JPH10260016A - 画像認識装置 - Google Patents
画像認識装置Info
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- JPH10260016A JPH10260016A JP9065123A JP6512397A JPH10260016A JP H10260016 A JPH10260016 A JP H10260016A JP 9065123 A JP9065123 A JP 9065123A JP 6512397 A JP6512397 A JP 6512397A JP H10260016 A JPH10260016 A JP H10260016A
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- JP
- Japan
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- camera
- pattern matching
- measured
- image recognition
- movement
- Prior art date
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- Image Analysis (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
- Image Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来は、焦点距離を微小量可変する毎にカメ
ラの撮像画像を被測定物のテンプレートとパターンマッ
チングして高さ位置を測定するために長時間を要する。 【解決手段】 カメラＭ１の焦点位置を順次移動して画
素輝度分散値を算出する画素輝度分散算出手段Ｍ４と、
画素輝度分散値の変化の極大値に対応する焦点位置を抽
出する抽出手段Ｍ５と、抽出された焦点位置における撮
像画像と被測定物のテンプレートとのパターンマッチン
グを行い、パターンマッチング度が最大となる焦点位置
から高さ位置を測定するパターンマッチング手段Ｍ６と
を有する。パターンマッチングの回数を従来に比べて大
幅に減少でき、これによって高さ位置の測定に要する時
間を大幅に短縮でき、測定を高速に行うことができる。
ラの撮像画像を被測定物のテンプレートとパターンマッ
チングして高さ位置を測定するために長時間を要する。 【解決手段】 カメラＭ１の焦点位置を順次移動して画
素輝度分散値を算出する画素輝度分散算出手段Ｍ４と、
画素輝度分散値の変化の極大値に対応する焦点位置を抽
出する抽出手段Ｍ５と、抽出された焦点位置における撮
像画像と被測定物のテンプレートとのパターンマッチン
グを行い、パターンマッチング度が最大となる焦点位置
から高さ位置を測定するパターンマッチング手段Ｍ６と
を有する。パターンマッチングの回数を従来に比べて大
幅に減少でき、これによって高さ位置の測定に要する時
間を大幅に短縮でき、測定を高速に行うことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は画像認識装置に関
し、被測定物の撮像画像から被測定物の高さ位置を測定
する画像認識装置に関する。
し、被測定物の撮像画像から被測定物の高さ位置を測定
する画像認識装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】被測定物の空間位置をカメラの撮像画像
から測定する場合、カメラと対向する平面上における被
測物体の水平及び垂直方向位置はカメラの撮像画像にお
ける被測定物位置を読み取ることで測定できる。一方、
カメラの視線方向の高さ位置を測定する場合、カメラの
水平又は垂直方向位置を所定距離移動させて三角測量の
原理で高さ位置を測定する第１の方法、カメラの焦点距
離を可変して被測定物に焦点が合ったときの焦点距離か
ら高さ位置を求める第２の方法等がある。
から測定する場合、カメラと対向する平面上における被
測物体の水平及び垂直方向位置はカメラの撮像画像にお
ける被測定物位置を読み取ることで測定できる。一方、
カメラの視線方向の高さ位置を測定する場合、カメラの
水平又は垂直方向位置を所定距離移動させて三角測量の
