JPH10251842A - Vacuum film deposition device - Google Patents
Vacuum film deposition deviceInfo
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- JPH10251842A JPH10251842A JP5603097A JP5603097A JPH10251842A JP H10251842 A JPH10251842 A JP H10251842A JP 5603097 A JP5603097 A JP 5603097A JP 5603097 A JP5603097 A JP 5603097A JP H10251842 A JPH10251842 A JP H10251842A
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- film forming
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、結着度が大きく、
剥離し難く、耐久性に富む膜を形成できる真空蒸着など
の真空成膜装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a high binding degree,
The present invention relates to a vacuum film forming apparatus such as vacuum evaporation which can form a highly durable film that is difficult to peel off.
【０００２】[0002]
【従来の技術】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性膜として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されている。すなわち、真空蒸着などの乾式メッキ
手段により磁性膜を形成した磁気記録媒体が提案されて
いる。そして、この種の磁気記録媒体は磁性体の充填密
度が高いことから、高密度記録に適したものである。2. Description of the Related Art In a magnetic recording medium such as a magnetic tape, a magnetic film provided on a non-magnetic support is not a coating type using a binder resin, but a binder resin. A metal thin film type which is not used has been proposed. That is, a magnetic recording medium in which a magnetic film is formed by dry plating means such as vacuum deposition has been proposed. This kind of magnetic recording medium is suitable for high-density recording because of its high packing density of magnetic material.
【０００３】金属薄膜型の磁性膜を形成する装置として
は、図３に示す斜め蒸着装置が知られている。図３中、
３１は真空槽、３２は冷却キャンロール、３３は冷却キ
ャンロール３２に沿って供給側ロールから巻取側ロール
に向けて走行する支持体、３４は磁性金属が充填された
ルツボ、３５は電子銃、３６は排気口であり、真空ポン
プによって排気口３６から真空槽３１内の気体が排気さ
れる。そして、真空ポンプを作動させて真空槽内を真空
排気し、ルツボの中の磁性金属に電子ビームを照射する
と、磁性金属は溶融し、上方に蒸発して行く。そして、
蒸発した磁性金属粒子は冷却キャンロールに添接されて
いる支持体面に付着・堆積し、斜め蒸着磁性膜が設けら
れる。As an apparatus for forming a metal thin film type magnetic film, an oblique vapor deposition apparatus shown in FIG. 3 is known. In FIG.
31 is a vacuum tank, 32 is a cooling can roll, 33 is a support member running from the supply roll to the winding roll along the cooling can roll 32, 34 is a crucible filled with magnetic metal, 35 is an electron gun , 36 are exhaust ports, and the gas in the vacuum chamber 31 is exhausted from the exhaust port 36 by a vacuum pump. When the vacuum pump is operated to evacuate the vacuum chamber and the magnetic metal in the crucible is irradiated with an electron beam, the magnetic metal melts and evaporates upward. And
The evaporated magnetic metal particles adhere and accumulate on the surface of the support that is in contact with the cooling can roll, and an obliquely deposited magnetic film is provided.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の真空蒸
着装置によって形成された金属磁性膜は、支持体との間
の結着度が大きくなく、改善が求められた。すなわち、
金属磁性膜が剥離し難く、耐久性の向上が求められた。
従って、本発明が解決しようとする課題は、支持体に対
する膜の結着度が大きく、剥離し難く、耐久性に富む膜
を形成できる成膜装置を提供することである。However, the metal magnetic film formed by the conventional vacuum evaporation apparatus does not have a high degree of binding to the support, and thus an improvement is required. That is,
The metal magnetic film is hardly peeled off, and improvement in durability has been required.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a film forming apparatus capable of forming a film having a high degree of binding of a film to a support, being difficult to peel off, and having high durability.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題は、支持体上に
粒子を堆積させて膜を形成する真空成膜装置であって、
前記装置内に配設された排気口と、前記排気口につらな
る排気手段と、前記排気口に設けられた水平板とを具備
し、前記排気口が、上下方向にあっては、前記装置内に
配置された支持体上に粒子が堆積する堆積領域の範囲内
に対応して、左右方向にあっては、支持体の幅の範囲内
に対応して設けられてなることを特徴とする真空成膜装
置によって解決される。The object of the present invention is to provide a vacuum film forming apparatus for forming a film by depositing particles on a support,
An exhaust port provided in the apparatus, exhaust means connected to the exhaust port, and a horizontal plate provided in the exhaust port; Characterized by being provided corresponding to the range of the deposition region where particles are deposited on the support placed in the horizontal direction, and corresponding to the range of the width of the support in the left-right direction. The problem is solved by a film forming apparatus.
