JPH1028918A - 回転式基板処理装置 - Google Patents
回転式基板処理装置Info
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- JPH1028918A JPH1028918A JP19037096A JP19037096A JPH1028918A JP H1028918 A JPH1028918 A JP H1028918A JP 19037096 A JP19037096 A JP 19037096A JP 19037096 A JP19037096 A JP 19037096A JP H1028918 A JPH1028918 A JP H1028918A
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- JP
- Japan
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- substrate
- cup
- super
- processing liquid
- water
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Prevention Of Fouling (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 飛散防止カップの内面への処理液の付着を防
止することにより、基板の汚染を防止することができ
る。 【解決手段】 スピンチャック1により支持された基板
Wの周囲を囲い、基板Wから周囲に飛散した現像液Dを
下方に案内する案内傾斜面7aと、案内傾斜面7aによ
り下方に案内された現像液Dを回収する排液ゾーン7d
とを有する飛散防止カップ7を備えた回転式基板現像装
置において、飛散防止カップ7のうち少なくとも案内傾
斜面7aに超撥水性層Sを形成しておく。飛散した現像
液Dは、超撥水性層Sを形成された案内傾斜面7aを容
易に流下して排液ゾーン7dに流下するので、現像液D
が付着堆積することを防止できる。
止することにより、基板の汚染を防止することができ
る。 【解決手段】 スピンチャック1により支持された基板
Wの周囲を囲い、基板Wから周囲に飛散した現像液Dを
下方に案内する案内傾斜面7aと、案内傾斜面7aによ
り下方に案内された現像液Dを回収する排液ゾーン7d
とを有する飛散防止カップ7を備えた回転式基板現像装
置において、飛散防止カップ7のうち少なくとも案内傾
斜面7aに超撥水性層Sを形成しておく。飛散した現像
液Dは、超撥水性層Sを形成された案内傾斜面7aを容
易に流下して排液ゾーン7dに流下するので、現像液D
が付着堆積することを防止できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板に対して現像液、フ
ォトレジスト液、ポリイミド樹脂、SOG(Spin On Glass,
シリカ系被膜形成材とも呼ばれる)液などの処理液を吐
出して回転自在の基板に対して処理を施す技術に係り、
特に処理液の付着に起因する基板汚染を防止する技術に
関する。
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板に対して現像液、フ
ォトレジスト液、ポリイミド樹脂、SOG(Spin On Glass,
シリカ系被膜形成材とも呼ばれる)液などの処理液を吐
出して回転自在の基板に対して処理を施す技術に係り、
特に処理液の付着に起因する基板汚染を防止する技術に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の回転式基板処理装置とし
て、例えば、所定のパターンが露光されたフォトレジス
ト被膜を表面に有する基板を回転させ、その表面に現像
液を供給して現像処理を施す回転式基板現像装置が挙げ
られる。この装置の概略構成について図3を参照して以
下に説明する。
て、例えば、所定のパターンが露光されたフォトレジス
ト被膜を表面に有する基板を回転させ、その表面に現像
液を供給して現像処理を施す回転式基板現像装置が挙げ
られる。この装置の概略構成について図3を参照して以
下に説明する。
【0003】スピンチャック1は、表面にフォトレジス
ト被膜が形成されている基板Wをほぼ水平姿勢で吸着保
持するものであり、軸芯P回りで基板Wを回転駆動する
ものである。スピンチャック1によって吸着保持された
基板Wの表面には、処理液供給ノズル5の先端部から現
像液Dが供給される。スピンチャック1の周囲には、特
に基板Wの表面に供給された現像液Dがその周囲に飛散
することを防止するとともに、飛散した現像液Dを回収
する飛散防止カップ7が配設されている。
ト被膜が形成されている基板Wをほぼ水平姿勢で吸着保
持するものであり、軸芯P回りで基板Wを回転駆動する
ものである。スピンチャック1によって吸着保持された
基板Wの表面には、処理液供給ノズル5の先端部から現
像液Dが供給される。スピンチャック1の周囲には、特
に基板Wの表面に供給された現像液Dがその周囲に飛散
することを防止するとともに、飛散した現像液Dを回収
する飛散防止カップ7が配設されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、図4に示すように、飛散防止カップ7
の内面、特に基板Wの周縁部の側方にあたり、周囲に飛
散した現像液Dを飛散防止カップ7内の下方に案内する
案内傾斜面には、大量の処理液が受け止められること起
因して、溶解したフォトレジスト液を含む現像液Dが付
着する。この付着した現像液Dは、基板Wを順次に処理
するにしたがって堆積してゆき、案内傾斜面を含む飛散
防止カップ7の内面に付着堆積することになる。このよ
うに現像液Dが飛散防止カップ7の内面に付着すると、
これが乾燥した後にパーティクルとなって飛散防止カッ
プ7内を浮遊して基板Wを汚染するという問題点があ
る。したがって、このような問題が生じないように、定
期的にその現像液Dを洗浄除去する必要がある。特に、
現像液Dが重金属類を含むものである場合には、その汚
染による悪影響は深刻な問題である。具体的な現像液D
の洗浄除去の手法としては、飛散防止カップ7を装置か
ら取り外した後、溶剤などの洗浄液によって洗浄除去し
たり、あるいは飛散防止カップ7内面に洗浄液を吐出す
る洗浄機構を配設してこれを用いて現像液Dを洗浄除去
