JPH10267862A - Method and device for inspecting foreign material, and information processing device - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a foreign material inspecting device wherein a requirement for unnecessary visual observation is omitted. SOLUTION: The information on foreign material which is detected with a laser inspection part 1310 (1210) while judged to be tolerant based on the observation with a microscope part 1320 (1220), is stored in an information processing device 1100. Here, if such foreign material as conforms to the information of foreign material stored is detected with the laser inspection part 1310 after a pellicle is attached, the foreign material is judged to be tolerant, and observation with the microscope part 1320 is omitted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造におけ
る投影露光工程に用いられる、露光用パターンが形成さ
れたレチクルに付着する異物を検査するための異物検査
装置および方法ならびに情報処理装置に係り、特に、防
塵膜が装着された状態のレチクルが使用可能か否かを検
査するための異物検査装置および方法ならびに情報処理
装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a foreign matter inspection apparatus and method for inspecting foreign matter adhering to a reticle on which an exposure pattern is formed, which is used in a projection exposure process in semiconductor manufacturing, and an information processing apparatus. In particular, the present invention relates to a foreign substance inspection apparatus and method for inspecting whether a reticle with a dustproof film attached thereto can be used or not, and an information processing apparatus.

【０００２】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路、液晶表示素子等の半導
体素子がフォトリソグラフィ技術を用いて製造されてい
る。フォトリソグラフィでは、回路パターンの原板とな
るパターンが形成されたレチクルをフォトマスクとし
て、感光材が塗布されたウェハに露光を行っている。2. Description of the Related Art Semiconductor devices such as semiconductor integrated circuits and liquid crystal display devices are manufactured using photolithography technology. In photolithography, a wafer on which a photosensitive material is applied is exposed by using a reticle on which a pattern serving as an original plate of a circuit pattern is formed as a photomask.

【０００３】露光に際して、異物がレチクルのパターン
が形成された領域に付着していると、ウェハに転写され
るパターンが乱れ、ウェハ上に形成されるチップの回路
パターンに欠陥が生じてしまう。これを防ぐために、露
光に先だって、レチクルのパターン領域に異物が付着し
ているか否かを調べるための異物検査が行われている。
この異物検査では、可干渉光源からの光ビームで被検物
の表面を２次元的に走査しつつ、上記レチクルの表面か
らの散乱の有無を検出して異物、および、その付着位置
を検出する異物検査装置が使用されている。[0003] During exposure, if foreign matter adheres to the region where the reticle pattern is formed, the pattern transferred to the wafer is disturbed, and a defect occurs in the circuit pattern of the chip formed on the wafer. In order to prevent this, prior to exposure, a foreign substance inspection is performed to check whether a foreign substance has adhered to the pattern region of the reticle.
In this foreign substance inspection, the presence or absence of scattering from the surface of the reticle is detected by two-dimensionally scanning the surface of the test object with a light beam from a coherent light source, and the foreign substance and the position of attachment are detected. A foreign substance inspection device is used.

【０００４】また、最近では、異物の付着を防止するた
め、レチクルの表面上に支持枠を介して光透過性の薄膜
（以下、ペリクルという）が装着されている。このよう
にペリクルで覆われたレチクルであっても、レチクルの
表面に異物が付着していることがある。このため、ペリ
クルが装着されたレチクルについても、異物の有無が検
査されている。Recently, in order to prevent foreign matter from adhering, a light-transmitting thin film (hereinafter, referred to as a pellicle) is mounted on a surface of a reticle via a support frame. Even a reticle covered with a pellicle as described above may have foreign matter attached to the surface of the reticle. Therefore, the reticle on which the pellicle is mounted is also inspected for the presence of foreign matter.

【０００５】ところで、上記異物における散乱光によっ
て検出された異物が付着していても、実際には、ウェハ
に転写される回路パターンに欠陥が生じない場合、許容
し得る欠陥である場合などがある。このような場合の異
物の付着は、レチクルの使用を妨げない。このため、上
記散乱光による異物検査で異物が検出された部位につい
て、顕微鏡などを用いた目視観察を人間が行い、そのレ
チクルの使用の可否を判断している。[0005] By the way, even if the foreign matter detected by the scattered light in the foreign matter adheres, there is a case where no defect actually occurs in the circuit pattern transferred to the wafer or a case where it is an acceptable defect. . In such a case, the adhesion of the foreign matter does not hinder the use of the reticle. For this reason, a person performs a visual observation using a microscope or the like on a portion where a foreign substance is detected in the foreign substance inspection using the scattered light, and determines whether or not the reticle can be used.

【０００６】従って、ペリクルが装着されたレチクルを
製造するための異物検査は、以下の手順で行われてい
る。[0006] Therefore, foreign substance inspection for manufacturing a reticle on which a pellicle is mounted is performed in the following procedure.

【０００７】先ず、ペリクルを装着する前に散乱光によ
る異物検査を行う。その結果、異物を検出しなかった場
合には、ペリクルを装着する。異物が検出されたレチク
ルは、異物が検出された部位について目視観察が行われ
る。目視観察で使用可と判定されたレチクルには、ペリ
クルが装着される。First, before mounting a pellicle, a foreign substance inspection using scattered light is performed. As a result, if no foreign substance is detected, the pellicle is mounted. On the reticle where the foreign matter is detected, the portion where the foreign matter is detected is visually observed. A pellicle is attached to a reticle determined to be usable by visual observation.

【０００８】また、目視観察によって、使用不可と判定
されたレチクルは、異物を除去するための洗浄が行わ
れ、再度散乱光による異物検査が行われる。The reticle determined to be unusable by visual observation is cleaned for removing foreign matter, and the foreign matter is inspected again by scattered light.

【０００９】次に、ペリクル装着中に付着した異物を検
出するために、ペリクル装着後に再度異物検査が行われ
る。Next, in order to detect foreign matter adhering during mounting of the pellicle, foreign matter inspection is performed again after mounting the pellicle.

【００１０】上述したペリクル装着前の異物検査と同様
に、先ず、散乱光による異物検査が行われ、異物が検出
された場合には、目視観察が行われる。Similar to the above-described foreign substance inspection before the pellicle is mounted, first, a foreign substance inspection using scattered light is performed, and when a foreign substance is detected, visual observation is performed.

【００１１】上記散乱光による検査で異物が検出されな
かったレチクル、および、目視観察で使用可と判定され
たレチクルは、使用に供される。The reticle in which no foreign matter is detected in the inspection by the scattered light and the reticle determined to be usable by visual observation are used.

【００１２】また、上記目視観察において、使用不可と
判定されたレチクルは、ペリクルの撤去、および、洗浄
が行われ、上記ペリクル装着前のレチクルに対する異物
検査の工程に戻される。The reticle determined to be unusable in the above visual observation is subjected to pellicle removal and cleaning, and is returned to the step of inspecting the reticle for foreign matter before mounting the pellicle.

【００１３】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような手順で行われるレチクル製造工程の異物検査で
は、ペリクル装着前に散乱光による異物検査で検出さ
れ、目視観察で使用可と判定された異物は、洗浄の対象
とならないため、ペリクル装着後の散乱光による異物検
査において、再び検出される。このような異物について
も、目視観察が行われているが、この異物については、
一旦、目視観察で使用可と判定されているのであるか
ら、目視観察を繰り返して行うことは不要である。However, in the foreign substance inspection in the reticle manufacturing process performed according to the above-described procedure, a foreign substance detected by a foreign substance inspection using scattered light before mounting the pellicle and determined to be usable by visual observation. Is not an object to be cleaned, and is detected again in a foreign substance inspection using scattered light after mounting the pellicle. Visual observation is also performed on such foreign matter.
Since it has been once determined that use is possible by visual observation, it is unnecessary to repeat visual observation.

【００１４】しかし、上述した従来の異物検査では、ペ
リクルの装着の前後で、異物が同一か否かをは考慮され
ていないため、上記目視観察の繰り返しを省略すること
は困難である。従って、使用可能であるとすでに判定さ
れた異物であっても再度目視観察が行われている。この
ため、異物検査の作業効率を向上させることが困難であ
る。However, in the above-described conventional foreign-matter inspection, it is difficult to omit the repetition of the above-described visual observation because it is not considered whether the foreign matter is the same before and after the pellicle is mounted. Therefore, the visual observation is performed again even for a foreign substance that has already been determined to be usable. For this reason, it is difficult to improve the work efficiency of the foreign substance inspection.

【００１５】特に、上記目視検査は、人手を要し、か
つ、時間がかかるため、ペリクル製造のスループットを
向上させることが困難である。In particular, the visual inspection requires human labor and takes a long time, and it is difficult to improve the throughput of pellicle production.

【００１６】本発明は、不要な目視観察の要求を省略す
ることができる異物検査装置を提供することを目的とす
る。An object of the present invention is to provide a foreign matter inspection apparatus which can omit unnecessary visual observation requests.