【０００６】ここで、左右方向とは支持体の幅の方向
（支持体の長手方向に直交する方向）を言い、上下方向
とは垂直（鉛直）方向を言う。尚、上記真空成膜装置に
おいて、成膜装置は斜め蒸着装置であり、支持体上に堆
積する粒子は電子銃の照射によって蒸発したものであ
り、前記電子銃は堆積領域を境にして排気口と反対側に
設けられていることが好ましい。特に、真空成膜装置は
斜め蒸着装置であり、支持体上に堆積する粒子は電子銃
の照射によって蒸発したものであり、粒子が堆積する堆
積領域より支持体が供給される上流側に電子銃が設けら
れており、前記堆積領域より支持体が巻き取られる下流
側に排気口が設けられていることが好ましい。Here, the left-right direction refers to the direction of the width of the support (the direction orthogonal to the longitudinal direction of the support), and the up-down direction refers to the vertical (vertical) direction. In the vacuum film forming apparatus, the film forming apparatus is an oblique vapor deposition apparatus, and particles deposited on the support are evaporated by irradiation with an electron gun. Is preferably provided on the opposite side. In particular, a vacuum film forming apparatus is an oblique vapor deposition apparatus, in which particles deposited on a support are evaporated by irradiation with an electron gun, and the electron gun is located upstream from the deposition area where the particles are deposited on which the support is supplied. It is preferable that an exhaust port is provided on the downstream side where the support is wound up from the deposition area.
【０００７】又、排気口の左右方向の中心と支持体の幅
方向における中心とが対応するよう排気口が設けられて
いることが好ましい。すなわち、上記のように真空成膜
装置を構成させていると、真空槽内を排気した際に形成
される排気流が蒸発粒子の飛行経路に影響し、蒸発粒子
が支持体に強く付着して堆積するようになる。この結
果、堆積膜は支持体に対して強く結合し、剥離し難く、
耐久性に富む膜となる。It is preferable that the exhaust port is provided so that the center of the exhaust port in the left-right direction corresponds to the center of the support in the width direction. That is, when the vacuum film forming apparatus is configured as described above, the exhaust flow formed when the inside of the vacuum chamber is exhausted affects the flight path of the evaporated particles, and the evaporated particles strongly adhere to the support. Will be deposited. As a result, the deposited film is strongly bonded to the support and hardly peels off,
It becomes a film with high durability.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】本発明の真空成膜装置は、支持体
上に粒子を堆積させて膜を形成する真空成膜装置であっ
て、前記装置内に配設された排気口と、前記排気口につ
らなる排気手段と、前記排気口に設けられた水平板とを
具備し、前記排気口が、上下方向にあっては、前記装置
内に配置された支持体上に粒子が堆積する堆積領域の範
囲内に対応して、左右方向にあっては、支持体の幅の範
囲内に対応して設けられている。上記の真空成膜装置は
斜め蒸着装置であって、支持体上に堆積する粒子は電子
銃の照射によって蒸発したものであり、前記電子銃は堆
積領域を境にして排気口と反対側に設けられている。特
に、真空成膜装置は斜め蒸着装置であって、支持体上に
堆積する粒子は電子銃の照射によって蒸発したものであ
り、粒子が堆積する堆積領域より支持体が供給される上
流側に電子銃が設けられており、前記堆積領域より支持
体が巻き取られる下流側に排気口が設けられている。
又、排気口の左右方向の中心と支持体の幅方向における
中心とが対応するよう排気口が設けられている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A vacuum film forming apparatus according to the present invention is a vacuum film forming apparatus for forming a film by depositing particles on a support, comprising: an exhaust port provided in the apparatus; An exhaust means connected to an exhaust port, and a horizontal plate provided at the exhaust port, wherein when the exhaust port is in a vertical direction, particles are deposited on a support disposed in the apparatus. In the left-right direction corresponding to the range of the region, it is provided corresponding to the range of the width of the support. The above-described vacuum film forming apparatus is an oblique vapor deposition apparatus, in which particles deposited on a support are evaporated by irradiation with an electron gun, and the electron gun is provided on a side opposite to an exhaust port with a deposition area as a boundary. Have been. In particular, a vacuum film forming apparatus is an oblique vapor deposition apparatus in which particles deposited on a support are evaporated by irradiation with an electron gun, and electrons are deposited upstream of the deposition area where the particles are deposited on the support. A gun is provided, and an exhaust port is provided downstream from the deposition area where the support is wound up.
