JPH10298280A - ポリアルキレングリコール基を含有するヒンダードアミン - Google Patents
ポリアルキレングリコール基を含有するヒンダードアミンInfo
- Publication number
- JPH10298280A JPH10298280A JP10128324A JP12832498A JPH10298280A JP H10298280 A JPH10298280 A JP H10298280A JP 10128324 A JP10128324 A JP 10128324A JP 12832498 A JP12832498 A JP 12832498A JP H10298280 A JPH10298280 A JP H10298280A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- alkyl
- tert
- butyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/40—Oxygen atoms
- C07D211/44—Oxygen atoms attached in position 4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/56—Nitrogen atoms
- C07D211/58—Nitrogen atoms attached in position 4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/40—Oxygen atoms
- C07D211/44—Oxygen atoms attached in position 4
- C07D211/46—Oxygen atoms attached in position 4 having a hydrogen atom as the second substituent in position 4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/60—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
- C07D211/62—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals attached in position 4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
- C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
- C07D403/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
- C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D471/10—Spiro-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/333—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen
- C08G65/33303—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen containing amino group
- C08G65/33317—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen containing amino group heterocyclic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
- C08K5/3435—Piperidines
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】新規の安定剤の提供
【解決手段】式1又は2
【化1】
(式中、例えば、R1 はH又はCH3 を表し、nとmは
1ないし100の数を表し、XはO又はNR3 を表し、
R3 はH又は1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリ
ジン−4−イルを表し、Yは1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジン−4−イルを表し、Zは式3により
表される基を表しそしてR5 は炭素原子数20までのア
ルキレン、アルケニレン又はアルキニレンを表す。)に
より表される化合物。これらの化合物は、光、酸素及び
/又は熱による損傷に対して有機材料を安定化するため
に使用されると有利である。
1ないし100の数を表し、XはO又はNR3 を表し、
R3 はH又は1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリ
ジン−4−イルを表し、Yは1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジン−4−イルを表し、Zは式3により
表される基を表しそしてR5 は炭素原子数20までのア
ルキレン、アルケニレン又はアルキニレンを表す。)に
より表される化合物。これらの化合物は、光、酸素及び
/又は熱による損傷に対して有機材料を安定化するため
に使用されると有利である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、官能基を持つヒン
ダードアミン[HALS]を、ポリアルキレングリコー
ル誘導体と反応させることにより得られる、新規の水溶
性高分子性HALS化合物、光、酸素及び/又は熱の損
傷影響に対して有機材料を安定化するためのそれら新規
化合物の使用並びに相当する安定化された組成物に関す
る。
ダードアミン[HALS]を、ポリアルキレングリコー
ル誘導体と反応させることにより得られる、新規の水溶
性高分子性HALS化合物、光、酸素及び/又は熱の損
傷影響に対して有機材料を安定化するためのそれら新規
化合物の使用並びに相当する安定化された組成物に関す
る。
【0002】
【従来の技術】末端に2,2,6,6−テトラメチル−
4−アミノピペリジニル基を含むポリオキシアルキレン
は米国特許第5,210,195号から既知であり、光
感受性材料中の光安定剤として示唆されている。
4−アミノピペリジニル基を含むポリオキシアルキレン
は米国特許第5,210,195号から既知であり、光
感受性材料中の光安定剤として示唆されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】改善された性能、特
に、水又は水性溶液又は概してポリアミド、ポリエーテ
ル、ポリウレタン等のような極性媒体中で優れた熱安定
性と優れた溶解性を持つビス(2,2,6,6−テトラ
アルキル−4−アミノピペリジニル)ポリオキシアルキ
レン型の新規の安定剤に対する需要は、依然としてあ
る。
に、水又は水性溶液又は概してポリアミド、ポリエーテ
ル、ポリウレタン等のような極性媒体中で優れた熱安定
性と優れた溶解性を持つビス(2,2,6,6−テトラ
アルキル−4−アミノピペリジニル)ポリオキシアルキ
レン型の新規の安定剤に対する需要は、依然としてあ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】ポリアルキレングリコー
ル誘導体と2,2,6,6−テトラメチルピペリジンか
ら出発するある種の化合物は、特に極性有機材料のため
の安定剤として驚く程に良く適合していることが今や見
出された。これらの化合物は、又、高い温度安定性を持
つので、適用の際のより高温の加工を可能にし、そのよ
うにして安定化した製品を更に加工した場合の歩留りが
より向上する。
ル誘導体と2,2,6,6−テトラメチルピペリジンか
ら出発するある種の化合物は、特に極性有機材料のため
の安定剤として驚く程に良く適合していることが今や見
出された。これらの化合物は、又、高い温度安定性を持
つので、適用の際のより高温の加工を可能にし、そのよ
うにして安定化した製品を更に加工した場合の歩留りが
より向上する。
【0005】従って、本発明は、式1
【化13】 により表される化合物及び式2
【化14】 により表される化合物であって;式中、R1 はH又はC
H3 基を表し、そしてYは基
H3 基を表し、そしてYは基
【化15】
【化16】 を表し;XはO又はNR3 を表し;R2 はH、炭素原子
数1ないし20のアルキル基、炭素原子数1ないし20
のヒドロキシアルキル基、O−炭素原子数1ないし20
のアルキル基、CO−炭素原子数1ないし20のアルキ
ル基、O−炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、
炭素原子数2ないし20のアルケニル基、炭素原子数2
ないし20のアルキニル基、炭素原子数6ないし20の
アリール基、CO−炭素原子数6ないし20のアリール
基、炭素原子数7ないし20のアルアルキル基、CO−
炭素原子数7ないし20のアルアルキル基を表し;そし
てそしてR3 はH、炭素原子数1ないし20のアルキル
基又は
数1ないし20のアルキル基、炭素原子数1ないし20
のヒドロキシアルキル基、O−炭素原子数1ないし20
のアルキル基、CO−炭素原子数1ないし20のアルキ
ル基、O−炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、
炭素原子数2ないし20のアルケニル基、炭素原子数2
ないし20のアルキニル基、炭素原子数6ないし20の
アリール基、CO−炭素原子数6ないし20のアリール
基、炭素原子数7ないし20のアルアルキル基、CO−
炭素原子数7ないし20のアルアルキル基を表し;そし
てそしてR3 はH、炭素原子数1ないし20のアルキル
基又は
【化17】 を表し;そしてR4 はH、炭素原子数1ないし20のア
ルキル基、CO−炭素原子数1ないし20のアルキル
基、CO−炭素原子数6ないし20のアリール基又はC
O−炭素原子数7ないし20のアルアルキル基を表し;
そしてZは
ルキル基、CO−炭素原子数1ないし20のアルキル
基、CO−炭素原子数6ないし20のアリール基又はC
O−炭素原子数7ないし20のアルアルキル基を表し;
そしてZは
【化18】 を表し;そしてR5 は炭素原子数1ないし20のアルキ
レン基、炭素原子数2ないし20のアルケニレン基又は
炭素原子数2ないし20のアルキニレン基を表し;そし
てnは1ないし100の数を表し;そしてmは1ないし
100の数を表す化合物に関する。
レン基、炭素原子数2ないし20のアルケニレン基又は
炭素原子数2ないし20のアルキニレン基を表し;そし
てnは1ないし100の数を表し;そしてmは1ないし
100の数を表す化合物に関する。
【0006】
【発明の実施の形態】炭素原子数1ないし20のアルキ
ル基として定義されるR2 、R3 とR4 は直鎖であるか
又は分枝していてもよく、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、se
c−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、2
−エチルヘキシル基、n−ペンチル基、イソペンチル
基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチル
基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘプ
チル基、イソヘプチル基、1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチ
ル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1,
1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,3−テト
ラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、1−メチルウンデシル基、ドデシル基、1,1,
3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基等である。ア
ルキル基:R2 、R3 とR4 は好ましくは1ないし12
の炭素原子を含み、R2 とR4 は好ましくは1ないし8
の炭素原子を含む。
ル基として定義されるR2 、R3 とR4 は直鎖であるか
又は分枝していてもよく、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、se
c−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、2
−エチルヘキシル基、n−ペンチル基、イソペンチル
基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチル
基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘプ
チル基、イソヘプチル基、1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチ
ル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1,
1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,3−テト
ラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、1−メチルウンデシル基、ドデシル基、1,1,
3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基等である。ア
ルキル基:R2 、R3 とR4 は好ましくは1ないし12
の炭素原子を含み、R2 とR4 は好ましくは1ないし8
の炭素原子を含む。
【0007】炭素原子数1ないし20のヒドロキシアル
キル基として定義される場合のR2は、直鎖の又は分枝
したアルキル基は1ないし20の炭素原子を含みそして
OH基は上記鎖の何れの可能な位置にあってもよい。
キル基として定義される場合のR2は、直鎖の又は分枝
したアルキル基は1ないし20の炭素原子を含みそして
OH基は上記鎖の何れの可能な位置にあってもよい。
【0008】その基は、好ましくは1ないし3、特に好
ましくは1又は2のヒドロキシル基を含んでいてもよ
く、例えばヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、
3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル
基、4−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル
基、2−ヒドロキシブチル基、5−ヒドロキシペンチル
基、4−ヒドロキシペンチル基、3−ヒドロキシペンチ
ル基、2−ヒドロキシペンチル基、6−ヒドロキシヘキ
シル基、5−ヒドロキシヘキシル基、4−ヒドロキシヘ
キシル基、3−ヒドロキシヘキシル基、2−ヒドロキシ
ヘキシル基、7−ヒドロキシヘプチル基、6−ヒドロキ
シヘプチル基、5−ヒドロキシヘプチル基、4−ヒドロ
キシヘプチル基、3−ヒドロキシヘプチル基、2−ヒド
ロキシヘプチル基、8−ヒドロキシオクチル基、7−ヒ
ドロキシオクチル基、6−ヒドロキシオクチル基、5−
ヒドロキシオクチル基、4−ヒドロキシオクチル基、3
−ヒドロキシオクチル基、2−ヒドロキシオクチル基、
9−ヒドロキシノニル基、10−ヒドロキシデシル基、
11−ヒドロキシウンデシル基、12−ヒドロキシドデ
シル基、13−ヒドロキシトリデシル基、14−ヒドロ
キシテトラデシル基、15−ヒドロキシペンタデシル
基、16−ヒドロキシヘキサデシル基、17−ヒドロキ
シヘプタデシル基、18−ヒドロキシオクタデシル基又
は20−ヒドロキシエイコシル基のような基である。
ましくは1又は2のヒドロキシル基を含んでいてもよ
く、例えばヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、
3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル
基、4−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル
基、2−ヒドロキシブチル基、5−ヒドロキシペンチル
基、4−ヒドロキシペンチル基、3−ヒドロキシペンチ
ル基、2−ヒドロキシペンチル基、6−ヒドロキシヘキ
シル基、5−ヒドロキシヘキシル基、4−ヒドロキシヘ
キシル基、3−ヒドロキシヘキシル基、2−ヒドロキシ
ヘキシル基、7−ヒドロキシヘプチル基、6−ヒドロキ
シヘプチル基、5−ヒドロキシヘプチル基、4−ヒドロ
キシヘプチル基、3−ヒドロキシヘプチル基、2−ヒド
ロキシヘプチル基、8−ヒドロキシオクチル基、7−ヒ
ドロキシオクチル基、6−ヒドロキシオクチル基、5−
ヒドロキシオクチル基、4−ヒドロキシオクチル基、3
−ヒドロキシオクチル基、2−ヒドロキシオクチル基、
9−ヒドロキシノニル基、10−ヒドロキシデシル基、
11−ヒドロキシウンデシル基、12−ヒドロキシドデ
シル基、13−ヒドロキシトリデシル基、14−ヒドロ
キシテトラデシル基、15−ヒドロキシペンタデシル
基、16−ヒドロキシヘキサデシル基、17−ヒドロキ
シヘプタデシル基、18−ヒドロキシオクタデシル基又
は20−ヒドロキシエイコシル基のような基である。
【0009】炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
として定義されるR2 は、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基とシクロオクチル基であ
る。シクロヘキシル基が好ましい。
として定義されるR2 は、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基とシクロオクチル基であ
る。シクロヘキシル基が好ましい。
【0010】炭素原子数2ないし20のアルケニル基と
して定義されるR2 は典型的にはビニル基、1−プロペ
ニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテ
ニル基、3−ブテニル基等である。2ないし12、特に
2ないし8の炭素原子を含むアルケニル基は好ましい。
して定義されるR2 は典型的にはビニル基、1−プロペ
ニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテ
ニル基、3−ブテニル基等である。2ないし12、特に
2ないし8の炭素原子を含むアルケニル基は好ましい。
【0011】炭素原子数2ないし20のアルキニル基と
して定義されるR1 は、例えば、エチニル基、1−プロ
ピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブ
チニル基、3−ブチニル基等である。そのようなアルキ
ニル基は、好ましくは2ないし12の炭素原子、特に好
ましくは2ないし8の炭素原子を含む。
して定義されるR1 は、例えば、エチニル基、1−プロ
ピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブ
チニル基、3−ブチニル基等である。そのようなアルキ
ニル基は、好ましくは2ないし12の炭素原子、特に好
ましくは2ないし8の炭素原子を含む。
【0012】炭素原子数6ないし20のアリール基とし
て定義されるR2 とR4 は、典型的にはフェニル基、ナ
フチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基であ
る。フェニル基が好ましい。
て定義されるR2 とR4 は、典型的にはフェニル基、ナ
フチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基であ
る。フェニル基が好ましい。
【0013】アルアルキル基として定義されるR2 とR
4 は、例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、α−メチルベンジル基又はα,α′−ジ
メチルベンジル基である。ベンジル基が好ましい。
4 は、例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、α−メチルベンジル基又はα,α′−ジ
メチルベンジル基である。ベンジル基が好ましい。
【0014】炭素原子数1ないし20のアルキレン基と
して定義されるR5 は、直鎖の又は分枝した基であっ
て、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テ
トラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン
基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレ
ン基、ドデカメチレン基又はオクタデカメチレン基であ
る。炭素原子数1ないし12のアルキレン基が好ましく
そして炭素原子数1ないし8のアルキレン基が特に好ま
しい。
して定義されるR5 は、直鎖の又は分枝した基であっ
て、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テ
トラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン
基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレ
ン基、ドデカメチレン基又はオクタデカメチレン基であ
る。炭素原子数1ないし12のアルキレン基が好ましく
そして炭素原子数1ないし8のアルキレン基が特に好ま
しい。
【0015】炭素原子数2ないし20のアルケニレン基
として定義されるR5 は、典型的にはビニレン基、メチ
ルビニレン基、オクテニルエチレン基又はドデセニルエ
チレン基である。炭素原子数2ないし12のアルケニレ
ン基が好ましくそして炭素原子数2ないし8のアルケニ
レン基が特に好ましい。
として定義されるR5 は、典型的にはビニレン基、メチ
ルビニレン基、オクテニルエチレン基又はドデセニルエ
チレン基である。炭素原子数2ないし12のアルケニレ
ン基が好ましくそして炭素原子数2ないし8のアルケニ
レン基が特に好ましい。
【0016】炭素原子数2ないし20として定義されて
いるR5 は、例えばエチニレン基、プロピニレン基、1
−ブチニレン基、2−ブチニレン基、1−ペンチニレン
基、2−ペンチニレン基、1−ヘキシニレン基、2−ヘ
キシニレン基、3−ヘキシニレン基等である。炭素原子
数2ないし12のアルキニレン基が好ましくそして炭素
原子数2ないし8のアルキニレン基が特に好ましい。
いるR5 は、例えばエチニレン基、プロピニレン基、1
−ブチニレン基、2−ブチニレン基、1−ペンチニレン
基、2−ペンチニレン基、1−ヘキシニレン基、2−ヘ
キシニレン基、3−ヘキシニレン基等である。炭素原子
数2ないし12のアルキニレン基が好ましくそして炭素
原子数2ないし8のアルキニレン基が特に好ましい。
【0017】式1と2の好ましい化合物は、式中、R1
が水素原子である化合物である。式1と2の他の好まし
い化合物は、式中、R2 がH、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数1ないし12のヒドロキシア
ルキル基、O−炭素原子数1ないし12のアルキル基、
CO−炭素原子数1ないし12のアルキル基、O−炭素
原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数2な
いし12のアルケニル基、炭素原子数2ないし12のア
ルキニル基、炭素原子数6ないし14のアリール基、C
O−炭素原子数6ないし14のアリール基、炭素原子数
7ないし15のアルアルキル基又はCO−炭素原子数7
ないし15のアルアルキル基を表す化合物である。
が水素原子である化合物である。式1と2の他の好まし
い化合物は、式中、R2 がH、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数1ないし12のヒドロキシア
ルキル基、O−炭素原子数1ないし12のアルキル基、
CO−炭素原子数1ないし12のアルキル基、O−炭素
原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数2な
いし12のアルケニル基、炭素原子数2ないし12のア
ルキニル基、炭素原子数6ないし14のアリール基、C
O−炭素原子数6ないし14のアリール基、炭素原子数
7ないし15のアルアルキル基又はCO−炭素原子数7
ないし15のアルアルキル基を表す化合物である。
【0018】式1と2の特に好ましい化合物は、式中、
R2 がH、炭素原子数1ないし8のアルキル基、O−炭
素原子数1ないし8のアルキル基、O−炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし8のア
ルケニル基又は炭素原子数2ないし8のアルキニル基を
表す化合物である。
R2 がH、炭素原子数1ないし8のアルキル基、O−炭
素原子数1ないし8のアルキル基、O−炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし8のア
ルケニル基又は炭素原子数2ないし8のアルキニル基を
表す化合物である。
【0019】式1の他の好ましい化合物は、式中、R3
がH、炭素原子数1ないし12のアルキル基又は
がH、炭素原子数1ないし12のアルキル基又は
【化19】 を表し;そしてR4 はH、炭素原子数1ないし12のア
ルキル基、CO−炭素原子数1ないし12のアルキル
基、CO−炭素原子数6ないし14のアリール基又はC
O−炭素原子数7ないし15のアルアルキル基を表す化
合物である。
ルキル基、CO−炭素原子数1ないし12のアルキル
基、CO−炭素原子数6ないし14のアリール基又はC
O−炭素原子数7ないし15のアルアルキル基を表す化
合物である。
【0020】特に好ましい化合物は、式中、R3 がH又
は
は
【化20】 を表し;そしてR4 がH、炭素原子数1ないし8のアル
キル基、CO−炭素原子数1ないし8のアルキル基、C
O−フェニル基又はCO−フェニルアルキル基を表す式
1の化合物である。
キル基、CO−炭素原子数1ないし8のアルキル基、C
O−フェニル基又はCO−フェニルアルキル基を表す式
1の化合物である。
【0021】特に好ましい化合物は、式中、Zが
【化21】 を表す式2の化合物である。
【0022】式1と2の好ましい化合物は、nが1ない
し50の数を表す化合物である。式2の好ましい化合物
は、mが1ないし50の数を表す化合物である。
し50の数を表す化合物である。式2の好ましい化合物
は、mが1ないし50の数を表す化合物である。
【0023】式1の化合物が好ましい。
【0024】特に好ましい化合物は、式中、Yが基:
【化22】 を表す式1の化合物である。
【0025】非常に特に好ましい化合物は、式中、Yが
基:
基:
【化23】 を表し;R2 はH又は炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表し;R3 がH又は
基を表し;R3 がH又は
【化24】 を表し;そしてnは5ないし25の数を表す式1の化合
物である。
物である。
【0026】新規の化合物は、それ自体が知られている
方法、例えば式3
方法、例えば式3
【化25】 により表されるポリアルキレングリコールジ酸又はその
誘導体(例えば、ハライド、エステル、無水物)を、
(式1の化合物の製造のために)特に、式Y−NHR3
又はY−OHの2モル当量と又は、好ましくは、(式2
の化合物の製造のために)式H−Z−Hで表される2官
能性化合物の1モル当量と、反応させることにより製造
される。上記のジ酸又はその誘導体は、市販品であるか
又は既知の方法により容易に合成され得る。第2級アミ
ンの場合は、アミドは相当するポリアルキレングリコー
ルジ酸クロライド(これは既知の方法に従って、ポリア
ルキレングリコールジ酸と塩化チオニルから製造され得
る)とアミンを反応させることにより都合良く製造され
得る。相当する新規の化合物を、ポリアルキレングリコ
ール酸ジメチルエステルからのエステル交換により得る
ことも非常に好都合である。そのようなエステル交換は
一般に知られている。
誘導体(例えば、ハライド、エステル、無水物)を、
(式1の化合物の製造のために)特に、式Y−NHR3
又はY−OHの2モル当量と又は、好ましくは、(式2
の化合物の製造のために)式H−Z−Hで表される2官
能性化合物の1モル当量と、反応させることにより製造
される。上記のジ酸又はその誘導体は、市販品であるか
又は既知の方法により容易に合成され得る。第2級アミ
ンの場合は、アミドは相当するポリアルキレングリコー
ルジ酸クロライド(これは既知の方法に従って、ポリア
ルキレングリコールジ酸と塩化チオニルから製造され得
る)とアミンを反応させることにより都合良く製造され
得る。相当する新規の化合物を、ポリアルキレングリコ
ール酸ジメチルエステルからのエステル交換により得る
ことも非常に好都合である。そのようなエステル交換は
一般に知られている。
【0027】上記の反応は不活性溶媒中で実施するのか
都合がよい。使用される溶媒は、極性又は非極性有機溶
媒であって、例えば炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エ
ステル、エーテル、ケトン、アミド、ニトリル、第三級
アミン又はスルホキシドであってよい;適当なのは例え
ばトルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、
石油エーテルと他の炭化水素混合物、ジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロロホル
ム、ジエチルエーテル、ジメチルスルホキシドとアセト
ニトリルである;特に好ましいのはクロロホルム、テト
ラヒドロフランとトルエンである。
都合がよい。使用される溶媒は、極性又は非極性有機溶
媒であって、例えば炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エ
ステル、エーテル、ケトン、アミド、ニトリル、第三級
アミン又はスルホキシドであってよい;適当なのは例え
ばトルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、
石油エーテルと他の炭化水素混合物、ジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロロホル
ム、ジエチルエーテル、ジメチルスルホキシドとアセト
ニトリルである;特に好ましいのはクロロホルム、テト
ラヒドロフランとトルエンである。
【0028】反応の間、温度は−20ないし200℃の
範囲内、有用なのは0ないし180℃の範囲内、好まし
くは10ないし140℃の範囲内である。
範囲内、有用なのは0ないし180℃の範囲内、好まし
くは10ないし140℃の範囲内である。
【0029】反応の継続中、反応混合物の温度を沸騰範
囲内(還流)に維持してもよい。この目的のために、溶
媒を含有する反応混合物を概して常圧下、沸点まで加熱
し、そして蒸発した溶媒を適当な凝縮器により凝縮し
て、反応混合物に戻す。
囲内(還流)に維持してもよい。この目的のために、溶
媒を含有する反応混合物を概して常圧下、沸点まで加熱
し、そして蒸発した溶媒を適当な凝縮器により凝縮し
て、反応混合物に戻す。
【0030】反応は酸素を、例えばアルゴンのような不
活性ガスで噴流することにより排除して実施してもよ
い。しかし、どの場合も酸素は干渉しないので、反応は
上記の手段を採らなくても実施できる。
活性ガスで噴流することにより排除して実施してもよ
い。しかし、どの場合も酸素は干渉しないので、反応は
上記の手段を採らなくても実施できる。
【0031】反応が完了した後、仕上げは常法に従って
実施され得る。混合物を初めに、例えば反応混合物を1
ないし4倍量の(氷−)水に添加することより、水で希
釈するのが都合良く、次いで生成物を直接に単離してよ
く又は抽出してもよい。クロロホルム、酢酸エチル又は
トルエンは抽出のために適当である。抽出を実施する場
合は、生成物を、溶媒留去による常法により単離でき、
溶媒留去は有機相を乾燥して実施するのが都合よい。追
加の精製工程を使用するのも可能であり、その工程は、
例えば重炭酸ナトリウム水溶性による洗浄、活性炭の分
散、シリカゲル上のクロマトグラフィー、濾過、再結晶
及び/又は蒸留である。
実施され得る。混合物を初めに、例えば反応混合物を1
ないし4倍量の(氷−)水に添加することより、水で希
釈するのが都合良く、次いで生成物を直接に単離してよ
く又は抽出してもよい。クロロホルム、酢酸エチル又は
トルエンは抽出のために適当である。抽出を実施する場
合は、生成物を、溶媒留去による常法により単離でき、
溶媒留去は有機相を乾燥して実施するのが都合よい。追
加の精製工程を使用するのも可能であり、その工程は、
例えば重炭酸ナトリウム水溶性による洗浄、活性炭の分
散、シリカゲル上のクロマトグラフィー、濾過、再結晶
及び/又は蒸留である。
【0032】本発明の化合物は、熱的、酸化的及び化学
線による分解に対して有機材料を安定化するために特に
適している。そのような有機材料の典型例は下記のよう
なものである:
線による分解に対して有機材料を安定化するために特に
適している。そのような有機材料の典型例は下記のよう
なものである:
【0033】1.モノオレフィンおよびジオレフィンの
ポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリブテン−1、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリ
イソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフ
ィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、(所望により架橋結合できる)ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密度ポリエチレ
ン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、線
状低密度ポリエチレン(LLDPE)、分枝低密度ポリ
エチレン(VLDPE)。
ポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリブテン−1、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリ
イソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフ
ィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、(所望により架橋結合できる)ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密度ポリエチレ
ン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、線
状低密度ポリエチレン(LLDPE)、分枝低密度ポリ
エチレン(VLDPE)。
【0034】ポリオレフィン、即ち前出の文節に例示し
たモノオレフィン類のポリマー、好ましくはポリエチレ
ンとポリプロピレンは、いろいろの方法、そして特に下
記の方法により製造できる: a)ラジカル重合(通常は高圧下そして高温下で); b)通常周期表の第IVb、Vb、VIb又はVIII族の一種
以上の金属を含有する触媒を使用する触媒重合。これら
の金属は通常は、π−又はσ−配位していてよい一種以
上のリガンド、典型的にはオキシド、ハライド、アルコ
レート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アル
ケニル及び/又はアリールを持つ。これらの金属錯体
は、遊離型であってもよく又は担体上、典型的には活性
化塩化マグネシウム、塩化チタン(III )、アルミナ又
は酸化ケイ素上に固定された形であってもよい。これら
の触媒は重合媒体中に溶解性又は不溶性であってもよ
い。その触媒は、重合中にそれ自体が使用されてもよく
又は別の活性剤、典型的にはアルキル金属、金属水素化
物、アルキル金属ハライド、アルキル金属オキシド又は
アルキル金属オキサン(これら金属は周期表の第Ia、II
a 及び/又はIIIaの元素である。) であってよい。活性
剤は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエー
テル基で有利に変形されてもよい。これらの触媒系は通
常は、フィリップス触媒、スタンダード・オイル・イン
ジアナ触媒、チーグラー(−ナッタ)触媒、TNZ(デ
ュポン)触媒、メタロセン触媒又は単座触媒(SSC)
と呼ばれる。
たモノオレフィン類のポリマー、好ましくはポリエチレ
ンとポリプロピレンは、いろいろの方法、そして特に下
記の方法により製造できる: a)ラジカル重合(通常は高圧下そして高温下で); b)通常周期表の第IVb、Vb、VIb又はVIII族の一種
以上の金属を含有する触媒を使用する触媒重合。これら
の金属は通常は、π−又はσ−配位していてよい一種以
上のリガンド、典型的にはオキシド、ハライド、アルコ
レート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アル
ケニル及び/又はアリールを持つ。これらの金属錯体
は、遊離型であってもよく又は担体上、典型的には活性
化塩化マグネシウム、塩化チタン(III )、アルミナ又
は酸化ケイ素上に固定された形であってもよい。これら
の触媒は重合媒体中に溶解性又は不溶性であってもよ
い。その触媒は、重合中にそれ自体が使用されてもよく
又は別の活性剤、典型的にはアルキル金属、金属水素化
物、アルキル金属ハライド、アルキル金属オキシド又は
アルキル金属オキサン(これら金属は周期表の第Ia、II
a 及び/又はIIIaの元素である。) であってよい。活性
剤は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエー
テル基で有利に変形されてもよい。これらの触媒系は通
常は、フィリップス触媒、スタンダード・オイル・イン
ジアナ触媒、チーグラー(−ナッタ)触媒、TNZ(デ
ュポン)触媒、メタロセン触媒又は単座触媒(SSC)
と呼ばれる。
【0035】2. 1)に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP
/HDPE,PP/LDPE)およびポリエチレンの異
なるタイプの混合物(例えば、LDPE/HDPE)。
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP
/HDPE,PP/LDPE)およびポリエチレンの異
なるタイプの混合物(例えば、LDPE/HDPE)。
【0036】3.モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレン・コポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびその低密度ポリエチレン(LDP
E)との混合物、プロピレン/ブテン−1・コポリマ
ー、プロピレン/イソブチレン・コポリマー、エチレン
/ブテン−1・コポリマー、エチレン/ヘキセン・コポ
リマー、エチレン/メチルペンテン・コポリマー、エチ
レン/ヘプテン・コポリマー、エチレン/オクテン・コ
ポリマー、プロピレン/ブタジエン・コポリマー、イソ
ブチレン/イソプレン・コポリマー、エチレン/アルキ
ルアクリレート・コポリマー、エチレン/アルキルメタ
クリレート・コポリマー、エチレン/ビニルアセテート
・コポリマー及び一酸化炭素とのそれらのコポリマーま
たはエチレン/アクリル酸・コポリマーおよびそれらの
塩類(アイオノマー)、並びにエチレンとプロピレンと
ジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまた
はエチリデン/ノルボルネンのようなものとのターポリ
マー;並びにそのようなコポリマーの混合物と1)に記
載したポリマーとのそれらの混合物、例えばポリプロピ
レン/エチレン−プロピレン・コポリマー、LDPE/
エチレン−酢酸ビニル−コポリマー(EVA)、LDP
E/エチレン−アクリル酸−コポリマー(EAA)、L
LDPE/EVA,LLDPE/EAAおよび交互のま
たはランダムなポリアルキレン/一酸化炭素−コポリマ
ー並びに他のポリマー例えばポリアミドとのそれらの混
合物。
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレン・コポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびその低密度ポリエチレン(LDP
E)との混合物、プロピレン/ブテン−1・コポリマ
ー、プロピレン/イソブチレン・コポリマー、エチレン
/ブテン−1・コポリマー、エチレン/ヘキセン・コポ
リマー、エチレン/メチルペンテン・コポリマー、エチ
レン/ヘプテン・コポリマー、エチレン/オクテン・コ
ポリマー、プロピレン/ブタジエン・コポリマー、イソ
ブチレン/イソプレン・コポリマー、エチレン/アルキ
ルアクリレート・コポリマー、エチレン/アルキルメタ
クリレート・コポリマー、エチレン/ビニルアセテート
・コポリマー及び一酸化炭素とのそれらのコポリマーま
たはエチレン/アクリル酸・コポリマーおよびそれらの
塩類(アイオノマー)、並びにエチレンとプロピレンと
ジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまた
はエチリデン/ノルボルネンのようなものとのターポリ
マー;並びにそのようなコポリマーの混合物と1)に記
載したポリマーとのそれらの混合物、例えばポリプロピ
レン/エチレン−プロピレン・コポリマー、LDPE/
エチレン−酢酸ビニル−コポリマー(EVA)、LDP
E/エチレン−アクリル酸−コポリマー(EAA)、L
LDPE/EVA,LLDPE/EAAおよび交互のま
たはランダムなポリアルキレン/一酸化炭素−コポリマ
ー並びに他のポリマー例えばポリアミドとのそれらの混
合物。
【0037】4. 炭化水素樹脂(例えばC5 −C9 )お
よびそれらの水素化変性体(例えば粘着付与剤)および
ポリアルキレンと澱粉との混合物。
よびそれらの水素化変性体(例えば粘着付与剤)および
ポリアルキレンと澱粉との混合物。
【0038】5.ポリスチレン、ポリ−(p−メチルス
チレン)、ポリ−(α−メチルスチレン)。
チレン)、ポリ−(α−メチルスチレン)。
【0039】6.スチレンまたはα−メチルスチレンと
ジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばス
チレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリル、ス
チレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブタジエ
ン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエン/ア
ルキルメタアクリレート、スチレン/無水マレイン酸、
スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート;ス
チレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレ
ート、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジ
エンターポリマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチ
レンのブロックコポリマー例えばスチレン/ブタジエン
/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレ
ン/エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エ
チレン/プロピレン/スチレン。
ジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばス
チレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリル、ス
チレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブタジエ
ン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエン/ア
ルキルメタアクリレート、スチレン/無水マレイン酸、
スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート;ス
チレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレ
ート、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジ
エンターポリマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチ
レンのブロックコポリマー例えばスチレン/ブタジエン
/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレ
ン/エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エ
チレン/プロピレン/スチレン。
【0040】7.スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリル・コポリマーにスチレン;ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタア
クリロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド;ポリブタジエンにスチレンとマレイ
ンイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルア
クリレート又はアルキルメタクリレート;エチレン/プ
ロピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル;ポリアルキルアクリレートまたはポリアル
キルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリ
ル;アクリレート/ブタジエンコポリマーにスチレンお
よびアクリロニトリル、並びにこれらと6)に列挙した
コポリマーとの混合物、例えばABS−、MBS−、A
SA−またはAES−ポリマーとして知られているコポ
リマー混合物。
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリル・コポリマーにスチレン;ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタア
クリロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド;ポリブタジエンにスチレンとマレイ
ンイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルア
クリレート又はアルキルメタクリレート;エチレン/プ
ロピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル;ポリアルキルアクリレートまたはポリアル
キルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリ
ル;アクリレート/ブタジエンコポリマーにスチレンお
よびアクリロニトリル、並びにこれらと6)に列挙した
コポリマーとの混合物、例えばABS−、MBS−、A
SA−またはAES−ポリマーとして知られているコポ
リマー混合物。
【0041】8.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホン
化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンのコポリマ
ー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特に
ハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルま
たは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホン
化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンのコポリマ
ー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特に
ハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルま
たは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
【0042】9.ポリアクリレートおよびポリメタアク
リレートのようなα,β−不飽和酸およびその誘導体か
ら誘導されたポリマー;アクリル酸ブチルで耐衝撃化改
質したポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
リレートのようなα,β−不飽和酸およびその誘導体か
ら誘導されたポリマー;アクリル酸ブチルで耐衝撃化改
質したポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
【0043】10. 前項9)に挙げたモノマー相互のまた
は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロ
ニトリル/ブタジエン・コポリマー、アクリロニトリル
/アルキルアクリレート・コポリマー、アクリロニトリ
ル/アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニ
トリル/ハロゲン化ビニル・コポリマーまたはアクリロ
ニトリル/アルキルメタアクリレート/ブタジエン・タ
ーポリマー。
は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロ
ニトリル/ブタジエン・コポリマー、アクリロニトリル
/アルキルアクリレート・コポリマー、アクリロニトリ
ル/アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニ
トリル/ハロゲン化ビニル・コポリマーまたはアクリロ
ニトリル/アルキルメタアクリレート/ブタジエン・タ
ーポリマー。
【0044】11.不飽和アルコールおよびアミンまたは
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;
並びにそれらと上記1)に記載したオレフィンとのコポ
リマー。
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;
並びにそれらと上記1)に記載したオレフィンとのコポ
リマー。
【0045】12. ポリアルキレングリコールのような、
環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えば
ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたは
これらとビス−グリシジルエーテルとのコポリマー。
環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えば
ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたは
これらとビス−グリシジルエーテルとのコポリマー。
【0046】13. ポリオキシメチレンおよびエチレンオ
キシドをコモノマーとして含むポリオキシメチレンのよ
うなポリアセタール;熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはMBSで変性させたポリアセタール。
キシドをコモノマーとして含むポリオキシメチレンのよ
うなポリアセタール;熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはMBSで変性させたポリアセタール。
【0047】14. ポリフェニレンオキシドおよびスルフ
ィド、並びにポリフェニレンオキシドとスチレンポリマ
ーまたはポリアミドとの混合物。
ィド、並びにポリフェニレンオキシドとスチレンポリマ
ーまたはポリアミドとの混合物。
【0048】15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆物
質。
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆物
質。
【0049】16. ジアミンおよびジカルボン酸からおよ
び/またはアミノカルボン酸または相当するラクタムか
ら誘導されたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポ
リアミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/1
0、6/9、6/12、4/6、12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミンおよび
アジピン酸から出発する芳香族ポリアミド;ヘキサメチ
レンジアミンおよびイソフタル酸および/またはテレフ
タル酸および所望により変性剤としてのエラストマーか
ら製造されるポリアミド、例えはポリ(2,4,4−ト
リメチルヘキサメチレン)テレフタルアミドまたはポリ
−m−フェニレンイソフタルアミド;並びに前記ポリア
ミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオ
ノマーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラスト
マーとのブロックコポリマー;または前記ポリアミドと
ポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコー
ルとのブロックコポリマー;並びに、EPDMまたはA
BSで変性させたポリアミドまたはコポリアミド;加工
の間に縮合させたポリアミド(RIM−ポリアミド
系)。
び/またはアミノカルボン酸または相当するラクタムか
ら誘導されたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポ
リアミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/1
0、6/9、6/12、4/6、12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミンおよび
アジピン酸から出発する芳香族ポリアミド;ヘキサメチ
レンジアミンおよびイソフタル酸および/またはテレフ
タル酸および所望により変性剤としてのエラストマーか
ら製造されるポリアミド、例えはポリ(2,4,4−ト
リメチルヘキサメチレン)テレフタルアミドまたはポリ
−m−フェニレンイソフタルアミド;並びに前記ポリア
ミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオ
ノマーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラスト
マーとのブロックコポリマー;または前記ポリアミドと
ポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコー
ルとのブロックコポリマー;並びに、EPDMまたはA
BSで変性させたポリアミドまたはコポリアミド;加工
の間に縮合させたポリアミド(RIM−ポリアミド
系)。
【0050】17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
【0051】18. ジカルボン酸およびジオールおよび/
またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンか
ら誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1, 4
−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレートおよび
ポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシ末端基
を含有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリ
エーテルエステル;そしてポリカーボネートまたはMB
Sで変性したポリエステルも。
またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンか
ら誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1, 4
−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレートおよび
ポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシ末端基
を含有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリ
エーテルエステル;そしてポリカーボネートまたはMB
Sで変性したポリエステルも。
【0052】19. ポリカーボネートおよびポリエステル
−カーボネート。
−カーボネート。
【0053】20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。
およびポリエーテルケトン。
【0054】21. 一方の成分としてアルデヒドおよび他
方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから誘
導された架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアル
デヒド樹脂、尿素/ ホルムアルデヒド樹脂およびメラミ
ン/ホルムアルデヒド樹脂。
方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから誘
導された架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアル
デヒド樹脂、尿素/ ホルムアルデヒド樹脂およびメラミ
ン/ホルムアルデヒド樹脂。
【0055】22. 乾性および不乾性アルキド樹脂。
【0056】23. 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価
アルコールのコポリエステル、および架橋剤としてのビ
ニル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポ
リエステル樹脂並びに燃焼性の低いそれらのハロゲン含
有変性物。
アルコールのコポリエステル、および架橋剤としてのビ
ニル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポ
リエステル樹脂並びに燃焼性の低いそれらのハロゲン含
有変性物。
【0057】24. 置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタン−アクリレートまたはポリ
エステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル
樹脂。
キシアクリレート、ウレタン−アクリレートまたはポリ
エステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル
樹脂。
【0058】25. メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネ
ート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエ
ポキシ樹脂と架橋してあるアルキド樹脂、ポリエステル
樹脂またはアクリレート樹脂。
ート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエ
ポキシ樹脂と架橋してあるアルキド樹脂、ポリエステル
樹脂またはアクリレート樹脂。
