JPH10335285A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
- Publication number
- JPH10335285A JPH10335285A JP14234197A JP14234197A JPH10335285A JP H10335285 A JPH10335285 A JP H10335285A JP 14234197 A JP14234197 A JP 14234197A JP 14234197 A JP14234197 A JP 14234197A JP H10335285 A JPH10335285 A JP H10335285A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- drive
- processing
- transmission shaft
- drive transmission
- Prior art date
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- Pending
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】天板15の下方には駆動室18が区画され
ており、駆動室18の内部には、シャッタ14を開閉駆
動するためのロッドレスシリンダ19が配置されてい
る。ロッドレスシリンダ19の駆動力は、駆動伝達軸2
7によってシャッタ14に伝達される。駆動伝達軸27
は、上下方向に延びて設けられており、天板15に形成
された開口部28に挿通されている。この開口部28に
関連して、駆動伝達軸27と天板15との間隙をシール
するシール部材38が設けられている。また、駆動室1
8内には、天板15に隣接して内部室42が形成されて
おり、この内部室42には、気体供給手段としての不活
性ガス供給源から不活性ガスが供給されるようになって
いる。 【効果】空間11内の雰囲気が駆動室18に侵入するの
を防ぐことができるので、ロッドレスシリンダ19や駆
動伝達軸27が薬液成分を含む雰囲気によって腐食され
たり、劣化したりすることがない。
ており、駆動室18の内部には、シャッタ14を開閉駆
動するためのロッドレスシリンダ19が配置されてい
る。ロッドレスシリンダ19の駆動力は、駆動伝達軸2
7によってシャッタ14に伝達される。駆動伝達軸27
は、上下方向に延びて設けられており、天板15に形成
された開口部28に挿通されている。この開口部28に
関連して、駆動伝達軸27と天板15との間隙をシール
するシール部材38が設けられている。また、駆動室1
8内には、天板15に隣接して内部室42が形成されて
おり、この内部室42には、気体供給手段としての不活
性ガス供給源から不活性ガスが供給されるようになって
いる。 【効果】空間11内の雰囲気が駆動室18に侵入するの
を防ぐことができるので、ロッドレスシリンダ19や駆
動伝達軸27が薬液成分を含む雰囲気によって腐食され
たり、劣化したりすることがない。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板およびPDP(プラズマディス
プレイパネル)用ガラス基板などの各被処理基板に対し
て、処理流体を用いて処理を行う基板処理装置に関す
る。
晶表示装置用ガラス基板およびPDP(プラズマディス
プレイパネル)用ガラス基板などの各被処理基板に対し
て、処理流体を用いて処理を行う基板処理装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程では、複数枚(た
とえば50枚)の半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」
という。)を一括して処理するバッチ式のウエハ処理装
置が用いられる場合がある。バッチ式のウエハ処理装置
の構成例を図7に示す。図7を参照して、バッチ式のウ
エハ処理装置には、処理室80内に処理液を貯留できる
複数(この例では2つ)の処理槽81,82が備えられ
ている。処理されるべきウエハは、図示しない搬送ロボ
ットによって搬送方向83に沿って搬送されて、処理槽
81,82に貯留された処理液(薬液や純水)中に順次
浸漬される。これにより、ウエハ表面の洗浄やウエハの
表面に形成された薄膜のエッチングが行われる。
とえば50枚)の半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」
という。)を一括して処理するバッチ式のウエハ処理装
置が用いられる場合がある。バッチ式のウエハ処理装置
の構成例を図7に示す。図7を参照して、バッチ式のウ
エハ処理装置には、処理室80内に処理液を貯留できる
複数(この例では2つ)の処理槽81,82が備えられ
ている。処理されるべきウエハは、図示しない搬送ロボ
ットによって搬送方向83に沿って搬送されて、処理槽
81,82に貯留された処理液(薬液や純水)中に順次
浸漬される。これにより、ウエハ表面の洗浄やウエハの
表面に形成された薄膜のエッチングが行われる。
【0003】ところで、処理槽81の上方の雰囲気に
は、処理槽81に貯留された処理液の成分が含まれてお
り、処理槽82の上方の雰囲気には、処理槽82に貯留
された処理液の成分が含まれている。処理槽81,82
に貯留されている処理液が同一である場合には特に問題
はないが、処理槽81,82に貯留されている処理液が
互いに異なる場合、処理槽81側の雰囲気と処理槽82
側の雰囲気とが混じり合うと化学反応を起こして、ウエ
ハに悪影響を及ぼすおそれがある。
は、処理槽81に貯留された処理液の成分が含まれてお
り、処理槽82の上方の雰囲気には、処理槽82に貯留
された処理液の成分が含まれている。処理槽81,82
に貯留されている処理液が同一である場合には特に問題
はないが、処理槽81,82に貯留されている処理液が
互いに異なる場合、処理槽81側の雰囲気と処理槽82
側の雰囲気とが混じり合うと化学反応を起こして、ウエ
ハに悪影響を及ぼすおそれがある。
【0004】そこで、従来の装置では、処理槽81と処
理槽82との間に、開閉可能なシャッタ84が設けられ
ており、ウエハが処理槽81から処理槽82へ移される
時以外は、シャッタ84によって処理槽81側の雰囲気
と処理槽82側の雰囲気との流通が遮断されるようにな
っている。シャッタ84は、たとえば上下方向に開閉可
能に設けられている。すなわち、処理槽81と処理槽8
2との間には、天板85によって処理室80から隔離さ
れた駆動室(図示せず)がその下方に形成されており、
この駆動室内に図示しないシャッタ駆動源が備えられて
いる。そして、天板85に形成された開口86に挿通さ
れた駆動伝達軸87によって、上記シャッタ駆動源とシ