原理で高さ位置を測定する第１の方法、カメラの焦点距
離を可変して被測定物に焦点が合ったときの焦点距離か
ら高さ位置を求める第２の方法等がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】三角測量による第１の
方法は、カメラの被測定物を向く角度及びカメラの移動
距離を高精度に測定しなければならず、また高解像度の
カメラが要求されるため、コストを下げるという面から
焦点距離を可変する第２の方法をとっていた。この第２
の方法では焦点距離を微小量可変する毎にカメラの撮像
画像を被測定物のテンプレートとパターンマッチング
し、マッチング度が最大となる焦点距離を被測定物の高
さ位置としている。パターンマッチングはテンプレート
を撮像画像の全域について徐々に移動させて相関値を求
めるため１回のパターンマッチングだけでも処理時間が
長くなり、上記高さ位置を測定するために長時間を要す
るという問題があった。
方法は、カメラの被測定物を向く角度及びカメラの移動
距離を高精度に測定しなければならず、また高解像度の
カメラが要求されるため、コストを下げるという面から
焦点距離を可変する第２の方法をとっていた。この第２
の方法では焦点距離を微小量可変する毎にカメラの撮像
画像を被測定物のテンプレートとパターンマッチング
し、マッチング度が最大となる焦点距離を被測定物の高
さ位置としている。パターンマッチングはテンプレート
を撮像画像の全域について徐々に移動させて相関値を求
めるため１回のパターンマッチングだけでも処理時間が
長くなり、上記高さ位置を測定するために長時間を要す
るという問題があった。
【０００４】本発明は上記の点に鑑みなされたもので、
コストアップを抑え、被測定物の高さ位置を高速に測定
できる画像認識装置を提供することを目的とする。
コストアップを抑え、被測定物の高さ位置を高速に測定
できる画像認識装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明は
図１に示すように、カメラＭ１の焦点位置が被測定物Ｍ
２に対して離間又は接近するよう上記焦点位置を順次移
動する焦点位置可変手段Ｍ３と、上記焦点位置の移動の
各時点での上記カメラの撮像画像の画素輝度分散値を算
出する画素輝度分散算出手段Ｍ４と、上記焦点位置の移
動による画素輝度分散値の変化の極大値に対応する焦点
位置を抽出する抽出手段Ｍ５と、抽出された一又は複数
の焦点位置における上記カメラの撮像画像と被測定物の
テンプレートとのパターンマッチングを行い、パターン
マッチング度が最大となる焦点位置から上記被測定物と
カメラとの距離である高さ位置を測定するパターンマッ
チング手段Ｍ６とを有する。
図１に示すように、カメラＭ１の焦点位置が被測定物Ｍ
２に対して離間又は接近するよう上記焦点位置を順次移
動する焦点位置可変手段Ｍ３と、上記焦点位置の移動の
各時点での上記カメラの撮像画像の画素輝度分散値を算
出する画素輝度分散算出手段Ｍ４と、上記焦点位置の移
動による画素輝度分散値の変化の極大値に対応する焦点
位置を抽出する抽出手段Ｍ５と、抽出された一又は複数
の焦点位置における上記カメラの撮像画像と被測定物の
テンプレートとのパターンマッチングを行い、パターン
マッチング度が最大となる焦点位置から上記被測定物と
カメラとの距離である高さ位置を測定するパターンマッ
チング手段Ｍ６とを有する。
【０００６】このように、画素輝度分散値の極大値から
被測定物に対して合焦の焦点位置を抽出し、この抽出し
た焦点位置でのみパターンマッチングを行うため、パタ
ーンマッチングの回数を従来に比べて大幅に減少でき、
これによって高さ位置の測定に要する時間を大幅に短縮
でき、測定を高速に行うことができる。請求項２に記載
の発明は、請求項１記載の画像認識装置において、前記
パターンマッチング手段Ｍ６は、前記高さ位置と共に、
カメラの視線方向と垂直な平面における前記被測定物の
平面位置を測定する。
被測定物に対して合焦の焦点位置を抽出し、この抽出し
た焦点位置でのみパターンマッチングを行うため、パタ
ーンマッチングの回数を従来に比べて大幅に減少でき、
これによって高さ位置の測定に要する時間を大幅に短縮
でき、測定を高速に行うことができる。請求項２に記載
