JPH10293928A - Master disk exposure device and position control method - Google Patents
Master disk exposure device and position control methodInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスク原盤露光
装置及び位置制御方法に係り、特に光ディスク原盤の溝
間隔を高精度で露光する露光装置及び位置制御方法の改
良に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus and a position control method for a master disc, and more particularly to an exposure apparatus and a position control method for exposing a groove interval of a master optical disc with high accuracy.
【０００２】従来のディスク原盤露光装置においては、
ディスク原盤の表面に形成したレジスト膜に一定の間隔
で渦巻き線の溝を露光するため、ディスク原盤を一定回
転数で回転させ、露光用レーザ光のフォーカス機構をデ
ィスク原盤の直径方向に一定速度で移動させながら露光
しているが、近年のディスク容量の大容量化に伴い、溝
間隔を減少させ、溝の形状を高精度に形成することが必
要になり、溝を露光する際のフォーカス機構のディスク
原盤に対する位置の高精度化が要望されるようになって
いる。In a conventional disk master exposure apparatus,
The disk master is rotated at a constant rotation speed to expose the spiral grooves at regular intervals on the resist film formed on the surface of the disk master, and the focus mechanism of the exposure laser beam is moved at a constant speed in the diameter direction of the disk master. Exposure is performed while moving, but with the recent increase in disk capacity, it is necessary to reduce the groove spacing and form the shape of the groove with high precision. There has been a demand for higher precision of the position with respect to the disk master.
【０００３】以上のような状況から、ディスク原盤の表
面に形成したレジスト膜に一定の間隔で渦巻き線の溝を
高精度で露光することが可能なディスク原盤露光装置及
び位置制御方法が要望されている。In view of the above circumstances, there has been a demand for a disc master exposure apparatus and a position control method capable of exposing a spiral groove at a constant interval on a resist film formed on the surface of a disc master with high precision. I have.
【０００４】[0004]
【従来の技術】従来のディスク原盤露光装置について図
３〜図４により詳細に説明する。図３は従来のディスク
原盤露光装置の原理図、図４は従来のディスク原盤露光
装置の構成を示す図である。2. Description of the Related Art A conventional disk master exposure apparatus will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 3 is a diagram illustrating the principle of a conventional disk master exposure apparatus, and FIG. 4 is a diagram illustrating the configuration of a conventional disk master exposure apparatus.
【０００５】レーザ光照射機構から放射されるレーザ
光、例えばアルゴンレーザ光を、回転させたディスク原
盤、例えば 200mm径，板厚６mmの青板ガラスの表面に形
成したレジスト膜、例えば膜厚50〜200nm のノボラック
樹脂膜に渦巻き線を描画させながら照射する従来のディ
スク原盤露光装置は、図３に示すようにレーザ光照射機
構が、装置本体41に固定されているレーザ発振装置42と
光学系43と、フォーカス機構移動ステージ44A に固定さ
れているフォーカス機構44とからなるレーザ光照射機構
であり、ディスク原盤90を搭載するターンテーブル46の
回転機構、例えばスピンドルモータ47は装置本体41に固
定されている。[0005] A laser beam emitted from a laser beam irradiation mechanism, for example, an argon laser beam, is applied to a rotated disk master, for example, a resist film formed on the surface of a blue plate glass having a diameter of 200 mm and a plate thickness of 6 mm, for example, a film thickness of 50 to 200 nm. A conventional disc master exposure apparatus that irradiates a novolak resin film while drawing a spiral line, as shown in FIG. 3, includes a laser oscillation device 42 and an optical system 43 in which a laser beam irradiation mechanism is fixed to an apparatus main body 41. , A laser beam irradiation mechanism including a focus mechanism 44 fixed to the focus mechanism moving stage 44A, and a rotation mechanism of a turntable 46 on which the master disc 90 is mounted, for example, a spindle motor 47 is fixed to the apparatus main body 41. .