【００１７】[0017]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の第１の態様によれば、パターンが形成され
たレチクル、および、レチクルにペリクル装着して組み
立てられたペリクル付きレチクルの異物を検査するため
の異物検査装置において、レチクルの識別情報を取得す
るための識別情報取得手段と、被検面に付着している異
物を検出し、異物が付着している位置を含む異物情報を
取得するための異物検出手段と、被検面の指定された位
置を観察して、その箇所に付着している異物により被検
面の使用が妨げられるか否かを示す観察情報を取得する
ための観察手段と、上記異物検出手段および観察手段に
よって取得された情報を記憶するための記憶手段と、上
記各手段から受け付けた情報を処理し、かつ、上記各手
段を制御するための制御手段とを有し、上記制御手段
は、組み立てられる前のレチクルの識別情報を上記識別
情報取得手段により取得させ、これを受け付け、上記識
別情報を取得したレチクルついて、付着している異物
を、上記異物検出手段に検出させて、取得された異物情
報を受け付け、異物が検出されたとき、上記異物情報が
示す位置を、上記観察手段に観察させて、取得された観
察情報を受け付け、上記観察情報が、被検面の使用が妨
げられないことを示すとき、上記異物情報を上記識別情
報と対応付けて上記記憶装置に記憶させ、組み立てられ
たペリクル付きレチクルの識別情報を上記識別情報取得
手段により取得させ、これを受け付け、上記識別情報を
取得したペリクル付きレチクルついて、付着している異
物を、上記異物検出手段に検出させて、取得された異物
情報を受け付け、異物が検出されたとき、上記識別情報
と対応付けられた異物情報を上記記憶装置から検索し、
検索された異物情報が示す位置と、今回受け付けた異物
情報が示す位置との差異が予め定められた範囲内にある
とき、当該位置にある異物は、レチクルの使用を妨げな
いと判定することを特徴とする異物検査装置が提供され
る。According to a first aspect of the present invention, there is provided a reticle having a pattern formed thereon and a reticle with a pellicle assembled by mounting the reticle on the reticle. In a foreign matter inspection device for inspecting foreign matter, identification information acquiring means for acquiring identification information of a reticle, foreign matter information including a position where foreign matter is attached, detecting foreign matter attached to a surface to be inspected, Obtains observation information indicating whether use of the test surface is hindered by observing a designated position on the test surface and a foreign object attached to the position, and observing the specified position on the test surface. For observing information obtained by the foreign object detecting means and the observing means, and processing information received from each of the means, and for controlling each of the means. Having a control means, the control means, the identification information of the reticle before assembly is obtained by the identification information obtaining means, accepting this, for the reticle having obtained the identification information, the attached foreign matter, The foreign matter detecting means detects the acquired foreign matter information, and when the foreign matter is detected, causes the observing means to observe the position indicated by the foreign matter information, accepts the acquired observation information, and performs the observation. When the information indicates that use of the test surface is not hindered, the foreign matter information is stored in the storage device in association with the identification information, and the identification information of the assembled reticle-equipped reticle is identified by the identification information obtaining means. The reticle with the pellicle, which has obtained the identification information, allows the attached foreign matter to be detected by the foreign matter detection means. Accepts resulting foreign object information, when the foreign object is detected, the foreign substance information associated with the identification information retrieved from the storage device,
When the difference between the position indicated by the searched foreign object information and the position indicated by the foreign object information received this time is within a predetermined range, it is determined that the foreign object at the position does not prevent the use of the reticle. A featured foreign matter inspection device is provided.

【００１８】本発明の第２の態様によれば、パターンが
形成されたレチクル、および、レチクルにペリクル装着
して組み立てられたペリクル付きレチクルの異物を検査
するための異物検査方法において、組立前のペリクルに
ついて異物検査を行う第１の異物検査ステップと、組立
後のペリクル付きレチクルのレチクルについて異物検査
を行う第２の異物検査ステップとを有し、上記第１の異
物検査ステップにおいて、上記レチクルに付着する異物
を検出し、異物が検出されたとき、レチクルの異物が検
出された位置が使用可能か否かを検査し、レチクルが使
用可能であるとき、このペリクルを識別するための識別
情報と対応付けて、異物が検出された位置を記憶し、上
記第２の異物検査ステップにおいて、上記ペリクル付き
レチクルに付着する異物を検出し、異物が検出されたと
き、当該ペリクル付きレチクルに含まれるレチクルの識
別情報と対応づけられた異物情報を記憶している異物情
報から検索し、検索された異物情報が示す異物の位置
と、今回取得した異物の位置とが予め定められた範囲内
にあるとき、当該異物によってペリクル付きレチクルの
使用は妨げられないと判定することを特徴とする異物検
査方法が提供される。According to a second aspect of the present invention, in a foreign matter inspection method for inspecting foreign matter in a reticle on which a pattern is formed and a reticle with a pellicle assembled by mounting the pellicle on the reticle, the foreign matter before assembly is provided. A first foreign matter inspection step of performing a foreign matter inspection on the pellicle; and a second foreign matter inspection step of performing a foreign matter inspection on the reticle of the reticle with the pellicle after assembly. Detects foreign matter adhering, when foreign matter is detected, inspects whether the position where the foreign matter is detected on the reticle is usable, and when the reticle is usable, identification information for identifying this pellicle and The position at which the foreign matter is detected is stored in association with the reticle-attached reticle in the second foreign matter inspection step. Foreign matter is detected. When the foreign matter is detected, the foreign matter information stored in the foreign matter information corresponding to the identification information of the reticle included in the reticle with the pellicle is searched. When the position and the position of the foreign matter acquired this time are within a predetermined range, a foreign matter inspection method is provided in which it is determined that the use of the reticle with a pellicle is not hindered by the foreign matter.

【００１９】本発明の第３の態様によれば、パターンが
形成されたレチクル、および、レチクルにペリクルが装
着されたペリクル付きレチクルについて、有無およびそ
の位置を含む異物情報が取得される異物検出、および、
被検面の指定された位置が使用可能な否かを示す観察情
報が取得される被検面観察のうち、少なくとも異物検出
が行われ、かつ、検査対象のレチクルを識別するための
識別情報が読み取られる異物検査における被検面観察の
要否を判定するための情報処理装置において、検査対象
となるレチクルの識別情報を受け付け、異物検出が行わ
れるに際し、取得される異物情報を受け付け、かつ、被
検面観察が行われるに際し、取得される観察情報を受け
付けるための入力手段と、上記異物情報および観察情報
を上記識別情報に対応づけて記憶するための記憶手段
と、上記入力手段により受け付けられた情報、および、
上記記憶手段に記憶されている情報に基づいて、上記被
検面観察の要否を判定するための演算手段と、上記判定
された結果を出力するための出力手段とを有し、上記演
算手段は、ペリクル付きレチクルについて異物検出が行
われるに際し、当該ペリクル付きレチクルに含まれるレ
チクルの識別情報と対応付けて記憶されている異物情報
を検索し、該当する異物情報が検索され、かつ、検索さ
れた異物情報と、上記入力手段により受け付けられた異
物情報との差異が予め定められた範囲内にあるとき、上
記ペリクル付きレチクルについての上記被検面観察が不
要であると判定し、上記判定結果を上記出力手段によっ
て出力することを特徴とする情報処理装置が提供され
る。According to the third aspect of the present invention, with respect to a reticle on which a pattern is formed and a reticle with a pellicle having a pellicle mounted on the reticle, foreign matter detection including foreign matter information including presence / absence and its position is obtained. and,
Observation information indicating whether a designated position of the test surface is available is obtained. In the test surface observation, at least foreign substance detection is performed, and identification information for identifying the reticle to be inspected is not obtained. In the information processing apparatus for determining whether or not the inspection of the surface to be inspected in the inspection of the foreign substance to be read, the identification information of the reticle to be inspected is received, and when the foreign substance detection is performed, the acquired foreign substance information is received, and When the surface to be inspected is performed, input means for receiving the obtained observation information, storage means for storing the foreign substance information and the observation information in association with the identification information, and reception by the input means Information, and
An arithmetic unit for determining whether the observation of the surface to be inspected is necessary based on the information stored in the storage unit, and an output unit for outputting the determined result; When foreign substance detection is performed on a reticle with a pellicle, foreign substance information stored in association with the identification information of the reticle included in the reticle with the pellicle is searched, and the corresponding foreign substance information is searched, and When the difference between the foreign object information and the foreign object information received by the input unit is within a predetermined range, it is determined that the observation of the surface to be inspected for the reticle with the pellicle is unnecessary, and the determination result is obtained. Is output by the output means.

【００２０】[0020]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【００２１】先ず、図１から図４を参照して、本発明の
第１の実施の形態について説明する。本実施の形態にお
ける異物検査装置は、ウェハに転写される回路パターン
の原盤となるパターンが形成されたレチクルに、該異物
に遺物が付着することを避けるためのペリクルを装着す
る工程において、上記レチクル、ペリクル、および、ペ
リクル付きレチクルに付着している異物を検査するため
のものである。First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The foreign matter inspection apparatus according to the present embodiment includes a step of mounting a pellicle on a reticle on which a pattern serving as a master of a circuit pattern to be transferred to a wafer is formed, in order to prevent a relic from adhering to the foreign matter. , A pellicle and a reticle-attached reticle.