するものがある。この洗浄処理は、一般的に、現像処理
を停止した状態で行うので、装置の稼働率が低下するこ
とになる。
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、図4に示すように、飛散防止カップ7
の内面、特に基板Wの周縁部の側方にあたり、周囲に飛
散した現像液Dを飛散防止カップ7内の下方に案内する
案内傾斜面には、大量の処理液が受け止められること起
因して、溶解したフォトレジスト液を含む現像液Dが付
着する。この付着した現像液Dは、基板Wを順次に処理
するにしたがって堆積してゆき、案内傾斜面を含む飛散
防止カップ7の内面に付着堆積することになる。このよ
うに現像液Dが飛散防止カップ7の内面に付着すると、
これが乾燥した後にパーティクルとなって飛散防止カッ
プ7内を浮遊して基板Wを汚染するという問題点があ
る。したがって、このような問題が生じないように、定
期的にその現像液Dを洗浄除去する必要がある。特に、
現像液Dが重金属類を含むものである場合には、その汚
染による悪影響は深刻な問題である。具体的な現像液D
の洗浄除去の手法としては、飛散防止カップ7を装置か
ら取り外した後、溶剤などの洗浄液によって洗浄除去し
たり、あるいは飛散防止カップ7内面に洗浄液を吐出す
る洗浄機構を配設してこれを用いて現像液Dを洗浄除去
するものがある。この洗浄処理は、一般的に、現像処理
を停止した状態で行うので、装置の稼働率が低下するこ
とになる。
【0005】また、未処理の基板Wを飛散防止カップ7
内に搬入したり、処理済みの基板Wを飛散防止カップ7
外に搬出したりする際には、処理液供給ノズル5が基板
Wおよび図示しない搬送機構と干渉しないように待機位
置にまで移動する。このときにはその先端部が乾燥する
ことなどを防止するために、待機ポッドにその先端部を
収納するようになっている。しかしながら、その待機ポ
ッド内において、処理液供給ノズル5の先端部から現像
液が漏れ出た場合には、待機ポッドの内面にその漏れ出
た現像液が付着堆積することになる。このように待機ポ
ッドの内面に現像液が付着堆積すると、やはり乾燥した
際にパーティクルを生じる。生じたパーティクルが処理
液供給ノズル5に付着すると、処理液供給ノズル5が供
給位置に移動した際に基板Wを汚染するという問題点が
ある。したがって、このような不都合を回避するため
に、定期的に待機ポッドを取り外してその内面を洗浄液
で洗浄する必要あるので、装置の稼働率低下を招く。
内に搬入したり、処理済みの基板Wを飛散防止カップ7
外に搬出したりする際には、処理液供給ノズル5が基板
Wおよび図示しない搬送機構と干渉しないように待機位
置にまで移動する。このときにはその先端部が乾燥する
ことなどを防止するために、待機ポッドにその先端部を
収納するようになっている。しかしながら、その待機ポ
ッド内において、処理液供給ノズル5の先端部から現像
液が漏れ出た場合には、待機ポッドの内面にその漏れ出
た現像液が付着堆積することになる。このように待機ポ
ッドの内面に現像液が付着堆積すると、やはり乾燥した
際にパーティクルを生じる。生じたパーティクルが処理
液供給ノズル5に付着すると、処理液供給ノズル5が供
給位置に移動した際に基板Wを汚染するという問題点が
ある。したがって、このような不都合を回避するため
に、定期的に待機ポッドを取り外してその内面を洗浄液
で洗浄する必要あるので、装置の稼働率低下を招く。
【0006】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、飛散防止カップの内面への処理液の付
着を防止することにより、基板の汚染を防止することが
できる回転式基板処理装置を提供することを目的とす
る。
たものであって、飛散防止カップの内面への処理液の付
着を防止することにより、基板の汚染を防止することが
できる回転式基板処理装置を提供することを目的とす
る。
【0007】また、本発明のもう一つの目的は、待機ポ
ッドの内面への処理液の付着を防止することにより、基
板の汚染を防止することができる回転式基板処理装置を
提供することにある。
ッドの内面への処理液の付着を防止することにより、基
板の汚染を防止することができる回転式基板処理装置を
提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の回転式基板処理装置は、回転支持
手段により支持された基板の周囲を囲い、基板から周囲
に飛散した処理液を下方に案内する案内傾斜面と、案内
傾斜面により下方に案内された処理液を回収する排液ゾ
ーンとを有する飛散防止カップを備えた回転式基板処理
装置において、前記飛散防止カップのうち少なくとも前
記案内傾斜面を超撥水性材料で形成したことを特徴とす
るものである。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の回転式基板処理装置は、回転支持
手段により支持された基板の周囲を囲い、基板から周囲
に飛散した処理液を下方に案内する案内傾斜面と、案内
傾斜面により下方に案内された処理液を回収する排液ゾ
ーンとを有する飛散防止カップを備えた回転式基板処理
装置において、前記飛散防止カップのうち少なくとも前
記案内傾斜面を超撥水性材料で形成したことを特徴とす
るものである。
【0009】また、請求項2に記載の回転式基板処理装
置は、請求項1に記載の回転式基板処理装置において、
さらに前記排液ゾーンを超撥水性材料で形成したことを
特徴とするものである。
置は、請求項1に記載の回転式基板処理装置において、
さらに前記排液ゾーンを超撥水性材料で形成したことを
特徴とするものである。
【0010】また、請求項3に記載の回転式基板処理装
置は、請求項1または請求項2に記載の回転式基板処理
装置において、前記飛散防止カップと前記回転支持手段
との間に介在して基板の周囲の気流の流れを整える整流
部材をさらに備えるとともに、この整流部材を超撥水性
材料で形成したことを特徴とするものである。
置は、請求項1または請求項2に記載の回転式基板処理
装置において、前記飛散防止カップと前記回転支持手段
との間に介在して基板の周囲の気流の流れを整える整流
部材をさらに備えるとともに、この整流部材を超撥水性
材料で形成したことを特徴とするものである。
【0011】また、請求項4に記載の回転式基板処理装
置は、回転支持手段により支持された基板の上方にあた
る処理液の供給位置と、基板から側方に離れた待機位置