ャッタ84とが連結されている。これにより、上記シャ
ッタ駆動源が駆動されると、駆動伝達軸87が上下動さ
れて、シャッタ84が開閉される。
理槽82との間に、開閉可能なシャッタ84が設けられ
ており、ウエハが処理槽81から処理槽82へ移される
時以外は、シャッタ84によって処理槽81側の雰囲気
と処理槽82側の雰囲気との流通が遮断されるようにな
っている。シャッタ84は、たとえば上下方向に開閉可
能に設けられている。すなわち、処理槽81と処理槽8
2との間には、天板85によって処理室80から隔離さ
れた駆動室(図示せず)がその下方に形成されており、
この駆動室内に図示しないシャッタ駆動源が備えられて
いる。そして、天板85に形成された開口86に挿通さ
れた駆動伝達軸87によって、上記シャッタ駆動源とシ
ャッタ84とが連結されている。これにより、上記シャ
ッタ駆動源が駆動されると、駆動伝達軸87が上下動さ
れて、シャッタ84が開閉される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述の従来
装置では、処理室80内の処理液成分を含む雰囲気が、
天板85に形成された開口86を介して駆動室内に侵入
し、この侵入した雰囲気によって上記シャッタ駆動源が
腐食されたり、劣化したりすることがあった。そこで、
本発明の目的は、処理室内で動作する可動部材が設けら
れた構成において、この可動部材を駆動するための駆動
源が処理流体を含む雰囲気によって腐食されたり、劣化
したりするおそれのない基板処理装置を提供することで
ある。
装置では、処理室80内の処理液成分を含む雰囲気が、
天板85に形成された開口86を介して駆動室内に侵入
し、この侵入した雰囲気によって上記シャッタ駆動源が
腐食されたり、劣化したりすることがあった。そこで、
本発明の目的は、処理室内で動作する可動部材が設けら
れた構成において、この可動部材を駆動するための駆動
源が処理流体を含む雰囲気によって腐食されたり、劣化
したりするおそれのない基板処理装置を提供することで
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段および発明の効果】上記目
的を達成するための請求項1記載の基板処理装置は、基
板に対して処理流体を供給して処理を施すための処理室
と、基板に対して処理を施すために動作する可動部材を
駆動する駆動源と、この駆動源を取り囲むように設けら
れ、上記処理室と上記駆動源とを隔離する隔壁によって
形成された駆動室と、この駆動室の隔壁に形成された開
口部と、この開口部を挿通し、上記駆動源の駆動力を上
記可動部材に伝達する駆動伝達軸と、上記開口部に設け
られて、上記駆動伝達軸と上記駆動室の隔壁との間隙を
シールするシール部材とを備えたことを特徴とするもの
である。
的を達成するための請求項1記載の基板処理装置は、基
板に対して処理流体を供給して処理を施すための処理室
と、基板に対して処理を施すために動作する可動部材を
駆動する駆動源と、この駆動源を取り囲むように設けら
れ、上記処理室と上記駆動源とを隔離する隔壁によって
形成された駆動室と、この駆動室の隔壁に形成された開
口部と、この開口部を挿通し、上記駆動源の駆動力を上
記可動部材に伝達する駆動伝達軸と、上記開口部に設け
られて、上記駆動伝達軸と上記駆動室の隔壁との間隙を
シールするシール部材とを備えたことを特徴とするもの
である。
【0007】請求項1記載の構成によれば、処理室と駆
動室とを隔てる隔壁に形成された開口部に関連してシー
ル部材が設けられているので、駆動伝達軸と開口部周縁
とに生じる隙間をシールすることができる。これによ
り、処理室内の雰囲気が、開口部から駆動室内に侵入す
るおそれがないので、処理流体を含む雰囲気によって、
駆動室内に設けられた駆動源が腐食されたり、劣化した
りするのを防ぐことができる。
動室とを隔てる隔壁に形成された開口部に関連してシー
ル部材が設けられているので、駆動伝達軸と開口部周縁
とに生じる隙間をシールすることができる。これによ
り、処理室内の雰囲気が、開口部から駆動室内に侵入す
るおそれがないので、処理流体を含む雰囲気によって、
駆動室内に設けられた駆動源が腐食されたり、劣化した
りするのを防ぐことができる。
【0008】シール部材としては、いわゆるメカニカル
シールを適用するのが好ましい。メカニカルシールを適
用することにより、駆動伝達軸と開口部との間隙をより
良好にシールすることができるので、駆動源が腐食され
たり、劣化したりするおそれをさらになくすことができ
る。また、メカニカルシールの表面部は、フッ素樹脂の
ように、駆動伝達軸との摩擦抵抗が小さい材料で構成さ
れることが好ましく、これにより、駆動伝達軸とシール
部材との摩擦による発塵を少なくすることができる。
シールを適用するのが好ましい。メカニカルシールを適
用することにより、駆動伝達軸と開口部との間隙をより
良好にシールすることができるので、駆動源が腐食され
たり、劣化したりするおそれをさらになくすことができ
る。また、メカニカルシールの表面部は、フッ素樹脂の
ように、駆動伝達軸との摩擦抵抗が小さい材料で構成さ
れることが好ましく、これにより、駆動伝達軸とシール
部材との摩擦による発塵を少なくすることができる。
【0009】請求項2記載の発明は、上記駆動室に対し
て気体を供給する気体供給手段をさらに備えたことを特
徴とする請求項1記載の基板処理装置である。請求項2
記載の構成によれば、気体供給手段によって駆動室内に
気体を供給することによって、駆動室内の気圧を処理室
内の気圧よりも高くすることができる。これにより、た
とえシール部材と駆動伝達軸との間にわずかな隙間が生
じていても、処理室内の雰囲気が駆動室内に侵入するこ
とがない。したがって、処理流体成分を含む雰囲気が駆
動室内に侵入して、駆動源が腐食されたり、劣化したり
するのを確実に防止することができる。
て気体を供給する気体供給手段をさらに備えたことを特
徴とする請求項1記載の基板処理装置である。請求項2
記載の構成によれば、気体供給手段によって駆動室内に
気体を供給することによって、駆動室内の気圧を処理室
内の気圧よりも高くすることができる。これにより、た
とえシール部材と駆動伝達軸との間にわずかな隙間が生
じていても、処理室内の雰囲気が駆動室内に侵入するこ
とがない。したがって、処理流体成分を含む雰囲気が駆
動室内に侵入して、駆動源が腐食されたり、劣化したり
するのを確実に防止することができる。
【0010】請求項3記載の発明は、上記気体供給手段
は、上記駆動室に対して不活性ガスを供給する不活性ガ
ス供給手段であることを特徴とする請求項2記載の基板
処理装置である。請求項3記載の構成によれば、気体供
給手段が不活性ガス供給手段であるから、駆動室内には
不活性ガスが充満されるので、駆動源は不活性ガスによ
