JPH10276321A - 電子透かし装置 - Google Patents

電子透かし装置

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JPH10276321A
JPH10276321A JP9192216A JP19221697A JPH10276321A JP H10276321 A JPH10276321 A JP H10276321A JP 9192216 A JP9192216 A JP 9192216A JP 19221697 A JP19221697 A JP 19221697A JP H10276321 A JPH10276321 A JP H10276321A
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image
embedding
wavelet transform
watermark
watermark image
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JP9192216A
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Koichi Sakurai
幸一 櫻井
Yuichi Ishizuka
裕一 石塚
Yasuyuki Sakai
康行 酒井
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 除去されにくい透かし画像をオリジナルの画
像に埋め込む電子透かし装置を得ることを課題とする。 【解決手段】 透かし画像の埋め込み対象画像を入力す
る埋め込み対象画像入力手段101と、この入力された
埋め込み対象画像をウェーブレット変換し加工するウェ
ーブレット変換・加工手段102と、透かし画像を入力
する透かし画像入力手段106と、この入力された透か
し画像のサイズを調整し変更する透かし画像調整・変更
手段107と、この変更された透かし画像を、ウェーブ
レット変換・加工手段102により加工された画像に埋
め込む埋め込み手段112とを備えたものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、対象画像のID検
出、注釈、及び著作権保護などを目的として、別の情報
を視覚的にわからないように隠蔽する電子透かし装置に
関するものであり、例えば第三者が強制的に画像を書き
換えても、隠蔽された情報である透かし画像は取り除く
ことができないものである。
【0002】
【従来の技術】従来の電子透かし装置としては、以下の
ものなどが存在する。 (1)画像に情報を直接埋めこむことにより隠蔽するも
の(特開平4-248771号公報) (2)圧縮技術をベースとしたDCT変換(「DCT符
号化を用いた画像暗号化方式の考察」神田雅透ら、SCIS
93-13B) (3)ウェーブレット変換(「ウェーブレット変換を利
用した著作権保護のための署名符号化」大西淳児ら、SC
IS96-9C;「ウェーブレット変換における画像への署名
データの埋め込み」松井ら、電子情報通信学会論文誌 D
-II,Vol.79,No.6,1996)を利用したものや、 (4)スペクトル拡散通信方式を用いたもの(「A Secu
re,Robust Watermark for Multimedia」Ingemar J.Cox
et.al.,Workshop on Information Hiding, Newton Inst
itute, Univ.of Cambridge,May 1996)
【0003】DCT変換はブロック歪みやモスキート雑
音など、その圧縮技術自体に構造上の欠点があり、今後
ハードウェアなどの進歩により、次の新しい技術に置き
換わってゆくと予想されている。次の新しい技術の中の
1つとして考えられるのがウェーブレット変換を用いた
方式である。またスペクトル拡散通信技術を用いた方式
が近年提案されている。これはある埋め込むべき情報
を、画像の周波数帯域ごとに重みづけして薄く広く分散
させて混入する方式であるが、もっとも知覚されやすい
低周波領域に対する埋め込みの配慮が少し欠落してお
り、そのことにより実際に知覚できるほどの傷が原画像
を変換した変換画像につくことがあった。
【0004】従来の技術を更に詳細に説明するため、以
下では本発明ともっとも関係の深いウェーブレット変換
を用いた上記(3)の従来技術について言及する。直交
ウェーブレット変換の基底関数としてはHaar基底や、I.
