JPH10260435A - 光制御装置 - Google Patents
光制御装置Info
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- JPH10260435A JPH10260435A JP6301797A JP6301797A JPH10260435A JP H10260435 A JPH10260435 A JP H10260435A JP 6301797 A JP6301797 A JP 6301797A JP 6301797 A JP6301797 A JP 6301797A JP H10260435 A JPH10260435 A JP H10260435A
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- spatial light
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来例に比較して回折の角度を大きくするこ
とができ、スポット光のパターンの解像度を高くするこ
とができ、しかも構成が簡単である光制御装置を提供す
る。 【解決手段】 空間光変調素子10は、入力される書き
込み光の強度によって、読み出し光の強度又は位相を変
調して、変調した読み出し光を出力し、空間光変調素子
10から出力される変調した読み出し光を空間光変調素
子10に対して書き込み光として所定の帰還光路を介し
て帰還する。空間周波数フィルタ16は、帰還光路に設
けられ、空間光変調素子10から出力される変調した読
み出し光のうち所定の空間周波数のみをろ波して空間光
変調素子10に出力する。さらに、出力手段を構成する
ハーフミラー37は、空間光変調素子10から出力され
る変調した読み出し光の一部を取り出し、出力光として
取り出す。
とができ、スポット光のパターンの解像度を高くするこ
とができ、しかも構成が簡単である光制御装置を提供す
る。 【解決手段】 空間光変調素子10は、入力される書き
込み光の強度によって、読み出し光の強度又は位相を変
調して、変調した読み出し光を出力し、空間光変調素子
10から出力される変調した読み出し光を空間光変調素
子10に対して書き込み光として所定の帰還光路を介し
て帰還する。空間周波数フィルタ16は、帰還光路に設
けられ、空間光変調素子10から出力される変調した読
み出し光のうち所定の空間周波数のみをろ波して空間光
変調素子10に出力する。さらに、出力手段を構成する
ハーフミラー37は、空間光変調素子10から出力され
る変調した読み出し光の一部を取り出し、出力光として
取り出す。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光の回折の角度を
変化させることにより、光の伝搬方向を変化させて、例
えばスポット光の放射位置を変化させる光制御装置に関
する。
変化させることにより、光の伝搬方向を変化させて、例
えばスポット光の放射位置を変化させる光制御装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来技術において、光の回折の角度を変
化させることにより、光の伝搬方向を変化させて、例え
ばスポット光の放射位置を変化させる従来例の光制御装
置が、例えば、従来技術文献1「W.Klaus et al.,“Mul
ti-wavefront generation withhomogeous nematic liqu
id crystal panels using distributed resistive elec
trodes,",Technolgy Digest on CLEO/Pacific Rim'95,1
995年」及び従来技術文献2「Takizawa,“Electrooptic
Fresnel lens-scanner with an array of channel wav
eguides",Applied Optics Vol.22,No.16,1983年」にお
いて開示されている。これらの従来技術文献の光制御装
置においては、電気−光学効果を持つ材料に櫛形の電極
を取り付け、電極に印加する電圧を制御することで、屈
折率分布を変化させ、これによって、例えばスポット光
の放射位置を変化させることができる。
化させることにより、光の伝搬方向を変化させて、例え
ばスポット光の放射位置を変化させる従来例の光制御装
置が、例えば、従来技術文献1「W.Klaus et al.,“Mul
ti-wavefront generation withhomogeous nematic liqu
id crystal panels using distributed resistive elec
trodes,",Technolgy Digest on CLEO/Pacific Rim'95,1
995年」及び従来技術文献2「Takizawa,“Electrooptic
Fresnel lens-scanner with an array of channel wav
eguides",Applied Optics Vol.22,No.16,1983年」にお
いて開示されている。これらの従来技術文献の光制御装
置においては、電気−光学効果を持つ材料に櫛形の電極
を取り付け、電極に印加する電圧を制御することで、屈
折率分布を変化させ、これによって、例えばスポット光
の放射位置を変化させることができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来例の光制御装置で
は、電極間の間隔を形成するための化学的処理の微細加
工の精度をこれ以上高くすることができないために、屈
折率分布の周期、すなわちスポット光の放射位置の解像
度は電極間の間隔で制限され、屈折率の変化によって生
じる回折の角度を大きくすることができなかった。
は、電極間の間隔を形成するための化学的処理の微細加
工の精度をこれ以上高くすることができないために、屈
折率分布の周期、すなわちスポット光の放射位置の解像
度は電極間の間隔で制限され、屈折率の変化によって生
じる回折の角度を大きくすることができなかった。
【0004】本発明の目的は以上の問題点を解決し、従
来例に比較して回折の角度を大きくすることができ、ス
ポット光のパターンの解像度を高くすることができ、し
かも構成が簡単である光制御装置を提供することにあ
る。
来例に比較して回折の角度を大きくすることができ、ス
ポット光のパターンの解像度を高くすることができ、し
かも構成が簡単である光制御装置を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に係る請求項1記
載の光制御装置は、入力される書き込み光の強度によっ
て、読み出し光の強度又は位相を変調して、変調した読
み出し光を出力する非線形な応答を有する空間光変調素
子と、上記空間光変調素子から出力される変調した読み
出し光を上記空間光変調素子に対して書き込み光として
所定の帰還光路を介して帰還する帰還手段と、上記帰還
光路に設けられ、上記空間光変調素子から出力される変
調した読み出し光のうち所定の空間周波数のみをろ波し
て上記空間光変調素子に出力する光学的ろ波手段と、上
記空間光変調素子から出力される変調した読み出し光の
一部を取り出し、出力光として取り出す出力手段とを備
えたことを特徴とする。
載の光制御装置は、入力される書き込み光の強度によっ
て、読み出し光の強度又は位相を変調して、変調した読
み出し光を出力する非線形な応答を有する空間光変調素
子と、上記空間光変調素子から出力される変調した読み
出し光を上記空間光変調素子に対して書き込み光として
所定の帰還光路を介して帰還する帰還手段と、上記帰還
光路に設けられ、上記空間光変調素子から出力される変
調した読み出し光のうち所定の空間周波数のみをろ波し
て上記空間光変調素子に出力する光学的ろ波手段と、上
記空間光変調素子から出力される変調した読み出し光の
一部を取り出し、出力光として取り出す出力手段とを備
えたことを特徴とする。
【0006】また、本発明に係る請求項2記載の光制御
装置は、入力される書き込み光の強度によって、読み出
し光の強度又は位相を変調して、変調した読み出し光を
出力する非線形な応答をそれぞれ有する第1と第2の空
間光変調素子と、上記第1の空間光変調素子から出力さ
れる変調した読み出し光を上記第2の空間光変調素子に
対して書き込み光として所定の第1の帰還光路を介して
帰還する第1の帰還手段と、上記第2の空間光変調素子
から出力される変調した読み出し光を上記第1の空間光
変調素子に対して書き込み光として所定の第2の帰還光
路を介して帰還する第2の帰還手段と、上記第2の帰還
光路に設けられ、上記第2の空間光変調素子から出力さ
れる変調した読み出し光のうち所定の空間周波数のみを
ろ波して上記第1の空間光変調素子に出力する光学的ろ
波手段と、上記第1の空間光変調素子から出力される変
調した読み出し光の一部を取り出し、出力光として取り
出す出力手段とを備えたことを特徴とする。
装置は、入力される書き込み光の強度によって、読み出
し光の強度又は位相を変調して、変調した読み出し光を
出力する非線形な応答をそれぞれ有する第1と第2の空
間光変調素子と、上記第1の空間光変調素子から出力さ
れる変調した読み出し光を上記第2の空間光変調素子に
対して書き込み光として所定の第1の帰還光路を介して
帰還する第1の帰還手段と、上記第2の空間光変調素子
から出力される変調した読み出し光を上記第1の空間光
変調素子に対して書き込み光として所定の第2の帰還光
路を介して帰還する第2の帰還手段と、上記第2の帰還
光路に設けられ、上記第2の空間光変調素子から出力さ
れる変調した読み出し光のうち所定の空間周波数のみを