【００２２】本実施の形態における異物検査装置の説明
に先だって、ペリクル付きレチクル、および、ペリクル
付きレチクルを組み立てるためのペリクル組立装置につ
いて説明する。Prior to the description of the foreign matter inspection apparatus according to the present embodiment, a reticle with a pellicle and a pellicle assembling apparatus for assembling the reticle with a pellicle will be described.

【００２３】先ず、図３を参照して、ペリクル付きレチ
クルについて説明する。First, a reticle with a pellicle will be described with reference to FIG.

【００２４】図３において、レチクルは、透過性の基板
７１の一方の面７１ａに、不透明膜７４で回路パターン
の原盤となるパターンが形成されている。以下、この面
７１ａを表面、他方の面７１ｂを裏面という。上記不透
明膜７４は、例えば、クロム膜で形成することができ
る。In FIG. 3, the reticle is formed by forming an opaque film 74 on one surface 71a of a transparent substrate 71 so as to become a master of a circuit pattern. Hereinafter, this surface 71a is called a front surface, and the other surface 71b is called a back surface. The opaque film 74 can be formed of, for example, a chromium film.

【００２５】上記レチクルの表面７１ａおよび裏面７１
ｂに異物が付着することを防ぐために、ペリクル７２ａ
および７２ｂがそれぞれ装着されている。ペリクル７２
ａおよび７２ｂは、それぞれ枠７３により張設されてい
る。Front surface 71a and back surface 71 of the reticle
pellicle 72a to prevent foreign matter from adhering to
And 72b are mounted respectively. Pellicle 72
a and 72b are each stretched by a frame 73.

【００２６】次に、図１を参照してペリクル組立装置に
ついて説明する。Next, the pellicle assembling apparatus will be described with reference to FIG.

【００２７】図１において、レチクル組立装置１００
は、レチクルが格納されるレチクルライブラリ１１０
と、ペリクルが格納されるペリクルライブラリ１２０
と、上記レチクルにペリクルを装着するためのペリクル
装着部１４０と、ペリクルを搬送するためのロボットア
ーム１３０と、レチクルを搬送するためのレチクルロー
ダ１５０とを有して構成される。Referring to FIG. 1, reticle assembling apparatus 100
Is a reticle library 110 in which reticles are stored.
And the pellicle library 120 in which the pellicle is stored
And a pellicle mounting unit 140 for mounting the pellicle on the reticle, a robot arm 130 for transporting the pellicle, and a reticle loader 150 for transporting the reticle.

【００２８】また、上記レチクルライブラリ１１０に
は、レチクルケースに収容されたレチクルが格納されて
いる。レチクルケースは、単体のレチクルを収容可能
で、かつ、ペリクル付きレチクルも収容することができ
る形状に形成されている。レチクルケースには、収容し
ているレチクルを識別するための識別子が付されてい
る。識別子としては、例えば、バーコードなどが用いら
れる。The reticle library 110 stores reticles housed in a reticle case. The reticle case is formed in a shape that can accommodate a single reticle and also can accommodate a reticle with a pellicle. The reticle case is provided with an identifier for identifying the reticle contained therein. As the identifier, for example, a bar code or the like is used.

【００２９】上記レチクルローダ１５０は、上記レチク
ルライブラリ１１０に格納されているレチクルケースか
らレチクルを取り出す際に、レチクルケースに付されて
いる識別子を読み取る。The reticle loader 150 reads an identifier attached to the reticle case when taking out the reticle from the reticle case stored in the reticle library 110.

【００３０】上記ペリクルライブラリ１２０には、ペリ
クルケースに収容されたペリクルが格納される。ペリク
ルケースには、収容しているペリクルを識別するための
識別子が付されている。識別子としては、例えば、バー
コードなどが用いられる。The pellicle library 120 stores pellicles housed in a pellicle case. The pellicle case is provided with an identifier for identifying the contained pellicle. As the identifier, for example, a bar code or the like is used.

【００３１】上記ロボットアーム１３０は、上記ペリク
ルライブラリ１２０に格納されているペリクルケースか
らペリクルを取り出す際に、ペリクルケースに付されて
いる識別子を読み取る。When taking out the pellicle from the pellicle case stored in the pellicle library 120, the robot arm 130 reads the identifier attached to the pellicle case.

【００３２】ペリクル装着部１４０に、単体のレチク
ル、および、単体のペリクルが、それぞれレチクルライ
ブラリ１１０、および、レチクルライブラリ１２０から
搬送される。ペリクル装着部１４０において、レチクル
にペリクルが装着されペリクル付きレチクルが組み立て
られる。組み立てられたペリクル付きレチクルは、レチ
クルローダ１５０によりレチクルライブラリ１２０に格
納される。A single reticle and a single pellicle are transported from the reticle library 110 and the reticle library 120 to the pellicle mounting section 140, respectively. In the pellicle mounting unit 140, the pellicle is mounted on the reticle, and the reticle with the pellicle is assembled. The assembled reticle with pellicle is stored in the reticle library 120 by the reticle loader 150.

【００３３】次に、同じく図１を参照して、本実施の形
態の異物検査装置の概略の構成について説明する。本実
施の形態の異物検査装置１０００は、上記レチクル組立
装置１００に適用され、、単体の状態の、レチクルおよ
びペリクルと、ペリクルが装着された状態のレチクルと
について異物検査を行うためのものである。Next, referring to FIG. 1, a schematic configuration of the foreign matter inspection apparatus according to the present embodiment will be described. The foreign substance inspection apparatus 1000 according to the present embodiment is applied to the reticle assembling apparatus 100, and performs foreign substance inspection on a reticle and a pellicle in a single state and a reticle with a pellicle mounted thereon. .

【００３４】図１において、本実施の形態の異物検査装
置は、単体の状態のペリクルについて異物検査を行うた
めのペリクル検査部１２００と、単体の状態のレチク
ル、および、ペリクルが装着された状態のレチクルにつ
いて異物検査を行うためのレチクル検査部１３００と、
上記ペリクル検査部１２００およびレチクル検査部１３
００における検査情報を処理するための情報処理部１１
００とを有して構成される。Referring to FIG. 1, a foreign substance inspection apparatus according to the present embodiment includes a pellicle inspection unit 1200 for performing a foreign substance inspection on a pellicle in a single state, a reticle in a single state, and a reticle mounted in a pellicle. A reticle inspection unit 1300 for performing a foreign substance inspection on the reticle,
Pellicle inspection unit 1200 and reticle inspection unit 13
Information processing unit 11 for processing inspection information in 00
00.

【００３５】上記ペリクル検査部１２００は、レーザ検
査部１２１０と、顕微鏡部１２２０とを有する。The pellicle inspection unit 1200 has a laser inspection unit 1210 and a microscope unit 1220.

【００３６】上記レーザ検査部１２１０は、可干渉光を
ペリクルに照射し、異物によって散乱される散乱光を用
いて、異物の付着、および、その位置を検出するための
ものである。The laser inspection unit 1210 irradiates the pellicle with coherent light, and detects the adhesion of the foreign matter and the position of the foreign matter using the scattered light scattered by the foreign matter.

【００３７】上記顕微鏡検査部１２２０は、上記レーザ
検査部１２１０によって検出された異物付着箇所の拡大
像を観察し、付着している異物の詳細な情報を取得する
ためのものである。The microscopic inspection section 1220 is for observing an enlarged image of the foreign substance adhering portion detected by the laser inspecting section 1210 and acquiring detailed information of the adhering foreign substance.

【００３８】上記レチクル検査部１３００は、レーザ検
査部１３１０と、顕微鏡部１３２０と、レチクルテーブ
ル１３３０とを有する。The reticle inspection section 1300 has a laser inspection section 1310, a microscope section 1320, and a reticle table 1330.

【００３９】上記レーザ検査部１３１０および顕微鏡部
１３２０は、上記ペリクル検査部１２００におけるレー
ザ検査部１２１０および顕微鏡部１２２０と基本構成は
同様である。ただし、レチクル検査部１３００において
は、単体のレチクルに加えて、ペリクルが装着された状
態のレチクルについても、レチクルおよびペリクルの検
査を行う。このため、レチクル面およびペリクル面のそ
れぞれにレーザおよび顕微鏡の焦点面をそれぞれ合わせ
られるように構成される。The laser inspection unit 1310 and the microscope unit 1320 have the same basic configuration as the laser inspection unit 1210 and the microscope unit 1220 in the pellicle inspection unit 1200. However, reticle inspection section 1300 performs reticle and pellicle inspection on a reticle with a pellicle mounted thereon in addition to a single reticle. For this reason, it is configured such that the focal planes of the laser and the microscope can be respectively adjusted to the reticle plane and the pellicle plane.

【００４０】上記レチクルテーブル１３３０は、レーザ
検査部１３１０および顕微鏡部１３２０にレチクルを搬
送するためのものである。The reticle table 1330 is for transporting the reticle to the laser inspection section 1310 and the microscope section 1320.

