JPH10282684A - Laser writing system - Google Patents
Laser writing systemInfo
- Publication number
- JPH10282684A JPH10282684A JP9103872A JP10387297A JPH10282684A JP H10282684 A JPH10282684 A JP H10282684A JP 9103872 A JP9103872 A JP 9103872A JP 10387297 A JP10387297 A JP 10387297A JP H10282684 A JPH10282684 A JP H10282684A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- data
- identification information
- variable identification
- raster
- vector data
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は被描画体に対してレ
ーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を副
走査方向に移動させると共に該レーザビームを描画パタ
ーンラスタデータに基づいて変調させて所望の描画パタ
ーンを該被描画体上に記録するようになったレーザ描画
装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to moving a workpiece in the sub-scanning direction while deflecting the laser beam in the main scanning direction with respect to the workpiece, and modulating the laser beam based on the rendering pattern raster data. The present invention relates to a laser writing apparatus configured to record a desired writing pattern on the object to be drawn.
【０００２】[0002]
【従来の技術】上述したようなレーザ描画装置は、一般
的には、適当な被描画体の表面に微細な描画パターンを
レーザビームでもって記録するために使用されるもので
あり、代表的な使用例としては、フォトリソグラフの手
法を用いてプリント回路基板を製造する際の回路パター
ンの記録が挙げられ、このとき被描画体は例えばフォト
マスク用感光フィルムあるいは基板上のフォトレジスト
層であったりする。2. Description of the Related Art A laser drawing apparatus as described above is generally used for recording a fine drawing pattern on a surface of an appropriate object by using a laser beam. Examples of use include recording circuit patterns when manufacturing a printed circuit board using a photolithographic method, and the object to be drawn is, for example, a photosensitive film for a photomask or a photoresist layer on a substrate. I do.
【０００３】近年、回路基板の回路パターンの設計プロ
セスからその描画プロセスに至るまでの一連のプロセス
が統合化され、レーザ描画装置はそのような描画統合シ
ステムの一翼を担っている。即ち、描画統合システムに
は回路パターン等の設計を行うＣＡＤ(Computer Aided
Design) ステーション、このＣＡＤステーションで作成
された回路パターン等の描画パターンベクタデータに編
集処理を施すＣＡＭ(Computer Aided Manufacturing)ス
テーション等が設けられ、レーザ描画装置はかかる描画
統合システムの周辺機器として機能するものである。ま
た、描画統合システムには通常は複数台のレーザ描画装
置が配備され、それらレーザ描画装置の全体制御を統率
するためにかかる描画統合システムにはＥＷＳ（エンジ
ニアリングワークステーション) も設けられる。In recent years, a series of processes from the process of designing a circuit pattern of a circuit board to the process of drawing the circuit have been integrated, and a laser writing apparatus plays a part of such a drawing integrated system. In other words, a CAD (Computer Aided) that designs circuit patterns and the like
Design) station, a CAM (Computer Aided Manufacturing) station that edits drawing pattern vector data such as a circuit pattern created by the CAD station, and the like. The laser writing apparatus functions as a peripheral device of the integrated drawing system. Things. In addition, the drawing integrated system is usually provided with a plurality of laser writing devices, and the drawing integrated system is also provided with an EWS (Engineering Workstation) for controlling the overall control of the laser writing devices.
【０００４】ＣＡＤステーションで作成された描画パタ
ーンベクタデータあるいはＣＡＭステーションで編集さ
れた描画パターンベクタデータはＥＷＳに設けられたハ
ードディスク装置に一旦格納され、その描画パターンベ
クタデータは適宜ＥＷＳからレーザ描画装置に転送され
る。レーザ描画装置では、描画パターンベクタデータが
描画パターンラスタデータとして変換され、この描画パ
ターンラスタデータに基づいて所望の描画パターンの記
録が行われる。即ち、レーザ描画装置では、フォトマス
ク用感光フィルムあるいは基板上のフォトレジスト層等
の被描画体がレーザビームでもって主走査方向に沿って
走査させられると共に副走査方向に順次移動させられ、
このときレーザビームの変調が上述の描画パターンラス
タデータに基づいて所定の周波数のクロックパルスに従
って行われ、これにより被描画体上には所望の描画パタ
ーンが記録される。[0004] The drawing pattern vector data created by the CAD station or the drawing pattern vector data edited by the CAM station is temporarily stored in a hard disk device provided in the EWS, and the drawing pattern vector data is appropriately transferred from the EWS to the laser drawing device. Will be transferred. In the laser drawing apparatus, drawing pattern vector data is converted as drawing pattern raster data, and a desired drawing pattern is recorded based on the drawing pattern raster data. That is, in a laser drawing apparatus, a drawing target such as a photosensitive film for a photomask or a photoresist layer on a substrate is scanned by a laser beam along a main scanning direction and sequentially moved in a sub-scanning direction,
At this time, the laser beam is modulated in accordance with a clock pulse of a predetermined frequency based on the above-described drawing pattern raster data, whereby a desired drawing pattern is recorded on the drawing object.
【０００５】ところで、個々の被描画体にはその製造条
件や環境条件に起因する寸法上の変動が不可避的に伴
う。即ち、個々の被描画体の寸法は適正な寸法に対して
二次元方向に伸縮するような態様で変動し、その変動量
が許容値を越えたときには、その変動量に応じてスケー
リング補正を行うことが必要である。例えば、被描画体
の寸法が適正な寸法に対して二次元方向に伸張した場合
には、その伸張量に応じて描画パターンの記録も二次元
方向に伸張させて行うことが必要であり、それとは反対
に、被描画体の寸法が適正な寸法に対して二次元方向に
収縮した場合には、その収縮量に応じて描画パターンの
記録も二次元方向に収縮させて行うことが必要である。[0005] Each drawing object inevitably involves dimensional fluctuations due to manufacturing conditions and environmental conditions. That is, the dimensions of the individual objects to be drawn change in such a manner as to expand and contract in a two-dimensional direction with respect to appropriate dimensions, and when the amount of change exceeds an allowable value, scaling correction is performed according to the amount of change. It is necessary. For example, when the size of the object to be drawn is extended in a two-dimensional direction with respect to an appropriate dimension, it is necessary to record the drawing pattern in the two-dimensional direction in accordance with the amount of the extension, and to perform the recording. Conversely, when the size of the object to be drawn contracts in a two-dimensional direction with respect to an appropriate size, it is necessary to record the drawing pattern in the two-dimensional direction in accordance with the contraction amount. .
【０００６】要するに、上述したスケーリング補正にあ
っては、個々の被描画体の寸法変動に応じてスケーリン
グ補正情報データを予め用意し、このスケーリング補正
情報データに基づいて個々の被描画体に対する描画パタ
ーンの記録が行われることになる。In short, in the above-described scaling correction, scaling correction information data is prepared in advance in accordance with the dimensional variation of each drawing object, and a drawing pattern for each drawing object is prepared based on the scaling correction information data. Will be recorded.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】このように個々の被描
画体に対して異なったスケーリング補正情報データに基
づくスケーリング補正を施した場合には、その後に続く
種々の処理工程や検査工程の便宜ために個々の被描画体
とそのスケーリング補正情報データとの関係を容易に認
識し得るようにすることが必要とされる。When the individual objects to be drawn are subjected to the scaling correction based on the different scaling correction information data as described above, various processing steps and inspection steps which follow are convenient. It is necessary that the relationship between each object to be drawn and its scaling correction information data can be easily recognized.
【０００８】従って、本発明の目的は被描画体に対して
レーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を
副走査方向に移動させると共に該レーザビームを描画パ
ターンラスタデータに基づいて変調させて所望の描画パ
ターンを該被描画体上に記録するようになったレーザ描
画装置であって、個々の被描画体の寸法変動を前もって
検出してその個々の被描画体に対するスケーリング補正
情報データを作成し、該被描画体に対する描画パターン
の記録時にスケーリング補正情報データに基づくスケー
リング補正処理を施し得ると共に個々の被描画体とその
スケーリング補正情報データとの関係を容易に認識し得
るように構成されたレーザ描画装置を提供することであ
る。Accordingly, an object of the present invention is to move a workpiece in the sub-scanning direction while deflecting the laser beam in the main scanning direction with respect to the workpiece, and to modulate the laser beam based on the rendering pattern raster data. A laser writing apparatus for recording a desired drawing pattern on the object to be drawn, wherein a dimensional change of each object to be drawn is detected in advance, and scaling correction information data for the individual object to be drawn is provided. To perform scaling correction processing based on scaling correction information data at the time of recording a drawing pattern on the object to be drawn, and to easily recognize the relationship between each object to be drawn and its scaling correction information data. It is an object of the present invention to provide a laser writing apparatus.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明によるレーザ描画
装置は被描画体に対してレーザビームを主走査方向に偏
向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させると共に
該レーザビームを描画パターンラスタデータに基づいて
変調させて所望の描画パターンを該被描画体上に記録す
るようになったものであって、被描画体の個々の寸法変
動を前もって検出して各被描画体に対するスケーリング
補正情報データを作成し、該被描画体に対する描画パタ
ーンの記録時にスケーリング補正情報データに基づくス
ケーリング補正を施し得るように構成されるものであ
る。本発明の一局面によれば、そのようなレーザ描画装
置において、被描画体の個々に対する描画パターンの記
録時にその被描画体を識別するための可変識別情報ラス
タデータを描画パターンラスタデータに付与して描画パ
ターンと共にその可変識別情報をも該被描画体に記録す
るための可変識別情報付与手段と、可変識別情報ラスタ
データに対応した可変識別情報ベクタデータとスケーリ
ング補正情報データとを格納して保持するためのメモリ
保持手段とが設けられる。A laser writing apparatus according to the present invention moves a drawing object in a sub-scanning direction while deflecting the laser beam in the main scanning direction with respect to the drawing object, and simultaneously applies the laser beam to a drawing pattern. A desired drawing pattern is modulated on the basis of raster data to record a desired drawing pattern on the object to be drawn, and individual dimensional variations of the object to be drawn are detected in advance to perform scaling correction for each object to be drawn. It is configured so that information data is created and scaling correction based on the scaling correction information data can be performed when a drawing pattern is recorded on the object to be drawn. According to an aspect of the present invention, in such a laser writing apparatus, variable identification information raster data for identifying a drawing target is added to the drawing pattern raster data when a drawing pattern is recorded for each drawing target. A variable identification information adding means for recording the variable identification information together with the drawing pattern on the object to be drawn, and storing and holding variable identification information vector data and scaling correction information data corresponding to the variable identification information raster data. And a memory holding means for performing the operation.
【００１０】本発明の別の局面によれば、上述したメモ
リ保持手段に代えて、可変識別情報ラスタデータに対応
した可変識別情報ベクタデータとスケーリング補正情報
データとを外部に出力する外部出力手段が設けられても
よく、この場合にはかかるデータは例えばエンジニアワ
ークステーション側のメモリ保持手段に格納されて保持
される。According to another aspect of the present invention, an external output means for outputting variable identification information vector data corresponding to variable identification information raster data and scaling correction information data to the outside, instead of the memory holding means, is provided. In this case, such data is stored and held in, for example, a memory holding unit on the engineer workstation side.
【００１１】本発明によるレーザ描画装置にあっては、
好ましくは、可変識別情報付与手段はビットマップメモ
リ手段を包含し、描画パターンラスタデータがビットマ
ップメモリ手段に一旦展開されて保持され、可変認識情
報ラスタデータが該ビットマップメモリ手段に展開され
て保持された描画パターンラスタデータに対して付与さ
れるように構成される。In the laser writing apparatus according to the present invention,
Preferably, the variable identification information providing means includes a bitmap memory means, wherein the drawing pattern raster data is temporarily developed and held in the bitmap memory means, and the variable recognition information raster data is developed and held in the bitmap memory means. It is configured to be provided to the drawn drawing pattern raster data.
【００１２】本発明によるレーザ描画装置にあっては、
好ましくは、可変識別情報付与手段は更に描画パターン
ラスタデータに対応した描画パターンベクタデータを格
納する第１のベクタデータ格納手段と、可変識別情報ラ
スタデータを得るために種々の登録符号化ベクタデータ
を格納する第２のベクタデータ格納手段と、この第２の
ベクタデータ格納手段から所定の登録符号化ベクタデー
タを読み出して可変識別情報ラスタデータに対応した可
変識別情報ベクタデータを生成するための可変識別情報
呼出しデータを格納する第３のベクタデータ格納手段
と、第１のベクタデータ格納手段に格納された描画パタ
ーンベクタデータを描画パターンラスタデータとして変
換するラスタ変換手段とを包含する。この場合、ラスタ
変換手段によって変換された描画パターンラスタデータ
がビットマップメモリ手段に展開されて保持された後
に、第３のベクタデータ格納手段に格納された可変識別
情報呼出しデータに基づいて第３のベクタデータ格納手
段から呼び出された所定の登録符号化ベクタデータがラ
スタ変換手段によって可変識別情報ラスタデータとして
変換され、この可変識別情報ラスタデータがビットマッ
プメモリ手段に更に書き込まれて描画パターンラスタデ
ータに対して付与されるように構成される。なお、第
１、第２及び第３のベクタデータ格納手段については単
一のメモリ内に規定されたラスタデータ格納領域とされ
得る。In the laser writing apparatus according to the present invention,
Preferably, the variable identification information providing means further includes a first vector data storage means for storing drawing pattern vector data corresponding to the drawing pattern raster data, and various registered encoded vector data for obtaining the variable identification information raster data. Second vector data storage means for storing, and variable identification information for reading predetermined registered coded vector data from the second vector data storage means and generating variable identification information vector data corresponding to variable identification information raster data A third vector data storage unit for storing the information calling data and a raster conversion unit for converting the drawing pattern vector data stored in the first vector data storage unit as drawing pattern raster data are included. In this case, after the drawing pattern raster data converted by the raster conversion means is developed and held in the bitmap memory means, the third pattern data is stored in the third vector data storage means based on the variable identification information calling data. The predetermined registered coded vector data called from the vector data storage means is converted as variable identification information raster data by the raster conversion means, and the variable identification information raster data is further written to the bitmap memory means and converted into the drawing pattern raster data. It is configured to be given to the user. Note that the first, second and third vector data storage means may be defined as raster data storage areas defined in a single memory.
【００１３】上述したレーザ描画装置において、可変識
別情報付与手段は可変識別情報ラスタデータの他にスケ
ーリング補正情報データをラスタデータとして描画パタ
ーンラスタデータに付与して描画パターンと共にそのス
ケーリング補正情報データをも被描画体に記録するよう
に構成されてもよい。In the above-described laser writing apparatus, the variable identification information providing means adds scaling correction information data as raster data to the drawing pattern raster data in addition to the variable identification information raster data, and also writes the scaling correction information data together with the drawing pattern. It may be configured to record on the object to be drawn.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して、本発
明によるレーザ描画装置の一実施形態について具体的に
説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of a laser drawing apparatus according to the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings.
