JPH10335285A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】天板１５の下方には駆動室１８が区画され
ており、駆動室１８の内部には、シャッタ１４を開閉駆
動するためのロッドレスシリンダ１９が配置されてい
る。ロッドレスシリンダ１９の駆動力は、駆動伝達軸２
７によってシャッタ１４に伝達される。駆動伝達軸２７
は、上下方向に延びて設けられており、天板１５に形成
された開口部２８に挿通されている。この開口部２８に
関連して、駆動伝達軸２７と天板１５との間隙をシール
するシール部材３８が設けられている。また、駆動室１
８内には、天板１５に隣接して内部室４２が形成されて
おり、この内部室４２には、気体供給手段としての不活
性ガス供給源から不活性ガスが供給されるようになって
いる。 【効果】空間１１内の雰囲気が駆動室１８に侵入するの
を防ぐことができるので、ロッドレスシリンダ１９や駆
動伝達軸２７が薬液成分を含む雰囲気によって腐食され
たり、劣化したりすることがない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板およびＰＤＰ（プラズマディス
プレイパネル）用ガラス基板などの各被処理基板に対し
て、処理流体を用いて処理を行う基板処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造工程では、複数枚（た
とえば５０枚）の半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」
という。）を一括して処理するバッチ式のウエハ処理装
置が用いられる場合がある。バッチ式のウエハ処理装置
の構成例を図７に示す。図７を参照して、バッチ式のウ
エハ処理装置には、処理室８０内に処理液を貯留できる
複数（この例では２つ）の処理槽８１，８２が備えられ
ている。処理されるべきウエハは、図示しない搬送ロボ
ットによって搬送方向８３に沿って搬送されて、処理槽
８１，８２に貯留された処理液（薬液や純水）中に順次
浸漬される。これにより、ウエハ表面の洗浄やウエハの
表面に形成された薄膜のエッチングが行われる。

【０００３】ところで、処理槽８１の上方の雰囲気に
は、処理槽８１に貯留された処理液の成分が含まれてお
り、処理槽８２の上方の雰囲気には、処理槽８２に貯留
された処理液の成分が含まれている。処理槽８１，８２
に貯留されている処理液が同一である場合には特に問題
はないが、処理槽８１，８２に貯留されている処理液が
互いに異なる場合、処理槽８１側の雰囲気と処理槽８２
側の雰囲気とが混じり合うと化学反応を起こして、ウエ
ハに悪影響を及ぼすおそれがある。

【０００４】そこで、従来の装置では、処理槽８１と処
理槽８２との間に、開閉可能なシャッタ８４が設けられ
ており、ウエハが処理槽８１から処理槽８２へ移される
時以外は、シャッタ８４によって処理槽８１側の雰囲気
と処理槽８２側の雰囲気との流通が遮断されるようにな
っている。シャッタ８４は、たとえば上下方向に開閉可
能に設けられている。すなわち、処理槽８１と処理槽８
２との間には、天板８５によって処理室８０から隔離さ
れた駆動室（図示せず）がその下方に形成されており、
この駆動室内に図示しないシャッタ駆動源が備えられて
いる。そして、天板８５に形成された開口８６に挿通さ
れた駆動伝達軸８７によって、上記シャッタ駆動源とシ
ャッタ８４とが連結されている。これにより、上記シャ
ッタ駆動源が駆動されると、駆動伝達軸８７が上下動さ
れて、シャッタ８４が開閉される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述の従来
装置では、処理室８０内の処理液成分を含む雰囲気が、
天板８５に形成された開口８６を介して駆動室内に侵入
し、この侵入した雰囲気によって上記シャッタ駆動源が
腐食されたり、劣化したりすることがあった。そこで、
本発明の目的は、処理室内で動作する可動部材が設けら
れた構成において、この可動部材を駆動するための駆動
源が処理流体を含む雰囲気によって腐食されたり、劣化
したりするおそれのない基板処理装置を提供することで
ある。