【００４１】上記情報処理部１１００は、上記ペリクル
検査部１２００、レチクル検査部１３００から検査情報
を受け取り、ペリクル、およびレチクルが使用可能か否
かを判定するためのものである。The information processing unit 1100 receives inspection information from the pellicle inspection unit 1200 and the reticle inspection unit 1300, and determines whether the pellicle and the reticle can be used.

【００４２】次に、図１および図２を参照して、上記異
物検査装置を適用した異物検査の概略の手順について説
明する。Next, with reference to FIG. 1 and FIG. 2, a general procedure of a foreign substance inspection using the above foreign substance inspection apparatus will be described.

【００４３】先ず、単体のペリクルの検査（Ｓ１０
０）、および、単体のレチクルの検査（Ｓ２００）が、
それぞれペリクル検査部１２００、および、レチクル検
査部１３００で行われる。First, inspection of a single pellicle (S10)
0) and inspection of a single reticle (S200)
The inspection is performed by the pellicle inspection unit 1200 and the reticle inspection unit 1300, respectively.

【００４４】そして、上記ステップＳ１００における検
査を通過したペリクル、および、上記ステップＳ２００
を通過したレチクルが、ペリクル装着部１４０に搬送さ
れる。そして、ペリクル装着部１４０において、上記レ
チクルにペリクルが張り付けられ、ペリクル付きレチク
ルが組み立てられる。Then, the pellicle that has passed the inspection in step S100 and the pellicle in step S200
Is transported to the pellicle mounting unit 140. Then, in the pellicle mounting section 140, a pellicle is attached to the reticle, and a reticle with a pellicle is assembled.

【００４５】なお、上記ステップＳ１００における検査
を通過しなかったペリクルは、ペリクルライブラリ１２
０に搬送される。このとき、このペリクルの識別情報
に、ペリクルブロー（ペリクルに空気を吹き付けて、異
物を吹き飛ばすこと。）が要求されることを示す情報が
対応付けられる。The pellicles that have not passed the inspection in step S100 are stored in the pellicle library 12
Transported to zero. At this time, the pellicle identification information is associated with information indicating that a pellicle blow (blowing foreign matter by blowing air onto the pellicle) is required.

【００４６】また、上記ステップＳ２００における検査
を通過しなかったレチクルは、レチクルライブラリ１１
０に搬送される。このとき、このレチクルの識別情報
に、レチクルが要求されることを示す情報が対応付けら
れる。The reticle that has not passed the inspection in step S200 is the reticle library 11
Transported to zero. At this time, information indicating that a reticle is required is associated with the reticle identification information.

【００４７】次に、上記組み立てられたペリクル付きレ
チクルは、レチクル検査部１３００に搬送される。レチ
クル検査部１３００において、まず、ペリクル付きレチ
クルのレチクル面の検査（Ｓ４００）が行われ、この検
査を通過したペリクル付きレチクルについて、ペリクル
面の検査（Ｓ５００）が行われる。Next, the reticle with a pellicle assembled above is transported to a reticle inspection unit 1300. In the reticle inspection unit 1300, first, the reticle surface of the reticle with pellicle is inspected (S400), and the pellicle with pellicle that has passed this inspection is inspected of the pellicle surface (S500).

【００４８】上記ステップステップＳ５００における検
査を通過したペリクル付きレチクルは、レチクルライブ
ラリ１１０に搬送され、レチクルケースに収容される。The reticle with a pellicle that has passed the inspection in step S500 is transferred to the reticle library 110 and stored in a reticle case.

【００４９】なお、上記ステップＳ４００における検査
を通過しなかったペリクル付きレチクル、および、上記
ステップＳ５００における検査を通過しなかったペリク
ル付きレチクルは、それぞれのステップにおいてレチク
ルライブラリ１１０に搬送される。このとき、このペリ
クル付きレチクルの識別情報に、レチクルの洗浄が要求
されることを示す情報、または、ペリクルブローが要求
されることを示す情報が対応付けられる。The reticle with a pellicle that has not passed the inspection in step S400 and the reticle with a pellicle that has not passed the inspection in step S500 are transported to the reticle library 110 in each step. At this time, information indicating that cleaning of the reticle is required or information indicating that pellicle blowing is required is associated with the identification information of the reticle with a pellicle.

【００５０】次に、上記各検査ステップＳ１００、Ｓ２
００、Ｓ４００、Ｓ５００における処理の詳細について
説明する。Next, the above inspection steps S100 and S2
Details of the processing in 00, S400, and S500 will be described.

【００５１】ステップＳ１００におけるペリクルの検査
において、先ず、ペリクルライブラリ１２０に格納され
ているペリクルケースからペリクルが、ロボットアーム
１３０によって取り出され、ペリクル検査部１２２０の
レーザ検査部１２１０に搬送される。上記ペリクルケー
スからペリクルが取り出されるに際し、ペリクルケース
に付されている識別子からペリクル識別情報が読み取ら
れ、情報処理部１１００に送られる。In the inspection of the pellicle in step S100, first, the pellicle is taken out of the pellicle case stored in the pellicle library 120 by the robot arm 130 and transported to the laser inspection unit 1210 of the pellicle inspection unit 1220. When the pellicle is taken out of the pellicle case, the pellicle identification information is read from the identifier attached to the pellicle case and sent to the information processing unit 1100.

【００５２】レーザ検査部１２１０において、ペリクル
に付着している異物の検出が行われる（Ｓ１０１）。ペ
リクルから異物が検出されなければ、ペリクルは、ペリ
クル装着部１４０にロボットアーム１３０により搬送さ
れる。The laser inspection unit 1210 detects foreign matter adhering to the pellicle (S101). If no foreign matter is detected from the pellicle, the pellicle is transported to the pellicle mounting unit 140 by the robot arm 130.

【００５３】異物が検出された場合は、ペリクル検査部
１２００の顕微鏡部１２２０にペリクルが搬送される。
このとき、検出された異物の状態を示す異物情報（情報
Ｐ）が情報処理部１１００に送られる。異物情報は、異
物が検出された位置を示す情報と、異物の大きさを示す
情報とを含んでいる。When a foreign substance is detected, the pellicle is transported to the microscope unit 1220 of the pellicle inspection unit 1200.
At this time, foreign object information (information P) indicating the state of the detected foreign object is sent to the information processing unit 1100. The foreign object information includes information indicating the position where the foreign object is detected and information indicating the size of the foreign object.

【００５４】上記顕微鏡部１２２０では、ペリクルの異
物が検出された箇所の拡大像が観察される。そして、こ
の観察に基づいて、ペリクルが使用に耐えられる程度の
ものか否かが判定される（Ｓ１０２）。この判定の基準
については後述する。In the microscope section 1220, an enlarged image of the place where the foreign matter of the pellicle is detected is observed. Then, based on this observation, it is determined whether or not the pellicle is of a level that can be used (S102). The criteria for this determination will be described later.

【００５５】顕微鏡部１２２０で、使用に耐えられると
判定されたペリクルは、ロボットアーム１３０によりペ
リクル装着部１４０に搬送される。このとき、顕微鏡部
１２２０による検査を通過したことを示す信号が、情報
処理部１１００に送られる。これを受けて情報処理装置
１１００は、このペリクルについての異物情報（情報
Ｐ）を上記ペリクル識別情報と対応付けて格納する。The pellicle determined to be usable by the microscope unit 1220 is transferred to the pellicle mounting unit 140 by the robot arm 130. At this time, a signal indicating that the inspection has been performed by the microscope unit 1220 is sent to the information processing unit 1100. In response to this, the information processing apparatus 1100 stores the foreign substance information (information P) about the pellicle in association with the pellicle identification information.

【００５６】使用に耐えられないと判断されたペリクル
は、ペリクルライブラリ１２０に搬送され、当該ペリク
ルの識別情報を示す識別子が付されているペリクルケー
スに収容される。このとき、ペリクルブローを要求する
ことを示す情報が、上記情報処理部１１００に送られ、
上記ペリクル識別情報に対応づけられて格納される（１
０３）。また、これに併せて、「ペリクルブロー」と表
示し、ペリクルライブラリ１２０に格納されたペリクル
のブロー作業を促すことができる。The pellicle determined to be unusable is transported to the pellicle library 120 and stored in a pellicle case to which an identifier indicating identification information of the pellicle is attached. At this time, information indicating that a pellicle blow is requested is sent to the information processing unit 1100,
It is stored in association with the pellicle identification information (1).
03). At the same time, “pellicle blow” is displayed, and the pellicle blow operation stored in the pellicle library 120 can be prompted.

【００５７】次にステップＳ２００について説明する。
上記ステップＳ２００におけるレチクルの検査の基本的
な流れは、上記ステップＳ１００と同様である。Next, step S200 will be described.
The basic flow of the reticle inspection in step S200 is the same as that in step S100.

