JPH10250812A - Substrate conveying device and substrate processing device provided with substrate conveying device - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate conveying device and a substrate processing device having the substrate conveying device which can easily cope with the changes in width of substrates to be conveyed. SOLUTION: The substrate conveying device is provided with a rotation regulating members 2 installed on both sides of a conveying path of a substrate 1, motors 3 for rotating the rotation regulating members 2, and cylinder mechanism 4 for lowering and raising the rotation regulating members 2 together with the motors 3. The rotation regulating member 2 is made up of a rotary shaft 21 mounted in a vertical position, a cylindrical substrate receiving part 22 provided on the rotary shaft 21, a first cylindrical part 23 provided on the substrate receiving part 22 and having a smaller diameter than that of the substrate receiving part 22, a second cylindrical part 24 provided on the first cylindrical part 23 smaller in diameter than the first cylindrical part 23, and a third cylindrical part 25 provided on the second cylindrical part 24 smaller in diameter than the second cylindrical part 24. The rotary shaft 21, the substrate receiving part 22, the first cylindrical part 23, the second cylindrical part 24, and the third cylindrical part 25 are coaxially arranged, respectively.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示パネル
用ガラス基板、カラーフィルター用基板、半導体製造装
置用マスク基板、サーマルヘッド用基板等の基板を搬送
するための基板搬送装置およびこの基板搬送装置を有す
る基板処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate transfer device for transferring substrates such as a glass substrate for a liquid crystal display panel, a substrate for a color filter, a mask substrate for a semiconductor manufacturing apparatus, and a substrate for a thermal head. And a substrate processing apparatus having the same.

【０００２】[0002]

【従来の技術】この種の基板搬送装置としては、一対の
側板間に軸支された複数の搬送ローラにより基板の裏面
を支持し、この搬送ローラを回転駆動することにより基
板を搬送経路に沿って搬送するものが知られている。そ
して、この基板搬送装置においては、基板の搬送方向と
直交する方向である基板の幅方向の位置変位を規制する
ため、搬送ローラの両端部には規制部材が付設されてい
る。2. Description of the Related Art In a substrate transfer apparatus of this type, a back surface of a substrate is supported by a plurality of transfer rollers pivotally supported between a pair of side plates, and the transfer rollers are driven to rotate to move the substrate along a transfer path. What is conveyed by transport is known. In this substrate transport apparatus, regulating members are attached to both ends of the transport roller in order to regulate positional displacement in the width direction of the substrate, which is a direction orthogonal to the substrate transport direction.

【０００３】この規制部材は、基板の裏面における両端
縁部と当接する小径部と、この小径部の外側に設けられ
た大径部と、小径部と大径部とをつなぐ円錐台状のテー
パ部とから構成され、搬送路に沿って搬送される基板の
両端縁の幅方向への移動をテーパー部で規制することに
より、基板の幅方向の位置を規制するように構成されて
いる。The restricting member has a small-diameter portion in contact with both edge portions on the back surface of the substrate, a large-diameter portion provided outside the small-diameter portion, and a frustoconical taper connecting the small-diameter portion and the large-diameter portion. The taper portion restricts the widthwise movement of both edges of the substrate conveyed along the conveyance path, thereby restricting the position of the substrate in the widthwise direction.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このような基板搬送装
置において、基板の幅方向の位置を確実に規制しながら
基板を良好に搬送するためには、搬送ローラの両端部に
付設された規制部材における各小径部の外側端同士の間
隔（すなわち、各テーパー部の内側端同士の間隔）を基
板の幅寸法に一致させる必要がある。したがって、この
基板搬送装置により幅寸法の異なる基板を搬送するため
には、規制部材における各小径部の外側端同士の間隔を
変更する必要がある。In such a substrate transport apparatus, in order to transport the substrate satisfactorily while reliably restricting the position of the substrate in the width direction, regulating members provided at both ends of the transport roller are required. It is necessary to make the interval between the outer ends of the small diameter portions (that is, the interval between the inner ends of the tapered portions) equal to the width dimension of the substrate. Therefore, in order to transport substrates having different widths by this substrate transport device, it is necessary to change the distance between the outer ends of the small diameter portions of the regulating member.

【０００５】このため、従来においては、搬送すべき基
板の幅寸法が変更になる度に、複数の搬送ローラを交換
したり、搬送ローラにおける規制部材の位置を変更した
りする極めて煩雑な作業を必要としていた。For this reason, conventionally, every time the width of the substrate to be transferred is changed, a very complicated operation of replacing a plurality of transfer rollers or changing the position of the regulating member in the transfer rollers is required. Needed.