【０００６】

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記目
的を達成するための請求項１記載の基板処理装置は、基
板に対して処理流体を供給して処理を施すための処理室
と、基板に対して処理を施すために動作する可動部材を
駆動する駆動源と、この駆動源を取り囲むように設けら
れ、上記処理室と上記駆動源とを隔離する隔壁によって
形成された駆動室と、この駆動室の隔壁に形成された開
口部と、この開口部を挿通し、上記駆動源の駆動力を上
記可動部材に伝達する駆動伝達軸と、上記開口部に設け
られて、上記駆動伝達軸と上記駆動室の隔壁との間隙を
シールするシール部材とを備えたことを特徴とするもの
である。

【０００７】請求項１記載の構成によれば、処理室と駆
動室とを隔てる隔壁に形成された開口部に関連してシー
ル部材が設けられているので、駆動伝達軸と開口部周縁
とに生じる隙間をシールすることができる。これによ
り、処理室内の雰囲気が、開口部から駆動室内に侵入す
るおそれがないので、処理流体を含む雰囲気によって、
駆動室内に設けられた駆動源が腐食されたり、劣化した
りするのを防ぐことができる。

【０００８】シール部材としては、いわゆるメカニカル
シールを適用するのが好ましい。メカニカルシールを適
用することにより、駆動伝達軸と開口部との間隙をより
良好にシールすることができるので、駆動源が腐食され
たり、劣化したりするおそれをさらになくすことができ
る。また、メカニカルシールの表面部は、フッ素樹脂の
ように、駆動伝達軸との摩擦抵抗が小さい材料で構成さ
れることが好ましく、これにより、駆動伝達軸とシール
部材との摩擦による発塵を少なくすることができる。

【０００９】請求項２記載の発明は、上記駆動室に対し
て気体を供給する気体供給手段をさらに備えたことを特
徴とする請求項１記載の基板処理装置である。請求項２
記載の構成によれば、気体供給手段によって駆動室内に
気体を供給することによって、駆動室内の気圧を処理室
内の気圧よりも高くすることができる。これにより、た
とえシール部材と駆動伝達軸との間にわずかな隙間が生
じていても、処理室内の雰囲気が駆動室内に侵入するこ
とがない。したがって、処理流体成分を含む雰囲気が駆
動室内に侵入して、駆動源が腐食されたり、劣化したり
するのを確実に防止することができる。

【００１０】請求項３記載の発明は、上記気体供給手段
は、上記駆動室に対して不活性ガスを供給する不活性ガ
ス供給手段であることを特徴とする請求項２記載の基板
処理装置である。請求項３記載の構成によれば、気体供
給手段が不活性ガス供給手段であるから、駆動室内には
不活性ガスが充満されるので、駆動源は不活性ガスによ
り包み込まれることになる。ゆえに、酸素などを含む気
体（たとえば空気）が供給される場合に比べて、駆動源
が腐食されたり、劣化したりするおそれを一層少なくす
ることができる。

【００１１】請求項４記載の発明は、上記駆動室の内部
に設けられ、上記駆動伝達軸を取り囲むように形成され
た内部室をさらに備え、上記気体供給手段は、この内部
室に対して気体を供給するものであることを特徴とする
請求項２または請求項３記載の基板処理装置である。請
求項４記載の構成によれば、駆動伝達軸を取り囲むよう
に内部室が形成されており、この内部室に気体供給手段
により気体が供給されるので、駆動伝達軸に気体を直接
に吹き付けることができる。これにより、駆動伝達軸に
付着した処理流体成分を除去することができるので、処
理流体による駆動伝達軸の腐食および劣化をも防ぐこと
ができる。しかも、駆動伝達軸に吹き付けられた気体
は、駆動伝達軸に沿って開口部に導かれるため、処理室
内の雰囲気が開口部を介して駆動室に侵入するのを効果
的に防ぐことができ、供給すべき気体の量を削減するこ
とができる。