とにわたって移動自在の処理液供給手段と、前記待機位
置にて前記処理液供給手段の先端部を受け入れる待機ポ
ッドとを備えた回転式基板処理装置において、前記待機
ポッドの少なくとも内面を超撥水性材料で形成したこと
を特徴とするものである。
置は、回転支持手段により支持された基板の上方にあた
る処理液の供給位置と、基板から側方に離れた待機位置
とにわたって移動自在の処理液供給手段と、前記待機位
置にて前記処理液供給手段の先端部を受け入れる待機ポ
ッドとを備えた回転式基板処理装置において、前記待機
ポッドの少なくとも内面を超撥水性材料で形成したこと
を特徴とするものである。
【0012】また、請求項5に記載の回転式基板処理装
置は、請求項1または請求項4に記載の回転式基板処理
装置において、前記超撥水性材料は、接触角が120°
以上のものであることを特徴とするものである。
置は、請求項1または請求項4に記載の回転式基板処理
装置において、前記超撥水性材料は、接触角が120°
以上のものであることを特徴とするものである。
【0013】
【作用】請求項1に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。回転支持手段により支持された基板から周囲に飛散
した処理液は、飛散防止カップの案内傾斜面で最も多く
受け止められて下方に案内され、排液ゾーンで回収され
る。つまり、飛散防止カップのうち最も多くの処理液が
付着堆積しやすいのが案内傾斜面であるが、その部分を
超撥水性材料で形成しておくことにより、飛散した処理
液を傾斜案内面に付着堆積させることなく重力により容
易に流下させて排液ゾーンにて回収させることができ
る。したがって、飛散防止カップの内面への処理液の付
着を防止することができる。
る。回転支持手段により支持された基板から周囲に飛散
した処理液は、飛散防止カップの案内傾斜面で最も多く
受け止められて下方に案内され、排液ゾーンで回収され
る。つまり、飛散防止カップのうち最も多くの処理液が
付着堆積しやすいのが案内傾斜面であるが、その部分を
超撥水性材料で形成しておくことにより、飛散した処理
液を傾斜案内面に付着堆積させることなく重力により容
易に流下させて排液ゾーンにて回収させることができ
る。したがって、飛散防止カップの内面への処理液の付
着を防止することができる。
【0014】また、請求項2に記載の発明によると、案
内傾斜面で下方に案内された処理液は排液ゾーンに滞留
するが、排液ゾーンが超撥水性材料で形成されているの
で、処理液が付着堆積することを防止できる。したがっ
て、飛散防止カップの内面への処理液の付着をより防止
することができる。
内傾斜面で下方に案内された処理液は排液ゾーンに滞留
するが、排液ゾーンが超撥水性材料で形成されているの
で、処理液が付着堆積することを防止できる。したがっ
て、飛散防止カップの内面への処理液の付着をより防止
することができる。
【0015】また、請求項3に記載の発明によると、基
板が回転支持手段により回転駆動された場合にその周囲
の気流が乱れることに起因して処理が不均一になる場合
があるが、飛散防止カップと回転支持手段との間に整流
部材を備えることによりこのような不都合を防止するこ
とができる。その一方で、飛散した処理液やその霧状の
ミストが整流部材に付着すると、乾燥した際にパーティ
クルを生じて基板を汚染する恐れがある。そこで、この
整流部材を超撥水性材料で形成することにより、気流の
乱れに起因する処理不均一を防止しつつも、飛散した処
理液やミストが整流部材に付着堆積することを防止する
ことができる。
板が回転支持手段により回転駆動された場合にその周囲
の気流が乱れることに起因して処理が不均一になる場合
があるが、飛散防止カップと回転支持手段との間に整流
部材を備えることによりこのような不都合を防止するこ
とができる。その一方で、飛散した処理液やその霧状の
ミストが整流部材に付着すると、乾燥した際にパーティ
クルを生じて基板を汚染する恐れがある。そこで、この
整流部材を超撥水性材料で形成することにより、気流の
乱れに起因する処理不均一を防止しつつも、飛散した処
理液やミストが整流部材に付着堆積することを防止する
ことができる。
【0016】また、請求項4に記載の発明の作用に次の
とおりである。処理液供給手段は、処理液を供給する際
には基板の上方にあたる供給位置にその先端部を移動
し、基板の搬送時には待機位置に配設された待機ポッド
にその先端部を移動する。その先端部が待機ポッドに受
け入れられている際に処理液が漏れ出たとしても、少な
くとも待機ポッドの内面は超撥水性材料で形成されてい
るので、処理液は重力によって容易に流下する。したが
って、処理液が待機ポッドの内面に付着することを防止
することができる。
とおりである。処理液供給手段は、処理液を供給する際
には基板の上方にあたる供給位置にその先端部を移動
し、基板の搬送時には待機位置に配設された待機ポッド
にその先端部を移動する。その先端部が待機ポッドに受
け入れられている際に処理液が漏れ出たとしても、少な
くとも待機ポッドの内面は超撥水性材料で形成されてい
るので、処理液は重力によって容易に流下する。したが
って、処理液が待機ポッドの内面に付着することを防止
することができる。
【0017】また、請求項5に記載の発明の作用は次の
とおりである。飛散防止カップや待機ポッドを形成する
材料として一般的に利用されているPTFE(ポリテトラフ
ルオロエチレン)やPTCFE (ポリクロロトリフルオロエ
チレン)などのフッ素樹脂は、その接触角が約110°
と小さく撥水性が低いものである。経験的に接触角が1
20°以上となると液滴が転がり始めるので、超撥水性
材料として接触角が120°以上のものを採用すること
により撥水性を高め、飛散防止カップや待機ポッドに処
理液が付着することをさらに確実に防止することができ
る。
とおりである。飛散防止カップや待機ポッドを形成する
材料として一般的に利用されているPTFE(ポリテトラフ
ルオロエチレン)やPTCFE (ポリクロロトリフルオロエ
チレン)などのフッ素樹脂は、その接触角が約110°
と小さく撥水性が低いものである。経験的に接触角が1
20°以上となると液滴が転がり始めるので、超撥水性
材料として接触角が120°以上のものを採用すること
により撥水性を高め、飛散防止カップや待機ポッドに処
理液が付着することをさらに確実に防止することができ