【００１５】図１には、本発明による描画レーザ装置が
斜視図として概略的に示され、このレーザ描画装置はプ
リント回路基板を製造するための基板上のフォトレジス
ト層に回路パターンを直接描画し得るように構成されて
いるものである。レーザ描画装置は床面上に据え付けら
れた基台１０を具備し、この基台１０の上面には一対の
レール１２が平行に設置される。一対のレール１２上に
はＸテーブル１４が搭載され、このＸテーブル１４は図
１では図示されない適当な駆動モータ例えばサーボモー
タあるいはステッピングモータ等でもって一対のレール
１２に沿って副走査方向に沿って移動し得るようになっ
ている。FIG. 1 schematically shows a drawing laser device according to the present invention as a perspective view, which directly draws a circuit pattern on a photoresist layer on a substrate for manufacturing a printed circuit board. It is configured to obtain. The laser drawing apparatus includes a base 10 installed on a floor surface, and a pair of rails 12 is installed on the upper surface of the base 10 in parallel. An X table 14 is mounted on the pair of rails 12, and the X table 14 is moved along the pair of rails 12 in the sub-scanning direction by a suitable driving motor such as a servo motor or a stepping motor not shown in FIG. It can be moved.
【００１６】Ｘテーブル１４上にはθテーブル１６を介
して描画テーブル１８が設置され、その間には微調整駆
動器２０が互いに対向する側辺のそれぞれに２つずつ設
けられ、これにより描画テーブル１８の水平面内での回
転位置が微調整されるようになっている。なお、図１で
は、図示の複雑化を避けるために一方の側辺に設けられ
た２つの微調整駆動器２０だけが示されている。A drawing table 18 is installed on the X table 14 via a θ table 16, and two fine adjustment drivers 20 are provided on each of the sides facing each other between the X tables 14. The rotation position in the horizontal plane is finely adjusted. Note that FIG. 1 shows only two fine adjustment drivers 20 provided on one side to avoid complication of the drawing.
【００１７】図１に示すように、描画テーブル１８の移
動平面上にはレーザ描画装置の機枠に対して不動となっ
たＸＹ座標系が設定され、このＸＹ座標系のＸ軸は副走
査方向に延在し、またそのＹ軸は主走査方向に延在す
る。描画作動時、16本の走査レーザビームはＹ軸の正側
の方向（即ち、主走査方向）に偏向させられ、一方描画
テーブル１８（即ち、Ｘテーブル１４）はＸ軸の負側の
方向（即ち、副走査方向）に移動させられる。As shown in FIG. 1, an XY coordinate system which is immovable with respect to the frame of the laser writing apparatus is set on the moving plane of the writing table 18, and the X axis of the XY coordinate system is in the sub-scanning direction. , And its Y axis extends in the main scanning direction. During the drawing operation, the 16 scanning laser beams are deflected in the positive direction of the Y axis (ie, the main scanning direction), while the drawing table 18 (ie, the X table 14) is deflected in the negative direction of the X axis (ie, the X table 14). That is, it is moved in the sub-scanning direction).
【００１８】描画テーブル１８上には被描画体即ちフォ
トレジスト層を持つ基板が適当な搬送手段例えばベルト
コンベヤ等で搬送されて載置され、その基板は描画テー
ブル１８上で適当なクランプ手段によって固定される。
なお、図１では、そのクランプ手段の一部を成すクラン
プ部材２２が示される。On the drawing table 18, an object to be drawn, that is, a substrate having a photoresist layer, is carried and placed by a suitable carrying means such as a belt conveyor, and the substrate is fixed on the drawing table 18 by a suitable clamping means. Is done.
FIG. 1 shows a clamp member 22 which forms a part of the clamp means.
【００１９】基台１０の一方の側にはレーザ発生光源と
してアルゴンレーザ発生器２４が設置され、このアルゴ
ンレーザ発生器２４から射出されたレーザビームＬＢは
ビームベンダ２６によって上方に偏向される。一方、描
画テーブル１８の上方側には、図示されない適当なフレ
ーム構造体によって支持された固定テーブル２８が配置
され、この固定テーブル２８上には種々の光学要素が設
置され、これら光学要素によってレーザビームＬＢは走
査レーザビームとして描画テーブル１８上に導かれる。On one side of the base 10, an argon laser generator 24 is installed as a laser generating light source. The laser beam LB emitted from the argon laser generator 24 is deflected upward by a beam bender 26. On the other hand, a fixed table 28 supported by a suitable frame structure (not shown) is disposed above the drawing table 18, and various optical elements are installed on the fixed table 28. LB is guided on the drawing table 18 as a scanning laser beam.
【００２０】固定テーブル２８にはビームベンダ３０が
設けられ、このビームベンダ３０はビームベンダ２６か
らのレーザビームＬＢを受け取ってビームスプリッタ３
２に向かわせる。レーザビームＬＢはビームスプリッタ
３２によって２つのレーザビームＬＢ１及びＬＢ２に分
割され、一方のレーザビームＬＢ１はビームベンダ３４
及び３６を介してビームセパレータ３８に向かわされ、
また他方のレーザビームＬＢ２はビームベンダ４０、４
２及び４４を介してビームセパレータ４６に向かわされ
る。The fixed table 28 is provided with a beam bender 30. The beam bender 30 receives the laser beam LB from the beam bender 26 and receives the laser beam LB from the beam bender 26.
Go to 2. The laser beam LB is split into two laser beams LB1 and LB2 by a beam splitter 32, and one of the laser beams LB1 is a beam bender 34.
And 36 to a beam separator 38,
The other laser beam LB2 is supplied to beam benders 40 and 4
2 and 44 to a beam separator 46.
【００２１】ビームセパレータ３８はレーザビームＬＢ
１を例えば８本の平行レーザビームに分割し、同様にビ
ームセパレータ４６はレーザビームＬＢ２を８本の平行
レーザビームに分割する。ビームセパレータ３８からの
平行レーザビームはビームベンダ４８及び５０によって
電子シャッタ５２に導かれ、またビームセパレータ４６
からの平行レーザビームはビームベンダ５４及び５６に
よって電子シャッタ５８に導かれる。The beam separator 38 is a laser beam LB
1 is divided into, for example, eight parallel laser beams, and the beam separator 46 similarly divides the laser beam LB2 into eight parallel laser beams. The parallel laser beam from the beam separator 38 is guided to the electronic shutter 52 by beam benders 48 and 50, and
Are guided to an electronic shutter 58 by beam benders 54 and 56.
【００２２】電子シャッタ５２及び５８の各々は８つの
音響光学素子及びそれら音響光学素子の駆動回路を含
み、各音響光学素子には８本のレーザビームのうちの該
当レーザビームが割り当てられる。電子シャッタ５２を
経た８本のレーザビームは光合成器６０に入射させら
れ、一方電子シャッタ５８を経た８本のレーザビームも
ビームベンダ６２を介して光合成器６０に入射させられ
る。光合成器６０は例えば偏向ビームスプリッタとして
構成され得るものであり、電子シャッタ５２及び５８の
それぞれを経た８本のレーザビームは光合成器即ち偏光
ビームスプリッタ６０によって16本のレーザビームに纏
められる。16本のレーザビームはビームベンダ６４、６
６及び６８を介してポリゴンミラー７０に入射させら
れ、その各回転反射面によって主走査方向に沿って偏向
させられる。Each of the electronic shutters 52 and 58 includes eight acousto-optic elements and a drive circuit for the acousto-optic elements, and each acousto-optic element is assigned a corresponding one of the eight laser beams. The eight laser beams passing through the electronic shutter 52 are made incident on the light combiner 60, while the eight laser beams passing through the electronic shutter 58 are also made incident on the light combiner 60 via the beam bender 62. The light combiner 60 can be configured as, for example, a deflection beam splitter, and the eight laser beams that have passed through the electronic shutters 52 and 58 are combined into 16 laser beams by the light combiner, that is, the polarization beam splitter 60. The 16 laser beams are beam benders 64 and 6
The light is made incident on the polygon mirror 70 via 6 and 68, and is deflected along the main scanning direction by the respective rotating reflection surfaces.
【００２３】ポリゴンミラー７０の各回転反射面によっ
て主走査方向に沿って偏向させられる16本のレーザビー
ムは先ずｆθレンズ７２を通過させられ、次いでターニ
ングミラー７４によって描画テーブル１８側に向かわせ
られた後にコンデンサレンズ７６を経て描画テーブル１
８上に到達させられる。要するに、描画テーブル１８上
に設置された被描画体はポリゴンミラー７０の各回転反
射面によって主走査方向に偏向させられる16本のレーザ
ビームでもって走査される。The 16 laser beams deflected along the main scanning direction by the respective rotating reflection surfaces of the polygon mirror 70 are first passed through the fθ lens 72 and then directed toward the drawing table 18 by the turning mirror 74. The drawing table 1 later passes through the condenser lens 76
8 is reached. In short, the object to be drawn set on the drawing table 18 is scanned by the sixteen laser beams deflected in the main scanning direction by the respective rotating reflection surfaces of the polygon mirror 70.
【００２４】描画テーブル１８上に設置された被描画体
即ち基板上のフォトレジスト層の描画面がポリゴンミラ
ー７０の各回転反射面によって偏向される16本の走査レ
ーザビームでもって一度に走査（主走査方向）されると
き、各電子シャッタ５２、５８の８つの音響光学素子が
描画パターンラスタデータに基づいて所定の周波数のク
ロックパルスに従って作動させられ、これにより16本の
走査レーザビームが描画パターンラスタデータに基づい
て変調させられる。一方、16本の走査レーザビームが主
走査方向に沿って偏向させられている間、描画テーブル
１８は副走査方向に沿って順次移動させられ、16本の走
査レーザビームによる主走査方向に沿う偏向が終了した
とき、描画テーブル１８の移動距離はかかる16本の走査
レーザビームの副走査方向の幅に相当した距離となる。
かくして、16本の走査レーザビームによる主走査方向に
沿う偏向が繰り返されることにより、被描画体上の描画
面には描画パターンが順次記録されることになる。The drawing surface of the object to be drawn placed on the drawing table 18, ie, the photoresist layer on the substrate, is scanned at one time by the 16 scanning laser beams deflected by the respective rotating reflection surfaces of the polygon mirror 70 (mainly). (Scanning direction), the eight acousto-optic elements of each of the electronic shutters 52 and 58 are operated according to a clock pulse of a predetermined frequency based on the drawing pattern raster data, whereby 16 scanning laser beams are generated. Modulated based on the data. On the other hand, while the 16 scanning laser beams are deflected along the main scanning direction, the drawing table 18 is sequentially moved along the sub-scanning direction, and the drawing table 18 is deflected along the main scanning direction by the 16 scanning laser beams. Is completed, the moving distance of the drawing table 18 becomes a distance corresponding to the width of the 16 scanning laser beams in the sub-scanning direction.
Thus, by repeating the deflection along the main scanning direction by the 16 scanning laser beams, the drawing patterns are sequentially recorded on the drawing surface on the drawing object.
【００２５】図１に示すように、コンデンサレンズ７６
の両端側のそれぞれには小型撮像手段例えばＣＣＤカメ
ラ７８が設けられ、これらＣＣＤカメラ７８はレーザ描
画装置の機枠（図示されない）に対して所定位置に固定
支持される。２台のＣＣＤカメラ７８は被描画体がレー
ザ描画装置の描画テーブル１８上に設置された際に該描
画テーブル１８に対する被描画体の相対位置を検出する
ために使用されるものである。As shown in FIG.
A small-sized image pickup means, for example, a CCD camera 78 is provided at each of the two ends of the camera. These CCD cameras 78 are fixedly supported at predetermined positions with respect to a machine frame (not shown) of the laser drawing apparatus. The two CCD cameras 78 are used for detecting a relative position of the object to be drawn with respect to the drawing table 18 when the object to be drawn is set on the drawing table 18 of the laser drawing apparatus.
【００２６】図２を参照すると、本発明によるレーザ描
画装置のブロック図が示され、同ブロック図において、
参照符号８０はシステムコントロール回路を示し、この
システムコントロール回路８０は例えば中央演算装置
（ＣＰＵ）等のマイクロプロセッサ及びメモリ（ＲＯ
Ｍ、ＲＡＭ）等からなるマイクロコンピュータとして構
成され得る。Referring to FIG. 2, there is shown a block diagram of a laser writing apparatus according to the present invention.
Reference numeral 80 indicates a system control circuit. The system control circuit 80 includes, for example, a microprocessor such as a central processing unit (CPU) and a memory (RO).
M, RAM) and the like.
【００２７】システムコントロール回路８０は画像処理
回路８２と接続され、この画像処理回路８２には上述し
た２台のＣＣＤカメラ７８が接続される。また、画像処
理回路８２には表示装置として例えばＣＲＴ表示装置
（図示されない）が接続され、そのＣＲＴ表示装置には
ＣＣＤカメラ７８で捉えた映像等が表示されるようにな
っている。被描画体がレーザ描画装置の描画テーブル１
８上に設置された際に該被描画体の角部に設けられた位
置決めマークが２台のＣＣＤカメラ７８によって捉えら
れ、それら位置決めマークの映像を画像処理回路８２で
処理することにより、描画テーブル１８に対する被描画
体の相対位置が正確に検出される。The system control circuit 80 is connected to an image processing circuit 82, and the two CCD cameras 78 described above are connected to the image processing circuit 82. Further, for example, a CRT display device (not shown) is connected to the image processing circuit 82 as a display device, and an image captured by the CCD camera 78 is displayed on the CRT display device. The drawing object is a drawing table 1 of a laser drawing apparatus.
The positioning marks provided at the corners of the object to be drawn when they are set on the drawing object 8 are captured by the two CCD cameras 78, and the images of the positioning marks are processed by the image processing circuit 82, whereby the drawing table The position of the object to be drawn relative to 18 is accurately detected.
【００２８】また、図２に示すように、システムコント
ロール回路８０はＬＡＮインターフェース回路８４を介
してＥＷＳ（エンジニアリングワークステーション) ８
６に接続され、その間で種々の指令信号や情報データ等
が送受信される。また、ＥＷＳ８６からレーザ描画装置
に送信される種々のベクタデータはＬＡＮインターフェ
ース回路８４を介して描画データ処理回路８８に取り込
まれ、この描画データ処理回路８８はシステムコントロ
ール回路８０によって制御される。As shown in FIG. 2, a system control circuit 80 is connected to an EWS (engineering workstation) 8 via a LAN interface circuit 84.