の発明は、請求項１記載の画像認識装置において、前記
パターンマッチング手段Ｍ６は、前記高さ位置と共に、
カメラの視線方向と垂直な平面における前記被測定物の
平面位置を測定する。
【０００７】このように、パターンマッチング時に被測
定物の高さ位置と同時に平面位置も測定できるため、被
測定物の３次元位置を高速に測定することが可能とな
る。請求項３に記載の発明は、請求項１又は２記載の画
像認識装置において、前記カメラの焦点位置の移動を前
記カメラ又は被測定物の移動により行う。このため、カ
メラの焦点位置の移動を正確に、かつリニアに行うこと
ができる。
定物の高さ位置と同時に平面位置も測定できるため、被
測定物の３次元位置を高速に測定することが可能とな
る。請求項３に記載の発明は、請求項１又は２記載の画
像認識装置において、前記カメラの焦点位置の移動を前
記カメラ又は被測定物の移動により行う。このため、カ
メラの焦点位置の移動を正確に、かつリニアに行うこと
ができる。
【０００８】請求項４に記載の発明は、請求項１又は２
記載の画像認識装置において、前記カメラの焦点位置の
移動を前記カメラの焦点距離の可変により行う。このた
め、カメラ又は被測定物を移動する機構が不要となり、
構成が簡単になる。
記載の画像認識装置において、前記カメラの焦点位置の
移動を前記カメラの焦点距離の可変により行う。このた
め、カメラ又は被測定物を移動する機構が不要となり、
構成が簡単になる。
【０００９】
【発明の実施の形態】図２は本発明の画像認識装置の一
実施例の構成図を示す。同図中、基台部１０に固定され
たステージ１２上には被測定物１４（Ｍ２）が載置され
ている。基台部１０の上方にはカメラ支持部１６が固定
されている。焦点位置可変手段Ｍ３としてのカメラ支持
部１６は支持部材１８によってカメラ２０（Ｍ１）を矢
印Ｚ方向に移動自在に支持している。
実施例の構成図を示す。同図中、基台部１０に固定され
たステージ１２上には被測定物１４（Ｍ２）が載置され
ている。基台部１０の上方にはカメラ支持部１６が固定
されている。焦点位置可変手段Ｍ３としてのカメラ支持
部１６は支持部材１８によってカメラ２０（Ｍ１）を矢
印Ｚ方向に移動自在に支持している。
【００１０】上記の矢印Ｚ方向はカメラの視線方向であ
り、カメラ支持部１６は画像データ処理部２２又は端子
２４からの外部入力で供給される移動指令に従ってカメ
ラ２０の移動を行う。カメラ支持部１６はＺ方向移動量
（又はカメラ２０と被測定物１４との距離）を画像デー
タ処理部２２に通知する。カメラ２０で得られた被測定
物１４の撮像画像は画像データ処理部２２に供給され
る。
り、カメラ支持部１６は画像データ処理部２２又は端子
２４からの外部入力で供給される移動指令に従ってカメ
ラ２０の移動を行う。カメラ支持部１６はＺ方向移動量
（又はカメラ２０と被測定物１４との距離）を画像デー
タ処理部２２に通知する。カメラ２０で得られた被測定
物１４の撮像画像は画像データ処理部２２に供給され
る。
【００１１】被測定物１４は図３の斜視図及び図４
（Ａ），（Ｂ）の平面図、側面図夫々に示すように、基
板３０上に高さの異なる部品３１，３２を固定したもの
である。基板３０上には矩形のマーク３３が設けられ、
部品３１，３２夫々の上には＋印のマーク３４，三角形
のマーク３５が設けられている。なお、実際には被測定
物１４としては、電子部品（部品３１，３２に対応）を
実装したプリント基板（基板３０に対応）等が考えられ
る。
（Ａ），（Ｂ）の平面図、側面図夫々に示すように、基
板３０上に高さの異なる部品３１，３２を固定したもの
である。基板３０上には矩形のマーク３３が設けられ、
部品３１，３２夫々の上には＋印のマーク３４，三角形
のマーク３５が設けられている。なお、実際には被測定
物１４としては、電子部品（部品３１，３２に対応）を
実装したプリント基板（基板３０に対応）等が考えられ
る。
【００１２】なお、被測定物１４にマーク３３，３４，
３５が設けてあることは既知であり、画像データ処理部
２２にはマーク３３，３４，３５夫々のテンプレート
（マーク３３〜３５夫々と同一パターンの画像情報）が
予め格納されている。図５は画像データ処理部の行う高
さ測定処理の一実施例のフローチャートを示す。この実
施例ではカメラ２０の焦点距離は固定しておく。図５に
おいて、ステップＳ１０ではカメラ２０を被測定物１４
