JPH1036891A - インキ洗浄剤 - Google Patents
インキ洗浄剤Info
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- JPH1036891A JPH1036891A JP20021696A JP20021696A JPH1036891A JP H1036891 A JPH1036891 A JP H1036891A JP 20021696 A JP20021696 A JP 20021696A JP 20021696 A JP20021696 A JP 20021696A JP H1036891 A JPH1036891 A JP H1036891A
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Abstract
対するダメージ及びスキージの膨潤率が低く、オゾン層
破壊のないインキ洗浄剤を提供する。 【解決手段】 γ−ブチロラクトン10〜50重量%と
一般式1のグリコールエーテルアセテート50〜90重
量%を含有するインキ洗浄剤。 (R1はC1〜3のアルキル基又はアルケニル基、R2
はC2〜5のアルキレン基、mは1〜4の整数を示す)
Description
特にスクリーン印刷時に使用されるインキやペースト等
を洗浄するのに好適な洗浄剤に関するものである。
をはじめとして広く活用されているが、これは絹、ナイ
ロン、テトロンなどの繊維、あるいはステンレスの針金
などで織った布地(スクリーン)を枠に張って四周を固
定し、その上に手工的、または光化学的方法で乳剤膜を
作って必要な画線以外の目をふさぎ、パターンを形成し
たスクリーンと、スキージと呼ばれるウレタン製ゴムを
取り付けた道具を使い、印刷を行なうものである。印刷
を終えたスクリーンとスキージは保管または再使用のた
め、スクリーンおよびスキージに付着、残留したインキ
を洗浄、除去する必要がある。
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、1,1,1−トリクロロエタン等の塩素系有機溶
剤が広く使われてきた。しかし、これらは洗浄剤として
極めて優れたものであるが、化学的に安定であるため成
層圏に達してここで強い紫外線により分解され塩素が生
成してこれがオゾン層を破壊し、地上に達する有害な紫
外線を増加させる結果、人類を含む地球上の生態系に深
刻な影響を与えることが近年指摘され、これらの生産と
消費を規制し、1995年に全廃された。
響の少ない非ハロゲン系の代替洗浄剤への期待が高まっ
ている中で、特開平5−125396号公報、特開平6
−79852号公報、特開平6−93292号公報、特
開平8−120297号公報ではγ−ブチロラクトンか
らなる洗浄剤の技術も開発されている。しかし、特開平
5−125396号公報に示されている実施例1のγ−
ブチロラクトンと水からなる組成物および特開平6−7
9852号公報に示されている実施例10のγ−ブチロ
ラクトン、グリコールエーテル、水からなる組成物で
は、水が添加されたことによりインキ溶解性が極端に低
下するとともに、乳剤に対する影響もγ−ブチロラクト
ン単独で使用するよりも大きくなるなどインキ洗浄剤と
して実用上問題が多い。また、特開平6−93292号
公報ではグリコールエーテル、γ−ブチロラクトン、二
塩基酸エステルからなる組成物が提案されているが、γ
−ブチロラクトンとグリコールエーテルアセテートを組
み合わせることを示唆する記載はない。また、特開平8
−120297号公報に示されているγ−ブチロラクト
ン単独や二塩基酸エステルとの組み合わせでは乳剤やス
キージに対する影響が大き過ぎる。以上のごとく、これ
まで提案されてきた組成物では仮にインキ洗浄が可能で
あっても、被洗物であるスクリーンの乳剤に対するダメ
ージが大きく、スキージゴムを大きく膨潤させるため、
スクリーン版やスキージの寿命を短くし、大きなコスト
アップ要因となることから、実用的にはインキ洗浄剤と
して使用されていないのが現状である。
キ、ペーストに対し、高い洗浄力を示す一方、特にスク
リーン表面でパターンを形成している乳剤に対するダメ
ージ及び印刷時に使用するスキージの膨潤率が低く、か
つ、引火の危険性が低く、オゾン層破壊の恐れが全くな
いインキ洗浄剤を提供するものである。
達成するため鋭意検討を重ねた結果、γ−ブチロラクト