【0059】26. ポリエポキシから例えばビスグリシジ
ルエーテルから又は脂環式ジエポキシドから誘導された
架橋エポキシ樹脂。
ルエーテルから又は脂環式ジエポキシドから誘導された
架橋エポキシ樹脂。
【0060】27. 天然ポリマー、例えばセルロース、天
然ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた誘
導体のようなもの例えば酢酸セルロース、プロピオン酸
セルロースおよび酪酸セルロース、または例えばセルロ
ースエーテル例えばメチルセルロースのようなもの;並
びにロジンおよびそれらの誘導体。
然ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた誘
導体のようなもの例えば酢酸セルロース、プロピオン酸
セルロースおよび酪酸セルロース、または例えばセルロ
ースエーテル例えばメチルセルロースのようなもの;並
びにロジンおよびそれらの誘導体。
【0061】28. 前記したポリマーの混合物(ポリブレ
ンド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDM
またはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PV
C/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/
ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アク
リレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性P
UR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO
/HIPS、PPO/PA6.6およびコポリマー、P
A/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
ンド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDM
またはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PV
C/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/
ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アク
リレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性P
UR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO
/HIPS、PPO/PA6.6およびコポリマー、P
A/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
【0062】従って、本発明は、a)酸化的、熱的及び
/又は化学線による分解/増成を受け易い有機材料、及
び b)安定剤としての少なくとも1種の式1と2の新規の
化合物を含有する組成物に関する。本発明は、又、酸化
的、熱的及び/又は化学線による分解/増成(損傷)に
対して有機材料を安定化するための方法であって、この
材料に式1と2の新規の化合物の少なくとも1種を安定
剤として添加することからなる方法も包含する。
/又は化学線による分解/増成を受け易い有機材料、及
び b)安定剤としての少なくとも1種の式1と2の新規の
化合物を含有する組成物に関する。本発明は、又、酸化
的、熱的及び/又は化学線による分解/増成(損傷)に
対して有機材料を安定化するための方法であって、この
材料に式1と2の新規の化合物の少なくとも1種を安定
剤として添加することからなる方法も包含する。
【0063】特に興味のあるのは、合成有機ポリマー並
びに相当する組成物に入れる安定剤として上記の新規の
化合物を使用することである。
びに相当する組成物に入れる安定剤として上記の新規の
化合物を使用することである。
【0064】保護されるべき有機材料は、好ましくは天
然、半合成又は、特に合成有機材料である。特に好まし
いのは、合成有機ポリマー又はそのらうなポリマーの混
合物、特にポリエステル又はポリアミドのような熱可塑
性ポリマーである。他の特に好ましい有機材料は表面塗
料組成物である。本発明に従って有利に安定化されるべ
き表面塗料組成物は、特に、「Ullmann’s E
ncyclopedia of Industrial
Chemistry,5.Vol.A18,359−
464頁,第5版,第A18巻,359−464頁,V
CH出版社,Weinheim 1991」に記述され
ている。
然、半合成又は、特に合成有機材料である。特に好まし
いのは、合成有機ポリマー又はそのらうなポリマーの混
合物、特にポリエステル又はポリアミドのような熱可塑
性ポリマーである。他の特に好ましい有機材料は表面塗
料組成物である。本発明に従って有利に安定化されるべ
き表面塗料組成物は、特に、「Ullmann’s E
ncyclopedia of Industrial
Chemistry,5.Vol.A18,359−
464頁,第5版,第A18巻,359−464頁,V
CH出版社,Weinheim 1991」に記述され
ている。
【0065】特に興味のあるのは、表面塗料例えばラッ
カーのための安定剤としての上記新規化合物の使用であ
る。かくして、その別の観点では、本発明は成分A が
膜形成結合剤である組成物に関する。
カーのための安定剤としての上記新規化合物の使用であ
る。かくして、その別の観点では、本発明は成分A が
膜形成結合剤である組成物に関する。
【0066】本発明の塗料組成物は、固形分結合剤A
100重量部当り、本発明の新規の安定剤Bを好ましく
は0.01−10重量部、更に好ましくは0.05−1
0重量部、最も好ましくは0.1−5重量部含有する。
100重量部当り、本発明の新規の安定剤Bを好ましく
は0.01−10重量部、更に好ましくは0.05−1
0重量部、最も好ましくは0.1−5重量部含有する。
【0067】多層系もここでは可能であり、その場合外
層中の成分Bの濃度は、より高くあってよく、固形分結
合剤A 100重量部当りBを例えば1ないし15重量
部、好ましくは3ないし10重量部である。
層中の成分Bの濃度は、より高くあってよく、固形分結
合剤A 100重量部当りBを例えば1ないし15重量
部、好ましくは3ないし10重量部である。
【0068】新規化合物の塗膜中の安定剤としての使用
は、離層即ち基板からの塗膜の剥離を防止するという追
加の長所がある。この長所は、金属基板の場合そして金
属基板上の多層系の場合特に重要である。
は、離層即ち基板からの塗膜の剥離を防止するという追
加の長所がある。この長所は、金属基板の場合そして金
属基板上の多層系の場合特に重要である。
【0069】適当な結合剤(成分A)は、原則的には、
当業技術で常用される結合剤であればどれでもよく、そ
れらは例えば「Ullmann’s Encyclod
epedia of Industrial Chem
istry,第5版,第A18巻,368−426頁,
VCH,Weinheim 1991」に記載されてい
る。概して、結合剤は、熱可塑性又は熱硬化性樹脂を基
材とし、熱硬化性樹脂を主要成分とするフィルム形成結
合剤である。それらの例は、アルキド、アクリル、ポリ
エステル、フェノール、メラミン、エポキシ及びポリウ
レタン樹脂及びそれらの混合物である。
当業技術で常用される結合剤であればどれでもよく、そ
れらは例えば「Ullmann’s Encyclod
epedia of Industrial Chem
istry,第5版,第A18巻,368−426頁,
VCH,Weinheim 1991」に記載されてい
る。概して、結合剤は、熱可塑性又は熱硬化性樹脂を基
材とし、熱硬化性樹脂を主要成分とするフィルム形成結
合剤である。それらの例は、アルキド、アクリル、ポリ
エステル、フェノール、メラミン、エポキシ及びポリウ
レタン樹脂及びそれらの混合物である。
【0070】成分Aは、常温硬化性又は熱硬化性結合剤
であって;硬化触媒を添加することは有利であり得る。
結合剤の硬化を促進する適当な触媒は、例えば「Ull
mann’s Encyclodepedia of
Industrial Chemistry,第5版,
第A18巻,469頁,VCH出版社,Weinhei
m 1991」に記載されている。
であって;硬化触媒を添加することは有利であり得る。
結合剤の硬化を促進する適当な触媒は、例えば「Ull
mann’s Encyclodepedia of
Industrial Chemistry,第5版,
第A18巻,469頁,VCH出版社,Weinhei
m 1991」に記載されている。
【0071】成分Aが、官能性アクリル樹脂と架橋剤か
らなる結合剤である表面塗料が好ましい。
らなる結合剤である表面塗料が好ましい。
【0072】特定の結合剤を含有する塗料組成物の例を
下記する: 1.所望ならば硬化触媒を添加してある、常温−又は高
温−架橋性の、アルキド、アクリレート、ポリエステ
ル、エポキシ又はメラミン樹脂、又はそのような樹脂の
混合物を基材にしたラッカー; 2.ヒドロキシル基を含むアクリレート、ポリエステル
又はポリエーテル樹脂、及び脂肪族又は芳香族のイソシ
アナート、イソシアヌレート又はポリイソシアヌレート
を基材にした二成分ポリウレタンラッカー; 3.焼付の間に脱ブロックされる、ブロックドイソシア
ナート、イソシアヌレート又はポリイソシアナートを基
材にした一成分ポリウレタンラッカー; 4.脂肪族若しくは芳香族ウレタン若しくはポリウレタ
ン、及びヒドロキシル基含有アクリレート、ポリエステ
ル又はポリエーテル樹脂を基材とした一成分ポリウレタ
ンラッカー; 5.ウレタン構造中に遊離アミノ基を含有する脂肪族若
しくは芳香族ウレタン若しくはポリウレタン、及びメラ
ミン樹脂又はポリエーテル樹脂を基材にした、硬化触媒
を添加した又は添加してない、一成分ポリウレタンラッ
カー; 6.(ポリ)ケチミンと脂肪族又は芳香族イソシアナー
ト、イソシアヌレート又はポリイソシアナートを基材に
した二成分ラッカー; 7.(ポリ)ケチミンと不飽和アクリレート樹脂又はポ
リアセトアセテート樹脂又はメタクリアミドグリコレー
ト・メチルエステルを基材にした二成分ラッカー; 8.カルボキシル基又はアミノ基を含むポリアクリレー
トとポリエポキシドを基材にした二成分ラッカー; 9.酸無水物基を含有するアクリレート樹脂、及びポリ
ヒドロキシル又はポリアミノ成分を基材にした二成分ラ
ッカー; 10.酸無水物とエポキシド基を含有するアクリレート
を基材にした2成分ラッカー: 11.(ポリ)オキサゾリンと、酸無水物基を含有する
アクリレート樹脂又は不飽和アクリレート樹脂、又は脂
肪族又は芳香族イソシアナート、イソシアヌレート又は
ポリイソシアナートを基材にした二成分ラッカー; 12.不飽和ポリアクリレートとポリマロネートを基材
にした二成分ラッカー; 13.エーテル化したメラミン樹脂と組み合わせた、熱
可塑性アクリレート樹脂又は非自己架橋性アクリレート
樹脂を基材にした熱可塑性ポリアクリレートラッカー; 14.シロキサン改質した又はフッ素改質したアクリレ
ート樹脂を基材にしたペイントシステム。
下記する: 1.所望ならば硬化触媒を添加してある、常温−又は高
温−架橋性の、アルキド、アクリレート、ポリエステ
ル、エポキシ又はメラミン樹脂、又はそのような樹脂の
混合物を基材にしたラッカー; 2.ヒドロキシル基を含むアクリレート、ポリエステル
又はポリエーテル樹脂、及び脂肪族又は芳香族のイソシ
アナート、イソシアヌレート又はポリイソシアヌレート
を基材にした二成分ポリウレタンラッカー; 3.焼付の間に脱ブロックされる、ブロックドイソシア
ナート、イソシアヌレート又はポリイソシアナートを基
材にした一成分ポリウレタンラッカー; 4.脂肪族若しくは芳香族ウレタン若しくはポリウレタ
ン、及びヒドロキシル基含有アクリレート、ポリエステ
ル又はポリエーテル樹脂を基材とした一成分ポリウレタ
ンラッカー; 5.ウレタン構造中に遊離アミノ基を含有する脂肪族若
しくは芳香族ウレタン若しくはポリウレタン、及びメラ
ミン樹脂又はポリエーテル樹脂を基材にした、硬化触媒
を添加した又は添加してない、一成分ポリウレタンラッ
カー; 6.(ポリ)ケチミンと脂肪族又は芳香族イソシアナー
ト、イソシアヌレート又はポリイソシアナートを基材に
した二成分ラッカー; 7.(ポリ)ケチミンと不飽和アクリレート樹脂又はポ
リアセトアセテート樹脂又はメタクリアミドグリコレー
ト・メチルエステルを基材にした二成分ラッカー; 8.カルボキシル基又はアミノ基を含むポリアクリレー
トとポリエポキシドを基材にした二成分ラッカー; 9.酸無水物基を含有するアクリレート樹脂、及びポリ
ヒドロキシル又はポリアミノ成分を基材にした二成分ラ
ッカー; 10.酸無水物とエポキシド基を含有するアクリレート
を基材にした2成分ラッカー: 11.(ポリ)オキサゾリンと、酸無水物基を含有する
アクリレート樹脂又は不飽和アクリレート樹脂、又は脂
肪族又は芳香族イソシアナート、イソシアヌレート又は
ポリイソシアナートを基材にした二成分ラッカー; 12.不飽和ポリアクリレートとポリマロネートを基材
にした二成分ラッカー; 13.エーテル化したメラミン樹脂と組み合わせた、熱
可塑性アクリレート樹脂又は非自己架橋性アクリレート
樹脂を基材にした熱可塑性ポリアクリレートラッカー; 14.シロキサン改質した又はフッ素改質したアクリレ
ート樹脂を基材にしたペイントシステム。
【0073】成分A とBに加えて、本発明の塗料組成
物は成分Cとして、少なくとも1種の光安定剤、特に紫
外線吸収剤、例えば下述のリストの2.1−2.4,
2.7又は2.8の部で述べたものも含有してよい。2
−ヒドロキシフェニル−2H−ベンゾトリアゾール及び
/又は2−ヒドロキシフェニル−1,3,5−トリアジ
ンの添加が特に技術的に興味がある。
物は成分Cとして、少なくとも1種の光安定剤、特に紫
外線吸収剤、例えば下述のリストの2.1−2.4,
2.7又は2.8の部で述べたものも含有してよい。2
−ヒドロキシフェニル−2H−ベンゾトリアゾール及び
/又は2−ヒドロキシフェニル−1,3,5−トリアジ
ンの添加が特に技術的に興味がある。
【0074】追加の光安定剤(成分C))は、好ましく
は固形分の結合剤100重量部当り、0.05ないし5
重量部の量で使用される。
は固形分の結合剤100重量部当り、0.05ないし5
重量部の量で使用される。
【0075】成分A、B及び、使用される場合のCに加
えて、表面塗料は、別の成分、例えば溶媒、顔料、染
料、可塑剤、安定剤、チキソトロピー剤、乾燥化触媒及
び/又は流れ調節剤を含有することができる。可能な成
分の例は、「Ullmann’s Encyclode
pedia of Industrial Chemi
stry,第5版,第A18巻,429−471頁,V
CH,Weinheim1991」に記載されているそ
れらである。
えて、表面塗料は、別の成分、例えば溶媒、顔料、染
料、可塑剤、安定剤、チキソトロピー剤、乾燥化触媒及
び/又は流れ調節剤を含有することができる。可能な成
分の例は、「Ullmann’s Encyclode
pedia of Industrial Chemi
stry,第5版,第A18巻,429−471頁,V
CH,Weinheim1991」に記載されているそ
れらである。
【0076】可能な乾燥化触媒又は硬化触媒は、例え
ば、有機金属化合物、アミン、アミノ基含有樹脂及び/
又はホスフィンである。有機金属化合物は、例えば、金
属のカルボン酸塩、特に金属Pb、Mn、Co、Zn、
Zr及びCuのそれら、又は金属キレート、特に金属A
l、Ti及びZrのそれら、又は有機金属化合物、例え
ば有機錫化合物である。
ば、有機金属化合物、アミン、アミノ基含有樹脂及び/
又はホスフィンである。有機金属化合物は、例えば、金
属のカルボン酸塩、特に金属Pb、Mn、Co、Zn、
Zr及びCuのそれら、又は金属キレート、特に金属A
l、Ti及びZrのそれら、又は有機金属化合物、例え
ば有機錫化合物である。
【0077】金属のカルボン酸塩の例は、Pb Mn及
びZnのステアリン酸塩、Co、Zn及びCuのオクタ
ン酸塩、MnとCoのナフテン酸塩並びに該当するリノ
レイン酸塩、樹脂酸塩と獣脂酸塩である。
びZnのステアリン酸塩、Co、Zn及びCuのオクタ
ン酸塩、MnとCoのナフテン酸塩並びに該当するリノ
レイン酸塩、樹脂酸塩と獣脂酸塩である。
【0078】金属キレートの典型例は、アセチルアセト
ン、アセト酢酸エチル、サリチルアルデヒド、サリチル
アルドキシム、o−ヒドロキシアセトフェノンとトリフ
ルオロアセチル酢酸エチルのアルミニウム、チタニウム
とジルコニウム−キレート、並びにこれら金属のアルコ
キサイドである。
ン、アセト酢酸エチル、サリチルアルデヒド、サリチル
アルドキシム、o−ヒドロキシアセトフェノンとトリフ
ルオロアセチル酢酸エチルのアルミニウム、チタニウム
とジルコニウム−キレート、並びにこれら金属のアルコ
キサイドである。
【0079】有機錫化合物の例は、ジブチル錫オキシ
ド、ジブチル錫ジラウレートとジブチル錫ジオクタノエ
ートである。
ド、ジブチル錫ジラウレートとジブチル錫ジオクタノエ
ートである。
【0080】アミンの例は特に第3級アミン、例えばト
リブチルアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジ
エタノールアミン、N−ジメチルエタノールアミン、N
−エチルモルホリン、N−メチルモルホリンとジアザビ
シクロオクタン(トリエチレンジアミン)とそれらの塩
である。別の例は第四級アンモニウム塩、例えばトリメ
チルベンジルアンモニウムクロライドである。
リブチルアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジ
エタノールアミン、N−ジメチルエタノールアミン、N
−エチルモルホリン、N−メチルモルホリンとジアザビ
シクロオクタン(トリエチレンジアミン)とそれらの塩
である。別の例は第四級アンモニウム塩、例えばトリメ
チルベンジルアンモニウムクロライドである。
【0081】アミノ基含有樹脂は同時に結合剤と硬化触
媒である。その例はアミノ基含有アクリレートコポリマ
ーである。
媒である。その例はアミノ基含有アクリレートコポリマ
ーである。
【0082】例えばトリフェニルホスフィンのようなホ
スフィンは、硬化触媒として使用されてもよい。
スフィンは、硬化触媒として使用されてもよい。
【0083】本発明の表面塗料は、放射線硬化性であっ
てもよい。この場合、結合剤はエチレン性不飽和結合を
持つモノマー又はオリゴマー化合物(プレポリマー)か
ら実質的になり、適用後、化学線照射により硬化、即
ち、架橋した高分子量型に変化する。紫外線硬化システ
ムである場合は、通常追加して光開始剤を含有する。相
当する系は上述の刊行物、「Ullmann’s En
cyclodepedia of Industria
l Chemistry,第5版,第A18巻,451
−453頁」に記載されている。放射線硬化性塗料組成
物では、本発明の安定剤は立体障害アミンの添加無しの
場合も使用され得る。
てもよい。この場合、結合剤はエチレン性不飽和結合を
持つモノマー又はオリゴマー化合物(プレポリマー)か
ら実質的になり、適用後、化学線照射により硬化、即
ち、架橋した高分子量型に変化する。紫外線硬化システ
ムである場合は、通常追加して光開始剤を含有する。相
当する系は上述の刊行物、「Ullmann’s En
cyclodepedia of Industria
l Chemistry,第5版,第A18巻,451
−453頁」に記載されている。放射線硬化性塗料組成
物では、本発明の安定剤は立体障害アミンの添加無しの
場合も使用され得る。
【0084】新規の表面塗料は、いずれの基材(基板)
に、例えば金属、木材、プラスチック又はセラミック材
に適用できる。それらを、自動車の塗布のためのトップ
コートとして使用するのが好ましい。トップコートが2
層からなる場合は、その下層には顔料が添加されそして
上層には添加されず、新規の表面塗料は上層と下層のい
ずれか又はその両方のために使用できるが、上層のため
に使用するのが好ましい。
に、例えば金属、木材、プラスチック又はセラミック材
に適用できる。それらを、自動車の塗布のためのトップ
コートとして使用するのが好ましい。トップコートが2
層からなる場合は、その下層には顔料が添加されそして
上層には添加されず、新規の表面塗料は上層と下層のい
ずれか又はその両方のために使用できるが、上層のため
に使用するのが好ましい。
【0085】新規の表面塗料は、基材へ、常法により、
例えば塗布、散布、流し塗、浸漬又は電気泳動により適
用されてよい:「Ullmann’s Encyclo
depedia of Industrial Che
mistry,第5版,第A18巻,491−500
頁」も参照。
例えば塗布、散布、流し塗、浸漬又は電気泳動により適
用されてよい:「Ullmann’s Encyclo
depedia of Industrial Che
mistry,第5版,第A18巻,491−500
頁」も参照。
【0086】表面塗膜は、結合剤系に依存して、室温で
又は加熱により硬化され得る。塗膜は、好ましくは50
−150℃で硬化され、粉末塗膜もより高い温度で硬化
される。
又は加熱により硬化され得る。塗膜は、好ましくは50
−150℃で硬化され、粉末塗膜もより高い温度で硬化
される。
【0087】本発明に従って得られる表面塗膜は、光、
酸素及び熱の損傷する影響に対して優れた安定性を持
つ。特記すべきことは、この方法で得られた表面、例え
ばラッカー塗膜の光と天候に対する優れた安定性であ
る。
酸素及び熱の損傷する影響に対して優れた安定性を持
つ。特記すべきことは、この方法で得られた表面、例え
ばラッカー塗膜の光と天候に対する優れた安定性であ
る。
【0088】従って、本発明は、本発明化合物の少なく
とも1種の添加により、光、酸素及び熱の損傷する影響
に対して安定化された表面塗膜、特にラッカー塗膜にも
関する。このラッカー塗膜は、好ましくは、自動車のた
めのトップコートである。更に、本発明は、光、酸素及
び/又は熱による損傷に対して、有機ポリマーに基づく
塗膜を安定化する方法であって、表面塗料に本発明の化
合物を少なくとも1種混和することからなる方法; 及び
光、酸素及び/又は熱による損傷に対する安定剤として
の本発明化合物の表面塗料中の使用も包含する。
とも1種の添加により、光、酸素及び熱の損傷する影響
に対して安定化された表面塗膜、特にラッカー塗膜にも
関する。このラッカー塗膜は、好ましくは、自動車のた
めのトップコートである。更に、本発明は、光、酸素及
び/又は熱による損傷に対して、有機ポリマーに基づく
塗膜を安定化する方法であって、表面塗料に本発明の化
合物を少なくとも1種混和することからなる方法; 及び
光、酸素及び/又は熱による損傷に対する安定剤として
の本発明化合物の表面塗料中の使用も包含する。
【0089】表面塗料は、結合剤が溶解できる有機溶媒
又は溶媒混合物を含有してよい。しかし、塗料組成物
は、水性溶液又は懸濁液でもあり得る。賦形剤も有機溶
媒と水の混合物であり得る。表面塗料は、ハイソリッド
ラッカーでもあり得るし又は溶媒を含有していなくても
よい(例えば粉末塗料)。粉末塗料の例は、「Ullm
ann’s Encyclodepedia of I
ndustrial Chemistry,第5版,第
A18巻,438−444頁」に記載されているそれら
である。粉末塗料は粉末スラリーの形、即ち−好ましく
は−水中の粉末分散液である。
又は溶媒混合物を含有してよい。しかし、塗料組成物
は、水性溶液又は懸濁液でもあり得る。賦形剤も有機溶
媒と水の混合物であり得る。表面塗料は、ハイソリッド
ラッカーでもあり得るし又は溶媒を含有していなくても
よい(例えば粉末塗料)。粉末塗料の例は、「Ullm
ann’s Encyclodepedia of I
ndustrial Chemistry,第5版,第
A18巻,438−444頁」に記載されているそれら
である。粉末塗料は粉末スラリーの形、即ち−好ましく
は−水中の粉末分散液である。
【0090】顔料は、無機、有機又は金属顔料であり得
る。新規の表面塗料は、好ましくは顔料を含有せずそし
て透明なワニス製剤として使用される。
る。新規の表面塗料は、好ましくは顔料を含有せずそし
て透明なワニス製剤として使用される。
【0091】自動車工業における適用のための仕上げラ
ッカーとして、特に顔料添加した又は顔料無添加のラッ
カートップコートとして表面塗料を使用するのも好まし
い。しかし、その表面塗料を下地塗膜のために使用する
ことも可能である。
ッカーとして、特に顔料添加した又は顔料無添加のラッ
カートップコートとして表面塗料を使用するのも好まし
い。しかし、その表面塗料を下地塗膜のために使用する
ことも可能である。
【0092】新規の化合物により安定化される別の材料
は、写真材料である。それらは、特に、写真複写と他の
写真技術のために「Research Disclos
ure 1990,31429(474ないし480
頁)」に記述されている材料である。
は、写真材料である。それらは、特に、写真複写と他の
写真技術のために「Research Disclos
ure 1990,31429(474ないし480
頁)」に記述されている材料である。
【0093】概して、新規の化合物は、安定化される有
機材料に、安定化される組成物の全重量を基準にしし
て、0.01ないし10%、好ましくは0.01ないし
5%、そして、更に好ましくは0.01ないし2重量%
である。新規の化合物は特に好ましくは0.05ないし
1.5%、最も好ましくは0.1ないし0.5%の量で
使用される。
機材料に、安定化される組成物の全重量を基準にしし
て、0.01ないし10%、好ましくは0.01ないし
5%、そして、更に好ましくは0.01ないし2重量%
である。新規の化合物は特に好ましくは0.05ないし
1.5%、最も好ましくは0.1ないし0.5%の量で
使用される。
【0094】材料中への新規の化合物と更に他の所望の
添加剤の配合は、当業技術で常用されている方法によ
り、典型的には混合又は適用することにより実施でき
る。ポリマーの場合、特に合成ポリマーの場合は、配合
は成型の前又は間に、溶解した又は分散した化合物をポ
リマーに適用することにより、必要ならば、その後の溶
媒の蒸発をして、実施され得る。エラストマーも、ラテ
ックスの形で安定化できる。新規の化合物は、ポリマー
中へ、該当するモノマーの重合の前又は間又は直後に又
は架橋前に、添加できる。新規の化合物は、その儘又は
(例えば蝋、油又はポリマー中に)カプセル化した形の
いずれかで添加できる。添加を重合反応の前又は間に実
施する場合、新規の化合物は、ポリマーの鎖長の調節剤
(連鎖停止剤)としても作用し得る。
添加剤の配合は、当業技術で常用されている方法によ
り、典型的には混合又は適用することにより実施でき
る。ポリマーの場合、特に合成ポリマーの場合は、配合
は成型の前又は間に、溶解した又は分散した化合物をポ
リマーに適用することにより、必要ならば、その後の溶
媒の蒸発をして、実施され得る。エラストマーも、ラテ
ックスの形で安定化できる。新規の化合物は、ポリマー
中へ、該当するモノマーの重合の前又は間又は直後に又
は架橋前に、添加できる。新規の化合物は、その儘又は
(例えば蝋、油又はポリマー中に)カプセル化した形の
いずれかで添加できる。添加を重合反応の前又は間に実
施する場合、新規の化合物は、ポリマーの鎖長の調節剤
(連鎖停止剤)としても作用し得る。
【0095】新規の化合物は、2.5ないし25重量%
の濃度でこれらの新規化合物を含有するマスターバッチ
の型式で安定化されるべきプラスチックに添加してもよ
い。
の濃度でこれらの新規化合物を含有するマスターバッチ
の型式で安定化されるべきプラスチックに添加してもよ
い。
【0096】上記の新規の化合物の配合は、下記の方法
により配合するのが好都合である: −エマルジョン又は分散液として(例えばラテックス又
はエマルジョンポリマーへ) −追加成分又はポリマー混合物の混合の間の乾燥混合物
として −加工装置(例えば押出機、内部混合機等)中への直接
添加により −溶液又は溶融体として。
により配合するのが好都合である: −エマルジョン又は分散液として(例えばラテックス又
はエマルジョンポリマーへ) −追加成分又はポリマー混合物の混合の間の乾燥混合物
として −加工装置(例えば押出機、内部混合機等)中への直接
添加により −溶液又は溶融体として。
【0097】上記ポリマー組成物は、いろいろな形で使
用され又は加工されて、いろいろの製品典型的にはフィ
ルム、繊維、成形材料、形材としての、又はペイント
系、結合剤、接着剤又はパテのための結合剤になる。
用され又は加工されて、いろいろの製品典型的にはフィ
ルム、繊維、成形材料、形材としての、又はペイント
系、結合剤、接着剤又はパテのための結合剤になる。
【0098】上記の新規の化合物に加えて、本発明の組
成物は、追加の添加剤(c)としての1種以上の常用の
添加剤、例えば下記するような添加剤を含有する:1.酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール類、 例えば、2,6
−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2−
tert−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,
6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノール、
2,6−ジ−tert−ブチル−4−n−ブチルフェノ
ール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−イソブチル
フェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフ
ェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6
−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−4−
メチルフェノ−ル、2,4,6−トリシクロヘキシルフ
ェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキ
シメチルフェノール,側鎖が直鎖又は分枝鎖であるノニ
ルフェノール例えば、2,6−ジノニル−4−メチルフ
ェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−メチルウン
デカン−1′−イル)フェノール、2,4−ジメチル−
6−(1′−メチルヘプタデカン−1′−イル)フェノ
ール,2,4−ジメチル−6−(1′−メチルトリデカ
ン−1′−イル)−フェノールおよびそれらの混合物。
成物は、追加の添加剤(c)としての1種以上の常用の
添加剤、例えば下記するような添加剤を含有する:1.酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール類、 例えば、2,6
−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2−
tert−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,
6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノール、
2,6−ジ−tert−ブチル−4−n−ブチルフェノ
ール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−イソブチル
フェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフ
ェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6
−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−4−
メチルフェノ−ル、2,4,6−トリシクロヘキシルフ
ェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキ
シメチルフェノール,側鎖が直鎖又は分枝鎖であるノニ
ルフェノール例えば、2,6−ジノニル−4−メチルフ
ェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−メチルウン
デカン−1′−イル)フェノール、2,4−ジメチル−
6−(1′−メチルヘプタデカン−1′−イル)フェノ
ール,2,4−ジメチル−6−(1′−メチルトリデカ
ン−1′−イル)−フェノールおよびそれらの混合物。
【0099】1.2.アルキルチオメチルフェノール
類、例えば2,4−ジオクチルチオメチル−6−ter
t−ブチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル
−6−メチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチ
ル−6−エチルフェノール、2,6−ジ−ドデシルチオ
メチル−4−ノニルフェノール。
類、例えば2,4−ジオクチルチオメチル−6−ter
t−ブチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル
−6−メチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチ
ル−6−エチルフェノール、2,6−ジ−ドデシルチオ
メチル−4−ノニルフェノール。
【0100】1.3.ハイドロキノン類とアルキル化ハ
イドロキノン類、例えば、2,6−ジ−tert−ブチ
ル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ−tert−
ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−tert−アミル
ハイドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシ
ルオキシフェノール,2,6−ジ−tert−ブチル−
ハイドロキノン,2,5−ジ−tert−ブチル−4−
ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシアニソール、ステアリン酸3,5−ジ
−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル、アジピ
ン酸ビス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)。
イドロキノン類、例えば、2,6−ジ−tert−ブチ
ル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ−tert−
ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−tert−アミル
ハイドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシ
ルオキシフェノール,2,6−ジ−tert−ブチル−
ハイドロキノン,2,5−ジ−tert−ブチル−4−
ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシアニソール、ステアリン酸3,5−ジ
−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル、アジピ
ン酸ビス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)。
【0101】1.4.トコフェロール、例えばα−トコ
フェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロール及びそれらの混合物(ビタミン
E)。
フェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロール及びそれらの混合物(ビタミン
E)。
【0102】1.5.ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル類、例えば、2,2′−チオビス(6−tert
−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2′−チオビ
ス(4−オクチルフェノール)、4,4′−チオビス
(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、
4,4′−チオビス(6−tert−ブチル−2−メチ
ルフェノール)、4,4′−チオ−ビス(3,6−ジ−
sec−アミルフェノール)、4,4′−ビス(2,6
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド。
ーテル類、例えば、2,2′−チオビス(6−tert
−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2′−チオビ
ス(4−オクチルフェノール)、4,4′−チオビス
(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、
4,4′−チオビス(6−tert−ブチル−2−メチ
ルフェノール)、4,4′−チオ−ビス(3,6−ジ−
sec−アミルフェノール)、4,4′−ビス(2,6
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド。
【0103】1.6.アルキリデンビスフェノール類、
例えば、2,2′−メチレンビス(6−tert−ブチ
ル−4−メチルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(6−tert−ブチル−4−エチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチ
ルシクロヘキシル)フェノール]、2,2′−メチレン
ビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェ
ノール)、2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−te
rt−ブチルフェノール)、2,2′−エチリデンビス
(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,
2′−エチリデンビス(6−tert−ブチル−4−イ
ソブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス[6−
(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、
2,2′−メチレンビス[6−(α,α−ジメチルベン
ジル)−4−ノニルフェノール]、4,4′−メチレン
ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、
4,4′−メチレンビス(6−tert−ブチル−2−
メチルフェノール)、1,1−ビス(5−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、
2,6−ビス(3−tert−ブチル−5−メチル−2
−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,
1,3−トリス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−
tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニ
ル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレング
リコールビス[3,3−ビス(3′−tert−ブチル
−4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート]、ビス(3
−tert−ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3′−te
rt−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジ
ル)−6−tert−ブチル−4−メチルフェニル]テ
レフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−
ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−
ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(5−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデシルメル
カプトブタン、1,1,5,5−テトラ(5−tert
−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ペ
ンタン。
例えば、2,2′−メチレンビス(6−tert−ブチ
ル−4−メチルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(6−tert−ブチル−4−エチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチ
ルシクロヘキシル)フェノール]、2,2′−メチレン
ビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェ
ノール)、2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−te
rt−ブチルフェノール)、2,2′−エチリデンビス
(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,
2′−エチリデンビス(6−tert−ブチル−4−イ
ソブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス[6−
(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、
2,2′−メチレンビス[6−(α,α−ジメチルベン
ジル)−4−ノニルフェノール]、4,4′−メチレン
ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、
4,4′−メチレンビス(6−tert−ブチル−2−
メチルフェノール)、1,1−ビス(5−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、
2,6−ビス(3−tert−ブチル−5−メチル−2
−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,
1,3−トリス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−
tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニ
ル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレング
リコールビス[3,3−ビス(3′−tert−ブチル
−4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート]、ビス(3
−tert−ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3′−te
rt−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジ
ル)−6−tert−ブチル−4−メチルフェニル]テ
レフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−
ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−
ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(5−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデシルメル
カプトブタン、1,1,5,5−テトラ(5−tert
−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ペ
ンタン。
【0104】1.7.O- ,N- およびS- ベンジル化
合物、例えば、3,5,3′,5′−テトラ−tert
−ブチル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテ
ル、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル−メル
カプト酢酸オクタデシル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルベンジル−メルカプト酢酸トリデシル、トリス
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)アミン、ジチオテレフタル酸ビス(4−tert
−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)、ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)スルフィド、イソオクチル=3,5−
ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル−メル
カプトアセテート。
合物、例えば、3,5,3′,5′−テトラ−tert
−ブチル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテ
ル、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル−メル
カプト酢酸オクタデシル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルベンジル−メルカプト酢酸トリデシル、トリス
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)アミン、ジチオテレフタル酸ビス(4−tert
−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)、ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)スルフィド、イソオクチル=3,5−
ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル−メル
カプトアセテート。
【0105】1.8.ヒドロキシベンジル化マロン酸エ
ステル類、例えば、2,2−ビス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−2−ヒドロキシベンジル)マロン酸ジオク
タデシル、2−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シ−5−メチルベンジル)マロン酸ジオクタデシル、
2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)マロン酸=ジ−ドデシルメルカプト
エチル、2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)マロン酸=ビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フェニ
ル]。
ステル類、例えば、2,2−ビス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−2−ヒドロキシベンジル)マロン酸ジオク
タデシル、2−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シ−5−メチルベンジル)マロン酸ジオクタデシル、
2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)マロン酸=ジ−ドデシルメルカプト
エチル、2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)マロン酸=ビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フェニ
ル]。
【0106】1.9.ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−
トリメチルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,
5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリス
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)フェノール。
物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−
トリメチルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,
5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリス
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)フェノール。
【0107】1.10.トリアジン化合物、例えば、
2,4−ビスオクチルメルカプト−6−(3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,
3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6
−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチル
メルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリ
アジン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−ト
リアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert
−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレー
ト、1,3,5−トリス(4−tert−ブチル−3−
ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレ
ート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−
トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘ
キサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,3,5−ト
リス−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベ
ンジル)イソシアヌレート。
2,4−ビスオクチルメルカプト−6−(3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,
3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6
−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチル
メルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリ
アジン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−ト
リアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert
−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレー
ト、1,3,5−トリス(4−tert−ブチル−3−
ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレ
ート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−
トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘ
キサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,3,5−ト
リス−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベ
ンジル)イソシアヌレート。
【0108】1.11.ベンジルホスホン酸エステル
類、例えば、2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホン酸ジメチル、3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエ
チル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
−ベンジルホスホン酸ジオクタデシル、5−tert−
ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホン
酸ジオクタデシル、3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルの
カルシウム塩。
類、例えば、2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホン酸ジメチル、3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエ
チル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
−ベンジルホスホン酸ジオクタデシル、5−tert−
ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホン
酸ジオクタデシル、3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルの
カルシウム塩。
【0109】1.12.アシルアミノフェノール類、例
えば、ラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン
酸4−ヒドロキシアニリド、オクチル N−(3,5−
ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カ
ルバメート。
えば、ラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン
酸4−ヒドロキシアニリド、オクチル N−(3,5−
ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カ
ルバメート。
【0110】1.13.β−(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタ
ノール、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6
−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレ
ングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリ
トール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
ト、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジア
ミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,
6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタ
ノール、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6
−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレ
ングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリ
トール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
ト、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジア
ミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,
6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0111】1.14.β−(5−tert−ブチル−
4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の
以下の一価または多価アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタ
ノール、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6
−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレ
ングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリ
トール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
ト、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジア
ミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,
6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の
以下の一価または多価アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタ
ノール、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6
−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレ
ングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリ
トール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
ト、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジア
ミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,
6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0112】1.15.β−(3,5−ジシクロヘキシ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタ
ノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオー
ル、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、
1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビ
ス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウ
ンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチル
ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒド
ロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサ
ビシクロ[2.2.2]オクタン。
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタ
ノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオー
ル、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、
1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビ
ス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウ
ンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチル
ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒド
ロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサ
ビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0113】1.16.3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価
アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
−4−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価
アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
【0114】1.17.β−(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミ
ド類、例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサ
メチレンジアミド、N,N′−ビス(3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)
トリメチレンジアミド、N,N′−ビス(3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヒドラジド、N,N' −ビス[2−(3−[3,5
−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プ
ロピオニルオキシ)エチル]オキサミド((登録商標)
NaufgardXL−1,ユニローヤル提供)。
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミ
ド類、例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサ
メチレンジアミド、N,N′−ビス(3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)
トリメチレンジアミド、N,N′−ビス(3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヒドラジド、N,N' −ビス[2−(3−[3,5
−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プ
ロピオニルオキシ)エチル]オキサミド((登録商標)
NaufgardXL−1,ユニローヤル提供)。
【0115】1.18.アスコルビン酸(ビタミンC) 1.19.アミン系抗酸化剤 例えば、N,N’−ジイソプロピル−p−フェニレンジ
アミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレ
ンジアミン、N,N’−ビス−(1,4−ジメチルペン
チル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1
−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジア
ミン、N,N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フ
ェニレンジアミン、N,N’−ジシクロヘキシル−p−
フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェ
ニレンジアミン、N,N’−ビス(2−ナフチル)−p
−フェニレンジアミン、N−イソプロピル−N’−フェ
ニル−p−フェニレンジアミン、N−(1,3−ジメチ
ルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミ
ン、N−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p
−フェニレンジアミン、N−シクロヘキシル−N’−フ
ェニル−p−フェニレンジアミン、4−(p−トルエン
スルファモイル)ジフェニルアミン、N,N’−ジメチ
ル−N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジ
アミン、ジフェニルアミン、N−アリルジフェニルアミ
ン、4−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニ
ル−1−ナフチルアミン、N−(4−tert−オクチ
ルフェニル)−1−ナフチルアミン、N−フェニル−2
−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例え
ばp,p’−ジ−第三ブチル−オクチルジフェニルアミ
ン、4−n−ブチルアミノフェノール、4−ブチリルア
ミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4
−ドテカノイルアミノフェノール、4−オクタデカノイ
ルアミノフェノール、
アミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレ
ンジアミン、N,N’−ビス−(1,4−ジメチルペン
チル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1
−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジア
ミン、N,N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フ
ェニレンジアミン、N,N’−ジシクロヘキシル−p−
フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェ
ニレンジアミン、N,N’−ビス(2−ナフチル)−p
−フェニレンジアミン、N−イソプロピル−N’−フェ
ニル−p−フェニレンジアミン、N−(1,3−ジメチ
ルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミ
ン、N−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p
−フェニレンジアミン、N−シクロヘキシル−N’−フ
ェニル−p−フェニレンジアミン、4−(p−トルエン
スルファモイル)ジフェニルアミン、N,N’−ジメチ
ル−N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジ
アミン、ジフェニルアミン、N−アリルジフェニルアミ
ン、4−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニ
ル−1−ナフチルアミン、N−(4−tert−オクチ
ルフェニル)−1−ナフチルアミン、N−フェニル−2
−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例え
ばp,p’−ジ−第三ブチル−オクチルジフェニルアミ
ン、4−n−ブチルアミノフェノール、4−ブチリルア
ミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4
−ドテカノイルアミノフェノール、4−オクタデカノイ
ルアミノフェノール、
【0116】ビス(4−メトキシフェニル)アミン、
2,6−ジ−第三ブチル−4−ジメチルアミノメチルフ
ェノール、2,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,
4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N,N’,N’
−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタ
ン、1,2−ビス[(2−メチルフェニル)アミノ]エ
タン、1,2−ビス(フェニルアミノ)プロパン、(o
−トリル)ビグアニド、ビス[4−(1’,3’−ジメ
チルブチル)フェニル]アミン、tert−オクチル化
N−フェニル−1−ナフチルアミン、モノ−およびジア
ルキル化tert−ブチル/tert−オクチルジフェ
ニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニル
ジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化
ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジア
ルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルアミン
の混合物、モノ−およびジアルキル化tert−ブチル
ジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−3,3
−ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチ
アジン、モノ−およびジアルキル化tert−ブチル/
tert−オクチルフェノチアジン、モノ−およびジア
ルキル化tert−オクチルフェノチアジン、N−アリ
ルフェノチアジン、N,N,N’,N’−テトラフェニ
ル−1,4−ジアミノブテン−2、N,N−ビス(2,
2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−イル)−
ヘキサメチレンジアミン,セバシン酸ビス(2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オン、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール。
2,6−ジ−第三ブチル−4−ジメチルアミノメチルフ
ェノール、2,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,
4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N,N’,N’
−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタ
ン、1,2−ビス[(2−メチルフェニル)アミノ]エ
タン、1,2−ビス(フェニルアミノ)プロパン、(o
−トリル)ビグアニド、ビス[4−(1’,3’−ジメ
チルブチル)フェニル]アミン、tert−オクチル化
N−フェニル−1−ナフチルアミン、モノ−およびジア
ルキル化tert−ブチル/tert−オクチルジフェ
ニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニル
ジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化
ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジア
ルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルアミン
の混合物、モノ−およびジアルキル化tert−ブチル
ジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−3,3
−ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチ
アジン、モノ−およびジアルキル化tert−ブチル/
tert−オクチルフェノチアジン、モノ−およびジア
ルキル化tert−オクチルフェノチアジン、N−アリ
ルフェノチアジン、N,N,N’,N’−テトラフェニ
ル−1,4−ジアミノブテン−2、N,N−ビス(2,
2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−イル)−
ヘキサメチレンジアミン,セバシン酸ビス(2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オン、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール。
【0117】2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1.2−( 2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾール類、 例えば、2−( 2′−ヒドロキシ−5′−
メチルフェニル) ベンゾトリアゾール、2−(3′,
5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニ
ル) ベンゾトリアゾール、2−( 5′−tert−ブチ
ル−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、
2−( 2′−ヒドロキシ−5′−(1,1,3,3−テ
トラメチルブチル) フェニル) ベンゾトリアゾール、2
−( 3′,5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロ
キシフェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2
−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′
−メチル−フェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾー
ル、2−( 3′−sec−ブチル−5′−tert−ブ
チル−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾー
ル、2−( 2′−ヒドロキシ−4′−オクチルオキシ−
フェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′,5′−ジ
−tert−アミル−2′−ヒドロキシフェニル) ベン
ゾトリアゾール、2−( 3′,5′−ビス(α,α−ジ
メチルベンジル)−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾ
トリアゾール、2−( 3′−tert−ブチル−2′−
ヒドロキシ−5′−(2−オクチルカルボニルエチル)
フェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(
3′−tert−ブチル−5′−[2−(2−エチルヘ
キシルオキシ)−カルボニルエチル]−2′−ヒドロキ
シフェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−
( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−
(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル) −5−ク
ロロ−ベンゾトリアゾール、2−( 3′−tert−ブ
チル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボ
ニルエチル)フェニル) ベンゾトリアゾール、2−(
3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−
(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル) ベ
ンゾトリアゾール、2−( 3′−tert−ブチル−
5′−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)−カルボニ
ルエチル]−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリア
ゾール、2−( 3′−ドデシル−2′−ヒドロキシ−
5′−メチルフェニル) ベンゾトリアゾールおよび2−
( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−
(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニ
ル) ベンゾトリアゾール、2,2′−メチレン−ビス
[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−
ベンゾトリアゾール−2−イル−フェノール];ポリエ
チレングリコール300との2−[3′−tert−ブ
チル−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′
−ヒドロキシ−フェニル]−2H−ベンズトリアゾール
のエステル交換生成物;[R−CH2 CH2 −COO
(CH2 CH2 −]2(式中、R=3′−tert−ブ
チル−4′−ヒドロキシ−5′−2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル−フェニル)、2−[2’−ヒドロキシ
−3’−(α,α−ジメチルベンジル)−5’−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−フェニル]ベンゾ
トリアゾール;2−[2’−ヒドロキシ−3’−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−5’−(α,α−
ジメチルベンジル)−フェニル]ベンゾトリアゾール。
アゾール類、 例えば、2−( 2′−ヒドロキシ−5′−
メチルフェニル) ベンゾトリアゾール、2−(3′,
5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニ
ル) ベンゾトリアゾール、2−( 5′−tert−ブチ
ル−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、
2−( 2′−ヒドロキシ−5′−(1,1,3,3−テ
トラメチルブチル) フェニル) ベンゾトリアゾール、2
−( 3′,5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロ
キシフェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2
−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′
−メチル−フェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾー
ル、2−( 3′−sec−ブチル−5′−tert−ブ
チル−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾー
ル、2−( 2′−ヒドロキシ−4′−オクチルオキシ−
フェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′,5′−ジ
−tert−アミル−2′−ヒドロキシフェニル) ベン
ゾトリアゾール、2−( 3′,5′−ビス(α,α−ジ
メチルベンジル)−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾ
トリアゾール、2−( 3′−tert−ブチル−2′−
ヒドロキシ−5′−(2−オクチルカルボニルエチル)
フェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(
3′−tert−ブチル−5′−[2−(2−エチルヘ
キシルオキシ)−カルボニルエチル]−2′−ヒドロキ
シフェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−
( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−
(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル) −5−ク
ロロ−ベンゾトリアゾール、2−( 3′−tert−ブ
チル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボ
ニルエチル)フェニル) ベンゾトリアゾール、2−(
3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−
(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル) ベ
ンゾトリアゾール、2−( 3′−tert−ブチル−
5′−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)−カルボニ
ルエチル]−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリア
ゾール、2−( 3′−ドデシル−2′−ヒドロキシ−
5′−メチルフェニル) ベンゾトリアゾールおよび2−
( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−
(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニ
ル) ベンゾトリアゾール、2,2′−メチレン−ビス
[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−
ベンゾトリアゾール−2−イル−フェノール];ポリエ
チレングリコール300との2−[3′−tert−ブ
チル−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′
−ヒドロキシ−フェニル]−2H−ベンズトリアゾール
のエステル交換生成物;[R−CH2 CH2 −COO
(CH2 CH2 −]2(式中、R=3′−tert−ブ
チル−4′−ヒドロキシ−5′−2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル−フェニル)、2−[2’−ヒドロキシ
−3’−(α,α−ジメチルベンジル)−5’−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−フェニル]ベンゾ
トリアゾール;2−[2’−ヒドロキシ−3’−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−5’−(α,α−
ジメチルベンジル)−フェニル]ベンゾトリアゾール。
【0118】2.2.2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン
類、例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オ
クチルオキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオ
キシ−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリ
ヒドロキシ−および2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメ
トキシ誘導体。
類、例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オ
クチルオキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオ
キシ−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリ
ヒドロキシ−および2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメ
トキシ誘導体。
【0119】2.3.置換されたおよび非置換安息香酸
のエステル類、例えばサリチル酸4−tert−ブチル
フェニル、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチルフ
ェニル、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−te
rt−ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、3,5−ジ−tert−ブチル−4−
ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ−tert−ブチルフェ
ニル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
安息香酸ヘキサデシル、3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシ安息香酸オクタデシル、3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2−メチル
−4,6−ジ−tert−ブチルフェニル。
のエステル類、例えばサリチル酸4−tert−ブチル
フェニル、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチルフ
ェニル、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−te
rt−ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、3,5−ジ−tert−ブチル−4−
ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ−tert−ブチルフェ
ニル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
安息香酸ヘキサデシル、3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシ安息香酸オクタデシル、3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2−メチル
−4,6−ジ−tert−ブチルフェニル。
【0120】2.4.アクリレート類、、例えばα−シ
アノ−β, β−ジフェニルアクリル酸エチル、α−シア
ノ−β, β−ジフェニルアクリル酸イソオクチル、α−
カルボメトキシ−桂皮酸メチル、α−シアノ−β−メチ
ル−p−メトキシ桂皮酸メチル、α−シアノ−β−メチ
ル−p−メトキシ桂皮酸ブチル、α−カルボメトキシ−
p −メトキシ桂皮酸メチル、およびN−(β−カルボメ
トキシ−β−シアノビニル) −2−メチルインドリン。
アノ−β, β−ジフェニルアクリル酸エチル、α−シア
ノ−β, β−ジフェニルアクリル酸イソオクチル、α−
カルボメトキシ−桂皮酸メチル、α−シアノ−β−メチ
ル−p−メトキシ桂皮酸メチル、α−シアノ−β−メチ
ル−p−メトキシ桂皮酸ブチル、α−カルボメトキシ−
p −メトキシ桂皮酸メチル、およびN−(β−カルボメ
トキシ−β−シアノビニル) −2−メチルインドリン。
【0121】2.5.ニッケル化合物、例えば2,2′
−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブ
チル) −フェノール]のニッケル錯体、例えば1:1ま
たは1:2錯体であって、所望によりn−ブチルアミ
ン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシル
−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の;ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスホン
酸モノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエ
ステルのニッケル塩、2−ヒドロキシ−4−メチル−フ
ェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシムのニッ
ケル錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロ
キシピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他
の配位子を伴うもの。
−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブ
チル) −フェノール]のニッケル錯体、例えば1:1ま
たは1:2錯体であって、所望によりn−ブチルアミ
ン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシル
−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の;ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスホン
酸モノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエ
ステルのニッケル塩、2−ヒドロキシ−4−メチル−フ
ェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシムのニッ
ケル錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロ
キシピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他
の配位子を伴うもの。
【0122】2.6.立体障害性アミン、例えばセバシ
ン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル)、コハク酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジル)、セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペ
ンタメチルピペリジル)、セバシン酸ビス(1−オクチ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)、n−ブチル−3,5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシベンジルマロン酸=ビス(1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジル)、1−(2−ヒドロ
キシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒ
ドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、N,
N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)ヘキサメチレンジアミンと4−tert−オク
チルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジ
ンとの線状または環状縮合生成物、ニトリロトリ酢酸ト
リス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸テトラ
キス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)、1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス
(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−
ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、
ン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル)、コハク酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジル)、セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペ
ンタメチルピペリジル)、セバシン酸ビス(1−オクチ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)、n−ブチル−3,5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシベンジルマロン酸=ビス(1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジル)、1−(2−ヒドロ
キシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒ
ドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、N,
N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)ヘキサメチレンジアミンと4−tert−オク
チルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジ
ンとの線状または環状縮合生成物、ニトリロトリ酢酸ト
リス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸テトラ
キス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)、1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス
(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−
ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、
【0123】2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−
3,5−ジ−tert−ブチルベンジル)マロン酸=ビ
ス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)、
3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−
1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4
−ジオン、セバシン酸ビス(1−オクチルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジル)、コハク酸ビス
(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル)、N,N′−ビス(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと
4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリ
アジンとの線状または環状縮合生成物、2−クロロ−
4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと
1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの
縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチル
アミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−ア
ミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセ
チル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−
1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4
−ジオン、
3,5−ジ−tert−ブチルベンジル)マロン酸=ビ
ス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)、
3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−
1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4
−ジオン、セバシン酸ビス(1−オクチルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジル)、コハク酸ビス
(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル)、N,N′−ビス(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと
4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリ
アジンとの線状または環状縮合生成物、2−クロロ−
4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと
1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの
縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチル
アミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−ア
ミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセ
チル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−
1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4
−ジオン、
【0124】3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジ
オン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオ
ン、4−ヘキサデシルオキシ−および4−ステアリルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの混合
物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−シクロ
ヘキシルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリ
アジンの縮合生成物、1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンと2,4,6−トリクロロ−1,3,
5−トリアジンの縮合生成物並びに4−ブチルアミノ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(CAS,R
eg.No.[136504─96─6]); N−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−
n−ドデシルコハク酸イミド、N−(1,2,2,6,
6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルコ
ハク酸イミド、2−ウンデシル−7,7,9,9−テト
ラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ[4,5]デカン、
トラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジ
オン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオ
ン、4−ヘキサデシルオキシ−および4−ステアリルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの混合
物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−シクロ
ヘキシルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリ
アジンの縮合生成物、1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンと2,4,6−トリクロロ−1,3,
5−トリアジンの縮合生成物並びに4−ブチルアミノ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(CAS,R
eg.No.[136504─96─6]); N−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−
n−ドデシルコハク酸イミド、N−(1,2,2,6,
6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルコ
ハク酸イミド、2−ウンデシル−7,7,9,9−テト
ラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ[4,5]デカン、
【0125】7,7,9,9−テトラメチル−2−シク
ロウンデシル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキ
ソスピロ[4,5]デカンとエピクロルヒドリンの反応
生成物、1,1−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジルオキシカルボニル)−2−(4−
メトキシフェニル)エテン、N,N’−ビス−ホルミル
−N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミン、1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ヒドロキシピペリジンとの
4−メトキシメチレンマロン酸のジエステル、ポリ[メ
チルプロピル−3−オキシ−4−(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジル)]シロキサン、無水マレ
イン酸−α−オレフィン・コポリマーと2,2,6,6
−テトラメチル−4−アミノピペリジン又は1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−アミノピペリジンとの
反応生成物。
ロウンデシル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキ
ソスピロ[4,5]デカンとエピクロルヒドリンの反応
生成物、1,1−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジルオキシカルボニル)−2−(4−
メトキシフェニル)エテン、N,N’−ビス−ホルミル
−N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミン、1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ヒドロキシピペリジンとの
4−メトキシメチレンマロン酸のジエステル、ポリ[メ
チルプロピル−3−オキシ−4−(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジル)]シロキサン、無水マレ
イン酸−α−オレフィン・コポリマーと2,2,6,6
−テトラメチル−4−アミノピペリジン又は1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−アミノピペリジンとの
反応生成物。
【0126】2.7.シュウ酸ジアミド類、、例えば、
4,4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2’
−ジエトキシオキサニリド、2,2′−ジ−オクチルオ
キシ−5,5′−ジ−tert−ブチルオキサニリド、
2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−ter
t−ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプ
ロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−tert−ブ
チル−2′−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−
エトキシ−2′−エチル−5,4′−ジ−tert−ブ
チル−オキサニリドとの混合物、およびo−およびp−
メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、およびo−お
よびp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
4,4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2’
−ジエトキシオキサニリド、2,2′−ジ−オクチルオ
キシ−5,5′−ジ−tert−ブチルオキサニリド、
2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−ter
t−ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプ
ロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−tert−ブ
チル−2′−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−
エトキシ−2′−エチル−5,4′−ジ−tert−ブ
チル−オキサニリドとの混合物、およびo−およびp−
メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、およびo−お
よびp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【0127】2.8.2−(2−ヒドロキシフェニル)
−1,3,5−トリアジン、例えば2,4,6−トリス
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル) −
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェ
ニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−
(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロピルオキ
シ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−
1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−
(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロピルオキ
シ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−
1,3,5−トリアジン、2−[4−(ドデシルオキシ
/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2
−ヒドロキシ−フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2
−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオ
キシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ−プ
ロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチ
ルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒ
ドロキシ−4−ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−ジ
フェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロ
キシ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−
1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス[2−ヒ
ドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシ−プロ
ポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、2−
(2−ヒドロキシフェニル)−4−(4−メトキシフェ
ニル)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン、2−
{2−ヒドロキシ−4−[3−(2−エチルヘキシル−
1−オキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ]フェニ
ル}−4、6−ビス(2、4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン。
−1,3,5−トリアジン、例えば2,4,6−トリス
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル) −
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェ
ニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−
(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロピルオキ
シ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−
1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−
(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロピルオキ
シ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−
1,3,5−トリアジン、2−[4−(ドデシルオキシ
/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2
−ヒドロキシ−フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2
−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオ
キシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ−プ
ロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチ
ルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒ
ドロキシ−4−ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−ジ
フェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロ
キシ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−
1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス[2−ヒ
ドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシ−プロ
ポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、2−
(2−ヒドロキシフェニル)−4−(4−メトキシフェ
ニル)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン、2−
{2−ヒドロキシ−4−[3−(2−エチルヘキシル−
1−オキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ]フェニ
ル}−4、6−ビス(2、4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン。
【0128】3.金属不活性化剤、例えばN,N′−ジ
フェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N′−サ
リチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒ
ドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリ
アゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジ
ッド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバ
シン酸ビスフェニルヒドラジド、N,N′−ジアセチル
−アジピン酸ジヒドラジド、N,N′−ビスサリチロイ
ル−シュウ酸ジヒドラジド、N,N′−ビス(サリチロ
イル)チオプロピオン酸ジヒドラジド。
フェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N′−サ
リチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒ
ドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリ
アゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジ
ッド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバ
シン酸ビスフェニルヒドラジド、N,N′−ジアセチル
−アジピン酸ジヒドラジド、N,N′−ビスサリチロイ
ル−シュウ酸ジヒドラジド、N,N′−ビス(サリチロ
イル)チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【0129】4.亜リン酸エステル類およびホスホナイ
ト類、例えば亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニ
ル=アルキル、亜リン酸フェニル=ジアルキル、亜リン
酸トリス(ノニルフェニル)、亜リン酸トリラウリル、
亜リン酸トリオクタデシル、ジステアリル=ペンタエリ
トリトール=ジホスフィット、亜リン酸トリス(2,4
−ジ−tert−ブチルフェニル)、ジイソデシル=ペ
ンタエリトリトール=ジホスフィット、ビス(2,4−
ジ−tert−ブチルフェニル)=ペンタエリトリトー
ル=ジホスフィット、ビス(2,6−ジ−tert−ブ
チル−4−メチルフェニル)=ペンタエリトリトール=
ジホスフィット、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリ
スリトール=ジホスフィット、ビス(2,4−ジ−te
rt−ブチル−6−メチルフェニル)=ペンタエリスリ
トール=ジホスフィット、ビス(2,4,6−トリ−t
ert−ブチルフェニル)=ペンタエリスリトール=ジ
ホスフィット、トリステアリル=ソルビトール=トリホ
スフィット、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチ
ルフェニル)=4,4′−ビフェニレン=ジホスホナイ
ト、6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テト
ラ−tert−ブチル−12H−ジベンズ[d,g]−
1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フルオロ−2,
4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12−メチ
ル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホ
シン、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチ
ルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ−
tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフ
ィット、2,2’,2" −ニトリロ[トリエチルトリス
(3,3’,5,5’−テトラ−tert−ブチル−
1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ホスフィッ
ト]、2−エチルヘキシル(3,3’,5,5’−テト
ラ−tert−ブチル−1,1’−ビフェニル−2,
2’−ジイル)ホスフィット。
ト類、例えば亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニ
ル=アルキル、亜リン酸フェニル=ジアルキル、亜リン
酸トリス(ノニルフェニル)、亜リン酸トリラウリル、
亜リン酸トリオクタデシル、ジステアリル=ペンタエリ
トリトール=ジホスフィット、亜リン酸トリス(2,4
−ジ−tert−ブチルフェニル)、ジイソデシル=ペ
ンタエリトリトール=ジホスフィット、ビス(2,4−
ジ−tert−ブチルフェニル)=ペンタエリトリトー
ル=ジホスフィット、ビス(2,6−ジ−tert−ブ
チル−4−メチルフェニル)=ペンタエリトリトール=
ジホスフィット、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリ
スリトール=ジホスフィット、ビス(2,4−ジ−te
rt−ブチル−6−メチルフェニル)=ペンタエリスリ
トール=ジホスフィット、ビス(2,4,6−トリ−t
ert−ブチルフェニル)=ペンタエリスリトール=ジ
ホスフィット、トリステアリル=ソルビトール=トリホ
スフィット、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチ
ルフェニル)=4,4′−ビフェニレン=ジホスホナイ
ト、6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テト
ラ−tert−ブチル−12H−ジベンズ[d,g]−
1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フルオロ−2,
4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12−メチ
ル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホ
シン、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチ
ルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ−
tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフ
ィット、2,2’,2" −ニトリロ[トリエチルトリス
(3,3’,5,5’−テトラ−tert−ブチル−
1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ホスフィッ
ト]、2−エチルヘキシル(3,3’,5,5’−テト
ラ−tert−ブチル−1,1’−ビフェニル−2,
2’−ジイル)ホスフィット。
【0130]特に好まし
いのは、下記のホスフィットである:トリス(2,4−
ジ−tert−ブチルフェニル)ホスフィット((登録
商標)Irgafos168,チバ−ガイギー)、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、 【0131】
いのは、下記のホスフィットである:トリス(2,4−
ジ−tert−ブチルフェニル)ホスフィット((登録