ろ波して上記第1の空間光変調素子に出力する光学的ろ
波手段と、上記第1の空間光変調素子から出力される変
調した読み出し光の一部を取り出し、出力光として取り
出す出力手段とを備えたことを特徴とする。
【0007】さらに、請求項3記載の光制御装置は、請
求項2記載の光制御装置において、上記第1の帰還光路
に設けられ、上記第1の空間光変調素子から出力される
変調した読み出し光における位相変調成分を強度変調成
分に変換して上記第2の空間光変調素子に出力する位相
コントラストろ波手段をさらに備えたことを特徴とす
る。
求項2記載の光制御装置において、上記第1の帰還光路
に設けられ、上記第1の空間光変調素子から出力される
変調した読み出し光における位相変調成分を強度変調成
分に変換して上記第2の空間光変調素子に出力する位相
コントラストろ波手段をさらに備えたことを特徴とす
る。
【0008】また、請求項4記載の光制御装置は、請求
項1記載の光制御装置において、上記帰還手段と上記光
学的ろ波手段は、光ファイバ束により構成されたことを
特徴とする。
項1記載の光制御装置において、上記帰還手段と上記光
学的ろ波手段は、光ファイバ束により構成されたことを
特徴とする。
【0009】さらに、請求項5記載の光制御装置は、請
求項1乃至4のうちの1つに記載の光制御装置におい
て、上記空間光変調素子は、2つの電極によって挟設さ
れた、光導電膜と、誘電体ミラーと、液晶層とを備えて
なり、上記2つの電極に交流信号発生器を接続したこと
を特徴とする。
求項1乃至4のうちの1つに記載の光制御装置におい
て、上記空間光変調素子は、2つの電極によって挟設さ
れた、光導電膜と、誘電体ミラーと、液晶層とを備えて
なり、上記2つの電極に交流信号発生器を接続したこと
を特徴とする。
【0010】また、請求項6記載の光制御装置は、請求
項1記載の光制御装置において、上記空間光変調素子
は、入力光の強度によって材料内の屈折率が変化するカ
ー効果を有するLiNbO3基板を備えたことを特徴と
する。
項1記載の光制御装置において、上記空間光変調素子
は、入力光の強度によって材料内の屈折率が変化するカ
ー効果を有するLiNbO3基板を備えたことを特徴と
する。
【0011】さらに、請求項7記載の光制御装置は、請
求項6記載の光制御装置において、上記帰還手段は、フ
ァブリペロー型共振器を備えたことを特徴とする。
求項6記載の光制御装置において、上記帰還手段は、フ
ァブリペロー型共振器を備えたことを特徴とする。
【0012】さらに、請求項8記載の光制御装置は、請
求項6記載の光制御装置において、上記帰還手段は、ハ
ーフミラーを備えたことを特徴とする。
求項6記載の光制御装置において、上記帰還手段は、ハ
ーフミラーを備えたことを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明に係
る実施形態について説明する。
る実施形態について説明する。
【0014】<第1の実施形態>図1は、本発明に係る
第1の実施形態である光制御装置の構成を示すブロック
図である。この第1の実施形態は、図2に示す空間光変
調素子(以下、SLMという。)10と光学的空間フィ
ルタ16とを備えて、光の屈折率分布を変化させ、回折
の角度を変化させることを特徴とする。
第1の実施形態である光制御装置の構成を示すブロック
図である。この第1の実施形態は、図2に示す空間光変
調素子(以下、SLMという。)10と光学的空間フィ
ルタ16とを備えて、光の屈折率分布を変化させ、回折
の角度を変化させることを特徴とする。
【0015】図2に示すSLM10は、それぞれ厚さ
2.0mmの互いに対向する2枚のガラス基板11,1
5の間に、(a)厚さ1.0μmのITO電極21と、
(b)アモルファス・シリコンにてなり厚さ5.0μm
の光導電膜12と、(c)厚さ1.5μmの誘電体ミラ
ー13と、(d)密閉充填された厚さ4.5μmのネマ
ティック液晶層14と、(e)厚さ1.0μmのITO
電極22とが挟設されて構成される。
2.0mmの互いに対向する2枚のガラス基板11,1
5の間に、(a)厚さ1.0μmのITO電極21と、
(b)アモルファス・シリコンにてなり厚さ5.0μm
の光導電膜12と、(c)厚さ1.5μmの誘電体ミラ
ー13と、(d)密閉充填された厚さ4.5μmのネマ
ティック液晶層14と、(e)厚さ1.0μmのITO
電極22とが挟設されて構成される。
【0016】ここで、2つのITO電極21,22間に
低周波発振器20が接続されて、例えば1kHzの周波
数を有する低周波正弦波信号がITO電極21,22に
印加され、当該ITO電極21,22間に、低周波で変
化する電界を生じさせる。SLM10の書き込み光をガ
ラス基板11側(以下、書き込み側S1という。)から
光導電膜12及び誘電体ミラー13に向かって入射させ
るとともに、SLM10の読み出し光をガラス基板15
側(以下、読み出し側S2という。)から誘電体ミラー
13に向かって入射させる。このとき、読み出し光はガ
ラス基板15からITO電極22及びネマティック液晶
層14を介して誘電体ミラー13によって反射され、反
射された読み出し光はネマティック液晶14、ITO電
極22及びガラス基板15を介して出射される。
低周波発振器20が接続されて、例えば1kHzの周波
数を有する低周波正弦波信号がITO電極21,22に
印加され、当該ITO電極21,22間に、低周波で変
化する電界を生じさせる。SLM10の書き込み光をガ
ラス基板11側(以下、書き込み側S1という。)から
光導電膜12及び誘電体ミラー13に向かって入射させ
るとともに、SLM10の読み出し光をガラス基板15
側(以下、読み出し側S2という。)から誘電体ミラー
13に向かって入射させる。このとき、読み出し光はガ
ラス基板15からITO電極22及びネマティック液晶
層14を介して誘電体ミラー13によって反射され、反
射された読み出し光はネマティック液晶14、ITO電
極22及びガラス基板15を介して出射される。
【0017】図1に戻り、光制御装置の構成を説明す
る。図1において、フーリエ変換レンズ33、SLM1
0及びフーリエ逆変換レンズ41の光軸は、フーリエ逆
変換レンズ31の光軸と直交するとともに、フーリエ逆
変換レンズ36及びフーリエ変換レンズ38の光軸と平
行とされる。また、フーリエ逆変換レンズ36及びフー
リエ変換レンズ38の光軸はフーリエ変換レンズ42の
光軸と直交するように設定される。レーザダイオード3
0は、例えば波長0.68μmの入力光を発生して、平
行光に変換するフーリエ逆変換レンズ31を介して偏向
ビームスプリッタ32に入射する。偏向ビームスプリッ
タ32は、入射する入力光を反射角45度で反射してS
LM10の読み出し側S2に読み出し光として入射し、
このとき、SLM10から反射されてくる読み出し光は
偏向ビームスプリッタ32を通過した後、焦点光に変換
するフーリエ変換レンズ33、ミラー34、ミラー34
を用いたときのフーリエ変換レンズ33の焦点33f、
ミラー35及びフーリエ逆変換レンズ36を介してハー
フミラー37に入射する。
る。図1において、フーリエ変換レンズ33、SLM1
0及びフーリエ逆変換レンズ41の光軸は、フーリエ逆
変換レンズ31の光軸と直交するとともに、フーリエ逆
変換レンズ36及びフーリエ変換レンズ38の光軸と平
行とされる。また、フーリエ逆変換レンズ36及びフー
リエ変換レンズ38の光軸はフーリエ変換レンズ42の
光軸と直交するように設定される。レーザダイオード3
0は、例えば波長0.68μmの入力光を発生して、平
行光に変換するフーリエ逆変換レンズ31を介して偏向
ビームスプリッタ32に入射する。偏向ビームスプリッ
タ32は、入射する入力光を反射角45度で反射してS
LM10の読み出し側S2に読み出し光として入射し、
このとき、SLM10から反射されてくる読み出し光は
偏向ビームスプリッタ32を通過した後、焦点光に変換
するフーリエ変換レンズ33、ミラー34、ミラー34
を用いたときのフーリエ変換レンズ33の焦点33f、
ミラー35及びフーリエ逆変換レンズ36を介してハー
フミラー37に入射する。
【0018】ハーフミラー37は、入射した読み出し光
の一方の半分の光を反射角45度で反射した後フーリエ
変換レンズ42を介してフーリエ変換レンズ42の概略
焦点の位置に載置された出力面43に出射するととも
に、入射した読み出し光の他方の半分の光をフーリエ変
換レンズ38、ミラー39、空間周波数フィルタ16、
ミラー40及びフーリエ逆変換レンズ41を介してSL
M10の書き込み側S1に書き込み光(帰還光)として
入射する。
の一方の半分の光を反射角45度で反射した後フーリエ
変換レンズ42を介してフーリエ変換レンズ42の概略
焦点の位置に載置された出力面43に出射するととも
に、入射した読み出し光の他方の半分の光をフーリエ変
換レンズ38、ミラー39、空間周波数フィルタ16、
ミラー40及びフーリエ逆変換レンズ41を介してSL
M10の書き込み側S1に書き込み光(帰還光)として
入射する。
【0019】ここで、本実施形態の光制御装置は、帰還
光路内のフーリエ面に空間周波数フィルタ16を設けた
ことを特徴とし、空間周波数フィルタ16は、図3に示
すように、例えば黒色の平板16hに、水平方向に対し
て平行な長手方向の長さLと幅wを有する矩形スリット
16aが形成されてなり、入射する光を水平方向(横方
向)に伝搬する縦縞成分のみをろ波して出力する。ま
た、SLM10において、図2に示すように、書き込み
光は、アモルファス・シリコンにて成る光導電膜12で
吸収され、読み出し光は、誘電体ミラー13で反射され
るので、書き込み光と読み出し光は、分離されている。
それぞれの光で、わずかながら透過する場合もあるが、
図2において省略したが、書き込み光と読み出し光とを