6 between which various command signals and information data are transmitted and received. In addition, various vector data transmitted from the EWS 86 to the laser drawing apparatus are taken into the drawing data processing circuit 88 via the LAN interface circuit 84, and the drawing data processing circuit 88 is controlled by the system control circuit 80.
【００２９】図３を参照すると、描画データ処理回路８
８の詳細なブロック図が示され、同図に示すように、描
画データ処理回路８８には受信バッファメモリ８８Ａが
設けられ、この受信バッファメモリ８８ＡはＥＷＳ８６
から送信されてくる種々のベクタデータを一時的に保持
する機能を持つ。受信バッファメモリ８８Ａに一時的に
保持された種々のベクタデータは次いでベクタデータメ
モリ８８Ｂに格納保持される。図３に示すように、ベク
タデータメモリ８８Ｂには第１のメモリ領域、第２のメ
モリ領域及び第３のメモリ領域が含まれ、種々のベクタ
データはそのタイプに応じてそれぞれのメモリ領域に格
納される。なお、本実施形態では、ベクタデータメモリ
８８Ｂは単一のメモリとして構成され、そこに第１、第
２及び第３のメモリ領域が設定されるが、しかしそれら
第１、第２及び第３のメモリ領域に対応する３つのメモ
リを設けることも可能である。Referring to FIG. 3, the drawing data processing circuit 8
8 is a detailed block diagram. As shown in FIG. 8, the drawing data processing circuit 88 is provided with a reception buffer memory 88A.
It has a function to temporarily hold various vector data transmitted from the. The various vector data temporarily held in the reception buffer memory 88A is then stored and held in the vector data memory 88B. As shown in FIG. 3, the vector data memory 88B includes a first memory area, a second memory area, and a third memory area, and various vector data are stored in the respective memory areas according to their types. Is done. In the present embodiment, the vector data memory 88B is configured as a single memory, and the first, second, and third memory areas are set therein. However, the first, second, and third memory areas are set. It is also possible to provide three memories corresponding to the memory areas.
【００３０】ＥＷＳ８６から描画データ処理回路８８に
送信されてくる種々のベクタデータには描画パターンベ
クタデータ、種々の登録符号化ベクタデータ及び可変識
別情報呼出しデータが含まれる。描画パターンベクタデ
ータは被描画体上に記録すべき描画パターン即ち回路パ
ターンとなるものであって、ベクタデータメモリ８８Ｂ
の所定のメモリ領域例えば第１のメモリ領域に格納され
る。登録符号化ベクタデータは種々の文字（例えばアル
ファベット）、数字及び記号等からなるものであって、
ベクタデータメモリ８８Ｂの所定のメモリ領域例えば第
２のメモリ領域に格納される。可変識別情報呼出しデー
タはベクタデータメモリ８８Ｂの第２のメモリ領域から
所定の登録符号化ベクタデータを呼び出して可変識別情
報ベクタデータを生成するためのものであって、ベクタ
データメモリ８８Ｂの第３のメモリ領域に格納されるも
のである。The various vector data transmitted from the EWS 86 to the drawing data processing circuit 88 include drawing pattern vector data, various registered coded vector data, and variable identification information call data. The drawing pattern vector data is a drawing pattern to be recorded on the object to be drawn, that is, a circuit pattern.
Is stored in a predetermined memory area, for example, a first memory area. The registered encoded vector data is composed of various characters (for example, alphabets), numbers and symbols, and the like.
It is stored in a predetermined memory area of the vector data memory 88B, for example, a second memory area. The variable identification information call data is for calling predetermined registration coded vector data from the second memory area of the vector data memory 88B to generate variable identification information vector data, and the third identification data of the vector data memory 88B. It is stored in the memory area.
【００３１】また、図３に示すように、描画データ処理
回路８８にはラスタ変換回路８８Ｃも設けられ、このラ
スタ変換回路８８Ｃにより、ベクタデータメモリ８８Ｂ
の第１のメモリ領域から読み出された描画パターンベク
タデータは描画パターンラスタデータとして変換され
る。可変識別情報呼出しデータが受信バッファメモリ８
８Ａから読み出されてベクタデータメモリ８８Ｂの第３
のメモリ領域に格納されると、その可変識別情報呼出し
データに基づいてベクタデータメモリ８８Ｂの第２のメ
モリ領域からは所定の登録符号化ベクタデータが呼び出
されて可変識別情報ベクタデータが生成され、その可変
識別情報ベクタデータはベクタデータメモリ８８Ｂの第
３のメモリ領域に展開される。ラスタ変換回路８８Ｃは
ベクタデータメモリ８８Ｂの第３のメモリ領域から読み
出された可変識別情報ベクタデータも可変識別情報ラス
タデータとして変換する機能を持つ。As shown in FIG. 3, the drawing data processing circuit 88 is also provided with a raster conversion circuit 88C.
The drawing pattern vector data read from the first memory area is converted as drawing pattern raster data. The variable identification information calling data is stored in the reception buffer memory 8
8A read from the vector data memory 88B.
Is stored in the memory area, the predetermined registered coded vector data is called from the second memory area of the vector data memory 88B based on the variable identification information call data, and the variable identification information vector data is generated. The variable identification information vector data is developed in the third memory area of the vector data memory 88B. The raster conversion circuit 88C has a function of converting the variable identification information vector data read from the third memory area of the vector data memory 88B as variable identification information raster data.
【００３２】ベクタデータメモリ８８Ｂの第１のメモリ
領域から読み出された描画パターンベクタデータが描画
パターンラスタデータとして変換されるとき、描画パタ
ーンベクタデータのすべてが一度に変換されるわけでは
なく、描画パターンベクタデータの全体が主走査方向に
沿って所定巾に区分され、その区分単位毎の描画パター
ンベクタデータ部分が順次ラスタデータに変換される。
同様に、可変識別情報呼出しデータに基づいてベクタデ
ータメモリ８８Ｂの第２のメモリ領域から呼び出されて
生成された可変識別情報ベクタデータについても描画パ
ターンベクタデータの場合と同じ巾で区分され、その区
分単位毎のベクタデータ部分が順次ラスタデータに変換
される。When the drawing pattern vector data read from the first memory area of the vector data memory 88B is converted as drawing pattern raster data, not all of the drawing pattern vector data are converted at once, but the drawing pattern The entire pattern vector data is divided into predetermined widths along the main scanning direction, and the drawing pattern vector data portion for each division unit is sequentially converted into raster data.
Similarly, the variable identification information vector data generated by being called from the second memory area of the vector data memory 88B based on the variable identification information call data is also divided by the same width as that of the drawing pattern vector data. The vector data portion for each unit is sequentially converted to raster data.
【００３３】上述した区分単位については当該分野では
一般にパーティションと呼ばれ、そのパーティションに
含まれるベクタデータをラスタデータに変換した際に得
られるラスタデータの容量については例えば512 本分主
走査方向ラインに相当するものとなる。上述したよう
に、本実施形態では、主走査方向に沿う描画走査が一度
に16本のレーザビームでもって行われるので、かかるラ
スタデータの容量については32回分の描画走査を行い得
るものとなる。The above-mentioned division unit is generally called a partition in the field, and the capacity of raster data obtained when vector data included in the partition is converted into raster data is, for example, 512 lines in the main scanning direction. It will be equivalent. As described above, in the present embodiment, since the drawing scan along the main scanning direction is performed with 16 laser beams at a time, the capacity of such raster data can be 32 times.
【００３４】図４を参照すると、ベクタデータメモリ８
８Ｂの第１のメモリ領域に展開された描画パターンベク
タデータが模式的に示されている。同図において、斜線
領域は描画パターン即ち回路パターンに相当する領域で
あり、また破線は描画パターンベクタデータを主走査方
向（Ｙ軸）に沿って区分した区分単位即ちパーティショ
ンを示し、それらパーティションには便宜上参照符号Ｐ
１ないしＰ14が付されている。要するに、描画パターン
ベクタデータはパーティションＰ１ないしＰ14の順で順
次ラスタデータに変換される。Referring to FIG. 4, the vector data memory 8
Drawing pattern vector data developed in the first memory area 8B is schematically shown. In the figure, a hatched area is an area corresponding to a drawing pattern, that is, a circuit pattern, and a broken line indicates a division unit or partition obtained by dividing the drawing pattern vector data along the main scanning direction (Y axis). For convenience, reference symbol P
1 to P14 are assigned. In short, the drawing pattern vector data is sequentially converted into raster data in the order of partitions P1 to P14.
【００３５】また、図５には、可変識別情報呼出しデー
タに基づいてベクタデータメモリ８８Ｂの第２のメモリ
領域から呼び出されて生成された可変識別情報ベクタデ
ータをベクタデータメモリ８８Ｂの第３のメモリ領域に
展開した状態が模式的に図示されている。同図におい
て、可変識別情報ベクタデータの一例として、ロット番
号“3TSZ96080-0000”と日付“DATE DEC. 8, 1997”と
が示されている。また、破線は図４の場合と同様に可変
識別情報ベクタデータを主走査方向（Ｙ軸）に沿って区
分した区分単位即ちパーティションを示し、それらパー
ティションにも便宜上参照符号Ｐ１ないしＰ14が付され
ている。要するに、可変識別情報ベクタデータはパーテ
ィションＰ１ないしＰ14の順で順次ラスタデータに変換
される。FIG. 5 shows the variable identification information vector data generated by being called from the second memory area of the vector data memory 88B based on the variable identification information calling data, in the third memory of the vector data memory 88B. The state where it is developed in the region is schematically illustrated. In the drawing, as an example of the variable identification information vector data, a lot number “3TSZ96080-0000” and a date “DATE DEC. 8, 1997” are shown. Also, broken lines indicate division units or partitions obtained by dividing the variable identification information vector data along the main scanning direction (Y axis) as in the case of FIG. 4, and these partitions are also denoted by reference symbols P1 to P14 for convenience. I have. In short, the variable identification information vector data is sequentially converted to raster data in the order of partitions P1 to P14.
【００３６】図３に示すように、ラスタ変換回路８８Ｃ
は第１のスイッチ回路８８Ｄを介して第１のビットマッ
プメモリ８８Ｅ及び第２のビットマップメモリ８８Ｆの
入力側に交互に接続されるようになっている。上述した
ように各パーティション毎に変換された描画パターンラ
スタデータの部分は第１のスイッチ回路８８Ｄを介して
第１のビットマップメモリ８８Ｅ及び第２のビットマッ
プメモリ８８Ｆの交互に振り分けられて書き込まれ、ま
た同様に各パーティション毎に変換された可変識別情報
ラスタデータの部分も第１のビットマップメモリ８８Ｅ
及び第２のビットマップメモリ８８Ｆの交互に振り分け
られ書き込まれ、これにより可変識別情報ラスタデータ
が描画パターンラスタデータに対して付与されることに
なる。As shown in FIG. 3, the raster conversion circuit 88C
Are alternately connected to the input sides of a first bitmap memory 88E and a second bitmap memory 88F via a first switch circuit 88D. As described above, the portion of the drawing pattern raster data converted for each partition is alternately distributed and written into the first bitmap memory 88E and the second bitmap memory 88F via the first switch circuit 88D. Similarly, the portion of the variable identification information raster data converted for each partition is also stored in the first bitmap memory 88E.
And alternately written in the second bitmap memory 88F and written, whereby the variable identification information raster data is added to the drawing pattern raster data.
【００３７】第１のビットマップメモリ８８Ｅ及び第２
のビットマップメモリ８８Ｆの出力側は第２のスイッチ
回路８８Ｇが接続され、第１のビットマップメモリ８８
Ｅ及び第２のビットマップメモリ８８Ｆに交互に書き込
まれたラスタデータは第２のスイッチ回路８８Ｇを介し
て交互に読み出される。The first bit map memory 88E and the second bit map memory 88E
The second switch circuit 88G is connected to the output side of the bit map memory 88F of the first bit map memory 88F.
The raster data alternately written to E and the second bitmap memory 88F is alternately read via the second switch circuit 88G.
【００３８】具体的に説明すると、例えば、ラスタ変換
回路８８Ｃが第１のスイッチ回路８８Ｄを介して第１の
ビットマップメモリ８８Ｅの入力側に接続されていると
き、図４に示すパーティションＰ１に対応した描画パタ
ーンベクタデータがラスタ変換回路８８Ｃによって描画
パターンラスタデータに変換され、その描画パターンラ
スタデータは第１のスイッチ回路８８Ｄを経て第１のビ
ットマップメモリ８８Ｅに書き込まれ、続いて図５に示
すパーティションＰ１に対応した可変識別情報ベクタデ
ータがラスタ変換回路８８Ｃによって可変識別情報ラス
タデータに変換され、その可変識別情報ラスタデータも
第１のスイッチ回路８８Ｄを経て第１のビットマップメ
モリ８８Ｅに書き込まれる。More specifically, for example, when the raster conversion circuit 88C is connected to the input side of the first bitmap memory 88E via the first switch circuit 88D, it corresponds to the partition P1 shown in FIG. The drawn drawing pattern vector data is converted into drawing pattern raster data by a raster conversion circuit 88C, and the drawn pattern raster data is written to a first bitmap memory 88E via a first switch circuit 88D, and then shown in FIG. The variable identification information vector data corresponding to the partition P1 is converted into variable identification information raster data by the raster conversion circuit 88C, and the variable identification information raster data is also written to the first bitmap memory 88E via the first switch circuit 88D. .
【００３９】次いで、第１のスイッチ回路８８Ｄの切換
により、ラスタ変換回路８８Ｃが第２のビットマップメ
モリ８８Ｆの入力側に接続されると、図４に示すパーテ
ィションＰ２に対応した描画パターンベクタデータがラ
スタ変換回路８８Ｃによって描画パターンラスタデータ
に変換され、その描画パターンラスタデータは第１のス
イッチ回路８８Ｄを経て第２のビットマップメモリ８８
Ｆに書き込まれ、続いて図５に示すパーティションＰ２
に対応した可変識別情報ベクタデータがラスタ変換回路
８８Ｃによって可変識別情報ラスタデータに変換され、
その可変識別情報ラスタデータも第１のスイッチ回路８
８Ｄを経て第２のビットマップメモリ８８Ｆに書き込ま
れる。Next, when the raster conversion circuit 88C is connected to the input side of the second bitmap memory 88F by switching the first switch circuit 88D, the drawing pattern vector data corresponding to the partition P2 shown in FIG. The raster pattern is converted into drawing pattern raster data by a raster conversion circuit 88C, and the drawing pattern raster data is passed through a first switch circuit 88D to a second bitmap memory 88.
F, and then the partition P2 shown in FIG.
Is converted into variable identification information raster data by a raster conversion circuit 88C.