【０００６】フォーカス機構移動ステージ44A は、装置
本体41に固定されている、パルス入力に対応して一定の
回転角で回転力を発生する、ステッピングモータ51によ
り回転されるボールねじ50及びガイド棒49によりディス
ク原盤90の直径方向に移動するようになっている。A focus mechanism moving stage 44A is fixed to the apparatus main body 41, and generates a rotational force at a constant rotation angle in response to a pulse input. The ball screw 50 and the guide rod 49 are rotated by a stepping motor 51. As a result, the disk master 90 moves in the diameter direction.
【０００７】スピンドルモータ47及びステッピングモー
タ51は、それぞれコントローラ52により制御されるスピ
ンドルモータ駆動回路53及びステッピングモータ駆動回
路55により駆動されている。[0007] The spindle motor 47 and the stepping motor 51 are driven by a spindle motor driving circuit 53 and a stepping motor driving circuit 55 controlled by a controller 52, respectively.
【０００８】コントローラ52は、目標となる溝間隔とデ
ィスク原盤の回転数から必要なステッピングモータ制御
信号とスピンドルモータ制御信号を出力するものであ
る。ディスク原盤に形成したレジスト膜に一定間隔の渦
巻き線の案内溝を露光するためには、ディスク原盤の回
転数に対して一定速度でフォーカス機構44を移動させる
べきであるが、案内溝間隔をＰ〔ｍ〕、ディスク原盤の
回転数をＲ〔ｒｐｍ〕とすると、その移動速度Ｖ〔ｍ／
秒〕は次式から算出される。The controller 52 outputs necessary stepping motor control signals and spindle motor control signals based on target groove intervals and the number of revolutions of the disk master. In order to expose the guide grooves of the spiral lines at a constant interval to the resist film formed on the master disc, the focus mechanism 44 should be moved at a constant speed with respect to the rotation speed of the master disc. [M], and assuming that the rotational speed of the master disc is R [rpm], the moving speed V [m /
Second] is calculated from the following equation.
【０００９】Ｖ＝Ｐ×Ｒ／60 １パルス入力当たりのステッピングモータの回転角度を
Ｋ〔度／パルス〕、回転・直線変換機構の変換係数をＫ
１〔ｍ／度〕とすれば、この移動速度Ｖを発生させるた
めにステッピングモータに与えるべき、ステッピングモ
ータ制御パルス周波数Ｆ〔Hz〕は次式で与えられる。V = P × R / 60 The rotation angle of the stepping motor per one pulse input is K [degrees / pulse], and the conversion coefficient of the rotation / linear conversion mechanism is K.
If 1 [m / degree] is set, the stepping motor control pulse frequency F [Hz] to be given to the stepping motor to generate the moving speed V is given by the following equation.
【００１０】Ｆ＝Ｖ／（Ｋ×Ｋ１） したがって、案内溝間隔Ｐとディスク原盤の回転数Ｒと
ステッピングモータ制御パルス周波数Ｆの関係は次式で
表される。F = V / (K × K1) Therefore, the relationship between the guide groove interval P, the rotational speed R of the master disk, and the stepping motor control pulse frequency F is expressed by the following equation.
【００１１】Ｆ＝Ｐ×Ｒ／60（Ｋ×Ｋ１） コントローラ52がこの式の計算を行い、ステッピングモ
ータ駆動回路55へこの制御パルスＦを出力すれば、ディ
スク原盤の表面に形成したレジスト膜にフォーカス機構
44によりＰの間隔の案内溝を露光することが可能とな
る。F = P × R / 60 (K × K1) When the controller 52 calculates this equation and outputs the control pulse F to the stepping motor drive circuit 55, the control film F is applied to the resist film formed on the surface of the master disk. Focus mechanism
44 makes it possible to expose the guide grooves at intervals of P.
【００１２】このようなディスク原盤露光装置において
はフォーカス機構移動ステージ44Aの移動精度はボール
ねじ50にのみ依存するので、高精度でレジスト膜に渦巻
き線を描画するために、フォーカス機構44の位置を高精
度で制御するように構成したディスク原盤露光装置が用
いられるようになっている。In such a master disc exposure apparatus, since the movement accuracy of the focus mechanism moving stage 44A depends only on the ball screw 50, the position of the focus mechanism 44 must be adjusted in order to draw a spiral line on the resist film with high accuracy. A master disc exposure apparatus configured to control with high precision has been used.