【０００６】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、搬送すべき基板の幅寸法の変更に容易
に対応することができる基板搬送装置およびこの基板搬
送装置を有する基板処理装置を提供することを目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and provides a substrate transfer apparatus capable of easily coping with a change in the width of a substrate to be transferred and a substrate processing apparatus having the substrate transfer apparatus. The purpose is to provide.

【０００７】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、基板の搬送方向と直交する方向である基板の幅方向
の位置変位を規制するための規制部材を基板の搬送路の
両側に配設した基板搬送装置であって、前記搬送路の両
側に配設した規制部材のうち少なくとも一方の規制部材
を、鉛直方向を向く回転軸と、この回転軸に設けられた
基板受け部と、この基板受け部の片面に設けられ前記回
転軸の軸芯を中心とする第１の直径を有する第１円筒部
と、この第１円筒部の前記基板受け部とは反対側に設け
られ前記回転軸の軸芯を中心とする前記第１円筒部より
も小さい第２の直径を有する第２円筒部とからなる回転
規制部材から構成するとともに、この回転規制部材によ
り幅方向の位置変位を規制された基板を前記搬送路に沿
って搬送するための搬送駆動源を配設したことを特徴と
する。According to a first aspect of the present invention, a regulating member for regulating a positional displacement in a width direction of a substrate, which is a direction orthogonal to a substrate carrying direction, is provided on both sides of a substrate carrying path. In the substrate transport device disposed, at least one of the regulating members disposed on both sides of the transport path, a rotating shaft that is oriented vertically, a substrate receiving portion provided on the rotating shaft, A first cylindrical portion provided on one surface of the substrate receiving portion and having a first diameter centered on the axis of the rotating shaft; and a first cylindrical portion provided on the opposite side of the substrate receiving portion to the rotating portion. A second cylindrical portion having a second diameter smaller than the first cylindrical portion around the axis of the shaft; and a second cylindrical portion having a second diameter smaller than the first cylindrical portion, and a positional displacement in the width direction is restricted by the rotation restricting member. For transporting the substrate along the transport path. Characterized by being arranged drive source feeding.

【０００８】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、前記回転規制部材を、前記基板受け部
が前記第１の円筒部より下側となるように配置してい
る。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the rotation restricting member is disposed such that the substrate receiving portion is located below the first cylindrical portion.

【０００９】請求項３に記載の発明は、請求項１または
２いずれかに記載の発明において、前記搬送駆動源は前
記回転規制部材の回転軸を回転駆動する。According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the invention, the transport driving source rotationally drives a rotation shaft of the rotation regulating member.

【００１０】請求項４に記載の発明は、請求項１または
２いずれかに記載の発明において、前記回転規制部材に
より幅方向の位置変位を規制された基板を裏面から支持
する支持ローラをさらに備え、前記搬送駆動源は前記支
持ローラを回転駆動する。According to a fourth aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, a support roller is further provided for supporting, from the back surface, the substrate whose displacement in the width direction is restricted by the rotation restricting member. The transport drive source rotationally drives the support roller.

【００１１】請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４
いずれかに記載の発明において、前記回転規制部材を昇
降させる昇降機構をさらに備えている。[0011] The invention according to claim 5 provides the invention according to claims 1 to 4.
In any one of the inventions described above, the apparatus further includes an elevating mechanism for elevating the rotation regulating member.

【００１２】請求項６に記載の発明は、請求項１乃至４
いずれかに記載の基板搬送装置を有する基板処理装置で
あって、前記基板搬送装置により搬送される基板に対し
て処理を施す処理機構と、前記基板搬送装置に対して前
記処理機構を昇降させる昇降機構とを備えたことを特徴
とする。The invention according to claim 6 is the invention according to claims 1 to 4
A substrate processing apparatus having the substrate transport device according to any one of claims 1 to 3, wherein a processing mechanism that performs processing on a substrate transported by the substrate transport apparatus, and an elevating mechanism that raises and lowers the processing mechanism with respect to the substrate transport apparatus And a mechanism.

【００１３】[0013]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図１はこの発明の第１実施形態
に係る基板搬送装置の要部を示す斜視図であり、図２は
基板搬送装置の正面図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a main part of a substrate transfer device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a front view of the substrate transfer device.