The variable identification information raster data is also stored in the first switch circuit 8.
The data is written to the second bitmap memory 88F via 8D.
【００４０】第２のビットマップメモリ８８Ｆへのラス
タデータの書込み中、第２のスイッチ回路８８Ｇの接続
は第１のビットマップメモリ８８Ｅの出力側に切り換え
られており、そこからラスタデータが順次読み出され
る。第１のビットマップメモリ８８Ｅからのラスタデー
タの読出しが完了し、かつ第２のビットマップメモリ８
８Ｆへのラスタデータの書込みが完了すると、第１及び
第２のスイッチ回路８８Ｄ及び８８Ｇの接続が切り替え
られ、第１のビットマップメモリ８８Ｅには図４に示す
パーティションＰ３から得られるラスタデータ及び図５
に示すパーティションＰ３から得られるベクタデータが
順次書き込まれ、一方第２のビットマップメモリ８８Ｆ
からのラスタデータの読出しが行われる。During the writing of the raster data to the second bitmap memory 88F, the connection of the second switch circuit 88G is switched to the output side of the first bitmap memory 88E, from which the raster data is sequentially read. It is. The read of the raster data from the first bitmap memory 88E is completed, and the second bitmap memory 8
When the writing of the raster data to 8F is completed, the connections of the first and second switch circuits 88D and 88G are switched, and the first bitmap memory 88E stores the raster data obtained from the partition P3 shown in FIG. 5
, The vector data obtained from the partition P3 shown in FIG.
Is read from the raster data.
【００４１】要するに、ベクタデータメモリ８８Ｂの第
１及び第２のメモリ領域のぞれぞれからは描画パターン
ベクタデータ及び可変識別情報ベクタデータが一パーテ
ィションずつ順次読み出されてラスタ変換回路８８Ｃに
よって描画パターンラスタデータ及び可変識別情報ラス
タデータに変換され、それらラスタデータは第１のスイ
ッチ回路８８Ｄを介して第１及び第２のビットマップメ
モリ８８Ｅ及び８８Ｆに交互に書き込まれ、次いで第１
及び第２のビットマップメモリ８８Ｅ及び８８Ｆから第
２のスイッチ回路８８Ｇを介して交互に読み出される。In short, the drawing pattern vector data and the variable identification information vector data are sequentially read from each of the first and second memory areas of the vector data memory 88B one partition at a time, and are drawn by the raster conversion circuit 88C. The raster data is converted into pattern raster data and variable identification information raster data. The raster data is alternately written to first and second bitmap memories 88E and 88F via a first switch circuit 88D.
And from the second bitmap memories 88E and 88F via the second switch circuit 88G.
【００４２】図６を参照すると、そこには第１のビット
マップメモリ８８Ｅ及び第２のビットマップメモリ８８
Ｆに交互に書き込まれて展開されたラスタデータが模式
的に図示されている。同図から明らかなように、第１の
ビットマップメモリ８８Ｅには図４に示す奇数番目のパ
ーティション（Ｐ１、Ｐ３、Ｐ５、Ｐ７、Ｐ９、Ｐ11、
Ｐ13）から得られる描画パターンラスタデータ部分が順
次書き込まれ、かつその各描画パターンラスタデータ部
分には図５に示す該当奇数番目のパーティションから得
られる可変識別情報ベクタデータが付与され、また第２
のビットマップメモリ８８Ｆには図４に示す偶数番目の
パーティション（Ｐ２、Ｐ４、Ｐ６、Ｐ８、Ｐ10、Ｐ1
2、Ｐ14）から得られる描画パターンラスタデータ部分
が順次書き込まれ、かつその各描画パターンラスタデー
タ部分には図５に示す該当偶数番目のパーティションか
ら得られる可変識別情報ベクタデータが付与されること
になる。Referring to FIG. 6, there are a first bitmap memory 88E and a second bitmap memory 88E.
The raster data written and developed alternately in F is schematically shown. As can be seen from the figure, the first bitmap memory 88E stores the odd-numbered partitions (P1, P3, P5, P7, P9, P11,
P13), the drawing pattern raster data portions are sequentially written, and each drawing pattern raster data portion is provided with variable identification information vector data obtained from the odd-numbered partition shown in FIG.
The even-numbered partitions (P2, P4, P6, P8, P10, P1) shown in FIG.
2, P14) are sequentially written, and the variable identification information vector data obtained from the even-numbered partition shown in FIG. 5 is assigned to each drawing pattern raster data portion. Become.
【００４３】上述したように、本実施形態にあっては、
各パーティションに含まれるベクタデータをラスタデー
タに変換した際に得られるラスタデータの容量について
は例えば512 本分主走査方向ラインに相当するものとさ
れているので、第１及び第２のビットマップメモリ８８
Ｅ及び８８Ｆの各々がそのような容量のラスタデータを
保持し得るような構成とされることは勿論である。As described above, in this embodiment,
Since the capacity of the raster data obtained when the vector data included in each partition is converted into the raster data is, for example, equivalent to 512 main scanning direction lines, the first and second bitmap memories are used. 88
Of course, each of E and 88F is configured to be able to hold such a large amount of raster data.
【００４４】また、図３のブロック図では特に図示され
ていなが、受信バッファメモリ８８Ａへのベクタデータ
の書込み及びそこからのベクタデータの読出し並びにベ
クタデータメモリ８８Ｂへのベクタデータの書込み及び
そこからのベクタデータの読出しについては、システム
コントロール回路８０から受信バッファメモリ８８Ａ及
びベクタデータメモリ８８Ｂのそれぞれに対して出力さ
れる書込みクロックパルス及び読出しクロックパルスに
基づいて行われる。同様に、第１及び第２のビットマッ
プメモリ８８Ｅ及び８８Ｆへのラスタデータの書込み及
びそこからのラスタデータの読出しについても、システ
ムコントロール回路８０から第１及び第２のビットマッ
プメモリ８８Ｅ及び８８Ｆのそれぞれに出力される書込
みクロックパルス及び読出しクロックパルスに基づいて
行われる。また、ラスタ変換回路８８Ｃ並びに第１及び
第２のスイッチ回路８８Ｄ及び８８Ｇもシステムコント
ロール回路８０の制御下で作動させられる。Although not particularly shown in the block diagram of FIG. 3, writing of vector data to the receiving buffer memory 88A, reading of vector data therefrom, and writing of vector data to the vector data memory 88B and reading therefrom Is read out based on the write clock pulse and the read clock pulse output from the system control circuit 80 to each of the reception buffer memory 88A and the vector data memory 88B. Similarly, regarding writing of raster data to the first and second bitmap memories 88E and 88F and reading of raster data therefrom, the system control circuit 80 sends the first and second bitmap memories 88E and 88F. This is performed based on the write clock pulse and the read clock pulse output respectively. The raster conversion circuit 88C and the first and second switch circuits 88D and 88G are also operated under the control of the system control circuit 80.
【００４５】再び、図２に戻って説明すると、システム
コントロール回路８０にはスケーリング補正処理回路９
０が接続され、このスケーリング補正処理回路９０によ
って主走査制御回路９２が制御される。主走査制御回路
９２には上述した電子シャッタ５２及び５８が含まれ、
更にそれら電子シャッタ５２及び５８に接続された同期
回路９３が設けられる。同期回路９３は描画データ処理
回路８８の第２のスイッチ回路８８Ｇの出力端子に接続
される。Referring back to FIG. 2, the system control circuit 80 includes the scaling correction processing circuit 9.
0 is connected, and the main scanning control circuit 92 is controlled by the scaling correction processing circuit 90. The main scanning control circuit 92 includes the electronic shutters 52 and 58 described above,
Further, a synchronization circuit 93 connected to the electronic shutters 52 and 58 is provided. The synchronization circuit 93 is connected to the output terminal of the second switch circuit 88G of the drawing data processing circuit 88.
【００４６】本実施形態では、主走査方向に沿う描画走
査が一度に16本のレーザビームでもって行われるので、
第１及び第２のビットマップメモリ８８Ｅ及び８８Ｆの
それぞれからのラスタデータの読出しについては、主走
査方向（Ｙ軸）に沿って16ビット分ずつ行われる。16ビ
ット分の読出しラスタデータは第２のスイッチ回路８８
Ｇを介して同期回路９３に入力され、このとき同期回路
９３にはスケーリング補正処理回路９０から出力される
所定周波数のクロックパルスも入力される。同期回路９
３からは16ビット分の読出しラスタデータに基づいて制
御電圧信号が各電子シャッタ５２、５８に含まれる音響
光学素子のそれぞれの駆動回路に対して出力され、その
制御電圧信号の出力タイミングはスケーリング補正処理
回路９０から出力されるクロックパルスによって制御さ
れる。In this embodiment, the drawing scan in the main scanning direction is performed by 16 laser beams at a time.
Reading of raster data from each of the first and second bitmap memories 88E and 88F is performed for 16 bits in the main scanning direction (Y axis). The 16-bit read raster data is supplied to the second switch circuit 88.
The clock pulse having a predetermined frequency output from the scaling correction processing circuit 90 is also input to the synchronization circuit 93 via G. Synchronous circuit 9
3 outputs a control voltage signal to each drive circuit of the acousto-optic element included in each of the electronic shutters 52 and 58 based on the read raster data of 16 bits, and the output timing of the control voltage signal is scaled. It is controlled by a clock pulse output from the processing circuit 90.
【００４７】要するに、描画作動中、16本のレーザビー
ムの変調がスケーリング補正処理回路９０からのクロッ
クパルスに従ってかつ16ビット分のラスタデータに基づ
いて制御され、これにより描画テーブル１８上の被描画
体には描画パターンラスタデータ基づく描画パターン及
びロット番号や日付等の可変識別情報が記録されること
になる。In short, during the drawing operation, the modulation of the 16 laser beams is controlled according to the clock pulse from the scaling correction processing circuit 90 and based on the 16-bit raster data. , A drawing pattern based on the drawing pattern raster data and variable identification information such as a lot number and a date are recorded.
【００４８】主走査制御回路９２には更にＹスケールセ
ンサ９４及び信号処理回路９６が設けられる。Ｙスケー
ルセンサ９４はＹリニアスケールからの光信号を検出し
て16本の走査レーザビームの主走査方向（Ｙ軸）に沿う
偏向距離を計測するものであり、それ自体は周知のもの
である。Ｙスケールセンサ９４からの出力信号は信号処
理回路９６によって適宜処理された後に基本クロックパ
ルスとしてスケーリング補正処理回路９０に対して出力
され、その基本クロックパルスは後述するように個々の
被描画体の主走査方向寸法変動値から得られるスケーリ
ング補正情報データに基づいて処理された後にスケーリ
ング補正処理回路９０から同期回路９３に対して出力さ
れる。The main scanning control circuit 92 is further provided with a Y scale sensor 94 and a signal processing circuit 96. The Y scale sensor 94 detects an optical signal from the Y linear scale and measures the deflection distance of the 16 scanning laser beams along the main scanning direction (Y axis), and is known per se. The output signal from the Y scale sensor 94 is appropriately processed by a signal processing circuit 96, and then output as a basic clock pulse to a scaling correction processing circuit 90. After being processed based on the scaling correction information data obtained from the scan direction dimensional variation value, the data is output from the scaling correction processing circuit 90 to the synchronization circuit 93.
【００４９】図２から明らかなように、スケーリング補
正処理回路９０は更に副走査制御回路９８の作動を制御
するようになっており、この副走査制御回路９８には駆
動回路１００が設けられ、この駆動回路１００によりサ
ーボモータ１０２の駆動が制御される。サーボモータ１
０２はＸテーブル１４を副走査方向（Ｘ軸）に沿って所
定の速度で駆動させるためのものであり、これにより描
画テーブル１８上の被描画体が副走査方向に移動させら
れる。描画作動時、スケーリング補正処理回路９０から
はクロックパルスが駆動回路１００に対して出力され、
このクロックパルスに基づいて駆動回路１００からは駆
動パルスがサーボモータ１０２に対して出力される。As is apparent from FIG. 2, the scaling correction processing circuit 90 further controls the operation of the sub-scanning control circuit 98. The sub-scanning control circuit 98 is provided with a driving circuit 100. The drive of the servomotor 102 is controlled by the drive circuit 100. Servo motor 1
Numeral 02 is for driving the X table 14 at a predetermined speed along the sub-scanning direction (X-axis), whereby the object to be drawn on the drawing table 18 is moved in the sub-scanning direction. During the drawing operation, a clock pulse is output from the scaling correction processing circuit 90 to the drive circuit 100,
A drive pulse is output from the drive circuit 100 to the servomotor 102 based on the clock pulse.
【００５０】図２に示すように、副走査制御回路９８に
は更にＸスケールセンサ１０４及び信号処理回路１０６
が設けられる。Ｘスケールセンサ１０４はＸリニアスケ
ール（図示されない）からの光信号を検出して描画テー
ブル１８（即ち、その上の被描画体）の副走査方向（Ｘ
軸）に沿う移動距離を計測するものであり、それ自体は
周知なものである。Ｘスケールセンサ１０４からの出力
信号は信号処理回路１０６によって適宜処理された後に
基本クロックパルスとしてスケーリング補正処理回路９
０に対して出力され、その基本クロックパルスは後述す
るように個々の被描画体の主走査方向寸法変動値から得
られるスケーリング補正情報データに基づいて処理され
た後にスケーリング補正処理回路９０から駆動回路１０
０に対して出力される。As shown in FIG. 2, the sub-scanning control circuit 98 further includes an X scale sensor 104 and a signal processing circuit 106.
Is provided. The X scale sensor 104 detects an optical signal from an X linear scale (not shown), and moves in the sub-scanning direction (X
It measures the movement distance along the axis (axis), and is itself well known. An output signal from the X scale sensor 104 is appropriately processed by a signal processing circuit 106, and then converted as a basic clock pulse into a scaling correction processing circuit 9.
0, and the basic clock pulse is processed based on scaling correction information data obtained from the main scanning direction dimensional variation value of each object to be drawn, as described later, and then the scaling correction processing circuit 90 sends the basic clock pulse to the driving circuit. 10
Output for 0.
