８】例えば、図示しないスタートスイッチが入
れられると、制御装置５ｂは液タンク７を３０分間選択
するように電磁切替弁５ａに指示を出す。これにより、
電磁切替弁５ａが、液タンク７の流路を３０分間ポンプ
Ｐに繋げるため、内面噴射ノズル３ａと外面噴射ノズル
３ｂから洗浄液が３０分間一定の噴出圧で噴出されるこ
ととなる。この時、載置台２も電動モータ４により同時
に回転され、石英ルツボ８の全表面に対して万遍なく洗
浄液が噴射されて石英ルツボ８が洗浄される。For example, when a start switch (not shown) is turned on, the controller 5b issues an instruction to the electromagnetic switching valve 5a to select the liquid tank 7 for 30 minutes. This allows
Since the electromagnetic switching valve 5a connects the flow path of the liquid tank 7 to the pump P for 30 minutes, the cleaning liquid is jetted from the inner jet nozzle 3a and the outer jet nozzle 3b at a constant jet pressure for 30 minutes. At this time, the mounting table 2 is also rotated by the electric motor 4 at the same time, and the cleaning liquid is uniformly sprayed on the entire surface of the quartz crucible 8 to clean the quartz crucible 8.
【００４９】３０分経過後、制御装置５ｂは電磁切替弁
５ａに対し液タンク７とポンプＰとの接続を断って、エ
アタンク６を１分間選択するように指示を出す。これに
より、電磁切替弁５ａが、液タンク７とポンプＰとの接
続を断って、エアタンク６の流路を１分間ポンプＰに繋
げるため、内面噴射ノズル３ａと外面噴射ノズル３ｂか
ら洗浄液の代わりに乾燥空気が１分間一定の噴出圧で噴
出されることとなる。After a lapse of 30 minutes, the control device 5b instructs the electromagnetic switching valve 5a to disconnect the connection between the liquid tank 7 and the pump P and select the air tank 6 for one minute. As a result, the electromagnetic switching valve 5a disconnects the connection between the liquid tank 7 and the pump P and connects the flow path of the air tank 6 to the pump P for one minute. Therefore, instead of the cleaning liquid from the inner jet nozzle 3a and the outer jet nozzle 3b, Dry air is jetted at a constant jet pressure for one minute.
【００５０】１分間経過後、制御装置５ｂは電磁切替弁
５ａに対しエアタンク６とポンプＰとの接続を断つよう
指示を出す。これにより、電磁切替弁５ａが、エアタン
ク６とポンプＰとの接続を断つため、乾燥空気の噴出が
停止する。石英ルツボ８は、その後も清浄空気が充填さ
れたチャンバー１内にしばらく放置されて完全に乾燥
し、これらの動作により、石英ルツボ８の洗浄および乾
燥が終了する。After a lapse of one minute, the control device 5b instructs the electromagnetic switching valve 5a to disconnect the connection between the air tank 6 and the pump P. Thereby, the electromagnetic switching valve 5a disconnects the connection between the air tank 6 and the pump P, so that the ejection of the dry air is stopped. The quartz crucible 8 is then left for a while in the chamber 1 filled with clean air to be completely dried, and the cleaning and drying of the quartz crucible 8 are completed by these operations.
【００５１】以上述べた構成では、手動により制御装置
５ｂが始動する構成としたが、例えば、チャンバー１内
にセンサを設けておき、ルツボ８がチャンバー１内の所
定位置に配置されるか、ルツボ８を配置後にチャンバー
１が密封状態になると、センサが制御装置５ｂに電気信
号を発する構成等のように、ルツボ８をチャンバー１内
に入れるだけで自動的に洗浄が開始される構成としても
良い。In the above-described configuration, the control device 5b is started manually. However, for example, a sensor is provided in the chamber 1 and the crucible 8 is disposed at a predetermined position in the chamber 1 or the crucible 8 is disposed. When the chamber 1 is sealed after the arrangement of the crucible 8, the cleaning may be automatically started just by inserting the crucible 8 into the chamber 1, such as a configuration in which a sensor issues an electric signal to the control device 5b. .
