JPH10251215A - 高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物並びにそれを含有する洗浄剤および乳化剤 - Google Patents
高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物並びにそれを含有する洗浄剤および乳化剤Info
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- JPH10251215A JPH10251215A JP9053212A JP5321297A JPH10251215A JP H10251215 A JPH10251215 A JP H10251215A JP 9053212 A JP9053212 A JP 9053212A JP 5321297 A JP5321297 A JP 5321297A JP H10251215 A JPH10251215 A JP H10251215A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 低粘度でゲル化し難いので、取り扱いし易
く、表面張力、浸透力も良好で、泡切れも良く、洗浄
力、乳化力に優れた高級第2級アルキルエーテル硫酸エ
ステル塩組成物を提供する。 【解決手段】 一般式(1) (式中、R1 、R2 はアルキル基であって、R1 +R2
の合計炭素数が7〜29で、かつR1 ≦R2 であり、A
は低級アルキレン基を表し、nは平均で1〜20であ
る。またMはアルカリ金属原子、アルカリ土類金属イオ
ン、アンモニアまたは置換アンモニウム基である。)で
表される高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組
成物であって、R1 がメチル基であるアルキルエーテル
硫酸エステル塩30〜90mol%と、R1 がメチル基
より大きいアルキル基であるアルキルエーテル硫酸エス
テル塩70〜10mol%と、からなる高級第2級アル
キルエーテル硫酸エステル塩組成物。
く、表面張力、浸透力も良好で、泡切れも良く、洗浄
力、乳化力に優れた高級第2級アルキルエーテル硫酸エ
ステル塩組成物を提供する。 【解決手段】 一般式(1) (式中、R1 、R2 はアルキル基であって、R1 +R2
の合計炭素数が7〜29で、かつR1 ≦R2 であり、A
は低級アルキレン基を表し、nは平均で1〜20であ
る。またMはアルカリ金属原子、アルカリ土類金属イオ
ン、アンモニアまたは置換アンモニウム基である。)で
表される高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組
成物であって、R1 がメチル基であるアルキルエーテル
硫酸エステル塩30〜90mol%と、R1 がメチル基
より大きいアルキル基であるアルキルエーテル硫酸エス
テル塩70〜10mol%と、からなる高級第2級アル
キルエーテル硫酸エステル塩組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高級第2級アルキ
ルエーテル硫酸エステル塩組成物並びにそれを含有する
洗浄剤および乳化剤に関する。
ルエーテル硫酸エステル塩組成物並びにそれを含有する
洗浄剤および乳化剤に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】陰イ
オン界面活性剤には、アルキルアリルスルホン酸塩、高
級第1級アルコール硫酸エステル塩、高級第1級アルキ
ルエーテル硫酸エステル塩などがある。
オン界面活性剤には、アルキルアリルスルホン酸塩、高
級第1級アルコール硫酸エステル塩、高級第1級アルキ
ルエーテル硫酸エステル塩などがある。
【0003】このうち、アルキルアリルスルホン酸塩、
特に直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩は、生分解性に
乏しいことから環境に対して、悪影響を及ぼすので、規
制される方向にある。
特に直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩は、生分解性に
乏しいことから環境に対して、悪影響を及ぼすので、規
制される方向にある。
【0004】また、アルキルアリルスルホン酸塩、高級
第1級アルコール硫酸エステル塩などは、水の硬度の影
響を受け易く、水溶性も乏しい。
第1級アルコール硫酸エステル塩などは、水の硬度の影
響を受け易く、水溶性も乏しい。
【0005】高級第1級アルキルエーテル硫酸エステル
塩については、粘度が高く、ゲル化し易いばかりでな
く、表面張力、浸透力など界面活性能も不十分で、さら
に洗浄力、乳化力も十分とはいえない。
塩については、粘度が高く、ゲル化し易いばかりでな
く、表面張力、浸透力など界面活性能も不十分で、さら
に洗浄力、乳化力も十分とはいえない。
【0006】その他の陰イオン界面活性剤についても、
性能的にも充分なものはない。
性能的にも充分なものはない。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、種々検討
した結果、特定の高級第2級アルキルエーテル硫酸エス
テル塩組成物が、低粘度でゲル化し難いので、取り扱い
し易く、表面張力、浸透力も良好で、泡切れも良く、洗
浄力、乳化力に優れた、界面活性剤が得られることを見
出し、本発明を完成するに至った。
した結果、特定の高級第2級アルキルエーテル硫酸エス
テル塩組成物が、低粘度でゲル化し難いので、取り扱い
し易く、表面張力、浸透力も良好で、泡切れも良く、洗
浄力、乳化力に優れた、界面活性剤が得られることを見
出し、本発明を完成するに至った。
【0008】すなわち、本発明の目的は、(i) 一般
式(1)
式(1)
【0009】
【化2】
【0010】(式中、R1 、R2 はアルキル基であっ
て、R1 +R2 の合計炭素数が7〜29で、かつR1 ≦
R2 であり、Aは低級アルキレン基であり、nは平均で
1〜20である。ただし、nが2以上の場合には、AO
で表されるオキシアルキレン基の種類は1種類または2
種類以上であってもよく、該オキシアルキレン基が2種
類以上の場合には、各種オキシアルキレン基が全体で平
均n個あることを示す。またMはアルカリ金属原子、ア
ルカリ土類金属イオン、アンモニアまたは置換アンモニ
ウム基である。)で表される高級第2級アルキルエーテ
ル硫酸エステル塩組成物であって、R1 がメチル基であ
るアルキルエーテル硫酸エステル塩30〜90mol%
と、R1 がメチル基より大きいアルキル基であるアルキ
ルエーテル硫酸エステル塩70〜10mol%と、から
なる高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物
により達成される。
て、R1 +R2 の合計炭素数が7〜29で、かつR1 ≦
R2 であり、Aは低級アルキレン基であり、nは平均で
1〜20である。ただし、nが2以上の場合には、AO
で表されるオキシアルキレン基の種類は1種類または2
種類以上であってもよく、該オキシアルキレン基が2種
類以上の場合には、各種オキシアルキレン基が全体で平
均n個あることを示す。またMはアルカリ金属原子、ア
ルカリ土類金属イオン、アンモニアまたは置換アンモニ
ウム基である。)で表される高級第2級アルキルエーテ
ル硫酸エステル塩組成物であって、R1 がメチル基であ
るアルキルエーテル硫酸エステル塩30〜90mol%
と、R1 がメチル基より大きいアルキル基であるアルキ
ルエーテル硫酸エステル塩70〜10mol%と、から
なる高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物
により達成される。
【0011】また、本発明の他の目的は、(ii) 上記
(i)の高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組
成物を含有することを特徴とする洗浄剤により達成され
る。
(i)の高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組
成物を含有することを特徴とする洗浄剤により達成され
る。
【0012】さらに、本発明の他の目的は、(iii) 上
記(i)の高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩
組成物を含有することを特徴とする乳化剤により達成さ
れる。
記(i)の高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩
組成物を含有することを特徴とする乳化剤により達成さ
れる。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明に係る高級第2級アルキル