る。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図1は、本発明の回転式基板処理装
置の一例である回転式基板現像装置の概略構成を示す縦
断面図である。なお、処理の対象である基板として半導
体ウエハを例に採って説明するが、これを単に基板と称
することにする。
実施例を説明する。図1は、本発明の回転式基板処理装
置の一例である回転式基板現像装置の概略構成を示す縦
断面図である。なお、処理の対象である基板として半導
体ウエハを例に採って説明するが、これを単に基板と称
することにする。
【0019】図中、符号1は、基板Wを水平姿勢で吸着
保持するスピンチャックである。このスピンチャック1
は、図示しない駆動手段の回転軸に連動連結されてお
り、軸芯P回りで回転されるようになっている。スピン
チャック1の上方には、現像液Dを吐出する先端部5a
がその軸芯Pの上方に位置するように処理液供給ノズル
5が配備されている。この処理液供給ノズル5は、先端
部5aが基板Wの表面から一定距離だけ離れた供給位置
(図中の実線)と、その上方に大きく離れた退避位置
(図中の二点鎖線)と、そこから側方に大きく離れた待
機位置(図中の二点鎖線)とにわたって移動可能に構成
されている。なお、スピンチャック1は本発明における
回転支持手段に相当し、処理液供給ノズル5は本発明に
おける処理液供給手段に相当するものである。
保持するスピンチャックである。このスピンチャック1
は、図示しない駆動手段の回転軸に連動連結されてお
り、軸芯P回りで回転されるようになっている。スピン
チャック1の上方には、現像液Dを吐出する先端部5a
がその軸芯Pの上方に位置するように処理液供給ノズル
5が配備されている。この処理液供給ノズル5は、先端
部5aが基板Wの表面から一定距離だけ離れた供給位置
(図中の実線)と、その上方に大きく離れた退避位置
(図中の二点鎖線)と、そこから側方に大きく離れた待
機位置(図中の二点鎖線)とにわたって移動可能に構成
されている。なお、スピンチャック1は本発明における
回転支持手段に相当し、処理液供給ノズル5は本発明に
おける処理液供給手段に相当するものである。
【0020】スピンチャック1の周囲には、上部に開口
を有するとともに、基板Wから周囲に飛散する現像液D
を下方に案内する案内傾斜面7aを備えた上カップ7b
と、下方に案内された現像液Dを回収する下カップ7c
とからなる飛散防止カップ7が配設されている。上カッ
プ7bは、その外周側面が下カップ7cの段差部に嵌め
込まれて取り付けられており、容易に着脱することがで
きる。上カップ7bの案内傾斜面7aには、超撥水性材
料が塗布されて超撥水性層S(図中に点線で示す)が形
成されている。なお、経験的に接触角が120°程度で
液滴が転がりはじめるので、超撥水性材料としては接触
角が120°以上のものが好ましい。また、超撥水性層
Sを形成するために、上記の塗布処理に代えて案内傾斜
面7aにメッキ処理を施すようにしてもよい。このメッ
キとしては、TFE(テトラフルオロエチレン)含有複
合メッキ、例えば、TFE含有亜鉛複合メッキやTFE
含有銅複合メッキなどが挙げられる。
を有するとともに、基板Wから周囲に飛散する現像液D
を下方に案内する案内傾斜面7aを備えた上カップ7b
と、下方に案内された現像液Dを回収する下カップ7c
とからなる飛散防止カップ7が配設されている。上カッ
プ7bは、その外周側面が下カップ7cの段差部に嵌め
込まれて取り付けられており、容易に着脱することがで
きる。上カップ7bの案内傾斜面7aには、超撥水性材
料が塗布されて超撥水性層S(図中に点線で示す)が形
成されている。なお、経験的に接触角が120°程度で
液滴が転がりはじめるので、超撥水性材料としては接触
角が120°以上のものが好ましい。また、超撥水性層
Sを形成するために、上記の塗布処理に代えて案内傾斜
面7aにメッキ処理を施すようにしてもよい。このメッ
キとしては、TFE(テトラフルオロエチレン)含有複
合メッキ、例えば、TFE含有亜鉛複合メッキやTFE
含有銅複合メッキなどが挙げられる。
【0021】下カップ7cは、その底部に平面視リング
状の排液ゾーン7dが形成されている。排液ゾーン7d
の一部位には、図示しない排液タンクに連通接続された
排液口7eが形成されている。これらの排液ゾーン7d
および排液口7eを介して現像液Dが回収されるように
なっている。
状の排液ゾーン7dが形成されている。排液ゾーン7d
の一部位には、図示しない排液タンクに連通接続された
排液口7eが形成されている。これらの排液ゾーン7d
および排液口7eを介して現像液Dが回収されるように
なっている。
【0022】下カップ7cとスピンチャック1との間に
は、中心側から周縁部に向かって下向きの傾斜面を有
し、平面視でほぼ円形状の整流部材7fが配設されてい
る。この整流部材7fは、基板Wが回転駆動された際
に、その周囲の気流が乱れることを防止するものであ
る。この整流部材7fが配備されていることにより、後
述する現像処理を均一に施すことが可能となる。整流部
材7fは、下カップ7cの中心側底部に嵌め込まれてお
り、それらにより平面視リング状の空間(排気ゾーン)
7gが形成されている。この排気ゾーン7gの底部に相
当する下カップ7cの一部位には、図示しない排気手段
に連通接続された排気口7hが形成されている。上カッ
プ7bの上部開口から流入した気流は、基板Wの周縁部
を流下し、整流部材7fによって整流された後に、現像
液Dが飛散して生じる霧状のミストを乗せて排気ゾーン
7gおよび排気口7hを通って排気される。
は、中心側から周縁部に向かって下向きの傾斜面を有
し、平面視でほぼ円形状の整流部材7fが配設されてい
る。この整流部材7fは、基板Wが回転駆動された際
に、その周囲の気流が乱れることを防止するものであ
る。この整流部材7fが配備されていることにより、後
述する現像処理を均一に施すことが可能となる。整流部
材7fは、下カップ7cの中心側底部に嵌め込まれてお
り、それらにより平面視リング状の空間(排気ゾーン)
7gが形成されている。この排気ゾーン7gの底部に相
当する下カップ7cの一部位には、図示しない排気手段
に連通接続された排気口7hが形成されている。上カッ
プ7bの上部開口から流入した気流は、基板Wの周縁部
を流下し、整流部材7fによって整流された後に、現像
液Dが飛散して生じる霧状のミストを乗せて排気ゾーン
7gおよび排気口7hを通って排気される。
【0023】なお、現像処理を施された処理済みの基板
