JPH1028918A - 回転式基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 飛散防止カップの内面への処理液の付着を防
止することにより、基板の汚染を防止することができ
る。 【解決手段】 スピンチャック１により支持された基板
Ｗの周囲を囲い、基板Ｗから周囲に飛散した現像液Ｄを
下方に案内する案内傾斜面７ａと、案内傾斜面７ａによ
り下方に案内された現像液Ｄを回収する排液ゾーン７ｄ
とを有する飛散防止カップ７を備えた回転式基板現像装
置において、飛散防止カップ７のうち少なくとも案内傾
斜面７ａに超撥水性層Ｓを形成しておく。飛散した現像
液Ｄは、超撥水性層Ｓを形成された案内傾斜面７ａを容
易に流下して排液ゾーン７ｄに流下するので、現像液Ｄ
が付着堆積することを防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板に対して現像液、フ
ォトレジスト液、ポリイミド樹脂、SOG(Spin On Glass,
シリカ系被膜形成材とも呼ばれる）液などの処理液を吐
出して回転自在の基板に対して処理を施す技術に係り、
特に処理液の付着に起因する基板汚染を防止する技術に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の回転式基板処理装置とし
て、例えば、所定のパターンが露光されたフォトレジス
ト被膜を表面に有する基板を回転させ、その表面に現像
液を供給して現像処理を施す回転式基板現像装置が挙げ
られる。この装置の概略構成について図３を参照して以
下に説明する。

【０００３】スピンチャック１は、表面にフォトレジス
ト被膜が形成されている基板Ｗをほぼ水平姿勢で吸着保
持するものであり、軸芯Ｐ回りで基板Ｗを回転駆動する
ものである。スピンチャック１によって吸着保持された
基板Ｗの表面には、処理液供給ノズル５の先端部から現
像液Ｄが供給される。スピンチャック１の周囲には、特
に基板Ｗの表面に供給された現像液Ｄがその周囲に飛散
することを防止するとともに、飛散した現像液Ｄを回収
する飛散防止カップ７が配設されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、図４に示すように、飛散防止カップ７
の内面、特に基板Ｗの周縁部の側方にあたり、周囲に飛
散した現像液Ｄを飛散防止カップ７内の下方に案内する
案内傾斜面には、大量の処理液が受け止められること起
因して、溶解したフォトレジスト液を含む現像液Ｄが付
着する。この付着した現像液Ｄは、基板Ｗを順次に処理
するにしたがって堆積してゆき、案内傾斜面を含む飛散
防止カップ７の内面に付着堆積することになる。このよ
うに現像液Ｄが飛散防止カップ７の内面に付着すると、
これが乾燥した後にパーティクルとなって飛散防止カッ
プ７内を浮遊して基板Ｗを汚染するという問題点があ
る。したがって、このような問題が生じないように、定
期的にその現像液Ｄを洗浄除去する必要がある。特に、
現像液Ｄが重金属類を含むものである場合には、その汚
染による悪影響は深刻な問題である。具体的な現像液Ｄ
の洗浄除去の手法としては、飛散防止カップ７を装置か
ら取り外した後、溶剤などの洗浄液によって洗浄除去し
たり、あるいは飛散防止カップ７内面に洗浄液を吐出す
る洗浄機構を配設してこれを用いて現像液Ｄを洗浄除去
するものがある。この洗浄処理は、一般的に、現像処理
を停止した状態で行うので、装置の稼働率が低下するこ
とになる。

【０００５】また、未処理の基板Ｗを飛散防止カップ７
内に搬入したり、処理済みの基板Ｗを飛散防止カップ７
外に搬出したりする際には、処理液供給ノズル５が基板
Ｗおよび図示しない搬送機構と干渉しないように待機位
置にまで移動する。このときにはその先端部が乾燥する
ことなどを防止するために、待機ポッドにその先端部を
収納するようになっている。しかしながら、その待機ポ
ッド内において、処理液供給ノズル５の先端部から現像
液が漏れ出た場合には、待機ポッドの内面にその漏れ出
た現像液が付着堆積することになる。このように待機ポ
ッドの内面に現像液が付着堆積すると、やはり乾燥した
際にパーティクルを生じる。生じたパーティクルが処理
液供給ノズル５に付着すると、処理液供給ノズル５が供
給位置に移動した際に基板Ｗを汚染するという問題点が
ある。したがって、このような不都合を回避するため
に、定期的に待機ポッドを取り外してその内面を洗浄液
で洗浄する必要あるので、装置の稼働率低下を招く。

