JPH10308033A - Exposing method for optical master disk - Google Patents
Exposing method for optical master diskInfo
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- JPH10308033A JPH10308033A JP9117072A JP11707297A JPH10308033A JP H10308033 A JPH10308033 A JP H10308033A JP 9117072 A JP9117072 A JP 9117072A JP 11707297 A JP11707297 A JP 11707297A JP H10308033 A JPH10308033 A JP H10308033A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばコンパクト
ディスク等の光ディスクの原盤の露光方法に係わる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for exposing a master of an optical disk such as a compact disk.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えばコンパクトディスク等の光ディス
クにおいては、いわゆるスタンパーと称される原盤を形
成して、これを用いて光ディスクの製造を行っている。2. Description of the Related Art For an optical disk such as a compact disk, for example, a master called a so-called stamper is formed, and the optical disk is manufactured using the master.
【０００３】この光ディスクの原盤の製造工程を、図５
に示す。まず、図５Ａに示すように、ガラス基板５１上
にフォトレジスト５２を塗布し、レジスト盤５３を形成
する。次に、図５Ｂに示すように、所定の露光パターン
となるようにフォトレジスト５２を露光する。５２ａは
フォトレジスト５２の露光された部分を示す。[0003] The manufacturing process of this optical disk master is shown in FIG.
Shown in First, as shown in FIG. 5A, a photoresist 52 is applied on a glass substrate 51 to form a resist board 53. Next, as shown in FIG. 5B, the photoresist 52 is exposed so as to have a predetermined exposure pattern. Reference numeral 52a denotes an exposed portion of the photoresist 52.
【０００４】次に、図５Ｃに示すように、露光させたフ
ォトレジスト５２（５２ａ）を現像し、露光されていな
い部分を残して除去することにより、フォトレジスト５
２が所定のパターンとされたガラス・マスター５４を形
成する。[0005] Next, as shown in FIG. 5C, the exposed photoresist 52 (52a) is developed, and the photoresist 52 (52a) is removed while leaving the unexposed portions, so that the photoresist 5 (52a) is removed.
2 form a glass master 54 having a predetermined pattern.
【０００５】次に、図５Ｄに示すように、ガラス・マス
ター５４に対して、フォトレジスト５２の表面を覆っ
て、全面的にニッケルメッキ５５を形成する。Next, as shown in FIG. 5D, a nickel plating 55 is formed on the entire surface of the glass master 54 so as to cover the surface of the photoresist 52.
【０００６】次に、図５Ｅに示すように、ニッケルメッ
キ５５の上面を研磨する。続いて、図５Ｆに示すよう
に、フォトレジスト５２及びガラス基板５１を剥離し、
洗浄する。このようにして、ニッケルによる光ディスク
原盤（スタンパー）５６が形成される。Next, as shown in FIG. 5E, the upper surface of the nickel plating 55 is polished. Subsequently, as shown in FIG. 5F, the photoresist 52 and the glass substrate 51 are peeled off,
Wash. Thus, an optical disk master (stamper) 56 made of nickel is formed.
【０００７】そして、図５Ｂに示した、フォトレジスト
５２への露光工程によって、フォトレジスト５２へ光デ
ィスクのピットや溝に対応する形状を形成し、これを原
盤５６へ転写していた。[0007] Then, a shape corresponding to the pits and grooves of the optical disk is formed on the photoresist 52 by the exposure process on the photoresist 52 shown in FIG.
【０００８】従来の露光方法においては、例えばピット
の幅は、露光ビームの直径Ｄに比例して形成されてい
た。この露光ビームの直径Ｄは、次の数１の関係を満た
している。In the conventional exposure method, for example, the width of the pit is formed in proportion to the diameter D of the exposure beam. The diameter D of the exposure beam satisfies the following relationship:
【０００９】[0009]
【数１】Ｄ∝λ／Ｎ．Ａ． λ：露光ビームの波長 Ｎ．Ａ．：対物レンズの開口数## EQU1 ## D∝λ / N. A. λ: wavelength of exposure beam A. : Numerical aperture of objective lens
【００１０】数１より、露光ビームの直径Ｄが露光ビー
ムの波長λに比例するので、ピットの幅、即ち露光パタ
ーンの幅を小さくするには、露光ビームに波長λの短い
光を用いる必要がある。From equation (1), since the diameter D of the exposure beam is proportional to the wavelength λ of the exposure beam, it is necessary to use light having a short wavelength λ as the exposure beam in order to reduce the width of the pit, ie, the width of the exposure pattern. is there.