エーテル硫酸エステル塩組成物は、一般式(1)
エーテル硫酸エステル塩組成物は、一般式(1)
【0014】
【化3】
【0015】(式中、R1 、R2 はアルキル基であっ
て、R1 +R2 の合計炭素数が7〜29で、かつR1 ≦
R2 であり、Aは低級アルキレン基であり、nは平均で
1〜20である。ただし、nが2以上の場合には、AO
で表されるオキシアルキレン基の種類は1種類または2
種類以上であってもよく、該オキシアルキレン基が2種
類以上の場合には、各種オキシアルキレン基が全体で平
均n個あることを示す。またMはアルカリ金属原子、ア
ルカリ土類金属イオン、アンモニアまたは置換アンモニ
ウム基である。)で表される高級第2級アルキルエーテ
ル硫酸エステル塩組成物であって、R1 がメチル基であ
るアルキルエーテル硫酸エステル塩30〜90mol%
と、R1 がメチル基より大きいアルキル基であるアルキ
ルエーテル硫酸エステル塩70〜10mol%とからな
る。
て、R1 +R2 の合計炭素数が7〜29で、かつR1 ≦
R2 であり、Aは低級アルキレン基であり、nは平均で
1〜20である。ただし、nが2以上の場合には、AO
で表されるオキシアルキレン基の種類は1種類または2
種類以上であってもよく、該オキシアルキレン基が2種
類以上の場合には、各種オキシアルキレン基が全体で平
均n個あることを示す。またMはアルカリ金属原子、ア
ルカリ土類金属イオン、アンモニアまたは置換アンモニ
ウム基である。)で表される高級第2級アルキルエーテ
ル硫酸エステル塩組成物であって、R1 がメチル基であ
るアルキルエーテル硫酸エステル塩30〜90mol%
と、R1 がメチル基より大きいアルキル基であるアルキ
ルエーテル硫酸エステル塩70〜10mol%とからな
る。
【0016】上記一般式(1)中、Aで表される低級ア
ルキレン基としては、炭素数2〜8、好ましくは炭素数
2〜4のアルキレン基である。従って、AOで表される
オキシアルキレン基としては、例えば、エトキシ基、プ
ロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。また、上記一
般式(1)中のAOで定義したように、これらのオキシ
アルキレン基は、1種類のみで構成されていてもよいほ
か、2種類以上で構成されていてもよい。その場合に
は、2種類以上のオキシアルキレン基がランダムに配置
されていてもよく、それぞれがブロックで配置されてい
てもよい。例えば、エトキシ基の長鎖の一部がプロポキ
シ基であるとした構成であってもよい。
ルキレン基としては、炭素数2〜8、好ましくは炭素数
2〜4のアルキレン基である。従って、AOで表される
オキシアルキレン基としては、例えば、エトキシ基、プ
ロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。また、上記一
般式(1)中のAOで定義したように、これらのオキシ
アルキレン基は、1種類のみで構成されていてもよいほ
か、2種類以上で構成されていてもよい。その場合に
は、2種類以上のオキシアルキレン基がランダムに配置
されていてもよく、それぞれがブロックで配置されてい
てもよい。例えば、エトキシ基の長鎖の一部がプロポキ
シ基であるとした構成であってもよい。
【0017】上記一般式(1)中、R1 、R2 で表され
るアルキル基は、好ましくは直鎖アルキル基であり、R
1 +R2 の合計炭素数が7〜29、好ましくは9〜19
で、かつR1 ≦R2 であればよい。上記一般式(1)中
のnは、平均で1〜20である。
るアルキル基は、好ましくは直鎖アルキル基であり、R
1 +R2 の合計炭素数が7〜29、好ましくは9〜19
で、かつR1 ≦R2 であればよい。上記一般式(1)中
のnは、平均で1〜20である。
【0018】本発明の高級第2級アルキルエーテル硫酸
エステル塩組成物は、上記一般式(1)で表される高級
第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物におい
て、R1 がメチル基であるアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩30〜90mol%と、R1 がメチル基より大きい
アルキル基であるアルキルエーテル硫酸エステル塩70
〜10mol%とから構成されてなるものである。
エステル塩組成物は、上記一般式(1)で表される高級
第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物におい
て、R1 がメチル基であるアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩30〜90mol%と、R1 がメチル基より大きい
アルキル基であるアルキルエーテル硫酸エステル塩70
〜10mol%とから構成されてなるものである。
【0019】本発明の高級第2級アルキルエーテル硫酸
エステル塩組成物の原料となる高級第2級アルコールア
ルコキシレートは、以下の反応によって合成することが
できる。
エステル塩組成物の原料となる高級第2級アルコールア
ルコキシレートは、以下の反応によって合成することが
できる。
【0020】炭素数8〜30の長鎖オレフィンと(ポ
リ)アルキレングリコールを酸触媒存在下で反応させ、
その生成物を蒸留、抽出、その他の方法により分離する
ことにより得られる。
リ)アルキレングリコールを酸触媒存在下で反応させ、
その生成物を蒸留、抽出、その他の方法により分離する
ことにより得られる。
【0021】さらに、この高級第2級アルコールアルコ
キシレートを得るために用いられる長鎖オレフィンとし
ては、エチレン系不飽和結合を有する炭素数8〜30の
炭化水素、好ましくは、エチレン系不飽和結合を有する
炭素数10〜20の非環式炭化水素が挙げられる。具体
的には、オクテン、デセン、ドデセン、テトラデセン、
ヘキサデセン、オクタデセン、エイコセンなどである。
これらは単独で用いてもよく、2種以上の混合物でもよ
い。
キシレートを得るために用いられる長鎖オレフィンとし
ては、エチレン系不飽和結合を有する炭素数8〜30の
炭化水素、好ましくは、エチレン系不飽和結合を有する
炭素数10〜20の非環式炭化水素が挙げられる。具体
的には、オクテン、デセン、ドデセン、テトラデセン、
ヘキサデセン、オクタデセン、エイコセンなどである。
これらは単独で用いてもよく、2種以上の混合物でもよ
い。
【0022】(ポリ)アルキレングリコールの具体例と
しては、モノエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、モノプロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオ
ール、2,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオール、パラキシレングリコー
ル、1,4−シクロヘキサンメタンジオールなどが挙げ
られる。これらは、単独で用いてもよく2種以上の混合
物でもよい。
しては、モノエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、モノプロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオ
ール、2,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオール、パラキシレングリコー
ル、1,4−シクロヘキサンメタンジオールなどが挙げ
られる。これらは、単独で用いてもよく2種以上の混合
物でもよい。
【0023】この長鎖オレフィンと(ポリ)アルキレン
グリコールの反応に用いる、酸触媒の具体例としては、
強酸性イオン交換樹脂、結晶性アルミノシリケート、ド
デシルベンゼンスルホン酸などであるが、反応性からみ
て、好ましくは、結晶性アルミノシリケートであり、な
かでも特に、BEA型ゼオライトが望ましい。
グリコールの反応に用いる、酸触媒の具体例としては、
強酸性イオン交換樹脂、結晶性アルミノシリケート、ド
デシルベンゼンスルホン酸などであるが、反応性からみ
て、好ましくは、結晶性アルミノシリケートであり、な
かでも特に、BEA型ゼオライトが望ましい。
【0024】また、該酸触媒量としては、上記長鎖オレ
フィンに対し、1〜50重量%、好ましくは2〜30重
量%である。該触媒量が1重量%未満の場合には、十分
な触媒能が得られず付加反応が促進できず、他方、50
重量%を超える場合には、さらなる添加に見合うだけの
効果が得られず不経済となるなど好ましくない。
フィンに対し、1〜50重量%、好ましくは2〜30重
量%である。該触媒量が1重量%未満の場合には、十分
な触媒能が得られず付加反応が促進できず、他方、50
重量%を超える場合には、さらなる添加に見合うだけの