【００１３】このような高精度でレジスト膜に渦巻き線
を描画するディスク原盤露光装置のレーザ光照射機構は
図４に示すように、装置本体61に固定されているレーザ
発振装置62と光学系63と、微小移動手段、例えば圧電素
子65を介してフォーカス機構移動ステージ64A に固定さ
れているフォーカス機構64とからなるレーザ光照射機構
であり、ディスク原盤90を搭載するターンテーブル66の
回転機構、例えばスピンドルモータ67は装置本体61に固
定されている。As shown in FIG. 4, a laser beam irradiation mechanism of a master disk exposure apparatus for drawing a spiral line on a resist film with high precision as shown in FIG. And a focusing mechanism 64 fixed to a focusing mechanism moving stage 64A via a piezoelectric element 65, and a rotating mechanism of a turntable 66 on which the master disc 90 is mounted, for example, The spindle motor 67 is fixed to the device main body 61.
【００１４】フォーカス機構移動ステージ64A は、装置
本体61に固定されているステッピングモータ71により回
転されるボールねじ70及びガイド棒69によりディスク原
盤90の直径方向に移動するようになっている。The focus mechanism moving stage 64A is moved in the diameter direction of the master disc 90 by a ball screw 70 and a guide rod 69 rotated by a stepping motor 71 fixed to the apparatus main body 61.
【００１５】スピンドルモータ67及びステッピングモー
タ71は、それぞれコントローラ72により制御されるスピ
ンドルモータ駆動回路73及びステッピングモータ駆動回
路75により駆動されている。The spindle motor 67 and the stepping motor 71 are driven by a spindle motor driving circuit 73 and a stepping motor driving circuit 75 controlled by a controller 72, respectively.
【００１６】このような高精度でレジスト膜に渦巻き線
を描画するディスク原盤露光装置においては、更に高精
度でレジスト膜に渦巻き線を描画するために、フォーカ
ス機構64の位置を計測する、装置本体61に固定したレー
ザ測長計76を設け、レーザ測長計76により計測した、こ
のヘッドの装置本体に対する位置と、このターンテーブ
ルの装置本体に対する位置との差分と、目標位置発生回
路78から出力されるこのターンテーブルの位置とこのヘ
ッドの目標位置との差分との位置データを差分器77に入
力し、差分器77の出力を圧電素子制御回路79に入力し圧
電素子駆動回路80により圧電素子65を駆動してフォーカ
ス機構64の位置を補正して正しい位置にレーザ光を照射
するようにしている。In such a master disk exposure apparatus that draws a spiral line on a resist film with high accuracy, the apparatus main body measures the position of a focus mechanism 64 in order to draw a spiral line on the resist film with higher accuracy. A laser length meter 76 fixed to 61 is provided, and the difference between the position of the head with respect to the device body and the position of the turntable with respect to the device body measured by the laser length meter 76 and output from the target position generating circuit 78. The position data of the difference between the position of the turntable and the target position of the head is input to a differentiator 77, the output of the differentiator 77 is input to a piezoelectric element control circuit 79, and the piezoelectric element 65 is controlled by a piezoelectric element drive circuit 80. The laser beam is driven to correct the position of the focus mechanism 64 so that a correct position is irradiated with the laser beam.
【００１７】[0017]
【発明が解決しようとする課題】以上説明した従来のデ
ィスク原盤露光装置においては、フォーカス機構をディ
スク原盤の直径方向へ移動させて、レーザ光をディスク
原盤の周辺部から中心部に照射させているため、フォー
カス機構を移動させるので、露光用レーザ光の光路長が
変化し、フォーカス機構の光軸が正確な垂直方向からず
れる場合があり、安定した露光光学系を構成するのが困
難になり、ディスク原盤の表面のレジスト膜の正しい位
置にレーザ光が照射されなくなるという課題があった。In the conventional disk master exposure apparatus described above, the focus mechanism is moved in the diameter direction of the disk master to irradiate the laser beam from the periphery to the center of the disk master. Therefore, since the focus mechanism is moved, the optical path length of the exposure laser light changes, and the optical axis of the focus mechanism may be deviated from an accurate vertical direction, making it difficult to configure a stable exposure optical system. There is a problem that a laser beam is not irradiated to a correct position of the resist film on the surface of the disk master.