【００１２】請求項５記載の発明は、上記内部室は、上
記開口部が形成された隔壁に隣接して設けられているこ
とを特徴とする請求項４記載の基板処理装置である。請
求項５記載の構成によれば、内部室が開口部が形成され
た隔壁に隣接して設けられているので、たとえば駆動伝
達軸が往復直線動作する場合、駆動伝達軸が処理室から
駆動室内に引き込まれると同時に、駆動伝達軸に付着し
た処理流体成分を除去することができる。したがって、
駆動伝達軸および駆動源の処理流体による腐食および劣
化をさらに効果的に防止することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施形態を、
添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発明の
一実施形態に係る基板処理装置を一部破断して示す簡略
化した斜視図である。この基板処理装置１は、複数枚の
ウエハ（図示せず）を一括して処理することのできる、
いわゆるバッチ式の処理装置である。

【００１４】基板処理装置１は、大略的に直方体形状の
外形を有しており、内部には処理室２が形成されてい
る。処理が施されるべきウエハは、基板処理装置１の正
面から見て左側から処理室２内に導入されるようになっ
ている。処理室２内に導入されたウエハは、搬送ロボッ
ト３によって受け取られて、処理装置１の正面から見て
左側から右側に向けて直線状に搬送される。処理室２内
の下部には、複数の処理槽４がウエハの搬送方向に沿っ
て一列に配列されている。複数の処理槽４には、薬液や
純水などの処理液を貯留することのできる処理液槽やウ
エハを乾燥させるための乾燥部などが含まれている。搬
送ロボット３によって搬送されるウエハは、その搬送過
程で処理槽４内に貯留されている処理液に順次に浸漬さ
れて、表面の洗浄や薄膜のエッチング処理などの種々の
処理が施される。なお、処理槽４に貯留されている薬液
としては、たとえばアンモニア、フッ酸、硫酸などを例
示することができる。

【００１５】搬送ロボット３は、処理槽４の手前側の長
穴状の開口部５の下方に設けられ、ウエハ搬送方向に沿
って延びたガイドレール（図示せず）に沿って往復移動
可能に構成されている。搬送ロボット３は、長穴状の開
口部５から上方に突出した支柱６と、支柱６の上端部か
ら奥側に向けて水平に延びた２本のアーム７，８と、ア
ーム７，８からそれぞれ下方に垂れ下がった状態に設け
られた保持部９，１０とを有している。支柱６は、上下
に往復動可能に構成されている。また、保持部９，１０
は、それぞれアーム７，８を中心として揺動可能に設け
られており、互いに近接する方向に回動されて複数枚
（たとえば５０枚）のウエハを一括して保持し、また、
互いに離反する方向に回動されて保持しているウエハを
解放することができる。この構成により、搬送ロボット
３は、ウエハを保持した状態でウエハ搬送方向に移動す
ることにより、処理槽４の上方の空間１１内でウエハを
搬送したり、ウエハを保持した状態で支柱６が上下動さ
れることにより、ウエハを各処理槽４に対して出し入れ
したりすることができる。

【００１６】複数の処理槽４と長穴状の開口部５との間
には、ウエハ搬送方向に長手の仕切板１２が立設されて
いる。この仕切板１２は、処理槽４内にウエハを浸漬さ
せる際に、処理槽４内の処理液が飛散して前述のガイド
レールを含む搬送ロボット３の駆動機構（図示せず）な
どにかかるのを防ぐためのものである。仕切板１２の上
端縁には、ウエハを処理槽４に出し入れする際に搬送ロ
ボット３のアーム７，８が入り込む複数の切欠１３が形
成されており、仕切板１２が搬送ロボット３の上下動の
妨げにならないようになっている。

【００１７】この基板処理装置１にはまた、所定の処理
槽４ａとその処理槽４ａに隣接する処理槽４ｂとの間に
シャッタ１４が設けられており、このシャッタ１４によ
って、たとえば、処理槽４ａ側の酸系の雰囲気と処理槽
４ｂ側のアルカリ系の雰囲気とを仕切ることができるよ
うになっている。言い換えれば、この実施形態に係る処
理装置１では、ウエハ搬送方向に関してシャッタ１４の
上流側には、酸系の薬液（フッ酸、硫酸など）が貯留さ
れた処理槽が存在し、シャッタ１４よりも下流側には、
アルカリ系の薬液（アンモニアなど）が貯留された処理
槽が存在している。