【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、飛散防止カップの内面への処理液の付
着を防止することにより、基板の汚染を防止することが
できる回転式基板処理装置を提供することを目的とす
る。

【０００７】また、本発明のもう一つの目的は、待機ポ
ッドの内面への処理液の付着を防止することにより、基
板の汚染を防止することができる回転式基板処理装置を
提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の回転式基板処理装置は、回転支持
手段により支持された基板の周囲を囲い、基板から周囲
に飛散した処理液を下方に案内する案内傾斜面と、案内
傾斜面により下方に案内された処理液を回収する排液ゾ
ーンとを有する飛散防止カップを備えた回転式基板処理
装置において、前記飛散防止カップのうち少なくとも前
記案内傾斜面を超撥水性材料で形成したことを特徴とす
るものである。

【０００９】また、請求項２に記載の回転式基板処理装
置は、請求項１に記載の回転式基板処理装置において、
さらに前記排液ゾーンを超撥水性材料で形成したことを
特徴とするものである。

【００１０】また、請求項３に記載の回転式基板処理装
置は、請求項１または請求項２に記載の回転式基板処理
装置において、前記飛散防止カップと前記回転支持手段
との間に介在して基板の周囲の気流の流れを整える整流
部材をさらに備えるとともに、この整流部材を超撥水性
材料で形成したことを特徴とするものである。

【００１１】また、請求項４に記載の回転式基板処理装
置は、回転支持手段により支持された基板の上方にあた
る処理液の供給位置と、基板から側方に離れた待機位置
とにわたって移動自在の処理液供給手段と、前記待機位
置にて前記処理液供給手段の先端部を受け入れる待機ポ
ッドとを備えた回転式基板処理装置において、前記待機
ポッドの少なくとも内面を超撥水性材料で形成したこと
を特徴とするものである。

【００１２】また、請求項５に記載の回転式基板処理装
置は、請求項１または請求項４に記載の回転式基板処理
装置において、前記超撥水性材料は、接触角が１２０°
以上のものであることを特徴とするものである。

【００１３】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。回転支持手段により支持された基板から周囲に飛散
した処理液は、飛散防止カップの案内傾斜面で最も多く
受け止められて下方に案内され、排液ゾーンで回収され
る。つまり、飛散防止カップのうち最も多くの処理液が
付着堆積しやすいのが案内傾斜面であるが、その部分を
超撥水性材料で形成しておくことにより、飛散した処理
液を傾斜案内面に付着堆積させることなく重力により容
易に流下させて排液ゾーンにて回収させることができ
る。したがって、飛散防止カップの内面への処理液の付
着を防止することができる。

【００１４】また、請求項２に記載の発明によると、案
内傾斜面で下方に案内された処理液は排液ゾーンに滞留
するが、排液ゾーンが超撥水性材料で形成されているの
で、処理液が付着堆積することを防止できる。したがっ
て、飛散防止カップの内面への処理液の付着をより防止
することができる。

【００１５】また、請求項３に記載の発明によると、基
板が回転支持手段により回転駆動された場合にその周囲
の気流が乱れることに起因して処理が不均一になる場合
があるが、飛散防止カップと回転支持手段との間に整流
部材を備えることによりこのような不都合を防止するこ
とができる。その一方で、飛散した処理液やその霧状の
ミストが整流部材に付着すると、乾燥した際にパーティ
クルを生じて基板を汚染する恐れがある。そこで、この
整流部材を超撥水性材料で形成することにより、気流の
乱れに起因する処理不均一を防止しつつも、飛散した処
理液やミストが整流部材に付着堆積することを防止する
ことができる。

【００１６】また、請求項４に記載の発明の作用に次の
とおりである。処理液供給手段は、処理液を供給する際
には基板の上方にあたる供給位置にその先端部を移動
し、基板の搬送時には待機位置に配設された待機ポッド
にその先端部を移動する。その先端部が待機ポッドに受
け入れられている際に処理液が漏れ出たとしても、少な
くとも待機ポッドの内面は超撥水性材料で形成されてい
るので、処理液は重力によって容易に流下する。したが
って、処理液が待機ポッドの内面に付着することを防止
することができる。