完全に分離するために誘電体ミラー13に透過光を吸収
する吸収層を形成してもよい。
光路内のフーリエ面に空間周波数フィルタ16を設けた
ことを特徴とし、空間周波数フィルタ16は、図3に示
すように、例えば黒色の平板16hに、水平方向に対し
て平行な長手方向の長さLと幅wを有する矩形スリット
16aが形成されてなり、入射する光を水平方向(横方
向)に伝搬する縦縞成分のみをろ波して出力する。ま
た、SLM10において、図2に示すように、書き込み
光は、アモルファス・シリコンにて成る光導電膜12で
吸収され、読み出し光は、誘電体ミラー13で反射され
るので、書き込み光と読み出し光は、分離されている。
それぞれの光で、わずかながら透過する場合もあるが、
図2において省略したが、書き込み光と読み出し光とを
完全に分離するために誘電体ミラー13に透過光を吸収
する吸収層を形成してもよい。
【0020】以上のように構成された光制御装置におい
て、入力光は、低周波信号により電界が変調されたネマ
ティック液晶層14により、読み出し光の偏波が変調さ
れ誘電体ミラー13で反射される。そして、偏向ビーム
スプリッタ32により、入力光と90度だけ偏波方向が
回転した出力光のみが透過し、SLM10の書き込み側
S1に帰還される。帰還光路内のフーリエ面に置かれた
空間周波数フィルタ16によって、一定方向の空間周波
数成分のみ通過させることで、一様な縦縞状のパターン
を形成できる。この縦縞パターンで変調された読み出し
光をハーフミラー37で取り出して出力部のフーリエ変
換レンズ42で集光すると、回折の角度を変化すること
ができ、出力面43上の集光位置を変化させることがで
きる。形成される縞の周波数はSLM10における書き
込み光強度に対する読み出し光強度の特性(以下、入出
力特性という。)や、空間周波数フィルタ16のろ波周
波数及び、入力光の強度又は帰還位置のずれの調整によ
って変化させることができる。
て、入力光は、低周波信号により電界が変調されたネマ
ティック液晶層14により、読み出し光の偏波が変調さ
れ誘電体ミラー13で反射される。そして、偏向ビーム
スプリッタ32により、入力光と90度だけ偏波方向が
回転した出力光のみが透過し、SLM10の書き込み側
S1に帰還される。帰還光路内のフーリエ面に置かれた
空間周波数フィルタ16によって、一定方向の空間周波
数成分のみ通過させることで、一様な縦縞状のパターン
を形成できる。この縦縞パターンで変調された読み出し
光をハーフミラー37で取り出して出力部のフーリエ変
換レンズ42で集光すると、回折の角度を変化すること
ができ、出力面43上の集光位置を変化させることがで
きる。形成される縞の周波数はSLM10における書き
込み光強度に対する読み出し光強度の特性(以下、入出
力特性という。)や、空間周波数フィルタ16のろ波周
波数及び、入力光の強度又は帰還位置のずれの調整によ
って変化させることができる。
【0021】図4は、図2の空間光変調素子の等価回路
を示す回路図である。図4において、低周波発振器20
の電圧V0は、(a)光導電膜12における可変抵抗V
R1とキャパシタC1の並列回路と、(b)ネマティッ
ク液晶層14の抵抗R1とキャパシタC2の並列回路と
の直列回路に印加される。
を示す回路図である。図4において、低周波発振器20
の電圧V0は、(a)光導電膜12における可変抵抗V
R1とキャパシタC1の並列回路と、(b)ネマティッ
ク液晶層14の抵抗R1とキャパシタC2の並列回路と
の直列回路に印加される。
【0022】書き込み光が、光導電膜12に照射される
と、電荷の発生により可変抵抗VR1が低下する。光導
電膜12の抵抗VR1の低下にともなって、ネマティッ
ク液晶層14に印加されている電圧VLCは高くなる。電
圧VLCがかからない状態では、ネマティック液晶層14
の液晶分子は光軸をガラス基板15の面に平行に配向し
ているが、電圧VLCの上昇にしたがって光軸を、電界方
向のガラス基板15の面と垂直な向きに方向づけられ
る。このとき、読み出し光として、光軸に対して、45
度の傾きを持った直線偏光の光を入射する。この入射光
成分のうちの異常光と常光に対するネマティック液晶の
屈折率が異なるため、これら2つの光の間に位相差が生
じて光の偏光が図5のように変化する。ここで、偏光板
を置いて一方向の偏波成分だけ取れば、光の強度変調が
得られる。ここで、光が入射されない場合においても、
バイアス電圧V0が印加されているので、ネマティック
液晶層14には、幾らかかの電圧VLCが印加されてい
る。このバイアス電圧VLCを変化すると、図6及び図7
に示すように入出力特性も非線形に変化する。なお、図
6及び図7の入出力特性の結果は、図10の装置におけ
るSLM10aの特性であるが、図1の装置においても
同様である。
と、電荷の発生により可変抵抗VR1が低下する。光導
電膜12の抵抗VR1の低下にともなって、ネマティッ
ク液晶層14に印加されている電圧VLCは高くなる。電
圧VLCがかからない状態では、ネマティック液晶層14
の液晶分子は光軸をガラス基板15の面に平行に配向し
ているが、電圧VLCの上昇にしたがって光軸を、電界方
向のガラス基板15の面と垂直な向きに方向づけられ
る。このとき、読み出し光として、光軸に対して、45
度の傾きを持った直線偏光の光を入射する。この入射光
成分のうちの異常光と常光に対するネマティック液晶の
屈折率が異なるため、これら2つの光の間に位相差が生
じて光の偏光が図5のように変化する。ここで、偏光板
を置いて一方向の偏波成分だけ取れば、光の強度変調が
得られる。ここで、光が入射されない場合においても、
バイアス電圧V0が印加されているので、ネマティック
液晶層14には、幾らかかの電圧VLCが印加されてい
る。このバイアス電圧VLCを変化すると、図6及び図7
に示すように入出力特性も非線形に変化する。なお、図
6及び図7の入出力特性の結果は、図10の装置におけ
るSLM10aの特性であるが、図1の装置においても
同様である。
【0023】次いで、帰還光路において、縞状パターン
が形成される機構について説明する。図1の回路では、
SLM10の出力である読み出し光が書き込み光として
入力に帰還されている。もし、SLM10が液晶テレビ
のように複数の画素構造を持ち、それぞれの画素が独立
とみなせる程の大きさで、あれば一定のパターンにおち
つく。しかしながら、実際のSLM10には画素構造は
なく、ある1点の状態は、近傍の信号の影響も受ける。
たとえて言うなら、図8に示すように、横方向にバネ9
4,95,96,97で連結されかつ両端が固定された
質点91,92,93のようなものである。ここに、帰
還信号が入力されるわけだが、出力光は完全に元の所に
戻らずいくらかずれて帰還されるため、質点91,9
2,93に加わる力は変動する。それぞれの質点91,
92,93の揺らぎが、ある条件下で増幅され周囲に伝
搬してゆく。
が形成される機構について説明する。図1の回路では、
SLM10の出力である読み出し光が書き込み光として
入力に帰還されている。もし、SLM10が液晶テレビ
のように複数の画素構造を持ち、それぞれの画素が独立
とみなせる程の大きさで、あれば一定のパターンにおち
つく。しかしながら、実際のSLM10には画素構造は
なく、ある1点の状態は、近傍の信号の影響も受ける。
たとえて言うなら、図8に示すように、横方向にバネ9
4,95,96,97で連結されかつ両端が固定された
質点91,92,93のようなものである。ここに、帰
還信号が入力されるわけだが、出力光は完全に元の所に
戻らずいくらかずれて帰還されるため、質点91,9
2,93に加わる力は変動する。それぞれの質点91,
92,93の揺らぎが、ある条件下で増幅され周囲に伝
搬してゆく。
【0024】以上のバネ94乃至97と質点91乃至9
3の例えは、1次元の例であるが、2次元の場合様々な
方向の縞が発生するが、これに、ある空間周波数成分の
みを通過させる空間周波数フィルタ16を帰還ループ内
に挿入することで、一定方向の成分だけを発生させてい
る。実施形態では、平板16h又はレンズのフーリエ面
に1mm程度の横方向に長いスリット16sを挿入形成
している。これによって縦縞の成分だけを抜き出してい
る。
3の例えは、1次元の例であるが、2次元の場合様々な
方向の縞が発生するが、これに、ある空間周波数成分の
みを通過させる空間周波数フィルタ16を帰還ループ内
に挿入することで、一定方向の成分だけを発生させてい
る。実施形態では、平板16h又はレンズのフーリエ面
に1mm程度の横方向に長いスリット16sを挿入形成
している。これによって縦縞の成分だけを抜き出してい
る。
【0025】さらに、パラメータと形成パターンの空間
周波数の関係について説明する。形成されるパターンの
空間周波数を決めるパラメータとして、以下のパラメー
タがある。 (a)光制御装置内の横方向のカップリングD; (b)入力光強度で決まる帰還ゲインG; (c)SLM10の入出力特性f;及び、 (d)SLM10における帰還の位置ずれΔx。 これらの関係をみるために、各点の時間発展の関係を以
下の式のように現し、解析する。
周波数の関係について説明する。形成されるパターンの
空間周波数を決めるパラメータとして、以下のパラメー
タがある。 (a)光制御装置内の横方向のカップリングD; (b)入力光強度で決まる帰還ゲインG; (c)SLM10の入出力特性f;及び、 (d)SLM10における帰還の位置ずれΔx。 これらの関係をみるために、各点の時間発展の関係を以
下の式のように現し、解析する。
【0026】
【数1】 τ(∂u/∂t)=−u+D・∇2u+G・f(u)
【0027】ここで、uは、ネマティック液晶層14の
液晶分子の回転に起因する位相のずれを現す。τはネマ