り包み込まれることになる。ゆえに、酸素などを含む気
体(たとえば空気)が供給される場合に比べて、駆動源
が腐食されたり、劣化したりするおそれを一層少なくす
ることができる。
は、上記駆動室に対して不活性ガスを供給する不活性ガ
ス供給手段であることを特徴とする請求項2記載の基板
処理装置である。請求項3記載の構成によれば、気体供
給手段が不活性ガス供給手段であるから、駆動室内には
不活性ガスが充満されるので、駆動源は不活性ガスによ
り包み込まれることになる。ゆえに、酸素などを含む気
体(たとえば空気)が供給される場合に比べて、駆動源
が腐食されたり、劣化したりするおそれを一層少なくす
ることができる。
【0011】請求項4記載の発明は、上記駆動室の内部
に設けられ、上記駆動伝達軸を取り囲むように形成され
た内部室をさらに備え、上記気体供給手段は、この内部
室に対して気体を供給するものであることを特徴とする
請求項2または請求項3記載の基板処理装置である。請
求項4記載の構成によれば、駆動伝達軸を取り囲むよう
に内部室が形成されており、この内部室に気体供給手段
により気体が供給されるので、駆動伝達軸に気体を直接
に吹き付けることができる。これにより、駆動伝達軸に
付着した処理流体成分を除去することができるので、処
理流体による駆動伝達軸の腐食および劣化をも防ぐこと
ができる。しかも、駆動伝達軸に吹き付けられた気体
は、駆動伝達軸に沿って開口部に導かれるため、処理室
内の雰囲気が開口部を介して駆動室に侵入するのを効果
的に防ぐことができ、供給すべき気体の量を削減するこ
とができる。
に設けられ、上記駆動伝達軸を取り囲むように形成され
た内部室をさらに備え、上記気体供給手段は、この内部
室に対して気体を供給するものであることを特徴とする
請求項2または請求項3記載の基板処理装置である。請
求項4記載の構成によれば、駆動伝達軸を取り囲むよう
に内部室が形成されており、この内部室に気体供給手段
により気体が供給されるので、駆動伝達軸に気体を直接
に吹き付けることができる。これにより、駆動伝達軸に
付着した処理流体成分を除去することができるので、処
理流体による駆動伝達軸の腐食および劣化をも防ぐこと
ができる。しかも、駆動伝達軸に吹き付けられた気体
は、駆動伝達軸に沿って開口部に導かれるため、処理室
内の雰囲気が開口部を介して駆動室に侵入するのを効果
的に防ぐことができ、供給すべき気体の量を削減するこ
とができる。
【0012】請求項5記載の発明は、上記内部室は、上
記開口部が形成された隔壁に隣接して設けられているこ
とを特徴とする請求項4記載の基板処理装置である。請
求項5記載の構成によれば、内部室が開口部が形成され
た隔壁に隣接して設けられているので、たとえば駆動伝
達軸が往復直線動作する場合、駆動伝達軸が処理室から
駆動室内に引き込まれると同時に、駆動伝達軸に付着し
た処理流体成分を除去することができる。したがって、
駆動伝達軸および駆動源の処理流体による腐食および劣
化をさらに効果的に防止することができる。
記開口部が形成された隔壁に隣接して設けられているこ
とを特徴とする請求項4記載の基板処理装置である。請
求項5記載の構成によれば、内部室が開口部が形成され
た隔壁に隣接して設けられているので、たとえば駆動伝
達軸が往復直線動作する場合、駆動伝達軸が処理室から
駆動室内に引き込まれると同時に、駆動伝達軸に付着し
た処理流体成分を除去することができる。したがって、
駆動伝達軸および駆動源の処理流体による腐食および劣
化をさらに効果的に防止することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施形態を、
添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の
一実施形態に係る基板処理装置を一部破断して示す簡略
化した斜視図である。この基板処理装置1は、複数枚の
ウエハ(図示せず)を一括して処理することのできる、
いわゆるバッチ式の処理装置である。
添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の
一実施形態に係る基板処理装置を一部破断して示す簡略
化した斜視図である。この基板処理装置1は、複数枚の
ウエハ(図示せず)を一括して処理することのできる、
いわゆるバッチ式の処理装置である。
【0014】基板処理装置1は、大略的に直方体形状の
外形を有しており、内部には処理室2が形成されてい
る。処理が施されるべきウエハは、基板処理装置1の正
面から見て左側から処理室2内に導入されるようになっ
ている。処理室2内に導入されたウエハは、搬送ロボッ
ト3によって受け取られて、処理装置1の正面から見て
左側から右側に向けて直線状に搬送される。処理室2内
の下部には、複数の処理槽4がウエハの搬送方向に沿っ
て一列に配列されている。複数の処理槽4には、薬液や
純水などの処理液を貯留することのできる処理液槽やウ
エハを乾燥させるための乾燥部などが含まれている。搬
送ロボット3によって搬送されるウエハは、その搬送過
程で処理槽4内に貯留されている処理液に順次に浸漬さ
れて、表面の洗浄や薄膜のエッチング処理などの種々の
処理が施される。なお、処理槽4に貯留されている薬液
としては、たとえばアンモニア、フッ酸、硫酸などを例
示することができる。
外形を有しており、内部には処理室2が形成されてい
る。処理が施されるべきウエハは、基板処理装置1の正
面から見て左側から処理室2内に導入されるようになっ
ている。処理室2内に導入されたウエハは、搬送ロボッ
ト3によって受け取られて、処理装置1の正面から見て
左側から右側に向けて直線状に搬送される。処理室2内
の下部には、複数の処理槽4がウエハの搬送方向に沿っ
て一列に配列されている。複数の処理槽4には、薬液や
純水などの処理液を貯留することのできる処理液槽やウ
エハを乾燥させるための乾燥部などが含まれている。搬
送ロボット3によって搬送されるウエハは、その搬送過
程で処理槽4内に貯留されている処理液に順次に浸漬さ
れて、表面の洗浄や薄膜のエッチング処理などの種々の
処理が施される。なお、処理槽4に貯留されている薬液
としては、たとえばアンモニア、フッ酸、硫酸などを例
示することができる。
【0015】搬送ロボット3は、処理槽4の手前側の長
穴状の開口部5の下方に設けられ、ウエハ搬送方向に沿
って延びたガイドレール(図示せず)に沿って往復移動
可能に構成されている。搬送ロボット3は、長穴状の開
口部5から上方に突出した支柱6と、支柱6の上端部か
ら奥側に向けて水平に延びた2本のアーム7,8と、ア
ーム7,8からそれぞれ下方に垂れ下がった状態に設け
られた保持部9,10とを有している。支柱6は、上下
に往復動可能に構成されている。また、保持部9,10
は、それぞれアーム7,8を中心として揺動可能に設け