Wを飛散防止カップ7内から搬出したり、未処理の基板
Wを飛散防止カップ7内へ搬入する際には、飛散防止カ
ップ7とスピンチャック1とが相対昇降される。つま
り、図中に二点鎖線で示すように、飛散防止カップ7と
スピンチャック1とが相対昇降されることにより、飛散
防止カップ7の上方にスピンチャック1が突出し、基板
Wに現像処理を施す場合にはスピンチャック1が飛散防
止カップ7内に収納されるようになっている。
Wを飛散防止カップ7内から搬出したり、未処理の基板
Wを飛散防止カップ7内へ搬入する際には、飛散防止カ
ップ7とスピンチャック1とが相対昇降される。つま
り、図中に二点鎖線で示すように、飛散防止カップ7と
スピンチャック1とが相対昇降されることにより、飛散
防止カップ7の上方にスピンチャック1が突出し、基板
Wに現像処理を施す場合にはスピンチャック1が飛散防
止カップ7内に収納されるようになっている。
【0024】また、上述したように処理液供給ノズル5
は、その先端部5aが基板Wの軸芯Pの上方にあたる供
給位置と、その上方の退避位置と、その側方に大きく離
れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている。
待機位置には、処理液供給ノズル5の先端部5aを受け
入れて、その内部の現像液が固化することを防止する待
機ポッド9が配備されている。待機ポッド9は、処理液
供給ノズル5の先端部5aを受け入れ可能な大きさを有
する挿抜穴9aをその上面に形成されており、その直下
付近には、排液口9bに向けて傾斜した傾斜面9cを形
成されている。この待機ポッド9内には、先端部5a内
部の現像液が容易に固化しないように図示しない湿潤保
持手段が備えられていることが好ましい。なお、処理液
供給ノズル5が待機位置にある際に、その先端部5aか
ら現像液が漏れ出た場合には、傾斜面9cを流下して排
液口9bから排出されるようになっている。
は、その先端部5aが基板Wの軸芯Pの上方にあたる供
給位置と、その上方の退避位置と、その側方に大きく離
れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている。
待機位置には、処理液供給ノズル5の先端部5aを受け
入れて、その内部の現像液が固化することを防止する待
機ポッド9が配備されている。待機ポッド9は、処理液
供給ノズル5の先端部5aを受け入れ可能な大きさを有
する挿抜穴9aをその上面に形成されており、その直下
付近には、排液口9bに向けて傾斜した傾斜面9cを形
成されている。この待機ポッド9内には、先端部5a内
部の現像液が容易に固化しないように図示しない湿潤保
持手段が備えられていることが好ましい。なお、処理液
供給ノズル5が待機位置にある際に、その先端部5aか
ら現像液が漏れ出た場合には、傾斜面9cを流下して排
液口9bから排出されるようになっている。
【0025】次に、上述したように構成された回転式基
板現像装置の動作について説明する。なお、基板Wの表
面には、既にフォトレジスト被膜が形成されており、さ
らに所定パターンの露光が行われているものとする。
板現像装置の動作について説明する。なお、基板Wの表
面には、既にフォトレジスト被膜が形成されており、さ
らに所定パターンの露光が行われているものとする。
【0026】まず、スピンチャック1と飛散防止カップ
7とが相対昇降し、スピンチャック1が飛散防止カップ
7から上方に突出する。この状態で、図示しない基板搬
送機構が未処理の基板Wをスピンチャック1に載置す
る。なお、このとき処理液供給ノズル5は、その先端部
5aが待機ポッド9の挿抜穴9aに挿入された状態であ
る。
7とが相対昇降し、スピンチャック1が飛散防止カップ
7から上方に突出する。この状態で、図示しない基板搬
送機構が未処理の基板Wをスピンチャック1に載置す
る。なお、このとき処理液供給ノズル5は、その先端部
5aが待機ポッド9の挿抜穴9aに挿入された状態であ
る。
【0027】スピンチャック1が基板Wを吸着保持する
とともに、処理液供給ノズル5が退避位置を通って移動
し、その先端部5aが基板Wの軸芯Pの上方にあたる供
給位置(図中の実線で示す位置)にまで移動する。次
に、スピンチャック1の回転を開始することにより基板
Wを水平姿勢で回転駆動する。基板Wの回転が所定の低
速回転数に到達すると、処理液供給ノズル5の先端部5
aから現像液Dを一定の流速で基板Wに対して供給開始
する。
とともに、処理液供給ノズル5が退避位置を通って移動
し、その先端部5aが基板Wの軸芯Pの上方にあたる供
給位置(図中の実線で示す位置)にまで移動する。次
に、スピンチャック1の回転を開始することにより基板
Wを水平姿勢で回転駆動する。基板Wの回転が所定の低
速回転数に到達すると、処理液供給ノズル5の先端部5
aから現像液Dを一定の流速で基板Wに対して供給開始
する。
【0028】このように基板Wに対して現像液Dが供給
されると、現像液Dはフォトレジスト被膜の一部を溶解
しつつ基板Wの回転中心付近から周縁部に向けて次第に
拡がってゆく。そして、周縁部に到達した現像液Dは、
飛散防止カップ7の案内傾斜面7aに向かって飛散する
(図中の二点鎖線矢印)。このとき基板Wから飛散する
現像液Dのほとんどは、案内傾斜面7aによって受け止
められるが、この部分には超撥水性層Sが形成されてい
るので、飛散した現像液Dは重力により容易にその面を
流下する。したがって、現像液Dが傾斜案内面7aに付
着堆積することを防止できる。案内傾斜面7aを流下し
た現像液Dは、排液ゾーン7dで受け止められて排液口
7eを通って回収される。また、現像液Dが案内傾斜面
7aに受け止められた際に霧状のミストが生じるが、こ
のミストは上カップ7bの上部開口から流入した気流に
乗せられて、排気ゾーン7gおよび排気口7hを経て排
気されるので、それが基板Wに付着するような不都合は
生じない。
されると、現像液Dはフォトレジスト被膜の一部を溶解
しつつ基板Wの回転中心付近から周縁部に向けて次第に
拡がってゆく。そして、周縁部に到達した現像液Dは、
飛散防止カップ7の案内傾斜面7aに向かって飛散する
(図中の二点鎖線矢印)。このとき基板Wから飛散する
現像液Dのほとんどは、案内傾斜面7aによって受け止
められるが、この部分には超撥水性層Sが形成されてい
るので、飛散した現像液Dは重力により容易にその面を
流下する。したがって、現像液Dが傾斜案内面7aに付
着堆積することを防止できる。案内傾斜面7aを流下し