ンとグリコールエーテルアセテートを特定の配合量で混
合することにより、インキ洗浄力を殆ど損なうことなく
版材へのダメージやスキージ膨潤率を著しく低減できる
ことを見出した。また、γ−ブチロラクトンとグリコー
ルエーテルアセテートを必須成分とし、特定の配合割合
で混合したベース溶剤に、一般式(2)で表わされるグ
リコールエーテルのジアルキルエーテルまたは二塩基酸
エステルを組み合わせることにより、上記効果がさらに
顕著になることを見出し、本発明を完成した。
チロラクトン10〜50重量%、(b)下記式(1)で
表されるグリコールエーテルアセテート50〜90重量
%を含有するインキ洗浄剤である。 (式中、R1 は炭素数1〜3のアルキル基又はアルケニ
ル基、R2 は炭素数2〜5のアルキレン基、mは1〜4
の整数を示す。) 本発明の第二は、(a)γ−ブチロラクトン10〜50
重量%、(b)上記式(1)で表されるグリコールエー
テルアセテート10〜80重量%、(c)下記式(2)
で表わされるグリコールエーテルのジアルキルエーテル
または二塩基酸エステルから選ばれる少なくとも一種5
〜70重量%を含有するインキ洗浄剤である。
ル基、R4 は炭素数2〜5のアルキレン基、R5 は炭素
数1〜6のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキ
ル基、nは1〜4の整数を示す) 以下、本発明を詳細に説明する。
解力をそのままに、乳剤とスキージに対する影響を極限
まで抑制した溶剤組成物を見出すべく検討を重ね、次に
示すような驚くべき事実を見いだし本発明を完成するに
至った。すなわち、γ−ブチロラクトンと一般式(1)
で表されるグリコールエーテルアセテートが共存する
と、単独では非常に乏しい溶解力しか示さないグリコー
ルエーテルアセテートのインキ溶解力は、γ−ブチロラ
クトンの存在によってγ−ブチロラクトンのそれと同等
レベルにまで引き上げられる。しかもその一方で、被洗
物であるスクリーン表面の乳剤やスキージに対する影響
は低いことを見いだしたのである。
(2)で表わされるグリコールエーテルのジアルキルエ
ーテルは、単独では塩ビ系インキ、ポリエステル系イン
キに対する溶解力はほとんど示さないが、γ−ブチロラ
クトンと一般式(1)で表されるグリコールエーテルア
セテートを含むベース溶剤に添加することにより、優れ
たインキ分散効果が現れ、乳剤やスキージに対する影響
を抑制しつつ、インキ溶解力を高めることが可能とな
り、上記効果がさらに顕著になることを見いだした。ま
た二塩基酸エステルは、特にポリエステル系インキ溶解
性が高い一方、スキージの膨潤率がγ−ブチロラクトン
の約半分であることからポリエステル系インキ溶解性改
善の効果が高く、γ−ブチロラクトンの添加量削減に高
い効果を示すことを見いだした。
(1)で表されるグリコールエーテルアセテートを共存
することを必須の要件とし、これらの相乗効果を巧みに
利用したものであって、特にγ−ブチロラクトン、一般
式(1)で表されるグリコールエーテルアセテート、一
般式(2)で表わされるグリコールエーテルのジアルキ
ルエーテル、二塩基酸エステルの4成分を含有する組成
物が好適である。
クリーン表面の乳剤やスキージに対する影響を全く心配
せずにあらゆるタイプの難溶性インキを容易にスクリー
ンから溶解洗浄する事ができる。本発明の洗浄剤に使用
するγ−ブチロラクトンの添加量は、10〜50重量
%、好ましくは20〜40重量%である。添加量が10
重量%未満ではインキ溶解性が低く、また、50重量%
を越えるとスクリーン表面にパターンを形成している乳
剤に対するダメージやスキージ膨潤率が大きくなる。
ルエーテルアセテートの具体例としては、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールま
たはトリプロピレングリコール等のモノアルキルエーテ
ル又はモノアルケニルエーテルのアセテート、3−メト
キシ−1−ブチルアセテート、3−メトキシ−3−メチ
ル−1−ブチルアセテート等が挙げられる。特に3−メ
トキシ−3−メチル−1−ブチルアセテートが好適であ
る。
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、sec−ブチル、t−ブチル、n−ヘキシル、アリ
ール等が挙げられる。アルキレン基の具体例としては、
