JPH10338848A - 電磁波シールド性接着フィルムの製造方法及び該フィルムを用いたディスプレイ - Google Patents
電磁波シールド性接着フィルムの製造方法及び該フィルムを用いたディスプレイInfo
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- JPH10338848A JPH10338848A JP14920897A JP14920897A JPH10338848A JP H10338848 A JPH10338848 A JP H10338848A JP 14920897 A JP14920897 A JP 14920897A JP 14920897 A JP14920897 A JP 14920897A JP H10338848 A JPH10338848 A JP H10338848A
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Abstract
ド性に優れるとともに赤外線遮蔽性、透明性、非視認性
および良好な接着特性を有する接着フィルムをウエブ状
で提供する。 【解決手段】導電性金属付きプラスチックフィルムの導
電性金属上に、エッチング法により開口率が80%以上
の幾何学図形を形成する工程、該幾何学図形を含む基材
の一部または全面に屈折率が1.45〜1.60の範囲
である接着剤組成物を塗布し、その塗布面あるいはその
反対面に900〜1、100nmにおける赤外線吸収率
が50%以上の樹脂組成物を塗布する工程を含みフィル
ム巻き出しからフィルム巻取りまでを連続的に行うこと
よりウエブ状の電磁波シールド性接着フィルムを得る。
Description
ラズマ)、液晶、ELなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波を遮蔽する電磁波シールド性接着フィルムの
製造方法に関する。
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の
一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズ
と放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、
ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノ
イズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要が
あるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブ
ルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。こ
れらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド
効果を期待できるが、CRT、PDPなどのディスプレ
イ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透
明であるため適用できなかった。
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法(特開平1−27880
0号公報、特開平5−323101号公報参照)が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だ電磁波シールド材(特開平5−327274号公報、
特開平5−269912号公報参照)や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料(特開昭62−57297号公報、特開平2−5
2499号公報参照)、さらには、厚さが2mm程度の
ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成
し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパター
ンを形成した電磁波シールド材料(特開平5−2838
89号公報参照)が提案されている。
明性を両立させる方法として、特開平1−278800
号公報、特開平5−323101号公報に示されている
透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導
電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚
(数100Å〜2、000Å)にすると導電層の表面抵
抗が大きくなりすぎるため、1MHz〜1GHzで要求
される30dB以上のシールド効果に対して20dB以
下と不十分であった。良導電性繊維を透明基材に埋め込
んだ電磁波シールド材(特開平5−327274号公
報、特開平5−269912号公報)では、1MHz〜
1GHzの電磁波シールド効果は40〜50dBと十分
大きいが、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配
置させるために必要な繊維径が35μmと太すぎるた
め、繊維が見えてしまい(以後視認性という)ディスプ
レイ用途には適したものではなかった。また、特開昭6
2−57297号公報、特開平2−52499号公報の
金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷し
た電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷精度の限界
からライン幅は、100μm前後となり視認性が発現す
るため適したものではなかった。さらに特開平5−28
3889号公報に記載の厚さが2mm程度のポリカーボ
ネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に
無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成した
シールド材料では、無電解めっきの密着力を確保するた
めに、透明基板の表面を粗化する必要がある。この粗化
手段として、一般にクロム酸や過マンガン酸などの毒性
の高い酸化剤を使用しなければならず、この方法は、A
BS以外の樹脂では、満足できる粗化を行うことは困難
となる。この方法により、電磁波シールド性と透明性は
達成できたとしても、透明基板の厚さを小さくすること
は困難で、フィルム化やウエブ化の方法としては適して
いなかった。さらに透明基板が厚いと、ディスプレイに
密着させることができないため、そこから電磁波の漏洩
が大きくなる。また製造面においては、シールド材料を
巻物等にすることができないため嵩高くなることや自動
化に適していないために製造コストがかさむという欠点