までの距離が最短となる初期位置まで移動させるように
カメラ支持部１６の駆動を行う。このとき、上記の最短
距離はカメラ２０の焦点距離より小さく設定されてい
る。
３５が設けてあることは既知であり、画像データ処理部
２２にはマーク３３，３４，３５夫々のテンプレート
（マーク３３〜３５夫々と同一パターンの画像情報）が
予め格納されている。図５は画像データ処理部の行う高
さ測定処理の一実施例のフローチャートを示す。この実
施例ではカメラ２０の焦点距離は固定しておく。図５に
おいて、ステップＳ１０ではカメラ２０を被測定物１４
までの距離が最短となる初期位置まで移動させるように
カメラ支持部１６の駆動を行う。このとき、上記の最短
距離はカメラ２０の焦点距離より小さく設定されてい
る。
【００１３】次にステップＳ１２でカメラ２０を微小距
離だけ被測定物１４から遠ざける向きに移動させ、ステ
ップＳ１４でカメラ２０の撮像画像の画素輝度分散を求
める。画面上の座標（ｘ，ｙ）点の画素輝度値をｂxyと
すると画素輝度分散Ｄは次式で表わされる。
離だけ被測定物１４から遠ざける向きに移動させ、ステ
ップＳ１４でカメラ２０の撮像画像の画素輝度分散を求
める。画面上の座標（ｘ，ｙ）点の画素輝度値をｂxyと
すると画素輝度分散Ｄは次式で表わされる。
【００１４】
【数１】
【００１５】但しｎは総画素数である。ここで、画素輝
度分散について説明する。半分が白で残りの半分が黒の
被写体をカメラで撮像した画像を考える。各画素はｎ階
調であるとして、横軸に輝度値１〜ｎ，縦軸に画素数を
とった図６に示すようなヒストグラムを作成する。カメ
ラの焦点が合っていれば白と黒の境界が鮮明であるので
図６の実線で示すような白、黒のピークが突出したヒス
トグラムとなり、画素輝度分散値が高い撮像画像が得ら
れる。焦点が多少ずれると一点鎖線で示すようななまっ
たヒストグラムとなり、画素輝度分散値が低下する。更
に焦点がずれると破線で示すような平坦なヒストグラム
となって、画素輝度分散値が更に低下する。
度分散について説明する。半分が白で残りの半分が黒の
被写体をカメラで撮像した画像を考える。各画素はｎ階
調であるとして、横軸に輝度値１〜ｎ，縦軸に画素数を
とった図６に示すようなヒストグラムを作成する。カメ
ラの焦点が合っていれば白と黒の境界が鮮明であるので
図６の実線で示すような白、黒のピークが突出したヒス
トグラムとなり、画素輝度分散値が高い撮像画像が得ら
れる。焦点が多少ずれると一点鎖線で示すようななまっ
たヒストグラムとなり、画素輝度分散値が低下する。更
に焦点がずれると破線で示すような平坦なヒストグラム
となって、画素輝度分散値が更に低下する。
【００１６】上記のステップＳ１２，Ｓ１４はステップ
Ｓ１６でカメラ２０が被測定物１４から最大に離れた最
終位置となるまで繰り返される。これによって、図７に
示すようにカメラ２０の移動量と画素輝度分散値との関
係を示すグラフが得られる。次にステップＳ１８で図７
のグラフから画素輝度分散値がピーク（最大値）となる
移動量を求める。ここではピークＡ，Ｂ，Ｃ夫々につい
て移動量Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３が求められる。次のステップ
Ｓ２０では求めた移動量Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３夫々の位置と
なるようカメラ２０を順次移動させる。まず、移動量Ｌ
１位置においてカメラ２０の撮像画像についてマーク３
１，３２，３３夫々のテンプレートを用いたパターンマ
ッチングを行い、ステップＳ２２で各マーク３１〜３３
夫々とのマッチング度（相関度）が最大となるマークを
選択する。そして撮像画像の上記最大マッチング度とな
ったＸＹ座標位置〔図４（Ａ）に矢印Ｘ，Ｙで示す〕を
求めると共に、移動量Ｌ１から選択したマークの高さ位
置〔図４（Ｂ）に矢印Ｚで示す〕を求める。
Ｓ１６でカメラ２０が被測定物１４から最大に離れた最
終位置となるまで繰り返される。これによって、図７に
示すようにカメラ２０の移動量と画素輝度分散値との関
係を示すグラフが得られる。次にステップＳ１８で図７
のグラフから画素輝度分散値がピーク（最大値）となる
移動量を求める。ここではピークＡ，Ｂ，Ｃ夫々につい