エチレン、プロピレン、ブチレン、アミレン等が挙げら
れる。これらのグリコールエーテルアセテートを単独又
は組み合わせて使用する場合の添加量は発明の第1では
全組成中に50〜90重量%、好ましくは60〜80重
量%である。添加量が50重量%未満では、スクリーン
表面にパターンを形成している乳剤に対するダメージや
スキージ膨潤率が大きくなる。また、90重量%を越え
ると洗浄力が不十分となる。発明の第2では全組成中に
10〜80重量%、好ましくは20〜60重量%が好適
である。
ルエーテルのジアルキルエーテルの具体例としては、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレング
リコールおよびトリプロピレングリコールのジアルキル
エーテル、ジアルケニルエーテル等が挙げられる。アル
キル基、アルケニル基の具体例としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチ
ル、t−ブチル、n−ヘキシル、アリール等が挙げられ
る。アルキレン基の具体例としては、エチレン、プロピ
レン、ブチレン、アミレン等が挙げられる。
は、コハク酸、グルタル酸およびアジピン酸のジアルキ
ルエステルまたはそれらの混合物が好適である。これら
のアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、t−ブ
チル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等が挙げら
れる。
ルエーテルのジアルキルエーテルまたは二塩基酸エステ
ルから選ばれる少なくとも一種を組み合わせて使用する
場合の添加量は、全組成中に5〜70重量%、好ましく
は10〜50重量%が好適である。添加量が5重量%未
満では添加効果がなく、70重量%を越えると洗浄力が
不十分となったり、スクリーン表面にパターンを形成し
ている乳剤に対するダメージやスキージ膨潤率が大きく
なったりする。
ンキ溶解力改良を目的に一般式(2)で表されるグリコ
ールエーテルのR5 が水素であるモノアルキルエーテル
を添加しても良い。
的に説明する。なお、洗浄剤の各種物性は以下のように
して測定、評価した。 (1)溶解性 各種インキ(塩ビ系印刷インキ(東洋インキ(株)社
製、商品名:SS8000)、ポリエステル系印刷イン
キ(十條化工(株)社製、商品名:Hi−PET))を
各々ガラス製シャーレに約0.2g塗布し、60分間室
温で放置後、シャーレに洗浄剤10ccを入れ10分間
揺動(50回/分)した。評価は以下の基準による。
名:メッシュコートNo.1)、ジアゾラジカル系乳剤
(メッシュ工業(株)製、商品名:メッシュコートN
o.2)、SBQ系乳剤(村上スクリーン(株)製、商
品名:FFプレート)、樹脂系乳剤(メッシュ工業
(株)製、商品名:メッシュコートNo.5))で各々
パターンの形成されているテトロン製スクリーンを小型
超音波洗浄機(47kHz、80w)を使い40℃で1
5分間洗浄した。評価は以下の基準による。
漬し、浸漬前後の重量変化量から膨潤率を計算した。評
価は以下の基準による。 ○:0%〜7%未満 △:7%〜15%未満 ×:15%以上 計算式:膨潤率=浸漬前後の重量変化量/浸漬前スキー
ジ重量*100
目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について、洗浄性試験、
乳剤に対する影響およびスキージ膨潤率の試験を行な
い、結果を表1にまとめた。γ−ブチロラクトンとの比
較で、いずれも洗浄力はほぼ同等である。また、乳剤に
対する影響とスキージ膨潤率が格段に改善された。
目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について実施例と同じ評
価試験を行った。結果を表2にまとめた。γ−ブチロラ
クトン単独の比較例1やγ−ブチロラクトンと二塩基酸
エステルのみを組み合わせた比較例2では、各種乳剤に
対する影響とスキージ膨潤率が極めて大きくなった。
の洗浄剤を得た。各洗浄剤について実施例と同じ評価試
験を行った。結果を表2にまとめた。3−メトキシ−3
−メチル−1−ブチルアセテート単独ではインキ洗浄力
が不十分であった。
の洗浄剤を得た。各洗浄剤について実施例と同じ評価試
験を行った。結果を表2にまとめた。二塩基酸エステル