もある。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシール
ド性については、1MHz〜1GHzにおける30dB
以上の電磁波シールド機能の他に、ディスプレイ前面よ
り発生する900〜1、100nmの赤外線は他のVT
R機器等に悪影響を及ぼすため、これを遮蔽する必要が
ある。この他にも良好な可視光透過性、さらに可視光透
過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れを防止するため
ディスプレイ面に密着して貼付けられる接着性、シール
ド材の存在を肉眼で確認することができない特性である
非視認性も必要とされる。接着性についてはガラスや汎
用ポリマー板に対し比較的低温で容易に貼付き、長期間
にわたって良好な密着性を有することが必要である。し
かし、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性、非視
認性、接着性等の特性を同時に十分満たし、これをウエ
ブ状にした接着フィルムとしては、これまで満足なもの
は得られていなかった。本発明はかかる点に鑑み、電磁
波シールド性と赤外線遮蔽性、透明性、非視認性および
良好な接着特性を有する接着フィルムをウエブ状(巻物
状)で提供することができる電磁波シールド性接着フィ
ルムを製造することを目的とする。
の発明は、電磁波シールド性と透明性、非視認性および
取扱性の良好な電磁波シールド材料を提供するため、導
電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属をエッ
チング法により、開口率が80%以上となる幾何学図形
を形成する工程、該幾何学図形上に、屈折率が1.45
〜1.60の範囲である接着剤組成物を、該幾何学図形
を含む基材の一部または全面に塗布する工程、900〜
1、100nmにおける赤外線吸収率が50%以上の樹
脂組成物を、前記接着剤組成物が塗布された面またはそ
の反対側の面に塗布する工程を含み、各工程でフィルム
巻き出しからフィルム巻き取りまでを連続的に行うもの
である。本発明の請求項2の発明は、導電性金属付きプ
ラスチックフィルムの導電性金属をエッチング法によ
り、開口率が80%以上となる幾何学図形を形成する工
程、該幾何学図形上に、屈折率が1.45〜1.60の
範囲にあり、900〜1、100nmにおける赤外線吸
収率が50%以上の樹脂組成物を該幾何学図形を含む基
材の一部または全面に塗布する工程を含み、各工程でフ
ィルム巻き出しからフィルム巻き取りまでを連続的に行
うものである。本発明の請求項3の発明は、電磁波シー
ルド性と非視認性に優れた電磁波シールド性接着フィル
ムを提供するため、プラスチックフィルム上に導電性金
属で形成された幾何学図形のライン幅が40μm以下、
ライン間隔が200μm以上、ライン厚みが40μm以
下であると好ましいものである。本発明の請求項4の発
明は、透明性、安価、耐熱性良好で取扱性に優れた電磁
波シールド性接着フィルムを提供するため、プラスチッ
クフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムであ
ると好ましいものである。本発明の請求項5の発明は、
加工性や密着性に優れ、安価な電磁波シールド性接着フ
ィルムを提供するため、導電性金属の厚みが3〜40μ
mの銅、アルミニウムまたはニッケルの導電性金属を使
用しプラスチックフィルムへの接着面が表面粗さ1μm
以上の粗面とするものである。本発明の請求項6の発明
は、退色性が小さく、コントラストの大きい電磁波シー
ルド性接着フィルムを提供するため、導電性金属が銅で
あり、少なくともその表面が黒化処理されていると好ま
しいものである。本発明の請求項7の発明は、電場と磁
場のうち特に磁場シールド性に優れた電磁波シールド材
を提供するため、導電性金属に常磁性金属に常磁性金属
を使用するものである。本発明の請求項8の発明は、上
記の電磁波シールド性接着フィルムを用いたディスプレ
イである。また、本発明は、電磁波を発生する測定装
置、測定機器や製造装置の内部をのぞく窓や筐体に設け
て電磁波をシールドすることや電磁波から装置、機器を
守るため筐体、特に透明性を要求される窓のような部位
に設けても良い。
発明でいうプラスチックフィルムとはポリエチレンテレ
フタレート(PET)、ポリエチレンナフタレートなど
のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、EVAなどのポリオレフィン類、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリ
サルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、
ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチ
ックからなるフィルムで全可視光透過率が70%以上の
ものをいう。これらは単層で使うこともできるが、2層
以上を組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。
このうち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の点か
らポリエチレンテレフタレートが最も適している。この
基材厚みは5〜200μmが好ましい。5μm未満だと
取り扱い性が悪くなり、200μmを越えると可視光の
透過率が低下する。10〜100μmがより好ましく、
25〜50μmが最も好ましい。
は銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレ
ス、タングステン、クロム、チタンなどの金属の内の1
種または2種以上を組み合わせた合金を使うことができ
る。導電性、回路加工の容易さ、価格の点から銅、アル
ミニウムまたはニッケルが適しており、厚みが3〜40
μmの金属箔を使用すると好ましい。厚みが40μmを
超えると、細かいライン幅の形成が困難であったり、視
野角が狭くなる。また厚みが3μm未満では、表面抵抗
が大きくなり、電磁波シールド効果が劣るためである。
導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理
されたものであると、コントラストが高くなり好まし
い。また導電性金属が経時的に酸化され退色されること
が防止できる。黒化処理は、幾何学図形の形成前後で行
えばよいが、通常形成後において、プリント配線板分野
で行われている方法を用いて行うことができる。例え
ば、亜塩素酸ナトリウム(31g/l)、水酸化ナトリ
ウム(15g/l)、燐酸三ナトリウム(12g/l)
の水溶液中、95℃で2分間処理することにより行うこ