Daubechiesの示したものなどが使われるが、ここでは説
明の都合上、もっとも簡単なHaar基底を用いた直交ウェ
ーブレット変換について説明する。Haar基底に対する直
交ウェーブレット関数は次のように表される。
【0005】
【数1】
【0006】この時のスケール関数は
【0007】
【数2】
【0008】となる。これを2×2画素からなる画像に
適用した例を図8及び9に示す。図8では原画像の画素
値をIi(i=0,1,2,3)とし、ウェーブレット
変換後の各帯域の変換係数を図9のwi(i=0,1,
2,3)とした。これらは次の行列演算で求めることが
できる。
【0009】
【数3】
【0010】w0は多重解像度近似(MRA)と呼ば
れ、原画像の縦横スケールを半分にした近似画像を表し
ており、ウェーブレット変換後の低周波成分とも言う。
またw1,w2,w3は縦、横、斜め方向の輝度値の微分
係数を表しており、このウェーブレット変換における高
周波成分を表している。この3つの成分はベクトルw=
(w1,w2,w3)のようにまとめてMRRベクトルと
呼ぶ。このMRRベクトルに大西らは任意の値を加え、
それを逆変換する手法を試みている。つまりベクトルw
を、ベクトルw´=(w1+a,w2+b,w3+c)と
おいて、直交ウェーブレット逆変換を施し、それを原画
像の変換画像として配布することを提案している。現在
の例では変換画像は図10に示したものである。図のよ
うに変換画像は原画像にa,b,cを足したり、引いた
りしたものになっており、原画像を知っている人だけ
が、図11のように変換画像と原画像の差分をとること
によって、情報a,b,cを求める仕組みである。しか
しすぐに分かるように、変換画像しか知らない第3者で
も、その変換画像を周波数変換し、高周波成分を書き換
えたり、カットしたりすることにより、比較的簡単に埋
め込み情報を除去することができるという欠点があっ
た。
【0011】なお、図12に従来方式の処理の流れを示
したフローチャートを添付したので、簡単に説明する。
従来は図のように埋め込み対象画像を直交ウェーブレッ
ト変換し、その高周波成分だけを用い、埋め込みにも特
別工夫もなく、直接埋め込み情報を書き込む方式であっ
た。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】従来の周波数変換を用
いた電子透かし装置は、配布される変換画像にたいして
周波数変換をかけるなどすれば、簡単に隠蔽された情報
を除去、もしくは破壊することができるという問題点が
あった。
【0013】本発明は、係る問題点を解決するためにな
されたもので、ウェーブレット変換という周波数変換の
中の1つの方式を用いて、除去されにくい透かし画像を
オリジナルの画像に埋めこむ電子透かし装置を得ること
を目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
電子透かし装置は、透かし画像の埋め込み対象画像を入
力する埋め込み対象画像入力手段と、この入力された埋
め込み対象画像をウェーブレット変換し加工するウェー
ブレット変換加工手段と、前記透かし画像を入力する透
かし画像入力手段と、この入力された透かし画像のサイ
ズを調整し変更する透かし画像調整変更手段と、この変
更された透かし画像を、前記ウェーブレット変換加工手
段により加工された画像に埋め込む埋め込み手段とを備
えたものである。
【0015】本発明の請求項2に係る電子透かし装置
は、前記埋め込み対象画像入力手段により入力された前
記埋め込み対象画像をウェーブレット変換するウェーブ
レット変換手段と、この変換した画像より抽出した低周
波成分の画像情報にエッジフィルターをかけるエッジ抽
出手段とを有するウェーブレット変換加工手段を備えた
ものである。
【0016】本発明の請求項3に係る電子透かし装置
は、前記変更された透かし画像を、前記ウェーブレット
変換加工手段により加工された画像の低周波領域に埋め
込む低周波領域埋め込み手段と、前記変更された透かし
画像を、前記ウェーブレット変換加工手段により加工さ
れた画像の高周波領域に埋め込む高周波領域埋め込み手
段とから構成された埋め込み手段を備えたものである。
【0017】本発明の請求項4に係る電子透かし装置
は、前記入力された透かし画像のサイズを、前記埋め込
み対象画像入力手段により入力された前記埋め込み対象
画像のサイズとの関係において調整する透かし画像サイ
ズ調整手段と、この透かし画像サイズ調整手段によりサ
イズを調整された透かし画像に対して幾何学変換を行な
う幾何学変換手段とから構成された透かし画像調整変更
手段を備えたものである。