【００１８】本発明は以上のような状況から、ディスク
原盤の表面に形成したレジスト膜に一定の間隔で渦巻き
線の溝を高精度で露光することが可能となるディスク原
盤露光装置及び位置制御方法の提供を目的とする。In view of the above circumstances, the present invention provides a master disk exposure apparatus and a position control method which enable a resist film formed on the surface of a master disk to be exposed with high precision in grooves of spiral lines at regular intervals. The purpose is to provide.
【００１９】[0019]
【課題を解決するための手段】本発明のディスク原盤露
光装置は、微小移動手段を介して装置本体に固定されて
いる光を照射するヘッドと、ディスク原盤を支持するタ
ーンテーブルが搭載されている移動ステージとを有し、
この移動ステージは、装置本体に固定されている移動手
段によってこのターンテーブルの直径方向に移動され、
この微小移動手段により、この移動ステージの移動位置
に対してこのヘッドの位置が補正されるように構成する
ディスク原盤露光装置である。A disk master exposure apparatus according to the present invention is equipped with a head for irradiating light fixed to the apparatus main body via minute moving means, and a turntable for supporting the disk master. A moving stage,
The moving stage is moved in the diameter direction of the turntable by moving means fixed to the apparatus main body,
This is a master disc exposure apparatus configured such that the position of the head is corrected with respect to the moving position of the moving stage by the minute moving means.
【００２０】この光を照射するヘッドは、図１に示すよ
うに装置本体１に固定されているレーザ発振装置２から
放射され光学系３と通ったレーザ光を、微小移動手段５
を介してこの装置本体１に固定されているフォーカス機
構４により照射するヘッドであり、このディスク原盤90
を搭載するターンテーブル６の回転機構７を搭載する移
動ステージ８がボールねじ10によりディスク原盤90の直
径方向に駆動され、このボールねじ10を回転駆動するス
テッピングモータ11がこの装置本体１に固定されてお
り、この移動ステージ８がガイド棒９によってこのター
ンテーブル６の直径方向に移動するように構成する。The head for irradiating the light, as shown in FIG. 1, transmits the laser light emitted from the laser oscillation device 2 fixed to the device body 1 and passing through the optical system 3 to the minute moving means 5.
The head is irradiated by a focus mechanism 4 fixed to the apparatus main body 1 through the
The moving stage 8 on which the rotating mechanism 7 of the turntable 6 is mounted is driven in the diameter direction of the master disc 90 by the ball screw 10, and the stepping motor 11 for rotating and driving the ball screw 10 is fixed to the apparatus main body 1. The moving stage 8 is configured to move in the diameter direction of the turntable 6 by the guide rod 9.
【００２１】また、さらに、装置本体１に固定されたレ
ーザ測長計16を有し、このレーザ測長計16により得られ
る、このフォーカス機構４のこの装置本体１に対する位
置と、このターンテーブル６のこの装置本体１に対する
位置との差分と、目標位置発生回路18により得られる、
このターンテーブル６の位置とフォーカス機構４の位置
との差分とに基づいてこの微小移動手段５によりこのフ
ォーカス機構４の位置が補正されるように構成する。Further, there is provided a laser length gauge 16 fixed to the apparatus main body 1, and the position of the focus mechanism 4 with respect to the apparatus main body 1 obtained by the laser length meter 16 and the position of the turntable 6 The difference between the position with respect to the apparatus body 1 and the target position generation circuit 18
The position of the focus mechanism 4 is corrected by the minute moving means 5 based on the difference between the position of the turntable 6 and the position of the focus mechanism 4.
【００２２】即ち本発明においては、レーザ発振装置２
とレーザ光を処理する光学系３とが装置本体１に直接固
定されており、このレーザ光を所定の位置に焦点を結ば
せるフォーカス機構４が微小移動手段５を介してこの装
置本体１に固定されている。That is, in the present invention, the laser oscillation device 2
And an optical system 3 for processing laser light are directly fixed to the apparatus main body 1, and a focusing mechanism 4 for focusing the laser light at a predetermined position is fixed to the apparatus main body 1 via a minute moving means 5. Have been.