Further, the exhaust port is provided so that the center in the left-right direction of the exhaust port corresponds to the center in the width direction of the support.
【０００９】以下、更に詳しく説明する。図１は本発明
になる真空成膜装置（斜め蒸着装置）の一実施形態を示
す概略図、図２は排気口部分の側面図である。各図中、
１は真空槽、２は真空槽１内に配設された円筒状の冷却
キャンロールである。尚、直交するＸ，Ｙ，Ｚの座標軸
（Ｚ軸方向が上下（鉛直）方向、Ｙ軸方向が左右方向、
Ｘ軸方向が前後方向とする。）で表される空間におい
て、冷却キャンロール２の軸芯はＹ軸の方向（又は、Ｙ
軸に平行な方向）にある。The details will be described below. FIG. 1 is a schematic view showing an embodiment of a vacuum film forming apparatus (oblique deposition apparatus) according to the present invention, and FIG. 2 is a side view of an exhaust port. In each figure,
1 is a vacuum tank, 2 is a cylindrical cooling can roll provided in the vacuum tank 1. In addition, orthogonal X, Y, and Z coordinate axes (the Z-axis direction is a vertical (vertical) direction, the Y-axis direction is a horizontal direction,
The X-axis direction is the front-back direction. ), The axis of the cooling can roll 2 is in the Y-axis direction (or Y-axis).
Direction parallel to the axis).
【００１０】長尺状の支持体３は、供給側ロール３ａか
ら繰り出され、冷却キャンロール２に添接され、そして
巻取側ロール３ｂに向けて走行し、巻取側ロール３ｂに
巻き取られて行く。従って、冷却キャンロール２に添っ
て走行する支持体３の走行方向は、Ｘ−Ｙ面内に投影し
た場合、＋Ｘから−Ｘの方向にある。Ｙ軸の方向に走行
することはない。尚、支持体３は、磁気記録媒体用の場
合、磁性を有するものでも、非磁性のものでも良いが、
一般的には、非磁性のものである。例えば、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル、ポリア
ミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネー
ト、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロー
ス系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といったフレキシブル
な高分子材料が用いられる。The long support 3 is fed out from the supply roll 3a, is attached to the cooling can roll 2, travels toward the take-up roll 3b, and is taken up by the take-up roll 3b. Go. Accordingly, the traveling direction of the support 3 traveling along the cooling can roll 2 is in the direction from + X to -X when projected on the XY plane. It does not travel in the direction of the Y axis. In the case where the support 3 is for a magnetic recording medium, the support 3 may be magnetic or non-magnetic.
Generally, it is non-magnetic. For example, a flexible polymer material such as an olefin resin such as a polyester such as polyethylene terephthalate (PET), polyamide, polyimide, polysulfone, polycarbonate, and polypropylene, a cellulose resin, and a vinyl chloride resin is used.
【００１１】４は冷却キャンロール２の下方に設置され
たルツボであり、ルツボ４の中に膜構成材料、例えば磁
性金属が充填されている。磁性金属としては、例えばＦ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ
−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、
Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、
あるいはこれらに異種の金属を含有させた合金が用いら
れる。尚、磁性金属粒子を堆積させて得られた磁性膜と
しては、前記材料の窒化物（例えば、Ｆｅ−Ｎ，Ｆｅ−
Ｎ−Ｏ）や炭化物（例えば、Ｆｅ−Ｃ，Ｆｅ−Ｃ−Ｏ）
等も挙げられる。Reference numeral 4 denotes a crucible provided below the cooling can roll 2, and the crucible 4 is filled with a film forming material, for example, a magnetic metal. As the magnetic metal, for example, F
e, Co, Ni and the like, a Co-Ni alloy, Co
-Pt alloy, Co-Ni-Pt alloy, Fe-Co alloy,
Fe-Ni alloy, Fe-Co-Ni alloy, Fe-Co-
B alloy, Co-Ni-Fe-B alloy, Co-Cr alloy,
Alternatively, alloys containing different kinds of metals are used. The magnetic film obtained by depositing the magnetic metal particles includes a nitride (for example, Fe-N, Fe-
N—O) and carbides (eg, Fe—C, Fe—C—O)
And the like.