【0018】本発明の請求項5に係る電子透かし装置
は、画像を分割したブロックの移動場所を示す変換テー
ブルと、前記透かし画像をブロックに分割する手段と、
この分割したブロックごとに前記変換テーブルを引き、
該ブロックを前記変換テーブルで示される別のブロック
の場所に移動する手段とから構成された幾何学変換手段
を備えたものである。
【0019】本発明の請求項6に係る電子透かし装置
は、前記透かし画像をブロックに分割する手段と、この
分割したブロックの行ごと、もしくは列ごとに、所定の
数列のペアに従い行もしくは列を交換する手段とから構
成された幾何学変換手段を備えたものである。
【0020】本発明の請求項7に係る電子透かし装置
は、前記透かし画像をブロックに分割する手段と、この
分割したブロックの中心座標系からみて、8近傍距離の
等しいブロック群を、所定の数列で指定した分だけ回転
する手段とから構成された幾何学変換手段を備えたもの
である。
【0021】本発明の請求項8に係る電子透かし装置
は、前記埋め込み対象画像入力手段により入力された前
記埋め込み対象画像をウェーブレット変換するウェーブ
レット変換手段と、この変換により抽出した周波数成分
データの中で、前記透かし画像を埋め込む位置の周波数
成分データとその近傍の周波数成分データとに基づい
て、前記埋め込み対象画像のエッジ部分を抽出するエッ
ジ抽出手段とを有するウェーブレット変換加工手段を備
えたものである。
【0022】本発明の請求項9に係る電子透かし装置
は、設定可能な閾値を有し、抽出するエッジ部分の数を
前記閾値に基づいて制限するエッジ抽出手段を備えたも
のである。
【0023】
【発明の実施の形態】
実施の形態1.本発明の電子透かし装置の一実施の形態
を図に基づいて説明する。図1は実施の形態1の電子透
かし装置の構成を示す構成図である。図において101
は透かし画像の埋め込み対象画像を入力する埋め込み対
象画像入力手段、102は入力された埋め込み対象画像
をウェーブレット変換し、その変換後の周波数成分を加
工するウェーブレット変換・加工手段、103はウェー
ブレット変換・加工手段102を実現する内部手段の1
つで、ウェーブレット変換自体を行うウェーブレット変
換手段、104はウェーブレット変換・加工手段102
を実現する内部手段の1つで、低周波成分のエッジ抽出
手段、106は透かし画像を入力する透かし画像入力手
段、107は透かし画像のサイズの調整や、加工を行う
透かし画像調整・変更手段、108は透かし画像調整・
変更手段107を実現する内部手段の1つで、透かし画
像のサイズを変更および調整する透かし画像サイズ調整
手段、109は透かし画像調整・変更手段107を実現
する内部手段の1つで、透かし画像を幾何学的に変換し
加工する透かし画像の幾何学変換手段、112はウェー
ブレット変換・加工手段102により加工された埋め込
み対象画像に透かし画像調整・変更手段107により加
工された透かし画像を埋め込む透かし画像の埋め込み手
段、113は透かし画像の埋め込み手段112を実現す
る内部手段の1つで、透かし画像を低周波領域に埋め込
む低周波領域埋め込み手段、114は透かし画像の埋め
込み手段112を実現する内部手段の1つで、透かし画
像を高周波領域に埋め込む高周波領域埋め込み手段であ
る。
【0024】図2は図1に示した電子透かし装置の動作
を示すフローチャートである。ここで、透かし画像と、
この透かし画像の埋め込み対象画像を区別するため、透
かし画像を埋め込み画像Bといい、透かし画像の埋め込
み対象画像を対象画像Aということにする。
【0025】図2において、ステップ201は電子透か
し装置の動作開始、ステップ202はウェーブレット変
換の回数をカウントするカウンターIを初期化する処
理、ステップ203は外部から対象画像Aを入力する処
理、ステップ204は入力した対象画像Aを直交ウェー
ブレット変換する処理、ステップ205は埋め込み画像
Bを外部から入力する処理、ステップ206は入力した
埋め込み画像Bを適当な大きさに変換する処理、ステッ
プ207は適当な大きさに変換した埋め込み画像Bを幾
何学変換する処理、ステップ208はウェーブレット変
換後の対象画像Aの低周波成分に対して、幾何学変換後
の埋め込み画像Bを埋め込む処理、ステップ209はそ
の逆に、ウェーブレット変換後の対象画像Aの高周波成
分に対して、幾何学変換後の埋め込み画像Bを埋め込む
処理である。
【0026】ステップ210は実行時に設定される埋め
込み回数を規定したゲートであり、ユーザの設定により
可変な値である。つまりユーザは次のように考えこの値
を決定する。即ち、配布する変換画像は多少汚くても、
埋め込み画像Bを消されにくくしたければ、ステップ2
