JPH10329006A - 研磨装置における研磨布自動交換装置 - Google Patents

研磨装置における研磨布自動交換装置

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JPH10329006A
JPH10329006A JP13679997A JP13679997A JPH10329006A JP H10329006 A JPH10329006 A JP H10329006A JP 13679997 A JP13679997 A JP 13679997A JP 13679997 A JP13679997 A JP 13679997A JP H10329006 A JPH10329006 A JP H10329006A
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JP
Japan
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polishing
polishing cloth
cloth
automatic
roller
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Application number
JP13679997A
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English (en)
Inventor
Bungo Shu
文豪 周
Manabu Sato
学 佐藤
Kenji Sakai
謙児 酒井
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】研磨布の交換の手間を削減するとともに、研磨
布の付着不良等による研磨精度の低下を防止する研磨装
置における研磨布自動交換装置を提供する。 【解決手段】ウェーハは研磨ヘッド10A、10B、1
0Cの下面に吸着保持され、研磨ヘッド10A、10
B、10Cの下方に設置された固定定盤20上の研磨布
22に押し当てられるとともに回転し、ウェーハの表面
が研磨される。研磨布22は帯状に形成され、2つの収
納ローラ24、26に巻回される。固定定盤20上に供
給された研磨布22が劣化すると、収納ローラ24から
未使用の研磨布22が固定定盤20上に供給されるとと
もに、劣化した研磨布22は、収納ローラ26に巻回さ
れる。これにより、研磨布22の交換が簡便になる。ま
た、研磨布22は、テンションローラ32、34により
引張され、固定定盤20上の平らな面に圧接される。従
って、研磨布22は固定定盤20上にしわ等の凹凸を生
じることなく平らに支持される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は研磨装置における研
磨布自動交換装置に係り、特に研磨液及び研磨布を用い
る化学的機械的研磨装置において研磨布の自動取り替
え、且つ研磨布の磨耗を均一化し、信頼性の高い研磨布
のドレッシング及び洗浄を行う研磨装置における研磨布
自動交換装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体ウェーハ等の研磨装置にお
いて、一般的に用いられているものはターンテーブルを
用いる研磨装置である。この研磨装置は研磨布の貼り付
けにより研磨布の交換を行っている。図5にターンテー
ブルを用いた研磨装置を示す。同図に示すように真空、
磁気又はピンなどにより研磨布100を貼り付けた研磨
定盤102をターンテーブル104の上に位置決めして
固定する。そして、研磨ヘッド106の下面に吸着保持
したウェーハ108を研磨布100に押し当てるととも
に研磨ヘッド106及びターンテーブル104を回転さ
せ、ウェーハ108を研磨する。
【0003】このように研磨定盤には貼り付けられた研
磨布は消耗品であり、常に交換しなければならない。研
磨布の使用時間はスループットや加工物、ドレッシング
などにより決まるが、通常では被研磨物1000枚分の
加工で交換されている。即ち、連続研磨する場合、1日
1回交換しなければならない。研磨布の交換作業は、研
磨定盤102をターンテーブル104から取り外し、研
磨定盤102より大きい裏面に接着剤が予め塗布された
研磨布100を用意し、研磨布100を研磨定盤102