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、露光装
置で通常用いられる光学部品の材質から、Ｋｒレーザの
３５１ｎｍ程度までの短波長化が限界であり、それに対
応するピットの幅は約０．２５μｍである。このピット
の幅の限界により、光ディスクへの情報の記録密度をさ
らに高密度化することが困難であった。However, due to the material of the optical components usually used in the exposure apparatus, the reduction of the wavelength of the Kr laser to about 351 nm is the limit, and the width of the corresponding pit is about 0.25 μm. is there. Due to the limit of the width of the pit, it has been difficult to further increase the recording density of information on the optical disc.
【００１２】また、従来は、光ディスクのピットは、端
部が丸い形状であり、しかもその曲率半径が小さいため
に、再生信号の立ち上がりが悪く、読みとりのためのス
ライスレベルが変動すると時間軸の変化が生じることが
あった。Conventionally, the pit of an optical disk has a rounded end and a small radius of curvature, so that the rise of a reproduced signal is poor, and when the slice level for reading varies, the time axis changes. Sometimes occurred.
【００１３】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、ピットの狭小化を図ることができることにより
記録密度が高くすることができ、かつピットの形状を整
形することができることにより再生信号の変化が少なく
安定して再生信号が得られる光ディスクを製造できる光
ディスク原盤の露光方法を提供するものである。In order to solve the above-mentioned problem, in the present invention, it is possible to increase the recording density by reducing the size of the pits and to shape the shape of the pits to thereby improve the reproduction signal. An object of the present invention is to provide a method for exposing an optical disk master capable of manufacturing an optical disk capable of obtaining a reproduction signal stably with little change.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明の光ディスク原盤
の露光方法は、光ディスクの原盤作製工程中の露光工程
において、２つの露光ビームを進行方向に重ね合わせて
露光し、これら２つの露光ビームの各照射スポットが重
複する部分を感光させて露光パターンを形成するもので
ある。According to a method of exposing an optical disk master according to the present invention, two exposure beams are superposed in a traveling direction and exposed in an exposure step in an optical disk master manufacturing process. An exposure pattern is formed by exposing a portion where each irradiation spot overlaps.
【００１５】上述の本発明の構成によれば、進行方向に
重ね合わされた２つの露光ビームの照射スポットの重複
部により露光がなされるので、ピット等の露光パターン
を、照射スポットよりも小さい幅に形成できる。また、
従来と同じ曲率半径の露光ビームの照射スポットに対し
て、形成される露光パターンの幅が小さくなるので、例
えばピットを形成したときに、より矩形に近い形状にな
る。According to the configuration of the present invention described above, since the exposure is performed by the overlapping portion of the irradiation spots of the two exposure beams superimposed in the traveling direction, the exposure pattern such as pits is reduced to a width smaller than the irradiation spot. Can be formed. Also,
Since the width of the exposure pattern to be formed becomes smaller with respect to the irradiation spot of the exposure beam having the same radius of curvature as that of the related art, for example, when a pit is formed, the shape becomes more rectangular.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】本発明は、光ディスクの原盤作製
工程中の露光工程において、２つの露光ビームを進行方
向に重ね合わせて露光し、２つの露光ビームの各照射ス
ポットが重複する部分を感光させて露光パターンを形成
する光ディスク原盤の露光方法である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, in an exposure step in a process of producing an optical disk master, two exposure beams are superposed in the traveling direction and exposed, and a portion where each irradiation spot of the two exposure beams overlaps is exposed. This is a method for exposing an optical disc master to form an exposure pattern.
【００１７】以下、図面を参照して本発明の光ディスク
原盤の露光方法を説明する。図１は、本発明方法に用い
る露光機の一例の構成図を示す。Hereinafter, a method for exposing an optical disk master according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a configuration diagram of an example of an exposure machine used in the method of the present invention.