効果が得られず不経済となるなど好ましくない。
【0025】この高級第2級アルコールアルコキシレー
トは、そのまま高級第2級アルキルエーテル硫酸エステ
ル塩組成物の原料として使用できるほか、さらに、エチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキ
サイド、スチレンオキサイドなどのアルキレンオキサイ
ドと、アルカリ触媒存在下で反応させて、高級第2級ア
ルコールアルコキシレートとし、硫酸エステル塩の原料
としても使用できる。
トは、そのまま高級第2級アルキルエーテル硫酸エステ
ル塩組成物の原料として使用できるほか、さらに、エチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキ
サイド、スチレンオキサイドなどのアルキレンオキサイ
ドと、アルカリ触媒存在下で反応させて、高級第2級ア
ルコールアルコキシレートとし、硫酸エステル塩の原料
としても使用できる。
【0026】この高級第2級アルコールアルコキシレー
トに対するアルキレンオキサイドのモル比は、特に限定
されないが、好ましくは1〜30、より好ましくは4〜
20である。また、このアルキレンオキサイドを付加す
る条件としては、反応温度が、通常50〜250℃、好
ましくは100〜200℃であり、反応圧力は、常圧ま
たは加圧のいずれでもよいが、常圧〜20kg/cm2
の範囲が望ましい。上記反応温度が50℃未満の場合に
は、反応速度が遅くなり、他方、250℃を超える場合
には、分解および副生成物の増加が起こるなど好ましく
ない。
トに対するアルキレンオキサイドのモル比は、特に限定
されないが、好ましくは1〜30、より好ましくは4〜
20である。また、このアルキレンオキサイドを付加す
る条件としては、反応温度が、通常50〜250℃、好
ましくは100〜200℃であり、反応圧力は、常圧ま
たは加圧のいずれでもよいが、常圧〜20kg/cm2
の範囲が望ましい。上記反応温度が50℃未満の場合に
は、反応速度が遅くなり、他方、250℃を超える場合
には、分解および副生成物の増加が起こるなど好ましく
ない。
【0027】また、上記アルカリ触媒としては、アルカ
リ金属またはアルカリ土類金属に属する元素の水酸化
物、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、
水酸化バリウムなどが挙げられる。入手のし易さおよび
反応性からみて、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどである。これらは、粉末でも、顆粒状で
も、さらには水溶液として添加し、脱水を行ってもよ
い。該アルカリ触媒の使用量としては、原料のアルコキ
シレートに対し、0.01〜2.0重量%、好ましくは
0.02〜0.5重量%がよい。
リ金属またはアルカリ土類金属に属する元素の水酸化
物、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、
水酸化バリウムなどが挙げられる。入手のし易さおよび
反応性からみて、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどである。これらは、粉末でも、顆粒状で
も、さらには水溶液として添加し、脱水を行ってもよ
い。該アルカリ触媒の使用量としては、原料のアルコキ
シレートに対し、0.01〜2.0重量%、好ましくは
0.02〜0.5重量%がよい。
【0028】上記高級第2級アルコールアルコキシレー
トの硫酸化には、クロルスルホン酸または無水硫酸を用
いて硫酸化する。
トの硫酸化には、クロルスルホン酸または無水硫酸を用
いて硫酸化する。
【0029】クロルスルホン酸を用いる場合、高級第2
級アルコールアルコキシレート中に、クロルスルホン酸
を公知の方法、例えば、直接もしくは空気、不活性ガス
などを同伴させて滴下し、または特公平1−36823
号公報に記載の方法によりラインミキサー付外部循環が
備えられた硫酸化装置などを利用して混合することによ
って、バッチ式で硫酸化を行う。クロルスルホン酸の滴
下時間は1〜2時間、反応温度は−20〜30℃、特に
0〜20℃が適している。
級アルコールアルコキシレート中に、クロルスルホン酸
を公知の方法、例えば、直接もしくは空気、不活性ガス
などを同伴させて滴下し、または特公平1−36823
号公報に記載の方法によりラインミキサー付外部循環が
備えられた硫酸化装置などを利用して混合することによ
って、バッチ式で硫酸化を行う。クロルスルホン酸の滴
下時間は1〜2時間、反応温度は−20〜30℃、特に
0〜20℃が適している。
【0030】無水硫酸を用いる場合、公知の方法、例え
ば、特公昭51−17538号公報に記載の方法によ
り、並流薄膜反応器を用い高級第2級アルコールアルコ
キシレートを薄膜状に流下し、不活性ガスにより希釈し
た無水硫酸ガスを並流させ気液接触させることにより、
連続式で硫酸化を行う。不活性ガスの速度は毎秒20〜
70m、ガス中の無水硫酸濃度は1〜10容量%、高級
第2級アルコールアルコキシレートに対する無水硫酸の
モル比は0.95〜1.2が望ましい。反応温度は−2
0〜60℃、特に0〜30℃が望ましい。
ば、特公昭51−17538号公報に記載の方法によ
り、並流薄膜反応器を用い高級第2級アルコールアルコ
キシレートを薄膜状に流下し、不活性ガスにより希釈し
た無水硫酸ガスを並流させ気液接触させることにより、
連続式で硫酸化を行う。不活性ガスの速度は毎秒20〜
70m、ガス中の無水硫酸濃度は1〜10容量%、高級
第2級アルコールアルコキシレートに対する無水硫酸の
モル比は0.95〜1.2が望ましい。反応温度は−2
0〜60℃、特に0〜30℃が望ましい。
【0031】硫酸化工程において、溶媒を用いることに
よって、さらに高収率で高品質の本発明の高級第2級ア
ルキルエーテル硫酸エステル塩組成物を製造することも
可能である。使用する溶媒の種類としては、クロロホル
ム、四塩化炭素、塩化エチル、塩化エチレン、1,1,
1−トリクロロエタン、1,1,1,2−テトラクロロ
エタンなどの塩素系溶媒、n−ペンタン、n−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶
媒、ジエチルエーテル、イソプロピルエーテルなどのエ
ーテル系溶媒などが挙げられる。溶媒濃度は反応溶液中
の10〜90重量%が望ましい。溶媒濃度が10重量%
未満では溶媒使用の効果がえられず、90重量%を超え
ると反応効率が悪くなり収率の低下などを招くので好ま
しくない。
よって、さらに高収率で高品質の本発明の高級第2級ア
ルキルエーテル硫酸エステル塩組成物を製造することも
可能である。使用する溶媒の種類としては、クロロホル
ム、四塩化炭素、塩化エチル、塩化エチレン、1,1,
1−トリクロロエタン、1,1,1,2−テトラクロロ
エタンなどの塩素系溶媒、n−ペンタン、n−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶
媒、ジエチルエーテル、イソプロピルエーテルなどのエ
ーテル系溶媒などが挙げられる。溶媒濃度は反応溶液中
の10〜90重量%が望ましい。溶媒濃度が10重量%
未満では溶媒使用の効果がえられず、90重量%を超え
ると反応効率が悪くなり収率の低下などを招くので好ま
しくない。
【0032】硫酸化後、得られた反応液を塩基性物質で
中和し、溶媒を使用した場合その溶媒を除去して、目的
の高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物を
得ることができる。
中和し、溶媒を使用した場合その溶媒を除去して、目的
の高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物を
得ることができる。
【0033】中和工程に適した塩基は、アルカリ金属水
酸化物、より好ましくは、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムおよび水酸化リチウム、アルカリ土類金属の酸化
物および水酸化物、より好ましくは、酸化マグネシウ
ム、水酸化マグネシウム、酸化カルシウムおよび水酸化
カルシウム、アンモニア、アルカノールアミン、より好
ましくは、モノ−、ジ−およびトリエタノールアミン、
並びに1アルキル基について1〜4の炭素原子を含む第
一、第二および第三アルキルアミンである。
酸化物、より好ましくは、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムおよび水酸化リチウム、アルカリ土類金属の酸化
物および水酸化物、より好ましくは、酸化マグネシウ
ム、水酸化マグネシウム、酸化カルシウムおよび水酸化
カルシウム、アンモニア、アルカノールアミン、より好