【００１８】シャッタ１４は、空間１１内に突出して空
間１１内の雰囲気を仕切る閉状態（図１に二点鎖線で示
す状態）および処理槽４ａと処理槽４ｂとの間に設けら
れた隔壁としての天板１５の下方に変位された開状態に
開閉可能に構成されており、後述する駆動機構によっ
て、処理槽４ａから処理槽４ｂへウエハが移動される際
には開状態にされ、それ以外の時には閉状態にされる。
これにより、処理槽４ａから処理槽４ｂへウエハが移動
される時以外に、処理槽４ａ側の酸系の雰囲気と処理槽
４ｂ側のアルカリ系の雰囲気とが混じり合うことがない
ので、酸系の雰囲気とアルカリ系の雰囲気とが混じり合
って中和反応を起こすおそれが少ない。ゆえに、中和反
応によって生成された塩が処理槽４の上方の空間１１を
搬送されるウエハの表面に付着して、ウエハに悪影響を
及ぼすといった不具合を少なくすることができる。

【００１９】なお、シャッタ１４は、酸系の雰囲気とア
ルカリ系の雰囲気とを仕切ることができる位置以外に
も、薬液が貯留された処理液槽と薬液処理後のウエハか
ら薬液を除去するために純水が貯留された処理液槽との
間など、互いに種類の異なる処理液（処理流体）が貯留
された処理槽の間に設けられると、互いに種類の異なる
処理液成分を含む雰囲気が混じり合うことがなくてよ
い。

【００２０】図２は、シャッタ１４の駆動機構を処理装
置１の側面から見た断面図であり、図３は、シャッタ１
４の駆動機構を処理装置１の正面から見た断面図であ
る。処理槽４ａと処理槽４ｂのとの間に設けられた天板
１５の下方には、この天板１５、底板１６および側板１
７によって駆動室１８が区画されており、駆動室１８の
内部には、シャッタ１４を開閉駆動するための駆動源と
してのロッドレスシリンダ１９が配置されている。ま
た、駆動室１８の内部には、たとえば右側板１７ａと区
画壁２０とによって区画された幅狭のシャッタ収容室２
１が形成されている。このシャッタ収容室２１内には、
シャッタ１４が開状態にされた時に、天板１５に形成さ
れた出入口２２を介してシャッタ１４を収容することが
できる。

【００２１】ロッドレスシリンダ１９は、上下方向に延
びたシリンダチューブ２３内にエアを送り込み、エア圧
でシリンダチューブ２３内のピストン（図示せず）を移
動させると、このピストンの移動に追従して、ヘッド２
４がシリンダチューブ２３と平行に設けられたヘッドガ
イド２５，２６に沿って摺動するものである。したがっ
て、ロッドレスシリンダ１９ではヘッド２４がシリンダ
チューブ２３の全長の範囲で移動されるから、シャッタ
１４の駆動源として、このロッドレスシリンダ１９を適
用することにより、駆動源を収容するための駆動室１８
のスペースを縮小することができる。しかしながら、ロ
ッドレスシリンダ１９に代えて、上下方向に進退するロ
ッドを有するシリンダが駆動源として適用されてもよい
のはもちろんである。

【００２２】ロッドレスシリンダ１９の駆動力は、駆動
伝達軸２７によってシャッタ１４に伝達される。駆動伝
達軸２７は、上下方向に延びて設けられており、天板１
５に形成された開口部２８に挿通されている。駆動伝達
軸２７は、その下端がロッドレスシリンダ１９のヘッド
２４にブラケット２９を介して接続されており、ヘッド
２４の上下動に伴って上下動されるようになっている。
また、駆動伝達軸２７の上端には、駆動伝達軸２７とシ
ャッタ１４とを連結するための取付部材３０が取り付け
られている。

【００２３】ここで、ロッドレスシリンダ１９は、その
大部分が金属（たとえば、アルミニウムなど）でできて
おり、その一部分であるパッキン部分等はゴム（たとえ
ば、ニトリルブタジエンゴムなど）でできている。ま
た、駆動伝達軸２７は、金属（たとえばステンレスな
ど）あるいは樹脂（たとえば塩化ビニルなど）でできて
いる。