【００１４】この基板搬送装置は、基板１の搬送路の両
側に対をなす状態で配設された複数の回転規制部材２
と、この回転規制部材２を回転駆動するモータ３と、回
転規制部材２をモータ３とともに昇降させるシリンダ機
構４と、対をなす回転規制部材２の間に各々配設された
案内ローラ５とを備える。This substrate transfer device comprises a plurality of rotation restricting members 2 arranged in pairs on both sides of a transfer path of a substrate 1.
A motor 3 for rotating the rotation regulating member 2, a cylinder mechanism 4 for moving the rotation regulating member 2 up and down together with the motor 3, and a guide roller 5 disposed between the pair of rotation regulating members 2. Prepare.

【００１５】上記回転規制部材２は、基板１の裏面と当
接して回転することにより基板１を搬送するとともに、
基板１の搬送方向と直交する方向である基板１の幅方向
（以下、単に「幅方向」という）の位置変位を規制する
ためのものである。この回転規制部材２は、鉛直方向を
向く回転軸２１と、この回転軸２１に設けられた円筒状
の基板受け部２２と、この基板受け部２２の上方に設け
られた基板受け部２２より小径の第１円筒部２３と、こ
の第１円筒部２３の上方に設けられた第１円筒部２３よ
り小径の第２円筒部２４と、この第２円筒部２４の上方
に設けられた第２円筒部２４より小径の第３円筒部２５
とから構成される。これらの回転軸２１、基板受け部２
２、第１円筒部２３、第２円筒部２４および第３円筒部
２５は、それぞれ同軸状に配設されている。The rotation restricting member 2 transports the substrate 1 by rotating while being in contact with the back surface of the substrate 1.
This is for restricting positional displacement in the width direction of the substrate 1 (hereinafter, simply referred to as “width direction”) which is a direction orthogonal to the transport direction of the substrate 1. The rotation restricting member 2 has a rotating shaft 21 extending in a vertical direction, a cylindrical substrate receiving portion 22 provided on the rotating shaft 21, and a smaller diameter than the substrate receiving portion 22 provided above the substrate receiving portion 22. A first cylindrical portion 23, a second cylindrical portion 24 provided above the first cylindrical portion 23 and having a smaller diameter than the first cylindrical portion 23, and a second cylindrical portion provided above the second cylindrical portion 24. Third cylindrical portion 25 smaller in diameter than portion 24
It is composed of These rotating shaft 21 and substrate receiving portion 2
2, the first cylindrical portion 23, the second cylindrical portion 24, and the third cylindrical portion 25 are coaxially arranged.

【００１６】回転規制部材２における基板受け部２２、
第１円筒部２３および第２円筒部２４の上面は、図３に
示すように、その中心部から端縁部に向かって順次低く
なる傾斜面となっている。このため、これらの基板受け
部２２、第１円筒部２３または第２円筒部２４により支
持される基板１は、その端縁の角部でのみ基板受け部２
２、第１円筒部２３または第２円筒部２４の上面と接触
する。The substrate receiving portion 22 of the rotation restricting member 2
As shown in FIG. 3, the upper surfaces of the first cylindrical portion 23 and the second cylindrical portion 24 are inclined surfaces that gradually become lower from the center to the edge. For this reason, the substrate 1 supported by the substrate receiving portion 22, the first cylindrical portion 23, or the second cylindrical portion 24 has the substrate receiving portion 2 only at a corner of the edge.
2. Contact with the upper surface of the first cylindrical portion 23 or the second cylindrical portion 24.

【００１７】回転規制部材２の回転軸２１はモータ３の
駆動軸と接続されている。そして、モータ３はシリンダ
機構４の駆動軸と接続されている。このシリンダ機構４
は、回転規制部材２を昇降させるとともに、上部位置、
中央位置および下部位置の３箇所の位置で固定するため
のものであり、例えば、油圧シリンダ機構や３個のエア
シリンダを組み合わせたエアシリンダ機構から構成され
ている。The rotation shaft 21 of the rotation regulating member 2 is connected to the drive shaft of the motor 3. The motor 3 is connected to a drive shaft of the cylinder mechanism 4. This cylinder mechanism 4
Moves the rotation regulating member 2 up and down,
It is for fixing at three positions, a center position and a lower position, and is composed of, for example, a hydraulic cylinder mechanism or an air cylinder mechanism combining three air cylinders.

【００１８】なお、図１および図２に示す実施の形態に
おいては、各回転規制部材２毎にモータ３とシリンダ機
構４とを配設しているが、これらを複数の回転規制部材
２で共用するようにしてもよい。In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the motor 3 and the cylinder mechanism 4 are provided for each rotation restricting member 2, but these are shared by a plurality of rotation restricting members 2. You may make it.