とができる。また導電性金属が、常磁性金属であると、
磁場シールド性に優れるために好ましい。かかる導電性
金属を上記プラスチックフィルムに密着させ導電性金属
付きプラスチックフィルムとするには、導電性金属の箔
あるいは、プラスチックフィルムにアクリルやエポキシ
系樹脂を主成分とした接着剤を塗布し、その接着剤を介
して貼り合わせるのが最も簡便である。導電性金属の導
電層の膜厚を小さくする必要がある場合は連続した巻物
のプラスチックフィルムに真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解・電気めっ
き法などの薄膜形成技術のうちの1または2以上の方法
を組み合わせることにより達成できる。導電性金属の膜
厚は40μm以下のものが適用できるが、膜厚が小さい
ほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シールド材料
として好ましく、18μm以下とすることがさらに好ま
しい。導電性金属付きプラスチックフィルムは、連続し
た巻物で有ることが必要であり、このためには導電性金
属の箔やプラスチックフィルムが連続した巻物であると
好ましい。導電性金属の箔の上に接着剤組成物である接
着剤ワニスを均一に塗布し、溶剤を乾燥させ、その後プ
ラスチックフィルムとロールラミネータを使用し貼り合
わせ導電性金属付きプラスチックフィルムとする。ある
いは、プラスチックフィルム上に接着剤組成物である接
着剤ワニスを均一に塗布し、溶剤を乾燥させ、その後導
電性金属とロールラミネータを使用し貼り合わせ導電性
金属付きプラスチックフィルムとし紙、プラスチックあ
るいは金属製の芯管に巻いた巻物とする。
クフィルムは、導電性金属をエッチング法により、開口
率が80%以上となるよう幾何学図形を形成する工程を
行う。 本発明中の幾何学図形とは正三角形、二等辺三
角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし
形、平行四辺形、台形などの四角形、(正)六角形、
(正)八角形、(正)十二角形、(正)二十角形などの
(正)n角形、円、だ円、星型などを組み合わせた模様
であり、これらの単位の単独の繰り返し、あるいは2種
類以上組み合わせで使うことも可能である。電磁波シー
ルド性の観点からは三角形が最も有効であるが、可視光
透過性の点からは同一のライン幅なら(正)n角形のn
数が大きいほど開口率が上がり、可視光透過性が大きく
なるので有利である。このような幾何学図形を形成させ
る方法としては、プリント配線板分野で実施されている
ケミカルエッチングプロセスを用いて行うことができ
る。この方法は、上記導電性金属付きプラスチックフィ
ルムの導電性金属表面にスクリーン印刷で幾何学図形を
形成するパターンにレジストインクを塗布しエッチング
レジストを形成する。レジストパターンの形成は、逐次
的に行い一定間隔で塗布してはずらす操作を繰り返し、
乾燥工程が必要で有れば乾燥を行う工程を付加しレジス
トパターンを形成する。また、レジストパターンを感光
性樹脂フィルムで形成する場合は、導電性金属付きプラ
スチックフィルムの導電性金属の上に感光性樹脂フィル
ムをラミネートし、幾何学図形を形成したネガあるいは
ポジフィルムを密着させ露光、現像を行いレジストパタ
ーンを連続的に形成する。その後、レジストパターンが
形成された電性金属付きプラスチックフィルムを連続し
てエッチング液に浸漬したりエッチング液をシャワーリ
ングし導電性金属をエッチングする。エッチングした
後、水洗、乾燥を行い連続した巻物とする。もちろんエ
ッチングレジスト形成工程とエッチング工程を連続した
工程で行う方法でも良く、効率が良い。この様にケミカ
ルエッチングプロセスによって作製し、ウエブ状(巻
物)のまま巻き取るのが加工効率の点から効果的であ
る。その他に幾何学図形を形成したマスクを用いて透明
プラスチックフィルム上に配した感光性樹脂層を露光、
現像し、無電解めっきや電気めっきと組合せて幾何学図
形を形成することも可能である。
m以下、ライン間隔は200μm以上、ライン厚みは4
0μm以下の範囲とされる。また幾何学図形の非視認性
の観点からライン幅は25μm以下、可視光透過率の点
からライン間隔は250μm以上、ライン厚み18μm
以下がさらに好ましい。ライン間隔は、大きいほど開口
率は向上し、可視光透過率は向上する。ディスプレイ前
面に使用する場合、開口率は80%以上が必要である
が、この値が大きくなり過ぎると、電磁波シールド性が
低下するため、ライン間隔は1mm以下とするのが好ま
しい。なお、ライン間隔は、幾何学図形の組合せ等で複
雑となる場合、繰り返し単位を基準として、その面積を
正方形の面積に換算し、その一辺の長さをライン間隔と
する。
折率は1.45〜1.60のものが使用される。これは
プラスチックフィルムと接着剤の屈折率、またはプラス
チックフィルムに導電性金属を貼り合わせるために用い
た接着剤層と接着剤の屈折率が異なると可視光透過率が
低下するためであり、屈折率が1.45〜1.60であ
ると可視光透過率の低下が少なく良好となる。幾何学図
形を被覆する接着剤とプラスチックフィルムに導電性金
属を貼り合わせるため用いた接着剤層と接着剤との屈折
率の差が0.14以下のものが特に好ましい。これはプ
ラスチックフィルム若しくはプラスチックフィルムに導
電性金属を接着剤を介して貼り合わせた場合、プラスチ
ックフィルム、導電性金属貼り合わせ接着剤と被覆する
接着剤の屈折率が異なると可視光透過率が低下するため
であり、屈折率の差が0.14以下であると可視光透過
率の低下が少なく良好となる。そのような要件を満たす
接着剤の材料としては、プラスチックフィルムがポリエ
チレンテレフタレート(n=1.575;屈折率)の場合、ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エ
ポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキ
シ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポ
キシ樹脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ
樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲ
ン化ビスフェノールなどのエポキシ樹脂(いずれも屈折
率が1.55〜1.60)を使うことができる。 エポキシ樹脂
以外では天然ゴム(n=1.52)、ポリイソプレン(n=1.
521)、ポリ−1、2−ブタジエン(n=1.50)、ポリイ
ソブテン(n=1.505〜1.51)、ポリブテン(n=1.512
5)、ポリ−2−ヘプチル−1、3−ブタジエン(n=1.