【００１２】５は支持体３が繰り出されて来る上流側の
位置に設置された電子銃であり、電子銃５からの電子ビ
ームがルツボ４の中に膜構成材料（磁性金属）に照射さ
れ、例えば磁性金属は溶融し、上方に蒸発して行く。そ
して、蒸発粒子は上方の支持体３面に付着し、堆積して
行く。尚、最小入射角で支持体に付着する部分にＸ軸の
原点をおくと、＋Ｘの側に電子銃５は設けられている。Reference numeral 5 denotes an electron gun installed at a position on the upstream side where the support 3 is fed out. For example, magnetic metal melts and evaporates upward. Then, the evaporated particles adhere to the upper surface of the support 3 and accumulate. When the origin of the X-axis is located at a portion where the X-axis is attached to the support at the minimum incident angle, the electron gun 5 is provided on the + X side.
【００１３】６は第１の遮蔽板であり、蒸発した粒子が
冷却キャンロール２に添接されている支持体３に付着・
堆積する領域を規制する。つまり、第１の遮蔽板６によ
って蒸着粒子の最小入射角が決定される。尚、この第１
の遮蔽板６は、前記堆積領域より下流側の位置であっ
て、冷却キャンロール２に添接されている支持体３（付
着・堆積位置）とルツボ４（蒸発源）との間に水平方向
に設けられたものである。すなわち、最小入射角で支持
体に付着する部分にＸ軸の原点をおくと、−Ｘの側に第
１の遮蔽板６は設けられている。Reference numeral 6 denotes a first shielding plate, on which the evaporated particles adhere to the support 3 attached to the cooling can roll 2.
Regulate the area to be deposited. That is, the first incident angle of the vapor deposition particles is determined by the first shielding plate 6. In addition, this first
The shielding plate 6 is located at a position downstream of the deposition area, and is disposed between the support 3 (attachment / deposition position) and the crucible 4 (evaporation source) which are in contact with the cooling can roll 2 in the horizontal direction. It is provided in. That is, when the origin of the X-axis is set at a portion where the X-axis is attached to the support at the minimum incident angle, the first shielding plate 6 is provided on the −X side.
【００１４】７は冷却キャンロール２に添接されている
支持体３に蒸発粒子が付着・堆積する堆積領域より上流
側の位置に水平方向に設けられた第２の遮蔽板であり、
第２の遮蔽板によって蒸発粒子が真空槽１内に広く拡散
するのを防止する。尚、最小入射角で支持体に付着する
部分にＸ軸の原点をおくと、＋Ｘの側に第２の遮蔽板７
は設けられている。Reference numeral 7 denotes a second shielding plate provided in a horizontal direction at a position upstream of a deposition area where the evaporated particles adhere and deposit on the support 3 attached to the cooling can roll 2,
The second shielding plate prevents the evaporated particles from being widely diffused into the vacuum chamber 1. If the origin of the X-axis is located at the portion where the X-axis is attached to the support at the minimum incident angle, the second shielding plate 7 is located on the + X side.
Is provided.