【００１７】また、請求項５に記載の発明の作用は次の
とおりである。飛散防止カップや待機ポッドを形成する
材料として一般的に利用されているPTFE（ポリテトラフ
ルオロエチレン）やPTCFE （ポリクロロトリフルオロエ
チレン）などのフッ素樹脂は、その接触角が約１１０°
と小さく撥水性が低いものである。経験的に接触角が１
２０°以上となると液滴が転がり始めるので、超撥水性
材料として接触角が１２０°以上のものを採用すること
により撥水性を高め、飛散防止カップや待機ポッドに処
理液が付着することをさらに確実に防止することができ
る。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は、本発明の回転式基板処理装
置の一例である回転式基板現像装置の概略構成を示す縦
断面図である。なお、処理の対象である基板として半導
体ウエハを例に採って説明するが、これを単に基板と称
することにする。

【００１９】図中、符号１は、基板Ｗを水平姿勢で吸着
保持するスピンチャックである。このスピンチャック１
は、図示しない駆動手段の回転軸に連動連結されてお
り、軸芯Ｐ回りで回転されるようになっている。スピン
チャック１の上方には、現像液Ｄを吐出する先端部５ａ
がその軸芯Ｐの上方に位置するように処理液供給ノズル
５が配備されている。この処理液供給ノズル５は、先端
部５ａが基板Ｗの表面から一定距離だけ離れた供給位置
（図中の実線）と、その上方に大きく離れた退避位置
（図中の二点鎖線）と、そこから側方に大きく離れた待
機位置（図中の二点鎖線）とにわたって移動可能に構成
されている。なお、スピンチャック１は本発明における
回転支持手段に相当し、処理液供給ノズル５は本発明に
おける処理液供給手段に相当するものである。

【００２０】スピンチャック１の周囲には、上部に開口
を有するとともに、基板Ｗから周囲に飛散する現像液Ｄ
を下方に案内する案内傾斜面７ａを備えた上カップ７ｂ
と、下方に案内された現像液Ｄを回収する下カップ７ｃ
とからなる飛散防止カップ７が配設されている。上カッ
プ７ｂは、その外周側面が下カップ７ｃの段差部に嵌め
込まれて取り付けられており、容易に着脱することがで
きる。上カップ７ｂの案内傾斜面７ａには、超撥水性材
料が塗布されて超撥水性層Ｓ（図中に点線で示す）が形
成されている。なお、経験的に接触角が１２０°程度で
液滴が転がりはじめるので、超撥水性材料としては接触
角が１２０°以上のものが好ましい。また、超撥水性層
Ｓを形成するために、上記の塗布処理に代えて案内傾斜
面７ａにメッキ処理を施すようにしてもよい。このメッ
キとしては、ＴＦＥ（テトラフルオロエチレン）含有複
合メッキ、例えば、ＴＦＥ含有亜鉛複合メッキやＴＦＥ
含有銅複合メッキなどが挙げられる。

【００２１】下カップ７ｃは、その底部に平面視リング
状の排液ゾーン７ｄが形成されている。排液ゾーン７ｄ
の一部位には、図示しない排液タンクに連通接続された
排液口７ｅが形成されている。これらの排液ゾーン７ｄ
および排液口７ｅを介して現像液Ｄが回収されるように
なっている。

【００２２】下カップ７ｃとスピンチャック１との間に
は、中心側から周縁部に向かって下向きの傾斜面を有
し、平面視でほぼ円形状の整流部材７ｆが配設されてい
る。この整流部材７ｆは、基板Ｗが回転駆動された際
に、その周囲の気流が乱れることを防止するものであ
る。この整流部材７ｆが配備されていることにより、後
述する現像処理を均一に施すことが可能となる。整流部
材７ｆは、下カップ７ｃの中心側底部に嵌め込まれてお
り、それらにより平面視リング状の空間（排気ゾーン）
７ｇが形成されている。この排気ゾーン７ｇの底部に相
当する下カップ７ｃの一部位には、図示しない排気手段
に連通接続された排気口７ｈが形成されている。上カッ
プ７ｂの上部開口から流入した気流は、基板Ｗの周縁部
を流下し、整流部材７ｆによって整流された後に、現像
液Ｄが飛散して生じる霧状のミストを乗せて排気ゾーン
７ｇおよび排気口７ｈを通って排気される。

【００２３】なお、現像処理を施された処理済みの基板
Ｗを飛散防止カップ７内から搬出したり、未処理の基板
Ｗを飛散防止カップ７内へ搬入する際には、飛散防止カ
ップ７とスピンチャック１とが相対昇降される。つま
り、図中に二点鎖線で示すように、飛散防止カップ７と
スピンチャック１とが相対昇降されることにより、飛散
防止カップ７の上方にスピンチャック１が突出し、基板
Ｗに現像処理を施す場合にはスピンチャック１が飛散防
止カップ７内に収納されるようになっている。