ティック液晶の時定数である。ここで、図1の回路で、
ある一定の値に収束したと仮定すると、このような値を
一般に固定点と呼ぶ。固定点には、微少な揺らぎが入る
と、そこから抜け出てしまう不安定固定点と、また元の
値に戻る安定固定点がある。縞パターン形成の種となる
微少な揺らぎが成長するためには、不安定固定点となる
必要がある。いま、固定点u*の近傍で微少な揺らぎe
xp(jkx)・exp(st)を加えると以下の関係
式が得られる。
液晶分子の回転に起因する位相のずれを現す。τはネマ
ティック液晶の時定数である。ここで、図1の回路で、
ある一定の値に収束したと仮定すると、このような値を
一般に固定点と呼ぶ。固定点には、微少な揺らぎが入る
と、そこから抜け出てしまう不安定固定点と、また元の
値に戻る安定固定点がある。縞パターン形成の種となる
微少な揺らぎが成長するためには、不安定固定点となる
必要がある。いま、固定点u*の近傍で微少な揺らぎe
xp(jkx)・exp(st)を加えると以下の関係
式が得られる。
【0028】
【数2】s+1+D・k2+G・∂f(u)/∂u│u=u
*・exp(jk・Δx)=0
*・exp(jk・Δx)=0
【0029】微少な揺らぎexp(jkx)・exp
(st)において、kは揺らぎの空間周波数を表し、s
は振幅を表わす。また、sは、複素数で
(st)において、kは揺らぎの空間周波数を表し、s
は振幅を表わす。また、sは、複素数で
【数3】s=a+jb と表わされ、aは微少な揺らぎの振幅の成長率を表し、
a>0なら時間とともに成長し、a<0なら減衰するこ
とを表わす。従って、a>0を満たすようなパラメータ
のときに縞の形成がおこる。この条件は上式から以下の
ように求められる。
a>0なら時間とともに成長し、a<0なら減衰するこ
とを表わす。従って、a>0を満たすようなパラメータ
のときに縞の形成がおこる。この条件は上式から以下の
ように求められる。
【0030】
【数4】a=G・f・cos(k・Δx)−(D・k2
+1)>0
+1)>0
【0031】この関係をグラフで示すと図9のようにな
る。図9のグラフの横軸は空間周波数kを示し、斜線の
部分が、G=1.0の時のa>0の条件を満たす領域で
ある。斜線の領域のどれも、成長する可能性をもってい
るが、実際には、引き込み現象によって、1つ又は2つ
の周波数のパターンのみが成長する。形成パターンの空
間周波数の変化は、帰還の位置ずれや、固定点u*にお
ける入出力特性fの微分係数f’に関わるバイアス電
圧、又は入力光の強度Gなどの変化によって発生する。
る。図9のグラフの横軸は空間周波数kを示し、斜線の
部分が、G=1.0の時のa>0の条件を満たす領域で
ある。斜線の領域のどれも、成長する可能性をもってい
るが、実際には、引き込み現象によって、1つ又は2つ
の周波数のパターンのみが成長する。形成パターンの空
間周波数の変化は、帰還の位置ずれや、固定点u*にお
ける入出力特性fの微分係数f’に関わるバイアス電
圧、又は入力光の強度Gなどの変化によって発生する。
【0032】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、SLM10内に自律的に屈折率分布を形成させ、こ
れによって光の伝搬方向を回折により変化させる光制御
装置を提供することができ、SLM10に屈折率分布を
形成のための特別な制御電極などを必要とせず、本装置
内部の帰還光路によって自動的に上記の屈折率分布を形
成する特徴を持つ。電極作製のための微細加工を必要と
しないため、より簡単な構造で、かつ加工技術に制限さ
れることなく、微細な屈折率分布を形成できるため、従
来例に比較して光の振れ角度を大きくとれ、出力像の解
像度を改善することができる。また、バイアス電圧V0
を変化することによりSLM10の入出力特性fを変化
させ、もしくは、帰還の位置ずれなどを調整すること
で、SLM10内の屈折率分布の周期を変えることがで
き、光の回折方向を選択する機能を持つ。すなわち、本
実施形態によれば、SLM10の出力光を入力部に帰還
させるときの位置ずれによって生じるパターンを利用し
て光を回折するため、使用しているSLM10の解像度
で制限される空間周波数までの成分を持つパターンを発
生できる。このため、適応的に選択できる光の最大振れ
角度を大きく取ることができる。
ば、SLM10内に自律的に屈折率分布を形成させ、こ
れによって光の伝搬方向を回折により変化させる光制御
装置を提供することができ、SLM10に屈折率分布を
形成のための特別な制御電極などを必要とせず、本装置
内部の帰還光路によって自動的に上記の屈折率分布を形
成する特徴を持つ。電極作製のための微細加工を必要と
しないため、より簡単な構造で、かつ加工技術に制限さ
れることなく、微細な屈折率分布を形成できるため、従
来例に比較して光の振れ角度を大きくとれ、出力像の解
像度を改善することができる。また、バイアス電圧V0
を変化することによりSLM10の入出力特性fを変化
させ、もしくは、帰還の位置ずれなどを調整すること
で、SLM10内の屈折率分布の周期を変えることがで
き、光の回折方向を選択する機能を持つ。すなわち、本
実施形態によれば、SLM10の出力光を入力部に帰還
させるときの位置ずれによって生じるパターンを利用し
て光を回折するため、使用しているSLM10の解像度
で制限される空間周波数までの成分を持つパターンを発
生できる。このため、適応的に選択できる光の最大振れ
角度を大きく取ることができる。
【0033】以上の第1の実施形態において、低周波発
振器20に代えて、交流信号発生器を備えてもよい。
振器20に代えて、交流信号発生器を備えてもよい。
【0034】<第2の実施形態>図10は、本発明に係
る第2の実施形態である光制御装置の構成を示すブロッ
ク図であり、図10において、図1と同様のものについ
ては同一の符号を付している。この第2の実施形態は、
互いに同様の構造を有する2枚のSLM10,10aを
備えたことを特徴としている。第2の実施形態は、図1
の第1の実施形態に比較して、異なる点は以下の通りで
ある。
る第2の実施形態である光制御装置の構成を示すブロッ
ク図であり、図10において、図1と同様のものについ
ては同一の符号を付している。この第2の実施形態は、
互いに同様の構造を有する2枚のSLM10,10aを
備えたことを特徴としている。第2の実施形態は、図1
の第1の実施形態に比較して、異なる点は以下の通りで
ある。
【0035】(a)低周波発振器20aを有するSLM
10aがハーフミラー37と、フーリエ変換レンズ38
との間に挿入される。ここで、SLM10aの書き込み
側S1はハーフミラー37側とされ、読み出し側S2は
フーリエ変換レンズ38側とされる。 (b)SLM10aとフーリエ変換レンズ38との間に
第2の偏向ビームスプリッタ32aを挿入し、第2のレ
ーザダイオード30aからの第2の入力光を偏向ビーム
スプリッタ32aを介してSLM10aに入射させる。
このとき、SLM10aから反射される読み出し光は偏
向ビームスプリッタ32aを通過して、フーリエ変換レ
ンズ38、ミラー39、空間周波数フィルタ16、ミラ
ー40及びフーリエ変換レンズ41を介してSLM10
の書き込み側S1に入射する。
10aがハーフミラー37と、フーリエ変換レンズ38
との間に挿入される。ここで、SLM10aの書き込み
側S1はハーフミラー37側とされ、読み出し側S2は
フーリエ変換レンズ38側とされる。 (b)SLM10aとフーリエ変換レンズ38との間に
第2の偏向ビームスプリッタ32aを挿入し、第2のレ
ーザダイオード30aからの第2の入力光を偏向ビーム
スプリッタ32aを介してSLM10aに入射させる。
このとき、SLM10aから反射される読み出し光は偏
向ビームスプリッタ32aを通過して、フーリエ変換レ
ンズ38、ミラー39、空間周波数フィルタ16、ミラ
ー40及びフーリエ変換レンズ41を介してSLM10
の書き込み側S1に入射する。
【0036】図15は、図10の光制御装置において第
1の条件のときに形成された縞のパターンを示す写真で
あり、図16は、そのときに形成された出力像を示す写
真である。また、図17は、図1の光制御装置において
第2の条件のときに形成された縞のパターンを示す写真
であり、図18は、図1の光制御装置において第2の条
件のときに形成された出力像を示す写真である。ここ
で、第1の条件は、(a)SLM10に印加される低周
波信号の電圧=2.30V、及び(b)SLM10aに
印加される低周波信号の電圧=2.26V、であり、第
2の条件は、(a)SLM10に印加される低周波信号
の電圧=2.01V、及び(b)SLM10aに印加さ
れる低周波信号の電圧=2.13V、であり、バイアス
電圧を変化させている。図15乃至図18に示すバイア
ス電圧の変化による縞の周波数の変化は、バイアス電圧
によって入出力特性fが変化し、それに伴って固定点u
*での傾き(微分係数)f’が変化し、a>0を満たす
新たな領域や、図9におけるの斜線部分が成長したため
と考えられる。これと同様の効果は、入力光の強度を調
整することでGの値を変えても同様の結果が得られる。
また、書き込み光と読み出し光とのずれの値Δxを変え
ると、数4におけるcos関数のピークの位置が変化
し、成長するパターンの周波数が変化する。
1の条件のときに形成された縞のパターンを示す写真で
あり、図16は、そのときに形成された出力像を示す写
真である。また、図17は、図1の光制御装置において
第2の条件のときに形成された縞のパターンを示す写真
であり、図18は、図1の光制御装置において第2の条
件のときに形成された出力像を示す写真である。ここ
で、第1の条件は、(a)SLM10に印加される低周
波信号の電圧=2.30V、及び(b)SLM10aに