【００１８】この露光機３１は、光源としてのレーザ３
２、レーザ光を変調するＥＯＭ（電気光学変調器）、ビ
ームスプリッタＢＳ１，ＢＳ２，ＢＳ３，ＢＳ４、音響
光学変調器ＡＯＭ１，ＡＯＭ２、レンズＬ１，Ｌ２，Ｌ
３，Ｌ４，Ｌ５、ミラーＭ１，Ｍ２、ビームを合成する
際の位置調整を行うビームステアリングＢＳＴ、対物レ
ンズ３３を有して成り、さらに所定の露光パターンが形
成されるように音響光学変調器ＡＯＭ１，ＡＯＭ２に信
号を与えるエンコーダ（フォーマッタ）３４を有して成
る。The exposure device 31 has a laser 3 as a light source.
2. EOM (Electro-optic modulator) for modulating laser light, beam splitters BS1, BS2, BS3, BS4, acousto-optic modulators AOM1, AOM2, lenses L1, L2, L
3, L4, L5, mirrors M1 and M2, a beam steering BST for performing position adjustment when combining beams, and an objective lens 33, and furthermore, an acousto-optic modulator AOM1 so that a predetermined exposure pattern is formed. , AOM2, and an encoder (formatter) 34 for supplying a signal to the AOM2.
【００１９】光源であるレーザ３２から発生した光（レ
ーザビーム）は、ＥＯＭ（電気光学変調器）により変調
された後、ビームスプリッタＢＳ１で２つの光ａ，ｂに
分割される（２ビーム法）。Light (laser beam) generated from a laser 32 as a light source is modulated by an EOM (Electro-Optic Modulator) and then split into two lights a and b by a beam splitter BS1 (two-beam method). .
【００２０】分割された２つの光の一方の光ａは、レン
ズＬ１を通過して音響光学変調器ＡＯＭ１において、エ
ンコーダ（フォーマッタ）３４によって与えられる所定
の信号パターンに変調された後、レンズＬ３、ビームス
プリッタＢＳ３、ミラーＭ２を経由する。他方の光ｂも
同様に、ビームスプリッタＢＳ１及びレンズＬ２を通過
して、音響光学変調器ＡＯＭ２においてエンコーダ（フ
ォーマッタ）３４によって所定の信号パターンに変調さ
れた後、レンズＬ４、ビームスプリッタＢＳ４を経由す
る。One of the two divided lights a passes through the lens L1 and is modulated in the acousto-optic modulator AOM1 into a predetermined signal pattern given by the encoder (formatter) 34. The beam passes through the beam splitter BS3 and the mirror M2. Similarly, the other light b also passes through the beam splitter BS1 and the lens L2, is modulated into a predetermined signal pattern by the encoder (formatter) 34 in the acousto-optic modulator AOM2, and then passes through the lens L4 and the beam splitter BS4. .
【００２１】そして、ビームステアリングＢＳＴにおい
て、後述するように、２つの光ａ，ｂを進行方向にずら
して重ね合わせる。Then, in the beam steering BST, as described later, the two lights a and b are superimposed while being shifted in the traveling direction.
【００２２】その後は、重ね合わせた光ｃが、レンズＬ
５、ミラーＭ１、対物レンズ３３を経由して、ガラス基
板４１上に形成されたフォトレジスト４２に所定のパタ
ーンを形成するように照射される。Thereafter, the superimposed light c is transmitted to the lens L
5. Irradiation is performed through a mirror M1 and an objective lens 33 so as to form a predetermined pattern on a photoresist 42 formed on the glass substrate 41.
【００２３】これにより、ガラス基板４１上に所定のパ
ターンのフォトレジスト４２が形成されたガラス・マス
ター４３が形成される。その後は、このガラス・マスタ
ー４３を用いて、前述の図５に示した工程を経て光ディ
スクの原盤を製造することができる。As a result, a glass master 43 in which a photoresist 42 having a predetermined pattern is formed on the glass substrate 41 is formed. Thereafter, using the glass master 43, a master of an optical disc can be manufactured through the steps shown in FIG.
【００２４】尚、図１で光路を反射させる位置に用いら
れているビームスプリッタＢＳ２，ＢＳ３，ＢＳ４は、
通常用いられるミラーの場合と比較して、Ｓ波とＰ波と
の分離ができることから後にビームを整形するのが容易
になる利点を有する。Note that the beam splitters BS2, BS3, and BS4 used at positions where the optical path is reflected in FIG.
Compared with the case of a commonly used mirror, there is an advantage that the beam can be easily shaped later because the S wave and the P wave can be separated.