11でカウンターIをインクリメントし、再度ステップ
204およびステップ205からステップ210までの
処理を繰り返し行い、埋め込み画像Bを埋め込む。逆に
変換画像をできるだけきれいに保ちたいなら、上記の繰
り返し処理を行わないか、もしくは少ない回数だけ行
い、ステップ210以降の処理に移る。しかしこの場合
は埋め込み画像Bの安全性は犠牲となる。
【0027】ステップ212はステップ210で埋め込
み処理終了と判定された後の処理であり、埋め込み画像
Bを埋め込んだウェーブレット変換後の対象画像Aに対
して直交逆ウェーブレット変換を行うものであり、逆変
換される回数はステップ213の処理によりデクリメン
トされる。つまりステップ204および206以降の処
理を1度だけ行った場合なら、カウンターIには1が入
っており、それがステップ213の処理により0にな
る。ステップ214は上述した逆ウェーブレット変換の
回数をチェックするゲートであり、カウンターIが0に
ならない限り、ステップ212に戻り直交逆ウェーブレ
ット変換を繰り返す。カウンターIが0になったら、ス
テップ215に進み処理を終了させる。
【0028】ここで、図2に示した各ステップの処理
と、図1に示した各手段との対応は以下の通りである。
ステップ203は埋め込み対象画像入力手段101によ
る処理、ステップ204はウェーブレット変換手段10
3による処理、ステップ216はエッジ抽出手段104
による処理、ステップ205は透かし画像入力手段10
6による処理、ステップ206は透かし画像サイズ調整
手段108による処理、ステップ207は幾何学変換手
段109による処理、ステップ208は低周波領域埋め
込み手段113による処理、ステップ209は高周波領
域埋め込み手段114による処理である。
【0029】図2に示したフローチャートは図12に示
した従来方式のフローチャートとは大幅に異なってい
る。この変更された点について次に詳しく説明する。ま
ずステップ206の埋め込み画像Bのサイズを調整する
処理は、対象画像Aにたいして直交ウェーブレット変換
を2回以上繰り返し求め、埋め込む場合に必要な処理
で、対象画像Aの高周波領域は1回ウェーブレット変換
する毎に、その面積は1/4になる。したがって埋め込
み画像Bもその情報を1/4に減らすことが隠蔽画像情
報が飽和しないためにも必要であり、その縮小処理をス
テップ206で行っている。
【0030】次にステップ207の幾何学変換処理につ
いて説明する。このステップ207の処理は、埋め込み
画像Bをより察知されにくくするためのものである。例
えば従来のように、1回だけウェーブレット変換を行っ
た変換画像からは、それを周波数変換して、高周波をカ
ットするなどの手法により、原画像には劣るが、それな
りに見ることのできる画像を得ることができる。ここで
周波数変換した状態は、埋め込み画像Bを単に輝度情報
として埋め込んだだけの、埋め込み画像の解読には有利
な状態にあり、埋め込み画像Bを推測され、それだけ排
除される可能性もある。そこでより埋め込み画像Bの推
測を難しくするために、図3に示すようなブロック単位
に分割した幾何学変換を施し、その変換係数を保持して
おくという方式が、ステップ207の処理である。
【0031】次にステップ216の処理について説明す
る。このステップ216の処理は、重要な情報が集中し
ている低周波領域に、周波数変換を用いて別の画像を埋
め込むためのものである。一般に低周波領域に情報を隠
蔽しようとすると、それを逆変換したときに大きなノイ
ズとなってしまうことがよくある。そこでできるだけそ
のようなことを避けるためには、低周波領域の中の高周
波領域に注目することになる。そしてその最も高周波の
部分とは画像中のエッジに代表される部分であり、従っ
て、あらかじめエッジを空間フィルターなどで求めてお
いて、そのエッジの部分に情報を挿入するという直接的
な方法がこのステップ216の処理である。なお、なぜ
ステップ216の直前で分岐しているかというと、エッ
ジを求めるのは直交ウェーブレット変換した低周波成分
のみに適用するからである。
【0032】次にステップ218の処理について説明す
る。これはよりはがしにくい埋め込み画像Bを埋め込む
ための処理であり、対象画像Aの低周波成分の中の高周
波部分、つまりエッジ部分にサイズおよび幾何学変換を
受けた埋め込み画像Bを埋め込む処理である。
【0033】ステップ210の分岐ゲートは変換画像の
汚れ具合と、埋め込み画像Bの排斥の難しさと言った間
で成り立つトレードオフとして決定される。このトレー
ドオフは現時点では人間が判断することになっている。
【0034】ステップ214の分岐ゲートはウェーブレ