の中央部分から周縁部へ貼り付ける。そして、研磨布貼
付済みの研磨定盤102をターンテーブル104に固定
する。この交換作業では、研磨布100と研磨定盤10
2の間に空気を残さないことや、しわが出ないように格
段の注意を払わなければならない。
【0004】上記交換作業は熟練の作業者でも、研磨装
置操作の中で最も煩雑な操作と言える。予め研磨布を予
備定盤に張り付けて、交換だけを行うようにしても研磨
布上の残液除去、周辺環境の配慮をしながら作業をしな
くてはならない。この作業性の悪さがしばしば指摘さ
れ、未だに抜本的な改善案が得られていない。上記ター
ンテーブルを用いた研磨装置において研磨定盤との接着
により気泡が残され、平坦な研磨精度が得られないとい
う問題を改善するために、接着剤不要な研磨布の固定方
式を提案したものとして特開平8−174406号公
報、特開平8−187656号公報等がある。特開平8
−174406号公報に記載された研磨装置によれば、
図6に示すように研磨布110が定盤112外周上に設
置される保持リング114に装着される。そして、保持
リング114が定盤外周に設置されている幾つかのシリ
ンダ116に引張される。このようにして研磨布110
に張力を加えて定盤112を覆っている結果、研磨布1
10の被着不良に起因する研磨品質の低下を防止するこ
とができる。しかしながら、研磨布110の張り替えは
やはり時間と体力を要する。そして、硬質研磨布の円形
定盤への被着の平坦性を講じることはかなり困難なこと
と考えられる。
【0005】また、特開平8−195363号公報、特
開平8−195365号公報には図7に示すようにベル
ト式研磨布を用いる研磨装置が提案されている。特開平
8−195365号公報に記載の研磨装置によれば、2
本平行設置しているローラ120、120によりベルト
研磨布122を張り付け、ローラの回転により研磨布1
22が提供する研磨面が直線移動する。そして、その上
に設置される研磨ヘッド124がウェーハ126を保持
して研磨布122に押圧するとともに回転し、ウェーハ
122が研磨される。
【0006】また、研磨布の磨耗、及び複数のワークを
同時に研磨する場合に各ワークの研磨条件を均一化する
措置として、特開平5−245755号公報が提案され
ている。この特開平5−245755号公報に記載の研
磨装置によれば、図8に示すように研磨布が貼り付けら
れた回転定盤130を揺動することにより研磨布磨耗の
均一化を図るようにしている。回転定盤130とそれを
駆動する装置とを支持板上132に設け、この支持板1
32をシリンダ134など直線移動装置により水平方向
に往復移動することができる。このようにして、横方向
移動しない研磨ヘッドにより決められる研磨布上の研磨
面がシフトしながら研磨をするため、研磨布の磨耗が均
一になって、複数のワークの同時研磨の研磨条件も均一
化される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記図
5に示したターンテーブルを用いた研磨装置は、研磨布
の交換作業は煩雑であり、また、狭い装置の内部では研
磨布の自動交換装置の導入は難しいという問題がある。
また、上記図6に示した接着剤不要な研磨布の固定方式
を用いた研磨装置では、研磨布の交換作業の時間短縮に
ならず、また、硬質研磨布の平坦性が保証しにくいとい
う問題がある。
【0008】更に、上記図7に示したベルト研磨布によ
る研磨装置では、研磨布の交換を言及していない。ま
た、上記図8に示した研磨布の揺動機構を備えた研磨装
置では研磨条件を平均化するための揺動装置が煩雑であ
るという問題がある。本発明はこのような事情に鑑みて
なされたもので、研磨布の自動交換による省力化及び研
磨布交換時間の短縮、従来の接着剤の使用により研磨布
の貼り付け不良の解消及び高平坦化を実現可能な研磨布
の被覆、簡単な装置により研磨ヘッドに対する研磨布の
往復移動の実現、研磨布のドレッシングと洗浄の信頼性
及び研磨レートの確保、を可能にする研磨装置における
研磨布自動交換装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、研磨ヘッドによってウェーハを保持し、該
ウェーハの表面を定盤の平らな面で支持された研磨布に
押し当てるとともに、前記ウェーハを回転させて前記ウ