ましくは、モノ−、ジ−およびトリエタノールアミン、
並びに1アルキル基について1〜4の炭素原子を含む第
一、第二および第三アルキルアミンである。
【0034】次に、本発明の高級第2級アルキルエーテ
ル硫酸エステル塩組成物は、洗浄剤として単独で用いて
もよいが、従来より公知の洗浄剤用界面活性剤を併用し
てもよい。このような界面活性剤としては、例えば、ア
ルキルフェノールエトキシレート、高級第1級アルコー
ルエトキシレート、高級第2級アルコールエトキシレー
ト、脂肪酸エトキシレートなどの非イオン界面活性剤、
アルキルアミン塩、第4級アンモニウム塩などの陽イオ
ン界面活性剤、アルキルベタインなどの両性イオン界面
活性剤などがあげられる。
ル硫酸エステル塩組成物は、洗浄剤として単独で用いて
もよいが、従来より公知の洗浄剤用界面活性剤を併用し
てもよい。このような界面活性剤としては、例えば、ア
ルキルフェノールエトキシレート、高級第1級アルコー
ルエトキシレート、高級第2級アルコールエトキシレー
ト、脂肪酸エトキシレートなどの非イオン界面活性剤、
アルキルアミン塩、第4級アンモニウム塩などの陽イオ
ン界面活性剤、アルキルベタインなどの両性イオン界面
活性剤などがあげられる。
【0035】従来よりの陰イオン界面活性剤、例えば、
アルキルアリルスルホン酸塩、高級第1級アルコール硫
酸エステル塩、高級第1級アルキルエーテル硫酸エステ
ル塩などについても、本発明の洗浄剤の性能を損なわな
い範囲で併用することが可能である。
アルキルアリルスルホン酸塩、高級第1級アルコール硫
酸エステル塩、高級第1級アルキルエーテル硫酸エステ
ル塩などについても、本発明の洗浄剤の性能を損なわな
い範囲で併用することが可能である。
【0036】さらに、本発明の洗浄剤には、通常の洗浄
剤に使用されている種々の添加剤を加えることができ
る。このような添加剤としては、例えば、アルカリ剤、
ビルダー、香料、蛍光増白剤、着色剤、起泡剤、泡安定
剤、つや出し剤、殺菌剤、漂白剤、酵素、防腐剤、染
料、溶剤などが挙げられる。
剤に使用されている種々の添加剤を加えることができ
る。このような添加剤としては、例えば、アルカリ剤、
ビルダー、香料、蛍光増白剤、着色剤、起泡剤、泡安定
剤、つや出し剤、殺菌剤、漂白剤、酵素、防腐剤、染
料、溶剤などが挙げられる。
【0037】本発明の洗浄剤は、衣類、繊維製品、食
器、容器、雑貨器具、食品、ビルメインテナンス製品、
住居、家具、自動車、航空機、金属製品などの洗浄剤、
シャンプー、ボディシャンプーなどとして有効に用いる
ことができる。
器、容器、雑貨器具、食品、ビルメインテナンス製品、
住居、家具、自動車、航空機、金属製品などの洗浄剤、
シャンプー、ボディシャンプーなどとして有効に用いる
ことができる。
【0038】他方、本発明の高級第2級アルキルエーテ
ル硫酸エステル塩組成物は、また、乳化剤として単独で
用いてもよいが、必要に応じて他の従来公知の乳化剤を
含有していてもよい。例えば、乳化剤として一般に使用
されている陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、
非イオン界面活性剤あるいは両性イオン界面活性剤を併
用することができる。
ル硫酸エステル塩組成物は、また、乳化剤として単独で
用いてもよいが、必要に応じて他の従来公知の乳化剤を
含有していてもよい。例えば、乳化剤として一般に使用
されている陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、
非イオン界面活性剤あるいは両性イオン界面活性剤を併
用することができる。
【0039】本発明の乳化剤に用いる油性物質について
は、特に制限はなく、鉱物油、動植物油、合成油などを
使用することができる。これらは、単独でも、あるいは
2種以上混合して使用することもできる。鉱物油の例と
しては、例えば、スピンドル油、マシン油、流動パラフ
ィンなどを挙げることができる。動植物油の例として
は、牛脂、豚脂、魚油、鯨油、ナタネ油、ゴマ油、ヤシ
油、大豆油、パーム油、ツバキ油、ヒマシ油などを挙げ
ることができる。
は、特に制限はなく、鉱物油、動植物油、合成油などを
使用することができる。これらは、単独でも、あるいは
2種以上混合して使用することもできる。鉱物油の例と
しては、例えば、スピンドル油、マシン油、流動パラフ
ィンなどを挙げることができる。動植物油の例として
は、牛脂、豚脂、魚油、鯨油、ナタネ油、ゴマ油、ヤシ
油、大豆油、パーム油、ツバキ油、ヒマシ油などを挙げ
ることができる。
【0040】本発明の乳化剤は、農薬、金属加工油、塗
料および乳化重合用乳化剤などに用いることができる。
料および乳化重合用乳化剤などに用いることができる。
【0041】
【実施例】以下、実施例により、本発明を詳しく説明す
るが、本発明は、これら実施例に限定されるものではな
い。
るが、本発明は、これら実施例に限定されるものではな
い。
【0042】(合成法) 実施例1 第2級ドデシルエーテル硫酸エステル塩組
成物 1−ドデセンをPQ社製BEA型ゼオライト(商品名:
VALFOR CP811 BL−25)5重量%に
て、150℃10Hrs処理することにより得られた、
ドデセン異性体混合物(1−ドデセン 25mol%、
インナードデセン 75mol%からなる)810g
(4.82mol)、モノエチレングリコール 900
g(14.52mol)、および触媒としてPQ社製B
EA型ゼオライト(商品名:VALFOR CP 81
1 BL−25)100gを、撹拌翼および還流冷却器
を備えた3000mlのガラス製反応器に仕込み、気相
部を窒素で置換した後、常圧で窒素雰囲気に保持した。
ついで、回転数を600rpmとして撹拌しながら、1
50℃まで昇温後、同温度で3時間反応させた後、反応
液を室温まで冷却し、上層のドデセン相を分離し、蒸留
した。未反応のドデセンを留出した後、減圧度2mmH
gで129〜131℃の沸点範囲で第2級ドデカノール
モノエトキシレート155gを得た。
成物 1−ドデセンをPQ社製BEA型ゼオライト(商品名:
VALFOR CP811 BL−25)5重量%に
て、150℃10Hrs処理することにより得られた、
ドデセン異性体混合物(1−ドデセン 25mol%、
インナードデセン 75mol%からなる)810g
(4.82mol)、モノエチレングリコール 900
g(14.52mol)、および触媒としてPQ社製B
EA型ゼオライト(商品名:VALFOR CP 81
1 BL−25)100gを、撹拌翼および還流冷却器
を備えた3000mlのガラス製反応器に仕込み、気相
部を窒素で置換した後、常圧で窒素雰囲気に保持した。
ついで、回転数を600rpmとして撹拌しながら、1
50℃まで昇温後、同温度で3時間反応させた後、反応
液を室温まで冷却し、上層のドデセン相を分離し、蒸留
した。未反応のドデセンを留出した後、減圧度2mmH
gで129〜131℃の沸点範囲で第2級ドデカノール
モノエトキシレート155gを得た。
【0043】この第2級ドデカノールモノエトキシレー
トを内径5mm、長さ100cmの円管状の反応帯域を
形成する反応管を用い、その上部の液溜を経て反応管上
部に設けた堰より反応管の内壁に沿って、毎分16.2
gの速度で薄膜状に流下させた。同時に反応管上部に設
けたノズルより、窒素ガスで希釈した無水硫酸を流入さ
せた。流入させた全窒素ガスの反応管における流速を毎
秒30mとし、流入させた全混合ガス中の無水硫酸の濃
度を4容量%とした。また、流下させた無水硫酸と流下
させた第2級ドデカノールエトキシレートとのモル比を
1.1とした。エトキシレートと無水硫酸の反応で発生
した反応熱は、反応管の外側を流れる冷媒により除去
し、15℃に保った。反応管を出た流体は、サイクロン
により窒素ガスと反応生成物に分離した。反応生成物
は、直ちに水酸化ナトリウム水溶液により中和し、硫酸
エステル塩の約25%水溶液を得た。
トを内径5mm、長さ100cmの円管状の反応帯域を
形成する反応管を用い、その上部の液溜を経て反応管上
部に設けた堰より反応管の内壁に沿って、毎分16.2
gの速度で薄膜状に流下させた。同時に反応管上部に設
けたノズルより、窒素ガスで希釈した無水硫酸を流入さ
せた。流入させた全窒素ガスの反応管における流速を毎
秒30mとし、流入させた全混合ガス中の無水硫酸の濃
度を4容量%とした。また、流下させた無水硫酸と流下
させた第2級ドデカノールエトキシレートとのモル比を
1.1とした。エトキシレートと無水硫酸の反応で発生
した反応熱は、反応管の外側を流れる冷媒により除去
し、15℃に保った。反応管を出た流体は、サイクロン
により窒素ガスと反応生成物に分離した。反応生成物
は、直ちに水酸化ナトリウム水溶液により中和し、硫酸
エステル塩の約25%水溶液を得た。
【0044】得られた第2級ドデシルエーテル硫酸エス