【００５１】２台のＣＣＤカメラ７８が描画テーブル１
８上に被描画体を設置した際に該描画テーブル１８に対
する被描画体の相対位置を検出するために用いられるこ
とは先に述べたが、それらＣＣＤカメラ７８は被描画体
の寸法変動値を検出するためにも使用される。被描画
体、例えばフォトレジスト層を持つ基板の四隅のそれぞ
れには位置決めマークが設けられ、これら位置決めマー
クの座標をＣＣＤカメラ７８で読み取って、その読取り
座標を基準寸法座標と比較することにより、個々の基板
（被描画体）の寸法変動値が検出される。このような基
板の寸法変動値の検出について図７を参照して以下に詳
述する。The two CCD cameras 78 are connected to the drawing table 1
As described above, when the object to be drawn is placed on the drawing table 8, the CCD camera 78 is used to detect the relative position of the object to be drawn with respect to the drawing table 18. Also used to detect. Positioning marks are provided at each of the four corners of the object to be drawn, for example, a substrate having a photoresist layer, and the coordinates of these positioning marks are read by a CCD camera 78, and the read coordinates are compared with reference dimension coordinates to obtain individual points. A dimensional variation value of the substrate (drawing target) is detected. Detection of such a dimensional variation value of the substrate will be described in detail below with reference to FIG.
【００５２】図７において、座標(X01, Y01)、座標(X0
2, Y02)、座標(X03, Y03)並びに座標(X04, Y04)は計算
上得られる基準基板の四隅に対して設定された位置決め
マークの基準座標である。基準座標のデータはシステム
コントロール回路８０のメモリ例えば読出し専用メモリ
（ＲＯＭ）に定数として予め格納されていてもよいし、
あるいはレーザ描画装置内の適当な記録媒体例えばハー
ドディスク装置（図示されない）に格納されていてもよ
い。なお、後者の場合には、基準座標のデータはレーザ
描画装置の始動時にハードディスク装置等から読み出さ
れて、システムコントロール回路８０内のメモリ例えば
読出し／書込み可能なメモリ（ＲＡＭ）に取り込まれ
る。In FIG. 7, coordinates (X01, Y01) and coordinates (X0
(2, Y02), coordinates (X03, Y03) and coordinates (X04, Y04) are reference coordinates of the positioning marks set for the four corners of the reference substrate obtained by calculation. The data of the reference coordinates may be previously stored as a constant in a memory of the system control circuit 80, for example, a read-only memory (ROM),
Alternatively, it may be stored in a suitable recording medium in the laser drawing apparatus, for example, a hard disk drive (not shown). In the latter case, the reference coordinate data is read from a hard disk device or the like when the laser drawing apparatus is started, and is taken into a memory in the system control circuit 80, for example, a readable / writable memory (RAM).
【００５３】一方、図７において、座標(X11, Y11)、座
標(X12, Y12)、座標(X13, Y13)並びに座標(X14, Y14)は
描画テーブル１８上に設置された実際の被描画体即ち基
板の四隅に設けられた位置決めマークの座標であり、こ
れら位置決めマークの座標は２台のＣＣＤカメラ７８か
ら得られるビデオデータを画像処理回路８２で適宜処理
した後にその処理データに基づいてシステムコントロー
ル回路８０内で適宜演算することにより得られるもので
ある。On the other hand, in FIG. 7, the coordinates (X11, Y11), the coordinates (X12, Y12), the coordinates (X13, Y13), and the coordinates (X14, Y14) are the actual object to be drawn set on the drawing table 18. That is, the coordinates of the positioning marks provided at the four corners of the substrate are used as the coordinates of the positioning marks. The video data obtained from the two CCD cameras 78 is appropriately processed by the image processing circuit 82, and the system control is performed based on the processed data. It is obtained by performing appropriate calculations in the circuit 80.
【００５４】実際の基板の位置決めマークの座標が得ら
れると、先ず、基準座標に対する該基板の寸法変動値が
システムコントロール回路８０内で演算される。ここで
主走査方向（Ｙ軸）に沿う寸法変動値をΔY とし、副走
査方向（Ｘ軸）に沿う寸法変動値をΔX とすると、これ
ら寸法変動値（平均値）は以下の式から得られる。 ΔY = (Y11 + Y12 + Y13 + Y14 - Y01 - Y02 - Y03 - Y
04)/4 ΔX = (X11 + X12 + X13 + X14 - X01 - X02 - X03 - X
04)/4When the coordinates of the actual positioning mark of the substrate are obtained, first, the dimensional variation of the substrate with respect to the reference coordinates is calculated in the system control circuit 80. Here, assuming that the dimensional variation along the main scanning direction (Y-axis) is ΔY and the dimensional variation along the sub-scanning direction (X-axis) is ΔX, these dimensional variation (average) can be obtained from the following equation. . ΔY = (Y11 + Y12 + Y13 + Y14-Y01-Y02-Y03-Y
04) / 4 ΔX = (X11 + X12 + X13 + X14-X01-X02-X03-X
04) / 4
【００５５】また、システムコントロール回路８０で
は、実際の基板の座標と基準基板の基準座標とに基づい
て、実際の基板の二次元方向の伸縮率、即ちＹ軸方向に
沿う伸縮率ΔSY及びＸ軸方向に沿う伸縮率ΔSXが演算さ
れる。これら伸縮率（平均値）については、実際の基板
の各辺に沿う位置決めマーク間の距離と基準基板の該当
基準座標間の距離との比を表す以下の式から得られる。 ΔSY = [(Y13 + Y14 - Y11 - Y12)/(Y03 + Y04 - Y01 -
Y02) - 1] ΔSX = [(X12 + X13 - X11 - X14)/(X02 + X03 - X01 -
X04) - 1]In the system control circuit 80, the expansion and contraction ratio of the actual substrate in the two-dimensional direction, that is, the expansion and contraction ratio ΔSY along the Y-axis direction and the X-axis, based on the coordinates of the actual substrate and the reference coordinates of the reference substrate. An expansion / contraction ratio ΔSX along the direction is calculated. These expansion ratios (average values) can be obtained from the following equation, which represents the ratio of the distance between the positioning marks along each side of the actual substrate and the distance between the corresponding reference coordinates of the reference substrate. ΔSY = [(Y13 + Y14-Y11-Y12) / (Y03 + Y04-Y01-
Y02)-1] ΔSX = [(X12 + X13-X11-X14) / (X02 + X03-X01-
X04)-1]
【００５６】伸縮率ΔSYの値が正であれば、実際の基板
のＹ方向寸法は基準基板のＹ方向基準寸法よりも伸びた
ものとなり、伸縮率ΔSYの値が負であれば、実際の基板
のＹ方向寸法は基準基板のＹ方向基準寸法よりも縮んだ
ものとなる。同様に、伸縮率ΔSXの値が正であれば、実
際の基板のＸ方向寸法は基準基板のＸ方向基準寸法より
も伸びたものとなり、伸縮率ΔSXの値が負であれば、実
際の基板のＸ方向寸法は基準基板のＸ方向基準寸法より
も縮んだものとなる。If the value of the expansion ratio ΔSY is positive, the actual dimension in the Y direction of the substrate is longer than the reference size of the reference substrate in the Y direction. Is smaller than the reference dimension of the reference substrate in the Y direction. Similarly, if the value of the expansion / contraction ratio ΔSX is positive, the actual dimension in the X direction of the substrate will be longer than the reference size in the X direction of the reference substrate. If the value of the expansion / contraction ratio ΔSX is negative, the actual substrate Is smaller than the X-direction reference dimension of the reference substrate.
【００５７】本実施形態では、個々の基板の伸縮率に応
じて描画パターン及び可変識別情報の記録も伸縮される
ように行われる。例えば、主走査方向の描画ライン中に
10万画素（ドット）が含まれ、かつ画素サイズが画素ピ
ッチの２倍で５μm であるとすると、該描画ラインの長
さは500mm となる。仮に実際の基板の主走査方向の寸法
が１mmだけ伸びて501 mmになったとすると（伸び率ΔSY
= 0.002) 、10万画素を501 mmの範囲内にできるだけ均
等に配列するために、200(10万×ΔSY) 画素分毎にスケ
ーリング補正処理が行われる。即ち、500(10万/200) 画
素毎に画素配列が１画素分(5μm)だけ正側（主走査方向
に沿うレーザビームの偏向方向）にシフトさせられる。
このようなスケーリング補正処理については、Ｘスケー
ルセンサ１０４から得られる基本クロックパルスをスケ
ーリング補正処理回路９０でスケーリング補正処理情報
データ（即ち、Ｙ軸方向に沿う伸縮率ΔSY）に基づいて
処理した後に同期回路９３に対して出力することにより
行われる。In the present embodiment, the recording of the drawing pattern and the variable identification information is performed in accordance with the expansion and contraction ratio of each substrate. For example, during the drawing line in the main scanning direction
Assuming that 100,000 pixels (dots) are included and the pixel size is twice the pixel pitch and is 5 μm, the length of the drawing line is 500 mm. If the size of the actual substrate in the main scanning direction is extended by 1 mm to 501 mm (elongation rate ΔSY
= 0.002), in order to arrange the 100,000 pixels within the range of 501 mm as evenly as possible, a scaling correction process is performed every 200 (100,000 × ΔSY) pixels. That is, the pixel array is shifted by one pixel (5 μm) for every 500 (100,000 / 200) pixels toward the positive side (the direction of deflection of the laser beam along the main scanning direction).
For such a scaling correction process, the basic clock pulse obtained from the X scale sensor 104 is processed by the scaling correction processing circuit 90 based on the scaling correction processing information data (that is, the expansion / contraction ratio ΔSY along the Y-axis direction), and then the synchronization is performed. This is performed by outputting to the circuit 93.
【００５８】上述の事例では、伸び率ΔSYが正の値を取
る場合について述べたが、伸び率が負の値を取る場合も
実質的に同じことが言える。例えば、仮に実際の基板の
主走査方向の寸法が１mmだけ縮んで499 mmになったとす
ると（伸び率ΔSY = -0.002)、200(10万×ΔSY) 画素分
だけスケーリング補正処理が行われる。即ち、10万画素
を499 mmの範囲内にできるだけ均等に配列するために、
500(10万/200) 画素毎に画素配列が１画素分(5μm)だけ
負側（主走査方向に沿うレーザビームの偏向方向とは逆
方向）にシフトされる。In the above example, the case where the elongation percentage ΔSY takes a positive value has been described. However, the same can be said for the case where the elongation percentage takes a negative value. For example, if the size of the actual substrate in the main scanning direction is reduced by 1 mm to 499 mm (elongation rate ΔSY = −0.002), scaling correction processing is performed for 200 (100,000 × ΔSY) pixels. That is, in order to arrange 100,000 pixels as evenly as possible within the range of 499 mm,
For every 500 (100,000 / 200) pixels, the pixel array is shifted by one pixel (5 μm) to the negative side (the direction opposite to the laser beam deflection direction along the main scanning direction).
【００５９】上述の事例では、主走査方向（Ｙ軸）に沿
う寸法変動に対するスケーリング補正処理について説明
したが、副走査方向（Ｘ軸）に沿う寸法変動に対するス
ケーリング補正処理についても次の点を除けば同様なこ
とが言える。即ち、副走査方向（Ｘ軸）に沿う寸法変動
に対するスケーリング補正処理では、レーザビーム自体
が副走査方向に偏向されることはないが、しかしそのよ
うなレーザビームの偏向については、描画テーブル１８
の副走査方向（Ｘ軸）に沿う相対的な移動として定義す
ることができる。In the above case, the scaling correction processing for the dimensional fluctuation along the main scanning direction (Y-axis) has been described. However, the scaling correction processing for the dimensional fluctuation along the sub-scanning direction (X-axis) except for the following points. The same can be said. That is, the laser beam itself is not deflected in the sub-scanning direction in the scaling correction processing for the dimensional fluctuation along the sub-scanning direction (X-axis).
Can be defined as a relative movement along the sub-scanning direction (X-axis).
【００６０】図２に示すように、システムコントロール
回路８０には不揮発性メモリ１０８が接続され、この不
揮発性メモリ１０８には描画作動時に個々の被描画体の
可変識別情報のうちロット番号データとその伸縮率デー
タ（ΔSY, ΔSX）とが互いに関連されて書き込まれる。
図９には個々の被描画体のロット番号データとその伸縮
率データ（ΔSY, ΔSX）を不揮発性メモリ１０８に書き
込んだ状態が模式的に示されている。ロット番号データ
の後半の部分は通し番号であり、これにより各被描画体
即ち基板の寸法変動がどの程度であるかを認識すること
ができる。不揮発性メモリ１０８の個々の被描画体のデ
ータは必要に応じてＥＷＳ８６に送信され、描画後の個
々の被描画体に対してその後に行われる後処理や検査の
ために利用される。なお、図９に示すような個々の被描
画体のロット番号データとその伸縮率データ（ΔSY, Δ
SX）については不揮発性メモリ１０８に格納することな
く直ちにＥＷＳ８６側に送信してそのＥＷＳ８６側のメ
モリ手段に格納するようにしてもよい。As shown in FIG. 2, a non-volatile memory 108 is connected to the system control circuit 80. The non-volatile memory 108 stores lot number data and variable number information among variable identification information of each object to be drawn at the time of drawing operation. The expansion / contraction data (ΔSY, ΔSX) is written in association with each other.
FIG. 9 schematically shows a state in which the lot number data and the expansion / contraction ratio data (ΔSY, ΔSX) of each drawing object are written in the nonvolatile memory 108. The latter part of the lot number data is a serial number, which makes it possible to recognize the degree of dimensional variation of each object to be drawn, that is, the substrate. The data of each drawing object in the non-volatile memory 108 is transmitted to the EWS 86 as necessary, and is used for post-processing and inspection performed on each drawing object after drawing. Note that the lot number data and the expansion / contraction data (ΔSY, Δ
SX) may be transmitted immediately to the EWS 86 without being stored in the nonvolatile memory 108 and stored in the memory means on the EWS 86 side.
【００６１】次に、図９に示すフローチャートを参照し
て、ＥＷＳ８６で実行される描画作動制御ルーチンにつ
いて説明する。Next, the drawing operation control routine executed by the EWS 86 will be described with reference to the flowchart shown in FIG.
【００６２】ステップ９０１では、ＥＷＳ８６から登録
符号化ベクタデータがレーザ描画装置に送信されたか否
かが判断される。登録符号化ベクタデータは既に述べた
ように種々の文字（例えばアルファベット）、数字及び
記号等からなるものであり、これら登録符号化ベクタデ
ータはＥＷＳ８６側で前もって作成されて、例えばＥＷ
Ｓ８６に設けられたハードディスク装置等に格納されて
いるものである。オペレーターによるＥＷＳ８６の操作
により、登録符号化ベクタデータはレーザ描画装置に送
信される。In step 901, it is determined whether or not the registered encoded vector data has been transmitted from the EWS 86 to the laser drawing apparatus. As described above, the registered coded vector data is composed of various characters (for example, alphabets), numbers, symbols, and the like. These registered coded vector data are created in advance on the EWS 86 side, for example, EW.
It is stored in the hard disk device or the like provided in S86. When the operator operates the EWS 86, the registered encoded vector data is transmitted to the laser drawing apparatus.
【００６３】ステップ９０１において、レーザ描画装置
への登録符号化ベクタデータの送信が確認されると、ス
テップ９０２に進み、描画作動の実行に必要な情報が入
力されたか否かが判断される。例えば、描画すべき描画
パターンの種類が選択されたか、描画枚数の数値が設定
されたかというような情報の入力が完了したか否かが判
断される。なお、本実施形態では、描画枚数（即ち、描
画作動回数）については例えば“1000”とされる。In step 901, when the transmission of the registered coded vector data to the laser drawing apparatus is confirmed, the flow advances to step 902 to determine whether or not information necessary for executing the drawing operation has been input. For example, it is determined whether the input of information such as whether the type of the drawing pattern to be drawn has been selected or whether the numerical value of the number of drawn images has been set has been completed. In the present embodiment, the number of drawn images (that is, the number of drawing operations) is, for example, “1000”.
【００６４】ステップ９０２において、描画作動の実行
に必要な情報の入力が確認されると、ステップ９０３に
進み、そこでＥＷＳ８６から所望の描画パターンベクタ
データ（即ち、ステップ９０２で選択された描画パター
ンに対応したベクタデータ）がレーザ描画装置に送信さ
れたか否かが判断される。ＥＷＳ８６では上述したハー
ドディスク装置等に多種類の描画パターンベクタデータ
が格納されており、これら描画パターンベクタデータは
ＣＡＤステーションで作成されたりあるいはＣＡＭステ
ーションで編集されたりしたものであって、必要に応じ
てそれらステーションから得られるものである。When the input of the information necessary for executing the drawing operation is confirmed in step 902, the process proceeds to step 903, where the EWS 86 sends the desired drawing pattern vector data (that is, the drawing pattern vector data corresponding to the drawing pattern selected in step 902). It is determined whether the received vector data has been transmitted to the laser drawing apparatus. In the EWS 86, various types of drawing pattern vector data are stored in the above-described hard disk device and the like. These drawing pattern vector data are created by a CAD station or edited by a CAM station. It is obtained from those stations.
【００６５】ステップ９０３において、レーザ描画装置
への所望の描画パターンベクタデータの送信が確認され
ると、ステップ９０４に進み、そこで可変識別情報呼出
しデータの作成が完了したか否かが判断される。本実施
形態にあっては、例えば、可変識別情報呼出しデータは
ロット番号“3TSZ96080-0001”と日付“DATE DEC. 8,19
97”との組合とされる。In step 903, when the transmission of the desired drawing pattern vector data to the laser drawing apparatus is confirmed, the flow advances to step 904, where it is determined whether the creation of the variable identification information calling data has been completed. In the present embodiment, for example, the variable identification information calling data includes a lot number “3TSZ96080-0001” and a date “DATE DEC.
97 ”union.
【００６６】ステップ９０４において、かかる可変識別
情報呼出しデータの作成の完了が確認されると、ステッ
プ９０５に進み、そこでＥＷＳ８６から可変識別情報呼
出しデータがレーザ描画装置に送信されたか否かが判断
される。レーザ描画装置への可変識別情報ベクタデータ
の送信が確認されると、ステップ９０６に進み、そこで
レーザ描画装置から描画作動準備完了信号が出力された
か否かが判断される。描画作動準備完了信号はレーザ描
画装置側で将に描画作動を実行し得る状態になった際に
ＥＷＳ８６側に出力されるものである。When the completion of the creation of the variable identification information calling data is confirmed in step 904, the process proceeds to step 905, where it is determined whether or not the variable identification information calling data has been transmitted from the EWS 86 to the laser drawing apparatus. . When transmission of the variable identification information vector data to the laser drawing apparatus is confirmed, the process proceeds to step 906, where it is determined whether or not a drawing operation preparation completion signal has been output from the laser drawing apparatus. The drawing operation preparation completion signal is output to the EWS 86 when the laser drawing device is ready to execute a drawing operation.
【００６７】ステップ９０６において、レーザ描画装置
からの描画作動準備完了信号の出力が確認されると、ス
テップ９０７に進み、そこでＥＷＳ８６から描画開始指
令信号がレーザ描画装置に出力される。次いで、ステッ
プ９０８では、ＥＷＳ８６の制御回路内に設定されたカ
ウンタのカウント数がステップ９０２で入力された描画
枚数“1000”に対応する数値（即ち、999)に到達したか
否かが判断される。なお、上述のカウンタはこの描画作
動制御ルーチンの実行時にリセットされる。現段階で
は、かかるカウンタのカウント数は描画枚数の数値
“１”に対応した“０”となっているので、カウント数
を１だけカウントアップしてステップ９０８からステッ
プ９０４に戻り、そこで再び可変識別情報呼出しデータ
の作成が完了したか否かが判断される。このとき作成さ
れる可変識別情報呼出しデータのうちのロット番号の後
半の通し番号が“１”だけカウントアップされる。即
ち、ロット番号のうちの通し番号は“3TSZ96080-0002”
となる。なお、可変識別情報呼出しデータのうちの日付
については前回と同じとされる。In step 906, when the output of the drawing operation preparation completion signal from the laser drawing device is confirmed, the process proceeds to step 907, where the EWS 86 outputs a drawing start command signal to the laser drawing device. Next, at step 908, it is determined whether or not the count number of the counter set in the control circuit of the EWS 86 has reached the numerical value (ie, 999) corresponding to the number of drawn images “1000” input at step 902. . The above-described counter is reset when the drawing operation control routine is executed. At this stage, the count number of this counter is “0” corresponding to the numerical value “1” of the number of drawn sheets. Therefore, the count number is incremented by 1, and the process returns from step 908 to step 904, where the variable identification is performed again. It is determined whether the creation of the information calling data has been completed. At this time, the serial number of the latter half of the lot number in the variable identification information call data created is counted up by "1". That is, the serial number of the lot number is “3TSZ96080-0002”
Becomes Note that the date in the variable identification information call data is the same as the previous time.
【００６８】次いで、ステップ９０５ないしステップ９
０８からなるルーチンが同様な態様で繰り返される。要
するに、ステップ９０８で描画枚数“1000”に到達する
まで、かかるルーチンが繰り返され、その間にわたって
可変識別情報呼出しデータのうちのロット番号に含まれ
る通し番号は順次“１”だけカウントアップされる。な
お、ステップ９０８において、描画枚数“1000”に到達
した時点では、ロット番号の通し番号は“3TSZ96080-10
00”となる。Next, steps 905 to 9
08 is repeated in a similar manner. In short, this routine is repeated until the number of drawn images reaches "1000" in step 908, and the serial number included in the lot number in the variable identification information calling data is sequentially counted up by "1" during that period. In step 908, when the number of drawn images reaches “1000”, the serial number of the lot number is “3TSZ96080-10
00 ".
【００６９】ステップ９０８において、描画枚数“100
0”に到達したことが確認されると、ステップ９０９に
進み、そこで描画終了指令信号がＥＷＳ８６からレーザ
描画装置に出力された後、この描画作動制御ルーチンは
終了する。In step 908, the number of drawn images “100”
When it is confirmed that the value has reached "0", the process proceeds to step 909, where a drawing end command signal is output from the EWS 86 to the laser drawing device, and then the drawing operation control routine ends.
【００７０】続いて、図１０及び１１に示すフローチャ
ートを参照して、レーザ描画装置で実行される描画作動
ルーチンについて説明する。Next, a drawing operation routine executed by the laser drawing apparatus will be described with reference to flowcharts shown in FIGS.
【００７１】ステップ１００１では、ＥＷＳ８６から登
録符号化ベクタデータを受信したか否かが判断される。
登録符号化ベクタデータの受信が確認されると、ステッ
プ１００２に進み、そこでベクタデータメモリ８８Ｂの
第２のメモリ領域への登録符号化ベクタデータの書込み
が開始される。詳述すると、システムコントロール回路
８０からは受信バッファメモリ８８Ａに対して書込みク
ロックパルスが出力され、登録符号化ベクタデータは受
信バッファメモリ８８Ａに一旦書き込まれて保持され
る。一方、システムコントロール回路８０からは受信バ
ッファメモリ８８Ａに対して読出しクロックパルスも出
力され、受信バッファメモリ８８Ａから登録符号化ベク
タデータが読み出され、このときシステムコントロール
回路８０からベクタデータメモリ８８Ｂに対して書込み
クロックパルスが出力され、これにより登録符号化ベク
タデータはベクタデータメモリ８８Ｂの第２のメモリ領
域に書き込まれて格納される。At step 1001, it is determined whether or not the registered encoded vector data has been received from the EWS 86.
When the reception of the registered coded vector data is confirmed, the process proceeds to step 1002, where writing of the registered coded vector data to the second memory area of the vector data memory 88B is started. More specifically, a write clock pulse is output from the system control circuit 80 to the reception buffer memory 88A, and the registered coded vector data is once written and held in the reception buffer memory 88A. On the other hand, a read clock pulse is also output from the system control circuit 80 to the reception buffer memory 88A, and the registered coded vector data is read from the reception buffer memory 88A. Then, a write clock pulse is output, whereby the registered encoded vector data is written and stored in the second memory area of the vector data memory 88B.
【００７２】ステップ１００３では、ＥＷＳ８６から描
画パターンベクタデータを受信したか否かが判断され
る。描画パターンベクタデータの受信が確認されると、
ステップ１００４に進み、そこでベクタデータメモリ８
８Ｂの第１のメモリ領域への描画パターンベクタデータ
の書込みが開始される。詳述すると、システムコントロ
ール回路８０からは受信バッファメモリ８８Ａに対して
書込みクロックパルスが出力され、描画パターンベクタ
データは受信バッファメモリ８８Ａに一旦書き込まれて
保持される。一方、システムコントロール回路８０から
は受信バッファメモリ８８Ａに対して読出しクロックパ
ルスも出力され、受信バッファメモリ８８Ａから描画パ
ターンベクタデータが読み出され、このときシステムコ
ントロール回路８０からベクタデータメモリ８８Ｂに対
して書込みクロックパルスが出力され、これにより描画
パターンベクタデータはベクタデータメモリ８８Ｂの第
１のメモリ領域に書き込まれて格納される（図４参
照）。At step 1003, it is determined whether or not the drawing pattern vector data has been received from the EWS 86. When the reception of the drawing pattern vector data is confirmed,
Proceed to step 1004 where the vector data memory 8
Writing of the drawing pattern vector data to the first memory area 8B is started. More specifically, a write clock pulse is output from the system control circuit 80 to the reception buffer memory 88A, and the drawing pattern vector data is once written and held in the reception buffer memory 88A. On the other hand, a read clock pulse is also output from the system control circuit 80 to the reception buffer memory 88A, and the drawing pattern vector data is read from the reception buffer memory 88A. At this time, the system control circuit 80 transmits the drawing pattern vector data to the vector data memory 88B. A write clock pulse is output, whereby the drawing pattern vector data is written and stored in the first memory area of the vector data memory 88B (see FIG. 4).
【００７３】ステップ１００５では、被描画体、即ちフ
ォトレジスト層を持つ基板が描画テーブル１８上設置さ
れたか否かが判断される。描画テーブル１８上への基板
の設置が確認されると、ステップ１００６に進み、そこ
で描画テーブル１８が適当にＸ軸方向（副走査方向）に
沿って移動させられ、基板のＹ軸方向（主走査方向）の
一方の側辺に沿う一対の位置決めマークが２つのＣＣＤ
カメラ７８によって捉えられ、次いでステップ１００７
に進み、そこで該一対の位置決めマークの座標データが
読み取られて取り込まれる。In step 1005, it is determined whether or not the object to be drawn, that is, the substrate having the photoresist layer, has been set on the drawing table 18. When the placement of the substrate on the drawing table 18 is confirmed, the process proceeds to step 1006, where the drawing table 18 is appropriately moved along the X-axis direction (sub-scanning direction), and the substrate is moved in the Y-axis direction (main scanning direction). 2) A pair of positioning marks along one side
Captured by camera 78, then step 1007
Then, the coordinate data of the pair of positioning marks is read and captured.
【００７４】ステップ１００８では、描画テーブル１８
が再び移動させられ、基板のＹ軸方向（主走査方向）の
他方の側辺に沿う一対の位置決めマークが２つのＣＣＤ
カメラ８０によって捉えられ、次いでステップ１００９
に進み、そこで該一対の位置決めマークの座標データが
読み取られて取り込まれる。At step 1008, the drawing table 18
Is moved again, and a pair of positioning marks along the other side in the Y-axis direction (main scanning direction) of the substrate are two CCDs.
Captured by camera 80, then step 1009
Then, the coordinate data of the pair of positioning marks is read and captured.
【００７５】ステップ１０１０では、読取り座標データ
に基づいて、先に述べたような一連のデータが演算され
る。ステップ１０１１では、寸法変動データΔX 及びΔ
Y に基づいて、描画テーブル１８が描画開始位置に位置
決めされると共にレーザビームによる主走査方向の走査
開始位置が決定され、これにより被描画体に対する走査
範囲が確定される。なお、本例では、先に述べた事例と
同様に、主走査方向の基準走査範囲は500mm とされ、ラ
スタデータの一画素サイズは５μm とされるので、かか
る主走査方向の基準走査範囲内には10万画素が配列され
る。In step 1010, a series of data as described above is calculated based on the read coordinate data. In step 1011, the dimension variation data ΔX and Δ
Based on Y, the drawing table 18 is positioned at the drawing start position, and the scanning start position in the main scanning direction by the laser beam is determined, whereby the scanning range for the object to be drawn is determined. In this example, as in the case described above, the reference scanning range in the main scanning direction is set to 500 mm, and one pixel size of the raster data is set to 5 μm. Has 100,000 pixels arranged.
【００７６】ステップ１０１２では、ステップ１０１０
における演算で得られた該当基板の補正データ、即ち該
当基板の伸縮率データΔSY及びΔSXがシステムコントロ
ール回路８０に一旦取り込まれてそのＲＡＭに一旦保持
され、次いでそれら伸縮率データΔSY及びΔSXは不揮発
性メモリ１０８の所定アドレスに書き込まれて格納され
る。一方、ステップ１０１２でかかる伸縮率データΔSY
及びΔSXを外部に出力してＥＷＳ８６に送信してそこの
メモリに保持させることも可能である。In step 1012, step 1010
The correction data of the relevant substrate obtained by the calculation in the above, that is, the expansion / contraction data ΔSY and ΔSX of the relevant substrate are once taken into the system control circuit 80 and temporarily held in the RAM, and then the expansion / contraction data ΔSY and ΔSX are non-volatile. The data is written and stored at a predetermined address of the memory 108. On the other hand, in step 1012, the expansion / contraction data ΔSY
And ΔSX can be output to the outside, transmitted to the EWS 86, and stored in the memory there.