ット変換し、埋め込まれた回数だけ逆ウェーブレット変
換するために必要なゲートである。
【0035】以上のようにこの実施の形態によれば、透
かし画像調整・変更手段107により変更された透かし
画像を、ウェーブレット変換・加工手段102により加
工された画像に埋め込むので、除去もしくは破壊されに
くい透かし画像を埋め込み対象画像に埋めこむことがで
きる。また、透かし画像を再帰的により低周波領域に埋
め込むので、透かし画像の除去がより困難になる。
【0036】実施の形態2.この実施の形態では、図2
に示したステップ206の埋め込み画像Bのサイズ調整
の処理と、ステップ207の幾何学変換処理について、
図3を用いてより詳しく説明する。埋め込み画像Bのサ
イズ調整というのは埋め込み画像Bのサイズをウェーブ
レット変換の回数に応じて縮小してゆくもので、1回ウ
ェーブレット変換行うたびに2次元の埋め込み画像Bの
各方向のスケールを半分に縮小するものである。この処
理は一般に画素間での平均値をとることにより求められ
る。
【0037】次に、幾何学変換処理であるが、こちらは
アーフィン変換などの一般的な幾何学変換に比べて、処
理量の少ない図3の方式をここでは採用する。その1つ
は埋め込み画像Bをいくつかのブロックに分割し、それ
をある乱数系列により決められたテーブルを用いて変換
する。301では簡単のため埋め込み画像Bを縦横4分
割し、全体で16分割したものを用いている。たとえば
301のブロック1は302のブロック12と変換さ
れ、301のブロック2は302のブロック14と変換
される。以下同様に行い画像をランダム化する。
【0038】また別の方式では、埋め込み画像Bをブロ
ックに分割し、それをある順序を持った数列の2組みづ
つのペアの値を使って、それに対応する埋め込み画像B
の行と列を入れ替えるというランダマイズ法である。3
03から304への変換ではまず、1行目と4行目を交
換し、次に1列目と3列目を交換した例を示している。
【0039】さらにこれに回転変換を組み合わせること
も可能である。回転変換の方式としては、画像をやはり
ブロックに分割し、画像の中心から8近傍距離で見て等
距離のブロックを、ある任意の数字だけ回転させるとい
う方式である。つまり図3の方式は305の中心からみ
て、8近傍距離1のブロックを右に1ブロック回転し、
8近傍距離2のブロックを右に5ブロック回転した例で
ある。つまりこの場合2個の数列があると306のよう
に全ブロックが全て回転することができ、これと先ほど
の行列ブロックの変換と組み合わせるとより効率の良い
ランダマイゼーションが実現できる。なお、これらの幾
何学変換の方式はメモリーやCPUの計算量をできるだ
け減らすというものである。
【0040】実施の形態3.この実施の形態では、図2
に示したステップ216のエッジ抽出フィルター処理
と、ステップ208の低周波成分への画像の埋め込み処
理について、図4を用いてより詳しく説明する。先にも
述べたように画像中でもっとも高周波の部分とはエッジ
の部分である。したがって、ウェーブレット変換によっ
て出力された低周波成分中に情報を隠蔽したいと考えた
とき、もっとも適当な個所は低周波成分の中の高周波成
分、即ちエッジである。本発明はその事実から、まずウ
ェーブレット変換をかけた後で、その低周波成分に対し
て、図4のようにエッジ抽出フィルターをかけ、エッジ
を抽出する。そして抽出されたエッジに対してシーケン
シャルに、埋め込み画像Bを埋め込む。これにより逆変
換して配布目的の変換画像を生成したときに、できるだ
け情報隠蔽による画像の破壊を少なくすることができ
る。
【0041】実施の形態4.この実施の形態では、ウェ
ーブレット変換手段103の変換により抽出した周波数
成分データの中で、埋め込み画像Bを埋め込む位置の周
波数成分データとその近傍の周波数成分データとに基づ
いて、対象画像Aのエッジ部分を抽出するものについて
説明する。この方式は、実施の形態3で示した方式の代
替方式とも言え、このことについて図5、6、7を用い
て説明する。
【0042】画像中のエッジを求めるためには、普通、
実施の形態3のように、ラプラシアンフィルターなどの
エッジ抽出フィルターのコンボリューション(畳み込み
積分)処理を行う。しかし、今の場合、1回ウェーブレ
ット変換手段103を通すことにより部分的な帯域の周
波数情報が把握されるので、これを上手に利用すれば、
エッジ情報は把握できると考えられる。したがって実施
の形態3のエッジ抽出フィルターの処理は不要となる。
この方式について説明する。
【0043】今、図8に示される画像が図9のようにウ