られており、互いに近接する方向に回動されて複数枚
(たとえば50枚)のウエハを一括して保持し、また、
互いに離反する方向に回動されて保持しているウエハを
解放することができる。この構成により、搬送ロボット
3は、ウエハを保持した状態でウエハ搬送方向に移動す
ることにより、処理槽4の上方の空間11内でウエハを
搬送したり、ウエハを保持した状態で支柱6が上下動さ
れることにより、ウエハを各処理槽4に対して出し入れ
したりすることができる。
穴状の開口部5の下方に設けられ、ウエハ搬送方向に沿
って延びたガイドレール(図示せず)に沿って往復移動
可能に構成されている。搬送ロボット3は、長穴状の開
口部5から上方に突出した支柱6と、支柱6の上端部か
ら奥側に向けて水平に延びた2本のアーム7,8と、ア
ーム7,8からそれぞれ下方に垂れ下がった状態に設け
られた保持部9,10とを有している。支柱6は、上下
に往復動可能に構成されている。また、保持部9,10
は、それぞれアーム7,8を中心として揺動可能に設け
られており、互いに近接する方向に回動されて複数枚
(たとえば50枚)のウエハを一括して保持し、また、
互いに離反する方向に回動されて保持しているウエハを
解放することができる。この構成により、搬送ロボット
3は、ウエハを保持した状態でウエハ搬送方向に移動す
ることにより、処理槽4の上方の空間11内でウエハを
搬送したり、ウエハを保持した状態で支柱6が上下動さ
れることにより、ウエハを各処理槽4に対して出し入れ
したりすることができる。
【0016】複数の処理槽4と長穴状の開口部5との間
には、ウエハ搬送方向に長手の仕切板12が立設されて
いる。この仕切板12は、処理槽4内にウエハを浸漬さ
せる際に、処理槽4内の処理液が飛散して前述のガイド
レールを含む搬送ロボット3の駆動機構(図示せず)な
どにかかるのを防ぐためのものである。仕切板12の上
端縁には、ウエハを処理槽4に出し入れする際に搬送ロ
ボット3のアーム7,8が入り込む複数の切欠13が形
成されており、仕切板12が搬送ロボット3の上下動の
妨げにならないようになっている。
には、ウエハ搬送方向に長手の仕切板12が立設されて
いる。この仕切板12は、処理槽4内にウエハを浸漬さ
せる際に、処理槽4内の処理液が飛散して前述のガイド
レールを含む搬送ロボット3の駆動機構(図示せず)な
どにかかるのを防ぐためのものである。仕切板12の上
端縁には、ウエハを処理槽4に出し入れする際に搬送ロ
ボット3のアーム7,8が入り込む複数の切欠13が形
成されており、仕切板12が搬送ロボット3の上下動の
妨げにならないようになっている。
【0017】この基板処理装置1にはまた、所定の処理
槽4aとその処理槽4aに隣接する処理槽4bとの間に
シャッタ14が設けられており、このシャッタ14によ
って、たとえば、処理槽4a側の酸系の雰囲気と処理槽
4b側のアルカリ系の雰囲気とを仕切ることができるよ
うになっている。言い換えれば、この実施形態に係る処
理装置1では、ウエハ搬送方向に関してシャッタ14の
上流側には、酸系の薬液(フッ酸、硫酸など)が貯留さ
れた処理槽が存在し、シャッタ14よりも下流側には、
アルカリ系の薬液(アンモニアなど)が貯留された処理
槽が存在している。
槽4aとその処理槽4aに隣接する処理槽4bとの間に
シャッタ14が設けられており、このシャッタ14によ
って、たとえば、処理槽4a側の酸系の雰囲気と処理槽
4b側のアルカリ系の雰囲気とを仕切ることができるよ
うになっている。言い換えれば、この実施形態に係る処
理装置1では、ウエハ搬送方向に関してシャッタ14の
上流側には、酸系の薬液(フッ酸、硫酸など)が貯留さ
れた処理槽が存在し、シャッタ14よりも下流側には、
アルカリ系の薬液(アンモニアなど)が貯留された処理
槽が存在している。
【0018】シャッタ14は、空間11内に突出して空
間11内の雰囲気を仕切る閉状態(図1に二点鎖線で示
す状態)および処理槽4aと処理槽4bとの間に設けら
れた隔壁としての天板15の下方に変位された開状態に
開閉可能に構成されており、後述する駆動機構によっ
て、処理槽4aから処理槽4bへウエハが移動される際
には開状態にされ、それ以外の時には閉状態にされる。
これにより、処理槽4aから処理槽4bへウエハが移動
される時以外に、処理槽4a側の酸系の雰囲気と処理槽
4b側のアルカリ系の雰囲気とが混じり合うことがない
ので、酸系の雰囲気とアルカリ系の雰囲気とが混じり合
って中和反応を起こすおそれが少ない。ゆえに、中和反
応によって生成された塩が処理槽4の上方の空間11を
搬送されるウエハの表面に付着して、ウエハに悪影響を
及ぼすといった不具合を少なくすることができる。
間11内の雰囲気を仕切る閉状態(図1に二点鎖線で示
す状態)および処理槽4aと処理槽4bとの間に設けら
れた隔壁としての天板15の下方に変位された開状態に
開閉可能に構成されており、後述する駆動機構によっ
て、処理槽4aから処理槽4bへウエハが移動される際
には開状態にされ、それ以外の時には閉状態にされる。
これにより、処理槽4aから処理槽4bへウエハが移動
される時以外に、処理槽4a側の酸系の雰囲気と処理槽
4b側のアルカリ系の雰囲気とが混じり合うことがない
ので、酸系の雰囲気とアルカリ系の雰囲気とが混じり合
って中和反応を起こすおそれが少ない。ゆえに、中和反
応によって生成された塩が処理槽4の上方の空間11を
搬送されるウエハの表面に付着して、ウエハに悪影響を
及ぼすといった不具合を少なくすることができる。
【0019】なお、シャッタ14は、酸系の雰囲気とア
ルカリ系の雰囲気とを仕切ることができる位置以外に
も、薬液が貯留された処理液槽と薬液処理後のウエハか
ら薬液を除去するために純水が貯留された処理液槽との
間など、互いに種類の異なる処理液(処理流体)が貯留
された処理槽の間に設けられると、互いに種類の異なる
処理液成分を含む雰囲気が混じり合うことがなくてよ
い。
ルカリ系の雰囲気とを仕切ることができる位置以外に
も、薬液が貯留された処理液槽と薬液処理後のウエハか
ら薬液を除去するために純水が貯留された処理液槽との
間など、互いに種類の異なる処理液(処理流体)が貯留
された処理槽の間に設けられると、互いに種類の異なる
処理液成分を含む雰囲気が混じり合うことがなくてよ
い。
【0020】図2は、シャッタ14の駆動機構を処理装
置1の側面から見た断面図であり、図3は、シャッタ1
4の駆動機構を処理装置1の正面から見た断面図であ
る。処理槽4aと処理槽4bのとの間に設けられた天板
15の下方には、この天板15、底板16および側板1
7によって駆動室18が区画されており、駆動室18の
内部には、シャッタ14を開閉駆動するための駆動源と
してのロッドレスシリンダ19が配置されている。ま
た、駆動室18の内部には、たとえば右側板17aと区