印加される低周波信号の電圧=2.26V、であり、第
2の条件は、(a)SLM10に印加される低周波信号
の電圧=2.01V、及び(b)SLM10aに印加さ
れる低周波信号の電圧=2.13V、であり、バイアス
電圧を変化させている。図15乃至図18に示すバイア
ス電圧の変化による縞の周波数の変化は、バイアス電圧
によって入出力特性fが変化し、それに伴って固定点u
*での傾き(微分係数)f’が変化し、a>0を満たす
新たな領域や、図9におけるの斜線部分が成長したため
と考えられる。これと同様の効果は、入力光の強度を調
整することでGの値を変えても同様の結果が得られる。
また、書き込み光と読み出し光とのずれの値Δxを変え
ると、数4におけるcos関数のピークの位置が変化
し、成長するパターンの周波数が変化する。
【0037】図16に示す写真から明らかなように、従
来例に比較して液晶駆動するためのトランジスタや電極
などの微細加工の必要がなく、50lp/mm(この単
位は、1mm内にある明暗1組の縞の数である。)など
の解像度で出力像を実現することができる。
来例に比較して液晶駆動するためのトランジスタや電極
などの微細加工の必要がなく、50lp/mm(この単
位は、1mm内にある明暗1組の縞の数である。)など
の解像度で出力像を実現することができる。
【0038】以上のように構成された第2の実施形態に
おいては、第1の実施形態の効果を有するとともに、2
枚のSLM10,10aを用いることで、より複雑な入
出力特性fが実現でき、形成パターン周波数の種類を多
く設定することができる。
おいては、第1の実施形態の効果を有するとともに、2
枚のSLM10,10aを用いることで、より複雑な入
出力特性fが実現でき、形成パターン周波数の種類を多
く設定することができる。
【0039】<第3の実施形態>図11は、本発明に係
る第3の実施形態である光制御装置の構成を示すブロッ
ク図であり、図11において、図1及び図10と同様の
ものについては同一の符号を付している。第3の実施形
態は、図10の第2の実施形態に比較して、以下の点が
異なる。 (a)ミラー34とミラー35との間であって、ミラー
34を用いたときのフーリエ変換レンズ33の焦点33
fの位置に位相コントラストフィルタ44を挿入した。
その他の構成は第2の実施形態と同様である。
る第3の実施形態である光制御装置の構成を示すブロッ
ク図であり、図11において、図1及び図10と同様の
ものについては同一の符号を付している。第3の実施形
態は、図10の第2の実施形態に比較して、以下の点が
異なる。 (a)ミラー34とミラー35との間であって、ミラー
34を用いたときのフーリエ変換レンズ33の焦点33
fの位置に位相コントラストフィルタ44を挿入した。
その他の構成は第2の実施形態と同様である。
【0040】第3の実施形態においては、2枚のSLM
10,10aを用い、その内の第1のSLM10の光軸
の向きを入力光の偏光方向と平行にして位相変調モード
で使用する。第2のSLM10aは第1の実施形態及び
第2の実施形態と同様に、光軸の向きを入力光の偏光方
向に対して、45度とする。さらに、空間周波数フィル
タ16を挿入していない側のフーリエ面に位相変調を強
度変調に変換する位相コントラストフィルタ44(例え
ば、従来技術文献3「Jesper Gluckstad,“Phase contr
ast image synthesis",Optics Communications No.130,
pp.225-230,1996年」参照。)を挿入する。ここで、位
相コントラストフィルタ44は、光の位相変調を光強度
変調に変換する変換器として動作し、本実施形態では、
位相変調モードを使うことで、光のパワーの損失を少な
くできるので、高い回析効率が得られる。
10,10aを用い、その内の第1のSLM10の光軸
の向きを入力光の偏光方向と平行にして位相変調モード
で使用する。第2のSLM10aは第1の実施形態及び
第2の実施形態と同様に、光軸の向きを入力光の偏光方
向に対して、45度とする。さらに、空間周波数フィル
タ16を挿入していない側のフーリエ面に位相変調を強
度変調に変換する位相コントラストフィルタ44(例え
ば、従来技術文献3「Jesper Gluckstad,“Phase contr
ast image synthesis",Optics Communications No.130,
pp.225-230,1996年」参照。)を挿入する。ここで、位
相コントラストフィルタ44は、光の位相変調を光強度
変調に変換する変換器として動作し、本実施形態では、
位相変調モードを使うことで、光のパワーの損失を少な
くできるので、高い回析効率が得られる。
【0041】<第4の実施形態>図12は、本発明に係
る第4の実施形態である光制御装置の構成を示すブロッ
ク図であり、図12において、図1と同様のものについ
ては同一の符号を付している。この第4の実施形態は、
図1の第1の実施形態に比較して、以下の点が異なる。 (a)図1のミラー34からミラー40までの帰還光路
を、光ファイバ束47で構成した。光ファイバ束47の
一端47aの入射面45はミラー34のフーリエ面の位
置に載置される一方、光ファイバ束47の他端47bの
出射面46はミラー40のフーリエ面の位置に載置され
る。 (b)そして、出射面46とフーリエ逆変換レンズ41
との間に、出力用ハーフミラー37が設けられて、出力
光を得る。
る第4の実施形態である光制御装置の構成を示すブロッ
ク図であり、図12において、図1と同様のものについ
ては同一の符号を付している。この第4の実施形態は、
図1の第1の実施形態に比較して、以下の点が異なる。 (a)図1のミラー34からミラー40までの帰還光路
を、光ファイバ束47で構成した。光ファイバ束47の
一端47aの入射面45はミラー34のフーリエ面の位
置に載置される一方、光ファイバ束47の他端47bの
出射面46はミラー40のフーリエ面の位置に載置され
る。 (b)そして、出射面46とフーリエ逆変換レンズ41
との間に、出力用ハーフミラー37が設けられて、出力
光を得る。
【0042】第4の実施形態においては、帰還光路にお
いて、光ファイバ束47を用い、ここで、フーリエ変換
レンズ33のフーリエ面に光ファイバ束47の一端47
aの入射面45が載置されている。ここで、入射面45
及び出射面46の形状を例えば、図3の矩形スリット1
6sの形状とすることにより、光ファイバ束47は、第
1の実施形態の帰還光路と、空間周波数フィルタ16の
機能を有する。従って、この光ファイバ束47の入射面
45及び出射面46の形状を変化させることにより、所
望の空間周波数成分をピックアップし、帰還することが
できる。この第4の実施形態においては、第1の実施形
態に比較して装置構成が簡単になるという利点がある。
いて、光ファイバ束47を用い、ここで、フーリエ変換
レンズ33のフーリエ面に光ファイバ束47の一端47
aの入射面45が載置されている。ここで、入射面45
及び出射面46の形状を例えば、図3の矩形スリット1
6sの形状とすることにより、光ファイバ束47は、第
1の実施形態の帰還光路と、空間周波数フィルタ16の
機能を有する。従って、この光ファイバ束47の入射面
45及び出射面46の形状を変化させることにより、所
望の空間周波数成分をピックアップし、帰還することが
できる。この第4の実施形態においては、第1の実施形
態に比較して装置構成が簡単になるという利点がある。
【0043】<第5の実施形態>図13は、本発明に係
る第5の実施形態である光制御装置の構成を示すブロッ
ク図である。この第5の実施形態は、入力光の強度に依
存して材料内の屈折率が変化するカー効果を有する透過
型の空間光変調材料にてなるLiNbO3基板51と、
ファイブリペロー型共振器90とを組み合わせたことを
特徴としている。
る第5の実施形態である光制御装置の構成を示すブロッ
ク図である。この第5の実施形態は、入力光の強度に依
存して材料内の屈折率が変化するカー効果を有する透過
型の空間光変調材料にてなるLiNbO3基板51と、
ファイブリペロー型共振器90とを組み合わせたことを
特徴としている。
【0044】図13に示す第5の実施形態において、レ
ーザダイオード30から出力される入力光は、フーリエ
逆変換レンズ31、ハーフミラー50、LiNbO3基
板51、フーリエ逆変換レンズ52、空間周波数フィル
タ16、及びハーフミラー91を介して位相共役ミラー
53に入射する。ハーフミラー91と位相共役ミラー5
3は、公知のファイブリペロー型共振器90を構成し、
ハーフミラー91は入力光の一方の半分の光を出力光と
して反射して、互いに焦点距離fの2倍の距離だけ離れ
てかつ光軸を一致させて載置されたフーリエ逆変換レン
ズ54及びフーリエ変換レンズ55を介して出力光とし
て出力面43に対して出力するとともに、入力光の他方
の半分の光を透過させて位相共役ミラー53に出力す
る。これに対して、位相共役ミラー53は、入射された
入力光を、入力光に対して位相共役の関係にある反射光
に変換してハーフミラー91を介して、さらには、空間
周波数ミラー16及びフーリエ逆変換レンズ52を介し
てLiNbO3基板51に帰還する。
ーザダイオード30から出力される入力光は、フーリエ
逆変換レンズ31、ハーフミラー50、LiNbO3基
板51、フーリエ逆変換レンズ52、空間周波数フィル
タ16、及びハーフミラー91を介して位相共役ミラー
53に入射する。ハーフミラー91と位相共役ミラー5
3は、公知のファイブリペロー型共振器90を構成し、
ハーフミラー91は入力光の一方の半分の光を出力光と
して反射して、互いに焦点距離fの2倍の距離だけ離れ
てかつ光軸を一致させて載置されたフーリエ逆変換レン
