JPH10288027A - 高周波加熱触媒 - Google Patents
高周波加熱触媒Info
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- JPH10288027A JPH10288027A JP9100530A JP10053097A JPH10288027A JP H10288027 A JPH10288027 A JP H10288027A JP 9100530 A JP9100530 A JP 9100530A JP 10053097 A JP10053097 A JP 10053097A JP H10288027 A JPH10288027 A JP H10288027A
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- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
- F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
- F01N3/10—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust
- F01N3/18—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by methods of operation; Control
- F01N3/20—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by methods of operation; Control specially adapted for catalytic conversion ; Methods of operation or control of catalytic converters
- F01N3/2006—Periodically heating or cooling catalytic reactors, e.g. at cold starting or overheating
- F01N3/2013—Periodically heating or cooling catalytic reactors, e.g. at cold starting or overheating using electric or magnetic heating means
- F01N3/202—Periodically heating or cooling catalytic reactors, e.g. at cold starting or overheating using electric or magnetic heating means using microwaves
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- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
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- Y02T10/10—Internal combustion engine [ICE] based vehicles
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- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
- Processes For Solid Components From Exhaust (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 内燃機関の冷間始動時に、高周波を効果的に
吸収して触媒の温度をを急速に触媒動作温度に到達さ
せ、排出される有害排気ガスを浄化することのできる高
周波加熱触媒を提供することを目的とする。 【解決手段】 高周波をほとんど吸収しない材料から成
る基板８の表面に形成された高周波吸収材料から成る高
周波吸収層と、上記高周波吸収層に担持された排気ガス
中に含まれる有害物質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，
Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒とから成る高周波加熱触媒１１であ
って、上記高周波吸収層を、高周波が伝送される媒体の
インピーダンスと、反射電力が−１０ｄＢ以下となるよ
うな状態に整合したインピーダンスを有する，電気伝導
性金属酸化物と絶縁材料との混合物から構成したことを
特徴とする。
吸収して触媒の温度をを急速に触媒動作温度に到達さ
せ、排出される有害排気ガスを浄化することのできる高
周波加熱触媒を提供することを目的とする。 【解決手段】 高周波をほとんど吸収しない材料から成
る基板８の表面に形成された高周波吸収材料から成る高
周波吸収層と、上記高周波吸収層に担持された排気ガス
中に含まれる有害物質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，
Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒とから成る高周波加熱触媒１１であ
って、上記高周波吸収層を、高周波が伝送される媒体の
インピーダンスと、反射電力が−１０ｄＢ以下となるよ
うな状態に整合したインピーダンスを有する，電気伝導
性金属酸化物と絶縁材料との混合物から構成したことを
特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、内燃機関の排気ガ
ス装置等に使用される高周波加熱触媒に関するもので、
特に冷間始動時に排出される有害排気ガスを浄化する高
周波加熱触媒に関するものである。
ス装置等に使用される高周波加熱触媒に関するもので、
特に冷間始動時に排出される有害排気ガスを浄化する高
周波加熱触媒に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】自動車の排気ガスには、炭化水素，一酸
化炭素，窒素酸化物等の大気汚染物質が含まれている。
このような有害排気ガスを浄化する方法として、エンジ
ン燃焼方式や触媒による後処理方式がある。上記触媒に
よる後処理方式は、自動車の排気ガスをＰｄ／Ｒｈ，Ｐ
ｔ／Ｒｈ等の貴金属元素の合金から成る三元触媒を備え
た浄化手段中を通過させ、炭化水素，一酸化炭素を酸化
するとともに窒素酸化物を還元し、無害な炭酸ガス，水
蒸気，窒素に変換し車外に排出するものである。しかし
ながら、従来の触媒装置を有する内燃機関の排気ガス装
置においては、触媒は内燃機関の排気ガスによって加熱
されるため、上記触媒の温度が触媒機能が有効に機能す
る温度まで達するのに時間がかかり、内燃機関の冷間始
動時には上記有害物質を十分に取り除くことができない
という欠点があった。
化炭素，窒素酸化物等の大気汚染物質が含まれている。
このような有害排気ガスを浄化する方法として、エンジ
ン燃焼方式や触媒による後処理方式がある。上記触媒に
よる後処理方式は、自動車の排気ガスをＰｄ／Ｒｈ，Ｐ
ｔ／Ｒｈ等の貴金属元素の合金から成る三元触媒を備え
た浄化手段中を通過させ、炭化水素，一酸化炭素を酸化
するとともに窒素酸化物を還元し、無害な炭酸ガス，水
蒸気，窒素に変換し車外に排出するものである。しかし
ながら、従来の触媒装置を有する内燃機関の排気ガス装
置においては、触媒は内燃機関の排気ガスによって加熱
されるため、上記触媒の温度が触媒機能が有効に機能す
る温度まで達するのに時間がかかり、内燃機関の冷間始
動時には上記有害物質を十分に取り除くことができない
という欠点があった。
【０００３】ところで、冷間始動時においても排気ガス
中の有害物質を取り除くため、マイクロ波を用いて上記
浄化手段の触媒を急速に加熱する方法が開示されている
（特開平４−３５３２０８）。これは、図５に示すよう
に、排気管１ａから送られてくる排気ガスＧを加熱室２
に備えられた浄化手段３Ａを通過させて上記排気ガスを
浄化し、排気管１ｂより排出するもので、高周波発振器
５で発生したマイクロ波が導波経路６を介して上記浄化
手段３Ａに照射される。浄化手段３Ａは、図６（ａ），
（ｂ）に示すように、高周波をほとんど吸収しないアル
ミナ等のセラミック材料から成るハニカム構造を持つ基
板８と、上記基板８の隔壁８Ｋにマイクロ波を吸収する
ＺｎＯ等の高周波吸収材料９と上記Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／
Ｒｈ等の三元触媒１０とを担持させた高周波加熱触媒１
１Ａから成り、上記高周波吸収材料９は照射されたマイ
クロ波のエネルギーを熱エネルギーに変換し上記触媒の
温度を動作温度まで上昇させ、上記基板８の貫通孔８Ｓ
を通過する排気ガス中の有害物質を取り除くものであ
る。また、図７（ａ），（ｂ）は、従来使用されている
浄化手段３Ｂの構造を示す図で、ハニカム構造を有し絶
縁性の耐熱衝撃性の高いコーディライト焼結体から成る