画壁20とによって区画された幅狭のシャッタ収容室2
1が形成されている。このシャッタ収容室21内には、
シャッタ14が開状態にされた時に、天板15に形成さ
れた出入口22を介してシャッタ14を収容することが
できる。
置1の側面から見た断面図であり、図3は、シャッタ1
4の駆動機構を処理装置1の正面から見た断面図であ
る。処理槽4aと処理槽4bのとの間に設けられた天板
15の下方には、この天板15、底板16および側板1
7によって駆動室18が区画されており、駆動室18の
内部には、シャッタ14を開閉駆動するための駆動源と
してのロッドレスシリンダ19が配置されている。ま
た、駆動室18の内部には、たとえば右側板17aと区
画壁20とによって区画された幅狭のシャッタ収容室2
1が形成されている。このシャッタ収容室21内には、
シャッタ14が開状態にされた時に、天板15に形成さ
れた出入口22を介してシャッタ14を収容することが
できる。
【0021】ロッドレスシリンダ19は、上下方向に延
びたシリンダチューブ23内にエアを送り込み、エア圧
でシリンダチューブ23内のピストン(図示せず)を移
動させると、このピストンの移動に追従して、ヘッド2
4がシリンダチューブ23と平行に設けられたヘッドガ
イド25,26に沿って摺動するものである。したがっ
て、ロッドレスシリンダ19ではヘッド24がシリンダ
チューブ23の全長の範囲で移動されるから、シャッタ
14の駆動源として、このロッドレスシリンダ19を適
用することにより、駆動源を収容するための駆動室18
のスペースを縮小することができる。しかしながら、ロ
ッドレスシリンダ19に代えて、上下方向に進退するロ
ッドを有するシリンダが駆動源として適用されてもよい
のはもちろんである。
びたシリンダチューブ23内にエアを送り込み、エア圧
でシリンダチューブ23内のピストン(図示せず)を移
動させると、このピストンの移動に追従して、ヘッド2
4がシリンダチューブ23と平行に設けられたヘッドガ
イド25,26に沿って摺動するものである。したがっ
て、ロッドレスシリンダ19ではヘッド24がシリンダ
チューブ23の全長の範囲で移動されるから、シャッタ
14の駆動源として、このロッドレスシリンダ19を適
用することにより、駆動源を収容するための駆動室18
のスペースを縮小することができる。しかしながら、ロ
ッドレスシリンダ19に代えて、上下方向に進退するロ
ッドを有するシリンダが駆動源として適用されてもよい
のはもちろんである。
【0022】ロッドレスシリンダ19の駆動力は、駆動
伝達軸27によってシャッタ14に伝達される。駆動伝
達軸27は、上下方向に延びて設けられており、天板1
5に形成された開口部28に挿通されている。駆動伝達
軸27は、その下端がロッドレスシリンダ19のヘッド
24にブラケット29を介して接続されており、ヘッド
24の上下動に伴って上下動されるようになっている。
また、駆動伝達軸27の上端には、駆動伝達軸27とシ
ャッタ14とを連結するための取付部材30が取り付け
られている。
伝達軸27によってシャッタ14に伝達される。駆動伝
達軸27は、上下方向に延びて設けられており、天板1
5に形成された開口部28に挿通されている。駆動伝達
軸27は、その下端がロッドレスシリンダ19のヘッド
24にブラケット29を介して接続されており、ヘッド
24の上下動に伴って上下動されるようになっている。
また、駆動伝達軸27の上端には、駆動伝達軸27とシ
ャッタ14とを連結するための取付部材30が取り付け
られている。
【0023】ここで、ロッドレスシリンダ19は、その
大部分が金属(たとえば、アルミニウムなど)でできて
おり、その一部分であるパッキン部分等はゴム(たとえ
ば、ニトリルブタジエンゴムなど)でできている。ま
た、駆動伝達軸27は、金属(たとえばステンレスな
ど)あるいは樹脂(たとえば塩化ビニルなど)でできて
いる。
大部分が金属(たとえば、アルミニウムなど)でできて
おり、その一部分であるパッキン部分等はゴム(たとえ
ば、ニトリルブタジエンゴムなど)でできている。ま
た、駆動伝達軸27は、金属(たとえばステンレスな
ど)あるいは樹脂(たとえば塩化ビニルなど)でできて
いる。
【0024】なお、参照符号31は、ブラケット29の
移動をガイドするためのブラケットガイドである。取付
部材30は、断面逆L字状の部材であり、平面矩形状の
水平部32と、水平部32の図3における右側の端縁か
ら下方に向けて延設された垂下部33とを有している。
取付部材30は、駆動伝達軸27の上端を水平部32の
下面に当接させた状態で、水平部33の上方からボルト
34が駆動伝達軸27にねじ込まれることにより、駆動
伝達軸27に固定されている。また、取付部材の垂下部
33には、ボルト35によって、シャッタ14の上部が
密接した状態に取り付けられている。
移動をガイドするためのブラケットガイドである。取付
部材30は、断面逆L字状の部材であり、平面矩形状の
水平部32と、水平部32の図3における右側の端縁か
ら下方に向けて延設された垂下部33とを有している。
取付部材30は、駆動伝達軸27の上端を水平部32の
下面に当接させた状態で、水平部33の上方からボルト
34が駆動伝達軸27にねじ込まれることにより、駆動
伝達軸27に固定されている。また、取付部材の垂下部
33には、ボルト35によって、シャッタ14の上部が
密接した状態に取り付けられている。
【0025】上述の構成により、シリンダチューブ23
内のエア圧を変化させてヘッド24を上下に摺動させる
と、ヘッド24の移動に伴って駆動伝達軸27が上下に
移動する。その結果、駆動伝達軸27に連結されたシャ
ッタ14が、空間内に設けられたシャッタガイド36,
37に両側縁をガイドされて、シャッタ収容部21に収
容された開状態(図2に実線で示す状態)と、空間11
内に突出した閉状態(図2に二点鎖線で示す状態)とに
変位される。
内のエア圧を変化させてヘッド24を上下に摺動させる
と、ヘッド24の移動に伴って駆動伝達軸27が上下に
移動する。その結果、駆動伝達軸27に連結されたシャ
ッタ14が、空間内に設けられたシャッタガイド36,
37に両側縁をガイドされて、シャッタ収容部21に収
容された開状態(図2に実線で示す状態)と、空間11
内に突出した閉状態(図2に二点鎖線で示す状態)とに
変位される。
【0026】図4は、図2における天板15付近の構成
を拡大して示す断面図である。天板15の上面には、駆
動伝達軸27が挿通された開口部28に関連して、駆動
伝達軸27と天板15との間隙29をシールするシール
部材38が設けられている。シール部材38は、たとえ
ば円環状のメカニカルシールで構成されており、駆動伝
達軸27に挿通されて、キャップ39によって天板15
の上面に固定されている。具体的には、キャップ39