【００５８】レチクルについての検査（Ｓ２００）で
は、まず、レチクルライブラリ１１０に格納されている
レチクルケースから、レチクルローダ１５０によってレ
チクルが取り出される。このとき、レチクルケースに付
されている識別子からレチクルのレチクル識別情報が読
み取られ、情報処理部１１００に送られる。In the inspection of the reticle (S 200), first, the reticle is taken out from the reticle case stored in the reticle library 110 by the reticle loader 150. At this time, the reticle identification information of the reticle is read from the identifier attached to the reticle case and sent to the information processing unit 1100.

【００５９】取り出されたレチクルは、レチクルローダ
１５０からレチクル検査部１３００のレチクルテーブル
１３３０に受け渡され、レチクルテーブル１３３０によ
ってレーザ検査部１３１０に搬送される。The reticle taken out is transferred from the reticle loader 150 to the reticle table 1330 of the reticle inspection unit 1300, and is conveyed to the laser inspection unit 1310 by the reticle table 1330.

【００６０】レーザ検査部１３１０において、レチクル
に付着している異物の検出が行われる（Ｓ２０１）。レ
チクルに付着する異物が検出されなければ、そのレチク
ルは、レチクルテーブル１３３０、および、レチクルロ
ーダ１５０により、ペリクル装着部１４０に搬送され
る。The laser inspection unit 1310 detects foreign matter adhering to the reticle (S201). If no foreign matter adhering to the reticle is detected, the reticle is conveyed to the pellicle mounting unit 140 by the reticle table 1330 and the reticle loader 150.

【００６１】異物が検出された場合には、レチクルテー
ブル１３３０により顕微鏡部１３２０に搬送される。こ
のとき、検出された異物の状態を示す異物情報（情報
Ｌ）が情報処理部１１００に送られる。異物情報は、異
物が検出された位置を示す情報と、異物の大きさを示す
情報とを含んでいる。When a foreign substance is detected, the foreign substance is transferred to the microscope unit 1320 by the reticle table 1330. At this time, foreign matter information (information L) indicating the state of the detected foreign matter is sent to the information processing unit 1100. The foreign object information includes information indicating the position where the foreign object is detected and information indicating the size of the foreign object.

【００６２】顕微鏡部１３２０では、異物が検出された
部位が顕微鏡の視野に導入され、レチクルの拡大像が観
察される。この観察に基づいて、ペリクルが使用に耐え
られる程度のものか否かが判定される（Ｓ２０２）。こ
の判定の基準については後述する。In the microscope section 1320, the portion where the foreign matter is detected is introduced into the visual field of the microscope, and an enlarged image of the reticle is observed. Based on this observation, it is determined whether the pellicle is of such a degree that it can be used (S202). The criteria for this determination will be described later.

【００６３】上記ステップＳ２０２で、使用に耐えられ
ると判定された場合には、そのレチクルはレチクルロー
ダ１５０によりペリクル装着部１４０に搬送される。ま
た、上記レーザ検査部１３２０における異物情報（情報
Ｌ）を上記レチクル識別情報に対応付けて格納する。If it is determined in step S 202 that the reticle can be used, the reticle is conveyed to the pellicle mounting section 140 by the reticle loader 150. In addition, foreign matter information (information L) in the laser inspection unit 1320 is stored in association with the reticle identification information.

【００６４】また、使用に耐えられないと判断された場
合には、レチクルローダ１５０によりレチクルライブラ
リ１１０に搬送され、そのレチクルの識別情報を示す識
別子が付されているレチクルケースに収容される。この
とき、レチクルを洗浄することを示す情報が、上記情報
処理部１１００に送られ、上記レチクル識別情報に対応
づけて格納される（Ｓ２０３）。また、これに併せて、
このとき、「洗浄必要」と表示し、レチクルライブラリ
１１０に格納されたレチクルの洗浄を促してもよい。If it is determined that the reticle cannot be used, the reticle is loaded into the reticle library 110 by the reticle loader 150 and stored in a reticle case to which an identifier indicating identification information of the reticle is attached. At this time, information indicating that the reticle is to be cleaned is sent to the information processing unit 1100 and stored in association with the reticle identification information (S203). In addition,
At this time, a message “cleaning required” may be displayed to prompt the user to clean the reticle stored in the reticle library 110.

【００６５】次に上記ステップＳ４００について説明す
る。Next, step S400 will be described.

【００６６】上記ステップＳ４００における検査では、
先ず、ペリクル付きレチクルがレチクルテーブル１３３
０によりレーザ検査部１３１０に搬送され、異物の検出
が行われる（Ｓ４０１）。そして、この検査結果を情報
処理部１１００に送る。情報処理部１１００において、
この検査結果に含まれる識別情報を含む検査情報を、格
納している検査情報から検索する。そして検索された検
査情報に含まれる異物情報（情報Ｌ）と、今回取得され
た異物情報とを比較する（Ｓ４１０）。これらの異物情
報が、予め定められた範囲で一致する場合は、このレチ
クル面の検査を通過させ、ステップＳ５００に進む。In the inspection in step S400,
First, the reticle with pellicle is placed on the reticle table 133.
In step S401, the sheet is transported to the laser inspection unit 1310 to detect a foreign substance. Then, the inspection result is sent to the information processing unit 1100. In the information processing unit 1100,
The inspection information including the identification information included in the inspection result is searched from the stored inspection information. Then, the foreign substance information (information L) included in the retrieved inspection information is compared with the foreign substance information acquired this time (S410). If these pieces of foreign matter information match within a predetermined range, the inspection is passed through the reticle surface, and the process proceeds to step S500.

【００６７】上記ステップＳ４１０での結果の比較が一
致しない場合には、ペリクル付きレチクルは、レチクル
テーブル１３３０により顕微鏡部１３２０に搬送され
る。そして、上記情報Ｌと異なるデータが定義されてい
る異物が検出された部位が顕微鏡視野に導入され、拡大
像が観察される。そして、この観察に基づいて、レチク
ル面が使用に耐え得るか否かを判定する（Ｓ４０２）。
この観察の結果、使用に耐えられると判定された場合に
は検査を通過させ、ステップＳ５００に進む。If the comparison of the results in step S410 does not match, the reticle with pellicle is transported to the microscope unit 1320 by the reticle table 1330. Then, a part where a foreign substance in which data different from the information L is defined is detected is introduced into the visual field of the microscope, and an enlarged image is observed. Then, based on this observation, it is determined whether the reticle surface can withstand use (S402).
As a result of this observation, if it is determined that the device can be used, the inspection is passed, and the process proceeds to step S500.

【００６８】また、使用に耐えられないと判断された場
合には、ペリクル付きレチクルは、レチクルローダ１５
０によりレチクルライブラリ１１０に搬送される。この
とき、レチクルの洗浄が要求されることを示す情報が、
上記情報処理部１１００に送られ、上記ペリクル識別情
報に対応づけられて格納される（Ｓ４０３）。また、こ
れに併せて、「洗浄必要」とアナウンスし、レチクルラ
イブラリ１１０に格納されたペリクル付きレチクルの洗
浄作業を促すことができる。When it is determined that the reticle cannot be used, the reticle with the pellicle is put into the reticle loader 15.
0 is transferred to the reticle library 110. At this time, information indicating that cleaning of the reticle is required,
The information is sent to the information processing unit 1100 and stored in association with the pellicle identification information (S403). At the same time, it is announced that “cleaning is necessary”, and it is possible to prompt a cleaning operation of the reticle with a pellicle stored in the reticle library 110.

【００６９】次に、上記ステップＳ５００について説明
する。ステップＳ５００におけるペリクル検査の基本的
な流れは、上記ステップＳ４００における検査と同様で
ある。Next, step S500 will be described. The basic flow of the pellicle inspection in step S500 is the same as the inspection in step S400.