た現像液Dは、排液ゾーン7dで受け止められて排液口
7eを通って回収される。また、現像液Dが案内傾斜面
7aに受け止められた際に霧状のミストが生じるが、こ
のミストは上カップ7bの上部開口から流入した気流に
乗せられて、排気ゾーン7gおよび排気口7hを経て排
気されるので、それが基板Wに付着するような不都合は
生じない。
【0029】そして、所定時間が経過した後に現像液D
の供給を停止する。その後、基板Wの回転数を高速の回
転数に切り換えて、所定時間これを保持することにより
基板Wの乾燥が行われ、回転を停止することにより基板
Wに対する現像処理が完了する。なお、この乾燥の過程
においても基板Wから現像液Dが僅かに飛散するが、上
述したように飛散防止カップ7の案内傾斜面7aに現像
液Dが付着堆積することを防止できる。このような一連
の処理によって基板W表面のフォトレジスト被膜には凹
凸を有する所定のパターンが形成される。
の供給を停止する。その後、基板Wの回転数を高速の回
転数に切り換えて、所定時間これを保持することにより
基板Wの乾燥が行われ、回転を停止することにより基板
Wに対する現像処理が完了する。なお、この乾燥の過程
においても基板Wから現像液Dが僅かに飛散するが、上
述したように飛散防止カップ7の案内傾斜面7aに現像
液Dが付着堆積することを防止できる。このような一連
の処理によって基板W表面のフォトレジスト被膜には凹
凸を有する所定のパターンが形成される。
【0030】上述したように、現像液Dが案内傾斜面7
aに付着堆積することが防止されているので、これが乾
燥することにより生じるパーティクルによって基板Wが
汚染されるような不都合を防止することができる。ま
た、飛散防止カップ7が汚れにくくなるので、飛散防止
カップ7の洗浄回数を少なくすることができて、装置の
稼働率を向上させることができる。さらに、この装置
は、整流部材7fを備えているので、基板Wの回転時に
おける気流の乱れを抑制することができ、現像処理を基
板Wの表面全面にわたって均一に施すことができる。な
お、基板Wの表面全体にわたって処理を均一にする必要
がない場合や、回転時における気流の乱れが極めて少な
い場合には、上記の整流部材7fを備える必要はない。
aに付着堆積することが防止されているので、これが乾
燥することにより生じるパーティクルによって基板Wが
汚染されるような不都合を防止することができる。ま
た、飛散防止カップ7が汚れにくくなるので、飛散防止
カップ7の洗浄回数を少なくすることができて、装置の
稼働率を向上させることができる。さらに、この装置
は、整流部材7fを備えているので、基板Wの回転時に
おける気流の乱れを抑制することができ、現像処理を基
板Wの表面全面にわたって均一に施すことができる。な
お、基板Wの表面全体にわたって処理を均一にする必要
がない場合や、回転時における気流の乱れが極めて少な
い場合には、上記の整流部材7fを備える必要はない。
【0031】なお、上述した例では、飛散防止カップ7
のうち上カップ7bの案内傾斜面7aのみに超撥水性層
Sを形成するようにしたが、図2に示すように飛散した
現像液Dが付着する恐れがある部分の全てに超撥水性像
Sを形成しておくことが好ましい。具体的には、上記の
案内傾斜面7aを含む、上カップ7bの内面の全体を超
撥水性層Sで形成するとともに、排液ゾーン7dと、排
液口7eと、排気ゾーン7gと、排気口7hとを含む下
カップ7cの内面の全体に超撥水性層Sを形成する。さ
らに、排気ゾーン7gを含む整流部材7fの表面全体に
も超撥水性層Sを形成する。
のうち上カップ7bの案内傾斜面7aのみに超撥水性層
Sを形成するようにしたが、図2に示すように飛散した
現像液Dが付着する恐れがある部分の全てに超撥水性像
Sを形成しておくことが好ましい。具体的には、上記の
案内傾斜面7aを含む、上カップ7bの内面の全体を超
撥水性層Sで形成するとともに、排液ゾーン7dと、排
液口7eと、排気ゾーン7gと、排気口7hとを含む下
カップ7cの内面の全体に超撥水性層Sを形成する。さ
らに、排気ゾーン7gを含む整流部材7fの表面全体に
も超撥水性層Sを形成する。
【0032】このように超撥水性層Sを形成しておくこ
とにより、案内傾斜面7aに飛散した現像液Dは、案内
傾斜面7aを重力によって容易に流下するとともに、排
液ゾーン7dおよび排液口7eを抵抗少なくとおって容
易に回収される。したがって、上カップ7bだけでなく
下カップ7cの内面に現像液Dが付着堆積することをよ
り防止できる。その結果、付着堆積した現像液Dに起因
する基板Wの汚染をさらに防止することができる。ま
た、上述した装置よりも飛散防止カップ7がさらに汚れ
にくくなるので、飛散防止カップ7の洗浄回数を極めて
少なくすることができて、装置の稼働率を大幅に向上さ
せることができる。また、整流部材7fの傾斜面にも超
撥水性層Sを形成しているので、現像液Dおよびそのミ
ストの付着堆積を防止でき、基板Wに対する処理を均一
にすることができつつも基板Wの汚染を防止することが
できる。
とにより、案内傾斜面7aに飛散した現像液Dは、案内
傾斜面7aを重力によって容易に流下するとともに、排
液ゾーン7dおよび排液口7eを抵抗少なくとおって容
易に回収される。したがって、上カップ7bだけでなく
下カップ7cの内面に現像液Dが付着堆積することをよ
り防止できる。その結果、付着堆積した現像液Dに起因
する基板Wの汚染をさらに防止することができる。ま
た、上述した装置よりも飛散防止カップ7がさらに汚れ
にくくなるので、飛散防止カップ7の洗浄回数を極めて
少なくすることができて、装置の稼働率を大幅に向上さ
せることができる。また、整流部材7fの傾斜面にも超
撥水性層Sを形成しているので、現像液Dおよびそのミ
ストの付着堆積を防止でき、基板Wに対する処理を均一
にすることができつつも基板Wの汚染を防止することが
できる。
【0033】また、これらに加えて、さらに待機ポッド
9の排液口9bを含む待機ポッド9の内面の全体にも超
撥水性層Sを形成しておく。上述したように処理液供給
ノズル5が待機位置にある際には、その先端部5a内部
の現像液Dが乾燥することを防止するために、先端部5
aを待機ポッド9の挿抜穴9aに挿入しておく。しか
し、この時に、図中の二点鎖線矢印で示すように、先端
部5aから現像液Dが漏れ出ることがある。この漏れ出
た現像液Dがその傾斜面9cに付着堆積すると、乾燥時
にパーティクルを生じて先端部5aに付着し、処理液供