ェーブレット変換されるものとし、それが対象画像Aの
全画素に対して行われるものとする(図5)。対象画像
Aの位置(2x,2y)における輝度をI(2x,2y)とすると、そ
れを1回ウェーブレット変換手段103で変換したもの
は、w0(x,y),w1(x,y),w2(x,y),w3(x,y)となる。但
し( )内は位置(x,y)の関数であることを示す。この中の
0を除く高周波成分w1,w2,w3のうち少なくとも1つ
はゼロでない場合に限り、そのw1,w2,w3と、その近
傍のw1,w2,w3、即ち前者w1(x,y)に対して後者で言
う近傍とは、たとえばw1に関してw1(x-1,y-1), w
1(x,y-1), w1(x+1,y-1), w1(x-1,y), w1(x+1,y), w
1(x-1,y+1), w1(x,y+1), w1(x+1,y+1)の8成分、さら
にw2(x,y),w3(x,y)についてもそれぞれ同様に8成分
考えられるので、8×3=24成分を指す。それら24
成分を取り出し、これら24成分の値の和を求める。こ
の和がある任意に設定する閾値θ(但しθは3以上の整
数)よりも大きい場合にのみ、その(x,y)を埋め込み候
補地点とし、以降の処理によりその場所にデータが隠蔽
される。ここでなぜ3以上必要かというと図6に示した
ようにw1,w2,w3とその近傍で構成する超空間におい
て、エッジは少なくとも3箇所で値を持つと考えられる
からである。たとえば同じw平面の中で3箇所連続する
場合、図6中で示すなら、w1(x-1,y+1),w1(x,y),w
1(x+1,y-1)などにそれぞれ値が存在するときなどがそれ
に相当する。またw1,w2,w3を横切って連続する場
合、図6中で示すなら、w1(x,y),w2(x+1,y+1),w3(x+
1,y+1)などがそれに当たる。尚、上述の近傍の例として
8近傍×3個を考えたが、これは便宜的なもので、24
近傍×3でも構わないし、それ以上の近傍を考えること
も可能である。またその時は当然閾値の下限の値も変更
する必要がある。以下に本処理をアルゴリズムとしてま
とめる。
【0044】Step1:ウェーブレット変換手段によりM
RRベクトルw=(w1,w2,w3)を求める。尚、
1,w2,w3の意味は数式3に記した行列演算に準ず
るものとし、またw1(i,j)とは点(i,j)におけるw1の値
とする。
【0045】Step2:各画素から得られたMRRベクト
ルwを走査しながら以下の処理を行う。尚、対象となる
MRRベクトルをベクトルw(i,j)=(w1,w2,w3
とする。ただし、i,jは画像中の位置を表すパラメータ
とする。
【0046】Step3:k=1,2,3について次の[3-
1]〜[3-6]の処理を行う。 [3-1] もしwk=0ならば[3-6]へ。 [3-2] wk(i,j)の8近傍を調べ、なおかつkに関する
変化も考慮する。つまり8×3=24近傍の和を求め
る。 [3-3] もし[3-2]の和が閾値θ未満であれば、そこはノ
イズと判断し[3-6]へ。もし[3-2]の和が閾値θ以上であ
れば、wkの下位xビットを透かしデータのxビットで
置き換え、wk´とする。 [3-4] もしwk´=0ならば、wk´の下位(x+1)ビ
ット目を1とする。 [3-5] wk ← wk´ [3-6] k=k+1
【0047】Step4:ベクトルwを出力する。
【0048】Step5:Step2以降の処理をすべてのMR
Rベクトルwに適用する。 以上が実施の形態3の代替方式である。
【0049】実施の形態5.実施の形態1〜4では、画
像データを対象画像Aに埋め込む電子透かし装置につい
て説明したが、この実施の形態では、文字などの細かく
分割しても意味のある1次元の可変長のデータを対象画
像Aに埋め込む電子透かし装置について説明する。本説
明は既出の処理フローとは異なる図7のフローチャート
を使って説明するものである。しかし図7を用いて説明
する前に、なぜ図2と図7の2つの処理方式を示してい
るかについて補足する。
【0050】実施の形態3、4で示した方式では、対象
画像Aの種類(性質)によって、透かし情報の埋め込み
可能な箇所の個数には大きな差異が生じる。つまりある
画像では1000箇所、情報を埋め込み可能であるとす
ると別の画像では100箇所であったりする。それぞれ
の箇所に仮に透かし情報を頭から1ビットずつ埋め込む
とすると、前者の画像には1000ビット、後者のそれ
には100ビットの情報しか埋め込むことはできない。
つまり当該方式を用いた場合、対象画像Aに対して、あ
る一定のデータサイズ(たとえば500ビットで表され
る)で表現されるマークのような透かし「画像」を埋め
込むのは難しい。なぜなら今の仮定で言うと、前者の画