50)、ポリ−2−t−ブチル−1、3−ブタジエン(n
=1.506)、ポリ−1、3−ブタジエン(n=1.515)など
の(ジ)エン類、ポリオキシエチレン(n=1.4563)、
ポリビニルエチルエーテル(n=1.454)、ポリビニルヘ
キシルエーテル(n=1.4591)、ポリビニルブチルエー
テル(n=1. 4563)などのポリエーテル類、ポリビニル
アセテート(n=1.4665)、ポリビニルプロピオネート
(n=1.4665)などのポリエステル類、ポリウレタン
(n=1.5〜1.6)、エチルセルロース(n=1.479)、ポ
リ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポリアクリロニトリ
ル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル(n=1.52)、
ポリスルフィド(n=1.6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜
1.6)などを挙げることができる。これらは好適な可視
光透過率を発現する。
脂の場合、上記の樹脂以外に、ポリエチルアクリレート
(n=1.469)、ポリブチルアクリレート(n=1.466)、
ポリ−2−エチルヘキシルアクリレート(n=1.463)、
ポリ−t−ブチルアクリレート(n=1.464)、ポリ−3
−エトキシプロピルアクリレート(n=1.465)、ポリオ
キシカルボニルテトラメタクリレート(n=1.465)、ポ
リメチルアクリレート(n=1.472〜1.480)、ポリイソ
プロピルメタクリレート(n=1.473)、ポリドデシルメ
タクリレート(n=1.474)、ポリテトラデシルメタクリ
レート(n=1.475)、ポリ−n−プロピルメタクリレー
ト(n=1.484)、ポリ−3、3、5−トリメチルシクロ
ヘキシルメタクリレート(n=1.484)、ポリエチルメタ
クリレート(n=1.485)、ポリ−2−ニトロ−2−メチ
ルプロピルメタクリレート(n=1.487)、ポリ−1、1
−ジエチルプロピルメタクリレート(n=1.489)、ポリ
メチルメタクリレート(n=1.489)などのポリ(メタ)
アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリ
ルポリマーは必要に応じて、2種以上共重合してもよい
し、2種類以上をブレンドして使うことも可能である。
重合樹脂としてはエポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルア
クリレートなども使うこともできる。特に接着性の点か
ら、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート
が優れており、エポキシアクリレートとしては、1、6
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコール
ジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエ
ーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジ
グリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシ
ジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタ
エリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトー
ルテトラグリシジルエーテル等の(メタ)アクリル酸付
加物が挙げられる。エポキシアクリレートは分子内に水
酸基を有するため接着性向上に有効であり、これらの共
重合樹脂は必要に応じて、2種以上併用することができ
る。接着剤の主成分となるポリマーの重量平均分子量
は、1、000以上のものが使われる。分子量が1、0
00以下だと組成物の凝集力が低すぎるために被着体へ
の密着性が低下する。
ンテトラミン、キシレンジアミン、N−アミノテトラミ
ン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フ
タル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水
ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸
などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス
(ジメチルアミノメチル)フェノール、ポリアミド樹
脂、ジシアンジアミド、エチルメチルイミダゾールなど
を使うことができる。これらは単独で用いてもよいし、
2種以上混合して用いてもよい。これらの架橋・硬化剤
の添加量は上記ポリマー100重量部に対して0.1〜
50重量部、好ましくは1〜30重量部の範囲で選択す
るのが好ましい。この量が0.1重量部未満であると架
橋・硬化が不十分となり、50重量部を超えると過剰架
橋となり、接着性に悪影響を与える場合がある。本発明
で使用する樹脂組成物には必要に応じて、希釈剤、可塑
剤、酸化防止剤、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を配
合してもよい。そしてこの接着剤の樹脂組成物は、ウエ
ブ状(巻物)のプラスチックフィルムの表面に導電性金
属で形成された幾何学図形を含む基材の一部または全面
を被覆するため、塗布され、溶剤乾燥、加熱一部架橋・
硬化工程を経たのち、ウエブ状(巻物)で巻き取られ、
本発明に係わる電磁波シールド性接着フィルムにする。
この屈折率が1.45〜1.60の範囲である接着剤組
成物を幾何学図形を含む基材の一部または全面に塗布す
る工程は、ロールコーター、カーテンコーター、グラビ
アコーター等の塗工機により一定厚みに塗布され、接着
剤組成物中の溶剤を加熱などにより除去し幾何学図形を
含む基材の一部または全面に接着剤層を形成する。ま
た、必要により前記接着剤組成物が塗布された面の反対
側の面にも同様に塗布し接着剤層を形成する。
mの領域における赤外線吸収率が平均で50%以上の接
着剤樹脂組成物とする方法としては、酸化鉄、酸化セリ
ウム、酸化スズや酸化アンチモンなどの金属酸化物、ま
たはインジウム−スズ酸化物(以下ITO)、六塩化タ
ングステン、塩化スズ、硫化第二銅、クロム−コバルト
錯塩、チオール−ニッケル錯体またはアミニウム化合
物、ジイモニウム化合物(日本化薬株式会社製)または
アントラキノン系(SIR−114)、金属錯体系(S
IR−128、SIR−130、SIR−132、SI
R−159、SIR−152、SIR−162)、フタ
ロシアニン系(SIR−103)(以上三井東圧化学株
式会社製商品名)などの有機系赤外線吸収剤などを上記
接着剤組成物に含有させたり、バインダー樹脂中に分散
させた組成物を前記の接着剤組成物が塗布された面また
はその反対側の面に塗布し、赤外線吸収剤層を設ける。
ディスプレイから放射される赤外線は、他のTV、VT
R、ラジオ、パソコン等に使用される赤外線を利用した
リモコンに誤動作を与えるおそれがあるが、赤外線吸収
層を設けることにより誤動作を防止することができる。
これらの赤外線吸収性化合物のうち、最も効果的に赤外
線を吸収する効果があるのは、硫化第二銅、ITO、ア
ミニウム化合物、ジイモニウム化合物や金属錯体系など
の赤外線吸収剤である。有機系赤外線吸収剤以外の赤外
線吸収剤の場合注意すべきことは、これらの化合物の一
次粒子の粒径である。粒径が赤外線の波長より大きすぎ
ると遮蔽効率は向上するが、粒子表面で乱反射が起き、
ヘイズが増大するため透明性が低下する。一方、粒径が
赤外線の波長に比べて短かすぎると遮蔽効果が低下す
る。好ましい粒径は0.01〜5μmで0.1〜3μm
がさらに好ましい。この赤外線吸収性の材料は、ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキ
シ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂などのエポキシ系樹
脂、ポリイソプレン、ポリ−1、2−ブタジエン、ポリ
イソブテン、ポリブテンなどのジエン系樹脂、エチルア
クリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシル
アクリレート、t−ブチルアクリレートなどからなるポ
リアクリル酸エステル共重合体、ポリビニルアセテー
ト、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル系樹
脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、E
VAなどのポリオレフィン系樹脂などのバインダー樹脂
中に均一に分散される。その配合の最適量は、バインダ
ー樹脂100重量部に対して赤外線吸収性の材料が0.