【００２４】なお、参照符号３１は、ブラケット２９の
移動をガイドするためのブラケットガイドである。取付
部材３０は、断面逆Ｌ字状の部材であり、平面矩形状の
水平部３２と、水平部３２の図３における右側の端縁か
ら下方に向けて延設された垂下部３３とを有している。
取付部材３０は、駆動伝達軸２７の上端を水平部３２の
下面に当接させた状態で、水平部３３の上方からボルト
３４が駆動伝達軸２７にねじ込まれることにより、駆動
伝達軸２７に固定されている。また、取付部材の垂下部
３３には、ボルト３５によって、シャッタ１４の上部が
密接した状態に取り付けられている。

【００２５】上述の構成により、シリンダチューブ２３
内のエア圧を変化させてヘッド２４を上下に摺動させる
と、ヘッド２４の移動に伴って駆動伝達軸２７が上下に
移動する。その結果、駆動伝達軸２７に連結されたシャ
ッタ１４が、空間内に設けられたシャッタガイド３６，
３７に両側縁をガイドされて、シャッタ収容部２１に収
容された開状態（図２に実線で示す状態）と、空間１１
内に突出した閉状態（図２に二点鎖線で示す状態）とに
変位される。

【００２６】図４は、図２における天板１５付近の構成
を拡大して示す断面図である。天板１５の上面には、駆
動伝達軸２７が挿通された開口部２８に関連して、駆動
伝達軸２７と天板１５との間隙２９をシールするシール
部材３８が設けられている。シール部材３８は、たとえ
ば円環状のメカニカルシールで構成されており、駆動伝
達軸２７に挿通されて、キャップ３９によって天板１５
の上面に固定されている。具体的には、キャップ３９
は、円板状に形成されており、その下面には、シール部
材３８の外径とほぼ等しい径を有する環状の凹部４０が
形成されている。シール部材３８は、キャップ３９の凹
部４０に嵌まり込んだ状態で、キャップ３９がボルト４
１で天板１５の上面に固定されることによって取り付け
られている。

【００２７】シール部材３８を構成するメカニカルシー
ルは、たとえばフッ素樹脂からなるリング状摺動部材の
内部にばね部材が設けられたものである。リング状摺動
部材がフッ素樹脂で構成されていることにより、駆動伝
達軸２７の摺動抵抗を小さくすることができるので、駆
動伝達軸２７が上下に摺動することによって発生するパ
ーティクルの量を少なくすることができる。また、上記
リング状摺動部材に内蔵されているばね部材の弾性力に
よってリング状摺動部材の内径が縮められて、リング状
摺動部材は駆動伝達軸２７に密着することができる。こ
れにより、駆動伝達軸２７と天板１５との間隙２９を良
好にシールすることができるので、空間１１内の雰囲気
が、間隙２９を介して駆動室１８内に侵入するおそれが
ない。ゆえに、処理液成分を含む雰囲気によって、駆動
室１８内に設けられた駆動源としてのロッドレスシリン
ダ１９の金属部分が腐食されたり、そのゴム部分が劣化
したりするのを防ぐことができる。

【００２８】なお、シール部材３８としては、上述のメ
カニカルシール以外に、たとえばＯリングなどが適用さ
れてもよい。駆動室１８内にはまた、天板１５に隣接し
て内部室４２が形成されており、この内部室４２には、
気体供給手段としての不活性ガス供給源４３からＮ2 な
どの不活性ガスが供給されるようになっている。具体的
に説明すると、内部室４２は、天板１５に密接した上板
４４、上板４４と上下方向に所定間隔を置いて設けられ
た下板４５、および上板４４と下板４５とを連結する周
側板４６によって区画されている。上板４４、下板４５
および周壁板４６は、たとえばポリプロピレンなどの樹
脂材料によって構成することができる。上板４４および
下板４５には、それぞれ軸通孔４７，４８が形成されて
おり、軸通孔４７，４８には駆動伝達軸２７が挿通され
ている。すなわち、駆動伝達軸２７は、内部室４２を貫
通して、天板１５に形成された開口部２８に挿通されて
いる。