給ノズル5が供給位置に移動した際に基板Wを汚染する
という不都合が生じる恐れがある。しかし、この場合に
は、待機ポッド9の内面に超撥水性層Sを形成している
ので、先端部5aから漏れ出て傾斜面9cに付着した現
像液Dは、容易に重力によって排液口9bに流下して回
収されることになる。したがって、上述したような不都
合を防止することができる。
9の排液口9bを含む待機ポッド9の内面の全体にも超
撥水性層Sを形成しておく。上述したように処理液供給
ノズル5が待機位置にある際には、その先端部5a内部
の現像液Dが乾燥することを防止するために、先端部5
aを待機ポッド9の挿抜穴9aに挿入しておく。しか
し、この時に、図中の二点鎖線矢印で示すように、先端
部5aから現像液Dが漏れ出ることがある。この漏れ出
た現像液Dがその傾斜面9cに付着堆積すると、乾燥時
にパーティクルを生じて先端部5aに付着し、処理液供
給ノズル5が供給位置に移動した際に基板Wを汚染する
という不都合が生じる恐れがある。しかし、この場合に
は、待機ポッド9の内面に超撥水性層Sを形成している
ので、先端部5aから漏れ出て傾斜面9cに付着した現
像液Dは、容易に重力によって排液口9bに流下して回
収されることになる。したがって、上述したような不都
合を防止することができる。
【0034】なお、上述した図2に示す変形例では、下
カップ7cの排気口7hにも超撥水性層Sを形成した
が、この部分には直接的に現像液Dが付着することは稀
であるので、超撥水性層Sを形成しなくてもよい。ま
た、整流部材7fの下面についても同様の理由により、
超撥水性層Sを形成しなくてもよい。
カップ7cの排気口7hにも超撥水性層Sを形成した
が、この部分には直接的に現像液Dが付着することは稀
であるので、超撥水性層Sを形成しなくてもよい。ま
た、整流部材7fの下面についても同様の理由により、
超撥水性層Sを形成しなくてもよい。
【0035】また、飛散防止カップ7内への現像液Dの
付着堆積が僅かな場合には、待機ポッド9の内面だけに
超撥水性層Sを形成して、先端部5aから漏れ出る現像
液Dに起因する基板Wの汚染を防止するようにしてもよ
い。
付着堆積が僅かな場合には、待機ポッド9の内面だけに
超撥水性層Sを形成して、先端部5aから漏れ出る現像
液Dに起因する基板Wの汚染を防止するようにしてもよ
い。
【0036】また、上述した例では、超撥水性材料を塗
布またはメッキ処理することによって超撥水性層Sを形
成したが、超撥水性層Sを形成することなくTFEなど
の超撥水性材料を用いて飛散防止カップ7の上カップ7
bや、飛散防止カップ7の全体を一体的に形成するよう
にしてもよい。
布またはメッキ処理することによって超撥水性層Sを形
成したが、超撥水性層Sを形成することなくTFEなど
の超撥水性材料を用いて飛散防止カップ7の上カップ7
bや、飛散防止カップ7の全体を一体的に形成するよう
にしてもよい。
【0037】なお、上記の説明においては、回転式基板
現像装置を例に採って説明したが、本発明はこの装置に
限定されるものではなく、例えば、基板にフォトレジス
ト被膜を形成する回転式基板塗布装置であっても適用可
能である。
現像装置を例に採って説明したが、本発明はこの装置に
限定されるものではなく、例えば、基板にフォトレジス
ト被膜を形成する回転式基板塗布装置であっても適用可
能である。
【0038】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1に記載の発明によれば、飛散防止カップのうち最も多
くの処理液を受け止める案内傾斜面を超撥水性材料で形
成しておくことにより、飛散防止カップ内面への処理液
の付着を防止することができる。したがって、飛散防止
カップの内面に付着堆積した処理液に起因する基板の汚
染を防止することができる。また、飛散防止カップ内面
が汚れにくくなるので、飛散防止カップの定期的な洗浄
回数を少なくすることができ、装置の稼働率を向上させ
ることができる。
1に記載の発明によれば、飛散防止カップのうち最も多
くの処理液を受け止める案内傾斜面を超撥水性材料で形
成しておくことにより、飛散防止カップ内面への処理液
の付着を防止することができる。したがって、飛散防止
カップの内面に付着堆積した処理液に起因する基板の汚
染を防止することができる。また、飛散防止カップ内面
が汚れにくくなるので、飛散防止カップの定期的な洗浄
回数を少なくすることができ、装置の稼働率を向上させ
ることができる。
【0039】また、請求項2に記載の発明によれば、傾
斜案内面によって下方に案内された処理液が排液ゾーン
に付着堆積することを防止できるので、飛散防止カップ
内面への処理液の付着をより防止することができる。し
たがって、飛散防止カップの内面に付着堆積した処理液
に起因する基板の汚染をさらに防止することができる。
また、飛散防止カップ内面が極めて汚れにくくなるの
で、飛散防止カップの定期的な洗浄回数を極めて少なく
することができ、装置の稼働率を大幅に向上させること
ができる。
斜案内面によって下方に案内された処理液が排液ゾーン
に付着堆積することを防止できるので、飛散防止カップ
内面への処理液の付着をより防止することができる。し
たがって、飛散防止カップの内面に付着堆積した処理液
に起因する基板の汚染をさらに防止することができる。
また、飛散防止カップ内面が極めて汚れにくくなるの
で、飛散防止カップの定期的な洗浄回数を極めて少なく
することができ、装置の稼働率を大幅に向上させること
ができる。
【0040】また、請求項3に記載の発明によれば、整
流部材を超撥水性材料で形成することにより、気流の乱
れに起因する処理不均一を防止しつつも、飛散した処理
液やミストが整流部材に付着堆積することを防止するこ
とができる。したがって、基板の処理を均一に施すこと
ができるとともに、付着堆積した処理液に起因する基板
の汚染を防止することができる。
流部材を超撥水性材料で形成することにより、気流の乱
れに起因する処理不均一を防止しつつも、飛散した処理
液やミストが整流部材に付着堆積することを防止するこ
とができる。したがって、基板の処理を均一に施すこと
ができるとともに、付着堆積した処理液に起因する基板
の汚染を防止することができる。
【0041】また、請求項4に記載の発明によれば、処
理液が待機ポッドの内面に付着することを防止すること
ができるので、待機ポッド内面に付着した処理液に起因