基板８と、上記基板８の隔壁８Ｋの表面にコーティング
された高周波吸収層１２と，上記高周波吸収層１２の表
面に形成されたＰｔ／Ｒｈを分散担持させたウオッシュ
コート層１３とから成る高周波加熱触媒１１Ｂとにより
構成される。なお、触媒であるＰｔ／Ｒｈは、ウオッシ
ュコート層１３の表面近傍に分散担持されている。浄化
手段３Ｂに照射されたマイクロ波は上記高周波吸収層１
２で熱に変換され、ウオッシュコート層１３の表面近傍
に分散担持されたＰｔ／Ｒｈの温度を動作温度まで上昇
させることにより、浄化手段３Ｂを通過する排気ガス中
の有害物質が取り除かれる。
中の有害物質を取り除くため、マイクロ波を用いて上記
浄化手段の触媒を急速に加熱する方法が開示されている
（特開平４−３５３２０８）。これは、図５に示すよう
に、排気管１ａから送られてくる排気ガスＧを加熱室２
に備えられた浄化手段３Ａを通過させて上記排気ガスを
浄化し、排気管１ｂより排出するもので、高周波発振器
５で発生したマイクロ波が導波経路６を介して上記浄化
手段３Ａに照射される。浄化手段３Ａは、図６（ａ），
（ｂ）に示すように、高周波をほとんど吸収しないアル
ミナ等のセラミック材料から成るハニカム構造を持つ基
板８と、上記基板８の隔壁８Ｋにマイクロ波を吸収する
ＺｎＯ等の高周波吸収材料９と上記Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／
Ｒｈ等の三元触媒１０とを担持させた高周波加熱触媒１
１Ａから成り、上記高周波吸収材料９は照射されたマイ
クロ波のエネルギーを熱エネルギーに変換し上記触媒の
温度を動作温度まで上昇させ、上記基板８の貫通孔８Ｓ
を通過する排気ガス中の有害物質を取り除くものであ
る。また、図７（ａ），（ｂ）は、従来使用されている
浄化手段３Ｂの構造を示す図で、ハニカム構造を有し絶
縁性の耐熱衝撃性の高いコーディライト焼結体から成る
基板８と、上記基板８の隔壁８Ｋの表面にコーティング
された高周波吸収層１２と，上記高周波吸収層１２の表
面に形成されたＰｔ／Ｒｈを分散担持させたウオッシュ
コート層１３とから成る高周波加熱触媒１１Ｂとにより
構成される。なお、触媒であるＰｔ／Ｒｈは、ウオッシ
ュコート層１３の表面近傍に分散担持されている。浄化
手段３Ｂに照射されたマイクロ波は上記高周波吸収層１
２で熱に変換され、ウオッシュコート層１３の表面近傍
に分散担持されたＰｔ／Ｒｈの温度を動作温度まで上昇
させることにより、浄化手段３Ｂを通過する排気ガス中
の有害物質が取り除かれる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記浄
化手段３Ｂでは、ウオッシュコート層１３の熱容量が大
きいため、ウオッシュコート層１３の表面近傍に分散担
持されているＰｔ／Ｒｈ触媒を急速に加熱するために
は、入射マイクロ波の電力を大きくしなければならない
という問題点があった。一方、浄化手段３Ａでは、高周
波加熱触媒１１Ａが高周波吸収材料９と三元触媒１０の
混合物であるので、熱の伝播効率は上記高周波加熱触媒
１１Ｂよりは向上しているが、上記高周波加熱触媒１１
Ａ，１１Ｂのインピーダンスは、照射される高周波（マ
イクロ波）の周波数や高周波の伝播する媒体によって決
定される伝播空間の特性インピーダンスを考慮して設計
されていないため、上記高周波加熱触媒１１Ａ，１１Ｂ
のインピーダンスと伝播空間の特性インピーダンスとは
整合状態にはない。したがって、上記従来の高周波加熱
触媒１１Ａ，１１Ｂでは触媒表面での高周波の反射が起
こるため、高周波の吸収効率が著しく低下してしまうと
いう欠点があった。また、高周波加熱触媒１１Ａにおい
ては、ＺｎＯ，ＣｏＯ等の高周波吸収材料９と三元触媒
１０の混合物である従来の高周波加熱触媒８の触媒能を
向上させるためには、上記三元触媒１０の含有量を増加
させる必要があるが、上記三元触媒１０の含有量を増加
させると加熱効率が低下するという問題点があった。更
に、高周波加熱触媒１１Ａ，１１Ｂは基板８の表面また
は内部に一様に担持させたもので、排気ガスの通過方向
に対する考慮がされていないので、効率的な高周波加熱
ができないという欠点があった。
化手段３Ｂでは、ウオッシュコート層１３の熱容量が大
きいため、ウオッシュコート層１３の表面近傍に分散担
持されているＰｔ／Ｒｈ触媒を急速に加熱するために
は、入射マイクロ波の電力を大きくしなければならない
という問題点があった。一方、浄化手段３Ａでは、高周
波加熱触媒１１Ａが高周波吸収材料９と三元触媒１０の
混合物であるので、熱の伝播効率は上記高周波加熱触媒
１１Ｂよりは向上しているが、上記高周波加熱触媒１１
Ａ，１１Ｂのインピーダンスは、照射される高周波（マ
イクロ波）の周波数や高周波の伝播する媒体によって決
定される伝播空間の特性インピーダンスを考慮して設計
されていないため、上記高周波加熱触媒１１Ａ，１１Ｂ
のインピーダンスと伝播空間の特性インピーダンスとは
整合状態にはない。したがって、上記従来の高周波加熱
触媒１１Ａ，１１Ｂでは触媒表面での高周波の反射が起
こるため、高周波の吸収効率が著しく低下してしまうと
いう欠点があった。また、高周波加熱触媒１１Ａにおい
ては、ＺｎＯ，ＣｏＯ等の高周波吸収材料９と三元触媒
１０の混合物である従来の高周波加熱触媒８の触媒能を
向上させるためには、上記三元触媒１０の含有量を増加
させる必要があるが、上記三元触媒１０の含有量を増加
させると加熱効率が低下するという問題点があった。更
に、高周波加熱触媒１１Ａ，１１Ｂは基板８の表面また
は内部に一様に担持させたもので、排気ガスの通過方向
に対する考慮がされていないので、効率的な高周波加熱
ができないという欠点があった。
【０００５】本発明は、従来の問題点に鑑みてなされた
もので、内燃機関の冷間始動時に、高周波を効果的に吸
収して触媒の温度を急速に触媒動作温度に到達させ、冷
間始動時に排出される有害排気ガスを浄化することので
きる高周波加熱触媒を提供することを目的とする。
もので、内燃機関の冷間始動時に、高周波を効果的に吸
収して触媒の温度を急速に触媒動作温度に到達させ、冷
間始動時に排出される有害排気ガスを浄化することので
きる高周波加熱触媒を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の高周波加熱触媒は、高周波をほとんど吸収しない材料
から成る基板の表面に形成された高周波吸収材料から成
る高周波吸収層と、上記高周波吸収層に担持された排気
ガス中に含まれる有害物質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒ
ｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒とから成る高周波加熱触媒であ
って、上記高周波吸収層を、高周波が伝送される媒体の
特性インピーダンスと反射電力比が１０ｄＢ以上（反射
電力が入射電力の１／１０以下）となるような状態に整
合したインピーダンスを有する，電気伝導性金属酸化物
と絶縁材料との混合物から構成したことを特徴とする。
の高周波加熱触媒は、高周波をほとんど吸収しない材料
から成る基板の表面に形成された高周波吸収材料から成
る高周波吸収層と、上記高周波吸収層に担持された排気
ガス中に含まれる有害物質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒ
ｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒とから成る高周波加熱触媒であ
って、上記高周波吸収層を、高周波が伝送される媒体の
特性インピーダンスと反射電力比が１０ｄＢ以上（反射
電力が入射電力の１／１０以下）となるような状態に整
合したインピーダンスを有する，電気伝導性金属酸化物
と絶縁材料との混合物から構成したことを特徴とする。
【０００７】本発明の請求項２に記載の高周波加熱触媒
は、高周波吸収材料が電気伝導性金属酸化物と絶縁材料
との混合物から成り、上記絶縁材料はセリアもしくはセ
リア安定化ジルコニア等の助触媒能を有する金属酸化物
を含有することを特徴とする。
は、高周波吸収材料が電気伝導性金属酸化物と絶縁材料
との混合物から成り、上記絶縁材料はセリアもしくはセ
リア安定化ジルコニア等の助触媒能を有する金属酸化物
を含有することを特徴とする。
【０００８】本発明の請求項３に記載の高周波加熱触媒
は、高周波吸収材料が電気伝導性金属酸化物と絶縁材料
との混合物から成り、上記絶縁材料はγアルミナ等の高
比表面積を有する金属酸化物を含有することを特徴とす
る。
は、高周波吸収材料が電気伝導性金属酸化物と絶縁材料
との混合物から成り、上記絶縁材料はγアルミナ等の高
比表面積を有する金属酸化物を含有することを特徴とす
る。
【０００９】本発明の請求項４に記載の高周波加熱触媒
は、高周波をほとんど吸収しない材料から成る基板の表
面に形成された排気ガス中に含まれる有害物質の浄化を
行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒材料が高分
散担持させれた助触媒能を有する金属酸化物および高比
表面積を有する金属酸化物材料のいずれかもしくは両方
から成る触媒担持層と、上記触媒担持層の表面の一部に