【００２９】また、天板１５および上板４４には、内部
室４２内に不活性ガスを供給するためのガス供給孔４９
が貫通形成されている。さらに、天板１５の上面には、
ガス供給孔４９の周縁から上方に立ち上がった周側壁５
０と、周側壁５０の上方を閉塞する上壁５１とで区画さ
れた供給管接続部５２が設けられている。周側壁５０の
所定位置には、接続口５３が形成されており、この接続
口５３には、不活性ガス供給源４３に接続されたガス供
給管５４の先端がねじ込まれている。

【００３０】この構成により、内部室４２内には、不活
性ガス供給源４３からガス供給管５４、供給管接続部５
２およびガス供給孔４９を介して不活性ガスを供給する
ことができる。内部室４２内に不活性ガスが供給される
と、内部室４２内の気圧が駆動室１８および処理室２
（空間１１）内の気圧よりも高くなるので、たとえシー
ル部材３８と駆動伝達軸２７との間に隙間が生じていて
も、処理室２内の雰囲気が内部室４２（駆動室１８）に
侵入することがない。ゆえに、処理液成分を含む雰囲気
が駆動室１８内に侵入して、駆動源としてのロッドレス
シリンダ１９を腐食したり、劣化させたりすするおそれ
をさらになくすことができる。

【００３１】また、内部室４２に供給された不活性ガス
が、内部室４２を区画する下板４５に形成された軸通孔
４８と駆動伝達軸２７との隙間から駆動室１８内に侵入
し、侵入した不活性ガスによって駆動室１８内の駆動源
としてのロッドレスシリンダ１９（図２参照）が包み込
まれるので、ロッドレスシリンダ１９の腐食および劣化
を一層効果的に防ぐことができる。

【００３２】さらに、駆動伝達軸２７が内部室４２を貫
通しているので、内部室４２に供給された不活性ガスを
直接に駆動伝達軸２７に吹き付けることができる。これ
により、駆動伝達軸２７に付着した処理液成分を除去す
ることができるので、処理液成分による駆動伝達軸２７
の金属部分の腐食および樹脂部分の劣化を防ぐことがで
きる。

【００３３】さらにまた、内部室４２が天板１５に密接
した状態に設けられているので、駆動伝達軸２７が駆動
室１８内に引き込まれると同時に、駆動伝達軸２７に付
着した処理液成分を除去することができる。したがっ
て、処理液成分による駆動伝達軸２７の腐食および劣化
をより効果的に防ぐことができる。この発明の一実施形
態について説明したが、この発明は上記の実施形態以外
にも種々の形態で実施することが可能である。たとえ
ば、上述の実施形態では、内部室にＮ2 などの不活性ガ
スが供給されるとしたが、不活性ガスに限らず、酸素な
どを含む気体（たとえば空気）が供給されてもよく、要
するに駆動室内の気圧が処理室内の気圧よりも高くされ
ればよい。ただし、不活性ガスを内部室に供給すること
により、駆動源を不活性ガスで包み込むことができるの
で、酸素などを含む気体（たとえば空気）が供給される
場合に比べて、駆動源が腐食されたり、劣化したりする
おそれを一層少なくすることができる。

【００３４】また、上述の実施形態では、内部室が天板
に密接して設けられているが、図５に示すように、内部
室４２が天板１５から離れて設けられていてもよい。こ
の場合にも、内部室４２に供給された気体が軸通孔５５
から駆動室１８に侵入し、駆動室１８内の気圧が空間１
１内の気圧よりも高くなるので、空間１１内の雰囲気が
駆動室１８内に侵入するのを防ぐことができる。ゆえ
に、駆動室１８内に配置された駆動源５６の腐食および
劣化を防止することができる。また、駆動伝達軸２７が
内部室４２を貫通しているので、内部室４２に供給され
た気体を駆動伝達軸２７に吹き付けて、駆動伝達軸２７
に付着した処理液成分を除去することにより、駆動伝達
軸２７の処理液成分による腐食および劣化を防ぐことが
できる。