て移動量Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３が求められる。次のステップ
Ｓ２０では求めた移動量Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３夫々の位置と
なるようカメラ２０を順次移動させる。まず、移動量Ｌ
１位置においてカメラ２０の撮像画像についてマーク３
１，３２，３３夫々のテンプレートを用いたパターンマ
ッチングを行い、ステップＳ２２で各マーク３１〜３３
夫々とのマッチング度（相関度）が最大となるマークを
選択する。そして撮像画像の上記最大マッチング度とな
ったＸＹ座標位置〔図４（Ａ）に矢印Ｘ，Ｙで示す〕を
求めると共に、移動量Ｌ１から選択したマークの高さ位
置〔図４（Ｂ）に矢印Ｚで示す〕を求める。
【００１７】上記のステップＳ２０，Ｓ２２はステップ
Ｓ２４で全てのピークＡ，Ｂ，Ｃについての処理が終る
まで繰り返し行われる。これによってマーク３３，３
４，３５夫々のＸＹＺ座標を測定できる。上記のステッ
プＳ１２〜Ｓ１６が画素輝度分散算出手段Ｍ４に対応
し、ステップＳ１８が抽出手段Ｍ５に対応し、ステップ
Ｓ２０〜Ｓ２４がパターンマッチング手段Ｍ６に対応す
る。
Ｓ２４で全てのピークＡ，Ｂ，Ｃについての処理が終る
まで繰り返し行われる。これによってマーク３３，３
４，３５夫々のＸＹＺ座標を測定できる。上記のステッ
プＳ１２〜Ｓ１６が画素輝度分散算出手段Ｍ４に対応
し、ステップＳ１８が抽出手段Ｍ５に対応し、ステップ
Ｓ２０〜Ｓ２４がパターンマッチング手段Ｍ６に対応す
る。
【００１８】カメラ２０と被測定物１４との距離を可変
して図７の移動量と画素輝度分散値とのグラフを求める
処理はパターンマッチングに比べて短時間の処理であ
る。また、上記グラフからピークＡ，Ｂ，Ｃを求めて、
このピークＡ，Ｂ，Ｃに対応する移動量においてのみパ
ターンマッチングを行うため、従来に比べてパターンマ
ッチングの回数を大幅に減らすことができ、高速の高さ
計測が可能となる。
して図７の移動量と画素輝度分散値とのグラフを求める
処理はパターンマッチングに比べて短時間の処理であ
る。また、上記グラフからピークＡ，Ｂ，Ｃを求めて、
このピークＡ，Ｂ，Ｃに対応する移動量においてのみパ
ターンマッチングを行うため、従来に比べてパターンマ
ッチングの回数を大幅に減らすことができ、高速の高さ
計測が可能となる。
【００１９】なお、上記実施例では被測定物１４を固定
し、カメラ２０をＺ方向に移動させているが、これはカ
メラ２０を固定し、被測定物１４をステージ１２によっ
てＺ方向に移動させる構成であっても良い。また、カメ
ラ２０及び被測定物１４を共に固定しておき、カメラ２
０の光学系で焦点距離を可変する構成であっても良い。
この場合はカメラ２０は焦点距離調整機構を一般的に備
えており、移動機構が不要となるため、構成が簡単とな
り、コストを低く抑えることができる。ただし、焦点距
離調整機構ではレンズ系の移動量と焦点距離の移動量と
がリニアでないため、図１の実施例の方が正確に焦点位
置を知ることができる。
し、カメラ２０をＺ方向に移動させているが、これはカ
メラ２０を固定し、被測定物１４をステージ１２によっ
てＺ方向に移動させる構成であっても良い。また、カメ
ラ２０及び被測定物１４を共に固定しておき、カメラ２
０の光学系で焦点距離を可変する構成であっても良い。
この場合はカメラ２０は焦点距離調整機構を一般的に備
えており、移動機構が不要となるため、構成が簡単とな
り、コストを低く抑えることができる。ただし、焦点距
離調整機構ではレンズ系の移動量と焦点距離の移動量と
がリニアでないため、図１の実施例の方が正確に焦点位
置を知ることができる。
【００２０】
【発明の効果】上述の如く、請求項１に記載の発明は、
カメラの焦点位置が被測定物に対して離間又は接近する
よう上記焦点位置を順次移動する焦点位置可変手段と、
上記焦点位置の移動の各時点での上記カメラの撮像画像
の画素輝度分散値を算出する画素輝度分散算出手段と、
上記焦点位置の移動による画素輝度分散値の変化の極大
値に対応する焦点位置を抽出する抽出手段と、抽出され
た一又は複数の焦点位置における上記カメラの撮像画像
と被測定物のテンプレートとのパターンマッチングを行