【００７０】ステップＳ５００では、先ず、レーザ検査
部１３１０において、ペリクル付きレチクルのペリクル
面について異物の検出が行われる（Ｓ５０１）。そし
て、この検査結果を情報処理部１１００に送る。情報処
理部１１００において、この検査結果に含まれる識別情
報を含む検査情報を、格納している検査情報から検索す
る。そして検索された検査情報に含まれる異物情報（情
報Ｐ）と、今回取得された異物情報とを比較する（Ｓ５
１０）。これらの異物情報が、予め定められた範囲で一
致する場合は、このペリクル面の検査を通過させる。そ
して、ペリクル付きレチクルをレチクルテーブル１３３
０およびレチクルローダ１５０によって、レチクルライ
ブラリ１１０に搬送する。これに併せて、情報処理装置
１１００に拡大像の観察による検査を通過したことを通
知する。情報処理装置１１００は、このレチクルの識別
情報と、ペリクル付きレチクルが使用可能であることを
示す情報を対応付けて格納する上記ステップＳ５１０で
の結果の比較が一致しない場合、ペリクル付きレチクル
は、レチクルテーブル１３３０により顕微鏡部１３２０
に搬送される。そして、上記情報Ｐと異なるデータが定
義されている異物が検出された部位が顕微鏡視野に導入
され、拡大像が観察される。そして、この観察に基づい
て、ペリクル面が使用に耐え得るか否かを判定する（Ｓ
５０２）。この観察の結果、使用に耐えられると判定さ
れた場合には検査を通過させる。そして、ペリクル付き
レチクルは、レチクルテーブル１３３０およびレチクル
ローダ１５０によって、レチクルライブラリ１１０に搬
送される。これに併せて、情報処理装置１１００に検査
を通過したことを通知する。情報処理装置１１００は、
このレチクル識別情報と、ペリクル付きレチクルが使用
可能であることを示す情報とを対応付けて格納する。In step S500, first, the laser inspection unit 1310 detects foreign matter on the pellicle surface of the reticle with a pellicle (S501). Then, the inspection result is sent to the information processing unit 1100. The information processing unit 1100 searches the stored test information for test information including the identification information included in the test result. Then, the foreign substance information (information P) included in the retrieved inspection information is compared with the foreign substance information acquired this time (S5).
10). When these pieces of foreign matter information match within a predetermined range, the inspection is passed through the pellicle surface inspection. Then, the reticle with the pellicle is placed on the reticle table 133.
The reticle is transferred to the reticle library 110 by the reticle loader 150 and the reticle loader 150. At the same time, the information processing apparatus 1100 is notified that the inspection by observing the enlarged image has passed. If the comparison of the result in step S510 in which the identification information of the reticle and the information indicating that the reticle with pellicle is usable is not matched, the information processing apparatus 1100 determines that the reticle with pellicle is a reticle. The microscope unit 1320 by the table 1330
Transported to Then, a portion where a foreign substance in which data different from the information P is defined is detected is introduced into the visual field of the microscope, and an enlarged image is observed. Then, based on this observation, it is determined whether or not the pellicle surface can withstand use (S
502). As a result of this observation, if it is determined that the device can be used, the inspection is passed. Then, the reticle with the pellicle is transported to the reticle library 110 by the reticle table 1330 and the reticle loader 150. At the same time, the information processing apparatus 1100 is notified that the inspection has passed. The information processing device 1100 includes:
The reticle identification information is stored in association with information indicating that the reticle with pellicle is usable.

【００７１】また、使用不可能と判断された場合には、
このとき、ペリクルブローが要求されることを示す情報
が、上記情報処理部１１００に送られ、上記ペリクル識
別情報に対応づけられて格納される（Ｓ５０３）。ま
た、このペリクル付きレチクルは、レチクルテーブル１
３３０、レチクルローダ１５０によりレチクルライブラ
リ１１０に搬送される。また、これに併せて、「ペリク
ルブロー」とアナウンスし、レチクルライブラリ１１０
に格納されたペリクル付きレチクルの洗浄作業を促すこ
とができる。If it is determined that the device cannot be used,
At this time, information indicating that a pellicle blow is requested is sent to the information processing unit 1100 and stored in association with the pellicle identification information (S503). In addition, this reticle with a pellicle is mounted on a reticle table 1
The reticle is transferred to the reticle library 110 by the reticle loader 150. At the same time, “Pellicle Blow” was announced and the reticle library 110
Cleaning of the reticle with pellicle stored in the reticle.

【００７２】次に、図４を参照して、ペリクル付きレチ
クルに付着する異物について説明する。Next, foreign substances adhering to the reticle with a pellicle will be described with reference to FIG.

【００７３】図４に示すように、ペリクルが装着された
レチクルであっても、ペリクルで囲まれた空間に異物が
発生してしまうことがある。ペリクル付きレチクルが投
影露光に用いられる場合、図４に示すように、ペリクル
の裏面側から集束光が、その集束面がレチクルの表面と
なるように投射される。このため、レチクルの表面にお
ける異物の付着が、ウェハに転写されるパターンに最も
影響を与え、ペリクルの面の異物の影響は最も小さくな
る。レチクルの表面以外の面については、集束光の集束
角を大きくすることにより、その面の付着した異物によ
る像をぼかすことができるからである。As shown in FIG. 4, even if the reticle is mounted with a reticle, foreign matter may be generated in the space surrounded by the pellicle. When a reticle with a pellicle is used for projection exposure, as shown in FIG. 4, convergent light is projected from the back side of the pellicle such that the converging surface becomes the front surface of the reticle. For this reason, the adhesion of foreign matter on the surface of the reticle has the greatest influence on the pattern transferred to the wafer, and the foreign matter on the surface of the pellicle has the least effect. This is because, for a surface other than the surface of the reticle, by increasing the convergence angle of the converged light, it is possible to blur the image due to the foreign matter attached to the surface.

【００７４】とこで、ペリクルの表面であっても、不透
明膜７４に付着した異物８６は、元々、光が透過されな
い部分に付着しているため、ウェハに転写されるパター
ンには影響を与えない。このため、このような異物８６
が検出されたとしても、このペリクル付きレチクルを排
除したり、洗浄、ブローなどを行う必要はない。Here, even on the surface of the pellicle, the foreign matter 86 attached to the opaque film 74 is originally attached to a portion through which light is not transmitted, and thus does not affect the pattern transferred to the wafer. . Therefore, such a foreign substance 86
Even if is detected, there is no need to remove the pellicle-equipped reticle, or perform cleaning, blowing, or the like.

【００７５】しかし、可干渉光の散乱による異物検査で
は、検出された異物が、レチクルの透過部分に付着して
いるのか、不透明部分に付着しているのかは区別されな
い。このため、レチクルの異物が付着した部位の拡大像
を観察して、その部位が、透過部分であるのか不透明部
分であるのかを考慮して、レチクルが使用可能な否かを
判定している。However, in the foreign substance inspection based on the scattering of the coherent light, it is not distinguished whether the detected foreign substance is attached to the transmissive portion or the opaque portion of the reticle. For this reason, an enlarged image of a portion of the reticle to which foreign matter has adhered is observed, and it is determined whether the reticle can be used in consideration of whether the portion is a transparent portion or an opaque portion.

【００７６】また、レチクルの表面７１ａ以外の面、す
なわち、レチクルの裏面７１ｂ、および、ペリクル７２
ａ，７２ｂの面に付着した異物であっても、その大きさ
によっては、ウェハに転写されるパターンを乱す場合が
ある、また、ペリクル付きレチクルの移動などに伴っ
て、これらの面に付着している異物が、レチクルの表面
７１ａに移動する場合がある。従って、これらの面につ
いても異物検査を行うことが好ましい。Further, the surface other than the front surface 71a of the reticle, that is, the back surface 71b of the reticle, and the pellicle 72
Even if foreign matter adheres to the surfaces a and 72b, the pattern transferred to the wafer may be disturbed depending on the size of the foreign matter, and the foreign matter adheres to these surfaces due to the movement of the reticle with a pellicle. There is a case where the foreign matter moves to the surface 71a of the reticle. Therefore, it is preferable to perform a foreign substance inspection on these surfaces as well.

【００７７】レチクルの表面７１ａ以外の面に付着する
異物であっても、例えば、異物８８のように、不透明膜
７４によって投射光が遮られる部位に付着している異物
は、ウェハに転写されるパターンの欠陥を引き起こさな
い。このため、レチクルの表面７１ａ以外の面について
も拡大像の観察による判定が要求される。Even if the foreign matter adheres to a surface other than the front surface 71a of the reticle, the foreign matter such as the foreign matter 88, which adheres to a portion where the projection light is blocked by the opaque film 74, is transferred to the wafer. Does not cause pattern defects. For this reason, it is required to determine the surface other than the surface 71a of the reticle by observing the enlarged image.

【００７８】このような拡大像の観察による判定は、例
えば、人間が顕微鏡を覗き、その像を観察して判定を行
うことができる。また、拡大像のイメージ情報を撮像装
置により取得し、このイメージ情報を用いて判定しても
よい。撮像装置としては、例えば、ＣＣＤカメラなどを
用いることができる。The determination based on the observation of the magnified image can be made by, for example, a person looking into a microscope and observing the image. Alternatively, the image information of the enlarged image may be acquired by the imaging device, and the determination may be made using the image information. As the imaging device, for example, a CCD camera or the like can be used.

【００７９】次に、図５および図６を参照して、上記情
報処理部における、異物情報の比較判定の基準について
説明する。Next, with reference to FIG. 5 and FIG. 6, the criterion for comparing and judging foreign substance information in the information processing section will be described.

【００８０】情報処理部１１００（図１参照）は、現に
取得された異物情報と、それ以前に取得され格納してい
る異物情報とを比較して、その異物情報が示す異物がパ
ターンを乱すものであるか否かを判定している。上記格
納している異物情報は、レーザ検査部１２１０，１３１
０（図１参照）における散乱光による異物検出で検出さ
れた異物であって、顕微鏡部１２２０，１３２０（図１
参照）における拡大像の観察で、使用可能と判定された
異物について、その位置と大きさとを示す情報を含んで
いる。The information processing unit 1100 (see FIG. 1) compares the currently acquired foreign substance information with the previously acquired and stored foreign substance information and determines that the foreign substance indicated by the foreign substance information disturbs the pattern. Is determined. The stored foreign substance information is stored in the laser inspection units 1210 and 131.
0 (see FIG. 1), the foreign matter detected by the foreign matter detection by the scattered light, and the microscope units 1220 and 1320 (FIG. 1).
) Includes information indicating the position and size of a foreign object determined to be usable in the observation of the enlarged image in (2).