商標)Irgafos168,チバ−ガイギー)、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、 【0131】
【化26】
【0132】
【化27】
【0133】5.ヒドロキシルアミン、例えばN,N−
ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒド
ロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキシルアミ
ン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N−
ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサ
デシルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクタデシルヒ
ドロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシ
ルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタ
デシルヒドロキシルアミン、水素化獣脂アミンから誘導
したN,N−ジアルキルヒドロキシルアミン。
ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒド
ロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキシルアミ
ン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N−
ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサ
デシルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクタデシルヒ
ドロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシ
ルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタ
デシルヒドロキシルアミン、水素化獣脂アミンから誘導
したN,N−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【0134】6.ニトロン類、例えばN−ベンジル−α
−フェニルニトロン、N−エチル−α−メチルニトロ
ン、N−オクチル−α−ヘプチルニトロン、N−ラウリ
ル−α−ウンデシルニトロン、N−テトラデシル−α−
トリデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ペンタデ
シルニトロン、N−オクタデシル−α−ヘプタデシルニ
トロン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロ
ン、N−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、N
−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−オク
タデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化した獣脂
から誘導したN,N−ジアルキルヒドロキシルアミンか
ら誘導されたニトロン。
−フェニルニトロン、N−エチル−α−メチルニトロ
ン、N−オクチル−α−ヘプチルニトロン、N−ラウリ
ル−α−ウンデシルニトロン、N−テトラデシル−α−
トリデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ペンタデ
シルニトロン、N−オクタデシル−α−ヘプタデシルニ
トロン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロ
ン、N−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、N
−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−オク
タデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化した獣脂
から誘導したN,N−ジアルキルヒドロキシルアミンか
ら誘導されたニトロン。
【0135】7.チオ相乗剤(thiosynergists)、例え
ば、チオジプロピオン酸ジラウリルまたはチオジプロピ
オン酸ジステアリル。
ば、チオジプロピオン酸ジラウリルまたはチオジプロピ
オン酸ジステアリル。
【0136】8. 過酸化物スカベンジャー、例えば、
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリ
トール=テトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピ
オネート。
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリ
トール=テトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピ
オネート。
【0137】9.ポリアミド安定剤、例えば、ヨウ化物
および/またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
および/またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
【0138】10. 塩基性補助安定剤、例えば、メラ
ミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリ
アリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、
アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアル
カリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリ
ン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシ
ウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリ
ウムおよびパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸ア
ンチモン、またはピロカテコール酸亜鉛。
ミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリ
アリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、
アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアル
カリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリ
ン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシ
ウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリ
ウムおよびパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸ア
ンチモン、またはピロカテコール酸亜鉛。
【0139】11. 核剤、例えば、無機物質、例えば
タルク、二酸化チタンまたは酸化マグネシウムのような
金属酸化物; 好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、
炭酸塩または硫酸塩のようなもの; モノ−またはポリカ
ルボン酸またはそれらの塩の有機化合物、例えば4−t
ert−ブチル安息香酸、アジピン酸およびジフェニル
酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム;
イオン性コポリマー(イオノマー)のような高分子化合
物。
タルク、二酸化チタンまたは酸化マグネシウムのような
金属酸化物; 好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、
炭酸塩または硫酸塩のようなもの; モノ−またはポリカ
ルボン酸またはそれらの塩の有機化合物、例えば4−t
ert−ブチル安息香酸、アジピン酸およびジフェニル
酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム;
イオン性コポリマー(イオノマー)のような高分子化合
物。
【0140】12. 充填剤および強化剤、例えば炭酸
カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球(glass b
ulbs) 、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バ
リウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック
およびグラファイト、木細粉と他の天然産品の細粉と繊
維、合成繊維。
カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球(glass b
ulbs) 、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バ
リウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック
およびグラファイト、木細粉と他の天然産品の細粉と繊
維、合成繊維。
【0141】13.他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑
剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調節
剤、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。
剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調節
剤、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。
【0142】14.ベンゾフラノン類とインドリノン
類、例えばUS−A−4325863;US−A−43
38244;US−A−5175312;US−A−5
216052;US−A−5252643;DE−A−
4316611;DE−A−4316622;DE−A
−4316876;EP−A−0589839またはE
P−A−0591102に開示されているそれらまたは
は3−[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−
5,7−ジ−tert−ブチル−ベンゾフラン−2−オ
ン、5,7−ジ−tert−ブチル−3−[4−(2−
ステアロイルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン
−2−オン、3,3′−ビス[5,7−ジ−tert−
ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニ
ル)ベンゾフラン−2−オン]、5,7−ジ−tert
−ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラン
−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチル
フェニル)−5,7−ジ−tert−ブチル−ベンゾフ
ラン−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロ
イルオキシフェニル)−5,7−ジ−tert−ブチル
ベンゾフラン−2−オン、3−(3,4−ジメチルフェ
ニル)−5,7−ジ−tert−ブチル−ベンゾフラン
−2−オン、3−(2,3−ジ−メチルフェニル)−
5,7−ジ−tert−ブチル−ベンゾフラン−2−オ
ン。
類、例えばUS−A−4325863;US−A−43
38244;US−A−5175312;US−A−5
216052;US−A−5252643;DE−A−
4316611;DE−A−4316622;DE−A
−4316876;EP−A−0589839またはE
P−A−0591102に開示されているそれらまたは
は3−[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−
5,7−ジ−tert−ブチル−ベンゾフラン−2−オ
ン、5,7−ジ−tert−ブチル−3−[4−(2−
ステアロイルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン
−2−オン、3,3′−ビス[5,7−ジ−tert−
ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニ
ル)ベンゾフラン−2−オン]、5,7−ジ−tert
−ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラン
−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチル
フェニル)−5,7−ジ−tert−ブチル−ベンゾフ
ラン−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロ
イルオキシフェニル)−5,7−ジ−tert−ブチル
ベンゾフラン−2−オン、3−(3,4−ジメチルフェ
ニル)−5,7−ジ−tert−ブチル−ベンゾフラン
−2−オン、3−(2,3−ジ−メチルフェニル)−
5,7−ジ−tert−ブチル−ベンゾフラン−2−オ
ン。
【0143】これらの追加の添加剤は、安定化されるポ
リマーを基準にして0.1ないし10、例えば0.2な
いし5重量%の範囲の濃度で都合よく使用される。
リマーを基準にして0.1ないし10、例えば0.2な
いし5重量%の範囲の濃度で都合よく使用される。
【0144】
【実施例】本発明を下記の実施例により説明する。実施
例、発明の詳細な説明のその他の記載と特許請求の範囲
の全てにおける部とパーセント(%)は、特に記載のな
い限り重量による。実施例では下記の略号が使用され
る: ax:アキシアル(axial) CDCl3 :重クロロホルム eq:エクアトリアル(equatorial)1 H−NMR:核種 1Hの核磁気共鳴 MALDI−MS:マトリックス援助レーザ脱離/イオ
ン化−質量分析 Mn :相対分子質量(relativ molecul
ar mass)の数平均(単位、g/モル) Mw :相対分子質量の質量平均(単位、g/モル) PEG:ポリエチレングリコール(600) THF:テトラヒドロフラン
例、発明の詳細な説明のその他の記載と特許請求の範囲
の全てにおける部とパーセント(%)は、特に記載のな
い限り重量による。実施例では下記の略号が使用され
る: ax:アキシアル(axial) CDCl3 :重クロロホルム eq:エクアトリアル(equatorial)1 H−NMR:核種 1Hの核磁気共鳴 MALDI−MS:マトリックス援助レーザ脱離/イオ
ン化−質量分析 Mn :相対分子質量(relativ molecul
ar mass)の数平均(単位、g/モル) Mw :相対分子質量の質量平均(単位、g/モル) PEG:ポリエチレングリコール(600) THF:テトラヒドロフラン
【0145】実施例1:PEG−ジ酸−ビス(3,3,
5,5−テトラメチルピペリジニルアミド) PEG−ジ酸60g(0.1モル)と4−アミノ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン32g(0.2モ
ル)を不活性ガス下で180℃に加熱する。混合物をこ
の温度で約5時間反応させ、反応の間に生成する水を蒸
留ヘッドを通して蒸留して取る。次いで混合物を室温に
冷却し、反応生成物を完全にクロロホルムに溶解する。
有機相を、水酸化ナトリウムの食塩飽和溶液で洗浄す
る。次いで有機相を硫酸ナトリウムで乾燥しそして溶媒
をロータリエバポレータ中で留去する。次いで、残留し
た残留分の溶媒を高真空下、90℃で留去する。これに
より、水に非常に高溶解性の粘稠液体60g(理論の7
5%)を得る。
5,5−テトラメチルピペリジニルアミド) PEG−ジ酸60g(0.1モル)と4−アミノ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン32g(0.2モ
ル)を不活性ガス下で180℃に加熱する。混合物をこ
の温度で約5時間反応させ、反応の間に生成する水を蒸
留ヘッドを通して蒸留して取る。次いで混合物を室温に
冷却し、反応生成物を完全にクロロホルムに溶解する。
有機相を、水酸化ナトリウムの食塩飽和溶液で洗浄す
る。次いで有機相を硫酸ナトリウムで乾燥しそして溶媒
をロータリエバポレータ中で留去する。次いで、残留し
た残留分の溶媒を高真空下、90℃で留去する。これに
より、水に非常に高溶解性の粘稠液体60g(理論の7
5%)を得る。
【0146】
【表1】
【0147】
【表2】
【0148】実施例2:PEG−ジ酸−ビス(3,3,
4,5,5−ペンタメチルピペリジニルアミド) PEG−ジ酸110g(183ミリモル)と4−アミノ
−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン70g
(412ミリモル)を実施例1に記載のとおり反応させ
次いで後処理する。これにより、水に非常に高溶解性の
粘稠液体105g(理論の58%)を得る。
4,5,5−ペンタメチルピペリジニルアミド) PEG−ジ酸110g(183ミリモル)と4−アミノ
−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン70g
(412ミリモル)を実施例1に記載のとおり反応させ
次いで後処理する。これにより、水に非常に高溶解性の
粘稠液体105g(理論の58%)を得る。
【0149】
【表3】
【0150】
【表4】
【0151】実施例3:PEG−ジ酸−ビス(3,3,
4,5,5−ペンタメチルピペリジン−1−イルエステ
ル) 3a)PEG−ジ酸ジメチルエステル 磁気攪拌機と還流凝縮器を備えた1リットルの丸底フラ
スコ中で、PEG−ジ酸300g(0.5モル)を、ア
ルゴン下、メタノール300mlに溶解する。濃硫酸1
0mlを添加後、この溶液を一夜還流する。室温に冷却
後、溶液を氷上に注ぐ。クロロホルムで抽出し、有機相
を水酸化ナトリウムの食塩飽和溶液で洗浄する。有機相
を乾燥し次いで溶媒を完全に除く。これにより、清澄な
粘稠液体250g(理論の83%)を得る。
4,5,5−ペンタメチルピペリジン−1−イルエステ
ル) 3a)PEG−ジ酸ジメチルエステル 磁気攪拌機と還流凝縮器を備えた1リットルの丸底フラ
スコ中で、PEG−ジ酸300g(0.5モル)を、ア
ルゴン下、メタノール300mlに溶解する。濃硫酸1
0mlを添加後、この溶液を一夜還流する。室温に冷却
後、溶液を氷上に注ぐ。クロロホルムで抽出し、有機相
を水酸化ナトリウムの食塩飽和溶液で洗浄する。有機相
を乾燥し次いで溶媒を完全に除く。これにより、清澄な
粘稠液体250g(理論の83%)を得る。
【0152】
【表5】
【0153】
【表6】
【0154】3b)PEG−ジ酸−ビス(3,3,4,
5,5−ペンタメチルピペリジン−1−イルエステル) 磁気攪拌機と蒸留ヘッドを備えた1リットルの丸底フラ
スコに、アルゴン下、3a)で製造したジメチルエステ
ル120g(0.2モル)、4−ヒドロキシ−1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジン69g(0.4モ
ル)、ジブチル錫オキシド7gとキシレン600mlを
入れる。140℃に加熱した後、メタノールが最早留出
しなくなるまで、溶液をこの温度に維持する。次いで加
熱をキシレンもゆっくり留出するように強める。蒸留に
より、約100mlのキシレンを留去した後、混合物を
室温に冷却しそして残留溶媒をロータリエバポレータ中
で留去する。残留分をクロロホルムに採り、有機相を水
酸化ナトリウムの食塩飽和溶液で洗浄する。有機相を乾
燥し、濾過し次いで溶媒をロータリエバポレータ中で留
去する。これにより、粘稠液体100g(理論の60
%)を得る。
5,5−ペンタメチルピペリジン−1−イルエステル) 磁気攪拌機と蒸留ヘッドを備えた1リットルの丸底フラ
スコに、アルゴン下、3a)で製造したジメチルエステ
ル120g(0.2モル)、4−ヒドロキシ−1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジン69g(0.4モ
ル)、ジブチル錫オキシド7gとキシレン600mlを
入れる。140℃に加熱した後、メタノールが最早留出
しなくなるまで、溶液をこの温度に維持する。次いで加
熱をキシレンもゆっくり留出するように強める。蒸留に
より、約100mlのキシレンを留去した後、混合物を
室温に冷却しそして残留溶媒をロータリエバポレータ中
で留去する。残留分をクロロホルムに採り、有機相を水
酸化ナトリウムの食塩飽和溶液で洗浄する。有機相を乾
燥し、濾過し次いで溶媒をロータリエバポレータ中で留
去する。これにより、粘稠液体100g(理論の60
%)を得る。
【0155】
【表7】
【0156】
【表8】
【0157】実施例4:PEG−ジ酸−ビス[ジ(3,
3,4,5,5−ペンタメチルピペリジニル)アミド] 4a)PEG−ジ酸ジクロライド 無水のPEG−ジ酸90g(0.15モル)をクロロホ
ルム300mlに溶解しそして塩化チオニル150gと
共に入れる。この溶液をSO2 の発生が最早認められる
なくなるまで(約2時間後)還流する。反応溶液を室温
に冷却し、次いで、過剰の塩化チオニルと溶媒をロータ
リエバポレータ中で蒸留により除く。次いで残留分を高
真空下、室温で乾燥する。これにより、98g(理論の
100%)を得る。
3,4,5,5−ペンタメチルピペリジニル)アミド] 4a)PEG−ジ酸ジクロライド 無水のPEG−ジ酸90g(0.15モル)をクロロホ
ルム300mlに溶解しそして塩化チオニル150gと
共に入れる。この溶液をSO2 の発生が最早認められる
なくなるまで(約2時間後)還流する。反応溶液を室温
に冷却し、次いで、過剰の塩化チオニルと溶媒をロータ
リエバポレータ中で蒸留により除く。次いで残留分を高
真空下、室温で乾燥する。これにより、98g(理論の
100%)を得る。
【0158】
【表9】
【0159】4b)PEG−ジ酸−ビス[ジ(3,3,
4,5,5−ペンタメチルピペリジニル)アミド] KPG攪拌機、滴下ロートと内部温度計を備えた750
mlのスルホン化フラスコ中で、4a)で製造したPE
G−ジ酸ジクロライド30g(46ミリモル)を、アル
ゴン下、クロロホルム150mlに溶解する。滴下ロー
トに、クロロホルム150ml中のジ(3,3,4,
5,5−ペンタメチルピペリジニル)アミン30g(9
2ミリモル)からなる溶液を入れる。上記アミンを≦1
0℃でゆっくりと滴下する。次いで混合物を一夜反応さ
せる。次いで、透明液を氷冷した50%水酸化ナトリウ
ム溶液20ml上に注ぎ、そして有機相を振って抽出す
る。有機相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥しそして溶
媒を留去する。残留分を50℃で高真空下乾燥する。こ
れにより、粘稠液体102g(理論の90%)を得る。
4,5,5−ペンタメチルピペリジニル)アミド] KPG攪拌機、滴下ロートと内部温度計を備えた750
mlのスルホン化フラスコ中で、4a)で製造したPE
G−ジ酸ジクロライド30g(46ミリモル)を、アル
ゴン下、クロロホルム150mlに溶解する。滴下ロー
トに、クロロホルム150ml中のジ(3,3,4,
5,5−ペンタメチルピペリジニル)アミン30g(9
2ミリモル)からなる溶液を入れる。上記アミンを≦1
0℃でゆっくりと滴下する。次いで混合物を一夜反応さ
せる。次いで、透明液を氷冷した50%水酸化ナトリウ
ム溶液20ml上に注ぎ、そして有機相を振って抽出す
る。有機相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥しそして溶
媒を留去する。残留分を50℃で高真空下乾燥する。こ
れにより、粘稠液体102g(理論の90%)を得る。
【0160】
【表10】
【0161】
【表11】
【0162】実施例5:PEG−ジ酸−ビス[ジ(3,
3,5,5−テトラメチルピペリジニル)アミド] KPG攪拌機、内部温度計と滴下ロートを備えた1.5
リットルのスルホン化フラスコ中で、実施例4a)で製
造したPEG−ジ酸ジクロライド60g(92ミリモ
ル)を、テトラヒドロフラン400mlに溶解する。こ
の溶液をアルゴン下0℃に冷却する。滴下ロートに、テ
トラヒドロフラン200ml中のビス(3,3,5,5
−テトラメチルピペリジニル)アミン54g(195ミ
リモル)からなる溶液を入れる。この溶液を反応フラス
コに、フラスコ中の温度が≦10℃であるようにゆっく
りと滴下する。滴下完了後、攪拌を一夜室温で続ける。
濃厚な懸濁液を、氷と水酸化ナトリウム15gの溶液に
添加する。得られた溶液を塩化ナトリウムで飽和しそし
てクロロホルム500mlで抽出する。有機相を分離
し、硫酸ナトリウムで乾燥しそして蒸発して濃縮する。
残留分を高真空下で乾燥する。これにより、粘稠液体8
1g(理論の35%)を得る。
3,5,5−テトラメチルピペリジニル)アミド] KPG攪拌機、内部温度計と滴下ロートを備えた1.5
リットルのスルホン化フラスコ中で、実施例4a)で製
造したPEG−ジ酸ジクロライド60g(92ミリモ
ル)を、テトラヒドロフラン400mlに溶解する。こ
の溶液をアルゴン下0℃に冷却する。滴下ロートに、テ
トラヒドロフラン200ml中のビス(3,3,5,5
−テトラメチルピペリジニル)アミン54g(195ミ
リモル)からなる溶液を入れる。この溶液を反応フラス
コに、フラスコ中の温度が≦10℃であるようにゆっく
りと滴下する。滴下完了後、攪拌を一夜室温で続ける。
濃厚な懸濁液を、氷と水酸化ナトリウム15gの溶液に
添加する。得られた溶液を塩化ナトリウムで飽和しそし
てクロロホルム500mlで抽出する。有機相を分離
し、硫酸ナトリウムで乾燥しそして蒸発して濃縮する。
残留分を高真空下で乾燥する。これにより、粘稠液体8
1g(理論の35%)を得る。
【0163】
【表12】
【0164】
【表13】
【0165】実施例A1:ポリプロピレン繊維の光安定
化 亜リン酸トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニ
ル)1g、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルホスホン酸モノエチルカルシウム1g,ス
テアリン酸カルシウム1g及びTiO2 2.5g(Kr
onos RN 57)と一緒の実施例1の新規の安定
剤2.5gを、ターボ混合機中、ポリプロピレン粉末
(メルトインデックス=12g/10min 、230℃,
2.16kgで測定)1000gと共に、混合する。混
合物を200−230℃で押し出してポリマー粒状物に
し、これを下記の条件で操作するパイロット型装置〔レ
オナルド−スミラゴ(Leonard;Sumirago/VA),イタリー〕
を使用して、繊維に加工する。
化 亜リン酸トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニ
ル)1g、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルホスホン酸モノエチルカルシウム1g,ス
テアリン酸カルシウム1g及びTiO2 2.5g(Kr
onos RN 57)と一緒の実施例1の新規の安定
剤2.5gを、ターボ混合機中、ポリプロピレン粉末
(メルトインデックス=12g/10min 、230℃,
2.16kgで測定)1000gと共に、混合する。混
合物を200−230℃で押し出してポリマー粒状物に
し、これを下記の条件で操作するパイロット型装置〔レ
オナルド−スミラゴ(Leonard;Sumirago/VA),イタリー〕
を使用して、繊維に加工する。
【0166】
【表14】 押出温度 : 190−230℃ 頭部温度 : 255−260℃ 延伸比 : 1:3.5 引出し温度 : 100℃ 繊維 : 10den
【0167】かくして製造した繊維を、ASTM D
2565−85に従って、温度63℃のブラック標準温
度における(登録商標)ウェザロメーター65WR型
(Atlas Corp.)中の白バックグランドに対
して、暴露する。いろいろな暴光時間の後得られる試料
の残留強力を測定する。これらの値を、初期強力を半減
するのに要する暴光時間T50を計算するために使用す
る。比較のために、上述したのと同じ方法で作製した
が、安定剤を添加していない繊維を暴露する。本発明に
従って安定化された繊維は、優れた強度残留を示す。
2565−85に従って、温度63℃のブラック標準温
度における(登録商標)ウェザロメーター65WR型
(Atlas Corp.)中の白バックグランドに対
して、暴露する。いろいろな暴光時間の後得られる試料
の残留強力を測定する。これらの値を、初期強力を半減
するのに要する暴光時間T50を計算するために使用す
る。比較のために、上述したのと同じ方法で作製した
が、安定剤を添加していない繊維を暴露する。本発明に
従って安定化された繊維は、優れた強度残留を示す。
【0168】実施例A2:2層−塗膜ラッカーの安定化 実施例1の新規の安定剤を5−10gのキシレン中に配
合し、下記の組成を持つ透明ワニス中で試験する:
合し、下記の組成を持つ透明ワニス中で試験する:
【表15】 ───────────────────────────────── シンタクリル(Synthacryl)(登録商標)SC3031) 27.51g シンタクリル(Synthacryl)(登録商標)SC3702) 23.34g マプレナル(Maprenal)(登録商標)MF6503) 27.29g 酢酸ブチル/ブタノール(37/8) 4.33g イソブタノール 4.87g ソルベッソ(Solvesso)(登録商標)1504) 2.72g ホワイトスピリットK−305) 8.74g 流れ調節剤Baysil(登録商標) MA6) 1.20g ───────────────────────────────── 100.00g