【００２５】次に重ね合わせる２つのビームの関係と、
これらのビームによるピットの形成について説明する。Next, the relationship between the two beams to be superimposed,
The formation of pits by these beams will be described.
【００２６】１．ピットの幅のコントロール 本発明においては、上述の図１で示した、分割された２
つのビームａ，ｂを用いて、ビームステアリングＢＳＴ
等で位置調整を行って、進行方向に並び（先行ビーム及
び後行ビーム）、一部が重複した２つの露光ビームを構
成する。そして、この２つの露光ビームの各照射スポッ
ト（露光スポット）が重複する部分を感光させて露光パ
ターンを形成する。尚、露光ビームの照射スポット（露
光スポット）は、通常円又は楕円となるため、以下これ
を円又は楕円として説明する。1. Control of Pit Width In the present invention, the two divided pits shown in FIG.
Beam steering BST using two beams a and b
The position adjustment is performed in the same manner as described above, and two exposure beams are arranged in the traveling direction (leading beam and trailing beam), and partially overlapped. Then, a portion where each irradiation spot (exposure spot) of the two exposure beams overlaps is exposed to form an exposure pattern. Since the irradiation spot (exposure spot) of the exposure beam is usually a circle or an ellipse, it will be described below as a circle or an ellipse.
【００２７】従来のように、１つのビームにより露光を
行うと、図６に示すように、ピットＰの幅は、露光スポ
ットＳＰの径（直径、長径又は短径）とほぼ同じであ
り、ピットの前端部及び後端部の曲率半径が露光スポッ
トＳＰの曲率半径とほぼ等しくなる。When the exposure is performed by one beam as in the prior art, the width of the pit P is substantially the same as the diameter (diameter, major axis or minor axis) of the exposure spot SP, as shown in FIG. Are substantially equal to the radius of curvature of the exposure spot SP.
【００２８】これに対して、２つのビームの重複部で露
光を行うようにすると、図２Ａ及び図２Ｂに示すよう
に、ピットの幅Ｄｐが、２つのビーム、即ち先行ビーム
及び後行ビームの各露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の重複
部Ｓの幅に形成される。このとき、２つのビームの重複
部のエネルギー（強度）のみが、フォトレジスト４２を
露光できるように、フォトレジスト４２の感度を設定す
ることにより、図２Ａ及び２Ｂに示すように、２つのビ
ームの各露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の重複部Ｓの幅を
ピットの幅Ｄｐとして形成することができる。On the other hand, when the exposure is performed at the overlapping portion of the two beams, as shown in FIGS. 2A and 2B, the pit width Dp becomes two beams, that is, the leading beam and the following beam. The exposure spots SP 1 and SP 2 are formed at the width of the overlapping portion S. At this time, by setting the sensitivity of the photoresist 42 so that only the energy (intensity) of the overlapping portion of the two beams can expose the photoresist 42, as shown in FIGS. The width of the overlapping portion S of each of the exposure spots SP 1 and SP 2 can be formed as the pit width Dp.
【００２９】また、図２Ｂに示すように、２つのビーム
の光軸の間隔を拡げて、露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の
重複部Ｓの割合を少なくしたときには、重複部Ｓの幅が
小さくなるので、ピットの幅Ｄｐを小さくすることがで
きる。従って、従来と同じ大きさの露光スポットで、ピ
ットの幅Ｄｐをより狭くすることができる。As shown in FIG. 2B, when the interval between the optical axes of the two beams is increased to reduce the ratio of the overlapping portion S of the exposure spots SP 1 and SP 2 , the width of the overlapping portion S becomes smaller. Therefore, the pit width Dp can be reduced. Therefore, the width Dp of the pit can be made smaller with an exposure spot having the same size as the conventional one.