像には透かし「画像」を2回埋め込めるが、後者の画像
には透かし「画像」の一部、即ち1/5しか埋め込むこ
とはできない。したがって実施の形態3、4で示した方
式においては、透かし情報(画像ではないことに注意)
として、文字などの細かく分割しても意味のある1次元
の可変長のデータを埋め込む方が適しているのである。
すると図2で説明した最初に画像データを埋め込む処理
手順とは異なる手順で実施することができる。それを説
明したのが図7である。
【0051】次に図7のフローチャートを用いて説明す
る。図において、ステップ401は動作開始、ステップ
402はこれから行うウェーブレット変換の回数nをカ
ウンターCにセットする処理。ステップ403は外部か
ら対象画像Aを入力する処理。ステップ404は入力し
た対象画像Aを直交ウェーブレット変換する処理。ステ
ップ405は直交ウェーブレット変換により出力された
周波数データを用いて、埋め込みに適当と思われる周波
数領域上の場所を選ぶ処理。ステップ406は透かし情
報を外部から入力する処理。ステップ407はステップ
405で選ばれた場所にステップ406により入力され
た透かし情報を実際に埋め込む処理。ステップ408は
カウンターCの値をデクリメントする処理。ステップ4
09はステップ408を受けて、減算によりカウンター
Cの値をチェックする処理。ステップ410は直交逆ウ
ェーブレット変換する処理。ステップ411はカウンタ
ーCをインクリメントする処理。ステップ412はステ
ップ411で加算されたカウンターCがステップ402
においてあらかじめ設定された値nに等しいかどうかを
判断する処理。つまりステップ404で直交ウェーブレ
ット変換を行った回数だけ、ステップ410で直交逆ウ
ェーブレット変換を行う。カウンターCはこのために使
用するものである。ステップ413は動作の終了であ
る。ここでステップ403、404、405、406、
407の処理に関して詳しく述べたのが実施の形態4の
内容とアルゴリズムである。このように繰り返しウェー
ブレットを行ってもその埋め込み方式を変更することが
ないことが、この実施の形態5を述べる大きな理由であ
る。
【0052】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、画像調整変更
手段により変更された透かし画像を、ウェーブレット変
換加工手段により加工された画像に埋め込むので、取り
除くことが困難な透かし画像をオリジナルの画像に埋め
込むことができる。
【0053】請求項2の発明によれば、ウェーブレット
変換した画像より抽出した低周波成分の画像情報にエッ
ジフィルターをかけるので、より原画像に近い埋め込み
画像を作ることができる。
【0054】請求項3の発明によれば、画像調整変更手
段により変更された透かし画像を、ウェーブレット変換
加工手段により加工された画像の低周波領域に埋め込む
とともに、ウェーブレット変換加工手段により加工され
た画像の高周波領域に埋め込むので、取り除くことがよ
り困難な透かし画像を埋め込むことができる。
【0055】請求項4の発明によれば、透かし画像サイ
ズ調整手段によりサイズを調整された透かし画像に対し
て幾何学変換を行なうので、取り除くことがより困難な
透かし画像を埋め込むことができる。
【0056】請求項5、6又は7の発明によれば、幾何
学変換手段により透かし画像の変換を行なうことによ
り、透かし画像がランダムになるので、取り除くことが
より困難な透かし画像を埋め込むことができる。
【0057】請求項8又は9の発明によれば、埋め込み
対象画像をウェーブレット変換し、この変換により抽出
した周波数成分データの中で、透かし画像を埋め込む位
置の周波数成分データとその近傍の周波数成分データと
に基づいて、埋め込み対象画像のエッジ部分を抽出する
ので、埋め込み対象画像の中の目立ちにくいエッジ部分
を、エッジフィルターをかけるよりも少ない計算量で探
し出すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施の形態1の電子透かし装置の構成を示す
構成図である。
【図2】 実施の形態1の電子透かし装置の動作を示す
フローチャートである。
【図3】 幾何学変換処理を説明する図である。
【図4】 実施の形態3の動作を説明する図である。
【図5】 実施の形態4の動作を説明する図である。
【図6】 実施の形態4の動作を説明する図である。
【図7】 実施の形態4の動作を示すフローチャートで
ある。
【図8】 原画像を示す図である。
【図9】 ウェーブレット変換後の変換係数を示す図で
ある。
【図10】 高周波成分への透かし情報埋め込み後、逆