ェーハを表面研磨する研磨装置における研磨布自動交換
装置であって、帯状に形成された未使用の研磨布を前記
定盤に給送するとともに、前記定盤においてウェーハの
表面研磨に使用された使用済みの研磨布を収納する研磨
布供給回収手段を備え、前記研磨布供給回収手段により
前記研磨布の自動交換を可能にしたことを特徴としてい
る。
【0010】本発明によれば、上記研磨装置において上
記研磨布供給回収手段を設け、この研磨布供給回収手段
によって帯状に形成された未使用の研磨布を前記定盤に
給送するとともに、前記定盤においてウェーハの表面研
磨に使用された使用済みの研磨布を収納する。これによ
り、研磨布の自動交換による省力化及び研磨布交換時間
の短縮が図れる。また、接着剤等を使用して研磨布を定
盤に貼り付ける必要がなく従来の接着剤の使用により研
磨布の貼り付け不良の解消及び高平坦化を実現可能な研
磨布の被覆が可能となる。
【0011】更に、未使用の研磨布を巻回した巻戻しロ
ーラと、巻戻しローラの研磨布を巻き取る巻取りローラ
とによって研磨布を自動交換することにより、これらの
巻戻しローラと巻取りローラの回転方向を切り換えるだ
けで研磨布の往復移動が可能となり、このような簡単な
装置により研磨ヘッドに対する研磨布の往復移動の実現
が可能となる。また、研磨布の走行路に研磨布をドレッ
シングするドレッシング手段や研磨布を洗浄する洗浄手
段を設けることにより研磨布の走行時に研磨布をドレッ
シング、洗浄することが可能となり、研磨布のドレッシ
ングと洗浄の信頼性及び研磨レートの確保が可能とな
る。
【0012】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る研磨装置における研磨布自動交換装置の好ましい実施
の形態について詳説する。図1は本発明が適用される研
磨装置の一実施の形態を示した斜視図である。同図に示
す研磨装置は、ウェーハを保持するとともにウェーハを
固定定盤20上の研磨布22に押し当てて回転させるウ
ェーハ駆動装置と、固定定盤20上の使用済みの研磨布
22を自動で新しい未使用の研磨布22に交換する本発
明に係る研磨布自動交換装置とから構成される。
【0013】上記ウェーハ駆動装置は、主として3つの
研磨ヘッド10A、10B、10C、太陽ギア14、駆
動モータ18とから構成される。研磨ヘッド10A、1
0B、10Cは下面にウェーハを吸着保持する吸着パッ
ドを有し、上部に太陽ギア14と噛合する遊星ギア12
A、12B、12Cを有する。太陽ギア14はベルト1
6を介して駆動モータ18のスピンドル18Aに回転力
伝達可能に連結される。
【0014】従って、駆動モータ18が回転すると、こ
の回転力が太陽ギア14を介して各研磨ヘッド10A、
10B、10Cに伝達し、各研磨ヘッド10A、10
B、10Cが太陽ギア14の周りを公転するとともに各
研磨ヘッド10A、10B、10Cの中心軸を回転軸と
して自転する。図2はこれらの駆動モータ18、太陽ギ
ア14及び研磨ヘッド10A、10B、10Cの回転方
向の関係を示した上面図である。同図に示すように、駆
動モータ18が左回りに回転すると、太陽ギア14は右
回りに回転し、研磨ヘッド10A、10B、10Cは左
回りに自転する。また、研磨ヘッド10A、10B、1
0Cは遊星プレート15に支持されて右回りに公転す
る。
【0015】また、上記研磨ヘッド10A、10B、1
0Cは図示しない昇降機構により昇降移動するようにな
っており、研磨ヘッド10A、10B、10Cの下面に
吸着保持されたウェーハの表面が固定定盤20上の研磨
布22に押し当てられるようになっている。以上の如く
構成されたウェーハ駆動装置により、研磨ヘッド10
A、10B、10Cに吸着保持されたウェーハは、固定
定盤20上で研磨布22に押し当てられながら自転及び
公転し、表面が研磨される。尚、研磨布22には図示し
ないノズルから研磨液が供給される。
【0016】一方、本発明に係る上記研磨布自動交換装
置は、固定定盤20上の使用済みの研磨布22を回収し
て未使用の研磨布22を固定定盤20上に供給し、固定
定盤20上の研磨布22を自動で交換する装置である。
図1に示すように研磨布22は帯状に形成され、その両
端は固定定盤20の下方に配設された収納ローラ24、
26に巻回される。この帯状に形成された研磨布22の