するパーティクルが処理液供給手段に付着して基板を汚
染することを防止できる。
理液が待機ポッドの内面に付着することを防止すること
ができるので、待機ポッド内面に付着した処理液に起因
するパーティクルが処理液供給手段に付着して基板を汚
染することを防止できる。
【0042】また、請求項5に記載の発明によれば、超
撥水性材料として接触角が120°以上のものを採用す
ることにより撥水性を高め、飛散防止カップや待機ポッ
ドに処理液が付着することをさらに確実に防止すること
ができる。したがって、付着した処理液に起因する基板
汚染をさらに防止することができる。
撥水性材料として接触角が120°以上のものを採用す
ることにより撥水性を高め、飛散防止カップや待機ポッ
ドに処理液が付着することをさらに確実に防止すること
ができる。したがって、付着した処理液に起因する基板
汚染をさらに防止することができる。
【図1】実施例に係る回転式基板現像装置の概略構成を
示す縦断面図である。
示す縦断面図である。
【図2】変形例を示す図である。
【図3】従来装置の概略構成を示す図である。
【図4】従来装置の問題点の説明に供する図である。
W … 基板 D … 現像液 S … 超撥水性層 1 … スピンチャック 5 … 処理液供給ノズル(処理液供給手段) 5a … 先端部 7 … 飛散防止カップ 7a … 案内傾斜面 7b … 上カップ 7c … 下カップ 7d … 排液ゾーン 7e … 排気口 7f … 整流部材 9 … 待機ポッド 9a … 挿抜穴
Claims (5)
- 【請求項1】 回転支持手段により支持された基板の周
囲を囲い、基板から周囲に飛散した処理液を下方に案内
する案内傾斜面と、案内傾斜面により下方に案内された
処理液を回収する排液ゾーンとを有する飛散防止カップ
を備えた回転式基板処理装置において、 前記飛散防止カップのうち少なくとも前記案内傾斜面を
超撥水性材料で形成したことを特徴とする回転式基板処
理装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の回転式基板処理装置に
おいて、さらに前記排液ゾーンを超撥水性材料で形成し
たことを特徴とする回転式基板処理装置。 - 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の回転式
基板処理装置において、前記飛散防止カップと前記回転
支持手段との間に介在して基板の周囲の気流の流れを整
える整流部材をさらに備えるとともに、この整流部材を
超撥水性材料で形成したことを特徴とする回転式基板処
理装置。 - 【請求項4】 回転支持手段により支持された基板の上
方にあたる処理液の供給位置と、基板から側方に離れた
待機位置とにわたって移動自在の処理液供給手段と、前
記待機位置にて前記処理液供給手段の先端部を受け入れ
る待機ポッドとを備えた回転式基板処理装置において、 前記待機ポッドの少なくとも内面を超撥水性材料で形成
したことを特徴とする回転式基板処理装置。 - 【請求項5】 請求項1または請求項4に記載の回転式
基板処理装置において、前記超撥水性材料は、接触角が
120°以上のものであることを特徴とする回転式基板
処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19037096A JPH1028918A (ja) | 1996-07-19 | 1996-07-19 | 回転式基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19037096A JPH1028918A (ja) | 1996-07-19 | 1996-07-19 | 回転式基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1028918A true JPH1028918A (ja) | 1998-02-03 |
Family
ID=16257057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19037096A Pending JPH1028918A (ja) | 1996-07-19 | 1996-07-19 | 回転式基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1028918A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005084831A1 (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Jipukomu Kabushiki Kaisha | アルカリ可溶型感光性樹脂の剥離方法 |
JP2009165942A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
US20140014033A1 (en) * | 2012-07-16 | 2014-01-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Organic solution supply nozzle and coating apparatus including the same |
-
1996
- 1996-07-19 JP JP19037096A patent/JPH1028918A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005084831A1 (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Jipukomu Kabushiki Kaisha | アルカリ可溶型感光性樹脂の剥離方法 |
JP2009165942A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
US20140014033A1 (en) * | 2012-07-16 | 2014-01-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Organic solution supply nozzle and coating apparatus including the same |
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