ズ54及びフーリエ変換レンズ55を介して出力光とし
て出力面43に対して出力するとともに、入力光の他方
の半分の光を透過させて位相共役ミラー53に出力す
る。これに対して、位相共役ミラー53は、入射された
入力光を、入力光に対して位相共役の関係にある反射光
に変換してハーフミラー91を介して、さらには、空間
周波数ミラー16及びフーリエ逆変換レンズ52を介し
てLiNbO3基板51に帰還する。
【0045】従って、第5の実施形態においては、出力
光を取り出すハーフミラー91と位相共役ミラー53と
で構成されるファブリペロー型共振器90内に、カー効
果を持つ空間光変調材料にてなるLiNbO3基板51
と、フーリエ逆変換レンズ52と、空間周波数フィルタ
16と、LiNbO3基板51からの反射出力光を再び
反射するハーフミラー50とを備える。
光を取り出すハーフミラー91と位相共役ミラー53と
で構成されるファブリペロー型共振器90内に、カー効
果を持つ空間光変調材料にてなるLiNbO3基板51
と、フーリエ逆変換レンズ52と、空間周波数フィルタ
16と、LiNbO3基板51からの反射出力光を再び
反射するハーフミラー50とを備える。
【0046】次いで、第5の実施形態の動作について説
明する。本実施形態において、空間光変調材料として、
光の強度によって材料内の屈折率が変化するカー効果を
持つ物質であるLiNbO3基板51を用いる。LiN
bO3基板51を透過する光は内部の屈折率の分布によ
って伝搬方向を曲げられ、光強度の明暗のパターンとな
る。出力光は、フーリエ逆変換レンズ52によってさら
に集光され、フーリエ面に設置された空間周波数フィル
タ16でパターンの空間周波数を制限した後、ハーフミ
ラー91で一部を出力光として取り出され、透過光は位
相共役ミラー53によって反射され、当該反射光は、上
述と逆の方向で、空間周波数フィルタ16及びフーリエ
逆変換レンズ52を介してLiNbO3基板51に帰還
される。この帰還光は、LiNbO3基板51の材料内
の屈折率を変調し、さらにハーフミラー50で反射され
てLiNbO3基板51に帰還され、上記の過程を繰り
返しながら、縞のパターンを形成していく。
明する。本実施形態において、空間光変調材料として、
光の強度によって材料内の屈折率が変化するカー効果を
持つ物質であるLiNbO3基板51を用いる。LiN
bO3基板51を透過する光は内部の屈折率の分布によ
って伝搬方向を曲げられ、光強度の明暗のパターンとな
る。出力光は、フーリエ逆変換レンズ52によってさら
に集光され、フーリエ面に設置された空間周波数フィル
タ16でパターンの空間周波数を制限した後、ハーフミ
ラー91で一部を出力光として取り出され、透過光は位
相共役ミラー53によって反射され、当該反射光は、上
述と逆の方向で、空間周波数フィルタ16及びフーリエ
逆変換レンズ52を介してLiNbO3基板51に帰還
される。この帰還光は、LiNbO3基板51の材料内
の屈折率を変調し、さらにハーフミラー50で反射され
てLiNbO3基板51に帰還され、上記の過程を繰り
返しながら、縞のパターンを形成していく。
【0047】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、出力光を取り出すハーフミラー91と位相共役ミラ
ー53とで構成されるファブリペロー型共振器90内
に、カー効果を持つ空間光変調材料にてなるLiNbO
3基板51と、フーリエ逆変換レンズ52と、空間周波
数フィルタ16と、LiNbO3基板51からの反射出
力光を再び反射するハーフミラー50とを備えたので、
従来例に比較してきわめて簡単な装置構成で、入力光の
屈折率分布を形成させ、これによって光の伝搬方向を回
折により変化させる光制御装置を提供することができ
る。LiNbO3基板51と、ファブリペロー型共振器
90とにおいては屈折率分布を形成のための特別な制御
電極などを必要とせず、本装置内部の帰還光路によって
自動的に上記の屈折率分布を形成する特徴を持つ。電極
作製のための微細加工を必要としないため、より簡単な
構造で、かつ加工技術に制限されることなく、微細な屈
折率分布を形成できるため、従来例に比較して光の振れ
角度を大きくとれ、出力像の解像度を改善することがで
きる。
ば、出力光を取り出すハーフミラー91と位相共役ミラ
ー53とで構成されるファブリペロー型共振器90内
に、カー効果を持つ空間光変調材料にてなるLiNbO
3基板51と、フーリエ逆変換レンズ52と、空間周波
数フィルタ16と、LiNbO3基板51からの反射出
力光を再び反射するハーフミラー50とを備えたので、
従来例に比較してきわめて簡単な装置構成で、入力光の
屈折率分布を形成させ、これによって光の伝搬方向を回
折により変化させる光制御装置を提供することができ
る。LiNbO3基板51と、ファブリペロー型共振器
90とにおいては屈折率分布を形成のための特別な制御
電極などを必要とせず、本装置内部の帰還光路によって
自動的に上記の屈折率分布を形成する特徴を持つ。電極
作製のための微細加工を必要としないため、より簡単な
構造で、かつ加工技術に制限されることなく、微細な屈
折率分布を形成できるため、従来例に比較して光の振れ
角度を大きくとれ、出力像の解像度を改善することがで
きる。
【0048】<第6の実施形態>図14は、本発明に係
る第6の実施形態である光制御装置の構成を示すブロッ
ク図である。この第6の実施形態は、図13の第5の実
施形態に比較して、以下の点が異なる。 (a)第5の実施形態の位相共役ミラー53に代えて、
ハーフミラー57を用いている。以下、第5の実施形態
との構成の相違点について説明する。
る第6の実施形態である光制御装置の構成を示すブロッ
ク図である。この第6の実施形態は、図13の第5の実
施形態に比較して、以下の点が異なる。 (a)第5の実施形態の位相共役ミラー53に代えて、
ハーフミラー57を用いている。以下、第5の実施形態
との構成の相違点について説明する。
【0049】図14の第6の実施形態において、空間周
波数フィルタ16を介して出力される入力光は、フーリ
エ逆変換レンズ56を介して、ハーフミラー57に入射
する。これに対して、ハーフミラー57は入力光の一方
の半分の光をフーリエ変換レンズ58ゐ介して出力面4
3に出力するとともに、入力光の他方の半分の光を反射
してフーリエ逆変換レンズ56、空間周波数フィルタ1
6及びフーリエ変換レンズ52を介してLiNbO3基
板51を通過してハーフミラー50で反射されて、第5
の実施形態と同様に帰還光路が形成される。
波数フィルタ16を介して出力される入力光は、フーリ
エ逆変換レンズ56を介して、ハーフミラー57に入射
する。これに対して、ハーフミラー57は入力光の一方
の半分の光をフーリエ変換レンズ58ゐ介して出力面4
3に出力するとともに、入力光の他方の半分の光を反射
してフーリエ逆変換レンズ56、空間周波数フィルタ1
6及びフーリエ変換レンズ52を介してLiNbO3基
板51を通過してハーフミラー50で反射されて、第5
の実施形態と同様に帰還光路が形成される。
【0050】以上のように構成された第6の実施形態に
おいては、第5の実施形態と同様に、従来例に比較して
きわめて簡単な装置構成で、入力光の屈折率分布を形成
させ、これによって光の伝搬方向を回折により変化させ
る光制御装置を提供することができる。
おいては、第5の実施形態と同様に、従来例に比較して
きわめて簡単な装置構成で、入力光の屈折率分布を形成
させ、これによって光の伝搬方向を回折により変化させ
る光制御装置を提供することができる。
【0051】
【発明の効果】以上詳述したように本発明に係る請求項
1記載の光制御装置においては、入力される書き込み光
の強度によって、読み出し光の強度又は位相を変調し
て、変調した読み出し光を出力する非線形な応答を有す
る空間光変調素子と、上記空間光変調素子から出力され
る変調した読み出し光を上記空間光変調素子に対して書
き込み光として所定の帰還光路を介して帰還する帰還手
段と、上記帰還光路に設けられ、上記空間光変調素子か
ら出力される変調した読み出し光のうち所定の空間周波
数のみをろ波して上記空間光変調素子に出力する光学的
ろ波手段と、上記空間光変調素子から出力される変調し
た読み出し光の一部を取り出し、出力光として取り出す
出力手段とを備える。従って、上記空間光変調素子内に
自律的に屈折率分布を形成させ、これによって光の伝搬
方向を回折により変化させる光制御装置を提供すること
ができ、上記空間光変調素子に屈折率分布を形成のため
の特別な制御電極などを必要とせず、本装置内部の帰還
光路によって自動的に上記の屈折率分布を形成する特徴
を持つ。電極作製のための微細加工を必要としないた
め、より簡単な構造で、かつ加工技術に制限されること
なく、微細な屈折率分布を形成できるため、従来例に比
較して光の振れ角度を大きくとれ、出力像の解像度を改
善することができる。また、空間光変調素子の入出力特
性を変化させ、もしくは、帰還の位置ずれなどを調整す
ることで、空間光変調素子内の屈折率分布の周期を変え
ることができ、光の回折方向を選択する機能を持つ。
1記載の光制御装置においては、入力される書き込み光
の強度によって、読み出し光の強度又は位相を変調し
て、変調した読み出し光を出力する非線形な応答を有す
る空間光変調素子と、上記空間光変調素子から出力され
る変調した読み出し光を上記空間光変調素子に対して書
き込み光として所定の帰還光路を介して帰還する帰還手
段と、上記帰還光路に設けられ、上記空間光変調素子か
ら出力される変調した読み出し光のうち所定の空間周波
数のみをろ波して上記空間光変調素子に出力する光学的
ろ波手段と、上記空間光変調素子から出力される変調し
た読み出し光の一部を取り出し、出力光として取り出す