【００１５】８は酸化性のガス、例えば酸素ガスを供給
するノズルであり、第１の遮蔽板６上に配設されてい
る。９は排気口である。この排気口９は、上下方向（Ｚ
軸方向）にあっては、支持体３上に粒子が堆積する堆積
領域の範囲内に対応して、左右方向（Ｙ軸方向）にあっ
ては、支持体３の幅の範囲内に対応して設けられてい
る。特に、支持体３の幅方向における真ん中の位置に排
気口９の中心が対応して設けられている。すなわち、冷
却キャンロール２を挟んで排気口９とは反対側の位置に
ある第２の遮蔽板７や電子銃５の側から排気口９を見た
場合、堆積領域の左右方向（Ｙ軸方向）の中心と排気口
９の左右方向（Ｙ軸方向）の中心とが対応するよう排気
口９が設けられている。Reference numeral 8 denotes a nozzle for supplying an oxidizing gas, for example, an oxygen gas, and is provided on the first shielding plate 6. 9 is an exhaust port. The exhaust port 9 is provided in the vertical direction (Z
(In the axial direction), it corresponds to the range of the deposition region where the particles are deposited on the support 3, and in the horizontal direction (Y-axis direction), it corresponds to the range of the width of the support 3. It is provided. In particular, the center of the exhaust port 9 is provided corresponding to the middle position in the width direction of the support 3. That is, when the exhaust port 9 is viewed from the side of the second shield plate 7 and the electron gun 5 opposite to the exhaust port 9 with the cooling can roll 2 interposed therebetween, the left-right direction of the deposition area (Y-axis direction) ) Corresponds to the center of the exhaust port 9 in the left-right direction (Y-axis direction).
【００１６】排気口９内には、図２からも判る通り、複
数枚の水平板１０が設けられている。又、図示していな
いが、排気口９には真空ポンプが接続されており、真空
ポンプを作動させることによって真空槽１内の気体は排
気口９から排気されて行く。上記装置を用い、非磁性の
支持体３上に金属磁性膜を形成するには、真空ポンプを
作動させて真空槽１内の真空度を１０-4〜１０-6Ｔｏｒ
ｒ程度になし、そしてルツボ４の中の磁性金属に電子銃
５からの電子ビームを照射すると、磁性金属は溶融し、
上方に蒸発して行く。そして、蒸発した磁性金属粒子は
冷却キャンロール２に添接されている支持体３面に付着
・堆積し、斜め蒸着磁性膜が設けられる。As can be seen from FIG. 2, a plurality of horizontal plates 10 are provided in the exhaust port 9. Although not shown, a vacuum pump is connected to the exhaust port 9, and the gas in the vacuum chamber 1 is exhausted from the exhaust port 9 by operating the vacuum pump. In order to form a metal magnetic film on the non-magnetic support 3 using the above apparatus, a vacuum pump is operated to reduce the degree of vacuum in the vacuum chamber 1 to 10 -4 to 10 -6 Torr.
r, and when the magnetic metal in the crucible 4 is irradiated with an electron beam from the electron gun 5, the magnetic metal is melted,
Evaporates upward. Then, the evaporated magnetic metal particles adhere and accumulate on the surface of the support 3 which is in contact with the cooling can roll 2, and an obliquely deposited magnetic film is provided.
【００１７】この磁性膜の形成に際して、上記のように
真空成膜装置を構成させていると、真空槽１内（図２
中、Ａ側）を排気した際に形成される排気流によって蒸
発粒子の飛行経路は影響を受け、蒸発粒子が支持体３に
強く付着して堆積するようになる。この結果、支持体３
に堆積膜は強く結合し、剥離し難く、耐久性に富む膜と
なる。In forming the magnetic film, if the vacuum film forming apparatus is configured as described above, the inside of the vacuum chamber 1 (FIG.
The flight path of the evaporating particles is affected by the exhaust flow formed when the air is exhausted from the middle and A sides), and the evaporating particles strongly adhere to the support 3 and accumulate. As a result, the support 3
The deposited film is strongly bonded and hardly peels off, resulting in a highly durable film.
【００１８】以下、具体的な実施例を挙げて説明する。Hereinafter, a specific embodiment will be described.
【００１９】[0019]
【実施例１】図１に示す装置に支持体３として厚さ６．
３μｍで幅１５５ｍｍの長尺状ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）フィルムを装着し、このＰＥＴフィルム
を１ｍ／ｍｉｎの走行速度で走行させ、そして排気口９
から真空排気し、更にノズル８より酸素ガスを２２ＳＣ
ＣＭの割合で供給し、又、電子銃５の出力を２５ｋｗと
し、ＰＥＴフィルム上にＣｏ金属磁性膜を斜め蒸着によ
り形成し、その後通常の工程を経て８ｍｍＶＴＲ磁気テ
ープを作製した。Embodiment 1 As the support 3 in the apparatus shown in FIG.