テル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭素付加位
置については、 1H−NMR分析(図1)により、アル
キル末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2の位
置が硫酸エステル化された第2級ドデシルエーテル硫酸
エステル塩が、66mol%であった。
テル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭素付加位
置については、 1H−NMR分析(図1)により、アル
キル末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2の位
置が硫酸エステル化された第2級ドデシルエーテル硫酸
エステル塩が、66mol%であった。
【0045】〈硫酸エステル塩の位置の算出方法〉 1.15ppm付近の2重線の積分値(R1 がメチル基
であるR1 のメチル基のプロトン):a 0.9ppm付近の3重線の積分値(R1 がメチル基以
上のR1 の末端メチル基および、全てのR2 の末端のメ
チル基のプロトン):b 2の位置の硫酸エステル化されたアルキルエーテル硫酸
エステル塩の割合:c c=2a/(a+b) 〈NMR測定方法〉 機種:Varian UNITY Plus400(4
00MHz) 溶媒:CDCl3 +0.03%TMS:SAMPLE=
99:1 積算回数:161 H−NMR測定後に表示される条件は、以下の通りと
した。
であるR1 のメチル基のプロトン):a 0.9ppm付近の3重線の積分値(R1 がメチル基以
上のR1 の末端メチル基および、全てのR2 の末端のメ
チル基のプロトン):b 2の位置の硫酸エステル化されたアルキルエーテル硫酸
エステル塩の割合:c c=2a/(a+b) 〈NMR測定方法〉 機種:Varian UNITY Plus400(4
00MHz) 溶媒:CDCl3 +0.03%TMS:SAMPLE=
99:1 積算回数:161 H−NMR測定後に表示される条件は、以下の通りと
した。
【0046】 FREQUENCY 399.958MHz SPECTRAL WIDTH 7998.4Hz ACQUISITION TIME 4.001sec RELAXATION DELAY 3.000sec PULSE WIDTH 10.0usec AMBIENT TEMPERATURE NO.REPETITIONS16 DOUBLE PRECISION ACQUISIT
ION DATA PROCESSING FT SIZE 65536 TOTAL ACQUISITION TIME 1m
inutes.。
ION DATA PROCESSING FT SIZE 65536 TOTAL ACQUISITION TIME 1m
inutes.。
【0047】実施例2 第2級ドデシルエーテル硫酸
エステル塩組成物 実施例1の中間品である第2級ドデカノールエトキシレ
ート155g(0.67mol)および触媒として水酸
化ナトリウム0.2gをステンレス製オートクレーブに
仕込み、窒素置換後、反応器内の圧力を窒素にて1.0
kg/cm2 Gとし、150℃に昇温後、酸化エチレン
62g(1.41mol)を3Hrsでオートクレーブ
に導入した。導入後、さらに1Hr、150℃に保持し
た後、室温まで冷却し、内部の圧力をパージした後、オ
キシエチレン基が平均3.1molの第2級ドデカノー
ルエトキシレートを得た。
エステル塩組成物 実施例1の中間品である第2級ドデカノールエトキシレ
ート155g(0.67mol)および触媒として水酸
化ナトリウム0.2gをステンレス製オートクレーブに
仕込み、窒素置換後、反応器内の圧力を窒素にて1.0
kg/cm2 Gとし、150℃に昇温後、酸化エチレン
62g(1.41mol)を3Hrsでオートクレーブ
に導入した。導入後、さらに1Hr、150℃に保持し
た後、室温まで冷却し、内部の圧力をパージした後、オ
キシエチレン基が平均3.1molの第2級ドデカノー
ルエトキシレートを得た。
【0048】この酸化エチレンが付加した第2級ドデカ
ノールエトキシレート217g(0.67mol)を5
00mlフラスコに仕込み、10℃に冷却した。この中
にクロルスルホン酸86.3g(0.74mol)を約
1時間かけて滴下した。滴下中、液温は10〜15℃に
維持した。クロルスルホン酸滴下後、反応液中に窒素ガ
スを流し、副生の塩化水素ガスを除去し、次いで、20
℃以下に温度を維持しながら、反応液を水酸化ナトリウ
ム溶液中に滴下して中和し、硫酸エステル塩の約25%
水溶液を得た。
ノールエトキシレート217g(0.67mol)を5
00mlフラスコに仕込み、10℃に冷却した。この中
にクロルスルホン酸86.3g(0.74mol)を約
1時間かけて滴下した。滴下中、液温は10〜15℃に
維持した。クロルスルホン酸滴下後、反応液中に窒素ガ
スを流し、副生の塩化水素ガスを除去し、次いで、20
℃以下に温度を維持しながら、反応液を水酸化ナトリウ
ム溶液中に滴下して中和し、硫酸エステル塩の約25%
水溶液を得た。
【0049】得られた第2級ドデシルエーテル硫酸エス
テル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭素付加位
置については、 1H−NMR分析(図2)により、アル
キル末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2の位
置が硫酸エステル化された第2級ドデシルエーテル硫酸
エステル塩が、75mol%であった。硫酸エステル塩
の位置の算出方法およびNMR測定方法は、実施例1と
同様に行った。
テル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭素付加位
置については、 1H−NMR分析(図2)により、アル
キル末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2の位
置が硫酸エステル化された第2級ドデシルエーテル硫酸
エステル塩が、75mol%であった。硫酸エステル塩
の位置の算出方法およびNMR測定方法は、実施例1と
同様に行った。
【0050】実施例3 第2級ヘキサデシルエーテル
硫酸エステル塩組成物 1−ヘキサデセンをPQ社製BEA型ゼオライト(商品
名:VALFOR CP 811 BL−25)5重量
%にて、150℃13Hrs処理することにより得られ
た、ヘキサデセン異性体混合物(1−ヘキサデセン 2
0mol%、インナーヘキサデセン 80mol%から
なる)810g(3.62mol)、モノエチレングリ
コール 900g(14.52mol)、および触媒と
してPQ社製BEA型ゼオライト(商品名:VALFO
R CP 811 BL−25)100gを、撹拌翼お
よび還流冷却器を備えた3000mlのガラス製反応器
に仕込み、気相部を窒素で置換した後、常圧で窒素雰囲
気に保持した。ついで、回転数を600rpmとして撹
拌しながら、150℃まで昇温し、同温度で3時間反応
させた後、反応液を室温まで冷却し、上層のヘキサデセ
ン相を分離し、蒸留した。未反応のヘキサデセンを留出
した後、減圧度2mmHgで160〜165℃の沸点範
囲で第2級ヘキサデカノールエトキシレート 95gを
得た。
硫酸エステル塩組成物 1−ヘキサデセンをPQ社製BEA型ゼオライト(商品
名:VALFOR CP 811 BL−25)5重量
%にて、150℃13Hrs処理することにより得られ
た、ヘキサデセン異性体混合物(1−ヘキサデセン 2
0mol%、インナーヘキサデセン 80mol%から
なる)810g(3.62mol)、モノエチレングリ
コール 900g(14.52mol)、および触媒と
してPQ社製BEA型ゼオライト(商品名:VALFO
R CP 811 BL−25)100gを、撹拌翼お
よび還流冷却器を備えた3000mlのガラス製反応器
に仕込み、気相部を窒素で置換した後、常圧で窒素雰囲
気に保持した。ついで、回転数を600rpmとして撹
拌しながら、150℃まで昇温し、同温度で3時間反応
させた後、反応液を室温まで冷却し、上層のヘキサデセ
ン相を分離し、蒸留した。未反応のヘキサデセンを留出
した後、減圧度2mmHgで160〜165℃の沸点範
囲で第2級ヘキサデカノールエトキシレート 95gを
得た。
【0051】この第2級ヘキサデカノールエトキシレー
ト80g(0.28mol)および溶媒として塩化エチ
レン400gを1リットルフラスコに仕込み10℃に冷
却した。この中にクロルスルホン酸36g(0.31m
ol)を約1時間かけて滴下した。滴下中、液温は10
〜15℃に維持した。クロルスルホン酸滴下後、反応液
中に窒素ガスを流し、副生の塩化水素ガスを除去し、次
いで、20℃以下に温度を維持しながら、反応液を水酸
化ナトリウム溶液中に滴下して中和し、塩化エチレンを