未使用部分は図中左側に配設された収納ローラ24に巻
回され、使用済みの部分は図中右側に配設された収納ロ
ーラ26に巻回される。
【0017】固定定盤20上の使用済みの研磨布22を
交換する場合、図示しない駆動モータにより収納ローラ
26が回転し、収納ローラ26に研磨布22が巻回され
て固定定盤20上の使用済みの研磨布22が同図矢印A
で示す方向(研磨布交換方向)に走行する。これによ
り、固定定盤20上の使用済みの研磨布22が収納ロー
ラ26に回収される。また、これと同時に収納ローラ2
4から未使用の研磨布22が送り出されて固定定盤20
上に新しい研磨布22が供給される。
【0018】さて、収納ローラ24から固定定盤20ま
での上流側の研磨布走行路には、支持ローラ28、テン
ション測定ローラ30及びテンションローラ32が配設
される。また、固定定盤20から収納ローラ26までの
図中右側の研磨布走行路にはテンションローラ34及び
支持ローラ36が配設される。これらの収納ローラ2
4、26、支持ローラ28、36、テンション測定ロー
ラ30及びテンションローラ32、34は、研磨布22
と接触し、それぞれ図示しない駆動モータによって回転
駆動されるとともに、それぞれの回転方向及び回転速度
が研磨布22の走行方向及び走行速度に基づいて同期制
御されることにより、研磨布22の走行方向及び走行速
度を適切に制御する。
【0019】また、上記テンションローラ32、34
は、固定定盤20の左右に設けられるとともに、固定定
盤20の上面より下方に設けられている。これにより、
この2本のテンションローラ32、34によって研磨布
22が引張されるとともに研磨布22が固定定盤20の
平らな面に押し付けられる。従って、固定定盤20上に
給送された研磨布22は、しわ等の凹凸を生じることな
く高い平坦性を有する研磨面を提供する。尚、上記テン
ションローラ32、34を横方向に移動できるようにし
て研磨布22の張力を適宜調整できるようにしてもよ
い。
【0020】上記テンション測定ローラ30は支持ロー
ラ28とテンションローラ32の間に配設される。この
テンション測定ローラ30には研磨布22のテンション
を測定するセンサが設置され、このセンサによって研磨
布22のテンションが検出される。各ローラの駆動モー
タを制御する制御部は、このセンサからの検出結果に基
づいて各駆動モータの回転速度を制御することにより、
研磨布22のテンションを常に一定にすることができ
る。また、上述したようにテンションローラ32、34
を横方向に移動可能にした場合には、テンションローラ
32、34の位置を調整して研磨布のテンションを一定
にすることができる。
【0021】また、上記固定定盤20の両側部には研磨
布22の走行方向に沿って研磨布治具38、38が設け
られる。この研磨布治具38、38は、固定定盤20上
に給送された研磨布22を固定定盤20の表面に押し付
けるとともに、固定定盤20上の研磨区域から研磨液が
外部にもれるのを防止している。図3に固定定盤20及
び研磨布治具38の側面図を示す。同図に示すように固
定定盤20の側面にシリンダ39が設置され、シリンダ
39の出力端が研磨布治具38の側面に取り付けられ
る。研磨布治具38は、一角を中心に揺動自在に固定定
盤20に支持されており、シリンダ39が縮短動作する
と研磨布治具38が固定定盤20側に引っ張られ、研磨
布治具38の圧接部38Aが固定定盤20上の研磨布2
2を押圧する。逆に、シリンダ39が伸長動作すると図
3の点線で示すように研磨布治具38が固定定盤20か
ら離れる方向に押圧され、研磨布治具38の圧接部38
が研磨布22から離間する。これにより、研磨布22の
停止時にはシリンダ39を縮短動作させて研磨布治具3
8により研磨布22を固定定盤20上に押し付け、研磨
布22の走行時にはシリンダ39を伸長動作させて研磨
布治具38を研磨布22から離間させることができる。
【0022】また、図4の固定定盤20及び研磨布治具
38の側面断面図に示すようにこの研磨布治具38、3
8の下内部に溝41が形成されており、この溝41に研
磨布22上の研磨液等が導かれるようになっている。こ
の溝41に流入した研磨液は、固定定盤20下部に設置
された廃液タンク40、42にパイプ等を介して回収さ
れるようになっている。
【0023】さらに、固定定盤20の左右に配設された
テンションローラ32、34と対向する位置にはドレッ