【0169】1)アクリレート樹脂、ヘキストAGか
ら;キシレン/ブタノール(26:9)中の65%溶液 2)アクリレート樹脂、ヘキストAGから;ソルベッソ
(Solvesso)(登録商標)1004)中の75%溶液 3)メラミン樹脂、ヘキストAGから;イソブタノール
中の55%溶液 4)エッソー製 5)シェル製 6)ソルベッソ(Solvesso)(登録商標)1504)中1
%;バイエルAG製
ら;キシレン/ブタノール(26:9)中の65%溶液 2)アクリレート樹脂、ヘキストAGから;ソルベッソ
(Solvesso)(登録商標)1004)中の75%溶液 3)メラミン樹脂、ヘキストAGから;イソブタノール
中の55%溶液 4)エッソー製 5)シェル製 6)ソルベッソ(Solvesso)(登録商標)1504)中1
%;バイエルAG製
【0170】ワニスの固形分を基準にして試験される実
施例1の安定剤1%を透明ワニスに添加する。光安定剤
を含有しない透明ワニスを比較試料として使用する。
施例1の安定剤1%を透明ワニスに添加する。光安定剤
を含有しない透明ワニスを比較試料として使用する。
【0171】透明ワニスを、散布できる粘度までソルベ
ッソ(Solvesso)(登録商標)100で希釈しそして用意
したアルミニウムシート(コイルコート(coil coat),
充填剤, 銀光沢ベースコート)に塗布しそして130℃
で30分間にわたり焼き付け、透明ワニスの乾燥膜厚4
0−50μmにする。
ッソ(Solvesso)(登録商標)100で希釈しそして用意
したアルミニウムシート(コイルコート(coil coat),
充填剤, 銀光沢ベースコート)に塗布しそして130℃
で30分間にわたり焼き付け、透明ワニスの乾燥膜厚4
0−50μmにする。
【0172】次いで、試料をAtlas Corp.製
の耐候ユニット(登録商標)UVCON(UVB−31
3ランプ)内で、60℃における4時間UV照射と50
℃における4時間凝縮を含む周期で、耐候試験をする。
試料を亀裂について通常の間隔で検査する。新規の安定
剤を含有する試料は、亀裂に対して高い安定性を持つ。
の耐候ユニット(登録商標)UVCON(UVB−31
3ランプ)内で、60℃における4時間UV照射と50
℃における4時間凝縮を含む周期で、耐候試験をする。
試料を亀裂について通常の間隔で検査する。新規の安定
剤を含有する試料は、亀裂に対して高い安定性を持つ。
【0173】実施例A3:写真材料の安定化 式
【化28】 のイエローカップラー0.087gを、酢酸エチル中の
実施例1の新規の安定剤溶液(2.25g/100m
l)2.0mlに溶解する。次いで、この溶液1.0m
lに、pH6.5に調節してありそして式
実施例1の新規の安定剤溶液(2.25g/100m
l)2.0mlに溶解する。次いで、この溶液1.0m
lに、pH6.5に調節してありそして式
【化29】 の湿潤剤1.744g/lを含有する、2.3%水性ゼ
ラチン溶液9.0mlを添加する。
ラチン溶液9.0mlを添加する。
【0174】次いで、かくして得られたカップリング乳
濁液5.0mlに、銀含量6.0g/mlの臭化銀乳濁
液2mlと式
濁液5.0mlに、銀含量6.0g/mlの臭化銀乳濁
液2mlと式
【化30】 の硬化剤の0.7%水性溶液1.0mlを添加し、し、
次いでこの混合物を、プラスチック材で被覆した13×
18cm紙上に注ぐ。7日の硬化時間の後、試料に、銀
ステップウェッジの後ろから125ルックスで照射し、
次いでコダックのEktaprint2(登録商標)現
像(液)により現像する。
次いでこの混合物を、プラスチック材で被覆した13×
18cm紙上に注ぐ。7日の硬化時間の後、試料に、銀
ステップウェッジの後ろから125ルックスで照射し、
次いでコダックのEktaprint2(登録商標)現
像(液)により現像する。
【0175】そのイエローウェッジを、UVフィルター
(コダック2C)の後ろに置いた全量60kJoule
/cm2 の2500W−キセノンランプを使用して、ア
トラスウエザー−O−メータ(登録商標)で照射する。
(コダック2C)の後ろに置いた全量60kJoule
/cm2 の2500W−キセノンランプを使用して、ア
トラスウエザー−O−メータ(登録商標)で照射する。
【0176】一つの試料を、同時に標準として、安定剤
を使用しないで現像する。
を使用しないで現像する。
【0177】イエロー着色剤最大吸光における照射の間
に起きる色濃度損失は、マクベス(Macbeth)
製:濃度計TR924Aを使用して測定する。
に起きる色濃度損失は、マクベス(Macbeth)
製:濃度計TR924Aを使用して測定する。
【0178】光安定化の硬化は、色濃度損失から測定で
きる。濃度損失の小さい程、光安定化効果は高い。
きる。濃度損失の小さい程、光安定化効果は高い。
【0179】新規の安定剤は、優れた光安定化効果を持
つ。
つ。
【0180】実施例A4:ポリプロピレンテープの安定
化 亜リン酸トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニ
ル)1g、ペンタエリトリトールテトラキス[3−
(3' ,5' −ジ−tert−ブチル−4' −ヒドロキ
シフェニル)プロピオナート]0.5gとステアリン酸
カルシウム1gと一緒の実施例1からの本発明の安定剤
の1.0gを、ポリプロピレン粉末(STATOILM
F;メルトインデックス=4.0g/10min ,230
℃/2.16kgで測定)1000gと共に、ターボミキ
サー中で混合する。
化 亜リン酸トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニ
ル)1g、ペンタエリトリトールテトラキス[3−
(3' ,5' −ジ−tert−ブチル−4' −ヒドロキ
シフェニル)プロピオナート]0.5gとステアリン酸
カルシウム1gと一緒の実施例1からの本発明の安定剤
の1.0gを、ポリプロピレン粉末(STATOILM
F;メルトインデックス=4.0g/10min ,230
℃/2.16kgで測定)1000gと共に、ターボミキ
サー中で混合する。
【0181】混合物を200−230℃で押し出してグ
ラニュールにし、次いでこれらグラニュールをパイロッ
ト装置〔レオナルド(Leonard) ;スミラゴ(Sumirago/V
A) イタリー〕を使用して、下記の条件下で厚み50μ
mの2.5mm幅延伸テープに加工する:
ラニュールにし、次いでこれらグラニュールをパイロッ
ト装置〔レオナルド(Leonard) ;スミラゴ(Sumirago/V
A) イタリー〕を使用して、下記の条件下で厚み50μ
mの2.5mm幅延伸テープに加工する:
【表16】 押出温度: 210−230℃ 頭部温度: 240−260℃ 延伸比: 1:6 延伸温度: 110℃
【0182】この方法で製造したテープを、ASTM
D2565−85に従って、温度63℃のブラック標準
温度で(登録商標)ウェザロメーター65WR(Atl
asCorp.)中、白色バックグランドに対して、暴
光試験に処する。いろいろな暴光時間の後得られる試料
の残留引張強力を測定する。これらの値を、試料の引張
強度が半減した後の暴露時間T50を計算するのに使用す
る。
D2565−85に従って、温度63℃のブラック標準
温度で(登録商標)ウェザロメーター65WR(Atl
asCorp.)中、白色バックグランドに対して、暴
光試験に処する。いろいろな暴光時間の後得られる試料
の残留引張強力を測定する。これらの値を、試料の引張
強度が半減した後の暴露時間T50を計算するのに使用す
る。
【0183】比較のために、新規の安定剤を含まないが
他については同一の条件下でテープを製造し、そして試
験した。
他については同一の条件下でテープを製造し、そして試
験した。
【0184】本発明に従って安定化された試料は、強度
の優れた残留を示した。
の優れた残留を示した。
【0185】試料A5:ポリアミド6の安定化 安定化されていないポリアミド6のグラニュール(BA
SF製、Ultramid(登録商標)B3)100部
を低温粉砕しそして実施例1の新規安定剤と共に入れ
た。この混合物をHenschel混合機中で2分間混
合した。かくして得た粉末を80℃で6時間乾燥しそし
て極大240℃で押出機(Berstoff型)中で押
し出し、グラニュールにした。かくして得たグラニュー
ルを、極大240℃の射出成形押出機中で射出成形して
1.0mm厚のダンベルと2.0mm厚のプレートに射
出成形した。
SF製、Ultramid(登録商標)B3)100部
を低温粉砕しそして実施例1の新規安定剤と共に入れ
た。この混合物をHenschel混合機中で2分間混
合した。かくして得た粉末を80℃で6時間乾燥しそし
て極大240℃で押出機(Berstoff型)中で押
し出し、グラニュールにした。かくして得たグラニュー
ルを、極大240℃の射出成形押出機中で射出成形して
1.0mm厚のダンベルと2.0mm厚のプレートに射
出成形した。
【0186】タンベルを140℃で循環空気炉中で経時
変化する。経時変化の進行度を、1−3日の間隔で応力
−歪図により測定することにより観察する。最終点は、
残留歪がその初期値の50%に低下した後の時間である
と決められる。時間の長い程、安定化はより良好であ
る。
変化する。経時変化の進行度を、1−3日の間隔で応力
−歪図により測定することにより観察する。最終点は、
残留歪がその初期値の50%に低下した後の時間である
と決められる。時間の長い程、安定化はより良好であ
る。
【0187】プレートを、80℃の循環空気炉中で15
00時間経時変化する。これらのプレートの黄色度指数
(YI)は、ASTM D 1925−70に従って測
定される。低いYI値は着色の殆どないことを表し、高
いYI値は試料の高い着色を示す。着色の少ない程、安
定剤混合物はより有効である。
00時間経時変化する。これらのプレートの黄色度指数
(YI)は、ASTM D 1925−70に従って測
定される。低いYI値は着色の殆どないことを表し、高
いYI値は試料の高い着色を示す。着色の少ない程、安
定剤混合物はより有効である。
【0188】比較のために、新規の安定剤を含まないが
他については同一の条件下で試料を製造し、そして試験
した。
他については同一の条件下で試料を製造し、そして試験
した。
【0189】新規の安定剤は、優れた光安定化の効果を
持ちそして本発明に従って安定化された試料は、強度の
優れた残留を示した。
持ちそして本発明に従って安定化された試料は、強度の
優れた残留を示した。
【0190】実施例A6:ポリオキシメチレンの安定化 ポリオキシメチレン(ホスタホルム(Hostafor
m)(登録商標)C)を、ブラベンダー・プラスチコー
ダー中で、ステアリン酸カルシウム0.3重量%、式
m)(登録商標)C)を、ブラベンダー・プラスチコー
ダー中で、ステアリン酸カルシウム0.3重量%、式
【化31】 の安定剤0.3重量%と実施例1の新規の紫外線吸収剤
0.3重量%と共に、7分間、190℃と30rpmで
混練する。
0.3重量%と共に、7分間、190℃と30rpmで
混練する。
【0191】次いで、この材料を3000psiの加圧
下、190℃で、1mm厚のプレートに成形する;この
段階における加工時間は3分間である。
下、190℃で、1mm厚のプレートに成形する;この
段階における加工時間は3分間である。
【0192】プレートを、20cmの距離でUV−A源
を用いて、60℃と23%の湿度下で、曝光する。UV
−A源は、5TL/09蛍光灯と5TL/12蛍光灯か
らなる(波長範囲295−400nm)。ポリオキシメ
チレンのUV照射で極大を通過する黄色度指数(YI,
ASTM D−1925)は、通常の間隔で測定され
る。この極大は、まだ視覚的に観察され得ない初めの微
小亀裂が原因となる。更に照射すると、亀裂は後でプレ
ート中に観察され得るようになる。
を用いて、60℃と23%の湿度下で、曝光する。UV
−A源は、5TL/09蛍光灯と5TL/12蛍光灯か
らなる(波長範囲295−400nm)。ポリオキシメ
チレンのUV照射で極大を通過する黄色度指数(YI,
ASTM D−1925)は、通常の間隔で測定され
る。この極大は、まだ視覚的に観察され得ない初めの微
小亀裂が原因となる。更に照射すると、亀裂は後でプレ
ート中に観察され得るようになる。
【0193】比較のために、新規の安定剤を含まないが
他については同一の条件下で試料を製造し、そして試験
した。
他については同一の条件下で試料を製造し、そして試験
した。
【0194】新規の安定剤は、優れた安定化効果を持
つ;即ちYI極大又は可視亀裂にいたるまでの時間(数
週間内)は、新規の安定剤のない場合より顕著に長い。
つ;即ちYI極大又は可視亀裂にいたるまでの時間(数
週間内)は、新規の安定剤のない場合より顕著に長い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08L 101/00 C08L 101/00
Claims (19)
- 【請求項1】式1 【化1】 により表される化合物及び式2 【化2】 により表される化合物であって;式中、R1 はH又はC
H3 基を表し、そしてYは基 【化3】 【化4】 を表し;XはO又はNR3 を表し;R2 はH、炭素原子
数1ないし20のアルキル基、炭素原子数1ないし20
のヒドロキシアルキル基、O−炭素原子数1ないし20
のアルキル基、CO−炭素原子数1ないし20のアルキ
ル基、O−炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、
炭素原子数2ないし20のアルケニル基、炭素原子数2
ないし20のアルキニル基、炭素原子数6ないし20の
アリール基、CO−炭素原子数6ないし20のアリール
基、炭素原子数7ないし20のアルアルキル基、CO−
炭素原子数7ないし20のアルアルキル基を表し;そし
てそしてR3 はH、炭素原子数1ないし20のアルキル
基又は 【化5】 を表し;そしてR4 はH、炭素原子数1ないし20のア
ルキル基、CO−炭素原子数1ないし20のアルキル
基、CO−炭素原子数6ないし20のアリール基又はC
O−炭素原子数7ないし20のアルアルキル基を表し;
そしてZは 【化6】 を表し;そしてR5 は炭素原子数1ないし20のアルキ
レン基、炭素原子数2ないし20のアルケニレン基又は
炭素原子数2ないし20のアルキニレン基を表し;そし
てnは1ないし100の数を表し;そしてmは1ないし
100の数を表す化合物。 - 【請求項2】R2 がH、炭素原子数1ないし12のアル
キル基、炭素原子数1ないし12のヒドロキシアルキル
基、O−炭素原子数1ないし12のアルキル基、CO−
炭素原子数1ないし12のアルキル基、O−炭素原子数
5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし1
2のアルケニル基、炭素原子数2ないし12のアルキニ
ル基、炭素原子数6ないし14のアリール基、CO−炭
素原子数6ないし14のアリール基、炭素原子数7ない
し15のアルアルキル基又はCO−炭素原子数7ないし
15のアルアルキル基を表す請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】R2 がH、炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基、O−炭素原子数1ないし8のアルキル基、O−炭
素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数2
ないし8のアルケニル基又は炭素原子数2ないし8のア
ルキニル基を表す請求項1記載の化合物。 - 【請求項4】R3 がH、炭素原子数1ないし12のアル
キル基又は 【化7】 を表し;そしてR4 はH、炭素原子数1ないし12のア
ルキル基、CO−炭素原子数1ないし12のアルキル
基、CO−炭素原子数6ないし14のアリール基又はC
O−炭素原子数7ないし15のアルアルキル基を表す請
求項1記載の化合物。 - 【請求項5】R3 がH又は 【化8】 を表し;そしてR4 がH、炭素原子数1ないし8のアル
キル基、CO−炭素原子数1ないし8のアルキル基、C
O−フェニル基又はCO−フェニルアルキル基を表す請
求項4記載の化合物。 - 【請求項6】Zが 【化9】 を表す請求項1記載の化合物。
- 【請求項7】nが1ないし50の数を表す請求項1記載
の化合物。 - 【請求項8】mが1ないし50の数を表す請求項1記載
の化合物。 - 【請求項9】請求項1記載の式1の化合物。
- 【請求項10】Yが基: 【化10】 を表す請求項9記載の化合物。
- 【請求項11】Yが基: 【化11】 を表し;R2 はH又は炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表し;R3 がH又は 【化12】 を表し;そしてnは5ないし25の数を表す請求項9記
載の化合物。 - 【請求項12】a)酸化的、熱的及び/又は化学線によ
る分解/増成を受け易い有機材料、及び b)安定剤として、少なくとも1種の請求項1記載の新
規の化合物を含有する組成物。 - 【請求項13】成分a)が有機ポリマーである請求項1
2記載の組成物。 - 【請求項14】成分a)が合成ポリマーである請求項1
2記載の組成物。 - 【請求項15】成分a)が、極性ポリマー又はアクリ
ル、アルキド、ポリウレタン、ポリエステル又はポリア
ミド樹脂又は相当する改質樹脂を基材にした表面塗布樹
脂である請求項12記載の組成物。 - 【請求項16】成分a)とb)に加えて他の常用の添加
剤を含有する請求項12記載の組成物。 - 【請求項17】組成物の重量を基準にして0.01ない
し10重量%の成分b)を含有する請求項12記載の組
成物。 - 【請求項18】光、酸素及び/又は熱による損傷に対し
て有機材料を安定化するための方法であって、この材料
に請求項1記載の化合物を混和することからなる方法。 - 【請求項19】光、酸素及び/又は熱による損傷に対し
て有機材料を安定化するために、請求項1記載の化合物
を使用する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH951/97 | 1997-04-23 | ||
CH95197 | 1997-04-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10298280A true JPH10298280A (ja) | 1998-11-10 |
Family
ID=4198974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10128324A Pending JPH10298280A (ja) | 1997-04-23 | 1998-04-22 | ポリアルキレングリコール基を含有するヒンダードアミン |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6001905A (ja) |
EP (1) | EP0873991A1 (ja) |
JP (1) | JPH10298280A (ja) |
KR (1) | KR19980081646A (ja) |
TW (1) | TW458973B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003509555A (ja) * | 1999-09-15 | 2003-03-11 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | パルプに対して高い親和力を有するポリマー性安定剤 |
JP2003089740A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 酢酸ビニル系重合体及びそのケン化物の製造法 |
JP2003089739A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 酢酸ビニル系重合体及びそのケン化物の製造法 |
WO2013118783A1 (ja) * | 2012-02-07 | 2013-08-15 | 国立大学法人筑波大学 | 高分子化ニトロキシド化合物と無機粒子の有機-無機ハイブリッド複合体 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1291386B1 (en) * | 2000-05-31 | 2008-06-25 | Zeon Corporation | Resin composition |
DE102004054629A1 (de) * | 2004-11-11 | 2006-05-18 | Basf Ag | Basische Desaktivatoren bei der POM-Herstellung |
US10077410B2 (en) | 2016-07-13 | 2018-09-18 | Chevron Oronite Company Llc | Synergistic lubricating oil composition containing mixture of antioxidants |
EP3611212A1 (en) * | 2018-08-14 | 2020-02-19 | Rhodia Operations | Composition comprising a polyalkylene oxide-based polymer |
WO2019243620A1 (en) * | 2018-06-22 | 2019-12-26 | Rhodia Operations | Composition comprising a polyalkylene oxide-based polymer |
CN115677565A (zh) * | 2022-10-17 | 2023-02-03 | 南通大学 | 一种受阻胺类光稳定剂中间体的制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4191682A (en) * | 1976-06-28 | 1980-03-04 | Ciba-Geigy Corporation | Hindered piperidine carboxylic acids, metal salts thereof and stabilized compositions |
US4526972A (en) * | 1984-06-27 | 1985-07-02 | Texaco Inc. | Ultraviolet light stabilizing sterically hindered polyoxyalkylene amines |
IT1246779B (it) * | 1991-04-12 | 1994-11-26 | Ciba Geigy Spa | Composti piperidinici atti all'impiego come stabilizzanti per materiali organici. |
US5210195A (en) * | 1991-11-08 | 1993-05-11 | Texaco Chemical Co. | Bis(2,2',6,6'-tetramethyl-4-aminoethyleneamidopiperidyl) polyoxyalkylene |
-
1998
- 1998-04-15 EP EP98810320A patent/EP0873991A1/de not_active Withdrawn
- 1998-04-20 US US09/063,159 patent/US6001905A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-21 TW TW087106065A patent/TW458973B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-04-22 JP JP10128324A patent/JPH10298280A/ja active Pending
- 1998-04-23 KR KR1019980014450A patent/KR19980081646A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003509555A (ja) * | 1999-09-15 | 2003-03-11 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | パルプに対して高い親和力を有するポリマー性安定剤 |
JP4820513B2 (ja) * | 1999-09-15 | 2011-11-24 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | パルプに対して高い親和力を有するポリマー性安定剤 |
JP2003089740A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 酢酸ビニル系重合体及びそのケン化物の製造法 |
JP2003089739A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 酢酸ビニル系重合体及びそのケン化物の製造法 |
WO2013118783A1 (ja) * | 2012-02-07 | 2013-08-15 | 国立大学法人筑波大学 | 高分子化ニトロキシド化合物と無機粒子の有機-無機ハイブリッド複合体 |
JPWO2013118783A1 (ja) * | 2012-02-07 | 2015-05-11 | 国立大学法人 筑波大学 | 高分子化ニトロキシド化合物と無機粒子の有機−無機ハイブリッド複合体 |
US9333265B2 (en) | 2012-02-07 | 2016-05-10 | University Of Tsukuba | Organic-inorganic hybrid composite of polymerized nitroxide compound and inorganic particles |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW458973B (en) | 2001-10-11 |
EP0873991A1 (de) | 1998-10-28 |
KR19980081646A (ko) | 1998-11-25 |
US6001905A (en) | 1999-12-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0912531B1 (en) | Polyoxyalkylene substituted and bridged benzophenone derivatives as uv absorbers | |
RU2418791C2 (ru) | Гидроксифенилтриазины, содержащие ароматическую карбоциклическую конденсированную кольцевую систему | |
US6140326A (en) | Morpholinones as light stabilizers | |
JPH1095974A (ja) | 安定剤組合せ | |
JP2011006443A (ja) | 立体障害性アミンエーテルの製造 | |
JPH1045729A (ja) | ヒドロキシフェニルトリアジン | |
AT407640B (de) | Gemische von polyalkylpiperidin-4-yl- dicarbonsäureestern als stabilisatoren für synthetische polymere | |
JP5497077B2 (ja) | トリスレゾリシニルトリアジン | |
EP0502821B1 (de) | Silylierte 2-(2-Hydroxyphenyl)-4,6-diaryl-1,3,5-triazine | |
US5962683A (en) | Oxazoline compounds as stabilizers | |
SK280399B6 (sk) | Estery a fenolétery, spôsob ich prípravy, kompozíc | |
JPH10298280A (ja) | ポリアルキレングリコール基を含有するヒンダードアミン | |
US5616637A (en) | Polyethers containing hindered amine side chains as stabilizers | |
JPH0770248A (ja) | 安定剤としてのヒンダードアミン−エポキシドのポリマー付加物 | |
US20070191516A1 (en) | Process for the synthesis of amine ethers | |
BE1012760A3 (fr) | Composition stabilisee, compose contenu dans celle-ci comme stabilisant et utilisation de ce compose. | |
US6642383B2 (en) | Oxopiperazinyl derivatives and light stabilized compositions | |
US5534618A (en) | Polyethers containing hindered amines which can be cleaved off as stabilizers | |
US5998518A (en) | Phenyl Glycidyl ether hals | |
JP2003524004A (ja) | ポリマーの為の光安定剤としてのチオイミダゾリジン誘導体 | |
JPH10130236A (ja) | アミンとエポキシドhalsからの付加物 | |
JP2000159764A (ja) | ピペラジノン誘導体 | |
EP1377564B1 (en) | Transition-metal-catalyzed process for the preparation of sterically hindered n-substituted alkoxyamines | |
JP2000501062A (ja) | 安定剤としての熱安定な立体障害アミン | |
DE10012859A1 (de) | Polymere aus Hals-Diolen und Dihalomethan |