形成された絶縁材料と電気伝導性金属酸化物とから成る
高周波吸収層とから構成される高周波加熱触媒であっ
て、上記高周波吸収層を、浄化処理する排気ガスの上流
側に形成したことを特徴とする。
は、高周波をほとんど吸収しない材料から成る基板の表
面に形成された排気ガス中に含まれる有害物質の浄化を
行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒材料が高分
散担持させれた助触媒能を有する金属酸化物および高比
表面積を有する金属酸化物材料のいずれかもしくは両方
から成る触媒担持層と、上記触媒担持層の表面の一部に
形成された絶縁材料と電気伝導性金属酸化物とから成る
高周波吸収層とから構成される高周波加熱触媒であっ
て、上記高周波吸収層を、浄化処理する排気ガスの上流
側に形成したことを特徴とする。
【００１０】本発明の請求項５に記載の高周波加熱触媒
は、高周波をほとんど吸収しない材料から成る基板の表
面に形成された排気ガス中に含まれる有害物質の浄化を
行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒材料が高分
散担持させれた助触媒能を有する金属酸化物および高比
表面積を有する金属酸化物材料のいずれかもしくは両方
から成る第１の触媒担持層と、上記第１の触媒担持層の
表面の一部に形成された排気ガス中に含まれる有害物質
の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒が
高分散担持された助触媒能を有する金属酸化物および高
比表面積を有する金属酸化物材料のいずれかもしくは両
方から成る絶縁材料と電気伝導性金属酸化物とから成る
第２の触媒担持層とから構成される高周波加熱触媒であ
って、上記第２の触媒担持層を、浄化処理する排気ガス
の上流側に形成したことを特徴とする。
は、高周波をほとんど吸収しない材料から成る基板の表
面に形成された排気ガス中に含まれる有害物質の浄化を
行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒材料が高分
散担持させれた助触媒能を有する金属酸化物および高比
表面積を有する金属酸化物材料のいずれかもしくは両方
から成る第１の触媒担持層と、上記第１の触媒担持層の
表面の一部に形成された排気ガス中に含まれる有害物質
の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒が
高分散担持された助触媒能を有する金属酸化物および高
比表面積を有する金属酸化物材料のいずれかもしくは両
方から成る絶縁材料と電気伝導性金属酸化物とから成る
第２の触媒担持層とから構成される高周波加熱触媒であ
って、上記第２の触媒担持層を、浄化処理する排気ガス
の上流側に形成したことを特徴とする。
【００１１】本発明の請求項６に記載の高周波加熱触媒
は、高周波をほとんど吸収しない材料から成る基板の表
面に形成された比表面積の大きなγアルミナ、セリア安
定化ジルコニア等の耐熱性材料から成るウオッシュコー
ト層と、上記ウオッシュコート層の表面の一部に形成さ
れた電気伝導性金属酸化物と絶縁材料との混合物から成
る高周波吸収層とを有するとともに、上記ウオッシュコ
ート層と高周波吸収層の表面または表面近傍に排気ガス
中に含まれる有害物質の浄化を行うＰｔ，Ｐｔ／Ｒｈ，
Ｐｄ／Ｒｈ等の触媒を担持させて成る高周波加熱触媒で
あって、上記高周波吸収層を浄化処理する排気ガスの上
流側に形成したことを特徴とする。
は、高周波をほとんど吸収しない材料から成る基板の表
面に形成された比表面積の大きなγアルミナ、セリア安
定化ジルコニア等の耐熱性材料から成るウオッシュコー
ト層と、上記ウオッシュコート層の表面の一部に形成さ
れた電気伝導性金属酸化物と絶縁材料との混合物から成
る高周波吸収層とを有するとともに、上記ウオッシュコ
ート層と高周波吸収層の表面または表面近傍に排気ガス
中に含まれる有害物質の浄化を行うＰｔ，Ｐｔ／Ｒｈ，
Ｐｄ／Ｒｈ等の触媒を担持させて成る高周波加熱触媒で
あって、上記高周波吸収層を浄化処理する排気ガスの上
流側に形成したことを特徴とする。
【００１２】本発明の請求項７に記載の高周波加熱触媒
は、高周波吸収層または第２の触媒担持層が助触媒能を
有するセリア安定化ジルコニア、セリア等の助触媒材料
および高比表面積を有するγアルミナ、セリア安定化ジ
ルコニア等を含有していることを特徴とする。なお、上
記高周波吸収層は請求項４記載の触媒担持層及び請求項
６に記載の高周波吸収層で、第２の触媒担持層は請求項
５に記載の第２の触媒担持層を指すものである。
は、高周波吸収層または第２の触媒担持層が助触媒能を
有するセリア安定化ジルコニア、セリア等の助触媒材料
および高比表面積を有するγアルミナ、セリア安定化ジ
ルコニア等を含有していることを特徴とする。なお、上
記高周波吸収層は請求項４記載の触媒担持層及び請求項
６に記載の高周波吸収層で、第２の触媒担持層は請求項
５に記載の第２の触媒担持層を指すものである。
【００１３】本発明の請求項８に記載の高周波加熱触媒
は、助触媒材料および耐熱性材料が上記電気伝導性金属
酸化物に含有されている金属元素と反応する元素を含有
しない材料であることを特徴とする。なお、上記助触媒
材料耐熱性材料は、請求項４に記載の触媒担持層，請求
項５に記載の第１の触媒担持層と第２の触媒担持層，請
求項７に記載の高周波吸収層または第２の触媒担持層を
指すもので、耐熱性材料は、請求項６記載のウオッシュ
コート層を指すものである。
は、助触媒材料および耐熱性材料が上記電気伝導性金属
酸化物に含有されている金属元素と反応する元素を含有
しない材料であることを特徴とする。なお、上記助触媒
材料耐熱性材料は、請求項４に記載の触媒担持層，請求
項５に記載の第１の触媒担持層と第２の触媒担持層，請
求項７に記載の高周波吸収層または第２の触媒担持層を
指すもので、耐熱性材料は、請求項６記載のウオッシュ
コート層を指すものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面に基づき説明する。なお、以下の説明中、従来
例と共通する部分については同一符号を用いて説明す
る。
て、図面に基づき説明する。なお、以下の説明中、従来
例と共通する部分については同一符号を用いて説明す
る。
【００１５】実施の形態１．図１（ａ），（ｂ），
（ｃ）は、本発明の実施の形態１に係わる排気ガスの浄
化手段３の構造を示す図で、浄化手段３は、ハニカム構
造を有し絶縁性の耐熱衝撃性の高いコーディライト焼結
体から成る基板８と、上記基板８の隔壁８Ｋの表面にコ
ーティングされた高周波加熱触媒１１とから成る。な
お、同図において、符号８ｓは基板８の貫通孔である。
排気ガスＧは、図１（ｃ）に示すように、浄化手段３の
貫通孔８ｓを通過する間に、高周波加熱触媒１１により
浄化され排出される。高周波加熱触媒１１は、電気伝導
性金属酸化物であるＬａ0.6Ｓｒ0.4ＭｎＯ3と、助触媒
能を有しかつ高比表面積を有する絶縁材料であるセリア
安定化ジルコニアの混合物から成る高周波吸収層に三元
触媒であるＰｔ／Ｒｈを担持させたもので、上記高周波
吸収層は、そのインピーダンスが高周波が伝送される伝
送経路の特性インピーダンスに、マイクロ波の発振周波
数において、反射電力比が１０ｄＢ以上となるような状
態に整合するように上記電気伝導性金属酸化物と絶縁材
料の混合比を調整し、基板８にコーティングされた後加
熱処理され、基板８の隔壁８Ｋに強固に固定される。ま
た、三元触媒であるＰｔ／Ｒｈは、上記高周波吸収層が
形成された基板８を、Ｐｔ／Ｒｈを含有する溶液中に含
浸させた後加熱処理を行うことにより、上記高周波吸収
層の表面及び内部に担持させられる。このとき、上記高
周波吸収層に含まれている絶縁材料であるセリア安定化
ジルコニアは高比表面積を有しているので、触媒である
Ｐｔ／Ｒｈは上記高周波吸収層中に均一に分散させるこ
とができる。
（ｃ）は、本発明の実施の形態１に係わる排気ガスの浄
化手段３の構造を示す図で、浄化手段３は、ハニカム構
造を有し絶縁性の耐熱衝撃性の高いコーディライト焼結
体から成る基板８と、上記基板８の隔壁８Ｋの表面にコ
ーティングされた高周波加熱触媒１１とから成る。な
お、同図において、符号８ｓは基板８の貫通孔である。
排気ガスＧは、図１（ｃ）に示すように、浄化手段３の
貫通孔８ｓを通過する間に、高周波加熱触媒１１により
浄化され排出される。高周波加熱触媒１１は、電気伝導
性金属酸化物であるＬａ0.6Ｓｒ0.4ＭｎＯ3と、助触媒
能を有しかつ高比表面積を有する絶縁材料であるセリア
安定化ジルコニアの混合物から成る高周波吸収層に三元
触媒であるＰｔ／Ｒｈを担持させたもので、上記高周波
吸収層は、そのインピーダンスが高周波が伝送される伝
送経路の特性インピーダンスに、マイクロ波の発振周波
数において、反射電力比が１０ｄＢ以上となるような状
態に整合するように上記電気伝導性金属酸化物と絶縁材
料の混合比を調整し、基板８にコーティングされた後加
熱処理され、基板８の隔壁８Ｋに強固に固定される。ま
た、三元触媒であるＰｔ／Ｒｈは、上記高周波吸収層が
形成された基板８を、Ｐｔ／Ｒｈを含有する溶液中に含
浸させた後加熱処理を行うことにより、上記高周波吸収
層の表面及び内部に担持させられる。このとき、上記高
周波吸収層に含まれている絶縁材料であるセリア安定化
ジルコニアは高比表面積を有しているので、触媒である
Ｐｔ／Ｒｈは上記高周波吸収層中に均一に分散させるこ
とができる。
【００１６】図２は、上記高周波加熱媒体１１を備えた
浄化手段３を備えた排気ガス浄化装置の構成図で、高周
波発振器５で発生したマイクロ波は、導波経路６を経由
して結合スロット１４において上記導波経路６と円筒形
加熱室２（キャビティー）のインピーダンス整合が達成
され、上記加熱室２に伝送される。また、排気ガスＧ
は、排気管１ａから加熱室２に導入され、排気管１ｂか
ら排出される。上記加熱室２の両端にはパンチングメタ
ルから成る反射板７ａ，７ｂが設置されており、マイク
ロ波が加熱室２内で共振するように、加熱室２の内径及
び長さ等が設計されている。なお、図２において、符号
Ｐは上記加熱室２内の定在波の電界強度を示すもので、
上記高周波加熱媒体１１は加熱室２の排気ガスＧの下流
側に配設された反射板７ｂから（λｇ／４）の位置（λ
ｇは管内波長）、すなわち上記定在波の最大振幅の位置
に設置される。
浄化手段３を備えた排気ガス浄化装置の構成図で、高周
波発振器５で発生したマイクロ波は、導波経路６を経由
して結合スロット１４において上記導波経路６と円筒形
加熱室２（キャビティー）のインピーダンス整合が達成
され、上記加熱室２に伝送される。また、排気ガスＧ
は、排気管１ａから加熱室２に導入され、排気管１ｂか
ら排出される。上記加熱室２の両端にはパンチングメタ
ルから成る反射板７ａ，７ｂが設置されており、マイク
ロ波が加熱室２内で共振するように、加熱室２の内径及
び長さ等が設計されている。なお、図２において、符号
Ｐは上記加熱室２内の定在波の電界強度を示すもので、
上記高周波加熱媒体１１は加熱室２の排気ガスＧの下流
側に配設された反射板７ｂから（λｇ／４）の位置（λ
ｇは管内波長）、すなわち上記定在波の最大振幅の位置
に設置される。
【００１７】高周波加熱触媒１１の高周波吸収層のイン
ピーダンスと上記加熱室２の伝送経路の特性インピーダ
ンスとは、上述したような整合状態になるように材料設
計されているので、浄化手段３によるマイクロ波の反射
が少ないため、高周波加熱触媒１１に照射されたマイク
ロ波のエネルギーは効率よく上記高周波吸収層に吸収さ
れる。したがって、高周波加熱触媒１１中の触媒の温度
を急上昇させることができ、内燃機関の冷間始動時にお
いても触媒の温度をを急速に触媒動作温度に到達させ、
冷間始動時に排出される有害排気ガスを浄化することの
できる。例えば、高周波発振器５で発生した出力電力６
００Ｗａｔｔ，周波数２．４５ＧＨｚのマイクロ波を上
記浄化手段３に照射した場合、従来の高周波加熱触媒１
１Ｂでは表面温度が４００℃に達するのに約２０秒を要
したが、本実施の形態１の高周波加熱触媒１１を用いる
と約８秒で表面温度が４００℃に達した。また、高周波
加熱触媒１１に含有される絶縁材料であるセリア安定化
ジルコニアは助触媒能を有しているので、触媒であるＰ
ｔ／Ｒｈの触媒機能が向上し、有害排気ガスの浄化作用
が更に向上した。
ピーダンスと上記加熱室２の伝送経路の特性インピーダ
ンスとは、上述したような整合状態になるように材料設
計されているので、浄化手段３によるマイクロ波の反射
が少ないため、高周波加熱触媒１１に照射されたマイク
ロ波のエネルギーは効率よく上記高周波吸収層に吸収さ
れる。したがって、高周波加熱触媒１１中の触媒の温度
を急上昇させることができ、内燃機関の冷間始動時にお
いても触媒の温度をを急速に触媒動作温度に到達させ、
冷間始動時に排出される有害排気ガスを浄化することの
できる。例えば、高周波発振器５で発生した出力電力６
００Ｗａｔｔ，周波数２．４５ＧＨｚのマイクロ波を上
記浄化手段３に照射した場合、従来の高周波加熱触媒１
１Ｂでは表面温度が４００℃に達するのに約２０秒を要
したが、本実施の形態１の高周波加熱触媒１１を用いる
と約８秒で表面温度が４００℃に達した。また、高周波
加熱触媒１１に含有される絶縁材料であるセリア安定化
ジルコニアは助触媒能を有しているので、触媒であるＰ
ｔ／Ｒｈの触媒機能が向上し、有害排気ガスの浄化作用
が更に向上した。
【００１８】このように、本実施の形態１によれば、高
周波加熱触媒１１中の高周波吸収層のインピーダンスを
高周波が伝送される伝送経路の特性インピーダンスと、
マイクロ波の発振周波数において、反射電力比が１０ｄ
Ｂ以上となるような状態に整合させるようにしたので、
高周波吸収層でのマイクロ波の反射が少なくなり、触媒
の温度を急上昇させることができ、内燃機関の冷間始動
時においても触媒の温度をを急速に触媒動作温度に到達
させ冷間始動時に排出される有害排気ガスを浄化するこ
とのできる。また、高周波加熱触媒１１に含有される絶
縁材料であるセリア安定化ジルコニアは助触媒能を有し
かつ高比表面積を有しているので、触媒であるＰｔ／Ｒ
ｈの触媒機能が向上し、有害排気ガスの浄化作用を向上
させることができる。
周波加熱触媒１１中の高周波吸収層のインピーダンスを
高周波が伝送される伝送経路の特性インピーダンスと、
マイクロ波の発振周波数において、反射電力比が１０ｄ
Ｂ以上となるような状態に整合させるようにしたので、
高周波吸収層でのマイクロ波の反射が少なくなり、触媒
の温度を急上昇させることができ、内燃機関の冷間始動
時においても触媒の温度をを急速に触媒動作温度に到達
させ冷間始動時に排出される有害排気ガスを浄化するこ
とのできる。また、高周波加熱触媒１１に含有される絶
縁材料であるセリア安定化ジルコニアは助触媒能を有し
かつ高比表面積を有しているので、触媒であるＰｔ／Ｒ
ｈの触媒機能が向上し、有害排気ガスの浄化作用を向上
させることができる。
【００１９】なお、本実施の形態１においては、絶縁材
料としてセリア安定化ジルコニアを用いたが、絶縁材料
としては、高比表面積を有するγアルミナ等の金属酸化
物と助触媒能を有するセリアの混合物を用いても同様の
効果が得られる。また、上記例では、基板８に高周波吸
収層を形成した後、触媒であるＰｔ／Ｒｈを高周波吸収
層の表面または内部に担持させたが、上記電気電導性金
属酸化物と絶縁材料との混合物スラリーにＰｔ／Ｒｈ等
の触媒を含有する溶液を混合攪拌し、基板８上にコーテ
ィングして高周波加熱触媒１１を形成すれば、Ｐｔ／Ｒ
ｈ等の触媒が高周波吸収材料中へ均一に分散されるの
で、高周波加熱触媒１１の触媒機能を更に向上させるこ
とができる。
料としてセリア安定化ジルコニアを用いたが、絶縁材料
としては、高比表面積を有するγアルミナ等の金属酸化
物と助触媒能を有するセリアの混合物を用いても同様の
効果が得られる。また、上記例では、基板８に高周波吸
収層を形成した後、触媒であるＰｔ／Ｒｈを高周波吸収
層の表面または内部に担持させたが、上記電気電導性金
属酸化物と絶縁材料との混合物スラリーにＰｔ／Ｒｈ等
の触媒を含有する溶液を混合攪拌し、基板８上にコーテ
ィングして高周波加熱触媒１１を形成すれば、Ｐｔ／Ｒ
ｈ等の触媒が高周波吸収材料中へ均一に分散されるの
で、高周波加熱触媒１１の触媒機能を更に向上させるこ
とができる。
【００２０】実施の形態２．図３は、本発明の実施の形
態２に係わる排気ガスの浄化手段３の構造を示す図で、
浄化手段３は、ハニカム構造を有し絶縁性の耐熱衝撃性
の高いコーディライト焼結体から成る基板８と、上記基
板８の隔壁８Ｋの表面に形成された高周波加熱触媒１１
とから成り、上記高周波加熱触媒１１は、Ｐｄ／Ｒｈか
ら成る触媒を含有するセリア安定化ジルコニアから成る
第１の触媒担持層１５と、上記第１の触媒担持層１５の
表面の一部に形成され，助触媒能を有するセリア安定化
ジルコニアと触媒Ｐｄとを含有するＬａＳｒＭｎＯ3か
ら成る第２の触媒担持層１６とから構成されている。な
お、上記第２の触媒担持層１６は、図３に示すように、
浄化処理する排気ガスＧの上流側に形成される。また、
上記第２の触媒層１６は、そのインピーダンスが高周波
が伝送される伝送経路の特性インピーダンスと、反射電
力比が１０ｄＢ以上となるような状態に整合するように
上記電気伝導性金属酸化物であるＬａ0.6Ｓｒ0.4ＭｎＯ
3と絶縁材料であるセリア安定化ジルコニアの混合比を
調整したスラリーを作製し、上記第１の触媒担持層１５
上にディップコーティングされる。そのとき、上記基板
８の片面のみを上記スラリー中に含浸することで、第２
の触媒担持層１６を基板８の片側のみに形成することが
できる。
態２に係わる排気ガスの浄化手段３の構造を示す図で、
浄化手段３は、ハニカム構造を有し絶縁性の耐熱衝撃性
の高いコーディライト焼結体から成る基板８と、上記基
板８の隔壁８Ｋの表面に形成された高周波加熱触媒１１
とから成り、上記高周波加熱触媒１１は、Ｐｄ／Ｒｈか
ら成る触媒を含有するセリア安定化ジルコニアから成る
第１の触媒担持層１５と、上記第１の触媒担持層１５の
表面の一部に形成され，助触媒能を有するセリア安定化
ジルコニアと触媒Ｐｄとを含有するＬａＳｒＭｎＯ3か
ら成る第２の触媒担持層１６とから構成されている。な
お、上記第２の触媒担持層１６は、図３に示すように、
浄化処理する排気ガスＧの上流側に形成される。また、
上記第２の触媒層１６は、そのインピーダンスが高周波
が伝送される伝送経路の特性インピーダンスと、反射電
力比が１０ｄＢ以上となるような状態に整合するように
上記電気伝導性金属酸化物であるＬａ0.6Ｓｒ0.4ＭｎＯ
3と絶縁材料であるセリア安定化ジルコニアの混合比を
調整したスラリーを作製し、上記第１の触媒担持層１５
上にディップコーティングされる。そのとき、上記基板
８の片面のみを上記スラリー中に含浸することで、第２
の触媒担持層１６を基板８の片側のみに形成することが
できる。
【００２１】このような高周波加熱触媒１１を備えた浄
化手段３を、上記実施の形態１と同様に、図２に示すよ
うな排気ガス浄化装置に設置し、アイドリング時の内燃
機関の排気ガスを流しながら、高周波発振器５で発生し
た出力電力８００Ｗａｔｔ，周波数２．４５ＧＨｚのマ
イクロ波をφ９０−３０ｍｍＬの浄化手段に照射した場
合、従来の高周波加熱触媒１１Ｂを用いた浄化手段３Ａ
では表面温度が触媒反応開始温度（約３００℃）に達す
るのに約２０秒を要したが、排気ガスＧの上流側の１０
ｍｍの範囲に上記第２の触媒担持層１６を形成した本実
施の形態２の高周波加熱触媒１１を用いた場合には、マ
イクロ波の照射後約１０秒で触媒反応の開始が確認され
た。これは、高周波吸収層である上記第２の触媒担持層
１６のインピーダンスと上記加熱室２の伝送経路の特性
インピーダンスとが反射電力比が１０ｄＢ以上となるよ
うな整合状態になるように材料設計されているので、浄
化手段３によるマイクロ波の反射が少ないため、高周波
加熱触媒１１に照射されたマイクロ波のエネルギーは効
率よく上記高周波吸収層に吸収される。また、上記第２
の触媒担持層１６により高周波加熱触媒１１の前面が効
率的に加熱されるため、送られて来た排気ガスＧの温度
が上昇し、上記排気ガスＧにより浄化手段３の下流の触
媒が加熱されるので、触媒反応の開始時間を早めること
ができる。更に、第２の触媒担持層１６には助触媒能を
有するセリア安定化ジルコニアと触媒Ｐｄとが含有され
ているので、高周波加熱触媒１１の前面では触媒反応に
よる熱も同時に発生する。したがって、送られて来た排
気ガスＧの温度は、浄化手段３の前面に高周波吸収層の
みを形成した場合よりも更に上昇し、触媒の温度上昇が
早めることができる。
化手段３を、上記実施の形態１と同様に、図２に示すよ
うな排気ガス浄化装置に設置し、アイドリング時の内燃
機関の排気ガスを流しながら、高周波発振器５で発生し
た出力電力８００Ｗａｔｔ，周波数２．４５ＧＨｚのマ
イクロ波をφ９０−３０ｍｍＬの浄化手段に照射した場
合、従来の高周波加熱触媒１１Ｂを用いた浄化手段３Ａ
では表面温度が触媒反応開始温度（約３００℃）に達す
るのに約２０秒を要したが、排気ガスＧの上流側の１０
ｍｍの範囲に上記第２の触媒担持層１６を形成した本実
施の形態２の高周波加熱触媒１１を用いた場合には、マ
イクロ波の照射後約１０秒で触媒反応の開始が確認され
た。これは、高周波吸収層である上記第２の触媒担持層
１６のインピーダンスと上記加熱室２の伝送経路の特性
インピーダンスとが反射電力比が１０ｄＢ以上となるよ
うな整合状態になるように材料設計されているので、浄
化手段３によるマイクロ波の反射が少ないため、高周波
加熱触媒１１に照射されたマイクロ波のエネルギーは効
率よく上記高周波吸収層に吸収される。また、上記第２
の触媒担持層１６により高周波加熱触媒１１の前面が効
率的に加熱されるため、送られて来た排気ガスＧの温度
が上昇し、上記排気ガスＧにより浄化手段３の下流の触
媒が加熱されるので、触媒反応の開始時間を早めること
ができる。更に、第２の触媒担持層１６には助触媒能を
有するセリア安定化ジルコニアと触媒Ｐｄとが含有され
ているので、高周波加熱触媒１１の前面では触媒反応に
よる熱も同時に発生する。したがって、送られて来た排
気ガスＧの温度は、浄化手段３の前面に高周波吸収層の
みを形成した場合よりも更に上昇し、触媒の温度上昇が
早めることができる。
【００２２】本実施の形態２においては、第１の触媒担
持層１５に用いた絶縁材料をセリア安定化ジルコニアと
したが、γアルミナの単体あるいはγアルミナとセリア
の混合物等にＰｔ／Ｒｈ，Ｐｄ／Ｒｈ等の触媒を含有さ
せて第１の触媒単体層１５を形成しても良い。また、第
２の触媒層１６に含有する絶縁材料としてセリア安定化
ジルコニアを用いたが、絶縁材料としては、助触媒能を
有しかつ高比表面積を有するγアルミナとセリアの混合
物等の金属酸化物を用いても同様の効果が得られる。な
お、上記第２の触媒担持層１６に代えて、絶縁材料と電
気伝導性金属酸化物とから成る高周波吸収層を排気ガス
Ｇの上流側に形成した場合も、高周波加熱触媒１１の前
面が効率的に加熱されるため、排気ガスＧの温度が上昇
し、上記排気ガスＧにより浄化手段３の下流の触媒が加
熱されるので、触媒反応の開始時間を早めることができ
ることは言うまでもない。
持層１５に用いた絶縁材料をセリア安定化ジルコニアと
したが、γアルミナの単体あるいはγアルミナとセリア
の混合物等にＰｔ／Ｒｈ，Ｐｄ／Ｒｈ等の触媒を含有さ
せて第１の触媒単体層１５を形成しても良い。また、第
２の触媒層１６に含有する絶縁材料としてセリア安定化
ジルコニアを用いたが、絶縁材料としては、助触媒能を
有しかつ高比表面積を有するγアルミナとセリアの混合
物等の金属酸化物を用いても同様の効果が得られる。な
お、上記第２の触媒担持層１６に代えて、絶縁材料と電
気伝導性金属酸化物とから成る高周波吸収層を排気ガス
Ｇの上流側に形成した場合も、高周波加熱触媒１１の前
面が効率的に加熱されるため、排気ガスＧの温度が上昇
し、上記排気ガスＧにより浄化手段３の下流の触媒が加
熱されるので、触媒反応の開始時間を早めることができ
ることは言うまでもない。
【００２３】実施の形態３．図４は、本発明の実施の形
態３に係わる排気ガスの浄化手段３の構造を示す図で、
浄化手段３は、ハニカム構造を有し絶縁性の耐熱衝撃性
の高いコーディライト焼結体から成る基板８と、上記基
板８の隔壁８Ｋの表面に形成された高周波加熱触媒１１
とから成り、上記高周波加熱触媒１１は、セリア安定化
ジルコニアから成るウオッシュコート層１７と、上記ウ
オッシュコート層１７の表面の一部に形成されたセリア
安定化ジルコニアを含有するＬａ0.6Ｓｒ0.4ＭｎＯ3か
ら成る高周波吸収層１８と、上記ウオッシュコート層１
７と高周波吸収層１８の表面近傍に担持されたＰｄ／Ｒ
ｈから成る触媒層１９とから構成されている。なお、上
記高周波吸収層１８は、図４に示すように、浄化処理す
る排気ガスＧの上流側に形成される。また、上記高周波
吸収層１８は、そのインピーダンスが高周波が伝送され
る伝送経路の特性インピーダンスに、反射電力比が１０
ｄＢ以上となるような状態に整合するように上記電気伝
導性金属酸化物であるＬａ0.6Ｓｒ0.4ＭｎＯ3と絶縁材
料であるセリア安定化ジルコニアの混合比を調整したス
ラリーを作製し、上記ウオッシュコート層１７上にディ
ップコーティングされる。そのとき、上記基板８の片面
のみを上記スラリー中に含浸することで、高周波吸収層
１８を基板８の片側のみに形成することができる。な
お、上記触媒層１９は、上記ウオッシュコート層１７と
高周波吸収層１８が形成された基板８を、Ｐｄ／Ｒｈを
含有する溶液中に含浸させた後加熱処理を行うことによ
り、上記ウオッシュコート層１７と高周波吸収層１８の
表面及び内部に担持させられる。このとき、上記高周波
吸収層１８に含まれている絶縁材料であるセリア安定化
ジルコニアは高比表面積を有しているので、触媒である
Ｐｄ／Ｒｈは高周波吸収層１８に高濃度に担持される。
態３に係わる排気ガスの浄化手段３の構造を示す図で、
浄化手段３は、ハニカム構造を有し絶縁性の耐熱衝撃性
の高いコーディライト焼結体から成る基板８と、上記基
板８の隔壁８Ｋの表面に形成された高周波加熱触媒１１
とから成り、上記高周波加熱触媒１１は、セリア安定化
ジルコニアから成るウオッシュコート層１７と、上記ウ
オッシュコート層１７の表面の一部に形成されたセリア
安定化ジルコニアを含有するＬａ0.6Ｓｒ0.4ＭｎＯ3か
ら成る高周波吸収層１８と、上記ウオッシュコート層１
７と高周波吸収層１８の表面近傍に担持されたＰｄ／Ｒ
ｈから成る触媒層１９とから構成されている。なお、上
記高周波吸収層１８は、図４に示すように、浄化処理す
る排気ガスＧの上流側に形成される。また、上記高周波
吸収層１８は、そのインピーダンスが高周波が伝送され
る伝送経路の特性インピーダンスに、反射電力比が１０
ｄＢ以上となるような状態に整合するように上記電気伝
導性金属酸化物であるＬａ0.6Ｓｒ0.4ＭｎＯ3と絶縁材
料であるセリア安定化ジルコニアの混合比を調整したス
ラリーを作製し、上記ウオッシュコート層１７上にディ
ップコーティングされる。そのとき、上記基板８の片面
のみを上記スラリー中に含浸することで、高周波吸収層
１８を基板８の片側のみに形成することができる。な
お、上記触媒層１９は、上記ウオッシュコート層１７と
高周波吸収層１８が形成された基板８を、Ｐｄ／Ｒｈを
含有する溶液中に含浸させた後加熱処理を行うことによ
り、上記ウオッシュコート層１７と高周波吸収層１８の
表面及び内部に担持させられる。このとき、上記高周波
吸収層１８に含まれている絶縁材料であるセリア安定化
ジルコニアは高比表面積を有しているので、触媒である
Ｐｄ／Ｒｈは高周波吸収層１８に高濃度に担持される。
【００２４】このような高周波加熱触媒１１を備えた浄
化手段３を、上記実施の形態１と同様に、図２に示すよ
うな排気ガス浄化装置に設置し、アイドリング時内燃機
関の排気ガスを流しながら、高周波発振器５で発生した
出力電力８００Ｗａｔｔ，周波数２．４５ＧＨｚのマイ
クロ波をφ９０−３０ｍｍＬの浄化手段に照射した場
合、従来の高周波加熱触媒１１Ｂを用いた浄化手段３Ａ
では表面温度が触媒反応開始温度（約３００℃）に達す
るのに約２０秒を要したが、排気ガスＧの上流側の１０
ｍｍの範囲に第２の触媒層１６を形成した本実施の形態
３の高周波加熱触媒１１を用いた場合には、マイクロ波
の照射後約１０秒で触媒反応の開始が確認された。これ
は、高周波吸収層１８のインピーダンスと上記加熱室２
の伝送経路の特性インピーダンスとが、反射電力比が１
０ｄＢ以上となるような整合状態になるように材料設計
されているので、浄化手段３によるマイクロ波の反射が
少ないため、高周波加熱触媒１１に照射されたマイクロ
波のエネルギーは効率よく上記高周波吸収層１８に吸収
されるためである。また、上記高周波吸収層１８により
高周波加熱触媒１１の前面が効率的に加熱され、送られ
て来た排気ガスＧの温度が上昇し、上記排気ガスＧによ
り浄化手段３の下流のウオッシュコート層１７に担持さ
れている触媒を加熱するので、触媒反応の開始時間を早
めることができる。更に、高周波吸収層１８の表面近傍
には触媒Ｐｄ／Ｒｈが高濃度に担持されているので、触
媒反応による熱も同時に多量に発生するので、触媒の温
度上昇を更に早めることができるとともに、触媒に使用
される貴金属使用量を減少させることができる。なお、
本実施の形態３においては、ウオッシュコート層１７に
用いた絶縁材料をセリア安定化ジルコニアとしたが、γ
アルミナの単体あるいはγアルミナとセリアの混合物で
あったても良い。
化手段３を、上記実施の形態１と同様に、図２に示すよ
うな排気ガス浄化装置に設置し、アイドリング時内燃機
関の排気ガスを流しながら、高周波発振器５で発生した
出力電力８００Ｗａｔｔ，周波数２．４５ＧＨｚのマイ
クロ波をφ９０−３０ｍｍＬの浄化手段に照射した場
合、従来の高周波加熱触媒１１Ｂを用いた浄化手段３Ａ
では表面温度が触媒反応開始温度（約３００℃）に達す
るのに約２０秒を要したが、排気ガスＧの上流側の１０
ｍｍの範囲に第２の触媒層１６を形成した本実施の形態
３の高周波加熱触媒１１を用いた場合には、マイクロ波
の照射後約１０秒で触媒反応の開始が確認された。これ
は、高周波吸収層１８のインピーダンスと上記加熱室２
の伝送経路の特性インピーダンスとが、反射電力比が１
０ｄＢ以上となるような整合状態になるように材料設計
されているので、浄化手段３によるマイクロ波の反射が
少ないため、高周波加熱触媒１１に照射されたマイクロ
波のエネルギーは効率よく上記高周波吸収層１８に吸収
されるためである。また、上記高周波吸収層１８により
高周波加熱触媒１１の前面が効率的に加熱され、送られ
て来た排気ガスＧの温度が上昇し、上記排気ガスＧによ
り浄化手段３の下流のウオッシュコート層１７に担持さ
れている触媒を加熱するので、触媒反応の開始時間を早
めることができる。更に、高周波吸収層１８の表面近傍
には触媒Ｐｄ／Ｒｈが高濃度に担持されているので、触
媒反応による熱も同時に多量に発生するので、触媒の温
度上昇を更に早めることができるとともに、触媒に使用
される貴金属使用量を減少させることができる。なお、
本実施の形態３においては、ウオッシュコート層１７に
用いた絶縁材料をセリア安定化ジルコニアとしたが、γ
アルミナの単体あるいはγアルミナとセリアの混合物で
あったても良い。
【００２５】また、上記本実施の形態１，２，３では、
高周波吸収材料としてＬａ0.6Ｓｒ0 .4ＭｎＯ3を用いた
が、Ｌａ(1-x)ＳｒxＣｏＯ3，Ｌａ(1-x)ＳｒxＣｒＯ3，
Ｌａ( 1-x)ＳｒxＭｎＯ3，Ｌａ(1-x)ＳｒxＣｏ(1-y)Ｐｄ
yＯ3，Ｌａ(1-x)ＳｒxＭｎ(1- y)ＰｄyＯ3，Ｌａ(1-x)Ｃ
ａxＣｏＯ3，Ｌａ(1-x)ＣａxＭｎＯ3（０〈ｘ〈１，０
〈ｙ〈１）等の複合金属酸化物の１種もしくは２種以上
の混合物を用いても同様の効果が得られる。ただし、上
記電気伝導性金属酸化物がＭｎを含有している場合に
は、上記高周波吸収材料を含む層と接触している層、例
えば実施の形態２の第１の触媒担持層１６や実施の形態
３のウオッシュコート層１７を構成する材料が、Ｓｉを
含有する化合物であれば、高温においてＭｎとＳｉが反
応し、高周波吸収材料のマイクロ波吸収効率が低下する
とともに、第１の触媒担持層１６や高周波吸収層１２の
インピーダンスも変化してしまいマイクロ波吸収効率が
著しく低下する。また、上記電気伝導性金属酸化物がＣ
ｏを含有している場合には、高周波吸収材料を含む層と
接触している層をＡｌを含有しない化合物で構成する必
要がある。例えば、本実施の形態２においては、高周波
吸収材料としてＬａ0.6Ｓｒ0.4ＭｎＯ3を用い、第２の
触媒担持層１６を構成する材料としてセリア安定化ジル
コニアを用いているので、浄化手段３の表面温度が上昇
しても、上記反応が起こることがなく、高周波加熱触媒
１１の触媒能に変化は見られなかった。また、本実施の
形態３においては、高周波吸収材料としてＬａ0.6Ｓｒ
0.4ＭｎＯ3を用い、ウオッシュコート層１７を構成する
材料としてセリア安定化ジルコニアを用いているので、
同様に、浄化手段３の表面温度が上昇しても高周波加熱
触媒１１の触媒能に変化は見られなかった。
高周波吸収材料としてＬａ0.6Ｓｒ0 .4ＭｎＯ3を用いた
が、Ｌａ(1-x)ＳｒxＣｏＯ3，Ｌａ(1-x)ＳｒxＣｒＯ3，
Ｌａ( 1-x)ＳｒxＭｎＯ3，Ｌａ(1-x)ＳｒxＣｏ(1-y)Ｐｄ
yＯ3，Ｌａ(1-x)ＳｒxＭｎ(1- y)ＰｄyＯ3，Ｌａ(1-x)Ｃ
ａxＣｏＯ3，Ｌａ(1-x)ＣａxＭｎＯ3（０〈ｘ〈１，０
〈ｙ〈１）等の複合金属酸化物の１種もしくは２種以上
の混合物を用いても同様の効果が得られる。ただし、上
記電気伝導性金属酸化物がＭｎを含有している場合に
は、上記高周波吸収材料を含む層と接触している層、例
えば実施の形態２の第１の触媒担持層１６や実施の形態
３のウオッシュコート層１７を構成する材料が、Ｓｉを
含有する化合物であれば、高温においてＭｎとＳｉが反
応し、高周波吸収材料のマイクロ波吸収効率が低下する
とともに、第１の触媒担持層１６や高周波吸収層１２の
インピーダンスも変化してしまいマイクロ波吸収効率が
著しく低下する。また、上記電気伝導性金属酸化物がＣ
ｏを含有している場合には、高周波吸収材料を含む層と
接触している層をＡｌを含有しない化合物で構成する必
要がある。例えば、本実施の形態２においては、高周波
吸収材料としてＬａ0.6Ｓｒ0.4ＭｎＯ3を用い、第２の
触媒担持層１６を構成する材料としてセリア安定化ジル
コニアを用いているので、浄化手段３の表面温度が上昇
しても、上記反応が起こることがなく、高周波加熱触媒
１１の触媒能に変化は見られなかった。また、本実施の
形態３においては、高周波吸収材料としてＬａ0.6Ｓｒ
0.4ＭｎＯ3を用い、ウオッシュコート層１７を構成する
材料としてセリア安定化ジルコニアを用いているので、
同様に、浄化手段３の表面温度が上昇しても高周波加熱
触媒１１の触媒能に変化は見られなかった。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１に記載の
高周波加熱触媒によれば、高周波をほとんど吸収しない
材料から成る基板の表面に形成された高周波吸収材料か
ら成る高周波吸収層と、上記高周波吸収層に担持された
排気ガス中に含まれる有害物質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ
／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒とにより高周波加熱触媒を
構成し、かつ上記高周波吸収層を、高周波が伝送される
媒体の特性インピーダンスと反射電力比が１０ｄＢ以上
となるような状態に整合したインピーダンスを有する，
電気伝導性金属酸化物と絶縁材料との混合物から構成し
たので、照射された高周波の反射が少なく、高周波を効
果的に吸収し熱エネルギーに変換することができ、した
がって内燃機関の冷間始動時には触媒の温度をを急速に
触媒動作温度に到達させて冷間始動時に排出される有害
排気ガスを浄化することのできる。
高周波加熱触媒によれば、高周波をほとんど吸収しない
材料から成る基板の表面に形成された高周波吸収材料か
ら成る高周波吸収層と、上記高周波吸収層に担持された
排気ガス中に含まれる有害物質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ
／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒とにより高周波加熱触媒を
構成し、かつ上記高周波吸収層を、高周波が伝送される
媒体の特性インピーダンスと反射電力比が１０ｄＢ以上
となるような状態に整合したインピーダンスを有する，
電気伝導性金属酸化物と絶縁材料との混合物から構成し
たので、照射された高周波の反射が少なく、高周波を効
果的に吸収し熱エネルギーに変換することができ、した
がって内燃機関の冷間始動時には触媒の温度をを急速に
触媒動作温度に到達させて冷間始動時に排出される有害
排気ガスを浄化することのできる。
【００２７】また、請求項２に記載の高周波加熱触媒
は、電気伝導性金属酸化物と絶縁材料の混合物から成る
高周波吸収材料を用い、かつ上記絶縁材料としてセリア
等の助触媒能を有する金属酸化物を用いたので、高周波
加熱触媒の触媒機能を更に向上させることができる。
は、電気伝導性金属酸化物と絶縁材料の混合物から成る
高周波吸収材料を用い、かつ上記絶縁材料としてセリア
等の助触媒能を有する金属酸化物を用いたので、高周波
加熱触媒の触媒機能を更に向上させることができる。
【００２８】更に、請求項３に記載の高周波加熱触媒
は、電気伝導性金属酸化物と絶縁材料の混合物から成る
高周波吸収材料を用い、かつ絶縁材料としてセリア安定
化ジルコニア等の高比表面積を有する金属酸化物を用い
たので、Ｐｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒を上記
高周波吸収層にほぼ均一に担持することができるので、
高周波加熱触媒の機能の場所によるばらつきをなくすこ
とができる。
は、電気伝導性金属酸化物と絶縁材料の混合物から成る
高周波吸収材料を用い、かつ絶縁材料としてセリア安定
化ジルコニア等の高比表面積を有する金属酸化物を用い
たので、Ｐｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒を上記
高周波吸収層にほぼ均一に担持することができるので、
高周波加熱触媒の機能の場所によるばらつきをなくすこ
とができる。
【００２９】請求項４に記載の高周波加熱触媒は、高周
波をほとんど吸収しない材料から成る基板の表面に形成
された排気ガス中に含まれる有害物質の浄化を行うＰ
ｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒材料が高分散担持
させれた助触媒能を有する金属酸化物および高比表面積
を有する金属酸化物材料のいずれかもしくは両方から成
る触媒担持層と、上記触媒担持層の表面の一部に形成さ
れた絶縁材料と電気伝導性金属酸化物とから成る高周波
吸収層とから構成される高周波加熱触媒であって、上記
高周波吸収層を、浄化処理する排気ガスの上流側に形成
したので、上流で加熱された排気ガスも高周波加熱触媒
の下流部を加熱するため、触媒の温度を更に急速に触媒
動作温度に到達させることができる。
波をほとんど吸収しない材料から成る基板の表面に形成
された排気ガス中に含まれる有害物質の浄化を行うＰ
ｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒材料が高分散担持
させれた助触媒能を有する金属酸化物および高比表面積
を有する金属酸化物材料のいずれかもしくは両方から成
る触媒担持層と、上記触媒担持層の表面の一部に形成さ
れた絶縁材料と電気伝導性金属酸化物とから成る高周波
吸収層とから構成される高周波加熱触媒であって、上記
高周波吸収層を、浄化処理する排気ガスの上流側に形成
したので、上流で加熱された排気ガスも高周波加熱触媒
の下流部を加熱するため、触媒の温度を更に急速に触媒
動作温度に到達させることができる。
【００３０】請求項５に記載の高周波加熱触媒は、高周
波をほとんど吸収しない材料から成るを基板の表面に形
成された排気ガス中に含まれる有害物質の浄化を行うＰ
ｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒を含有する比表面
積の大きなγアルミナ、セリア安定化ジルコニア等の耐
熱性材料から成る第１の触媒担持層と、上記第１の触媒
担持層の表面の一部に形成された排気ガス中に含まれる
有害物質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等
の触媒を含有する比表面積の大きなγアルミナ、セリア
安定化ジルコニア等の耐熱材料と電気伝導性金属酸化物
との混合物から成る第２の触媒担持層とから構成し、か
つ上記第２の触媒担持層を、浄化処理する排気ガスの上
流側に形成したので、排気ガスは、上流において、第２
の触媒担持層での触媒反応によって更に加熱されるの
で、触媒の温度を更に急速に触媒動作温度に到達させる
ことができる。
波をほとんど吸収しない材料から成るを基板の表面に形
成された排気ガス中に含まれる有害物質の浄化を行うＰ
ｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒を含有する比表面
積の大きなγアルミナ、セリア安定化ジルコニア等の耐
熱性材料から成る第１の触媒担持層と、上記第１の触媒
担持層の表面の一部に形成された排気ガス中に含まれる
有害物質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等
の触媒を含有する比表面積の大きなγアルミナ、セリア
安定化ジルコニア等の耐熱材料と電気伝導性金属酸化物
との混合物から成る第２の触媒担持層とから構成し、か
つ上記第２の触媒担持層を、浄化処理する排気ガスの上
流側に形成したので、排気ガスは、上流において、第２
の触媒担持層での触媒反応によって更に加熱されるの
で、触媒の温度を更に急速に触媒動作温度に到達させる
ことができる。
【００３１】請求項６に記載の高周波加熱触媒は、高周
波をほとんど吸収しない材料から成る基板の表面に形成
された比表面積の大きなγアルミナ、セリア安定化ジル
コニア等の耐熱性材料から成るウオッシュコート層と、
上記ウオッシュコート層の表面の一部に形成された電気
伝導性金属酸化物と絶縁材料との混合物から成る高周波
吸収層とを有するとともに、上記ウオッシュコート層と
高周波吸収層の表面または表面近傍に排気ガス中に含ま
れる有害物質の浄化を行うＰｔ，Ｐｔ／Ｒｈ，Ｐｄ／Ｒ
ｈ等の触媒を担持させるように構成し、かつ上記高周波
吸収層を浄化処理する排気ガスの上流側に形成したの
で、上流の排気ガスは触媒反応による発熱でも加熱され
るため、触媒の温度を更に急速に触媒動作温度に到達さ
せることができる。
波をほとんど吸収しない材料から成る基板の表面に形成
された比表面積の大きなγアルミナ、セリア安定化ジル
コニア等の耐熱性材料から成るウオッシュコート層と、
上記ウオッシュコート層の表面の一部に形成された電気
伝導性金属酸化物と絶縁材料との混合物から成る高周波
吸収層とを有するとともに、上記ウオッシュコート層と
高周波吸収層の表面または表面近傍に排気ガス中に含ま
れる有害物質の浄化を行うＰｔ，Ｐｔ／Ｒｈ，Ｐｄ／Ｒ
ｈ等の触媒を担持させるように構成し、かつ上記高周波
吸収層を浄化処理する排気ガスの上流側に形成したの
で、上流の排気ガスは触媒反応による発熱でも加熱され
るため、触媒の温度を更に急速に触媒動作温度に到達さ
せることができる。
【００３２】また、請求項７に記載の高周波加熱触媒
は、高周波吸収層または第２の触媒担持層が助触媒能を
有するセリア、セリア安定化ジルコニア等の助触媒材料
およびおよび高比表面積を有するγアルミナ、セリア安
定化ジルコニア等を含有しているので、高周波加熱触媒
の触媒機能を更に向上させることができる。
は、高周波吸収層または第２の触媒担持層が助触媒能を
有するセリア、セリア安定化ジルコニア等の助触媒材料
およびおよび高比表面積を有するγアルミナ、セリア安
定化ジルコニア等を含有しているので、高周波加熱触媒
の触媒機能を更に向上させることができる。
【００３３】更に、請求項８に記載の高周波加熱触媒
は、助触媒材料および耐熱性材料が電気伝導性金属酸化
物に含有されている金属元素と反応する元素を含有しな
い材料であるので、高周波加熱触媒を広い温度範囲で使
用することができる。
は、助触媒材料および耐熱性材料が電気伝導性金属酸化
物に含有されている金属元素と反応する元素を含有しな
い材料であるので、高周波加熱触媒を広い温度範囲で使
用することができる。
【図１】本発明の実施形態１に係わる高周波加熱媒体を
用いた浄化手段の構造を示す図である。
用いた浄化手段の構造を示す図である。
【図２】本発明の実施形態１に係わる排気ガス浄化装置
の構成を示す図である。
の構成を示す図である。
【図３】本発明の実施形態２に係わる浄化手段の構造を
示す図である。
示す図である。
【図４】本発明の実施形態３に係わる浄化手段の構造を
示す図である。
示す図である。
【図５】従来の排気ガス浄化装置の構成を示す図であ
る。
る。
【図６】従来の浄化手段の構造を示す図である。
【図７】従来の他の浄化手段の構造を示す図である。
１ 排気管 ２ 加熱室２ ３ 浄化手段 ４ 保持部材 ５ 高周波発振器 ６ 導波経路 ７ マイクロ波遮蔽手段（反射板） ８ 基板 ８Ｋ 隔壁 ８ｓ 貫通孔 ９ 電波吸収材料 １０ 触媒 １１ 高周波加熱触媒 １２，１８ 高周波吸収層 １３，１７ ウオッシュコート層 １４ 結合スロット １５ 第１の触媒担持層 １６ 第２の触媒担持層 １９ 触媒層 Ｇ 排気ガス Ｗ 定在波
Claims (8)
- 【請求項１】 高周波をほとんど吸収しない材料から成