【００１９】上記案内ローラ５は、対をなす回転規制部
材２の間に配設された支持軸３１に対し回転自在に支持
されており、回転規制部材２に支持された基板１の裏面
と当接することにより、この基板１を案内する。なお、
基板１の幅方向の寸法が小さい場合や剛性が高い場合に
おいては、この案内ローラ５を省略することも可能であ
る。The guide roller 5 is rotatably supported by a support shaft 31 disposed between a pair of rotation restricting members 2 and is in contact with the back surface of the substrate 1 supported by the rotation restricting member 2. The substrate 1 is guided by the contact. In addition,
When the size of the substrate 1 in the width direction is small or the rigidity is high, the guide roller 5 can be omitted.

【００２０】上記基板搬送装置の上方には、複数の吐出
口３２が穿設された管状の処理液供給ノズル６が配設さ
れている。この処理液供給ノズル６は、基板搬送装置に
より搬送される基板１に対し、処理液を供給することに
よりその処理を行う処理機構として機能する。処理液供
給ノズル６は、図示しない洗浄液やエッチング液等の処
理液の供給源とポンプ等を介して接続されており、複数
の吐出孔３２から基板１に向けて処理液を吐出する。Above the substrate transfer device, a tubular processing liquid supply nozzle 6 having a plurality of discharge ports 32 is provided. The processing liquid supply nozzle 6 functions as a processing mechanism that performs processing by supplying a processing liquid to the substrate 1 transported by the substrate transport apparatus. The processing liquid supply nozzle 6 is connected to a processing liquid supply source (not shown) such as a cleaning liquid or an etching liquid via a pump or the like, and discharges the processing liquid from the plurality of discharge holes 32 toward the substrate 1.

【００２１】なお、この実施の形態においては、処理液
供給ノズル６を基板１の搬送方向と直交する方向に配設
しているが、この処理液供給ノズル６は、基板１の搬送
方向に配設してもよく、また、基板１の搬送方向と交差
する方向に配設してもよい。In this embodiment, the processing liquid supply nozzle 6 is disposed in a direction perpendicular to the direction in which the substrate 1 is transported, but the processing liquid supply nozzle 6 is disposed in the direction in which the substrate 1 is transported. And may be provided in a direction intersecting with the transport direction of the substrate 1.

【００２２】上述した基板搬送装置においては、その幅
方向の寸法が異なる３種類の基板１を搬送することがで
きる。以下、この基板搬送装置による基板１の搬送状態
について説明する。In the above-described substrate transfer device, three types of substrates 1 having different dimensions in the width direction can be transferred. Hereinafter, the transfer state of the substrate 1 by the substrate transfer device will be described.

【００２３】この基板搬送装置により幅の小さい基板１
を搬送する場合においては、図１および図２（ａ）に示
すように、シリンダ機構４の駆動により各回転規制部材
２を上昇させ、各回転規制部材２を、その基板受け部２
２の上面が案内ローラ５の上端と同一高さになる位置で
停止させる。そして、この状態において、モータ３の駆
動により各回転規制部材２を回転させるとともに、基板
１を基板搬送装置に進入させる。The substrate transfer device is used to control the substrate 1 having a small width.
1 and 2 (a), each rotation regulating member 2 is raised by driving a cylinder mechanism 4, and each rotation regulating member 2 is moved to its substrate receiving portion 2 as shown in FIGS.
2 is stopped at a position where the upper surface is at the same height as the upper end of the guide roller 5. In this state, the rotation restricting members 2 are rotated by driving the motor 3, and the substrate 1 is caused to enter the substrate transfer device.

【００２４】これにより、基板１は、その裏面の中央部
を案内ローラ５により案内されるとともに、その裏面の
両端部で各回転規制部材２の基板受け部２２上面と接触
し、回転規制部材２の回転に伴い搬送路に沿って搬送さ
れる。また、基板１は、その両端縁が各回転規制部材２
の第１円筒部２３側壁と当接することにより、その幅方
向の位置変位を規制される。As a result, the substrate 1 is guided by the guide rollers 5 at the center of the rear surface, and contacts the upper surface of the substrate receiving portion 22 of each rotation restricting member 2 at both ends of the rear surface. Is transported along the transport path with the rotation of. Further, the substrate 1 has both ends of each rotation regulating member 2.
By contacting the side wall of the first cylindrical portion 23, the positional displacement in the width direction thereof is regulated.