01〜10重量部であるが、0.1〜5重量部がさらに
好ましい。0.01重量部未満では赤外線遮蔽効果が少
なく、10重量部を越えると透明性が損なわれる。これ
らの組成物は導電性金属付プラスチックフィルムの幾何
学図形上に形成された接着剤面またはその反対面のフィ
ルム背面に0.1〜10μmの厚さで塗布される。塗布
された、赤外線吸収性の化合物を含む組成物は熱やUV
を使って硬化させてもよい。一方、赤外線吸収性の化合
物は上述した接着剤組成物に直接混合して使うことも可
能である。その際の添加量は接着剤の主成分となるポリ
マー100重量部に対して効果と透明性から、0.01
〜5重量部が最適である。
性金属が除去された部分は密着性向上のために意図的に
凹凸を有していたり、導電性金属の背面形状を転写した
りするためにその表面で光が散乱され、透明性が損なわ
れるが、その凹凸面にプラスチックフィルムまたはプラ
スチックフィルムに導電性金属を貼り合わせる為の接着
剤と屈折率が近い接着剤が平滑に塗布されると乱反射が
最小限に押さえられ、透明性が発現するようになると考
えられる。さらにプラスチックフィルム上の導電性金属
で形成された幾何学図形は、ライン幅が非常に小さいた
め肉眼で視認されない。またピッチも十分に大きいため
見掛け上透明性を発現すると考えられる。一方、遮蔽す
べき電磁波の波長に比べて、幾何学図形のピッチは十分
に小さく、優れたシールド性を発現すると考えられる。
上記のように(a)導電性金属付きプラスチックフィル
ムの導電性金属をエッチング法により、開口率が80%
以上となる幾何学図形を形成する工程、(b)該幾何学
図形上に、屈折率が1.45〜1.60の範囲である接
着剤組成物を、該幾何学図形を含む基材の一部または全
面に塗布する工程、(c)900〜1、100nmにお
ける赤外線吸収率が50%以上の樹脂組成物を、前記接
着剤組成物が塗布された面またはその反対側の面に塗布
する工程を含み、各工程でフィルム巻き出しからフィル
ム巻き取りまでを連続的に行う電磁波シールド性接着フ
ィルムの製造方法では、各工程で連続的に作業ができ材
料やエネルギーの無駄がないため、歩留まりが良く、加
工性に優れ効率よく品質の安定した電磁波シールド性接
着フィルムを製造することができる。また、(a)導電
性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属をエッチ
ング法により、開口率が80%以上となる幾何学図形を
形成する工程、(b)該幾何学図形上に、屈折率が1.
45〜1.60の範囲にあり、900〜1、100nm
における赤外線吸収率が50%以上の樹脂組成物を該幾
何学図形を含む基材の一部または全面に塗布する工程を
含み、各工程でフィルム巻き出しからフィルム巻き取り
までを連続的に行う電磁波シールド性接着フィルムの製
造方法でも、上記と同様の各工程で連続的に作業ができ
材料やエネルギーの無駄がないため、歩留まりが良く、
加工性に優れ効率よく品質の安定した電磁波シールド性
接着フィルムを製造することができる。本発明では、プ
ラスチックフィルムに導電性金属を貼り合わせる工程、
幾何学図形を形成する工程、接着剤を塗布し接着剤層を
設ける工程を連続して行ったり、各工程を一部連続して
行っても良い。このようにして得られた電磁波シールド
性接着フィルムは、アクリル板やポリエステル板等のプ
ラスチック基板の片面に貼り付けたり、2枚のプラスチ
ック基板の間に貼り付け外形加工を行いディスプレイと
する。さらに、得られた電磁波シールド性接着フィルム
は、その接着剤面を直接PDV等の画面に密着性良く貼
り付けて使用することもできる。電磁波シールド性接着
フィルムとプラスチック基板は、ロールラミネータを用
いてプラスチック基板を連続的に供給しながら連続して
積層することができる。プラスチック基板は、無色透明
性を有するものが好ましいが、淡色であっても透明性を
有すれば良く特に限定されるものではない。厚みが0.
5〜10mmで、全光線透過率が50%以上、好ましく
は80%以上である基板が特に好ましい。これらの基板
の代表的なものとしては、ポリカーボネート、ポリメチ
ル(メタ)アクリレート、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン、アク
リロニトリル-スチレン共重合体等が挙げられる。
が、本発明はこれに限定されるものではない。 <電磁波シールド性接着フィルム1作製例>プラスチッ
クフィルムとして厚さ50μm、巻長さ300mの透明
PETフィルム(東洋紡績株式会社製商品名、A−41
00、屈折率n=1.575)を用い、その上に接着層
となるエポキシ系接着フィルム(ニカフレックスSA
F;ニッカン工業株式会社製商品名、n=1.58、厚
み20μm)を介して導電性金属である厚さ18μmの
電解銅箔を、その粗化面がエポキシ系接着フィルム側に
なるようにして、180℃、30kgf/cmの条件で
巻き出しから巻き取りまで連続して加熱ラミネートして
接着させた導電性金属付きプラスチックフィルムの巻物
を得た。得られた銅箔付きPETフィルムの巻物にフォ
トリソ工程(レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケ
ミカルエッチング−レジストフィルム剥離)を経て、塩
化鉄エッチング液によりスプレーしてライン幅25μ
m、ライン間隔500μmの銅格子パターンをPETフ
ィルム上に形成し、レジストフィルムを剥離、水洗、乾
燥して巻き出しから巻き取りまで連続して構成材料1の
巻物を得た。得られた巻物にはしわ等の外観不良は観察
されなかった。この構成材料1の可視光透過率は20%
以下であった。この構成材料1に赤外線吸収剤を含む後
述の接着剤組成物を乾燥塗布厚が約40μmになるよう
に連続的に塗布、乾燥して電磁波シールド性と透明性を
有する巻き出しから巻き取りまで連続して電磁波シール
ド性接着フィルム1の巻物を得た。その後、電磁波シー
ルド性接着フィルム1をロールラミネータを使用し市販
のアクリル板(コモグラス;株式会社クラレ製商品名、
厚み3mm)を供給して接着剤が塗布されている面が接
するようにして110℃、20Kg/cmの条件で加熱
圧着しディスプレイ素材を連続製造し、アクリル板とア
クリル板の継ぎ目でカットした。そして外形加工をして
ディスプレイを作製した。
>厚さ25μm、巻長さ400mの透明PETフィルム
上にアクリル系接着フィルム(パイララックスLF−0
200;デュポン社製、n=1.47、厚み20μm)
を介して厚さ25μmのアルミ箔を接着させた。このア
ルミ箔付きPETフィルムに電磁波シールド性接着フィ
ルム1作製例と同様のフォトリソ工程を経て、塩酸エッ
チング液によりスプレーしてライン幅25μm、ライン
間隔250μmのアルミ格子パターンをPETフィルム
上に形成し、レジストフィルムを剥離、水洗、乾燥して
巻き出しから巻き取りまで連続して構成材料2の巻物を
得た。この構成材料の可視光透過率は20%以下であっ
た。この構成材料2に赤外線吸収剤を含む後述の接着剤
を乾燥塗布厚が約30μmになるように連続的に塗布、
乾燥して巻き出しから巻き取りまで連続して電磁波シー
ルド性と透明性を有する電磁波シールド性接着フィルム
2の巻物を得た。得られた巻物にはしわ等の外観不良は
観察されなかった。その後、電磁波シールド性接着フィ
ルム2を熱プレス機を使用し市販のアクリル板(コモグ
ラス;株式会社クラレ製商品名、厚み3mm)の接着剤
が塗布されている面が接するようにして110℃、30
Kg/cm2、30分の条件で加熱圧着し、外形加工を
してディスプレイを作製した。
>厚さ50μm、巻長さ300mのPETフィルム上に
厚み20μmのアディテイブ接着剤(n=1.57)を
用い厚み2μmの無電解ニッケルめっきを形成した巻物
を得、電磁波シールド性接着フィルム1作製例と同様の
フォトリソ工程を経て、エッチング液として塩化第二銅
液によりスプレーしてライン幅12μm、ライン間隔5
00μm、厚み2μmのニッケル格子パターンをPET
フィルム上に形成し、レジストフィルムを剥離、水洗、
乾燥して巻き出しから巻き取りまで連続して構成材料3
の巻物を得た。この構成材料3の可視光透過率は20%
以下であった。この構成材料3の幾何学図形が形成され
ている面に後述の接着剤を乾燥塗布厚が約70μmにな
るように連続的に塗布、乾燥し、さらに接着剤が塗布さ
れている面とは反対側の面に、乾燥塗布厚が3μmにな
るように後述の赤外線遮蔽層(1)を連続的に塗布、乾
燥して電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シール
ド性接着フィルム3の巻物を得た。この電磁波シールド
性接着フィルム3の得られた巻物にはしわ等の外観不良
は観察されなかった。その後、電磁波シールド性接着フ
ィルム3をロールラミネータを使って市販のアクリル板
(コモグラス;株式会社クラレ製商品名、厚み3mm)
を連続して供給し、幾何学図形を被覆した接着剤が塗布
されている面が接するようにして110℃、20kgf
/cmの条件で加熱圧着しディスプレイ素材を連続製造
し、アクリル板とアクリル板の継ぎ目でカットした。そ
して外形加工をしてディスプレイを作製した。
あった。
あった。
あった。
硬化させた。そのときの屈折率は、1.49であった。
蔽層をなす組成物1のUFP−HXの代わりに硫化第二
銅(和光純薬株式会社製;ヘンシェルミキサーにより
0.5μmの平均粒径に粉砕)1重量部を用いた以外は
同じにした組成物を赤外線遮蔽層をなす組成物2とし
た。得られた組成物2の屈折率は、1.50であった。
磁波シールド性接着フィルム1作製例の手順で得たディ
スプレイを実施例1とした。 (実施例2)接着剤組成物2を使用して電磁波シールド
性接着フィルム2作製例の手順で得たディスプレイを実
施例2とした。 (実施例3)接着剤組成物3、赤外線遮蔽層をなす組成
物1を使用し電磁波シールド性接着フィルム3の手順で
得たディスプレイを実施例3とした。 (実施例4)ライン幅を25μmから35μmとした以
外は全て実施例1と同様にして得たディスプレイを実施
例4とした。 (実施例5)ライン幅を25μmから12μmとした以
外は全て実施例2と同様にして得たディスプレイを実施
例5とした。 (実施例6)ライン間隔を500μmから800μmに
し、赤外線遮蔽層をなす組成物1を赤外線遮蔽層をなす
組成物2とした以外は全て実施例3と同様にして得たデ
ィスプレイを実施例6とした。 (実施例7)ライン間隔を500μmから250μmに
し、それ以外の条件は全て実施例1と同様にして得たデ
ィスプレイを実施例7とした。 (実施例8)ライン厚を25μmから35μmにした以
外は全て実施例2と同様にして得たディスプレイを実施
例8とした。 (実施例9)導電性金属として黒化処理された銅を使用
した以外は全て実施例1と同様にして得たディスプレイ
を実施例9とした。 (実施例10)実施例1で形成した格子パターンの代わ
りに正三角形の繰り返しパターンを作製した以外の条件
は全て実施例1と同様にして得たディスプレイを実施例
10とした。 (実施例11)実施例1で形成した格子パターンの代わ
りに正六角形の繰り返しパターンを作製した以外の条件
は全て実施例1と同様にして得たディスプレイを実施例
11とした。 (実施例12)実施例1で形成した格子パターンの代わ
りに正八角形と正方形よりなるの繰り返しパターンを作
製した以外の条件は全て実施例1と同様にして得たディ
スプレイを実施例12とした。
2、000Å全面蒸着させたITO蒸着PETを使い、
パターンを形成しないで、直接接着剤組成物1を塗布し
た。その後、実施例1と同様にして得たディスプレイを
比較例1とした。 (比較例2)比較例1と同様にITOに代えて全面アル
ミ蒸着したままパターンを形成しないで、直接接着剤組
成物2を塗布した。その後比較例1と同様にして得たデ
ィスプレイを比較例2とした。 (比較例3)ライン幅を25μmから50μmにした以
外の条件は全て実施例1と同様にして得たディスプレイ
を比較例3とした。 (比較例4)ライン間隔を250μmから150μmに
した以外の条件は全て実施例2と同様にして得たディス
プレイを比較例4とした。 (比較例5)ライン厚を25μmから70μmにした以
外の条件は全て実施例2と同様にして得たディスプレイ
を比較例5とした。
性接着フィルムやディスプレイの赤外線遮蔽率、電磁波
シールド性、可視光透過率、非視認性、加熱処理前後の
接着特性、退色特性、巻物の外観を測定し、その結果を
表1、表2に示した。
3410;株式会社日立製作所製商品名)を用いて、9
00〜1、100nmの領域の赤外線吸収率の平均値を
用いた。電磁波シールド性は、同軸導波管変換器( T
WC−S−024;日本高周波株式会社製商品名)のフ
ランジ間に試料を挿入し、スペクトロアナライザー(8
510Bベクトルネットワークアナライザー;YHP製
商品名)を用い、周波数1GHzで測定した。可視光透
過率の測定は、ダブルビーム分光光度計(200−10
型;株式会社日立製作所製商品名)を用いて、400〜
800nmの透過率の平均値を用いた。非視認性は、デ
ィスプレイを0.5m離れた場所から目視して導電性金
属で形成された幾何学図形を認識できるかどうかで評価
し、認識できないものを程度に応じ非常に良、良好と
し、認識できるものをNGとした。接着力は、引張り試
験機(テンシロンUTM−4−100;東洋ボールドウ
ィン株式会社製商品名)を使用し、幅10mm、90度
方向、剥離速度50mm/分で測定した。屈折率は、屈
折計(アッベ屈折計;株式会社アタゴ光学機械製作所製
商品名)を使用し、25℃で測定した。
とAlを蒸着させたものであるが、ITOの場合電磁波
シールド性に劣り、Alの場合可視光透過率に劣る。比
較例3は、ライン幅を本発明の開口率80%以上で好ま
しくは40μm以下にするのに対し、50μmと大きい
ため可視光透過率が低く、また非視認性も悪い。比較例
4は、ライン間隔を本発明の開口率80%以上で好まし
くは200μm以上にするのに対し、150μmと間隔
が狭いためライン幅が大きい比較例3と同様、可視光透
過率が低く、また非視認性も悪い。比較例5は、開口率
80%以上で好ましくはラインの厚みを本発明の40μ
m以下にするのに対し、70μmと厚いため非視認性が
悪い。これに対して、本発明の実施例1〜12は、電磁
波シールド性が30dB以上と高く良好な電磁波シール
ド性を有する。そして、可視光線透過率が68%以上と
高く、非視認性も良好である。さらに初期接着力や80
℃で行う接着力の促進試験1,000h後でも接着力の
低下が少なく、ウエブの外観に関しても良好である。