は、円板状に形成されており、その下面には、シール部
材38の外径とほぼ等しい径を有する環状の凹部40が
形成されている。シール部材38は、キャップ39の凹
部40に嵌まり込んだ状態で、キャップ39がボルト4
1で天板15の上面に固定されることによって取り付け
られている。
を拡大して示す断面図である。天板15の上面には、駆
動伝達軸27が挿通された開口部28に関連して、駆動
伝達軸27と天板15との間隙29をシールするシール
部材38が設けられている。シール部材38は、たとえ
ば円環状のメカニカルシールで構成されており、駆動伝
達軸27に挿通されて、キャップ39によって天板15
の上面に固定されている。具体的には、キャップ39
は、円板状に形成されており、その下面には、シール部
材38の外径とほぼ等しい径を有する環状の凹部40が
形成されている。シール部材38は、キャップ39の凹
部40に嵌まり込んだ状態で、キャップ39がボルト4
1で天板15の上面に固定されることによって取り付け
られている。
【0027】シール部材38を構成するメカニカルシー
ルは、たとえばフッ素樹脂からなるリング状摺動部材の
内部にばね部材が設けられたものである。リング状摺動
部材がフッ素樹脂で構成されていることにより、駆動伝
達軸27の摺動抵抗を小さくすることができるので、駆
動伝達軸27が上下に摺動することによって発生するパ
ーティクルの量を少なくすることができる。また、上記
リング状摺動部材に内蔵されているばね部材の弾性力に
よってリング状摺動部材の内径が縮められて、リング状
摺動部材は駆動伝達軸27に密着することができる。こ
れにより、駆動伝達軸27と天板15との間隙29を良
好にシールすることができるので、空間11内の雰囲気
が、間隙29を介して駆動室18内に侵入するおそれが
ない。ゆえに、処理液成分を含む雰囲気によって、駆動
室18内に設けられた駆動源としてのロッドレスシリン
ダ19の金属部分が腐食されたり、そのゴム部分が劣化
したりするのを防ぐことができる。
ルは、たとえばフッ素樹脂からなるリング状摺動部材の
内部にばね部材が設けられたものである。リング状摺動
部材がフッ素樹脂で構成されていることにより、駆動伝
達軸27の摺動抵抗を小さくすることができるので、駆
動伝達軸27が上下に摺動することによって発生するパ
ーティクルの量を少なくすることができる。また、上記
リング状摺動部材に内蔵されているばね部材の弾性力に
よってリング状摺動部材の内径が縮められて、リング状
摺動部材は駆動伝達軸27に密着することができる。こ
れにより、駆動伝達軸27と天板15との間隙29を良
好にシールすることができるので、空間11内の雰囲気
が、間隙29を介して駆動室18内に侵入するおそれが
ない。ゆえに、処理液成分を含む雰囲気によって、駆動
室18内に設けられた駆動源としてのロッドレスシリン
ダ19の金属部分が腐食されたり、そのゴム部分が劣化
したりするのを防ぐことができる。
【0028】なお、シール部材38としては、上述のメ
カニカルシール以外に、たとえばOリングなどが適用さ
れてもよい。駆動室18内にはまた、天板15に隣接し
て内部室42が形成されており、この内部室42には、
気体供給手段としての不活性ガス供給源43からN2 な
どの不活性ガスが供給されるようになっている。具体的
に説明すると、内部室42は、天板15に密接した上板
44、上板44と上下方向に所定間隔を置いて設けられ
た下板45、および上板44と下板45とを連結する周
側板46によって区画されている。上板44、下板45
および周壁板46は、たとえばポリプロピレンなどの樹
脂材料によって構成することができる。上板44および
下板45には、それぞれ軸通孔47,48が形成されて
おり、軸通孔47,48には駆動伝達軸27が挿通され
ている。すなわち、駆動伝達軸27は、内部室42を貫
通して、天板15に形成された開口部28に挿通されて
いる。
カニカルシール以外に、たとえばOリングなどが適用さ
れてもよい。駆動室18内にはまた、天板15に隣接し
て内部室42が形成されており、この内部室42には、
気体供給手段としての不活性ガス供給源43からN2 な
どの不活性ガスが供給されるようになっている。具体的
に説明すると、内部室42は、天板15に密接した上板
44、上板44と上下方向に所定間隔を置いて設けられ
た下板45、および上板44と下板45とを連結する周
側板46によって区画されている。上板44、下板45
および周壁板46は、たとえばポリプロピレンなどの樹
脂材料によって構成することができる。上板44および
下板45には、それぞれ軸通孔47,48が形成されて
おり、軸通孔47,48には駆動伝達軸27が挿通され
ている。すなわち、駆動伝達軸27は、内部室42を貫
通して、天板15に形成された開口部28に挿通されて
いる。
【0029】また、天板15および上板44には、内部
室42内に不活性ガスを供給するためのガス供給孔49
が貫通形成されている。さらに、天板15の上面には、
ガス供給孔49の周縁から上方に立ち上がった周側壁5
0と、周側壁50の上方を閉塞する上壁51とで区画さ
れた供給管接続部52が設けられている。周側壁50の
所定位置には、接続口53が形成されており、この接続
口53には、不活性ガス供給源43に接続されたガス供
給管54の先端がねじ込まれている。
室42内に不活性ガスを供給するためのガス供給孔49
が貫通形成されている。さらに、天板15の上面には、
ガス供給孔49の周縁から上方に立ち上がった周側壁5
0と、周側壁50の上方を閉塞する上壁51とで区画さ
れた供給管接続部52が設けられている。周側壁50の
所定位置には、接続口53が形成されており、この接続
口53には、不活性ガス供給源43に接続されたガス供
給管54の先端がねじ込まれている。
【0030】この構成により、内部室42内には、不活
性ガス供給源43からガス供給管54、供給管接続部5
2およびガス供給孔49を介して不活性ガスを供給する
ことができる。内部室42内に不活性ガスが供給される
と、内部室42内の気圧が駆動室18および処理室2
(空間11)内の気圧よりも高くなるので、たとえシー
ル部材38と駆動伝達軸27との間に隙間が生じていて
も、処理室2内の雰囲気が内部室42(駆動室18)に
侵入することがない。ゆえに、処理液成分を含む雰囲気
が駆動室18内に侵入して、駆動源としてのロッドレス
シリンダ19を腐食したり、劣化させたりすするおそれ
をさらになくすことができる。
性ガス供給源43からガス供給管54、供給管接続部5
2およびガス供給孔49を介して不活性ガスを供給する
ことができる。内部室42内に不活性ガスが供給される
と、内部室42内の気圧が駆動室18および処理室2
(空間11)内の気圧よりも高くなるので、たとえシー
ル部材38と駆動伝達軸27との間に隙間が生じていて