【００２４】また、上述したように処理液供給ノズル５
は、その先端部５ａが基板Ｗの軸芯Ｐの上方にあたる供
給位置と、その上方の退避位置と、その側方に大きく離
れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている。
待機位置には、処理液供給ノズル５の先端部５ａを受け
入れて、その内部の現像液が固化することを防止する待
機ポッド９が配備されている。待機ポッド９は、処理液
供給ノズル５の先端部５ａを受け入れ可能な大きさを有
する挿抜穴９ａをその上面に形成されており、その直下
付近には、排液口９ｂに向けて傾斜した傾斜面９ｃを形
成されている。この待機ポッド９内には、先端部５ａ内
部の現像液が容易に固化しないように図示しない湿潤保
持手段が備えられていることが好ましい。なお、処理液
供給ノズル５が待機位置にある際に、その先端部５ａか
ら現像液が漏れ出た場合には、傾斜面９ｃを流下して排
液口９ｂから排出されるようになっている。

【００２５】次に、上述したように構成された回転式基
板現像装置の動作について説明する。なお、基板Ｗの表
面には、既にフォトレジスト被膜が形成されており、さ
らに所定パターンの露光が行われているものとする。

【００２６】まず、スピンチャック１と飛散防止カップ
７とが相対昇降し、スピンチャック１が飛散防止カップ
７から上方に突出する。この状態で、図示しない基板搬
送機構が未処理の基板Ｗをスピンチャック１に載置す
る。なお、このとき処理液供給ノズル５は、その先端部
５ａが待機ポッド９の挿抜穴９ａに挿入された状態であ
る。

【００２７】スピンチャック１が基板Ｗを吸着保持する
とともに、処理液供給ノズル５が退避位置を通って移動
し、その先端部５ａが基板Ｗの軸芯Ｐの上方にあたる供
給位置（図中の実線で示す位置）にまで移動する。次
に、スピンチャック１の回転を開始することにより基板
Ｗを水平姿勢で回転駆動する。基板Ｗの回転が所定の低
速回転数に到達すると、処理液供給ノズル５の先端部５
ａから現像液Ｄを一定の流速で基板Ｗに対して供給開始
する。

【００２８】このように基板Ｗに対して現像液Ｄが供給
されると、現像液Ｄはフォトレジスト被膜の一部を溶解
しつつ基板Ｗの回転中心付近から周縁部に向けて次第に
拡がってゆく。そして、周縁部に到達した現像液Ｄは、
飛散防止カップ７の案内傾斜面７ａに向かって飛散する
（図中の二点鎖線矢印）。このとき基板Ｗから飛散する
現像液Ｄのほとんどは、案内傾斜面７ａによって受け止
められるが、この部分には超撥水性層Ｓが形成されてい
るので、飛散した現像液Ｄは重力により容易にその面を
流下する。したがって、現像液Ｄが傾斜案内面７ａに付
着堆積することを防止できる。案内傾斜面７ａを流下し
た現像液Ｄは、排液ゾーン７ｄで受け止められて排液口
７ｅを通って回収される。また、現像液Ｄが案内傾斜面
７ａに受け止められた際に霧状のミストが生じるが、こ
のミストは上カップ７ｂの上部開口から流入した気流に
乗せられて、排気ゾーン７ｇおよび排気口７ｈを経て排
気されるので、それが基板Ｗに付着するような不都合は
生じない。

【００２９】そして、所定時間が経過した後に現像液Ｄ
の供給を停止する。その後、基板Ｗの回転数を高速の回
転数に切り換えて、所定時間これを保持することにより
基板Ｗの乾燥が行われ、回転を停止することにより基板
Ｗに対する現像処理が完了する。なお、この乾燥の過程
においても基板Ｗから現像液Ｄが僅かに飛散するが、上
述したように飛散防止カップ７の案内傾斜面７ａに現像
液Ｄが付着堆積することを防止できる。このような一連
の処理によって基板Ｗ表面のフォトレジスト被膜には凹
凸を有する所定のパターンが形成される。