サー44、48が配設される。また、これらのドレッサ
ー44、48に隣接してシャワーヘッド46、50が配
設される。ドレッサー44、48は、駆動モータによっ
て回転するローラ44A、48Aと、そのローラ44
A、48Aの周面に設けられた金属ブラシ44B、48
Bとから構成される。ローラ44A、48Aが回転する
と、ローラ44A、48Aの周面に設けられた金属ブラ
シ44B、48Bがその位置を走行する研磨布22に次
々に接触して研磨布22がドレッシングされるようにな
っている。
【0024】尚、ドレッシングの際に、研磨布22が固
定定盤20上を図中左から右に走行している場合には、
ドレッサー44の回転は停止して、ドレッサー48が回
転してドレッサー48により研磨布22のドレッシング
が行われ、逆に研磨布22が固定定盤20上を図中右か
ら左に走行している場合には、ドレッサー46の回転は
停止され、ドレッサー44が回転してドレッサー46に
より研磨布22のドレッシングが行われる。これによ
り、ドレッシングによって研磨布22に落下した金属ブ
ラシの金属破片等の落下物はドレッサー44、48にそ
れぞれ隣接して配設されたシャワーヘッド46、50に
より洗浄され、落下物がそのまま固定定盤20に搬送さ
れてウェーハの表面に傷などを生じさせないようにして
いる。
【0025】また、ドレッサー44及びドレッサー48
の回転方向をそれぞれ図中右周り及び左周りとすること
でドレッシングによって発生する屑等は後述するシャワ
ーヘッド46、50の方向に飛散するため、研磨面に侵
入することが防止される。上記シャワーヘッド46、5
0には、研磨布22に向けて多数のノズル46A、50
Aが設けられる。このノズル46A、50Aからは洗浄
水(例えば、純水)が研磨布22に噴出されて、研磨布
22に付着した砥粒、研磨屑や上記ドレッサー44、4
8から発生した金属ブラシの金属破片等の落下物が洗浄
される。尚、シャワーヘッド46、50を研磨布22が
垂直方向に走行する位置に配設したことにより研磨布2
2に付着した砥粒、研磨屑等を容易に洗浄することがで
きる。
【0026】また、シャワーヘッド46、50は、研磨
布上の残存している研磨液を洗浄する作用があり、研磨
布上の残存している研磨液により研磨布22を硬化させ
ないようにする効果を有するとともに、研磨布22の保
湿装置としても作用する。シャワーヘッド46、50か
ら噴射されて研磨布22から流れ落ちた廃液や廃液に含
まれる砥粒、研磨屑、落下物等は、固定定盤20の下方
に配設された廃液タンク40、42に回収される。
【0027】尚、収納ローラ24、26はシャワーヘッ
ド46、50によって生じた廃液で濡れないように支持
ローラ28、36より高い位置に配設される。以上の如
く構成された研磨装置の研磨手順について説明すると、
まず、研磨を開始する前に、未使用の研磨布22が巻回
された収納ローラ24から研磨布22の先端を引き出
し、各ローラ及び固定定盤20表面を通して使用済の研
磨布22が巻回される収納ローラ26に研磨布22を所
定量巻き取る。これにより、収納ローラ24と収納ロー
ラ26の間で研磨布22の走行が可能になるとともに、
固定定盤20上に研磨布22がセットされる。尚、既に
ウェーハの研磨に使用された使用済みの研磨布22が収
納ローラ26に巻回されている場合には、この作業は不
要である。
【0028】次に、研磨を開始する場合、上記収納ロー
ラ24、26、支持ローラ28、36、テンション測定
ローラ30及びテンションローラ32、34を駆動モー
タにより回転させ、固定定盤20上で研磨布22を走行
させる。尚、このときテンション測定ローラ30に設置
されたセンサにより研磨布22のテンションを測定し、
研磨布22のテンションが一定となるように各ローラの
回転速度等を制御する。
【0029】そして、研磨するウェーハを吸着保持した
研磨ヘッド10A、10B、10Cを昇降機構により下
降させ、ウェーハの表面を固定定盤20上の研磨布22
に押し当てるとともに、駆動モータ18を回転させて各
研磨ヘッド10A、10B、10Cを回転させる。ま
た、固定定盤20上の研磨布22に研磨液を供給する。
これにより、ウェーハの表面が研磨布22により研磨さ
れる。
【0030】研磨が終了すると、研磨したウェーハを研
磨ヘッド10A、10B、10Cから回収し、次に研磨