除去して、硫酸エステル塩の約25%水溶液を得た。
ト80g(0.28mol)および溶媒として塩化エチ
レン400gを1リットルフラスコに仕込み10℃に冷
却した。この中にクロルスルホン酸36g(0.31m
ol)を約1時間かけて滴下した。滴下中、液温は10
〜15℃に維持した。クロルスルホン酸滴下後、反応液
中に窒素ガスを流し、副生の塩化水素ガスを除去し、次
いで、20℃以下に温度を維持しながら、反応液を水酸
化ナトリウム溶液中に滴下して中和し、塩化エチレンを
除去して、硫酸エステル塩の約25%水溶液を得た。
【0052】得られた第2級ヘキサデシルエーテル硫酸
エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭素付
加位置については、 1H−NMR分析(図3)により、
アルキル末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2
の位置が硫酸エステル化された第2級ヘキサデシルエー
テル硫酸エステル塩が、61mol%であった。硫酸エ
ステル塩の位置の算出方法およびNMR測定方法は、実
施例1と同様に行った。
エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭素付
加位置については、 1H−NMR分析(図3)により、
アルキル末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2
の位置が硫酸エステル化された第2級ヘキサデシルエー
テル硫酸エステル塩が、61mol%であった。硫酸エ
ステル塩の位置の算出方法およびNMR測定方法は、実
施例1と同様に行った。
【0053】比較例1 第1級アルキルエーテル硫酸
エステル塩 第1級アルコール(n−ドデカノールとn−テトラデカ
ノール混合物)593g(3.08mol)および触媒
として水酸化ナトリウム0.2gをステンレス製オート
クレーブに仕込み、窒素置換後、反応器内の圧力を窒素
にて1.0kg/cm2 Gとし、150℃に昇温後、酸
化エチレン407g(9.25mol)を3時間でオー
トクレーブに導入した。導入後、さらに1時間、150
℃に保持した後、室温まで冷却し、内部の圧力をパージ
した後、酸化エチレンが平均3.0mol付加した、第
1級アルコールエトキシレートを得た。
エステル塩 第1級アルコール(n−ドデカノールとn−テトラデカ
ノール混合物)593g(3.08mol)および触媒
として水酸化ナトリウム0.2gをステンレス製オート
クレーブに仕込み、窒素置換後、反応器内の圧力を窒素
にて1.0kg/cm2 Gとし、150℃に昇温後、酸
化エチレン407g(9.25mol)を3時間でオー
トクレーブに導入した。導入後、さらに1時間、150
℃に保持した後、室温まで冷却し、内部の圧力をパージ
した後、酸化エチレンが平均3.0mol付加した、第
1級アルコールエトキシレートを得た。
【0054】この第1級アルコールエトキシレート20
0g(0.62mol)を500mlフラスコに仕込み
10℃に冷却した。この中にクロルスルホン酸79.0
g(0.68mol)を約1時間かけて滴下した。滴下
中、液温は10〜15℃に維持した。クロルスルホン酸
滴下後、反応液中に窒素ガスを流し、副生の塩化水素ガ
スを除去し、次いで、20℃以下に温度を維持しなが
ら、反応液を水酸化ナトリウム水溶液中に滴下して中和
し、第1級アルキルエーテル硫酸エステル塩の約25%
水溶液を得た。
0g(0.62mol)を500mlフラスコに仕込み
10℃に冷却した。この中にクロルスルホン酸79.0
g(0.68mol)を約1時間かけて滴下した。滴下
中、液温は10〜15℃に維持した。クロルスルホン酸
滴下後、反応液中に窒素ガスを流し、副生の塩化水素ガ
スを除去し、次いで、20℃以下に温度を維持しなが
ら、反応液を水酸化ナトリウム水溶液中に滴下して中和
し、第1級アルキルエーテル硫酸エステル塩の約25%
水溶液を得た。
【0055】比較例2 第2級ドデシルエーテル硫酸
エステル塩組成物 1−ドデセン810g(4.82mol)、モノエチレ
ングリコール 900g(14.52mol)、および
触媒としてPQ社製BEA型ゼオライト(商品名:VA
LFOR CP 811 BL−25)100gを、撹
拌翼および還流冷却器を備えた3000mlのガラス製
反応器に仕込み、気相部を窒素で置換した後、常圧で窒
素雰囲気に保持した。ついで、回転数を600rpmと
して撹拌しながら、150℃まで昇温し、同温度で3時
間反応させた後、反応液を室温まで冷却し、上層のドデ
セン相を分離し、蒸留した。未反応のドデセンを留出し
た後、減圧度2mmHgで129〜131℃の沸点範囲
で第2級ドデカノールエトキシレート 255gを得
た。
エステル塩組成物 1−ドデセン810g(4.82mol)、モノエチレ
ングリコール 900g(14.52mol)、および
触媒としてPQ社製BEA型ゼオライト(商品名:VA
LFOR CP 811 BL−25)100gを、撹
拌翼および還流冷却器を備えた3000mlのガラス製
反応器に仕込み、気相部を窒素で置換した後、常圧で窒
素雰囲気に保持した。ついで、回転数を600rpmと
して撹拌しながら、150℃まで昇温し、同温度で3時
間反応させた後、反応液を室温まで冷却し、上層のドデ
セン相を分離し、蒸留した。未反応のドデセンを留出し
た後、減圧度2mmHgで129〜131℃の沸点範囲
で第2級ドデカノールエトキシレート 255gを得
た。
【0056】この第2級ドデカノールエトキシレート2
55g(1.11mol)および溶媒として塩化エチレ
ン510gを1リットルフラスコに仕込み10℃に冷却
した。この中にクロルスルホン酸142g(1.22m
ol)を約1時間かけて滴下した。滴下中、液温は10
〜15℃に維持した。クロルスルホン酸滴下後、反応液
中に窒素ガスを流し、副生の塩化水素ガスを除去し、次
いで、20℃以下に温度を維持しながら、反応液を水酸
化ナトリウム水溶液中に滴下して中和し、硫酸エステル
塩の約25%水溶液を得た。
55g(1.11mol)および溶媒として塩化エチレ
ン510gを1リットルフラスコに仕込み10℃に冷却
した。この中にクロルスルホン酸142g(1.22m
ol)を約1時間かけて滴下した。滴下中、液温は10
〜15℃に維持した。クロルスルホン酸滴下後、反応液
中に窒素ガスを流し、副生の塩化水素ガスを除去し、次
いで、20℃以下に温度を維持しながら、反応液を水酸
化ナトリウム水溶液中に滴下して中和し、硫酸エステル
塩の約25%水溶液を得た。
【0057】得られた第2級ドデシルエーテル硫酸エス
テル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭素付加位
置については、 1H−NMR分析(図4)により、アル
キル末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2の位
置が硫酸エステル化された第2級ドデシルエーテル硫酸
エステル塩が、94mol%であった。硫酸エステル塩
の位置の算出方法およびNMR測定方法は、実施例1と
同様に行った。
テル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭素付加位
置については、 1H−NMR分析(図4)により、アル
キル末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2の位
置が硫酸エステル化された第2級ドデシルエーテル硫酸
エステル塩が、94mol%であった。硫酸エステル塩
の位置の算出方法およびNMR測定方法は、実施例1と
同様に行った。
【0058】(物性・界面特性) 実施例4〜6および比較例3、4 実施例1〜3で得られた物質について、下記の測定を行
った(実施例4〜6)。同様に、比較例1および2で得
られた物質について、下記の測定を行った(比較例3、
4)。これらの測定結果を下記表1に示す。
った(実施例4〜6)。同様に、比較例1および2で得
られた物質について、下記の測定を行った(比較例3、
4)。これらの測定結果を下記表1に示す。
【0059】測定法 (1)液状範囲 25℃で、ブルックフィールド型回転粘度計にて測定し
た水溶液粘度より求めた。 (2)表面張力 ウイルヘルミー法に基づき、協和科学製の表面張力計を
用いて25℃で測定した。
(活性剤濃度:0.1重量%) (3)浸透力 木綿 :キャンパスディスク法により、25℃で帆布6
号を用いて測定した。(活性剤濃度:0.25重量%) (4)泡性状 JIS K−3362(ロスマイルス法)に準拠し、2
5℃で測定した。(活性剤濃度:0.1重量%)
た水溶液粘度より求めた。 (2)表面張力 ウイルヘルミー法に基づき、協和科学製の表面張力計を
用いて25℃で測定した。