い、パターンマッチング度が最大となる焦点位置から上
記被測定物とカメラとの距離である高さ位置を測定する
パターンマッチング手段とを有する。
カメラの焦点位置が被測定物に対して離間又は接近する
よう上記焦点位置を順次移動する焦点位置可変手段と、
上記焦点位置の移動の各時点での上記カメラの撮像画像
の画素輝度分散値を算出する画素輝度分散算出手段と、
上記焦点位置の移動による画素輝度分散値の変化の極大
値に対応する焦点位置を抽出する抽出手段と、抽出され
た一又は複数の焦点位置における上記カメラの撮像画像
と被測定物のテンプレートとのパターンマッチングを行
い、パターンマッチング度が最大となる焦点位置から上
記被測定物とカメラとの距離である高さ位置を測定する
パターンマッチング手段とを有する。
【００２１】このように、画素輝度分散値の極大値から
被測定物に対して合焦の焦点位置を抽出し、この抽出し
た焦点位置でのみパターンマッチングを行うため、パタ
ーンマッチングの回数を従来に比べて大幅に減少でき、
これによって高さ位置の測定に要する時間を大幅に短縮
でき、測定を高速に行うことができる。また、請求項２
に記載の発明は、請求項１記載の画像認識装置におい
て、前記パターンマッチング手段は、前記高さ位置と共
に、カメラの視線方向と垂直な平面における前記被測定
物の平面位置を測定する。
被測定物に対して合焦の焦点位置を抽出し、この抽出し
た焦点位置でのみパターンマッチングを行うため、パタ
ーンマッチングの回数を従来に比べて大幅に減少でき、
これによって高さ位置の測定に要する時間を大幅に短縮
でき、測定を高速に行うことができる。また、請求項２
に記載の発明は、請求項１記載の画像認識装置におい
て、前記パターンマッチング手段は、前記高さ位置と共
に、カメラの視線方向と垂直な平面における前記被測定
物の平面位置を測定する。
【００２２】このように、パターンマッチング時に被測
定物の高さ位置と同時に平面位置も測定できるため、被
測定物の３次元位置を高速に測定することが可能とな
る。また、請求項３に記載の発明は、請求項１又は２記
載の画像認識装置において、前記カメラの焦点位置の移
動を前記カメラ又は被測定物の移動により行う。
定物の高さ位置と同時に平面位置も測定できるため、被
測定物の３次元位置を高速に測定することが可能とな
る。また、請求項３に記載の発明は、請求項１又は２記
載の画像認識装置において、前記カメラの焦点位置の移
動を前記カメラ又は被測定物の移動により行う。
【００２３】このため、カメラの焦点位置の移動を正確
に、かつリニアに行うことができる。また、請求項４に
記載の発明は、請求項１又は２記載の画像認識装置にお
いて、前記カメラの焦点位置の移動を前記カメラの焦点
距離の可変により行う。
に、かつリニアに行うことができる。また、請求項４に
記載の発明は、請求項１又は２記載の画像認識装置にお
いて、前記カメラの焦点位置の移動を前記カメラの焦点
距離の可変により行う。
【００２４】このため、カメラ又は被測定物を移動する
機構が不要となり、構成が簡単になる。
機構が不要となり、構成が簡単になる。
【図１】本発明の原理図である。
【図２】本発明装置のブロック図である。
【図３】被測定物を説明するための図である。
【図４】被測定物を説明するための図である。
【図５】本発明の高さ測定処理のフローチャートであ
る。
る。
【図６】画素輝度分散値を説明するための図である。
【図７】移動量と画素輝度分散値とのグラフである。
１０ 基台部 １２ ステージ １４，Ｍ２ 被測定物 １６ カメラ支持部 １８ 支持部材 ２０，Ｍ１ カメラ ２２ 画像データ処理部 ３０ 基板 ３１，３２ 部品 Ｍ３ 焦点位置可変手段 Ｍ４ 画素輝度分散算出手段 Ｍ５ 抽出手段 Ｍ６ パターンマッチング手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 明間 滋 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内 (72)発明者 肥塚 哲男 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 カメラの焦点位置が被測定物に対して離
間又は接近するよう上記焦点位置を順次移動する焦点位