【００３０】２．矩形ピットの形成 上述の方法によりピットを形成する際にも、従来と同様
にピットの前端部及び後端部の曲率半径は、露光スポッ
トの曲率半径とほぼ等しくなる。図３Ａに示すように、
比較的曲率半径の小さい露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 に
よりピットＰを形成すると、ピットＰの前端部及び後端
部の曲率半径が小さく丸い形状に形成される。この図３
Ａの場合でも、図６に示す従来の露光方法の場合より
は、ピットＰの幅Ｄｐに対する前端部及び後端部の曲率
半径の比が大きくなるため、従来よりやや矩形に近づ
く。2. Formation of Rectangular Pits Even when pits are formed by the above-described method, the radius of curvature of the front end portion and the rear end portion of the pit are substantially equal to the radius of curvature of the exposure spot as in the conventional case. As shown in FIG. 3A,
When the pits P are formed by the exposure spots SP 1 and SP 2 having a relatively small radius of curvature, the pits P are formed in a round shape with a small radius of curvature at the front end and the rear end. This figure 3
Even in the case of A, the ratio of the radius of curvature of the front end portion and the rear end portion to the width Dp of the pit P is larger than in the case of the conventional exposure method shown in FIG.
【００３１】ここで、図３Ｂに示すように、露光に用い
るビームの曲率半径を大きく、即ち形成されるべきピッ
トＰの幅Ｄｐに比して露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の径
を充分大きくする。このようにすることにより、ピット
Ｐの前端部及び後端部の曲率半径もさらに大きくなり、
図３Ａの場合よりさらに矩形に近い形のピットＰを形成
することができる。Here, as shown in FIG. 3B, the radius of curvature of the beam used for exposure is increased, that is, the diameters of the exposure spots SP 1 and SP 2 are made sufficiently larger than the width Dp of the pit P to be formed. . By doing so, the radius of curvature at the front end and the rear end of the pit P is further increased,
The pits P having a more rectangular shape than the case of FIG. 3A can be formed.
【００３２】また、露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の重複
部Ｓの幅（ピットの幅Ｄｐに相当）を大きく変えない
で、ピットＰの前端部及び後端部の曲率半径を小さくす
るには、露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の径をより大きく
してやればよい。In order to reduce the radius of curvature of the front end and the rear end of the pit P without largely changing the width of the overlapping portion S of the exposure spots SP 1 and SP 2 (corresponding to the pit width Dp), What is necessary is just to make the diameter of the exposure spots SP 1 and SP 2 larger.
【００３３】尚、良好なピットＰの形状を得るために、
先行ビームと後行ビームの露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2
は、大きさ及び曲率半径が同じであることが好ましい。In order to obtain a good pit P shape,
Exposure spots SP 1 , SP 2 of leading and trailing beams
Preferably have the same size and radius of curvature.
【００３４】３．ピットの形状と再生信号との関係 従来の前端部及び後端部の曲率半径が小さい形状のピッ
トＰの場合には、図４Ａに示すように、再生信号は正弦
波に近い形状となる。3. Relationship between Pit Shape and Reproduction Signal In the case of a conventional pit P having a small radius of curvature at the front end and the rear end, as shown in FIG. 4A, the reproduction signal has a shape close to a sine wave.
【００３５】ここで、スライスレベルの変動があると
き、最小のスライスレベルをＳＬ１、最大のスライスレ
ベルをＳＬ２とし、スライスレベルがＳＬ１の場合の再
生信号が読みとられる時間をｔ1 、スライスレベルがＳ
Ｌ２の場合の再生信号が読みとられる時間をｔ2 とす
る。そして、Δｔ＝ｔ1 −ｔ2 とするとき、この場合に
はΔｔが大きく、スライスレベルの変動による時間軸の
変化が大きい。従って、再生信号のゆらぎが生じやす
く、所望の正しい再生信号がとれないことがある。[0035] Here, when there is variation in the slice level, the minimum of the slice level SL1, the maximum slice level and SL2, t 1 a reproduction time signal is read when the slice level SL1, the slice level S
Reproduced signal in the case of L2 is time and t 2 to be read. When Δt = t 1 −t 2 , in this case, Δt is large, and the change in the time axis due to the change in the slice level is large. Therefore, the reproduction signal tends to fluctuate, and a desired correct reproduction signal may not be obtained.
【００３６】一方、図３Ｂに示したように、矩形に近い
形状のピットＰとしたときには、図４Ｂに示すように、
再生信号の立ち上がりが速く高いレベルを長く維持する
ため、ｔ1 とｔ2 との差が小さく、Δｔが小さくなる。
従って、スライスレベルの変動による時間軸の変化が小
さくなる。On the other hand, as shown in FIG. 3B, when the pit P has a shape close to a rectangle, as shown in FIG.
Since the rising of the reproduction signal is fast and the high level is maintained for a long time, the difference between t 1 and t 2 is small, and Δt is reduced.