出力手段とを備える。従って、上記空間光変調素子内に
自律的に屈折率分布を形成させ、これによって光の伝搬
方向を回折により変化させる光制御装置を提供すること
ができ、上記空間光変調素子に屈折率分布を形成のため
の特別な制御電極などを必要とせず、本装置内部の帰還
光路によって自動的に上記の屈折率分布を形成する特徴
を持つ。電極作製のための微細加工を必要としないた
め、より簡単な構造で、かつ加工技術に制限されること
なく、微細な屈折率分布を形成できるため、従来例に比
較して光の振れ角度を大きくとれ、出力像の解像度を改
善することができる。また、空間光変調素子の入出力特
性を変化させ、もしくは、帰還の位置ずれなどを調整す
ることで、空間光変調素子内の屈折率分布の周期を変え
ることができ、光の回折方向を選択する機能を持つ。
【0052】また、本発明に係る請求項2記載の光制御
装置においては、入力される書き込み光の強度によっ
て、読み出し光の強度又は位相を変調して、変調した読
み出し光を出力する非線形な応答をそれぞれ有する第1
と第2の空間光変調素子と、上記第1の空間光変調素子
から出力される変調した読み出し光を上記第2の空間光
変調素子に対して書き込み光として所定の第1の帰還光
路を介して帰還する第1の帰還手段と、上記第2の空間
光変調素子から出力される変調した読み出し光を上記第
1の空間光変調素子に対して書き込み光として所定の第
2の帰還光路を介して帰還する第2の帰還手段と、上記
第2の帰還光路に設けられ、上記第2の空間光変調素子
から出力される変調した読み出し光のうち所定の空間周
波数のみをろ波して上記第1の空間光変調素子に出力す
る光学的ろ波手段と、上記第1の空間光変調素子から出
力される変調した読み出し光の一部を取り出し、出力光
として取り出す出力手段とを備える。従って、上記空間
光変調素子内に自律的に屈折率分布を形成させ、これに
よって光の伝搬方向を回折により変化させる光制御装置
を提供することができ、上記空間光変調素子に屈折率分
布を形成のための特別な制御電極などを必要とせず、本
装置内部の帰還光路によって自動的に上記の屈折率分布
を形成する特徴を持つ。電極作製のための微細加工を必
要としないため、より簡単な構造で、かつ加工技術に制
限されることなく、微細な屈折率分布を形成できるた
め、従来例に比較して光の振れ角度を大きくとれ、出力
像の解像度を改善することができる。また、空間光変調
素子の入出力特性を変化させ、もしくは、帰還の位置ず
れなどを調整することで、空間光変調素子内の屈折率分
布の周期を変えることができ、光の回折方向を選択する
機能を持つ。
装置においては、入力される書き込み光の強度によっ
て、読み出し光の強度又は位相を変調して、変調した読
み出し光を出力する非線形な応答をそれぞれ有する第1
と第2の空間光変調素子と、上記第1の空間光変調素子
から出力される変調した読み出し光を上記第2の空間光
変調素子に対して書き込み光として所定の第1の帰還光
路を介して帰還する第1の帰還手段と、上記第2の空間
光変調素子から出力される変調した読み出し光を上記第
1の空間光変調素子に対して書き込み光として所定の第
2の帰還光路を介して帰還する第2の帰還手段と、上記
第2の帰還光路に設けられ、上記第2の空間光変調素子
から出力される変調した読み出し光のうち所定の空間周
波数のみをろ波して上記第1の空間光変調素子に出力す
る光学的ろ波手段と、上記第1の空間光変調素子から出
力される変調した読み出し光の一部を取り出し、出力光
として取り出す出力手段とを備える。従って、上記空間
光変調素子内に自律的に屈折率分布を形成させ、これに
よって光の伝搬方向を回折により変化させる光制御装置
を提供することができ、上記空間光変調素子に屈折率分
布を形成のための特別な制御電極などを必要とせず、本
装置内部の帰還光路によって自動的に上記の屈折率分布
を形成する特徴を持つ。電極作製のための微細加工を必
要としないため、より簡単な構造で、かつ加工技術に制
限されることなく、微細な屈折率分布を形成できるた
め、従来例に比較して光の振れ角度を大きくとれ、出力
像の解像度を改善することができる。また、空間光変調
素子の入出力特性を変化させ、もしくは、帰還の位置ず
れなどを調整することで、空間光変調素子内の屈折率分
布の周期を変えることができ、光の回折方向を選択する
機能を持つ。
【0053】さらに、請求項3記載の光制御装置におい
ては、請求項2記載の光制御装置において、上記第1の
帰還光路に設けられ、上記第1の空間光変調素子から出
力される変調した読み出し光における位相変調成分を強
度変調成分に変換して上記第2の空間光変調素子に出力
する位相コントラストろ波手段をさらに備える。従っ
て、従来例に比較して装置構成が簡単であって、従来例
に比較して回折の角度を大きくすることができ、スポッ
ト光のパターンの解像度を高くすることができる。
ては、請求項2記載の光制御装置において、上記第1の
帰還光路に設けられ、上記第1の空間光変調素子から出
力される変調した読み出し光における位相変調成分を強
度変調成分に変換して上記第2の空間光変調素子に出力
する位相コントラストろ波手段をさらに備える。従っ
て、従来例に比較して装置構成が簡単であって、従来例
に比較して回折の角度を大きくすることができ、スポッ
ト光のパターンの解像度を高くすることができる。
【0054】また、請求項4記載の光制御装置において
は、請求項1記載の光制御装置において、上記帰還手段
と上記光学的ろ波手段は、光ファイバ束により構成され
る。従って、従来例に比較して装置構成が簡単であっ
て、従来例に比較して回折の角度を大きくすることがで
き、スポット光のパターンの解像度を高くすることがで
きる。
は、請求項1記載の光制御装置において、上記帰還手段
と上記光学的ろ波手段は、光ファイバ束により構成され
る。従って、従来例に比較して装置構成が簡単であっ
て、従来例に比較して回折の角度を大きくすることがで
き、スポット光のパターンの解像度を高くすることがで
きる。
【0055】さらに、請求項5記載の光制御装置におい
ては、請求項1乃至4のうちの1つに記載の光制御装置
において、上記空間光変調素子は、2つの電極によって
挟設された、光導電膜と、誘電体ミラーと、液晶層とを
備えてなり、上記2つの電極に交流信号発生器を接続し
た。従って、従来例に比較して装置構成が簡単であっ
て、従来例に比較して回折の角度を大きくすることがで
き、スポット光のパターンの解像度を高くすることがで
きる。ここで、交流信号発生器によって発生される交流
信号の振幅を変化することにより、上記空間光変調素子
の入出力特性を変化させることで、空間光変調素子内の
屈折率分布の周期を変えることができ、光の回折方向を
選択することができる。
ては、請求項1乃至4のうちの1つに記載の光制御装置
において、上記空間光変調素子は、2つの電極によって
挟設された、光導電膜と、誘電体ミラーと、液晶層とを
備えてなり、上記2つの電極に交流信号発生器を接続し
た。従って、従来例に比較して装置構成が簡単であっ
て、従来例に比較して回折の角度を大きくすることがで
き、スポット光のパターンの解像度を高くすることがで
きる。ここで、交流信号発生器によって発生される交流
信号の振幅を変化することにより、上記空間光変調素子
の入出力特性を変化させることで、空間光変調素子内の
屈折率分布の周期を変えることができ、光の回折方向を
選択することができる。
【0056】また、請求項6記載の光制御装置において
は、請求項1記載の光制御装置において、上記空間光変
調素子は、入力光の強度によって材料内の屈折率が変化
するカー効果を有するLiNbO3基板を備える。従っ
て、従来例に比較して装置構成が簡単であって、従来例
に比較して回折の角度を大きくすることができ、スポッ
ト光のパターンの解像度を高くすることができる。
は、請求項1記載の光制御装置において、上記空間光変
調素子は、入力光の強度によって材料内の屈折率が変化
するカー効果を有するLiNbO3基板を備える。従っ
て、従来例に比較して装置構成が簡単であって、従来例
に比較して回折の角度を大きくすることができ、スポッ
ト光のパターンの解像度を高くすることができる。
【0057】さらに、請求項7記載の光制御装置におい
ては、請求項6記載の光制御装置において、上記帰還手
段は、ファブリペロー型共振器を備える。従って、従来
例に比較して装置構成が簡単であって、従来例に比較し
て回折の角度を大きくすることができ、スポット光のパ
ターンの解像度を高くすることができる。
ては、請求項6記載の光制御装置において、上記帰還手
段は、ファブリペロー型共振器を備える。従って、従来
例に比較して装置構成が簡単であって、従来例に比較し
て回折の角度を大きくすることができ、スポット光のパ
ターンの解像度を高くすることができる。
【0058】さらに、請求項8記載の光制御装置におい
ては、請求項6記載の光制御装置において、上記帰還手
段は、ハーフミラーを備える。従って、従来例に比較し
て装置構成が簡単であって、従来例に比較して回折の角
度を大きくすることができ、スポット光のパターンの解
像度を高くすることができる。
ては、請求項6記載の光制御装置において、上記帰還手
段は、ハーフミラーを備える。従って、従来例に比較し
て装置構成が簡単であって、従来例に比較して回折の角
度を大きくすることができ、スポット光のパターンの解
像度を高くすることができる。
【図1】 本発明に係る第1の実施形態である光制御装
置の構成を示すブロック図である。
置の構成を示すブロック図である。
【図2】 図1の空間光変調素子の構成を示す縦断面図
である。
である。
【図3】 図1の空間フィルタの構成を示す正面図であ
る。
る。
【図4】 図2の空間光変調素子の等価回路を示す回路
図である。
図である。