置可変手段と、 上記焦点位置の移動の各時点での上記カメラの撮像画像
の画素輝度分散値を算出する画素輝度分散算出手段と、 上記焦点位置の移動による画素輝度分散値の変化の極大
値に対応する焦点位置を抽出する抽出手段と、 抽出された一又は複数の焦点位置における上記カメラの
撮像画像と被測定物のテンプレートとのパターンマッチ
ングを行い、パターンマッチング度が最大となる焦点位
置から上記被測定物とカメラとの距離である高さ位置を
測定するパターンマッチング手段とを有することを特徴
とする画像認識装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の画像認識装置において、 前記パターンマッチング手段は、前記高さ位置と共に、
カメラの視線方向と垂直な平面における前記被測定物の
平面位置を測定することを特徴とする画像認識装置。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の画像認識装置にお
いて、 前記カメラの焦点位置の移動を前記カメラ又は被測定物
の移動により行うことを特徴とする画像認識装置。 - 【請求項４】 請求項１又は２記載の画像認識装置にお
いて、 前記カメラの焦点位置の移動を前記カメラの焦点距離の
可変により行うことを特徴とする画像認識装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9065123A JPH10260016A (ja) | 1997-03-18 | 1997-03-18 | 画像認識装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9065123A JPH10260016A (ja) | 1997-03-18 | 1997-03-18 | 画像認識装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10260016A true JPH10260016A (ja) | 1998-09-29 |
Family
ID=13277794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9065123A Withdrawn JPH10260016A (ja) | 1997-03-18 | 1997-03-18 | 画像認識装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10260016A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001147107A (ja) * | 1999-11-08 | 2001-05-29 | Leica Microsystems Wetzlar Gmbh | 透明膜の膜厚測定方法および装置 |
| US7068378B2 (en) | 2002-07-09 | 2006-06-27 | President Of Sasebo National College Of Technology | Apparatus and method for measuring amount of projection of abrasive grain on grinding tool |
| US8599257B2 (en) | 2006-08-18 | 2013-12-03 | Nec Corporation | Vehicle detection device, vehicle detection method, and vehicle detection program |
| WO2014155658A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 富士機械製造株式会社 | 生産設備 |
| CN110118530A (zh) * | 2019-04-22 | 2019-08-13 | 西京学院 | 一种大工件高精度光学视觉测量方法 |
-
1997
- 1997-03-18 JP JP9065123A patent/JPH10260016A/ja not_active Withdrawn
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