【００５２】また、洗浄液、乾燥空気及びチャンバー内
の温度については特に限定していないが、例えば、洗浄
の際に用いる洗浄液を５０〜９０℃位の温水としたり、
乾燥の際に用いる乾燥空気を３０〜５０℃位の温風とし
たり、乾燥の際にさらに赤外線ランプやヒーター等の二
次的な熱源を用いる等とすることによって、石英ルツボ
がよりはやく乾燥するので乾燥時間が短縮されて好まし
い。The cleaning liquid, the dry air and the temperature in the chamber are not particularly limited. For example, the cleaning liquid used for cleaning may be hot water of about 50 to 90 ° C.
By using dry air used for drying at a temperature of about 30 to 50 ° C. or using a secondary heat source such as an infrared lamp or a heater at the time of drying, the quartz crucible dries more quickly. Therefore, the drying time is preferably shortened.
【００５３】[0053]
【発明の効果】以上のように、本発明のルツボ洗浄乾燥
装置によれば、一つの密閉チャンバー内でルツボの洗浄
と乾燥とを行うことができるので、洗浄室から乾燥室へ
の搬送中に空気中の塵や埃が付着する恐れがない。更
に、ルツボの洗浄と乾燥を連続的に行えるため、ルツボ
の洗浄から乾燥までにかかる時間を従来よりも短縮する
ことができる。As described above, according to the crucible cleaning and drying apparatus of the present invention, the cleaning and drying of the crucible can be performed in one closed chamber. There is no danger of dust and dust in the air. Further, since cleaning and drying of the crucible can be performed continuously, the time required from cleaning to drying of the crucible can be shortened as compared with the conventional case.
【００５４】また、本発明のルツボ洗浄乾燥装置は、洗
浄と乾燥とを同一のチャンバー内において行う構成であ
るので、従来よりも大口径な半導体結晶を製造するため
に設計された大型のルツボ用のルツボ洗浄乾燥装置であ
っても、洗浄装置と乾燥装置とを別々に構成した従来の
装置よりもコンパクトなものとすることができる。Further, since the cleaning and drying apparatus of the present invention has a structure in which cleaning and drying are performed in the same chamber, a large crucible designed for manufacturing a semiconductor crystal having a larger diameter than the conventional one is used. The crucible cleaning / drying apparatus can be more compact than the conventional apparatus in which the cleaning apparatus and the drying apparatus are separately configured.
【図１】本発明の実施の形態の一例に係るルツボ洗浄乾
燥装置の概略説明図である。FIG. 1 is a schematic explanatory view of a crucible cleaning / drying apparatus according to an example of an embodiment of the present invention.
１ ：チャンバー ２ ：載置台 ２ａ、２ｂ：開口 ２ｃ ：凸部 ３ａ ：内面噴射ノズル ３ｂ ：外面噴射ノズル ４ ：電動モータ ５ａ ：電磁切替弁 ５ｂ ：制御装置 ６ ：エアタンク ７ ：液タンク ８ ：石英ルツボ ９ａ ：ＨＥＰＡフィルタ ９ｂ ：ガスラインフィルタ Ｐ ：ポンプ 1: chamber 2: mounting table 2a, 2b: opening 2c: convex portion 3a: inner jet nozzle 3b: outer jet nozzle 4: electric motor 5a: electromagnetic switching valve 5b: control device 6: air tank 7: liquid tank 8: quartz crucible 9a: HEPA filter 9b: Gas line filter P: Pump
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｆ２６Ｂ 9/00 Ｆ２６Ｂ 9/00 Ｅ (72)発明者 蔵本 誠 東京都千代田区丸の内１−４−２ 株式会 社スーパーシリコン研究所内 (72)発明者 町田 倫久 東京都千代田区丸の内１−４−２ 株式会 社スーパーシリコン研究所内 (72)発明者 白石 裕 東京都千代田区丸の内１−４−２ 株式会 社スーパーシリコン研究所内 (72)発明者 高野 清隆 東京都千代田区丸の内１−４−２ 株式会 社スーパーシリコン研究所内 (72)発明者 飯田 哲広 東京都千代田区丸の内１−４−２ 株式会 社スーパーシリコン研究所内Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical indication F26B 9/00 F26B 9/00 E (72) Inventor Makoto Kuramoto 1-4-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Stock Association Inside the Super Silicon Research Laboratories (72) Inventor Norihisa Machida 1-4-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Co., Ltd. Inside the Super Silicon Research Laboratories (72) Yutaka Shiraishi 1-4-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Super Co., Ltd. Inside Silicon Research Laboratory (72) Inventor Kiyotaka Takano 1-4-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Super Silicon Laboratories (72) Inventor Tetsuhiro Iida 1-4-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Research on Super Silicon Corporation Inside