【００２３】ディスク原盤90はターンテーブル６に搭載
されており、このターンテーブル６を回転させる回転機
構７は移動ステージ８に搭載されており、この移動ステ
ージ８は装置本体１に固定されているステッピングモー
タ11が駆動するボールねじ10及びガイド棒９によりディ
スク原盤90の直径方向に移動する。The master disc 90 is mounted on a turntable 6, and a rotating mechanism 7 for rotating the turntable 6 is mounted on a moving stage 8, and the moving stage 8 is fixed on the apparatus main body 1. The disk 11 is moved in the diameter direction of the master disc 90 by the ball screw 10 and the guide rod 9 driven by the motor 11.
【００２４】また、このフォーカス機構４のこの装置本
体１に対する位置と、このターンテーブル６のこの装置
本体１に対する位置とをレーザ測長計16により計測して
その差分を求め、このレーザ測長計16により得られる差
分と、このターンテーブル６の位置と、目標位置発生回
路18により予め設定される目標位置とに基づき、微小移
動手段制御回路19及び微小移動手段駆動回路20によりこ
の微小移動手段５を駆動してこのフォーカス機構４の位
置を補正し、レーザ光を目標位置に正確に照射すること
が可能となる。The position of the focus mechanism 4 with respect to the apparatus main body 1 and the position of the turntable 6 with respect to the apparatus main body 1 are measured by a laser length meter 16 to obtain a difference therebetween. Based on the obtained difference, the position of the turntable 6, and the target position preset by the target position generating circuit 18, the minute moving means 5 is driven by the minute moving means control circuit 19 and the minute moving means driving circuit 20. Then, the position of the focus mechanism 4 is corrected, so that the target position can be accurately irradiated with the laser beam.
【００２５】本発明の位置制御方法は、基板を支持して
回転し、移動ステージに搭載されたターンテーブルの位
置と、この基板に光を照射するヘッドの位置とを制御す
る位置制御方法であって、この移動ステージを、装置本
体に固定された移動手段によりこのターンテーブルの直
径方向に所定の移動長を単位として移送し、このヘッド
を装置本体に固定する微小移動手段により、このヘッド
の位置を微調整することで、このターンテーブルに対す
るこのヘッドの位置を所定の位置に制御することが可能
である。The position control method of the present invention is a position control method for controlling a position of a turntable mounted on a moving stage, which rotates while supporting a substrate, and a position of a head for irradiating the substrate with light. Then, the moving stage is transferred in a unit of a predetermined moving length in a diametrical direction of the turntable by a moving means fixed to the apparatus main body, and the position of the head is moved by a minute moving means fixing the head to the apparatus main body. By finely adjusting the position of the head, the position of the head with respect to the turntable can be controlled to a predetermined position.
【００２６】[0026]
【発明の実施形態】以下図２により本発明の一実施例に
ついて詳細に説明する。図２は本発明の一実施例のディ
スク原盤露光装置の構成を示す図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to FIG. FIG. 2 is a view showing a configuration of a disk master exposure apparatus according to one embodiment of the present invention.
【００２７】図２に示すように、レーザ発振装置22とレ
ーザ光を処理する光学系23とが装置本体21に直接固定さ
れており、このレーザ光を所定の位置に焦点を結ばせる
フォーカス機構24が微小移動手段、例えばPI polytec社
製の積層タイプの圧電素子25を介してこの装置本体21に
固定されている。As shown in FIG. 2, a laser oscillating device 22 and an optical system 23 for processing laser light are directly fixed to an apparatus main body 21, and a focus mechanism 24 for focusing the laser light at a predetermined position. Is fixed to the apparatus main body 21 via a micro moving means, for example, a laminated piezoelectric element 25 manufactured by PI polytec.