【００８１】ここで、レーザ検査部で取得される異物情
報の位置精度は、可干渉光のスポットサイズ、ビームス
キャナの位置決め精度、レチクルまたはペリクルを支持
するステージの位置決め精度などよる誤差を含んでい
る。また、大きさについても、異物が付着する状態の変
化などに伴う変動が考えられる。このため、上記異物情
報の比較においては、その差異が、予め定められる範囲
内にあれば、一致していると判定している。Here, the positional accuracy of the foreign substance information obtained by the laser inspection unit includes an error due to the spot size of the coherent light, the positioning accuracy of the beam scanner, the positioning accuracy of the stage supporting the reticle or pellicle, and the like. . Also, the size may be changed due to a change in a state where foreign matter is attached. Therefore, in the comparison of the foreign substance information, if the difference is within a predetermined range, it is determined that they match.

【００８２】例えば、ある位置決め許容範囲について、
図５に示すような、異物情報が与えられる場合には、基
準ランク以上の大きさを有する異物は、前回と同一であ
ると判定し、レチクル（ペリクル）は使用可能であると
判断する。For example, for a certain positioning allowable range,
When foreign matter information is provided as shown in FIG. 5, a foreign matter having a size equal to or larger than the reference rank is determined to be the same as the previous time, and a reticle (pellicle) is determined to be usable.

【００８３】また、図６に示すような、異物情報が与え
られる場合には、基準ランク以上であって、かつ、前回
検出されなかった異物が検出されたものと判定し、レチ
クル（ペリクル）は使用不可能であると判断する。When foreign matter information as shown in FIG. 6 is given, it is determined that a foreign matter which is equal to or higher than the reference rank and has not been detected last time is detected, and the reticle (pellicle) is It is determined that it cannot be used.

【００８４】本実施の形態における異物検査装置によれ
ば、拡大像の観察に基づいて使用可能であると既に判定
されている異物については、再度拡大像の観察を要求す
ることを省略することができる。このため、拡大像の観
察による検査工数を省略し、全体として、異物検査、ペ
リクル組立のスループットを向上させることができる。According to the foreign matter inspection apparatus of the present embodiment, it is possible to omit the request for observing the enlarged image again for the foreign matter that has been determined to be usable based on the observation of the enlarged image. it can. For this reason, the number of inspection steps for observing an enlarged image can be omitted, and the throughput of foreign substance inspection and pellicle assembly can be improved as a whole.

【００８５】次に、図７および図８を参照して、本発明
の第２の実施の形態について説明する。Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【００８６】本実施の形態は、干渉光の散乱により異物
検出を行うレーザ検査装置、および、指定箇所のレチク
ル（ペリクル）の状態を観察するための顕微鏡検査装置
からの検査情報に基づいて、顕微鏡検査装置における検
査の要否を判定するためのものである。In this embodiment, a microscope is used on the basis of inspection information from a laser inspection apparatus for detecting foreign matter by scattering of interference light and a microscopic inspection apparatus for observing the state of a reticle (pellicle) at a specified location. This is for determining the necessity of the inspection in the inspection device.

【００８７】図７において、情報処理装置１１００は、
処理を実行するための演算装置１１１０と、演算装置が
処理を実行するための手順が記述されたプログラムが格
納され、また、演算装置１１１０で処理された情報を記
憶するための記憶装置１１２０と、情報の送受信を行う
ためのインタフェース１１３０とを有して構成される。In FIG. 7, the information processing device 1100
An arithmetic device 1110 for executing the processing, a storage device 1120 for storing a program describing a procedure for the arithmetic device to execute the process, and for storing information processed by the arithmetic device 1110; And an interface 1130 for transmitting and receiving information.

【００８８】情報処理装置１１００は、上記インタフェ
ース１１３０を介して、レーザ検査装置から、被検体の
識別情報と、異物情報とを含む検査情報、を受け付け
る。また、顕微鏡検査装置から、被検体が使用可能であ
るか否かを示す情報を含む検査情報を受け付ける。The information processing apparatus 1100 receives, via the interface 1130, inspection information including identification information of the subject and foreign substance information from the laser inspection apparatus. Further, inspection information including information indicating whether or not the subject can be used is received from the microscope inspection apparatus.

【００８９】そして、上記受け付けた検査情報、記憶装
置１１２０に格納されている情報について、予め定めれ
た情報処理を上記演算装置１１１０により行い、顕微鏡
検査装置における検査を要求するか否かを判定する。こ
の情報処理は、例えば、図８に示すような手順で行うこ
とができる。Then, predetermined information processing is performed by the arithmetic unit 1110 on the received inspection information and the information stored in the storage device 1120, and it is determined whether or not an inspection by the microscope inspection device is required. . This information processing can be performed, for example, according to the procedure shown in FIG.

【００９０】本実施の形態によれば、既に顕微鏡検査装
置で使用可能と判定されている異物が、レーザ検査装置
で検出されたとき、この異物に関する顕微鏡検査装置で
の検査の要求を省くことができる。According to the present embodiment, when a laser inspection device detects a foreign substance that has already been determined to be usable by the microscope inspection apparatus, it is possible to omit the request for inspection of the foreign substance by the microscope inspection apparatus. it can.

【００９１】[0091]

【発明の効果】本発明によれば、組立前の検査で、使用
可能と判定された異物が、組立後に再度検出されても、
この異物についての拡大像の観察が不要であることを検
知することができる。従って、顕微鏡部を用いた不要な
検査を省略することができる。従って、異物検査の工
程、および、ペリクル付きレチクルの組立工程における
スループットを向上させることができる。According to the present invention, even if a foreign object determined to be usable in the inspection before assembly is detected again after assembly,
It is possible to detect that the observation of the enlarged image of the foreign matter is unnecessary. Therefore, unnecessary inspection using the microscope unit can be omitted. Therefore, it is possible to improve the throughput in the foreign matter inspection process and the pellicle-attached reticle assembling process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】 第１の実施形態における異物検査装置の構成
を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of a foreign substance inspection device according to a first embodiment.

【図２】 第１の実施形態における異物検査の手順を示
すフローチャートである。FIG. 2 is a flowchart illustrating a procedure of a foreign substance inspection according to the first embodiment.

【図３】 レチクル付きペリクルの側面図である。FIG. 3 is a side view of a pellicle with a reticle.

【図４】 異物が付着したレチクル付きペリクルの側面
図である。FIG. 4 is a side view of a pellicle with a reticle to which foreign matter has adhered.

【図５】 投射露光工程で使用可能と判断される異物が
付着したレチクルの裏面を模式的に示す平面図であっ
て、（ａ）拡大像の観察に基づいて前回の使用可能と判
断された測定結果、（ｂ）今回検出された異物の測定結
果である。FIG. 5 is a plan view schematically showing a back surface of a reticle to which foreign matter judged to be usable in the projection exposure process is adhered, and (a) it was judged that the previous use was possible based on observation of an enlarged image; (B) The measurement result of the foreign substance detected this time.

【図６】 投射露光工程で使用不可能と判断される異物
が付着したレチクルの裏面を模式的に示す平面図であっ
て、（ａ）拡大像の観察に基づいて前回の使用可能と判
断された測定結果、（ｂ）今回検出された異物の測定結
果である。FIG. 6 is a plan view schematically showing the back surface of a reticle to which foreign matter judged to be unusable in the projection exposure process is adhered, and (a) it is determined that the previous use is possible based on observation of an enlarged image; (B) is the measurement result of the foreign substance detected this time.

【図７】 本発明の第２の実施の形態における情報処理
装置の構成を示すブロック図である。FIG. 7 is a block diagram illustrating a configuration of an information processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図８】 本発明の第２の実施の形態における情報処
理装置の演算装置の処理の手順を示すフローチャートで
ある。FIG. 8 is a flowchart illustrating a procedure of processing performed by an arithmetic unit of the information processing apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