変換した変換画像を示す図である。
【図11】 透かしの混入した変換画像と原画像との差
分を示す図である。
【図12】 従来の電子透かし装置の動作を示すフロー
チャートである。
【符号の説明】
101 埋め込み対象画像入力手段、102 ウェーブ
レット変換・加工手段、103 ウェーブレット変換手
段、104 低周波成分のエッジ抽出手段、106 透
かし画像入力手段、107 透かし画像調整・変更手
段、108 透かし画像サイズ調整手段、109 透か
し画像の幾何学変換手段、112 透かし画像の埋め込
み手段、113 低周波領域埋め込み手段、114 高
周波領域埋め込み手段。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透かし画像の埋め込み対象画像を入力す
    る埋め込み対象画像入力手段と、 この入力された埋め込み対象画像をウェーブレット変換
    し加工するウェーブレット変換加工手段と、 前記透かし画像を入力する透かし画像入力手段と、 この入力された透かし画像のサイズを調整し変更する透
    かし画像調整変更手段と、 この変更された透かし画像を、前記ウェーブレット変換
    加工手段により加工された画像に埋め込む埋め込み手段
    とを備えたことを特徴とする電子透かし装置。
  2. 【請求項2】 前記ウェーブレット変換加工手段は、 前記埋め込み対象画像入力手段により入力された前記埋
    め込み対象画像をウェーブレット変換するウェーブレッ
    ト変換手段と、 この変換した画像より抽出した低周波成分の画像情報に
    エッジフィルターをかけるエッジ抽出手段とを備えたこ
    とを特徴とする請求項1記載の電子透かし装置。
  3. 【請求項3】 前記埋め込み手段は、 前記変更された透かし画像を、前記ウェーブレット変換
    加工手段により加工された画像の低周波領域に埋め込む
    低周波領域埋め込み手段と、 前記変更された透かし画像を、前記ウェーブレット変換
    加工手段により加工された画像の高周波領域に埋め込む
    高周波領域埋め込み手段とを備えたことを特徴とする請
    求項1記載の電子透かし装置。
  4. 【請求項4】 前記透かし画像調整変更手段は、 前記入力された透かし画像のサイズを、前記埋め込み対
    象画像入力手段により入力された前記埋め込み対象画像
    のサイズとの関係において調整する透かし画像サイズ調
    整手段と、 この透かし画像サイズ調整手段によりサイズを調整され
    た透かし画像に対して幾何学変換を行なう幾何学変換手
    段とを備えたことを特徴とする請求項1記載の電子透か
    し装置。
  5. 【請求項5】 前記幾何学変換手段は、 画像を分割したブロックの移動場所を示す変換テーブル
    と、 前記透かし画像をブロックに分割する手段と、 この分割したブロックごとに前記変換テーブルを引き、
    該ブロックを前記変換テーブルで示される別のブロック
    の場所に移動する手段とを備えたことを特徴とする請求
    項4記載の電子透かし装置。
  6. 【請求項6】 前記幾何学変換手段は、 前記透かし画像をブロックに分割する手段と、 この分割したブロックの行ごと、もしくは列ごとに、所
    定の数列のペアに従い行もしくは列を交換する手段とを
    備えたことを特徴とする請求項4記載の電子透かし装
    置。
  7. 【請求項7】 前記幾何学変換手段は、 前記透かし画像をブロックに分割する手段と、この分割
    したブロックの中心座標系からみて、8近傍距離の等し
    いブロック群を、所定の数列で指定した分だけ回転する
    手段とを備えたことを特徴とする請求項4記載の電子透
    かし装置。
  8. 【請求項8】 前記ウェーブレット変換加工手段は、 前記埋め込み対象画像入力手段により入力された前記埋
    め込み対象画像をウェーブレット変換するウェーブレッ
    ト変換手段と、 この変換により抽出した周波数成分データの中で、前記
    透かし画像を埋め込む位置の周波数成分データとその近
    傍の周波数成分データとに基づいて、前記埋め込み対象
    画像のエッジ部分を抽出するエッジ抽出手段とを備えた
    ことを特徴とする請求項1記載の電子透かし装置。
  9. 【請求項9】 前記エッジ抽出手段は、設定可能な閾値
    を有し、抽出するエッジ部分の数を前記閾値に基づいて
    制限することを特徴とする請求項8記載の電子透かし装
    置。
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