【００２８】ディスク原盤90はターンテーブル26に搭載
されており、このターンテーブル26を回転させる回転機
構、例えば900rpmで回転するスピンドルモータ27は移動
ステージ28に搭載されており、この移動ステージ28は装
置本体21に固定されているステッピングモータ31が駆動
するボールねじ30及びガイド棒29によりディスク原盤90
の直径方向に移動するようになっている。A master disc 90 is mounted on a turntable 26, and a rotating mechanism for rotating the turntable 26, for example, a spindle motor 27 rotating at 900 rpm, is mounted on a moving stage 28. A master disc 90 is driven by a ball screw 30 and a guide rod 29 driven by a stepping motor 31 fixed to the main body 21.
It moves in the diametric direction.
【００２９】また、レーザ測長計36により、このフォー
カス機構24のこの装置本体21に対する位置と、このター
ンテーブル26のこの装置本体21に対する位置とを計測し
てその差分を求め、このレーザ測長計36により得られる
差分と、目標位置発生回路38により得られる、このター
ンテーブル26の位置とフォーカス機構24の位置との差分
とに基づき、圧電素子制御回路39及び圧電素子駆動回路
40によりこの圧電素子25を駆動してこのフォーカス機構
24の位置を補正し、レーザ光を目標位置に正確に照射す
ることが可能となる。The position of the focus mechanism 24 with respect to the apparatus main body 21 and the position of the turntable 26 with respect to the apparatus main body 21 are measured by a laser length meter 36 to obtain a difference therebetween. And a piezoelectric element control circuit 39 and a piezoelectric element drive circuit based on the difference between the position of the turntable 26 and the position of the focus mechanism 24 obtained by the target position generating circuit 38.
The focus mechanism is driven by driving the piezoelectric element 25 by 40.
It is possible to correct the position of 24 and accurately irradiate the target position with laser light.
【００３０】このフォーカス機構24の位置の補正量が、
この圧電素子25により補正可能な変位量を超過して補正
することが不可能となる場合には、このステッピングモ
ータ31の制御パルスを調節してこの移動ステージ28の送
り移動量を制御することにより、この圧電素子25の補正
によりこのフォーカス機構24の位置を補正することがで
きるようにこの移動ステージ28の変位量を調節すること
が可能となる。The correction amount of the position of the focus mechanism 24 is
If it becomes impossible to perform the correction by exceeding the amount of displacement that can be corrected by the piezoelectric element 25, the control pulse of the stepping motor 31 is adjusted to control the amount of movement of the moving stage 28. The displacement of the moving stage 28 can be adjusted so that the position of the focus mechanism 24 can be corrected by correcting the piezoelectric element 25.
【００３１】[0031]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば極めて簡単な構成の変更により、フォーカス機
構の移動に伴い発生するレーザ光の照***度の低下を防
止することが可能となる利点があり、著しい信頼性向上
の効果が期待できるディスク原盤露光装置及び位置制御
方法の提供が可能である。As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to prevent a decrease in the irradiation accuracy of the laser beam generated due to the movement of the focusing mechanism by a very simple configuration change. It is possible to provide a disk master exposure apparatus and a position control method that have advantages and can be expected to significantly improve the reliability.
【図１】 本発明のディスク原盤露光装置の原理図FIG. 1 is a diagram showing the principle of a disk master exposure apparatus according to the present invention.
【図２】 本発明の一実施例のディスク原盤露光装置の
構成を示す図FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a disk master exposure apparatus according to an embodiment of the present invention;
【図３】 従来のディスク原盤露光装置の原理図FIG. 3 is a diagram showing the principle of a conventional disk master exposure apparatus.