するウェーハを研磨ヘッド10A、10B、10Cに吸
着保持し、上記と同様の処理を繰り返し実行する。次
に、上記研磨を行う際の上記研磨布自動交換装置の研磨
布22の走行制御について説明する。ウェーハの研磨を
行う際の研磨布22の走行制御には、研磨布22を収納
ローラ24から収納ローラ26に一方向に走行させる方
法と、収納ローラ24と収納ローラ26の間を双方向に
走行させる方法がある。
【0031】研磨布22を一方向に走行させる場合、収
納ローラ24から未使用の研磨布22を送り出すととも
に、収納ローラ24から送り出された分量の研磨布22
を収納ローラ26により巻回する。これにより、固定定
盤20上には、順次未使用の研磨布22が供給される。
尚、この場合、研磨を行っている間は研磨布22の走行
を停止させ、所定枚数のウェーハの研磨が終了する毎に
使用済みの研磨布22を収納ローラ26で回収して未使
用の研磨布22を固定定盤20上に供給するようにして
もよい。
【0032】また、研磨布22を走行させている間、固
定定盤20より下流側に配設されたドレッサー48を回
転させ、使用済みの研磨布22をドレッシングするとも
に、シャワーヘッド50から洗浄水を噴射して研磨布2
2に付着した砥粒、研磨屑、落下物等を洗浄する。一
方、研磨布22を双方向に走行(往復走行)させる場
合、収納ローラ24から未使用の研磨布22を所定量送
り出すとともに、収納ローラ24から送り出された分量
の研磨布22を収納ローラ26により巻回し、所定量の
研磨布22を送り方向(図1に示す固定定盤20上を左
から右の方向)に走行させた後、収納ローラ24と収納
ローラ26の回転方向を反転させ、収納ローラ26から
研磨布22を所定量送り出すとともに、収納ローラ26
から送り出された分量の研磨布22を収納ローラ24に
より巻回し、所定量の研磨布22を戻り方向(図1に示
す固定定盤20上を右から左の方向)に走行させる。そ
して、この手順を順次繰り返す。これにより、固定定盤
20上で研磨布22が往復走行する。固定定盤20上の
研磨布22が劣化した場合には、収納ローラ24から未
使用の研磨布22を送り出すとともに、使用済みの研磨
布22を収納ローラ26に巻回し、固定定盤20上の研
磨布22を未使用の研磨布22に交換する。
【0033】このように研磨布22を双方向に走行させ
ながらウェーハを研磨することにより、各研磨ヘッド1
0A、10B、10Cに吸着保持されたウェーハは同一
条件で研磨されるため、各ウェーハの研磨レートを一定
にすることが可能であり、スループットの向上に効果が
ある。また、研磨布22の劣化の度合いも一様にするこ
とができる。また、固定定盤20上の劣化した研磨布2
2を一度に交換することにより研磨布22の温度上昇に
よる研磨レートの変化を抑制することができる。
【0034】また、上記研磨布22を往復走行させる場
合、研磨布22を小範囲で往復させる場合と、大範囲で
往復させる場合とが考えられる。研磨布22を小範囲で
往復させる場合、例えば、研磨布22をウェーハの直径
程度の幅で移動させる。この場合、研磨と同時にドレッ
シングは出来ないが、固定定盤20上の研磨布22を交
換する際の研磨布22の走行時に、ドレッサー48とシ
ャワーヘッド50を動作させて研磨布22のドレッシン
グと洗浄を行うことができる。
【0035】研磨布22を大範囲で往復させる場合、例
えば、研磨ヘッド10A、10B、10Cが移動する範
囲の幅(研磨区域の幅)程度又は固定定盤20の幅程度
で研磨布22を往復走行させる。この場合、研磨布22
の走行方向に応じて、研磨と同時に、ドレッサー44、
48及びシャワーヘッド46、50を動作させてドレッ
シング及び洗浄を行うことができる。
【0036】このように、研磨布22を往復走行させ
て、研磨を行いながら研磨布22の洗浄を行う場合、待
機している研磨布22を長時間洗浄することができるた
め、十分に洗浄を行うことができ、また、これにより待
機している研磨布を保湿しているため、研磨液が残存し
ても研磨布22が硬化することがない。また、研磨布2
2を研磨区域の幅で移動させることによりこの研磨区域
の幅ごとにドレッシングが行われるため研磨レートを安
定化させることができる。
【0037】尚、上記研磨布22を往復走行させてウェ
ーハを研磨する場合、研磨布22の送り方向への走行量