【００３０】上述したように、現像液Ｄが案内傾斜面７
ａに付着堆積することが防止されているので、これが乾
燥することにより生じるパーティクルによって基板Ｗが
汚染されるような不都合を防止することができる。ま
た、飛散防止カップ７が汚れにくくなるので、飛散防止
カップ７の洗浄回数を少なくすることができて、装置の
稼働率を向上させることができる。さらに、この装置
は、整流部材７ｆを備えているので、基板Ｗの回転時に
おける気流の乱れを抑制することができ、現像処理を基
板Ｗの表面全面にわたって均一に施すことができる。な
お、基板Ｗの表面全体にわたって処理を均一にする必要
がない場合や、回転時における気流の乱れが極めて少な
い場合には、上記の整流部材７ｆを備える必要はない。

【００３１】なお、上述した例では、飛散防止カップ７
のうち上カップ７ｂの案内傾斜面７ａのみに超撥水性層
Ｓを形成するようにしたが、図２に示すように飛散した
現像液Ｄが付着する恐れがある部分の全てに超撥水性像
Ｓを形成しておくことが好ましい。具体的には、上記の
案内傾斜面７ａを含む、上カップ７ｂの内面の全体を超
撥水性層Ｓで形成するとともに、排液ゾーン７ｄと、排
液口７ｅと、排気ゾーン７ｇと、排気口７ｈとを含む下
カップ７ｃの内面の全体に超撥水性層Ｓを形成する。さ
らに、排気ゾーン７ｇを含む整流部材７ｆの表面全体に
も超撥水性層Ｓを形成する。

【００３２】このように超撥水性層Ｓを形成しておくこ
とにより、案内傾斜面７ａに飛散した現像液Ｄは、案内
傾斜面７ａを重力によって容易に流下するとともに、排
液ゾーン７ｄおよび排液口７ｅを抵抗少なくとおって容
易に回収される。したがって、上カップ７ｂだけでなく
下カップ７ｃの内面に現像液Ｄが付着堆積することをよ
り防止できる。その結果、付着堆積した現像液Ｄに起因
する基板Ｗの汚染をさらに防止することができる。ま
た、上述した装置よりも飛散防止カップ７がさらに汚れ
にくくなるので、飛散防止カップ７の洗浄回数を極めて
少なくすることができて、装置の稼働率を大幅に向上さ
せることができる。また、整流部材７ｆの傾斜面にも超
撥水性層Ｓを形成しているので、現像液Ｄおよびそのミ
ストの付着堆積を防止でき、基板Ｗに対する処理を均一
にすることができつつも基板Ｗの汚染を防止することが
できる。

【００３３】また、これらに加えて、さらに待機ポッド
９の排液口９ｂを含む待機ポッド９の内面の全体にも超
撥水性層Ｓを形成しておく。上述したように処理液供給
ノズル５が待機位置にある際には、その先端部５ａ内部
の現像液Ｄが乾燥することを防止するために、先端部５
ａを待機ポッド９の挿抜穴９ａに挿入しておく。しか
し、この時に、図中の二点鎖線矢印で示すように、先端
部５ａから現像液Ｄが漏れ出ることがある。この漏れ出
た現像液Ｄがその傾斜面９ｃに付着堆積すると、乾燥時
にパーティクルを生じて先端部５ａに付着し、処理液供
給ノズル５が供給位置に移動した際に基板Ｗを汚染する
という不都合が生じる恐れがある。しかし、この場合に
は、待機ポッド９の内面に超撥水性層Ｓを形成している
ので、先端部５ａから漏れ出て傾斜面９ｃに付着した現
像液Ｄは、容易に重力によって排液口９ｂに流下して回
収されることになる。したがって、上述したような不都
合を防止することができる。

【００３４】なお、上述した図２に示す変形例では、下
カップ７ｃの排気口７ｈにも超撥水性層Ｓを形成した
が、この部分には直接的に現像液Ｄが付着することは稀
であるので、超撥水性層Ｓを形成しなくてもよい。ま
た、整流部材７ｆの下面についても同様の理由により、
超撥水性層Ｓを形成しなくてもよい。

【００３５】また、飛散防止カップ７内への現像液Ｄの
付着堆積が僅かな場合には、待機ポッド９の内面だけに
超撥水性層Ｓを形成して、先端部５ａから漏れ出る現像
液Ｄに起因する基板Ｗの汚染を防止するようにしてもよ
い。

【００３６】また、上述した例では、超撥水性材料を塗
布またはメッキ処理することによって超撥水性層Ｓを形
成したが、超撥水性層Ｓを形成することなくＴＦＥなど
の超撥水性材料を用いて飛散防止カップ７の上カップ７
ｂや、飛散防止カップ７の全体を一体的に形成するよう
にしてもよい。