【図４】 従来のディスク原盤露光装置の構成を示す図FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a conventional disk master exposure apparatus;
1,21 装置本体 2,22 レーザ発振装置 3,23 光学系 4,24 フォーカス機構 ５ 微小移動手段 6,26 ターンテーブル ７ 回転機構 8,28 移動ステージ 9,29 ガイド棒 10,30 ボールねじ 11,31 ステッピングモータ 12,32 コントローラ 13 回転機構駆動回路 15,35 ステッピングモータ駆動回路 16,36 レーザ測長計 17,37 差分器 18,38 目標位置発生回路 19 微小移動手段制御回路 20 微小移動手段駆動回路 25 圧電素子 27 スピンドルモータ 33 スピンドルモータ駆動回路 34 ステッピングモータ制御回路 39 圧電素子制御回路 40 圧電素子駆動回路 90 ディスク原盤 1,21 Main unit 2,22 Laser oscillator 3,23 Optical system 4,24 Focusing mechanism 5 Micro moving means 6,26 Turntable 7 Rotating mechanism 8,28 Moving stage 9,29 Guide rod 10,30 Ball screw 11, 31 Stepper motor 12,32 Controller 13 Rotary mechanism drive circuit 15,35 Stepper motor drive circuit 16,36 Laser length meter 17,37 Difference device 18,38 Target position generation circuit 19 Micro-movement means control circuit 20 Micro-movement means drive circuit 25 Piezoelectric element 27 Spindle motor 33 Spindle motor drive circuit 34 Stepping motor control circuit 39 Piezoelectric element control circuit 40 Piezoelectric element drive circuit 90 Master disk
Claims (3)
れている光を照射するヘッドと、ディスク原盤を支持す
るターンテーブルが搭載されている移動ステージとを有
し、 該移動ステージは、装置本体に固定されている移動手段
によって前記ターンテーブルの直径方向に移動され、 前記微小移動手段により、前記移動ステージの移動位置
に対して前記ヘッドの位置が補正される、 ことを特徴とするディスク原盤露光装置。1. A head for irradiating light fixed to an apparatus main body via a minute moving means, and a moving stage on which a turntable for supporting a master disc is mounted, the moving stage comprising: A master disk that is moved in a diameter direction of the turntable by a moving unit fixed to a main body, and the position of the head is corrected by the minute moving unit with respect to a moving position of the moving stage. Exposure equipment.
長計を有し、 該レーザ測長計は、前記ヘッドの前記装置本体に対する
位置と、前記ターンテーブルの前記装置本体に対する位
置との差分を計測し、 前記微小移動手段は、レーザ測長計により得られる前記
差分と、 前記ターンテーブルの位置と、予め設定される前記ヘッ
ドの目標位置に対応する前記差分と、 に基づいて前記微小移動手段により前記ヘッドの位置が
補正される、 請求項１記載のディスク原盤露光装置。2. A laser length measuring instrument fixed to an apparatus main body, wherein the laser length measuring instrument measures a difference between a position of the head with respect to the apparatus main body and a position of the turntable with respect to the apparatus main body. The micro-moving means is configured to perform the micro-moving based on the difference obtained by a laser length meter, the position of the turntable, and the difference corresponding to a preset target position of the head. 2. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the position of the head is corrected.
搭載されたターンテーブルの位置と、該基板に光を照射
するヘッドの位置とを制御する位置制御方法であって、 該移動ステージを、装置本体に固定された移動手段によ
り該ターンテーブルの直径方向に所定の移動長を単位と
して移送し、 該ヘッドを装置本体に固定する微小移動手段により、該
ヘッドの位置を微調整することで、該ターンテーブルに
対する該ヘッドの位置を所定の位置に制御することを特
徴とする位置制御方法。3. A position control method for controlling a position of a turntable mounted on a moving stage that rotates while supporting a substrate, and a position of a head that irradiates the substrate with light. By moving the turntable in a diametrical direction of the turntable in units of a predetermined moving length by a moving means fixed to the apparatus main body, and finely adjusting the position of the head by a minute moving means fixing the head to the apparatus main body. And controlling the position of the head with respect to the turntable to a predetermined position.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10178797A JPH10293928A (en) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | Master disk exposure device and position control method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10178797A JPH10293928A (en) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | Master disk exposure device and position control method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10293928A true JPH10293928A (en) | 1998-11-04 |
Family
ID=14309898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10178797A Pending JPH10293928A (en) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | Master disk exposure device and position control method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10293928A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6754153B2 (en) | 2000-07-11 | 2004-06-22 | Ricoh Company, Ltd. | Exposure apparatus for optical disc |
-
1997
- 1997-04-18 JP JP10178797A patent/JPH10293928A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6754153B2 (en) | 2000-07-11 | 2004-06-22 | Ricoh Company, Ltd. | Exposure apparatus for optical disc |
| US7057992B2 (en) | 2000-07-11 | 2006-06-06 | Ricoh Company, Ltd. | Exposure apparatus for optical disc |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040629 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |