JPH102865A - レチクルの検査装置およびその検査方法 - Google Patents

レチクルの検査装置およびその検査方法

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JPH102865A
JPH102865A JP8156593A JP15659396A JPH102865A JP H102865 A JPH102865 A JP H102865A JP 8156593 A JP8156593 A JP 8156593A JP 15659396 A JP15659396 A JP 15659396A JP H102865 A JPH102865 A JP H102865A
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JP8156593A
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Toru Tanida
徹 谷田
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明では、レーザー散乱型検査装置の検査
方法を改良することにより、人間によるレチクルの目視
検査を行いレチクルの使用の可否を判断する工程を出来
うる限り少なくし、半導体製造工程で使用するレチクル
の歩留まりを少しでも良くすることを目的としている。 【解決手段】 上記課題を解決するために本発明では、
レチクル1にレーザー光を照射して、前記レチクル上の
異物を検出する異物検出手段101と、異物検出手段1
01から出力された前記レチクル上の異物に関する情報
を格納する異物情報格納手段21と、少なくとも一回は
異物検出手段101で検査されたレチクルについて、異
物検出手段によって出力されたレチクル上の異物の大き
さの情報と、異物情報格納手段21から出力される以前
に検出された異物の大きさにに関する情報とを比較し、
使用の可否を判定する判定手段20とを備えた

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、投影露光法による
半導体製造に必要な工程であるレチクル検査法に係り、
レチクルに付着した異物を検出してレチクル使用の可否
を判定するレチクル検査法に関する。
【0002】
【従来の技術】投影露光法による半導体製造では、レチ
クルに形成されたパターンを縮小してウェハーに回路パ
ターンを形成する。そのため、異物が付着したレチクル
を用いて投影露光法による半導体製造を行うと、異物の
像もウェハー上に結像してしまい、ウェハーに形成され
た回路パターンに欠陥が生じてしまう。
【0003】この様なことが生ずるのを防ぐために、近
年、レチクル上に透明な保護膜であるペリクル膜を覆う
ことで、レチクルに異物が付着することを防いでいる。
この回路パターンの原型が形成されたレチクルにペリク
ル膜を備えた様子を図7に示す。この様に、レチクルの
基板71の表面(パターンが形成された面)及び裏面の
それぞれにペリクル膜用の枠73を設け、その枠73に
ペリクル膜72を張設している。また、レチクルの基板
71には、クロム膜で形成されたクロムパターン74に
よって回路パターンの原盤が形成されている。
【0004】この様に異物の付着を防ぐためレチクル上
にペリクル膜を設けているが、しかしながら、実際に
は、ペリクル膜を設けたレチクルでも、保管期間、移動
回数、使用回数の増加に伴い、ペリクルで囲まれた内部
で異物が発生してしまう。その一例を図8に示す。図8
は、ペリクル膜によって形成された内部に異物が発生し
た状態を示す。ペリクル膜によって形成された内部に異
物が発生した場合、その異物85、86は基板71また
はクロムパターン74に付着してしまう。
【0005】クロムパターン74に付着した異物86
は、半導体製造にとっては影響がないが、基板71に直
接付着した異物85は、半導体製造にとって欠陥となる
影響を及ぼす。この様にレチクル上に付着した異物は、
半導体の製造に当たって欠陥を発生させる要因となる。
したがって、異物を検出する方法をする必要がある。
【0006】ところで、レチクル上に付着した異物を検
出する方法として、レーザー散乱型検査装置がある。こ
の装置は、レチクルをレーザー光を照射して、レチクル
からの発せられる散乱光を受光する受光素子を複数個別
々の位置に備えている。これらの受光素子は光を受光し
た場合、その光を電気信号に変換している。異物がレチ
クル上に存在しているか否かは、それぞれの受光素子か
らの電気信号を統合的に分析して行われる。レーザー光
が照射された位置に異物が有るか無いかを検出する。こ
の装置は、レーザー光とレチクルとを相対的に移動させ
ることができるので、2次元的に異物が有るか否かを検
出できる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなレーザー散乱型検査装置では、異物の有無は検出で
きるが、その異物が投影露光による半導体の製造を行っ
た際に、悪影響を及ぼすものであるかについては判断す
ることができない。例えば、図9に示す図は、ステッパ
ーなどの投影露光装置において使用可能なペリクル付き
レチクルを示した図であるが、レーザー散乱型検査装置
は図9に示す様なところに存在する異物を検出してしま
う。しかしながら、この様な場所に存在する異物は、投
影露光による半導体製造において、なんら悪影響を及ぼ
さない。ところで図9は、ステッパーなどの投影露光装
置で使用可能なペリクル付きレチクルの説明図である。
レーザー散乱型検査装置では、パターン上の異物86や
致命的でない欠陥パターン87を検出してしまうが、こ
の様な異物が存在したとしても、このレチクルを用いて
半導体製造を行ってもいっこうに差し支えない。
【0008】だが、レーザー散乱型検査装置による検査
だけでは、この異物が半導体製造に悪影響を及ぼすかど
うかについては判断ができないため、異物が検出された
レチクルは全て人間が直接にレチクルの異物が検出され
た部分の拡大像を見てレチクルの使用の可否を判断しな
ければならない。この判断工程は実際、時間がかかるた
め半導体製造工程でのスループットを低下させていた。
【0009】したがって、本発明ではレーザー散乱型検
査装置の検査方法を改良することにより、人間によるレ
チクルの目視検査を行いレチクルの使用の可否を判断す
る工程を出来うる限り少なくし、半導体製造工程で使用
するレチクルの歩留まりを少しでも良くすることを目的
としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明では、レチクルにレーザー光を照射して、前記
レチクル上の異物を検出する異物検出手段と、異物検出
手段から出力された前記レチクル上の異物に関する情報
を格納する異物情報格納手段と、少なくとも一回は異物
検出手段で検査されたレチクルについて、異物検出手段
によって出力されたレチクル上の異物の大きさの情報
と、異物情報格納手段から出力される以前に検出された
異物の大きさにに関する情報とを比較し、使用の可否を
判定する判定手段とを備えた
【0011】
【発明の実施の形態】次に、本発明を詳しく説明するた
めに、本発明の実施の一形態を挙げて説明する。図1に
は、本発明の実施の形態であるレチクル検査装置の構成
図を示す。また、図2には、そのレチクル検査装置の全
体構成図を示す。本レチクル検査装置は、図2に示すよ
うに、図1で示したレーザー散乱型異物検査部101と
目視型検査部102とを有し、更に検査するためのレチ
クルを収納する検査レチクル搬入部201と、本レチク
ル検査装置で使用不能と判断されたレチクルを収納する
使用不能レチクル搬出部202と、本レチクル検査装置
で使用可能と判断されたレチクルを収納する使用可能レ
チクル搬出部203、レチクルを搬送するアームを備え
たレチクル搬送手段204とを備えて、レチクル検査装
置全体を制御する全体制御計算機205を備えている。
【0012】また、検査レチクル搬入部201、使用不
能レチクル搬出部202および使用可能レチクル搬出部
203では、レチクルはレチクルケースに収納されてい
るため、レチクル搬送手段204には、レチクルケース
を開閉しレチクルケースからレチクルを取り出す機構が
およびレチクルケースへレチクルを収納させる機構を有
している。
【0013】具体的には、レチクル搬送手段204に
は、ロボットアームとロボットアーム駆動部材とを備え
ている。ロボットアームは、レチクルおよびレチクルケ
ースを搬送するため備えている。また、ロボットアーム
駆動部材は、ロボットアームを検査レチクル搬入部20
1、使用不能レチクル搬出部202、使用可能レチクル
搬出部203、レーザー散乱型検査部101および目視
型検査部102の各構成へ移動させるために備えてい
る。
【0014】検査レチクル搬入部201、使用不能レチ
クル202および使用可能レチクル搬出部203には、
ロボットアームが進入してきたときに、レチクルケース
の蓋部を開閉する機構を有している。レチクルケースに
収納されているレチクルのロボットアームでの取り出し
や収納を可能としている。レーザー散乱型異物検査部1
01は、図1に示した構成を有している。
【0015】レーザー散乱型検査部101は、検査台
2、レーザー光源3、受光部4、信号処理手段5、検査
台駆動手段6、レーザー検査制御手段7を備えている。
検査台2は、異物の検査をするレチクル1を載置するた
めの台であり、検査台駆動手段6によって2次元的に移
動することができる。レーザー光源3は、異物を検査す
るレチクル1にレーザー光を照射するための光源であ
る。受光部4は、レチクル上に存在する異物があるとき
に発生する散乱光を検出するためのものである。
【0016】レーザー光源3からレチクルに照射され、
レチクルによって反射された光のうち、異物が有る場合
に発生する散乱光を検出して、異物の有無および異物の
大きさを検出している。また、検査台2が検査台駆動手
段6によって走査されることで、レーザー光を2次元的
にレチクル上に照射することができる。このように検査
台2の位置を制御しつつ、散乱光の有無を受光部4で検
出することによって、レチクル上にある異物の位置を検
出することができる。また、得られる散乱光の強度によ
って異物の大きさを検出することが出来る。
【0017】信号処理部5は、受光部4から得られた散
乱光に関する情報をデジタル化して、散乱光の有無およ
び散乱光の大きさに関する信号を出力する。この信号処
理部5で出力された信号をレーザー散乱検査制御部7に
出力する。レーザー散乱検査制御部7は、検査台2を2
次元走査するためのXY駆動部6の制御を行い、検査台
2の位置制御を行う。
【0018】ところで、本発明の実施の一形態であるレ
チクル検査装置では、まず最初に検査レチクル搬入部2
01から検査するレチクルを取り出し、レチクル搬送部
204によってレーザー散乱型検査部101に搬入され
る。そして、レーザー散乱型検査部101に搬入された
レチクルは、図1に示す検査台1に固定される。ところ
で、検査するレチクルが検査レチクル搬入部201にあ
るときに、図示されていないバーコード読みとり手段に
よりレチクル1の一部に設けられたバーコードを読みと
り、レチクルの識別信号を全体制御部20に出力する。
【0019】そして、次にレーザー散乱検査制御部7で
検査台駆動手段6を制御しつつレチクル1を2次元的に
ラスター走査を行いながら、レーザー3のからの光をレ
チクル1に照射して、散乱光の有無を受光部4で検出す
る。そして、受光部4で検出された散乱光について、受
光部4から出力される受光信号を元に、信号処理部5で
判別しながらある強度以上の散乱光信号が有れば、異物
が存在するとしてレーザー散乱検査制御部7に信号を出
力する。そして、レーザー散乱検査制御部7では、信号
処理部5で信号が出力された時点におけるレーザースポ
ットの照射位置を割り出し、レチクル1における異物の
存在する位置座標を全体制御部20に出力する。また、
このとき受光部4で受光した散乱光の大きさに関する信
号も全体制御部20に出力する。このようにして、レー
ザー3から光がレチクル1の検査領域を検査するまで、
レーザー散乱検査制御部7でXY駆動部6を制御しなが
ら異物検査を行う。
【0020】レチクル1の検査領域を検査し終わった
ら、先に記憶したレチクルの識別信号を元に、検査デー
ター記憶部21に記憶されたデーターから以前に同じレ
チクルについて検査を行っているかを検索する。このと
きに、以前に同じレチクルを検査していない場合には、
すぐに全体制御部20によって、異物の存在する位置座
標に関する信号を顕微鏡検査制御部15に出力する。そ
して、異物検査が完了したレチクル1は、レチクル搬送
部204のロボットアームによって目視型検査部102
に搬送され、目視型検査部102の顕微鏡部13の台
(ステージ)12に固定される。レチクル1の顕微鏡部
13の台に固定が完了したら、先の検査で異物が検出さ
れた位置に顕微鏡部13の視野が入るように顕微鏡検査
制御部15から顕微鏡ステージ駆動部14に移動信号を
出力する。そして、使用者が顕微鏡部13の光学顕微鏡
を用いて、異物を観察する。
【0021】この時に、使用者が異物を観察して、レチ
クル1の使用の可否を判定する。そして、使用者がレチ
クル1を使用可と判断した場合には、使用者が全体制御
部20に使用可の信号を入力する。そして、全体制御部
20は、異物の存在する位置座標およびその時の散乱光
の大きさに関する信号をレチクル1に付されたバーコー
ド情報と共に検査データー記憶部21に出力する。そし
て、全体制御部20からレチクル搬送部204にレチク
ル1を搬送する信号を出力され、そして、レチクル搬送
部204によって、レチクル1が使用可能レチクル搬出
部202に搬送される。
【0022】また、使用者が使用不能と判断したときに
は、使用者が全体制御部20に使用不能の信号を入力す
る。そして、全体制御部20からレチクル搬送部204
にレチクル1を搬送する信号を出力され、そして、レチ
クル搬送部204によって、使用不能となったレチクル
1が使用不能レチクル搬出部202に搬送される。とこ
ろで、先に記憶したレチクルの識別信号を元に、検査デ
ーター記憶部21に記憶されたデーターから以前に同じ
レチクルについて検査を行っているかを検索した際に、
以前にレチクル検査を行って、その検査データーが記憶
されている場合には、次の通りである。
【0023】以前にレチクル検査を行っているレチクル
について、異物検査の検査データーと検査データー記憶
部21に格納されている記憶データーとを全体制御部2
0で比較する。そして、まず検査データー記憶部21に
格納されている記憶データーに対して、そのデーターに
無い位置に存在している異物が有るか否かを検出する。
このとき、検査データ記憶部21に記憶されている位置
に対して完全に一致しなくとも、検査データー記憶部2
1に記憶されている位置にある程度の許容範囲を持たし
て、その位置以外に存在している異物の有無を検出して
いる。この許容範囲は、レチクルが使用しようされる環
境に対して適当な許容範囲を、全体制御部20で決定す
る。
【0024】このとき、検査データー記憶部21に格納
されている記憶データーに無い位置に存在する異物が有
る場合には、その異物の大きさがどのくらいの大きさな
のかを全体制御部20で今検出した異物の検査データー
から割り出す。そして、レチクルの使用条件に対して既
に割り出された異物の大きさの基準ランクよりも大きい
か否かを全体制御部20で比較する。この時に基準ラン
クよりも異物が大きい場合は、全体制御部20からレチ
クル搬送部204にレチクル1を台12に搬送する命令
の信号を出力する。更に全体制御部20から顕微鏡検査
部15へ新たに発見された異物の位置座標に関する信号
を出力する。そして、レチクル1が台12に固定された
ら、顕微鏡検査部15から顕微鏡ステージ駆動部14へ
顕微鏡13の顕微鏡の視野内に新たに発見された異物の
位置座標が入るように移動命令を出力する。そして、使
用者は顕微鏡部13を用いて異物の観察を行い、そのレ
チクルの使用の可否を判断する。
【0025】そして、使用不能と判断されたレチクル
は、レチクル搬送部204によって使用不能レチクル搬
出部202に搬送される。また、レチクルが使用可とな
った場合には、使用者が全体制御部20にレチクル使用
可とを入力する。そして、全体制御部20ではレチクル
1を使用可能レチクル搬出部203に搬出する命令をレ
チクル搬送部204に出力する。そして、レチクル搬送
部204のロボットアームは台12に固定されたレチク
ル1を掴み、そして、レチクル1は使用可能レチクル搬
出部203に搬送する。また、全体制御部20から検査
データ記憶部21に、異物の存在する位置座標およびそ
の時の散乱光の大きさに関する信号をレチクル1に付さ
れたバーコード情報と共に出力する。そして、検査デー
タ記憶部21は、これらの異物の位置座標、散乱光の大
きさ、バーコード情報を記憶する。
【0026】また、許容範囲外に存在する異物の大きさ
が基準ランクよりも小さい場合には、つぎに許容範囲内
に存在する異物について、その異物の大きさは基準ラン
クよりも大きいか否かを全体制御部20で比較検討す
る。許容範囲内に存在する異物が基準ランクよりも小さ
い場合は、そのレチクルを使用可能レチクルと判断し、
全体制御部20からレチクル搬送部202に使用可能レ
チクル搬出部203に搬送する命令を出力し、レチクル
搬送部202によって検査台2に載置されたレチクル1
を使用可能レチクル搬出部203に搬送する。
【0027】また、許容範囲内に存在する異物のうち一
つでも基準ランクよりも大きい異物がある場合には、つ
ぎに検査データ記憶部21に記憶された検査データか
ら、位置が今検出された異物に対応する異物の大きさを
得て、検査データの異物の大きさと検出された異物の大
きさとの対比を行う。この対比は全体制御部20で行わ
れる。
【0028】このときに、レーザー散乱型異物検査部1
01で検出された異物が検査データ記憶部21に記憶さ
れている異物の大きさよりも大きい場合には、全体制御
部20からレチクル搬送部202にレチクル1を目視検
査部102に搬送する命令を出力する。そして、更に全
体制御部20から顕微鏡検査部15へ検査データ記憶部
21に記憶されている異物の大きさよりも大きい異物の
位置座標に関する信号を出力する。そして、レチクル1
が台12に固定されたら、顕微鏡検査部15から顕微鏡
ステージ駆動部14へ顕微鏡13の顕微鏡の視野内に新
たに発見された異物の位置座標が入るように移動命令を
出力する。そして、使用者は顕微鏡部13を用いて異物
の観察を行い、そのレチクルの使用の可否を判断する。
【0029】そして、使用不能と判断されたレチクル
は、レチクル搬送部204によって使用不能レチクル搬
出部202に搬送される。また、レチクルが使用可とな
った場合には、使用者が全体制御部20にレチクル使用
可とを入力する。そして、全体制御部20ではレチクル
1を使用可能レチクル搬出部203に搬出する命令をレ
チクル搬送部204に出力する。そして、レチクル搬送
部204のロボットアームは台12に固定されたレチク
ル1を掴み、そして、レチクル1は使用可能レチクル搬
出部203に搬送する。また、全体制御部20から検査
データ記憶部21に、異物の存在する位置座標およびそ
の時の散乱光の大きさに関する信号をレチクル1に付さ