【００３５】さらに、図６に示すように、上述の内部室
４２（図２参照）が省略されて、駆動室１８に直接に気
体が供給されるように構成されてもよい。この場合に
も、駆動室１８内の気圧を空間１１内の気圧よりも高く
することができるので、空間１１内の雰囲気が駆動室１
８内に侵入するのを防ぐことができる。また、上述の実
施形態では、上下方向に摺動する駆動伝達軸によってシ
ャッタが上下動される構成を取り上げて説明したが、た
とえば、シャッタの一方面に上下方向に長いラックが形
成され、このラックと噛み合うピニオンが水平方向に延
びた回転駆動軸に取り付けられて、回転駆動軸が回転駆
動されることによりシャッタが上下動される構成であっ
てもよい。この場合、シャッタが設けられた処理室から
駆動源を隔離する隔壁と回転駆動軸との間に、シール部
材が設けられるとよい。

【００３６】さらに、シャッタを駆動するための駆動源
だけでなく、たとえば搬送ロボットが駆動伝達軸として
の回転駆動軸を中心に回動可能に構成されている場合
に、駆動源を処理室から隔離するための隔壁と回転駆動
軸との間にシール部材を設けることにより、搬送ロボッ
トを駆動するための駆動源および駆動伝達軸の腐食およ
び劣化を防止することも可能である。

【００３７】また、バッチ式の基板処理装置に限らず、
この発明に係る構成は、たとえば基板を１枚ずつ処理す
るタイプの基板処理装置に適用されてもよい。さらに、
処理される基板も、ウエハに限定されず、液晶表示装置
用ガラス基板やＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネ
ル）基板などであってもよい。その他、特許請求の範囲
に記載された技術的事項の範囲内で、種々の設計変更を
施すことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置を一部
破断して示す簡略化した斜視図である。

【図２】シャッタの駆動機構を基板処理装置の側面から
見た断面図である。

【図３】シャッタの駆動機構を基板処理装置の正面から
見た断面図である。

【図４】図２に示す天板付近の構成を拡大して示す断面
図である。

【図５】本発明の変形例を示す簡略化された要部断面図
である。

【図６】本発明の他の変形例を示す簡略化された要部断
面図である。

【図７】従来のバッチ式ウエハ処理装置の構成例を簡略
化して示す斜視図である。

【符号の説明】

１ 基板処理装置 ２ 処理室 ４ 処理槽 １１ 空間 １４ シャッタ（可動部材） １５ 天板（隔壁） １９ ロッドレスシリンダ（駆動源） １８ 駆動室 ２７ 駆動伝達軸 ２８ 開口部 ３８ シール部材 ４２ 内部室 ４３ 不活性ガス供給源（気体供給手段）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板に対して処理流体を供給して処理を施
   すための処理室と、 基板に対して処理を施すために動作する可動部材を駆動
   する駆動源と、 この駆動源を取り囲むように設けられ、上記処理室と上
   記駆動源とを隔離する隔壁によって形成された駆動室
   と、 この駆動室の隔壁に形成された開口部と、 この開口部を挿通し、上記駆動源の駆動力を上記可動部
   材に伝達する駆動伝達軸と、 上記開口部に設けられて、上記駆動伝達軸と上記駆動室
   の隔壁との間隙をシールするシール部材とを備えたこと
   を特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】上記駆動室に対して気体を供給する気体供
   給手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の
   基板処理装置。
3. 【請求項３】上記気体供給手段は、上記駆動室に対して
   不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段であることを
   特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
4. 【請求項４】上記駆動室の内部に設けられ、上記駆動伝
   達軸を取り囲むように形成された内部室をさらに備え、 上記気体供給手段は、この内部室に対して気体を供給す
   るものであることを特徴とする請求項２または請求項３
   記載の基板処理装置。
5. 【請求項５】上記内部室は、上記開口部が形成された隔
   壁に隣接して設けられていることを特徴とする請求項４
   記載の基板処理装置。