【００７７】ステップ１０１３では、ＥＷＳ８６から可
変識別情報呼出しデータを受信したか否かが判断され
る。可変識別情報呼出しデータの受信が確認されると、
ステップ１０１４に進み、そこで可変識別情報呼出しデ
ータに基づいて可変識別情報ベクタデータが生成されて
ベクタデータメモリ８８Ｂの第３のメモリ領域に展開さ
れて格納される。詳述すると、システムコントロール回
路８０からは受信バッファメモリ８８Ａに対して書込み
クロックパルスが出力され、可変識別情報呼出しデータ
は受信バッファメモリ８８Ａに一旦書き込まれて保持さ
れる。一方、システムコントロール回路８０からは受信
バッファメモリ８８Ａに対して読出しクロックパルスも
出力され、受信バッファメモリ８８Ａから可変識別情報
呼出しデータが読み出される。受信バッファメモリ８８
Ａから読み出された可変識別情報呼出しデータはベクタ
データメモリ８８Ｂの第２のメモリ領域（登録符号化ベ
クタデータを保持）にアドレスされ、これにより該第２
のメモリ領域からは可変識別情報呼出しデータに応じて
所定の登録符号化ベクタデータが呼び出されて可変識別
情報ベクタデータが生成され、その可変識別情報ベクタ
データはベクタデータメモリ８８Ｂの第３のメモリ領域
に展開されて格納される（図５参照）。At step 1013, it is determined whether or not variable identification information calling data has been received from EWS 86. When the reception of the variable identification information call data is confirmed,
Proceeding to step 1014, variable identification information vector data is generated based on the variable identification information call data, and is developed and stored in the third memory area of the vector data memory 88B. More specifically, a write clock pulse is output from the system control circuit 80 to the reception buffer memory 88A, and the variable identification information calling data is once written and held in the reception buffer memory 88A. On the other hand, a read clock pulse is also output from the system control circuit 80 to the reception buffer memory 88A, and the variable identification information calling data is read from the reception buffer memory 88A. Receive buffer memory 88
The variable identification information call data read from A is addressed to the second memory area (holding the registered encoded vector data) of the vector data memory 88B, whereby the second
In accordance with the variable identification information call data, predetermined registered encoded vector data is called from the memory area to generate variable identification information vector data. The variable identification information vector data is stored in the third memory area of the vector data memory 88B. (See FIG. 5).
【００７８】ステップ１０１５では、ステップ１０１４
で生成された可変識別情報ベクタデータのうちのロット
番号データがシステムコントロール回路８０に取り込ま
れてそのＲＡＭに一旦書き込まれ、このとき該ロット番
号データは該当被描画体を識別するために与えられるも
のであり、そのロット番号データはステップ１０１２で
不揮発性メモリ１０８に書き込まれた該当基板の伸縮率
データΔSY及びΔSXと同じアドレスに書き込まれて格納
される（図３参照）。In step 1015, step 1014
The lot number data of the variable identification information vector data generated in step (1) is taken into the system control circuit 80 and temporarily written into the RAM. At this time, the lot number data is used to identify the object to be drawn. The lot number data is written and stored at the same address as the expansion / contraction data ΔSY and ΔSX of the corresponding substrate written in the nonvolatile memory 108 in step 1012 (see FIG. 3).
【００７９】ステップ１０１５での不揮発メモリ１０８
へのロット番号データの書込みが完了すると、ステップ
１０１６に進み、そこでレーザ描画装置から描画作動準
備完了信号がＥＷＳ８６に対して送信される。次いで、
ステップ１０１７では、ＥＷＳ８６から描画開始指令信
号を受信したか否かが判断される。描画開始指令信号の
受信が確認されると、ステップ１０１８に進み、そこで
描画作動が開始される。描画作動中、該当基板のスケー
リング補正処理データ即ち伸縮率データΔSY及びΔSXに
基づくスケーリング補正処理が行われる。The nonvolatile memory 108 in step 1015
Upon completion of writing the lot number data into the EWS 86, the process proceeds to step 1016, where a writing operation preparation completion signal is transmitted from the laser writing apparatus to the EWS 86. Then
In step 1017, it is determined whether a drawing start command signal has been received from the EWS 86. When the reception of the drawing start command signal is confirmed, the process proceeds to step 1018, where the drawing operation is started. During the drawing operation, scaling correction processing is performed based on the scaling correction processing data of the corresponding substrate, that is, expansion / contraction rate data ΔSY and ΔSX.
【００８０】ステップ１０１９では、描画作動が終了し
たか否かが判断され、描画作動の終了が確認されると、
ステップ１０２０に進み、そこで描画テーブル１８は原
点位置まで戻される。次いで、ステップ１０２１に進
み、そこでＥＷＳ８６から描画終了指令信号を受信して
いるか否かが判断される。描画終了指令信号の受信がな
いときは、ステップ１０２１からステップ１００５に戻
り、次の被描画体が描画テーブル１８上に設置されたか
否かが判断され、該描画テーブル１８上への被描画体の
設置が確認されると、同様なルーチンが再び繰り返され
る。In step 1019, it is determined whether or not the drawing operation has been completed.
Proceeding to step 1020, the drawing table 18 is returned to the origin position. Next, the routine proceeds to step 1021, where it is determined whether or not a drawing end command signal has been received from the EWS 86. If the drawing end command signal has not been received, the process returns from step 1021 to step 1005, and it is determined whether or not the next object to be drawn has been set on the drawing table 18. When installation is confirmed, a similar routine is repeated again.
【００８１】ここで注目すべき点としては、図９の描画
作動制御ルーチンで説明したように、ＥＷＳ８６から受
信される可変識別情報呼出しデータのロット番号の通し
番号が“１”だけカウントアップされたものとなってい
るということである。従って、1000枚の被描画体に対す
る描画パターンの記録が完了したとき、個々の被描画体
とそのスケーリング補正情報データ即ち伸縮率ΔSY及び
ΔSXとの関係を確実に認識し得ることとなる。It should be noted that, as described in the drawing operation control routine of FIG. 9, the serial number of the lot number of the variable identification information calling data received from the EWS 86 is incremented by "1". It is that. Therefore, when the recording of the drawing pattern on the 1000 drawing objects is completed, the relationship between each drawing object and the scaling correction information data, that is, the expansion ratios ΔSY and ΔSX can be reliably recognized.
【００８２】ステップ１０２１において、描画終了指令
信号の受信が確認されると、図１０及び図１１に示した
描画作動ルーチンは終了する。When the reception of the drawing end command signal is confirmed in step 1021, the drawing operation routine shown in FIGS. 10 and 11 ends.
【００８３】上述した実施形態では、各被描画体に対す
る描画パターンの記録中に次の可変識別情報呼出しデー
タがＥＷＳ８６からレーザ描画装置に送信される構成と
なっているが、しかしすべての可変認識情報呼出しを最
初に一括して受信バッファメモリ８８Ａに送信して、そ
こから可変認識情報読出しベクタデータを順次読み出す
ようにしてもよい。In the above-described embodiment, the following variable identification information call data is transmitted from the EWS 86 to the laser drawing apparatus during recording of a drawing pattern for each drawing object. It is also possible to first collectively transmit the calls to the reception buffer memory 88A and sequentially read the variable recognition information read vector data therefrom.
【００８４】上述した実施形態では、個々の被描画体の
可変識別情報ベクタデータとその補正データ即ち伸縮率
データΔSY及びΔSXとが不揮発性メモリ１０８の同じア
ドレスに格納され、これにより各被描画体の伸縮率デー
タΔSY及びΔSXを確実に認識し得るようにしているが、
かかる伸縮率データΔSY及びΔSXを可変認識情報データ
の一部として記録するようにしてもよい。勿論、その場
合には、伸縮率データΔSY及びΔSXを可変識別情報呼出
しデータとして変換して、システムコントロール回路８
０からベクタデータメモリ８８Ｂの第３のメモリ領域に
対して出力することが必要である。In the above-described embodiment, the variable identification information vector data of each drawing object and its correction data, that is, expansion / contraction data ΔSY and ΔSX, are stored at the same address in the nonvolatile memory 108, whereby each drawing object is stored. Although it is possible to reliably recognize the expansion and contraction ratio data ΔSY and ΔSX,
Such expansion / contraction data ΔSY and ΔSX may be recorded as part of the variable recognition information data. Of course, in that case, the expansion / contraction data ΔSY and ΔSX are converted as variable identification information calling data, and the system control circuit 8
It is necessary to output from 0 to the third memory area of the vector data memory 88B.
【００８５】[0085]
【発明の効果】以上の記載から明らかように、本発明に
よるレーザ描画装置にあっては、個々の被描画体とその
伸縮率データΔSY及びΔSXとの関係を確実に認識するこ
とができるので、描画パターン記録後の被描画体の後処
理工程や検査工程を容易に速やかに行うことが可能であ
る。As is apparent from the above description, in the laser writing apparatus according to the present invention, the relationship between each object to be drawn and its expansion / contraction data ΔSY and ΔSX can be reliably recognized. The post-processing step and the inspection step of the object to be drawn after the writing of the drawing pattern can be easily and promptly performed.
【図１】本発明によるレーザ描画装置を示す概略斜視図
である。FIG. 1 is a schematic perspective view showing a laser drawing apparatus according to the present invention.
【図２】図１に示したレーザ描画装置のブロック図であ
る。FIG. 2 is a block diagram of the laser drawing apparatus shown in FIG.
【図３】図２に示した描画データ処理回路の詳細ブロッ
ク図である。FIG. 3 is a detailed block diagram of a drawing data processing circuit shown in FIG. 2;
【図４】図３に示したベクタデータメモリの第１のメモ
リ領域に展開される描画パターンベクタデータを模式的
示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram schematically showing drawing pattern vector data developed in a first memory area of the vector data memory shown in FIG. 3;
【図５】図３に示したベクタデータメモリの第３のメモ
リ領域に展開される可変識別情報ベクタデータを模式的
示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram schematically showing variable identification information vector data developed in a third memory area of the vector data memory shown in FIG. 3;
【図６】図３に示した第１及び第２のビットマップメモ
リに交互に展開されるラスタデータを模式的に示す模式
図である。FIG. 6 is a schematic diagram schematically showing raster data alternately developed in first and second bitmap memories shown in FIG. 3;
【図７】被描画体の寸法変動検出を説明するための模式
図である。FIG. 7 is a schematic diagram for explaining detection of dimensional change of a drawing target object.
【図８】図２に示した不揮発性メモリに個々の被描画体
のロット番号データとその伸縮率データとを格納した状
態を模式的に示す模式図である。8 is a schematic diagram schematically showing a state in which the lot number data of each drawing object and its expansion / contraction ratio data are stored in the nonvolatile memory shown in FIG. 2;
【図９】図２に示したエンジニアリングワークステーシ
ョン（ＥＷＳ）で実行される描画作動制御ルーチンを示
すフローチャートである。FIG. 9 is a flowchart illustrating a drawing operation control routine executed by the engineering workstation (EWS) illustrated in FIG. 2;
【図１０】図２に示したレーザ描画装置で実行される描
画作動ルーチンを示すフローチャートの一部分である。FIG. 10 is a part of a flowchart showing a drawing operation routine executed by the laser drawing apparatus shown in FIG. 2;
【図１１】図２に示したレーザ描画装置で実行される描
画作動ルーチンを示すフローチャートの残りの部分であ
る。FIG. 11 is a remaining part of the flowchart showing a drawing operation routine executed by the laser drawing apparatus shown in FIG. 2;
５２ 電子シャッタ ５８ 電子シャッタ ７８ ＣＣＤカメラ ８２ 画像処理回路 ８０ システムコントロール回路 ８６ エンジニアリングワークステーション（ＥＷＳ） ８８ 描画データ処理回路 ９０ スケーリング補正処理回路 ９２ 主走査制御回路 ９３ 同期回路 ９４ Ｙスケールセンサ ９６ 信号処理回路 ９８ 副走査制御回路 １００ サーボモータ駆動回路 １０２ サーボモータ １０４ Ｘスケールセンサ １０６ 信号処理回路 １０８ 不揮発性メモリ 52 Electronic Shutter 58 Electronic Shutter 78 CCD Camera 82 Image Processing Circuit 80 System Control Circuit 86 Engineering Work Station (EWS) 88 Drawing Data Processing Circuit 90 Scaling Correction Processing Circuit 92 Main Scan Control Circuit 93 Synchronization Circuit 94 Y Scale Sensor 96 Signal Processing Circuit 98 Sub-scanning control circuit 100 Servo motor drive circuit 102 Servo motor 104 X scale sensor 106 Signal processing circuit 108 Non-volatile memory
Claims (10)
方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させ
ると共に該レーザビームを描画パターンラスタデータに
基づいて変調させて所望の描画パターンを該被描画体上
に記録するレーザ描画装置であって、前記被描画体の個
々の寸法変動を前もって検出してその被描画体に対する
スケーリング補正情報データを作成し、該被描画体に対
する描画パターンの記録時にスケーリング補正情報デー
タに基づくスケーリング補正処理を施すように構成され
たレーザ描画装置において、 前記被描画体の個々に対する描画パターンの記録時にそ
の被描画体を識別するための可変識別情報ラスタデータ
を前記描画パターンラスタデータに付与して該描画パタ
ーンと共にその可変識別情報をも該被描画体に記録する
ための可変識別情報付与手段が設けられ、更に、前記可
変識別情報ラスタデータに対応した可変識別情報ベクタ
データと前記スケーリング補正情報データとを格納して
保持するためのデータ保持手段が設けられることを特徴
とするレーザ描画装置。An object to be drawn is obtained by moving the object to be drawn in the sub-scanning direction while deflecting the laser beam in the main scanning direction with respect to the object to be drawn, and modulating the laser beam based on drawing pattern raster data. What is claimed is: 1. A laser writing apparatus for recording a pattern on an object to be drawn, comprising: detecting in advance individual dimensional fluctuations of the object to be drawn; creating scaling correction information data for the object to be drawn; In a laser writing apparatus configured to perform a scaling correction process based on scaling correction information data at the time of recording a pattern, a variable identification information raster for identifying a drawing object at the time of recording a drawing pattern for each of the drawing objects. Data is added to the drawing pattern raster data, and the variable identification information is also stored in the drawing object together with the drawing pattern. A variable identification information providing means for recording is provided, and a data holding means for storing and holding variable identification information vector data corresponding to the variable identification information raster data and the scaling correction information data is further provided. A laser writing apparatus characterized by the above-mentioned.