Therefore, the change of the time axis due to the change of the slice level is reduced.
【００３７】このように、２つの露光ビームを進行方向
に重ね合わせて露光し、露光スポットの重複部を感光さ
せる露光方法を採って、露光スポットの曲率半径を大き
くすることにより、矩形に近い形状のピットＰが形成さ
れ、再生信号の立ち上がりが速くなると共に、再生信号
の変化が少なくなり、いわゆるジッタ特性が良好とな
る。As described above, the exposure beam is exposed by overlapping the two exposure beams in the traveling direction, and the overlapping portion of the exposure spot is exposed, and the radius of curvature of the exposure spot is increased. The pits P are formed, the rise of the reproduction signal is accelerated, and the change in the reproduction signal is reduced, so that the so-called jitter characteristics are improved.
【００３８】また、上述の露光方法によれば、図１に示
した露光機３１のように、現在使用しているレーザ及び
光学部品をそのまま用いても、従来の限界よりパターン
の狭小化を図って高密度なパターンを形成することがで
きる。Further, according to the above-mentioned exposure method, even if the laser and optical components currently used are used as they are, as in the exposure machine 31 shown in FIG. Thus, a high-density pattern can be formed.
【００３９】本発明の光ディスク原盤の露光方法は、上
述の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱
しない範囲でその他様々な構成が取り得る。The method of exposing the optical disk master according to the present invention is not limited to the above-described example, and may take various other configurations without departing from the gist of the present invention.
【００４０】[0040]
【発明の効果】上述の本発明の露光方法によれば、現在
使用しているレーザ及び光学部品をそのまま用いて、従
来の限界と比較してパターンの狭小化を図り、より高密
度な露光パターンを形成することができる。従って、こ
の露光方法によりピットを形成すると、ピットの端部の
曲率半径は同じ状態でピットの幅が小さくなるため、ピ
ットの形状が矩形に近づき、光ディスクの再生信号の立
ち上がりが速くなる。According to the above-described exposure method of the present invention, the laser and optical parts currently used are used as they are, and the pattern is narrowed as compared with the conventional limit, so that the exposure pattern having a higher density can be obtained. Can be formed. Therefore, when pits are formed by this exposure method, the width of the pit becomes smaller with the radius of curvature at the end of the pit being the same, so that the pit shape becomes closer to a rectangle and the rise of the reproduction signal of the optical disk becomes faster.
【００４１】また、２つの露光ビームの径を、形成すべ
きピットの幅より充分大としたときには、さらに矩形に
近い形状のピットを形成することができるため、原盤か
ら作製した光ディスクにおいて、立ち上がりの速い再生
信号を得ることができる。When the diameter of the two exposure beams is sufficiently larger than the width of the pit to be formed, a pit having a more rectangular shape can be formed. Fast playback signals can be obtained.
【００４２】従って本発明により、光ディスクドライブ
の信号読みとりのためのスライスレベルが変動しても、
時間軸の変化が少ない、ジッタ特性の良好な光ディスク
を製造することができる。Therefore, according to the present invention, even if the slice level for reading the signal of the optical disk drive fluctuates,
It is possible to manufacture an optical disc having a small jitter on the time axis and good jitter characteristics.
【図１】本発明の光ディスク原盤の露光方法に用いる露
光装置の一例の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an example of an exposure apparatus used for an exposure method of an optical disk master according to the present invention.
【図２】２つの露光ビームの露光スポットと形成される
ピットの幅との関係を説明する図である。 Ａ 露光スポットの重複部の割合が大きい場合である。 Ｂ 露光スポットの重複部の割合が小さい場合である。FIG. 2 is a diagram illustrating a relationship between an exposure spot of two exposure beams and a width of a pit to be formed. A: The case where the ratio of the overlapping portion of the exposure spot is large. B: The case where the ratio of the overlapping portion of the exposure spot is small.
【図３】２つの露光ビームの露光スポットと形成される
ピットの形状との関係を説明する図である。 Ａ 露光スポットの曲率半径が小さい場合である。 Ｂ 露光スポットの曲率半径が大きい場合である。FIG. 3 is a diagram illustrating a relationship between an exposure spot of two exposure beams and a shape of a pit to be formed. A The case where the radius of curvature of the exposure spot is small. B: The case where the radius of curvature of the exposure spot is large.