も、処理室2内の雰囲気が内部室42(駆動室18)に
侵入することがない。ゆえに、処理液成分を含む雰囲気
が駆動室18内に侵入して、駆動源としてのロッドレス
シリンダ19を腐食したり、劣化させたりすするおそれ
をさらになくすことができる。
【0031】また、内部室42に供給された不活性ガス
が、内部室42を区画する下板45に形成された軸通孔
48と駆動伝達軸27との隙間から駆動室18内に侵入
し、侵入した不活性ガスによって駆動室18内の駆動源
としてのロッドレスシリンダ19(図2参照)が包み込
まれるので、ロッドレスシリンダ19の腐食および劣化
を一層効果的に防ぐことができる。
が、内部室42を区画する下板45に形成された軸通孔
48と駆動伝達軸27との隙間から駆動室18内に侵入
し、侵入した不活性ガスによって駆動室18内の駆動源
としてのロッドレスシリンダ19(図2参照)が包み込
まれるので、ロッドレスシリンダ19の腐食および劣化
を一層効果的に防ぐことができる。
【0032】さらに、駆動伝達軸27が内部室42を貫
通しているので、内部室42に供給された不活性ガスを
直接に駆動伝達軸27に吹き付けることができる。これ
により、駆動伝達軸27に付着した処理液成分を除去す
ることができるので、処理液成分による駆動伝達軸27
の金属部分の腐食および樹脂部分の劣化を防ぐことがで
きる。
通しているので、内部室42に供給された不活性ガスを
直接に駆動伝達軸27に吹き付けることができる。これ
により、駆動伝達軸27に付着した処理液成分を除去す
ることができるので、処理液成分による駆動伝達軸27
の金属部分の腐食および樹脂部分の劣化を防ぐことがで
きる。
【0033】さらにまた、内部室42が天板15に密接
した状態に設けられているので、駆動伝達軸27が駆動
室18内に引き込まれると同時に、駆動伝達軸27に付
着した処理液成分を除去することができる。したがっ
て、処理液成分による駆動伝達軸27の腐食および劣化
をより効果的に防ぐことができる。この発明の一実施形
態について説明したが、この発明は上記の実施形態以外
にも種々の形態で実施することが可能である。たとえ
ば、上述の実施形態では、内部室にN2 などの不活性ガ
スが供給されるとしたが、不活性ガスに限らず、酸素な
どを含む気体(たとえば空気)が供給されてもよく、要
するに駆動室内の気圧が処理室内の気圧よりも高くされ
ればよい。ただし、不活性ガスを内部室に供給すること
により、駆動源を不活性ガスで包み込むことができるの
で、酸素などを含む気体(たとえば空気)が供給される
場合に比べて、駆動源が腐食されたり、劣化したりする
おそれを一層少なくすることができる。
した状態に設けられているので、駆動伝達軸27が駆動
室18内に引き込まれると同時に、駆動伝達軸27に付
着した処理液成分を除去することができる。したがっ
て、処理液成分による駆動伝達軸27の腐食および劣化
をより効果的に防ぐことができる。この発明の一実施形
態について説明したが、この発明は上記の実施形態以外
にも種々の形態で実施することが可能である。たとえ
ば、上述の実施形態では、内部室にN2 などの不活性ガ
スが供給されるとしたが、不活性ガスに限らず、酸素な
どを含む気体(たとえば空気)が供給されてもよく、要
するに駆動室内の気圧が処理室内の気圧よりも高くされ
ればよい。ただし、不活性ガスを内部室に供給すること
により、駆動源を不活性ガスで包み込むことができるの
で、酸素などを含む気体(たとえば空気)が供給される
場合に比べて、駆動源が腐食されたり、劣化したりする
おそれを一層少なくすることができる。
【0034】また、上述の実施形態では、内部室が天板
に密接して設けられているが、図5に示すように、内部
室42が天板15から離れて設けられていてもよい。こ
の場合にも、内部室42に供給された気体が軸通孔55
から駆動室18に侵入し、駆動室18内の気圧が空間1
1内の気圧よりも高くなるので、空間11内の雰囲気が
駆動室18内に侵入するのを防ぐことができる。ゆえ
に、駆動室18内に配置された駆動源56の腐食および
劣化を防止することができる。また、駆動伝達軸27が
内部室42を貫通しているので、内部室42に供給され
た気体を駆動伝達軸27に吹き付けて、駆動伝達軸27
に付着した処理液成分を除去することにより、駆動伝達
軸27の処理液成分による腐食および劣化を防ぐことが
できる。
に密接して設けられているが、図5に示すように、内部
室42が天板15から離れて設けられていてもよい。こ
の場合にも、内部室42に供給された気体が軸通孔55
から駆動室18に侵入し、駆動室18内の気圧が空間1
1内の気圧よりも高くなるので、空間11内の雰囲気が
駆動室18内に侵入するのを防ぐことができる。ゆえ
に、駆動室18内に配置された駆動源56の腐食および
劣化を防止することができる。また、駆動伝達軸27が
内部室42を貫通しているので、内部室42に供給され
た気体を駆動伝達軸27に吹き付けて、駆動伝達軸27
に付着した処理液成分を除去することにより、駆動伝達
軸27の処理液成分による腐食および劣化を防ぐことが
できる。
【0035】さらに、図6に示すように、上述の内部室
42(図2参照)が省略されて、駆動室18に直接に気
体が供給されるように構成されてもよい。この場合に
も、駆動室18内の気圧を空間11内の気圧よりも高く
することができるので、空間11内の雰囲気が駆動室1
8内に侵入するのを防ぐことができる。また、上述の実
施形態では、上下方向に摺動する駆動伝達軸によってシ
ャッタが上下動される構成を取り上げて説明したが、た
とえば、シャッタの一方面に上下方向に長いラックが形
成され、このラックと噛み合うピニオンが水平方向に延
びた回転駆動軸に取り付けられて、回転駆動軸が回転駆
動されることによりシャッタが上下動される構成であっ
てもよい。この場合、シャッタが設けられた処理室から
駆動源を隔離する隔壁と回転駆動軸との間に、シール部
材が設けられるとよい。
42(図2参照)が省略されて、駆動室18に直接に気
体が供給されるように構成されてもよい。この場合に
も、駆動室18内の気圧を空間11内の気圧よりも高く
することができるので、空間11内の雰囲気が駆動室1
8内に侵入するのを防ぐことができる。また、上述の実
施形態では、上下方向に摺動する駆動伝達軸によってシ
ャッタが上下動される構成を取り上げて説明したが、た
とえば、シャッタの一方面に上下方向に長いラックが形
成され、このラックと噛み合うピニオンが水平方向に延
びた回転駆動軸に取り付けられて、回転駆動軸が回転駆
動されることによりシャッタが上下動される構成であっ
てもよい。この場合、シャッタが設けられた処理室から
駆動源を隔離する隔壁と回転駆動軸との間に、シール部
材が設けられるとよい。
【0036】さらに、シャッタを駆動するための駆動源
だけでなく、たとえば搬送ロボットが駆動伝達軸として