る基板の表面に形成された高周波吸収材料から成る高周
波吸収層と、上記高周波吸収層に担持された排気ガス中
に含まれる有害物質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐ
ｔ／Ｒｈ等の触媒とから成る高周波加熱触媒であって、
上記高周波吸収層を、高周波が伝送される媒体の特性イ
ンピーダンスと、反射電力比が１０ｄＢ以上となるよう
な状態に整合したインピーダンスを有する，電気伝導性
金属酸化物と絶縁材料との混合物から構成したことを特
徴とする高周波加熱触媒。 - 【請求項２】 高周波吸収材料は、電気伝導性金属酸化
物と絶縁材料との混合物から成り、上記絶縁材料はセリ
アもしくはセリア安定化ジルコニア等の助触媒能を有す
る金属酸化物を含有することを特徴とする請求項１記載
の高周波加熱触媒。 - 【請求項３】 高周波吸収材料は、電気伝導性金属酸化
物と絶縁材料との混合物から成り、上記絶縁材料はγア
ルミナ等の高比表面積を有する金属酸化物を含有するこ
とを特徴とする請求項１記載の高周波加熱触媒。 - 【請求項４】 高周波をほとんど吸収しない材料から成
る基板の表面に形成された排気ガス中に含まれる有害物
質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒
材料が高分散担持させれた助触媒能を有する金属酸化物
および高比表面積を有する金属酸化物材料のいずれかも
しくは両方から成る触媒担持層と、上記触媒担持層の触
媒担持層の表面の一部に形成された絶縁材料と電気伝導
性金属酸化物とから成る高周波吸収層とから構成される
高周波加熱触媒であって、上記高周波吸収層を、浄化処
理する排気ガスの上流側に形成したことを特徴とする高
周波加熱触媒。 - 【請求項５】 高周波をほとんど吸収しない材料から成
る基板の表面に形成された排気ガス中に含まれる有害物
質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ等の触媒
材料が高分散担持させれた助触媒能を有する金属酸化物
および高比表面積を有する金属酸化物材料のいずれかも
しくは両方から成る第１の触媒担持層と、上記第１の触
媒担持層の表面の一部に形成された排気ガス中に含まれ
る有害物質の浄化を行うＰｄ，Ｐｄ／Ｒｈ，Ｐｔ／Ｒｈ
等の触媒が高分散担持された助触媒能を有する金属酸化
物および高比表面積を有する金属酸化物材料のいずれか
もしくは両方から成る絶縁材料と電気伝導性金属酸化物
とから成る第２の触媒担持層とから構成される高周波加
熱触媒であって、上記第２の触媒担持層を、浄化処理す
る排気ガスの上流側に形成したことを特徴とする高周波
加熱触媒。 - 【請求項６】 高周波をほとんど吸収しない材料から成
る基板の表面に形成された比表面積の大きなγアルミ
ナ、セリア安定化ジルコニア等の耐熱性材料から成るウ
オッシュコート層と、上記ウオッシュコート層の表面の
一部に形成された電気伝導性金属酸化物と絶縁材料との
混合物から成る高周波吸収層とを有するとともに、上記
ウオッシュコート層と高周波吸収層の表面または表面近
傍に排気ガス中に含まれる有害物質の浄化を行うＰｔ，
Ｐｔ／Ｒｈ，Ｐｄ／Ｒｈ等の触媒を担持させて成る高周
波加熱触媒であって、上記高周波吸収層を浄化処理する
排気ガスの上流側に形成したことを特徴とする高周波加
熱触媒。 - 【請求項７】 高周波吸収層または第２の触媒担持層
は、助触媒能を有するセリア安定化ジルコニア、セリア
等の助触媒材料および高比表面積を有するγアルミナ、
セリア安定化ジルコニア等を含有していることを特徴と
する請求項４または請求項５または請求項６記載の高周
波加熱触媒。 - 【請求項８】 助触媒材料および耐熱性材料は、上記電
気伝導性金属酸化物に含有されている金属元素と反応す
る元素を含有しない材料であることを特徴とする請求項
４または請求項５または請求項６または請求項７記載の
高周波加熱触媒。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9100530A JPH10288027A (ja) | 1997-04-17 | 1997-04-17 | 高周波加熱触媒 |
| EP98106509A EP0872911A3 (en) | 1997-04-15 | 1998-04-08 | Absorbing layer for a high-frequency heating catalyst |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9100530A JPH10288027A (ja) | 1997-04-17 | 1997-04-17 | 高周波加熱触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10288027A true JPH10288027A (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=14276526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9100530A Withdrawn JPH10288027A (ja) | 1997-04-15 | 1997-04-17 | 高周波加熱触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10288027A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002080271A (ja) * | 2000-05-31 | 2002-03-19 | Corning Inc | ディーゼル排気フィルタ |
| JP2002314285A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-25 | Fujita Corp | 電磁波吸収体 |
| JP2006140063A (ja) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | マイクロ波加熱方法及びマイクロ波加熱装置 |
| JP2007084389A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Chubu Electric Power Co Inc | 流体有機化合物の改質処理方法 |
| JP2007131465A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Chubu Electric Power Co Inc | 流体有機化合物の処理方法及び処理装置 |
| JP2011122526A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Denso Corp | 排気浄化装置 |
| CN110429389A (zh) * | 2019-08-08 | 2019-11-08 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种吸波结构 |
| JP2020067072A (ja) * | 2018-10-26 | 2020-04-30 | トヨタ自動車株式会社 | 触媒装置および排気浄化システム |
| CN111140322A (zh) * | 2018-11-06 | 2020-05-12 | 丰田自动车株式会社 | 催化剂装置及排气净化*** |
-
1997
- 1997-04-17 JP JP9100530A patent/JPH10288027A/ja not_active Withdrawn
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN111140322A (zh) * | 2018-11-06 | 2020-05-12 | 丰田自动车株式会社 | 催化剂装置及排气净化*** |
| JP2020076348A (ja) * | 2018-11-06 | 2020-05-21 | トヨタ自動車株式会社 | 触媒装置および排気浄化システム |
| US10934913B2 (en) | 2018-11-06 | 2021-03-02 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Catalytic device and exhaust gas purification system |
| CN111140322B (zh) * | 2018-11-06 | 2022-06-28 | 丰田自动车株式会社 | 催化剂装置及排气净化*** |
| CN110429389A (zh) * | 2019-08-08 | 2019-11-08 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种吸波结构 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
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