単独では乳剤に対する影響とスキージ膨潤率が大きく、
塩ビ系インキの洗浄力も不十分であった。
の洗浄剤を得た。各洗浄剤について実施例と同じ評価試
験を行った。結果を表2にまとめた。ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル単独ではインキ洗浄力が不十分で
あった。
の洗浄剤を得た。各洗浄剤について実施例と同じ評価試
験を行った。結果を表2にまとめた。γ−ブチロラクト
ンに水を添加した組成ではインキ溶解力、乳剤に対する
影響、スキージ膨潤率のいずれにも問題があった。
の洗浄剤を得た。各洗浄剤について実施例と同じ評価試
験を行った。結果を表2にまとめた。γ−ブチロラクト
ンにグリコールエーテル、水を添加した組成ではインキ
溶解力、乳剤に対する影響、スキージ膨潤率のいずれに
も問題があった。
の洗浄剤を得た。各洗浄剤について実施例と同じ評価試
験を行った。結果を表2にまとめた。γ−ブチロラクト
ンにグリコールエーテル、二塩基酸エステルを添加した
組成では乳剤に対する影響とスキージ膨潤率が極めて大
きくなった。
とともに乳剤に対するダメージおよびスキージの膨潤率
が小さく、かつ、品質の安定性にも優れたものである。
しかも、ハロゲン原子を含まないのでオゾン層破壊の恐
れが全くなく、1,1,1−トリクロロエタンの代替洗
浄剤として極めて有用である。
Claims (2)
- 【請求項1】 (a)γ−ブチロラクトン10〜50重
量%、(b)下記式(1)で表されるグリコールエーテ
ルアセテート50〜90重量%を含有するインキ洗浄
剤。 (式中、R1 は炭素数1〜3のアルキル基又はアルケニ
ル基、R2 は炭素数2〜5のアルキレン基、mは1〜4
の整数を示す) - 【請求項2】 (a)γ−ブチロラクトン10〜50重
量%、(b)上記式(1)で表されるグリコールエーテ
ルアセテート10〜80重量%、(c)下記式(2)で
表わされるグリコールエーテルのジアルキルエーテルま
たは二塩基酸エステルから選ばれる少なくとも一種5〜
70重量%を含有するインキ洗浄剤。 R3 O−(R4 O)n −R5 (2) (式中、R3 は炭素数1〜3のアルキル基又はアルケニ
ル基、R4 は炭素数2〜5のアルキレン基、R5 は炭素
数1〜6のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキ
ル基、nは1〜4の整数を示す)
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP20021696A JP2919787B2 (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | インキ洗浄剤 |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2919787B2 JP2919787B2 (ja) | 1999-07-19 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP20021696A Expired - Lifetime JP2919787B2 (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | インキ洗浄剤 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US7335319B2 (en) | 2002-02-06 | 2008-02-26 | Arch Specialty Chemicals, Inc. | Semiconductor stress buffer coating edge bead removal compositions and method for their use |
JP2020015890A (ja) * | 2018-07-13 | 2020-01-30 | 株式会社リコー | インクと洗浄液のセット、洗浄方法、インクジェット印刷方法、及びインクジェット印刷装置 |
-
1996
- 1996-07-30 JP JP20021696A patent/JP2919787B2/ja not_active Expired - Lifetime
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