７１…レチクル基板、７１ａ…レチクル表面、７２ａ…
レチクル裏面、７２ａ、７２ｂ…ペリクル。７３…ペリ
クル枠、７４…不透明膜、５０…位置決め許容範囲、５
１〜５８、６１、６２、８１、８４、８５、８６、８
８、８７…異物、１００…レチクル組立装置、１１０…
レチクルライブラリ、１２０…ペリクルライブラリ、１
３０…ロボットアーム、１４０…ペリクル装着部、１５
０…レチクルローダ、１０００…異物検査装置、１１０
０…情報処理装置、１１１０…演算装置、１１２０…記
憶装置、１１３０…インタフェース、１２００…ペリク
ル検査部、１２１０…レーザ検査部、１２２０…顕微鏡
部、、１３００…レチクル検査部、１３１０…レーザ検
査部、１３２０…顕微鏡部、１３３０…レチクルテーブ
ル。71: reticle substrate, 71a: reticle surface, 72a:
Reticle back surface, 72a, 72b ... pellicle. 73: pellicle frame, 74: opaque film, 50: positioning allowable range, 5
1 to 58, 61, 62, 81, 84, 85, 86, 8
8, 87: foreign matter, 100: reticle assembly device, 110:
Reticle library, 120 ... pellicle library, 1
30 ... Robot arm, 140 ... Pellicle mounting part, 15
0: reticle loader, 1000: foreign matter inspection device, 110
0: information processing device, 1110: arithmetic device, 1120: storage device, 1130: interface, 1200: pellicle inspection unit, 1210: laser inspection unit, 1220: microscope unit, 1300: reticle inspection unit, 1310: laser inspection unit 1320: microscope section, 1330: reticle table.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 パターンが形成されたレチクル、およ
び、レチクルにペリクル装着して組み立てられたペリク
ル付きレチクルの異物を検査するための異物検査装置に
おいて、 レチクルの識別情報を取得するための識別情報取得手段
と、 被検面に付着している異物を検出し、異物が付着してい
る位置を含む異物情報を取得するための異物検出手段
と、 被検面の指定された位置を観察して、その箇所に付着し
ている異物により被検面の使用が妨げられるか否かを示
す観察情報を取得するための観察手段と、 上記異物検出手段および観察手段によって取得された情
報を記憶するための記憶手段と、 上記各手段から受け付けた情報を処理し、かつ、上記各
手段を制御するための制御手段とを有し、 上記制御手段は、 組み立てられる前のレチクルの識別情報を上記識別情報
取得手段により取得させ、これを受け付け、 上記識別情報を取得したレチクルついて、付着している
異物を、上記異物検出手段に検出させて、取得された異
物情報を受け付け、 異物が検出されたとき、上記異物情報が示す位置を、上
記観察手段に観察させて、取得された観察情報を受け付
け、 上記観察情報が、被検面の使用が妨げられないことを示
すとき、上記異物情報を上記識別情報と対応付けて上記
記憶装置に記憶させ、 組み立てられたペリクル付きレチクルの識別情報を上記
識別情報取得手段により取得させ、これを受け付け、 上記識別情報を取得したペリクル付きレチクルついて、
付着している異物を、上記異物検出手段に検出させて、
取得された異物情報を受け付け、 異物が検出されたとき、上記識別情報と対応付けられた
異物情報を上記記憶装置から検索し、 検索された異物情報が示す位置と、今回受け付けた異物
情報が示す位置との差異が予め定められた範囲内にある
とき、当該位置にある異物は、レチクルの使用を妨げな
いと判定することを特徴とする異物検査装置。1. A foreign matter inspection apparatus for inspecting foreign matter in a reticle on which a pattern is formed and a reticle with a pellicle assembled by mounting the pellicle on the reticle, acquiring identification information for acquiring identification information of the reticle. Means, foreign matter detecting means for detecting foreign matter attached to the surface to be detected, and obtaining foreign matter information including the position where the foreign matter is attached, observing the designated position of the surface to be measured, An observing unit for acquiring observation information indicating whether or not use of the surface to be inspected is hindered by a foreign substance attached to the location; and an observing unit for storing the information acquired by the foreign substance detecting unit and the observing unit. A storage unit, and a control unit for processing information received from each of the units, and for controlling each of the units, wherein the control unit is configured to control a reticle before being assembled. Another information is acquired by the identification information acquisition means, and the acquired information is received. The foreign matter detecting means detects the attached foreign matter on the reticle from which the identification information is acquired, and the acquired foreign matter information is received. Is detected, the position indicated by the foreign substance information is observed by the observation means, and the acquired observation information is received. When the observation information indicates that use of the surface to be inspected is not hindered, Foreign matter information is stored in the storage device in association with the identification information, identification information of the assembled pellicle-equipped reticle is acquired by the identification information acquisition means, and the identification information is received. ,
The adhering foreign matter is detected by the foreign matter detecting means,
The acquired foreign substance information is received, and when the foreign substance is detected, the foreign substance information associated with the identification information is retrieved from the storage device, and the position indicated by the retrieved foreign substance information and the foreign substance information received this time are indicated. When the difference from the position is within a predetermined range, it is determined that the foreign matter at the position does not hinder the use of the reticle. 【請求項２】 パターンが形成されたレチクル、およ
び、レチクルにペリクル装着して組み立てられたペリク
ル付きレチクルの異物を検査するための異物検査方法に
おいて、 組立前のペリクルについて異物検査を行う第１の異物検
査ステップと、 組立後のペリクル付きレチクルのレチクルについて異物
検査を行う第２の異物検査ステップとを有し、 上記第１の異物検査ステップにおいて、上記レチクルに
付着する異物を検出し、 異物が検出されたとき、レチクルの異物が検出された位
置が使用可能か否かを検査し、 レチクルが使用可能であるとき、このペリクルを識別す
るための識別情報と対応付けて、異物が検出された位置
を記憶し、 上記第２の異物検査ステップにおいて、上記ペリクル付
きレチクルに付着する異物を検出し、 異物が検出されたとき、当該ペリクル付きレチクルに含
まれるレチクルの識別情報と対応づけられた異物情報を
記憶している異物情報から検索し、 検索された異物情報が示す異物の位置と、今回取得した
異物の位置とが予め定められた範囲内にあるとき、当該
異物によってペリクル付きレチクルの使用は妨げられな
いと判定することを特徴とする異物検査方法。2. A foreign matter inspection method for inspecting foreign matter of a reticle on which a pattern is formed and a reticle with a pellicle assembled by mounting the pellicle on the reticle, wherein a foreign matter inspection is performed on the pellicle before assembly. A foreign matter inspection step of performing a foreign matter inspection on the reticle of the reticle with the pellicle after assembly, wherein the first foreign matter inspection step detects foreign matter adhering to the reticle; When it is detected, the position of the reticle at which the foreign matter is detected is inspected to determine whether or not the foreign matter is available. When the reticle is usable, the foreign matter is detected in association with the identification information for identifying the pellicle. The position is stored, and in the second foreign matter inspection step, foreign matter adhering to the reticle with a pellicle is detected. When issued, a search is performed from the foreign substance information that stores the foreign substance information associated with the reticle identification information included in the reticle with the pellicle, the position of the foreign substance indicated by the retrieved foreign substance information, and the foreign substance acquired this time. When the position of the reticle is within a predetermined range, it is determined that use of the reticle with pellicle is not hindered by the foreign matter. 【請求項３】 パターンが形成されたレチクル、およ
び、レチクルにペリクルが装着されたペリクル付きレチ
クルについて、異物の有無および位置を含む異物情報が
取得される異物検出、ならびに、被検面の指定された位
置が使用可能な否かを示す観察情報が取得される被検面
観察のうち、少なくとも異物検出が行われ、かつ、検査
対象のレチクルを識別するための識別情報が読み取られ
る異物検査における被検面観察の要否を判定するための
情報処理装置において、 検査対象となるレチクルの識別情報を受け付け、異物検
出が行われるに際し、取得される異物情報を受け付け、
かつ、被検面観察が行われるに際し、取得される観察情
報を受け付けるための入力手段と、 上記異物情報および観察情報を上記識別情報に対応づけ
て記憶するための記憶手段と、 上記入力手段により受け付けられた情報、および、上記
記憶手段に記憶されている情報に基づいて、上記被検面
観察の要否を判定するための演算手段と、 上記判定された結果を出力するための出力手段とを有
し、 上記演算手段は、 ペリクル付きレチクルについて異物検出が行われるに際
し、当該ペリクル付きレチクルに含まれるレチクルの識
別情報と対応付けて記憶されている異物情報を検索し、 該当する異物情報が検索され、かつ、検索された異物情
報と、上記入力手段により受け付けられた異物情報との
差異が予め定められた範囲内にあるとき、上記ペリクル
付きレチクルについての上記被検面観察が不要であると
判定し、 上記判定結果を上記出力手段によって出力することを特
徴とする情報処理装置。3. A foreign object detection for obtaining foreign object information including presence / absence and position of a foreign object with respect to a reticle on which a pattern is formed and a reticle with a pellicle having a pellicle mounted on the reticle, and designation of a surface to be inspected. In the surface observation where the observation information indicating whether the used position is usable is obtained, at least a foreign object is detected, and the identification information for identifying the reticle to be inspected is read. In the information processing apparatus for determining whether or not the inspection of the inspection surface is required, the identification information of the reticle to be inspected is received, and when the foreign object is detected, the acquired foreign object information is received.
And, when the surface to be inspected is performed, input means for receiving the obtained observation information, storage means for storing the foreign substance information and the observation information in association with the identification information, and the input means Based on the received information and the information stored in the storage unit, an arithmetic unit for determining whether or not the observation of the test surface is necessary, and an output unit for outputting the determined result. When the foreign substance detection is performed on the reticle with a pellicle, the arithmetic unit searches for foreign substance information stored in association with the identification information of the reticle included in the reticle with the pellicle. When the difference between the retrieved foreign substance information and the foreign substance information received by the input unit is within a predetermined range, the The test surface observation is determined to be unnecessary for the Le reticle with, the determination result information processing apparatus and outputting by said output means.