(活性剤濃度:0.1重量%) (3)浸透力 木綿 :キャンパスディスク法により、25℃で帆布6
号を用いて測定した。(活性剤濃度:0.25重量%) (4)泡性状 JIS K−3362(ロスマイルス法)に準拠し、2
5℃で測定した。(活性剤濃度:0.1重量%)
【0060】
【表1】
【0061】実施例7〜9 実施例1〜3で得られた物質について、下記洗浄力の評
価を行った(実施例7〜9)。結果を下記表2に示す。
価を行った(実施例7〜9)。結果を下記表2に示す。
【0062】(評価方法)JIS K−3362に準拠
し、かき混ぜ式洗浄力試験器(Terg−O−tome
ter)を用いて、下記の条件でテストした。 〈洗浄条件〉 汚染布 :大きさ 5×5cm 汚染物質 (%) オレイン酸 28.3 トリオレイン 15.6 コレステロールオレート 12.2 流動パラフィン 2.5 スクワレン 1.6 コレステロール 7.0 ゼラチン 29.8 カーボンブラック 0.5 使用水 :上水 温度 :25℃ 時間 :洗浄5分間/すすぎ5分間 浴比 :3枚/1pot(1L) 活性剤濃度:0.03% 〈洗浄力の評価方法〉反射率計を用いて、汚染前の原
布、人工汚染布および洗浄後の洗浄布の反射率を各試験
片の布1枚につき3ヶ所測定し、その平均値から下記数
式より洗浄力(%)を算出した。
し、かき混ぜ式洗浄力試験器(Terg−O−tome
ter)を用いて、下記の条件でテストした。 〈洗浄条件〉 汚染布 :大きさ 5×5cm 汚染物質 (%) オレイン酸 28.3 トリオレイン 15.6 コレステロールオレート 12.2 流動パラフィン 2.5 スクワレン 1.6 コレステロール 7.0 ゼラチン 29.8 カーボンブラック 0.5 使用水 :上水 温度 :25℃ 時間 :洗浄5分間/すすぎ5分間 浴比 :3枚/1pot(1L) 活性剤濃度:0.03% 〈洗浄力の評価方法〉反射率計を用いて、汚染前の原
布、人工汚染布および洗浄後の洗浄布の反射率を各試験
片の布1枚につき3ヶ所測定し、その平均値から下記数
式より洗浄力(%)を算出した。
【0063】
【数1】
【0064】上記数式中、ROは原布の反射率を、RSは
人工汚染布の反射率を、RWは洗浄布の反射率をそれぞ
れ表す。
人工汚染布の反射率を、RWは洗浄布の反射率をそれぞ
れ表す。
【0065】
【表2】
【0066】実施例10〜12 実施例1〜3で得られた物質について、下記乳化力の評
価を行った。結果を下記表3に示す。
価を行った。結果を下記表3に示す。
【0067】(評価方法)水55ml、油分40mlの
混合液に合成したサンプルを5ml添加し、十分に混合
した後、静置する。5分後に水または油層の分離状態を
観察する。乳化状態の区分により次のように評価した。 ○:乳化状態の良いもの △:やや分離が起こるもの ×:完全に分離するもの
混合液に合成したサンプルを5ml添加し、十分に混合
した後、静置する。5分後に水または油層の分離状態を
観察する。乳化状態の区分により次のように評価した。 ○:乳化状態の良いもの △:やや分離が起こるもの ×:完全に分離するもの
【0068】
【表3】
【0069】
【発明の効果】本発明の高級第2級アルキルエーテル硫
酸エステル塩組成物は、特に低粘度でゲル化し難いの
で、取り扱いが容易で、表面張力、浸透力が良好で、泡
切れも良く、洗浄力、乳化力に優れるという特徴を有す
る。
酸エステル塩組成物は、特に低粘度でゲル化し難いの
で、取り扱いが容易で、表面張力、浸透力が良好で、泡
切れも良く、洗浄力、乳化力に優れるという特徴を有す
る。
【図1】 実施例1で得られた第2級ドデシルエーテル
硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭
素付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析データであ
る。
硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭
素付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析データであ
る。
【図2】 実施例2で得られた第2級ドデシルエーテル
硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭
素付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析データであ
る。
硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭
素付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析データであ
る。
【図3】 実施例3で得られた第2級ヘキサデシルエー
テル硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル
鎖炭素付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析データ
である。
テル硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル
鎖炭素付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析データ
である。
【図4】 比較例2で得られた第2級ドデシルエーテル
硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭
素付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析データであ
る。
硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭
素付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析データであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 恩田 義幸 大阪府吹田市西御旅町5番8号 株式会社 日本触媒内
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、R1 、R2 はアルキル基であって、R1 +R2
の合計炭素数が7〜29で、かつR1 ≦R2 であり、A
は低級アルキレン基を表し、nは平均で1〜20であ
る。ただし、nが2以上の場合には、AOで表されるオ
キシアルキレン基の種類は1種類または2種類以上であ
ってもよく、該オキシアルキレン基が2種類以上の場合
には、各種オキシアルキレン基が全体で平均n個あるこ
とを示す。またMはアルカリ金属原子、アルカリ土類金
属イオン、アンモニアまたは置換アンモニウム基であ
る。)で表される高級第2級アルキルエーテル硫酸エス
テル塩組成物であって、 R1 がメチル基であるアルキルエーテル硫酸エステル塩
30〜90mol%と、 R1 がメチル基より大きいアルキル基であるアルキルエ
ーテル硫酸エステル塩70〜10mol%と、からなる
高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物。 - 【請求項2】 請求項1の高級第2級アルキルエーテル
硫酸エステル塩組成物を含有することを特徴とする洗浄
剤。 - 【請求項3】 請求項1の高級第2級アルキルエーテル
硫酸エステル塩組成物を含有することを特徴とする乳化
剤。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9053212A JPH10251215A (ja) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | 高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物並びにそれを含有する洗浄剤および乳化剤 |
TW086118154A TW519535B (en) | 1996-12-06 | 1997-12-03 | Higher secondary alcohol alkoxylate compound composition, method for production thereof, and detergent and emulsifier using the composition |
EP97309783A EP0850907B1 (en) | 1996-12-06 | 1997-12-04 | Higher secondary alcohol alkoxylate compound composition, method for production thereof, and detergent and emulsifier using the composition |