て、前記可変識別情報付与手段がビットマップメモリ手
段を包含し、前記描画パターンラスタデータが前記ビッ
トマップメモリ手段に一旦展開されて保持され、前記可
変識別情報ラスタデータが前記ビットマップメモリ手段
に展開されて保持された描画パターンラスタデータに対
して付与されることを特徴とするレーザ描画装置。2. The laser writing apparatus according to claim 1, wherein said variable identification information providing means includes a bitmap memory means, wherein said drawing pattern raster data is once developed and held in said bitmap memory means, A laser writing apparatus, wherein the variable identification information raster data is added to the drawing pattern raster data developed and held in the bit map memory means.
て、前記可変識別情報付与手段が更に前記描画パターン
ラスタデータに対応した描画パターンベクタデータを格
納する第１のベクタデータ格納手段と、前記可変識別情
報ラスタデータを得るために種々の登録符号化ベクタデ
ータを格納する第２のベクタデータ格納手段と、この第
２のベクタデータ格納手段から所定の登録符号化ベクタ
データを読み出して前記可変識別情報ラスタデータに対
応した可変識別情報ベクタデータを生成するための可変
識別情報呼出しデータを格納する第３のベクタデータ格
納手段と、前記第１のベクタデータ格納手段に格納され
た前記描画パターンベクタデータを前記描画パターンラ
スタデータとして変換するラスタ変換手段とを包含し、
前記ラスタ変換手段によって変換された前記描画パター
ンラスタデータが前記ビットマップメモリ手段に展開さ
れて保持された後に、前記第３のベクタデータ格納手段
に格納された可変識別情報呼出しデータに基づいて前記
第２のベクタデータ格納手段から呼び出された所定の登
録符号化ベクタデータが前記ラスタ変換手段によって前
記可変識別情報ラスタデータとして変換され、この可変
識別情報ラスタデータが前記ビットマップメモリ手段に
更に書き込まれて前記描画パターンラスタデータに対し
て付与されることを特徴とするレーザ描画装置。3. The laser writing apparatus according to claim 2, wherein said variable identification information providing means further stores first vector data storage means for storing drawing pattern vector data corresponding to said drawing pattern raster data. Second vector data storage means for storing various registered coded vector data to obtain identification information raster data; and reading predetermined registered coded vector data from the second vector data storage means to obtain the variable identification information. A third vector data storage unit for storing variable identification information call data for generating variable identification information vector data corresponding to raster data, and the drawing pattern vector data stored in the first vector data storage unit; Raster conversion means for converting as the drawing pattern raster data,
After the drawing pattern raster data converted by the raster conversion means is developed and held in the bitmap memory means, the drawing pattern raster data is stored based on the variable identification information calling data stored in the third vector data storage means. 2 is converted as the variable identification information raster data by the raster conversion means, and the variable identification information raster data is further written into the bitmap memory means. A laser writing apparatus provided to the drawing pattern raster data.
て、前記第１、第２及び第３のベクタデータ格納手段の
それぞれが単一のベクタデータメモリ内に規定されたベ
クタデータ格納領域であることを特徴とするレーザ描画
装置。4. The laser writing apparatus according to claim 3, wherein each of said first, second and third vector data storage means is a vector data storage area defined in a single vector data memory. A laser writing apparatus characterized by the above-mentioned.
載のレーザ描画装置において、前記可変識別情報付与手
段が前記可変識別情報ラスタデータの他に前記スケーリ
ング補正情報データをラスタデータとして前記描画パタ
ーンラスタデータに付与して前記描画パターンと共にそ
のスケーリング補正情報をも前記被描画体に記録するよ
うに構成されることを特徴とするレーザ描画装置。5. The laser writing apparatus according to claim 1, wherein the variable identification information providing unit uses the variable correction information raster data and the scaling correction information data as raster data in addition to the variable identification information raster data. A laser writing apparatus configured to record the scaling correction information together with the writing pattern together with the writing pattern raster data on the object to be drawn.
方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させ
ると共に該レーザビームを描画パターンラスタデータに
基づいて変調させて所望の描画パターンを該被描画体上
に記録するレーザ描画装置であって、前記被描画体の個
々の寸法変動を前もって検出してその被描画体に対する
スケーリング補正情報データを作成し、該被描画体に対
する描画パターンの記録時にスケーリング補正情報デー
タに基づくスケーリング補正処理を施すように構成され
たレーザ描画装置において、 前記被描画体の個々に対する描画パターンの記録時にそ
の被描画体を識別するための可変識別情報ラスタデータ
を前記描画パターンラスタデータに付与して該描画パタ
ーンと共にその可変識別情報をも該被描画体に記録する
ための可変識別情報付与手段が設けられ、更に、前記可
変識別情報ラスタデータに対応した可変識別情報ベクタ
データと前記スケーリング補正情報データとを外部に出
力する外部出力手段がが設けられることを特徴とするレ
ーザ描画装置。6. A desired drawing is performed by moving the drawing object in the sub-scanning direction while deflecting the laser beam in the main scanning direction with respect to the drawing object and modulating the laser beam based on the drawing pattern raster data. What is claimed is: 1. A laser writing apparatus for recording a pattern on an object to be drawn, comprising: detecting in advance individual dimensional fluctuations of the object to be drawn; creating scaling correction information data for the object to be drawn; In a laser writing apparatus configured to perform a scaling correction process based on scaling correction information data at the time of recording a pattern, a variable identification information raster for identifying a drawing object at the time of recording a drawing pattern for each of the drawing objects. Data is added to the drawing pattern raster data, and the variable identification information is also stored in the drawing object together with the drawing pattern. It is provided that variable identification information providing means for recording is provided, and external output means for outputting variable identification information vector data corresponding to the variable identification information raster data and the scaling correction information data to the outside is further provided. Characteristic laser drawing equipment.
て、前記可変識別情報付与手段がビットマップメモリ手
段を包含し、前記描画パターンラスタデータが前記ビッ
トマップメモリ手段に一旦展開されて保持され、前記可
変識別情報ラスタデータが前記ビットマップメモリ手段
に展開されて保持された描画パターンラスタデータに対
して付与されることを特徴とするレーザ描画装置。7. The laser writing apparatus according to claim 6, wherein said variable identification information providing means includes a bitmap memory means, and said drawing pattern raster data is once developed and held in said bitmap memory means, A laser writing apparatus, wherein the variable identification information raster data is added to the drawing pattern raster data developed and held in the bit map memory means.
て、前記可変識別情報付与手段が更に前記描画パターン
ラスタデータに対応した描画パターンベクタデータを格
納する第１のベクタデータ格納手段と、前記可変識別情
報ラスタデータを得るために種々の登録符号化ベクタデ
ータを格納する第２のベクタデータ格納手段と、この第
２のベクタデータ格納手段から所定の登録符号化ベクタ
データを読み出して前記可変識別情報ラスタデータに対
応した可変識別情報ベクタデータを生成するための可変
識別情報呼出しデータを格納する第３のベクタデータ格
納手段と、前記第１のベクタデータ格納手段に格納され
た前記描画パターンベクタデータを前記描画パターンラ
スタデータとして変換するラスタ変換手段とを包含し、
前記ラスタ変換手段によって変換された前記描画パター
ンラスタデータが前記ビットマップメモリ手段に展開さ
れて保持された後に、前記第３のベクタデータ格納手段
に格納された可変識別情報呼出しデータに基づいて前記
第２のベクタデータ格納手段から呼び出された所定の登
録符号化ベクタデータが前記ラスタ変換手段によって前
記可変識別情報ラスタデータとして変換され、この可変
識別情報ラスタデータが前記ビットマップメモリ手段に
更に書き込まれて前記描画パターンラスタデータに対し
て付与されることを特徴とするレーザ描画装置。8. The laser drawing apparatus according to claim 6, wherein said variable identification information providing means further stores first vector data storage means for storing drawing pattern vector data corresponding to said drawing pattern raster data. Second vector data storage means for storing various registered coded vector data to obtain identification information raster data; and reading predetermined registered coded vector data from the second vector data storage means to obtain the variable identification information. A third vector data storage unit for storing variable identification information call data for generating variable identification information vector data corresponding to raster data, and the drawing pattern vector data stored in the first vector data storage unit; Raster conversion means for converting as the drawing pattern raster data,
After the drawing pattern raster data converted by the raster conversion means is developed and held in the bitmap memory means, the drawing pattern raster data is stored based on the variable identification information calling data stored in the third vector data storage means. 2 is converted as the variable identification information raster data by the raster conversion means, and the variable identification information raster data is further written into the bitmap memory means. A laser writing apparatus provided to the drawing pattern raster data.
て、前記第１、第２及び第３のベクタデータ格納手段の
それぞれが単一のベクタデータメモリ内に規定されたベ
クタデータ格納領域であることを特徴とするレーザ描画
装置。9. The laser writing apparatus according to claim 8, wherein each of said first, second and third vector data storage means is a vector data storage area defined in a single vector data memory. A laser writing apparatus characterized by the above-mentioned.
記載のレーザ描画装置において、前記可変識別情報付与
手段が前記可変識別情報ラスタデータの他に前記スケー
リング補正情報データをラスタデータとして前記描画パ
ターンラスタデータに付与して前記描画パターンと共に
そのスケーリング補正情報をも前記被描画体に記録する
ように構成されることを特徴とするレーザ描画装置。10. The laser drawing apparatus according to claim 6, wherein said variable identification information providing means uses said scaling correction information data as raster data in addition to said variable identification information raster data. A laser writing apparatus configured to record the scaling correction information together with the writing pattern together with the writing pattern raster data on the object to be drawn.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9103872A JPH10282684A (en) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | Laser writing system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9103872A JPH10282684A (en) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | Laser writing system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10282684A true JPH10282684A (en) | 1998-10-23 |
Family
ID=14365535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9103872A Pending JPH10282684A (en) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | Laser writing system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10282684A (en) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003057836A (en) * | 2001-08-17 | 2003-02-28 | Pentax Corp | Multiple exposure lithography system and multiple exposure lithography method |
| EP1367871A3 (en) * | 2002-05-28 | 2004-11-24 | Shinko Electric Industries Co. Ltd. | Wiring forming system and wiring forming method for forming wiring on wiring board |
| JP2004354981A (en) * | 2003-05-06 | 2004-12-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of recording image pattern |
| JP2005031274A (en) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image recording apparatus and image recording method |
| JP2005099739A (en) * | 2003-07-31 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Pattern production system, exposure system, and exposure method |
| JP2005300807A (en) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Pentax Corp | Drawing apparatus |
| JP2005300812A (en) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Pentax Corp | Drawing apparatus |
| JP2007199385A (en) * | 2006-01-26 | 2007-08-09 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Drawing device for printed circuit board |
| JP2007264423A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Fujifilm Corp | Digital data processing method and digital exposure apparatus using the same |
| JP2009169879A (en) * | 2008-01-21 | 2009-07-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Data conversion method, drawing system, and program |
| JP2010026217A (en) * | 2008-07-18 | 2010-02-04 | Sk Electronics:Kk | Drawing method and drawing device |
| JP2011071290A (en) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Pattern drawing apparatus |
-
1997
- 1997-04-07 JP JP9103872A patent/JPH10282684A/en active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003057836A (en) * | 2001-08-17 | 2003-02-28 | Pentax Corp | Multiple exposure lithography system and multiple exposure lithography method |
| CN100386854C (en) * | 2002-05-28 | 2008-05-07 | 新光电气工业株式会社 | Wiring forming system and wiring forning method for wiring on wiring board |
| EP1367871A3 (en) * | 2002-05-28 | 2004-11-24 | Shinko Electric Industries Co. Ltd. | Wiring forming system and wiring forming method for forming wiring on wiring board |
| US7890203B2 (en) | 2002-05-28 | 2011-02-15 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Wiring forming system and wiring forming method for forming wiring on wiring board |
| JP2004354981A (en) * | 2003-05-06 | 2004-12-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of recording image pattern |
| JP2005031274A (en) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image recording apparatus and image recording method |
| JP4515184B2 (en) * | 2003-07-31 | 2010-07-28 | 富士フイルム株式会社 | Pattern manufacturing system, exposure apparatus, and exposure method |
| JP2005099739A (en) * | 2003-07-31 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Pattern production system, exposure system, and exposure method |
| JP2005300812A (en) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Pentax Corp | Drawing apparatus |
| JP2005300807A (en) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Pentax Corp | Drawing apparatus |
| JP2007199385A (en) * | 2006-01-26 | 2007-08-09 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Drawing device for printed circuit board |
| JP2007264423A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Fujifilm Corp | Digital data processing method and digital exposure apparatus using the same |
| JP2009169879A (en) * | 2008-01-21 | 2009-07-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Data conversion method, drawing system, and program |
| JP2010026217A (en) * | 2008-07-18 | 2010-02-04 | Sk Electronics:Kk | Drawing method and drawing device |
| JP2011071290A (en) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Pattern drawing apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5980088A (en) | Laser drawing apparatus with precision scaling-correction | |
| US7248333B2 (en) | Apparatus with light-modulating unit for forming pattern | |
| EP1921506A2 (en) | Position Detecting Method and Device, Patterning Device, and Subject to be detected | |
| US5777722A (en) | Scanning exposure apparatus and method | |
| JPWO2012029142A1 (en) | Laser processing apparatus and substrate position detection method | |
| JPH10282684A (en) | Laser writing system | |
| US20080199104A1 (en) | Method and apparatus for obtaining drawing point data, and drawing method and apparatus | |
| JP2001142225A (en) | Laser lithography system | |
| JPS643050B2 (en) | ||
| US6100915A (en) | Laser drawing apparatus | |
| JP3819985B2 (en) | Laser drawing device | |
| WO2006106746A1 (en) | Plotting point data acquisition method and device, plotting method and device | |
| JP2010134375A (en) | Drawing apparatus and drawing method | |
| JP4823751B2 (en) | Drawing point data acquisition method and apparatus, and drawing method and apparatus | |
| KR101391215B1 (en) | Plotting device and image data creation method | |
| US20090073511A1 (en) | Method of and system for drawing | |
| US20090136119A1 (en) | Image plotting data obtaining method and apparatus, and image plotting method and apparatus | |
| JP2006309200A (en) | Plotting point data acquisition method and device, and plotting method and device | |
| JP2007094126A (en) | Method and device for acquiring drawing point data and method and device for drawing | |
| JP3200020B2 (en) | Laser writing system with orthogonality correction function in main scanning direction and sub scanning direction | |
| JP4448075B2 (en) | Drawing data acquisition method and apparatus, and drawing method and apparatus | |
| JPH10239613A (en) | Laser plotting device | |
| JP4179478B2 (en) | Drawing data acquisition method and apparatus, and drawing method and apparatus | |
| JPH10232362A (en) | Laser plotting device | |
| JPH10162145A (en) | Arithmetic unit for calculating correction data of center coordinate data of registered pattern in pattern matching method, and laser plotting device using it |