【００２５】また、この基板搬送装置により中間幅を有
する基板１を搬送する場合においては、図２（ｂ）に示
すように、シリンダ機構４の駆動により各回転規制部材
２を移動させて、各回転規制部材２を、その第１円筒部
２３の上面が案内ローラ５の上端と同一高さになる位置
で停止させる。これにより、基板１は、その裏面の中央
部を案内ローラ５により案内されるとともに、その裏面
の両端部で各回転規制部材２の第１円筒部２３上面と接
触し、回転規制部材２の回転に伴い搬送路に沿って搬送
される。また、基板１は、その両端縁が各回転規制部材
２の第２円筒部２４側壁と当接することにより、その幅
方向の位置変位を規制される。When the substrate 1 having an intermediate width is transported by the substrate transport device, as shown in FIG. The rotation restricting member 2 is stopped at a position where the upper surface of the first cylindrical portion 23 is flush with the upper end of the guide roller 5. As a result, the substrate 1 is guided by the guide rollers 5 at the center of the back surface thereof, and contacts the upper surfaces of the first cylindrical portions 23 of the respective rotation regulating members 2 at both ends of the back surface, thereby rotating the rotation regulating member 2. Is transported along the transport path. In addition, the substrate 1 is restricted in position displacement in the width direction by contacting both end edges with the side wall of the second cylindrical portion 24 of each rotation regulating member 2.

【００２６】さらに、この基板搬送装置により幅の大き
い基板１を搬送する場合においては、図２（ｃ）に示す
ように、シリンダ機構４の駆動により各回転規制部材２
を下降させ、各回転規制部材２を、その第２円筒部２４
の上面が案内ローラ５の上端と同一高さになる位置で停
止させる。これにより、基板１は、その裏面の中央部を
案内ローラ５により案内されるとともに、その裏面の両
端部で各回転規制部材２の第２円筒部２４上面と接触
し、回転規制部材２の回転に伴い搬送路に沿って搬送さ
れる。また、基板１は、その両端縁が各回転規制部材２
の第３円筒部２５側壁と当接することにより、その幅方
向の位置変位を規制される。Further, when a substrate 1 having a large width is transported by the substrate transporting apparatus, as shown in FIG.
Is lowered, and each rotation regulating member 2 is moved to its second cylindrical portion 24.
Is stopped at a position where the upper surface of the guide roller 5 is flush with the upper end of the guide roller 5. As a result, the substrate 1 is guided by the guide roller 5 at the center of the back surface thereof, and contacts the upper surface of the second cylindrical portion 24 of each rotation regulating member 2 at both ends of the back surface, and the rotation of the rotation regulating member 2 Is transported along the transport path. Further, the substrate 1 has both ends of each rotation regulating member 2.
Abuts on the side wall of the third cylindrical portion 25 to restrict the displacement in the width direction.

【００２７】したがって、この実施形態に係る基板搬送
装置によれば、搬送すべき基板１の幅方向の寸法が変更
された場合においても、同一の装置により基板１を搬送
して、処理液供給による処理を実行することが可能とな
る。Therefore, according to the substrate transfer apparatus according to this embodiment, even when the size of the substrate 1 to be transferred in the width direction is changed, the substrate 1 is transferred by the same apparatus and supplied by the processing liquid. Processing can be executed.

【００２８】また、この実施形態に係る基板搬送装置に
よれば、シリンダ機構４で回転規制部材２を昇降させる
ことにより、搬送すべき基板１の寸法が変更された場合
においても、常に同一の高さを有するパスラインにおい
て基板１を搬送することが可能となる。したがって、基
板１と処理液供給ノズル６との距離を一定に保って均一
な処理を行うことができ、また、この基板搬送装置に対
する基板１の搬入、搬出機構の搬入、搬出高さを変更す
ることも不要となる。Further, according to the substrate transfer apparatus of this embodiment, the rotation mechanism 2 is moved up and down by the cylinder mechanism 4 so that the same height is always maintained even when the size of the substrate 1 to be transferred is changed. The substrate 1 can be transported on a pass line having a predetermined height. Therefore, uniform processing can be performed while keeping the distance between the substrate 1 and the processing liquid supply nozzle 6 constant, and the loading / unloading height of the loading / unloading mechanism of the loading / unloading mechanism of the substrate 1 with respect to the substrate transfer device is changed. It becomes unnecessary.