DE69730682T DE69730682T2 (de) | 1996-12-06 | 1997-12-04 | Zusammensetzungen von höheren Sekundäralkoholalkoxylaten, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende Waschmittel und Emulgatoren |
US08/985,463 US6017875A (en) | 1996-12-06 | 1997-12-05 | Higher secondary alcohol alkoxylate compound composition, method for production thereof, and detergent and emulsifier using the composition |
KR1019970066477A KR100243735B1 (ko) | 1996-12-06 | 1997-12-06 | 고급 제2급 알콜 알콕실레이트 화합물 조성물,그 제조방법,이를 이용한 세정제 및 유화제 |
CN97129752A CN1091642C (zh) | 1996-12-06 | 1997-12-06 | 高级仲醇烷氧基化物混合物、其制备方法、以及使用该成分的洗涤剂和乳化剂 |
US09/464,995 US6255275B1 (en) | 1996-12-06 | 1999-12-16 | Higher secondary alcohol alkoxylate compound composition, method for production thereof, and detergent and emulsifier using the composition |
CNB01145265XA CN1213979C (zh) | 1996-12-06 | 2001-12-31 | 高级仲醇烷氧基化物氧化烯加合物或高级仲醇烷氧基化物的硫酸酯混合物的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9053212A JPH10251215A (ja) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | 高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物並びにそれを含有する洗浄剤および乳化剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10251215A true JPH10251215A (ja) | 1998-09-22 |
Family
ID=12936544
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9053212A Pending JPH10251215A (ja) | 1996-12-06 | 1997-03-07 | 高級第2級アルキルエーテル硫酸エステル塩組成物並びにそれを含有する洗浄剤および乳化剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10251215A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999064386A1 (fr) * | 1998-06-05 | 1999-12-16 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Composition de derives d'ether d'alkyle superieur de polyalkylene glycol, detergent, lubrifiant et preparation a usage externe pour la peau contenant chacun cette composition |
JP2010509437A (ja) * | 2006-11-03 | 2010-03-25 | コグニス・アイピー・マネージメント・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 非イオン性界面活性剤のアニオン性および他の誘導体、製造方法および乳化重合およびポリマー分散液における使用 |
JP2011105874A (ja) * | 2009-11-19 | 2011-06-02 | Adeka Corp | ポリカーボネート樹脂用帯電防止剤及びポリカーボネート樹脂組成物 |
JP2012524744A (ja) * | 2009-04-22 | 2012-10-18 | アクゾ ノーベル ケミカルズ インターナショナル ベスローテン フエンノートシャップ | 低泡性非ゲル化界面活性剤の調製方法及び組成物 |
JP2018177618A (ja) * | 2017-04-20 | 2018-11-15 | 麻生フオームクリート株式会社 | 気泡モルタル用起泡剤および気泡モルタルの製造方法 |
Citations (6)
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JPS49117429A (ja) * | 1973-03-19 | 1974-11-09 | ||
JPS507561B1 (ja) * | 1965-03-26 | 1975-03-27 | ||
JPS5077318A (ja) * | 1973-11-06 | 1975-06-24 | ||
JPS56133256A (en) * | 1980-03-24 | 1981-10-19 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | Production of high-purity higher secondary alcohol ethoxy sulfate |
JPS57149263A (en) * | 1981-03-10 | 1982-09-14 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | Liquid higher alcoholic ethoxysulfate salt composition of high concentration |
JPH01290604A (ja) * | 1988-05-18 | 1989-11-22 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 水中崩壊性良好な農薬粒剤 |
-
1997
- 1997-03-07 JP JP9053212A patent/JPH10251215A/ja active Pending
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US6278007B1 (en) | 1998-06-05 | 2001-08-21 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | (Poly)alkylene glycol higher alkyl ether derivative composition and detergent, lubricant, and dermatologic medicine for external use containing the composition |
JP2010509437A (ja) * | 2006-11-03 | 2010-03-25 | コグニス・アイピー・マネージメント・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 非イオン性界面活性剤のアニオン性および他の誘導体、製造方法および乳化重合およびポリマー分散液における使用 |
JP2012524744A (ja) * | 2009-04-22 | 2012-10-18 | アクゾ ノーベル ケミカルズ インターナショナル ベスローテン フエンノートシャップ | 低泡性非ゲル化界面活性剤の調製方法及び組成物 |
JP2011105874A (ja) * | 2009-11-19 | 2011-06-02 | Adeka Corp | ポリカーボネート樹脂用帯電防止剤及びポリカーボネート樹脂組成物 |
JP2018177618A (ja) * | 2017-04-20 | 2018-11-15 | 麻生フオームクリート株式会社 | 気泡モルタル用起泡剤および気泡モルタルの製造方法 |
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