【図5】 図2の空間光変調素子の入出力特性を示し、
位相差と偏光状態を示す図である。
位相差と偏光状態を示す図である。
【図6】 図2の空間光変調素子においてバイアス電圧
V0=2.2Vのときの書き込み光強度に対する読み出
し光強度の特性を示すグラフである。
V0=2.2Vのときの書き込み光強度に対する読み出
し光強度の特性を示すグラフである。
【図7】 図2の空間光変調素子においてバイアス電圧
V0=2.5Vのときの書き込み光強度に対する読み出
し光強度の特性を示すグラフである。
V0=2.5Vのときの書き込み光強度に対する読み出
し光強度の特性を示すグラフである。
【図8】 図2の空間光変調素子を等価的に機械的な機
構に置き換えたときの当該機構を示す模式図である。
構に置き換えたときの当該機構を示す模式図である。
【図9】 図1の光制御装置における縞の成長パラメー
タ範囲Δx=1.0mmのときにおける空間周波数に対
する揺らぎの振幅を示すグラフである。
タ範囲Δx=1.0mmのときにおける空間周波数に対
する揺らぎの振幅を示すグラフである。
【図10】 本発明に係る第2の実施形態である光制御
装置の構成を示すブロック図である。
装置の構成を示すブロック図である。
【図11】 本発明に係る第3の実施形態である光制御
装置の構成を示すブロック図である。
装置の構成を示すブロック図である。
【図12】 本発明に係る第4の実施形態である光制御
装置の構成を示すブロック図である。
装置の構成を示すブロック図である。
【図13】 本発明に係る第5の実施形態である光制御
装置の構成を示すブロック図である。
装置の構成を示すブロック図である。
【図14】 本発明に係る第6の実施形態である光制御
装置の構成を示すブロック図である。
装置の構成を示すブロック図である。
【図15】 図10の光制御装置において第1の条件の
ときに形成された縞のパターンを示す写真である。
ときに形成された縞のパターンを示す写真である。
【図16】 図10の光制御装置において第1の条件の
ときに形成された出力像を示す写真である。
ときに形成された出力像を示す写真である。
【図17】 図10の光制御装置において第2の条件の
ときに形成された縞のパターンを示す写真である。
ときに形成された縞のパターンを示す写真である。
【図18】 図10の光制御装置において第2の条件の
ときに形成された出力像を示す写真である。
ときに形成された出力像を示す写真である。
10,10a…空間光変調素子(SLM)、 11…ガラス基板、 12…光導電膜、 13…誘電体ミラー、 14…ネマティック液晶層、 15…ガラス基板、 16…空間周波数フィルタ、 16s…スリット、 20,20a…低周波発振器、 21,22…ITO電極、 30,30a…レーザダイオード、 33,38,42,55,58…フーリエ変換レンズ、 31,31a,36,41,52,54,56…フーリ
エ逆変換レンズ、 32,32a,37,50,57,91…ハーフミラ
ー、 34,35,39,40…ミラー、 43…出力面、 44…位相コントラストフィルタ、 45…入射面、 46…出射面、 47…光ファイバ束、 51…LiNbO3基板、 53…位相共役ミラー、 90…ファブリペロー型共振器、 S1…空間光変調素子(SLM)の読み出し側、 S2…空間光変調素子(SLM)の書き込み側。
エ逆変換レンズ、 32,32a,37,50,57,91…ハーフミラ
ー、 34,35,39,40…ミラー、 43…出力面、 44…位相コントラストフィルタ、 45…入射面、 46…出射面、 47…光ファイバ束、 51…LiNbO3基板、 53…位相共役ミラー、 90…ファブリペロー型共振器、 S1…空間光変調素子(SLM)の読み出し側、 S2…空間光変調素子(SLM)の書き込み側。
Claims (8)
- 【請求項1】 入力される書き込み光の強度によって、
読み出し光の強度又は位相を変調して、変調した読み出
し光を出力する非線形な応答を有する空間光変調素子
と、 上記空間光変調素子から出力される変調した読み出し光
を上記空間光変調素子に対して書き込み光として所定の
帰還光路を介して帰還する帰還手段と、 上記帰還光路に設けられ、上記空間光変調素子から出力
される変調した読み出し光のうち所定の空間周波数のみ
をろ波して上記空間光変調素子に出力する光学的ろ波手
段と、 上記空間光変調素子から出力される変調した読み出し光
の一部を取り出し、出力光として取り出す出力手段とを
備えたことを特徴とする光制御装置。 - 【請求項2】 入力される書き込み光の強度によって、
読み出し光の強度又は位相を変調して、変調した読み出
し光を出力する非線形な応答をそれぞれ有する第1と第
2の空間光変調素子と、 上記第1の空間光変調素子から出力される変調した読み
出し光を上記第2の空間光変調素子に対して書き込み光
として所定の第1の帰還光路を介して帰還する第1の帰
還手段と、 上記第2の空間光変調素子から出力される変調した読み
出し光を上記第1の空間光変調素子に対して書き込み光
として所定の第2の帰還光路を介して帰還する第2の帰
還手段と、 上記第2の帰還光路に設けられ、上記第2の空間光変調
素子から出力される変調した読み出し光のうち所定の空
間周波数のみをろ波して上記第1の空間光変調素子に出
力する光学的ろ波手段と、 上記第1の空間光変調素子から出力される変調した読み
出し光の一部を取り出し、出力光として取り出す出力手
段とを備えたことを特徴とする光制御装置。 - 【請求項3】 上記第1の帰還光路に設けられ、上記第
1の空間光変調素子から出力される変調した読み出し光
における位相変調成分を強度変調成分に変換して上記第
2の空間光変調素子に出力する位相コントラストろ波手
段をさらに備えたことを特徴とする請求項2記載の光制
御装置。 - 【請求項4】 上記帰還手段と上記光学的ろ波手段は、
光ファイバ束により構成されたことを特徴とする請求項
1記載の光制御装置。 - 【請求項5】 上記空間光変調素子は、2つの電極によ
って挟設された、光導電膜と、誘電体ミラーと、液晶層
とを備えてなり、上記2つの電極に交流信号発生器を接
続したことを特徴とする請求項1乃至4のうちの1つに
記載の光制御装置。 - 【請求項6】 上記空間光変調素子は、入力光の強度に
よって材料内の屈折率が変化するカー効果を有するLi
NbO3基板を備えたことを特徴とする請求項1記載の
光制御装置。 - 【請求項7】 上記帰還手段は、ファブリペロー型共振
器を備えたことを特徴とする請求項6記載の光制御装
置。 - 【請求項8】 上記帰還手段は、ハーフミラーを備えた
ことを特徴とする請求項6記載の光制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9063017A JP3054375B2 (ja) | 1997-03-17 | 1997-03-17 | 光制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9063017A JP3054375B2 (ja) | 1997-03-17 | 1997-03-17 | 光制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10260435A true JPH10260435A (ja) | 1998-09-29 |
JP3054375B2 JP3054375B2 (ja) | 2000-06-19 |
Family
ID=13217144
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9063017A Expired - Lifetime JP3054375B2 (ja) | 1997-03-17 | 1997-03-17 | 光制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3054375B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005234541A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-09-02 | Sharp Corp | 表示素子および表示装置 |
CN112859359A (zh) * | 2021-02-05 | 2021-05-28 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种焦斑控制方法 |
-
1997
- 1997-03-17 JP JP9063017A patent/JP3054375B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005234541A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-09-02 | Sharp Corp | 表示素子および表示装置 |
CN112859359A (zh) * | 2021-02-05 | 2021-05-28 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种焦斑控制方法 |
CN112859359B (zh) * | 2021-02-05 | 2022-02-08 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种焦斑控制方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3054375B2 (ja) | 2000-06-19 |
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