【００３７】なお、上記の説明においては、回転式基板
現像装置を例に採って説明したが、本発明はこの装置に
限定されるものではなく、例えば、基板にフォトレジス
ト被膜を形成する回転式基板塗布装置であっても適用可
能である。

【００３８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、飛散防止カップのうち最も多
くの処理液を受け止める案内傾斜面を超撥水性材料で形
成しておくことにより、飛散防止カップ内面への処理液
の付着を防止することができる。したがって、飛散防止
カップの内面に付着堆積した処理液に起因する基板の汚
染を防止することができる。また、飛散防止カップ内面
が汚れにくくなるので、飛散防止カップの定期的な洗浄
回数を少なくすることができ、装置の稼働率を向上させ
ることができる。

【００３９】また、請求項２に記載の発明によれば、傾
斜案内面によって下方に案内された処理液が排液ゾーン
に付着堆積することを防止できるので、飛散防止カップ
内面への処理液の付着をより防止することができる。し
たがって、飛散防止カップの内面に付着堆積した処理液
に起因する基板の汚染をさらに防止することができる。
また、飛散防止カップ内面が極めて汚れにくくなるの
で、飛散防止カップの定期的な洗浄回数を極めて少なく
することができ、装置の稼働率を大幅に向上させること
ができる。

【００４０】また、請求項３に記載の発明によれば、整
流部材を超撥水性材料で形成することにより、気流の乱
れに起因する処理不均一を防止しつつも、飛散した処理
液やミストが整流部材に付着堆積することを防止するこ
とができる。したがって、基板の処理を均一に施すこと
ができるとともに、付着堆積した処理液に起因する基板
の汚染を防止することができる。

【００４１】また、請求項４に記載の発明によれば、処
理液が待機ポッドの内面に付着することを防止すること
ができるので、待機ポッド内面に付着した処理液に起因
するパーティクルが処理液供給手段に付着して基板を汚
染することを防止できる。

【００４２】また、請求項５に記載の発明によれば、超
撥水性材料として接触角が１２０°以上のものを採用す
ることにより撥水性を高め、飛散防止カップや待機ポッ
ドに処理液が付着することをさらに確実に防止すること
ができる。したがって、付着した処理液に起因する基板
汚染をさらに防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例に係る回転式基板現像装置の概略構成を
示す縦断面図である。

【図２】変形例を示す図である。

【図３】従来装置の概略構成を示す図である。

【図４】従来装置の問題点の説明に供する図である。

【符号の説明】

Ｗ … 基板 Ｄ … 現像液 Ｓ … 超撥水性層 １ … スピンチャック ５ … 処理液供給ノズル（処理液供給手段） ５ａ … 先端部 ７ … 飛散防止カップ ７ａ … 案内傾斜面 ７ｂ … 上カップ ７ｃ … 下カップ ７ｄ … 排液ゾーン ７ｅ … 排気口 ７ｆ … 整流部材 ９ … 待機ポッド ９ａ … 挿抜穴

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転支持手段により支持された基板の周
   囲を囲い、基板から周囲に飛散した処理液を下方に案内
   する案内傾斜面と、案内傾斜面により下方に案内された
   処理液を回収する排液ゾーンとを有する飛散防止カップ
   を備えた回転式基板処理装置において、 前記飛散防止カップのうち少なくとも前記案内傾斜面を
   超撥水性材料で形成したことを特徴とする回転式基板処
   理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の回転式基板処理装置に
   おいて、さらに前記排液ゾーンを超撥水性材料で形成し
   たことを特徴とする回転式基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の回転式
   基板処理装置において、前記飛散防止カップと前記回転
   支持手段との間に介在して基板の周囲の気流の流れを整
   える整流部材をさらに備えるとともに、この整流部材を
   超撥水性材料で形成したことを特徴とする回転式基板処
   理装置。
4. 【請求項４】 回転支持手段により支持された基板の上
   方にあたる処理液の供給位置と、基板から側方に離れた
   待機位置とにわたって移動自在の処理液供給手段と、前
   記待機位置にて前記処理液供給手段の先端部を受け入れ
   る待機ポッドとを備えた回転式基板処理装置において、 前記待機ポッドの少なくとも内面を超撥水性材料で形成
   したことを特徴とする回転式基板処理装置。
5. 【請求項５】 請求項１または請求項４に記載の回転式
   基板処理装置において、前記超撥水性材料は、接触角が
   １２０°以上のものであることを特徴とする回転式基板
   処理装置。