A 3 μm long 155 mm wide polyethylene terephthalate (PET) film was mounted, the PET film was run at a running speed of 1 m / min, and the
From the nozzle 8 and oxygen gas 22 SC from the nozzle 8
The CM was supplied at a ratio of CM, and the output of the electron gun 5 was set to 25 kW. A Co metal magnetic film was formed on the PET film by oblique vapor deposition, and then an 8 mm VTR magnetic tape was manufactured through a normal process.
【００２０】[0020]
【実施例２】図１に示す装置に支持体３として厚さ６．
３μｍで幅１５５ｍｍの長尺状ＰＥＴフィルムを装着
し、このＰＥＴフィルムを１．３ｍ／ｍｉｎの走行速度
で走行させ、そして排気口９から真空排気し、更にノズ
ル８より酸素ガスを３０ＳＣＣＭの割合で供給し、又、
電子銃５の出力を３０ｋｗとし、ＰＥＴフィルム上にＣ
ｏ金属磁性膜を斜め蒸着により形成し、その後通常の工
程を経て８ｍｍＶＴＲ磁気テープを作製した。Embodiment 2 The thickness of the support shown in FIG.
A long PET film of 3 μm and a width of 155 mm was mounted, the PET film was run at a running speed of 1.3 m / min, and was evacuated from the exhaust port 9, and oxygen gas was further discharged from the nozzle 8 at a rate of 30 SCCM. Supply,
The output of the electron gun 5 is set to 30 kW, and C is printed on a PET film.
An o-metal magnetic film was formed by oblique vapor deposition, and then an ordinary process was performed to produce an 8 mm VTR magnetic tape.
【００２１】[0021]
【比較例】図３に示す装置に支持体として厚さ６．３μ
ｍで幅１５５ｍｍの長尺状ＰＥＴフィルムを装着し、こ
のＰＥＴフィルムを１ｍ／ｍｉｎの走行速度で走行さ
せ、そして排気口３６から真空排気し、更にノズルより
酸素ガスを２５ＳＣＣＭの割合で供給し、又、電子銃３
５の出力を２８ｋｗとし、ＰＥＴフィルム上にＣｏ金属
磁性膜を斜め蒸着により形成し、その後通常の工程を経
て８ｍｍＶＴＲ磁気テープを作製した。COMPARATIVE EXAMPLE The apparatus shown in FIG.
m, a long PET film having a width of 155 mm was mounted, the PET film was run at a running speed of 1 m / min, and the gas was evacuated from the exhaust port 36, and oxygen gas was supplied from the nozzle at a rate of 25 SCCM. Also, electron gun 3
The output of No. 5 was set to 28 kW, a Co metal magnetic film was formed on the PET film by oblique deposition, and then an 8 mm VTR magnetic tape was manufactured through a normal process.
【００２２】[0022]
【特性】上記実施例及び比較例で得た磁気テープについ
て、金属磁性膜の結着性を調べた。すなわち、カートリ
ッジ先端が１０μｍで、負荷速度が１μｍ／ｓの条件下
でスクラッチテストを行った。又、ビデオカメラを改造
したものを用いてスチル耐久性を調べ、３ｄＢ低下する
までの時間を測定した。それらの結果を表−１に示す。[Characteristics] With respect to the magnetic tapes obtained in the above Examples and Comparative Examples, the binding property of the metal magnetic film was examined. That is, the scratch test was performed under the conditions that the tip of the cartridge was 10 μm and the load speed was 1 μm / s. Further, still durability was examined by using a modified video camera, and the time until a 3 dB decrease was measured. Table 1 shows the results.
【００２３】 表−１ スクラッチテスト（ｍＮ） スチル耐久性（時間） 実施例１ １５．４ ２．３ 実施例２ １４．５ １．８ 比較例 ８．２ ０．５ これから判る通り、本発明の装置で成膜すると、膜の結
着度が高く、剥離し難く、耐久性に富む膜が形成され
る。Table 1 Scratch test (mN) Still durability (time) Example 1 15.4 2.3 Example 2 14.5 1.8 Comparative example 8.2 0.5 When a film is formed by an apparatus, a film having a high degree of binding, hardly peeling, and a high durability is formed.