を戻り方向への走行量より多くし、研磨しながら使用済
みの研磨布22を収納ローラ26に回収するようにして
もよい。また、1ロール分の研磨布22が劣化し使用が
不可能な場合には、使用済みの研磨布22が巻回された
収納ローラ26ごと、新しい研磨布が巻回された収納ロ
ーラと交換できるようにしてもよい。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る研磨装
置における研磨布自動交換装置によれば、研磨装置にお
いて研磨布供給回収手段を設け、この研磨布供給回収手
段によって帯状に形成された未使用の研磨布を前記定盤
に給送するとともに、前記定盤においてウェーハの表面
研磨に使用された使用済みの研磨布を収納する。これに
より、研磨布の自動交換による省力化及び研磨布交換時
間の短縮が図れ、作業効率を向上させることができる。
また、研磨布交換のためのスペースをほとんど必要とせ
ず、作業環境の清潔、整然などに効果がある。また、接
着剤等を使用して研磨布を定盤に貼り付ける必要がなく
従来の接着剤の使用により研磨布の貼り付け不良を解消
することができ、高平坦化を実現可能な研磨布の被覆が
可能となる。
【0039】また、研磨布及び定盤が回転しないため、
遠心力による研磨液の流失、ロスを大幅に減少させるこ
とができる。また、固定方式の定盤を使用することがで
きるため、重い材質を使用しても、装置の負荷に影響を
及ぼすことがなく、装置の安定性と研磨精度の向上に効
果がある。また、未使用の研磨布を巻回した巻戻しロー
ラと、巻戻しローラの研磨布を巻き取る巻取りローラと
によって研磨布を自動交換することにより、これらの巻
戻しローラと巻取りローラの回転方向を切り換えるだけ
で研磨布の往復移動が可能となり、このような簡単な装
置により研磨ヘッドに対する研磨布の往復移動の実現が
可能となる。従って、複数のウェーハの同時研磨に対し
て、研磨条件の平均化を容易にし、スループットの向上
に効果がある。
【0040】また、研磨布の走行路に研磨布をドレッシ
ングするドレッシング手段や研磨布を洗浄する洗浄手段
を設けることにより研磨布の走行時に研磨布をドレッシ
ング、洗浄することが可能となり、研磨布のドレッシン
グと洗浄の信頼性及び研磨レートの確保が可能となる。
また、研磨布のドレッシングを固定定盤上の研磨区域毎
に行うこにより研磨レートを安定化させることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明に係る研磨装置の一実施の形態
を示した斜視図である。
【図2】図2は、研磨ヘッドの動作を示した説明図であ
る。
【図3】図3は、固定定盤及び研磨布治具の側面図であ
る。
【図4】図4は、固定定盤及び研磨布治具の側面断面図
である。
【図5】図5は、ターンテーブルを用いた研磨装置を示
した説明図である。
【図6】図6は、テンションにより研磨布を研磨定盤に
被覆する研磨装置を示した説明図である。
【図7】図7は、ベルト研磨布を用いた研磨装置を示し
た説明図である。
【図8】図8は、研磨布の揺動機構を備えた研磨装置を
示した説明図である。
【符号の説明】
10A、10B、10C…研磨ヘッド 12A、12B、12C…遊星ギア 14…太陽ギア 16…ベルト 18…駆動モータ 18A…スピンドル 20…固定定盤 22…研磨布 24、26…収納ローラ 28、36…支持ローラ 30…テンション測定ローラ 32、34…テンションローラ 38…研磨布治具 40、42…洗浄廃液タンク 44、48…ドレッサー 46、50…シャワーヘッド

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研磨ヘッドによってウェーハを保持し、
    該ウェーハの表面を定盤の平らな面で支持された研磨布
    に押し当てるとともに、前記ウェーハを回転させて前記
    ウェーハを表面研磨する研磨装置における研磨布自動交
    換装置であって、 帯状に形成された未使用の研磨布を前記定盤に給送する
    とともに、前記定盤においてウェーハの表面研磨に使用
    された使用済みの研磨布を収納する研磨布供給回収手段
    を備え、 前記研磨布供給回収手段により前記研磨布の自動交換を
    可能にしたことを特徴とする研磨装置における研磨布自
    動交換装置。
  2. 【請求項2】 前記研磨布供給回収手段は、前記未使用
    の研磨布が巻回された巻戻しローラと、該巻戻しローラ
    の研磨布を巻き取る巻取りローラとから成り、 前記研磨布は前記巻戻しローラから送り出されて前記定
    盤に供給された後、前記巻取りローラに巻き取られるこ
    とを特徴とする請求項1の研磨装置における研磨布自動
    交換装置。
  3. 【請求項3】 前記巻戻しローラと巻取りローラとの間
    には、研磨布に張力を与える張力付与手段が設けられて
    いることを特徴とする請求項2の研磨装置における研磨
    布自動交換装置。
  4. 【請求項4】 前記張力付与手段は、ローラであること
    を特徴とする請求項3の研磨装置における研磨布自動交
    換装置。
  5. 【請求項5】 前記研磨布の張力を検出する張力検出手
    段と、該張力検出手段によって検出した張力に基づいて
    前記張力付与手段により研磨布に付与する張力を制御す
    る張力制御手段と、を有することを特徴とする請求項3
    の研磨装置における研磨布自動交換装置。
  6. 【請求項6】 前記巻戻しローラと前記巻取りローラと
    の間には、研磨布を前記定盤に押し付ける押圧手段が設
    けられていることを特徴とする請求項2の研磨装置にお
    ける研磨布自動交換装置。
  7. 【請求項7】 前記定盤に研磨布の縁部を押圧するとと
    もに、前記研磨布上の液体を前記定盤から漏れるのを防
    止する研磨布治具を設けたことを特徴とする請求項1の
    研磨装置における研磨布自動交換装置。
  8. 【請求項8】 前記研磨布治具は、前記定盤上の研磨布
    から退避可能であることを特徴とする請求項7の研磨装
    置における研磨布自動交換装置。
  9. 【請求項9】 前記巻戻しローラと前記巻取りローラと
    の間には、研磨布をドレッシングするドレッシング手段
    が設けられていることを特徴とする請求項2の研磨装置
    における研磨布自動交換装置。
  10. 【請求項10】 前記巻戻しローラと前記巻取りローラ
    との間には、研磨布に洗浄液を噴射して該研磨布を洗浄
    する洗浄手段が設けられていることを特徴とする請求項
    2の研磨装置における研磨布自動交換装置。
  11. 【請求項11】 前記洗浄手段によって噴射された洗浄
    液を回収する回収手段が設けられていることを特徴とす
    る請求項10の研磨装置における研磨布自動交換装置。
  12. 【請求項12】 前記ウェーハの表面研磨を行っている
    際に、前記研磨布を往復移動させることを特徴とする請
    求項1の研磨装置における研磨布自動交換装置。
  13. 【請求項13】 前記研磨布の往復移動距離はウェーハ
    の直径寸法とすることを特徴とする請求項12の研磨装
    置における研磨布自動交換装置。
  14. 【請求項14】 前記研磨布の往復移動距離はウェーハ
    の研磨区域の幅であることを特徴とする請求項12の研
    磨装置における研磨布自動交換装置。
  15. 【請求項15】 前記定盤を挟んで両側に研磨布をドレ
    ッシングするドレッシング手段を設け、該ドレッシング
    手段により前記研磨区域の研磨布をドレッシングしなが
    ら往復移動させることを特徴とする請求項14の研磨装
    置における研磨布自動交換装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000296458A (ja) * 1999-02-25 2000-10-24 Obsidian Inc 研磨媒体安定化装置
JP2000353679A (ja) * 1999-05-03 2000-12-19 Applied Materials Inc ケミカルメカニカル平坦化システム
JP2001044150A (ja) * 1999-06-25 2001-02-16 Applied Materials Inc ケミカルメカニカルポリシングのための装置および方法
CN112276787A (zh) * 2020-10-10 2021-01-29 俞樑兵 一种卷钢表面处理设备及表面处理工艺

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