磁波シールド性接着フィルムは実施例からも明らかなよ
うに、赤外線遮蔽性が優れており、被着体に密着して使
用できるので電磁波漏れがなくシールド機能が特に良好
である。また可視光透過率、非視認性などの光学的特性
が良好で、しかも長時間にわたって高温での接着特性に
変化が少なく良好であり、優れた接着フィルムをウエブ
状(巻物)で提供することができ、しわ等の外観不良は
無く高品質なものである。また請求項4に記載のプラス
チックフィルムをポリエチレンテレフタレートフィルム
とすることにより、透明性、耐熱性が良好な上、安価で
取り扱い性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提
供することができる。 請求項5に記載の導電性金属の
厚みが、3〜40μmの銅、アルミニウムまたはニッケ
ルの導電性金属を使用し、透明プラスチックフィルムへ
の接着面を粗面とすることにより、加工性に優れ、安価
な電磁波シールド性接着フィルムを提供することができ
る。 請求項6に記載の導電性金属を銅として、少なく
ともその表面を黒化処理されたものとすることにより、
退色性が小さく、コントラストの大きい電磁波シールド
性接着フィルムを提供することができる。 請求項7に
記載の導電性金属を常磁性金属とすることにより、磁場
シールド性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提
供することができる。請求項8に記載の上記で得られる
電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイに用いる
と、電磁波シールド性に優れ、しかも可視光透過率が高
く、非視認性が良好で鮮明な画像を快適に鑑賞すること
ができる。
Claims (8)
- 【請求項1】導電性金属付きプラスチックフィルムの導
電性金属をエッチング法により、開口率が80%以上と
なる幾何学図形を形成する工程、該幾何学図形上に、屈
折率が1.45〜1.60の範囲である接着剤組成物
を、該幾何学図形を含む基材の一部または全面に塗布す
る工程、900〜1、100nmにおける赤外線吸収率
が50%以上の樹脂組成物を、前記接着剤組成物が塗布
された面またはその反対側の面に塗布する工程を含み、
各工程でフィルム巻き出しからフィルム巻き取りまでを
連続的に行うことを特徴とする電磁波シールド性接着フ
ィルムの製造方法。 - 【請求項2】導電性金属付きプラスチックフィルムの導
電性金属をエッチング法により、開口率が80%以上と
なる幾何学図形を形成する工程、該幾何学図形上に、屈
折率が1.45〜1.60の範囲にあり、900〜1、
100nmにおける赤外線吸収率が50%以上の樹脂組
成物を該幾何学図形を含む基材の一部または全面に塗布
する工程を含み、各工程でフィルム巻き出しからフィル
ム巻き取りまでを連続的に行うことを特徴とする電磁波
シールド性接着フィルムの製造方法。 - 【請求項3】プラスチックフィルム上に導電性金属で形
成された幾何学図形のライン幅が40μm以下、ライン
間隔が200μm以上、ライン厚みが40μm以下であ
る請求項1または請求項2に記載の電磁波シールド性接
着フィルムの製造方法。 - 【請求項4】プラスチックフィルムがポリエチレンテレ
フタレートフィルムである請求項1ないし請求項3のい
ずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方
法。 - 【請求項5】導電性金属が、厚み3〜40μmの銅、ア
ルミニウムまたはニッケルの導電性金属で、プラスチッ
クフィルムへの接着面が表面粗さ1μm以上の粗面であ
る請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の電磁波シ
ールド性接着フィルムの製造方法。 - 【請求項6】導電性金属が銅であり、少なくともその表
面が黒化処理されていることを特徴とする請求項1ない
し請求項5のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フ
ィルムの製造方法。 - 【請求項7】導電性金属が常磁性金属である請求項1な
いし請求項4のいずれかに記載の電磁波シールド性接着
フィルムの製造方法。 - 【請求項8】請求項1ないし請求項7のいずれかに記載
の電磁波シールド性接着フィルムを用いたディスプレ
イ。
Priority Applications (4)
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---|---|---|---|
JP14920897A JP3870485B2 (ja) | 1997-06-06 | 1997-06-06 | 透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法 |
DE69733639T DE69733639T2 (de) | 1997-06-03 | 1997-11-21 | Klebefilm mit elektromagnetischer Abschirmung |
EP97250354A EP0883156B9 (en) | 1997-06-03 | 1997-11-21 | Electromagnetically shielding bonding film |
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---|---|
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Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP3870485B2 (ja) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002173656A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-21 | Nitto Denko Corp | 感圧性接着剤組成物、感圧性接着シート及び光学フィルム |
KR100521911B1 (ko) * | 2001-07-09 | 2005-10-13 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 전자파 차폐용 부재 및 그 제조방법 |
JP2005298634A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明複合基板の製造方法 |
JP2006179946A (ja) * | 2006-02-08 | 2006-07-06 | Kyodo Printing Co Ltd | 電磁波シールド基材、プラズマディスプレイ及びその製造方法 |
JP2007067269A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Fujimori Kogyo Co Ltd | ディスプレイ用電磁波シールド材ロール体及びその製造方法 |
JP2007080902A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 電磁波シールド材ロール体及びその製造方法 |