【００２４】[0024]
【発明の効果】本発明の装置を用いると、真空槽内を排
気した際に形成される排気流が蒸発粒子の飛行経路に影
響を与え、蒸発粒子が支持体に強く付着して堆積するよ
うになる。この結果、形成された膜の結着度が高く、剥
離し難く、耐久性に富むものとなる。According to the apparatus of the present invention, the exhaust stream formed when the inside of the vacuum chamber is evacuated affects the flight path of the evaporated particles, and the evaporated particles strongly adhere to the support and accumulate. become. As a result, the formed film has a high degree of binding, is hardly peeled off, and has high durability.
【図１】本発明になる真空成膜装置の一実施形態を示す
概略図FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of a vacuum film forming apparatus according to the present invention.
【図２】排気口部分の側面図FIG. 2 is a side view of an exhaust port portion.
【図３】従来の真空成膜装置の概略図FIG. 3 is a schematic diagram of a conventional vacuum film forming apparatus.
１ 真空槽 ２ 冷却キャンロール ３ 支持体 ４ ルツボ ５ 電子銃 ６ 第１の遮蔽板 ８ ノズル ９ 排気口 １０ 水平板 Reference Signs List 1 vacuum tank 2 cooling can roll 3 support 4 crucible 5 electron gun 6 first shielding plate 8 nozzle 9 exhaust port 10 horizontal plate
フロントページの続き (72)発明者 遠藤 克巳 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社研究所内Continued on the front page (72) Inventor Katsumi Endo 2606 Akabane, Kaigai, Haga-gun, Tochigi Pref.
Claims (4)
る真空成膜装置であって、 前記装置内に配設された排気口と、前記排気口につらな
る排気手段と、前記排気口に設けられた水平板とを具備
し、 前記排気口が、上下方向にあっては、前記装置内に配置
された支持体上に粒子が堆積する堆積領域の範囲内に対
応して、左右方向にあっては、支持体の幅の範囲内に対
応して設けられてなることを特徴とする真空成膜装置。1. A vacuum film forming apparatus for forming a film by depositing particles on a support, comprising: an exhaust port provided in the apparatus; exhaust means connected to the exhaust port; and the exhaust port A horizontal plate provided in the apparatus, wherein the exhaust port is in a vertical direction, corresponding to a range of a deposition area where particles are deposited on a support disposed in the apparatus, in a horizontal direction. Wherein the vacuum film forming apparatus is provided so as to correspond to the range of the width of the support.
持体上に堆積する粒子は電子銃の照射によって蒸発した
ものであり、前記電子銃は堆積領域を境にして排気口と
反対側に設けられていることを特徴とする請求項１の真
空成膜装置。2. A vacuum film forming apparatus is an oblique vapor deposition apparatus, wherein particles deposited on a support are evaporated by irradiation with an electron gun, and the electron gun is located on a side opposite to an exhaust port with respect to a deposition area. The vacuum film forming apparatus according to claim 1, wherein the vacuum film forming apparatus is provided in the apparatus.
持体上に堆積する粒子は電子銃の照射によって蒸発した
ものであり、粒子が堆積する堆積領域より支持体が供給
される上流側に電子銃が設けられており、前記堆積領域
より支持体が巻き取られる下流側に排気口が設けられて
いることを特徴とする請求項１又は請求項２の真空成膜
装置。3. The vacuum film forming apparatus is an oblique vapor deposition apparatus, wherein particles deposited on a support are evaporated by irradiation of an electron gun, and the support is supplied from a deposition area where the particles are deposited on an upstream side. 3. The vacuum film forming apparatus according to claim 1, wherein an electron gun is provided, and an exhaust port is provided on a downstream side where the support is wound up from the deposition area.
向における中心とが対応するよう排気口が設けられてな
ることを特徴とする請求項１〜請求項３いずれかの成膜
装置。4. The film forming apparatus according to claim 1, wherein the exhaust port is provided so that the center of the exhaust port in the left-right direction corresponds to the center of the support in the width direction. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5603097A JPH10251842A (en) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | Vacuum film deposition device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5603097A JPH10251842A (en) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | Vacuum film deposition device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10251842A true JPH10251842A (en) | 1998-09-22 |
Family
ID=13015681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5603097A Pending JPH10251842A (en) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | Vacuum film deposition device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10251842A (en) |
-
1997
- 1997-03-11 JP JP5603097A patent/JPH10251842A/en active Pending
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