【図４】ピットの形状による再生信号の違いを示す図で
ある。 Ａ 従来のピット形状の場合である。 Ｂ 本発明の露光方法により形成されるピット形状の場
合である。FIG. 4 is a diagram illustrating a difference in a reproduced signal depending on a shape of a pit. A: The case of the conventional pit shape. B is a case of a pit shape formed by the exposure method of the present invention.
【図５】Ａ〜Ｆ 光ディスクの原盤の製造工程図であ
る。5A to 5F are manufacturing process diagrams of an original master of an optical disk.
【図６】従来の単一露光ビームの場合の露光スポットと
形成されるピットとの関係を説明する図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a relationship between an exposure spot and a formed pit in the case of a conventional single exposure beam.
３１ 露光機、３２ レーザ、３３ 対物レンズ、３４
エンコーダ（フォーマッタ）、４１，５１ ガラス基
板、４２，５２ フォトレジスト、４３，５４ガラス・
マスター、５３ レジスト盤、５５ ニッケルメッキ、
５６ 光ディスク原盤（スタンパー）、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ
３，Ｌ４，Ｌ５ レンズ、ＢＳ１，ＢＳ２，ＢＳ３，Ｂ
Ｓ４ ビームスプリッタ、ＡＯＭ１，ＡＯＭ２ 音響光
学変調器、ＥＯＭ 電気光学変調器、Ｍ１，Ｍ２ ミラ
ー、ＢＳＴ ビームステアリング、ＳＰ，ＳＰ1 ，ＳＰ
2 露光スポット、Ｐ ピット31 Exposure machine, 32 Laser, 33 Objective lens, 34
Encoder (formatter), 41, 51 glass substrate, 42, 52 photoresist, 43, 54 glass
Master, 53 resist board, 55 nickel plating,
56 Master optical disc (stamper), L1, L2, L
3, L4, L5 lens, BS1, BS2, BS3, B
S4 beam splitter, AOM1, AOM2 acousto-optic modulator, EOM electro-optic modulator, M1, M2 mirror, BST beam steering, SP, SP 1, SP
2 Exposure spot, P pit
Claims (1)
において、 ２つの露光ビームを進行方向に重ね合わせて露光し、２
つの該露光ビームの各照射スポットが重複する部分を感
光させて露光パターンを形成することを特徴とする光デ
ィスク原盤の露光方法。In an exposure step in a process of producing a master of an optical disc, two exposure beams are superposed in a traveling direction and exposed.
A method for exposing an optical disc master, comprising exposing a portion where two irradiation spots of the exposure beam overlap to form an exposure pattern.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9117072A JPH10308033A (en) | 1997-05-07 | 1997-05-07 | Exposing method for optical master disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9117072A JPH10308033A (en) | 1997-05-07 | 1997-05-07 | Exposing method for optical master disk |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10308033A true JPH10308033A (en) | 1998-11-17 |
Family
ID=14702725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9117072A Pending JPH10308033A (en) | 1997-05-07 | 1997-05-07 | Exposing method for optical master disk |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10308033A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010049757A (en) * | 2008-08-22 | 2010-03-04 | Sony Corp | Optical information recording medium, optical information recording device, and optical information recording method |
| JP2011170969A (en) * | 2011-06-06 | 2011-09-01 | Sony Corp | Optical information recording medium |
| US8107331B2 (en) | 2007-12-28 | 2012-01-31 | Sony Corporation | Optical disk apparatus, position control method, and optical pickup |
| US8274875B2 (en) | 2008-05-26 | 2012-09-25 | Sony Corporation | Optical disc device and focus control method |
| US8345521B2 (en) | 2008-07-31 | 2013-01-01 | Sony Corporation | Optical disc apparatus and signal generation method |
-
1997
- 1997-05-07 JP JP9117072A patent/JPH10308033A/en active Pending
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| US8102742B2 (en) | 2008-08-22 | 2012-01-24 | Sony Corporation | Optical information recording medium, optical information recordng apparatus, and optical information recording method |
| US8576681B2 (en) | 2008-08-22 | 2013-11-05 | Sony Corporation | Optical information recording medium, optical information recording apparatus and optical information recording method |
| JP2011170969A (en) * | 2011-06-06 | 2011-09-01 | Sony Corp | Optical information recording medium |
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