れたバーコード情報と共に出力する。そして、検査デー
タ記憶部21は、これらの異物の位置座標、散乱光の大
きさ、バーコード情報を記憶する。
【0030】ところで、レーザー散乱型異物検査部10
1で検出された異物が検査データ記憶部21に記憶され
ている異物の大きさよりも小さい場合には、全体制御部
20によって使用可能レチクルとして判断され、レチク
ル1を使用可能レチクル搬出部203に搬送する命令を
出力する。そして、レチクル搬送部203は、レチクル
1を使用可能レチクル搬出部203に搬出する。
【0031】以上行われる手順のうちすでに検査データ
を取得したレチクルの検査については、図3および図4
のフローチャートの様に表すことができる。図3に示す
フローチャートは、レチクル検査装置全体についてのフ
ローチャートで、図4に示すフローチャートは、全体計
算機205内におけるフローチャートである。図4は図
3の(A)のステップ内で行われるフローに対応する。
なお、検査データを取得していないレチクル検査におけ
るフローチャートは省略する。
【0032】ところで、最初のステップS001では、
検査レチクル搬入部201に搬入された被検査レチクル
を設置する。次のステップS002では、検査レチクル
搬入部201に設置された被検査レチクルのバーコード
を読みとり、全体制御計算機205にレチクル名を入力
する。そして、次のステップS003バーコードの読み
とりが終了した被検査レチクルは、レチクル搬送部20
4によって、レーザー散乱型検査部101に搬送され
る。そして、レーザー散乱型検査部101に搬送された
被検査レチクルの異物検査を実行する。また、同時にス
テップS004で、全体制御計算機205に入力された
レチクル名から、今回の検査より前に行った前回データ
を全体制御計算機205の検査データ記憶部21から検
索し、前回データを出力する。
【0033】そして、ステップS005で、検査データ
記憶部21から出力された前回データとステップS00
3で行った今回の検査データとを比較する。そして、ス
テップS006で、ステップS005の比較結果から図
4に示すフローチャートで使用不能レチクルか使用可能
レチクルかを判断する。最初に、検査データー記憶部2
1に記憶されている位置にある程度の許容範囲を持たし
てその位置以外(許容範囲外)に存在している異物の有
無の判断を行う(ステップS061)。そして、許容範
囲外に異物が存在するときには、許容範囲外に存在する
異物の大きさが基準ランクの大きさよりも大きいか(基
準ランク外か)否か(基準ランク内か)を判断する(ス
テップS062)。そして、その異物が基準ランク外で
あれば、使用不能レチクルと判断し、図3のステップS
008を実行する。また、このとき、基準範囲外にある
異物が全て基準ランク外では無い場合には、許容範囲内
にある異物の大きさが基準ランク外であるか否かを判定
する(ステップS063)。また、このステップS06
3は、ステップS061における判定で無いとなった場
合、直ちにステップS063の判定を行う。そして、ス
テップS063でその異物の大きさが基準ランク外で有
る場合には、ステップS064の判断を行う。また、ス
テップS063で異物の大きさが基準ランク外では無い
場合は、使用可能レチクルと判断し、図3のステップS
007の処理を行う。また、ステップS064では、許
容範囲内にある異物が、検査データ記憶部21に記憶さ
れた前回データ内のその許容範囲に対応する異物の大き
さよりも、大きいか否かを判定する。そして、許容範囲
内にある異物が検査データ記憶部21に記憶されている
対応する異物の大きさよりも大きい場合、使用不能レチ
クルと判断し、図4のステップS008の処理を行う。
また、許容範囲内にある異物が検査データ記憶部21に
記憶されている対応する異物の大きさよりも小さい場
合、ステップS007の処理を行う。
【0034】この様にステップS006では、この様な
処理を行う。そして、使用可能レチクルと判断されたも
のは、ステップS007でレチクル搬送部204にレチ
クルを使用可能レチクル搬出部202へ搬送する。ま
た、使用不能レチクルと判断されたものは、次にステッ
プS008でレチクルをレチクル搬送部204によって
目視検査部102に搬送し、前回データの許容範囲内に
無くかつその異物が基準ランク外にある不一致異物また
は異物の大きさが前回データのものよりも大きくかつそ
の異物が基準ランク外にある不一致異物の位置座標を顕
微鏡ステージ駆動部14に出力する。そして、顕微鏡部
13の視野内に不一致異物が入るように台12が移動す
る。
【0035】そして、次にステップS009で、使用者
が顕微鏡部13の光学顕微鏡を用いて、その不一致異物
を目視検査を行う。次に、ステップS010で使用者が
そのレチクルを使用可能か否かの判断を行う。そして、
この時点で使用者が使用不能と判断した場合は、レチク
ルを使用不能レチクル搬出部202へ搬送する。また、
この時点で使用者が使用可能と判断した場合は、ステッ
プS011の処理を行う。
【0036】このときに、不一致異物について全数目視
検査を行った否かが判定され、全数行っていない場合に
は、ステップS008に戻り、不一致異物全数について
目視検査を行い使用可能か否かの判断を行うまで、ステ
ップS008からステップS011まで処理を繰り返し
行う。そして、全ての不一致異物を目視検査した結果、
使用可能と判断した際には、検査データ記憶部21に記
憶されている前回データを消去し、今回のレーザー散乱
検査部で検査した今回の検査データを検査データ記憶部
21で記憶する(ステップS012)。そして、ステッ
プS013で、レチクルを使用可能レチクル搬出部20
3に搬出する。
【0037】これで、一つのレチクル検査で行う作業が
完了する。この様な処理に基づいて得られる結果の一例
は図5および図6に示す。図5(a)は本レチクル検査
装置で初めて検査したときに得られた異物の検出データ
であり、図5(b)は、再び異物検出を行ったときに得
られたデータを図で表したものである。この様に、本レ
チクル検査装置では図5(a)に示した状態で使用可能
と判断された場合、そのレチクルが図5(b)に示すよ
うな状態になったとしても、レチクル検査装置自体で使
用可能と判断することができる。また、図6(a)に示
すような状態のレチクルを使用可能とした場合、そのレ
チクル図6(b)に示すような状態になったときには、
本レチクル検査装置では使用不可能と判断することがで
きる。
【0038】この様に使用者が使用可能と判断したとき
のレチクル1に付着した異物の状態を検査データ記憶部
21に記憶することで、本発明によるレチクル検査装置
は以前に使用可能と判断した状態とほぼ同様な状態のレ
チクルについては、使用者の判断を仰がずに使用可能と
判断できるようなった。したがって、異物が存在しても
使用可能な程度の異物であれば、いちいち使用者の手を
煩わすことなく、使用可能と判断される。その結果、ス
ループットの向上が計れる。
【0039】本発明の実施の形態におけるレチクル検査
装置では、使用の可否の判断の順番として、記憶された
データでの異物の許容範囲外に異物が存在するか否かを
判断し、つぎにその異物の大きさについて、基準ランク
外か否かを判断、その後に許容範囲内に有る異物が記憶
データのものよりも大きいか否かの判断の順番で行って
いる。しかし、記憶されたデータでの異物の許容範囲外
に異物が存在するか否かを判断、その異物の大きさにつ
いて基準ランク外か否かを判断、許容範囲内に有る異物
が記憶データのものよりも大きいか否かの判断について
の順番は、これに限られない。また、記憶されたデータ
での異物の許容範囲外に異物が存在するか否かを判断、
許容範囲内に有る異物が記憶データのものよりも大きい
か否かの判断を並列に行い、あとで、引っかかった異物
について基準ランク外のものか否かの判断を行えばよ
い。
【0040】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のレチクル
検査装置および検査方法では、使用者による目視検査を
極力少なくすることが出来、半導体製造工程でのレチク
ル検査の歩留まりを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】:本発明の実施の形態であるレチクル検査装置
の主要部における概略図である。
【図2】:本発明の実施の形態におけるレチクル検査装
置の概略図である。
【図3】:本発明の実施の形態におけるレチクル検査装
置の検査フローの図である。
【図4】:図3における検査フローのステップ(A)に
おけるフローを示した図である
【図5】:本発明の実施の形態であるレチクル検査装置
において、使用可能と判断されるレチクルのモデル図で
ある。
【図6】:本発明の実施の形態であるレチクル検査装置
において、使用不可能と判断されるレチクルのモデル図
である。
【図7】:ペリクル付きレチクルの側面図である。
【図8】:異物を含むペリクル付きレチクルの側面図で
ある。
【図9】:ステッパーで使用可能なペリクル付きレチク
ルの側面図である。
【符号の説明】
101 レーザー散乱型検査部 1 レチクル 2 検査台 3 レーザー光源 4 受光部 6 XY駆動部 7 レーザー散乱検査制御部 102 目視検査部 12 台 13 顕微鏡部 14 顕微鏡用台 15 顕微鏡検査制御部 201 検査レチクル搬入部 202 使用不能レチクル搬出部 203 使用可能レチクル搬出部 204 レチクル搬送部 205 全体計算機 20 全体制御部 21 検査データ記憶部

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レチクルにレーザー光を照射して、前記
    レチクル上の異物を検出する異物検出手段と、 前記異物検出手段から出力された前記レチクル上の異物
    に関する情報を格納する異物情報格納手段と、 少なくとも一回は前記異物検出手段で検査されたレチク
    ルについて、前記異物検出手段によって出力されたレチ
    クル上の異物の大きさの情報と、前記異物情報格納手段
    から出力される以前に検出された異物の大きさにに関す
    る情報とを比較し、使用の可否を判定する判定手段とを
    備えたことを特徴とするレチクルの検査装置
  2. 【請求項2】 前記異物情報格納手段は、前記異物検出
    手段からの情報から前記異物の大きさの情報および前記
    異物の位置の座標データを記録することを特徴とする請
    求項1記載のレチクル検査装置
  3. 【請求項3】 前記判定手段は、前記異物検出手段によ
    って異物の検出を行ったレチクル上の異物に関する情報
    から前記異物の大きさの情報および前記異物の位置の座
    標データを出力する異物情報作成手段を備えていること
    を特徴とする請求項2記載のレチクル検査装置
  4. 【請求項4】 前記判定手段は、前記異物情報格納手段
    から出力される以前に存在していた異物の座標データ
    と、前記異物情報作成手段からの前記異物の位置の座標
    データとを比較し、以前に存在していた前記異物の位置
    とは異なった位置に存在している新たな異物を検出し、
    前記新たな異物の座標データを出力する異物位置比較手
    段を有していることを特徴とする請求項1乃至3のうち
    いづれか一項記載のレチクル検査装置
  5. 【請求項5】 前記異物位置比較手段から出力される新
    たな異物の座標データを得て移動するステージを設けた
    顕微鏡部を設けたことを特徴とする請求項4記載のレチ
    クル検査装置
  6. 【請求項6】 前記判定手段は、前記異物検出手段から
    検出された異物を前記異物検出手段より得られるデータ
    からある基準より大きい異物であるかを判定し、前記あ
    る基準値よりも大きい異物の座標データを出力する異物
    寸法検査手段を有したことを特徴とする請求項1乃至5
    項のうちいづれか一項記載のレチクル検査装置
  7. 【請求項7】 前記判定手段は、前記異物寸法検査手段
    で出力された前記ある基準よりも大きい異物の座標デー
    タを得て移動するステージを設けた顕微鏡部を設けたこ
    とを特徴とする請求項4記載のレチクル検査装置
  8. 【請求項8】 前記異物情報格納手段は、前記顕微鏡部
    によってレチクル上の異物を検査した結果、使用可能と
    判定されたレチクル上の異物に関する情報を格納するこ
    とを特徴とする請求項7記載のレチクル検査装置
  9. 【請求項9】 前記レチクル上の異物に関する情報と、
    そのレチクルの識別ネームとを対応させて前記異物情報
    格納手段に格納することを特徴とする請求項1乃至8の
    うちいづれか一項記載のレチクル検査装置
  10. 【請求項10】 レチクルにレーザー光を照射して、異
    物の有無を検査し、 前記異物の存在が確認されたときに前記異物の第1の位
    置データー、および前記異物第1の位置データーに対応
    させ前記異物の第1の寸法データーを作成し、 前記第1の位置データーおよび第1の寸法データーを記
    録し、 前記レチクルを再度異物の有無を検査し、異物の存在が
    確認されたときに前記異物の第2の位置データー、およ
    び前記異物の第1の位置データーに対応させ前記異物の
    第2の寸法データーを作成し、 前記異物の第1の位置データーと前記第2の異物の位置
    データーとを比較し、前記第1の位置データーと前記第
    2の位置データーとが一致する箇所に該当する前記第1
    の寸法データーと前記第2の寸法データーとを比較する
    ことを特徴とするレチクル検査方法
  11. 【請求項11】 前記第1の位置データーと前記第2の
    位置データーとが一致する箇所に該当する前記第1の寸
    法データーと前記第2の寸法データーとを比較し、前記
    第1の寸法データーで示す異物の大きさに対し前記第2
    の寸法データーで示す異物の大きさが大きい場合に、そ
    の寸法データーに該当する位置データーより位置情報を
    出力することを特徴とする請求項10記載のレチクル検
    査方法
  12. 【請求項12】 前記第1の位置データーと前記第2の
    位置データーとが一致する箇所に該当する前記第1の寸
    法データーと前記第2の寸法データーとを比較し、前記
    第1の寸法データーで示す異物の大きさに対し前記第2
    の寸法データーで示す異物の大きさが大きい場合に、そ
    の寸法データーに該当する位置データーより位置情報を
    出力し、前記位置情報に該当する位置を目視で検査し、
    使用の可否を判定することを特徴とする請求項10また
    は11記載のレチクル検査方法
  13. 【請求項13】 前記レチクルと光源とに相対的に移動
    させる移動手段と、前記レチクルに前記光源からのレー
    ザー光を照射し、前記レチクルから反射された光を検出
    することによって前記レチクル上の異物を検出する異物
    検出手段と、 前記異物検出手段によって異物の存在が認められたレチ
    クルを目視で検査するための顕微鏡と、 前記顕微鏡を用いた検査により使用可能とされた前記異
    物を有したレチクルの異物に関する情報を記録する異物
    情報格納手段と、 少なくとも一回は前記異物検出手段で検査されたレチク
    ルについて、前記異物検出手段によって異物の検出を行
    ったレチクル上の異物に関する情報と、前記異物情報格
    納手段から出力される以前に行った異物の検出に関する
    情報とを比較し、使用の可否を判定する判定手段とを備
    えたことを特徴とするレチクル検査装置
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006078025A1 (ja) * 2005-01-24 2006-07-27 Nikon Corporation 計測方法、計測システム、検査方法、検査システム、露光方法及び露光システム
US7593100B2 (en) 2005-01-24 2009-09-22 Nikon Corporation Measuring method, measuring system, inspecting method, inspecting system, exposure method and exposure system, in which information as to the degree of the flatness of an object is pre-obtained
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9885959B2 (en) 2003-04-09 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator
US9760014B2 (en) 2003-10-28 2017-09-12 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US10281632B2 (en) 2003-11-20 2019-05-07 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction
US10241417B2 (en) 2004-02-06 2019-03-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10007194B2 (en) 2004-02-06 2018-06-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10234770B2 (en) 2004-02-06 2019-03-19 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
JP5278719B2 (ja) * 2005-01-24 2013-09-04 株式会社ニコン 計測方法及び露光方法
US7593100B2 (en) 2005-01-24 2009-09-22 Nikon Corporation Measuring method, measuring system, inspecting method, inspecting system, exposure method and exposure system, in which information as to the degree of the flatness of an object is pre-obtained
WO2006078025A1 (ja) * 2005-01-24 2006-07-27 Nikon Corporation 計測方法、計測システム、検査方法、検査システム、露光方法及び露光システム
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9857599B2 (en) 2007-10-24 2018-01-02 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method

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