JP2007080901A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 電磁波シールド材ロール体の製造方法 |
JP2007096107A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 電磁波シールド材ロール体及びその製造方法 |
JP2007096106A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 電磁波シールド材ロール体及びその製造方法 |
JP2007310091A (ja) * | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Fujifilm Corp | プラズマディスプレイパネル |
EP1975698A1 (en) | 2007-03-23 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Method and apparatus for producing conductive material |
US7732038B2 (en) | 2004-07-12 | 2010-06-08 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Electromagnetic wave shielding filter |
US7737219B2 (en) | 2003-03-20 | 2010-06-15 | Lg Chem, Ltd. | Pressure sensitive adhesive composition for electro-magnetic shielding film and electro-magnetic shielding filter using the same |
US7796327B2 (en) | 2005-03-15 | 2010-09-14 | Fujifilm Corporation | Light transmitting electromagnetic wave shielding film, optical filter and plasma display panel |
US7829270B2 (en) | 2005-05-27 | 2010-11-09 | Fujifilm Corporation | Photosensitive material, method of manufacturing conductive metal film, conductive metal film and light-transmitting film shielding electromagnetic wave for plasma display panel |
-
1997
- 1997-06-06 JP JP14920897A patent/JP3870485B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4640740B2 (ja) * | 2000-12-04 | 2011-03-02 | 日東電工株式会社 | 感圧性接着剤組成物、感圧性接着シート及び光学フィルム |
JP2002173656A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-21 | Nitto Denko Corp | 感圧性接着剤組成物、感圧性接着シート及び光学フィルム |
KR100521911B1 (ko) * | 2001-07-09 | 2005-10-13 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 전자파 차폐용 부재 및 그 제조방법 |
US7037594B2 (en) | 2001-07-09 | 2006-05-02 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Electromagnetic wave shielding member and process for producing the same |
US7737219B2 (en) | 2003-03-20 | 2010-06-15 | Lg Chem, Ltd. | Pressure sensitive adhesive composition for electro-magnetic shielding film and electro-magnetic shielding filter using the same |
JP2005298634A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明複合基板の製造方法 |
JP4496828B2 (ja) * | 2004-04-09 | 2010-07-07 | 住友ベークライト株式会社 | 透明複合基板の製造方法 |
US7732038B2 (en) | 2004-07-12 | 2010-06-08 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Electromagnetic wave shielding filter |
US7796327B2 (en) | 2005-03-15 | 2010-09-14 | Fujifilm Corporation | Light transmitting electromagnetic wave shielding film, optical filter and plasma display panel |
US7829270B2 (en) | 2005-05-27 | 2010-11-09 | Fujifilm Corporation | Photosensitive material, method of manufacturing conductive metal film, conductive metal film and light-transmitting film shielding electromagnetic wave for plasma display panel |
JP2007067269A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Fujimori Kogyo Co Ltd | ディスプレイ用電磁波シールド材ロール体及びその製造方法 |
JP2007080901A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 電磁波シールド材ロール体の製造方法 |
JP2007080902A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 電磁波シールド材ロール体及びその製造方法 |
JP2007096107A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 電磁波シールド材ロール体及びその製造方法 |
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