Claims (4)
られるルツボを洗浄する装置であって、 内面を下方に伏せた状態のルツボを保持する載置台と、 前記ルツボの外面と内面とのそれぞれに向って流体を噴
出させる流体噴出ノズルと、 清浄空気が充填され、前記載置台と前記流体噴出ノズル
および前記載置台上の前記ルツボを内包するチャンバー
と、 前記ルツボの洗浄液を貯留した液タンクと、 乾燥のための清浄空気を貯留したエアタンクと、 前記液タンク内の洗浄液又は前記エアタンク内の清浄空
気のいずれか一方を選択的に流体噴出ノズルに供給する
選択手段と、を備えていることを特徴とするルツボ洗浄
乾燥装置。1. An apparatus for cleaning a crucible used for melting a polycrystalline semiconductor material, comprising: a mounting table for holding a crucible having an inner surface face down; and an outer surface and an inner surface of the crucible, respectively. A fluid ejection nozzle for ejecting a fluid toward the container, a chamber filled with clean air and containing the crucible on the mounting table, the fluid ejection nozzle and the mounting table, and a liquid tank storing a cleaning liquid for the crucible. An air tank storing clean air for drying, and a selection unit for selectively supplying either a cleaning liquid in the liquid tank or clean air in the air tank to a fluid ejection nozzle. Crucible washing and drying equipment.
面の一部に向って流体を噴出させる部分噴射ノズルを備
え、 前記載置台と前記部分噴射ノズルとを相対的に移動させ
て、前記載置台上の前記ルツボの全面に流体を噴出させ
る相対移動手段を更に備えていることを特徴とする請求
項１に記載のルツボ洗浄乾燥装置。2. The liquid ejection nozzle according to claim 1, further comprising a partial ejection nozzle for ejecting a fluid toward a part of the surface of the crucible, wherein the mounting table and the partial ejection nozzle are relatively moved. 2. The crucible cleaning and drying apparatus according to claim 1, further comprising relative moving means for ejecting a fluid to the entire surface of the crucible on the mounting table.
面中心に設けられた内面ノズルと、前記ルツボの外面中
心から前記ルツボの開口端に亙って設けられた外面ノズ
ルとを備え、 前記相対移動手段は、ルツボの中心を中心軸として前記
載置台を回転させることを特徴とする請求項２に記載の
ルツボ洗浄乾燥装置。3. The partial injection nozzle includes an inner nozzle provided at the center of the inner surface of the crucible, and an outer nozzle provided from the center of the outer surface of the crucible to the open end of the crucible. 3. The apparatus according to claim 2, wherein the moving unit rotates the mounting table around the center of the crucible as a central axis.
面中心に設けられた内面ノズルと、前記ルツボの外面中
心から前記ルツボの開口端に亙って設けられた外面ノズ
ルとを備え、 前記相対移動手段は、ルツボの中心を中心軸として前記
内面ノズルと前記外面ノズルとを回転させることを特徴
とする請求項２に記載のルツボ洗浄乾燥装置。4. The partial injection nozzle includes: an inner nozzle provided at the center of the inner surface of the crucible; and an outer nozzle provided from the center of the outer surface of the crucible to the open end of the crucible. The crucible cleaning and drying apparatus according to claim 2, wherein the moving means rotates the inner nozzle and the outer nozzle around a center of the crucible as a central axis.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24544296A JPH1072275A (en) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | Device for cleaning and drying crucible |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24544296A JPH1072275A (en) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | Device for cleaning and drying crucible |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1072275A true JPH1072275A (en) | 1998-03-17 |
Family
ID=17133731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24544296A Pending JPH1072275A (en) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | Device for cleaning and drying crucible |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1072275A (en) |
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