の回転駆動軸を中心に回動可能に構成されている場合
に、駆動源を処理室から隔離するための隔壁と回転駆動
軸との間にシール部材を設けることにより、搬送ロボッ
トを駆動するための駆動源および駆動伝達軸の腐食およ
び劣化を防止することも可能である。
だけでなく、たとえば搬送ロボットが駆動伝達軸として
の回転駆動軸を中心に回動可能に構成されている場合
に、駆動源を処理室から隔離するための隔壁と回転駆動
軸との間にシール部材を設けることにより、搬送ロボッ
トを駆動するための駆動源および駆動伝達軸の腐食およ
び劣化を防止することも可能である。
【0037】また、バッチ式の基板処理装置に限らず、
この発明に係る構成は、たとえば基板を1枚ずつ処理す
るタイプの基板処理装置に適用されてもよい。さらに、
処理される基板も、ウエハに限定されず、液晶表示装置
用ガラス基板やPDP(プラズマ・ディスプレイ・パネ
ル)基板などであってもよい。その他、特許請求の範囲
に記載された技術的事項の範囲内で、種々の設計変更を
施すことができる。
この発明に係る構成は、たとえば基板を1枚ずつ処理す
るタイプの基板処理装置に適用されてもよい。さらに、
処理される基板も、ウエハに限定されず、液晶表示装置
用ガラス基板やPDP(プラズマ・ディスプレイ・パネ
ル)基板などであってもよい。その他、特許請求の範囲
に記載された技術的事項の範囲内で、種々の設計変更を
施すことができる。
【図1】本発明の一実施形態に係る基板処理装置を一部
破断して示す簡略化した斜視図である。
破断して示す簡略化した斜視図である。
【図2】シャッタの駆動機構を基板処理装置の側面から
見た断面図である。
見た断面図である。
【図3】シャッタの駆動機構を基板処理装置の正面から
見た断面図である。
見た断面図である。
【図4】図2に示す天板付近の構成を拡大して示す断面
図である。
図である。
【図5】本発明の変形例を示す簡略化された要部断面図
である。
である。
【図6】本発明の他の変形例を示す簡略化された要部断
面図である。
面図である。
【図7】従来のバッチ式ウエハ処理装置の構成例を簡略
化して示す斜視図である。
化して示す斜視図である。
1 基板処理装置 2 処理室 4 処理槽 11 空間 14 シャッタ(可動部材) 15 天板(隔壁) 19 ロッドレスシリンダ(駆動源) 18 駆動室 27 駆動伝達軸 28 開口部 38 シール部材 42 内部室 43 不活性ガス供給源(気体供給手段)
Claims (5)
- 【請求項1】基板に対して処理流体を供給して処理を施
すための処理室と、 基板に対して処理を施すために動作する可動部材を駆動
する駆動源と、 この駆動源を取り囲むように設けられ、上記処理室と上
記駆動源とを隔離する隔壁によって形成された駆動室
と、 この駆動室の隔壁に形成された開口部と、 この開口部を挿通し、上記駆動源の駆動力を上記可動部
材に伝達する駆動伝達軸と、 上記開口部に設けられて、上記駆動伝達軸と上記駆動室
の隔壁との間隙をシールするシール部材とを備えたこと
を特徴とする基板処理装置。 - 【請求項2】上記駆動室に対して気体を供給する気体供
給手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1記載の
基板処理装置。 - 【請求項3】上記気体供給手段は、上記駆動室に対して
不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段であることを
特徴とする請求項2記載の基板処理装置。 - 【請求項4】上記駆動室の内部に設けられ、上記駆動伝
達軸を取り囲むように形成された内部室をさらに備え、 上記気体供給手段は、この内部室に対して気体を供給す
るものであることを特徴とする請求項2または請求項3
記載の基板処理装置。 - 【請求項5】上記内部室は、上記開口部が形成された隔
壁に隣接して設けられていることを特徴とする請求項4
記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14234197A JPH10335285A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14234197A JPH10335285A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10335285A true JPH10335285A (ja) | 1998-12-18 |
Family
ID=15313115
Family Applications (1)
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10335285A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002273303A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-24 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | ウェブ出入口開口部の空気流通抑制装置 |
JP2005080852A (ja) * | 2003-09-08 | 2005-03-31 | Taito Corp | マルチクレーンゲーム装置 |
WO2020248326A1 (zh) * | 2019-06-13 | 2020-12-17 | 上海提牛机电设备有限公司 | 空气阻隔装置、晶圆上料设备与空气阻隔控制方法 |
-
1997
- 1997-05-30 JP JP14234197A patent/JPH10335285A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002273303A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-24 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | ウェブ出入口開口部の空気流通抑制装置 |
JP4608792B2 (ja) * | 2001-03-15 | 2011-01-12 | 株式会社Ihi | ウェブ出入口開口部の空気流通抑制装置 |
JP2005080852A (ja) * | 2003-09-08 | 2005-03-31 | Taito Corp | マルチクレーンゲーム装置 |
WO2020248326A1 (zh) * | 2019-06-13 | 2020-12-17 | 上海提牛机电设备有限公司 | 空气阻隔装置、晶圆上料设备与空气阻隔控制方法 |
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