【００２９】次に、この発明の他の実施形態について説
明する。図４はこの発明の第２実施形態に係る基板搬送
装置の正面図である。なお、上述した第１実施形態と同
一の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を
省略する。Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a front view of the substrate transfer device according to the second embodiment of the present invention. The same members as those in the above-described first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.

【００３０】上述した第１実施形態に係る基板搬送装置
においては、回転規制部材２をシリンダ機構４により昇
降させているが、この第２実施形態に係る基板搬送装置
においては、回転規制部材２を上下方向に昇降させるこ
となく固定している。また、この第２実施形態に係る基
板搬送装置においては、前述したシリンダ機構４と同様
のシリンダ機構４４により案内ローラ４５を昇降駆動す
る構成となっている。In the substrate transfer device according to the first embodiment, the rotation restricting member 2 is moved up and down by the cylinder mechanism 4. In the substrate transfer device according to the second embodiment, the rotation restricting member 2 is It is fixed without moving up and down. In the substrate transfer device according to the second embodiment, the guide roller 45 is driven to move up and down by the same cylinder mechanism 44 as the above-described cylinder mechanism 4.

【００３１】この第２実施形態に係る基板搬送装置によ
り幅の小さい基板１を搬送する場合においては、図４に
示すように、シリンダ機構４４の駆動により案内ローラ
４５を下降させ、案内ローラ４５を、その上端が各回転
規制部材２の基板受け部２２の上面と同一高さになる位
置で停止させる。そして、この状態において、モータ３
の駆動により各回転規制部材２を回転させるとともに、
基板１を基板搬送装置に進入させる。When the substrate 1 having a small width is transferred by the substrate transfer device according to the second embodiment, as shown in FIG. 4, the guide roller 45 is lowered by driving the cylinder mechanism 44, and the guide roller 45 is moved. The rotation is stopped at a position where the upper end thereof is flush with the upper surface of the substrate receiving portion 22 of each rotation regulating member 2. Then, in this state, the motor 3
Drives each rotation restricting member 2 by driving the
The substrate 1 is caused to enter the substrate transfer device.

【００３２】これにより、基板１は、その裏面の中央部
を案内ローラ４５により案内されるとともに、その裏面
の両端部で各回転規制部材２の基板受け部２２上面と接
触し、回転規制部材２の回転に伴い搬送路に沿って搬送
される。また、基板１は、その両端縁が各回転規制部材
２の第１円筒部２３側壁と当接することにより、その幅
方向の位置変位を規制される。As a result, the substrate 1 is guided by the guide roller 45 at the center of the rear surface thereof, and contacts the upper surface of the substrate receiving portion 22 of each rotation restricting member 2 at both ends of the rear surface. Is transported along the transport path with the rotation of. In addition, the substrate 1 is restricted in position displacement in the width direction by contacting both end edges with the side wall of the first cylindrical portion 23 of each rotation regulating member 2.

【００３３】また、この基板搬送装置により中間幅を有
する基板１を搬送する場合においては、シリンダ機構４
４の駆動により案内ローラ４５を移動させ、案内ローラ
４５の上端が各回転規制部材２の第１円筒部２３の上面
と同一高さになる位置で停止させる。これにより、基板
１は、その裏面の中央部を案内ローラ４５により案内さ
れるとともに、その裏面の両端部で各回転規制部材２の
第１円筒部２３上面と接触し、回転規制部材２の回転に
伴い搬送路に沿って搬送される。また、基板１は、その
両端縁が各回転規制部材２の第２円筒部２４側壁と当接
することにより、その幅方向の位置変位を規制される。When a substrate 1 having an intermediate width is transferred by the substrate transfer device, the cylinder mechanism 4
The guide roller 45 is moved by the drive of 4 and stopped at a position where the upper end of the guide roller 45 is flush with the upper surface of the first cylindrical portion 23 of each rotation regulating member 2. As a result, the substrate 1 is guided by the guide roller 45 at the center of the back surface, and contacts the upper surface of the first cylindrical portion 23 of each rotation regulating member 2 at both ends of the back surface, and the rotation of the rotation regulating member 2 Is transported along the transport path. In addition, the substrate 1 is restricted in position displacement in the width direction by contacting both end edges with the side wall of the second cylindrical portion 24 of each rotation regulating member 2.

【００３４】さらに、この基板搬送装置により幅の大き
い基板１を搬送する場合においては、シリンダ機構４４
の駆動により案内ローラ４５を上昇させ、案内ローラ４
５を、その上端が第２円筒部２４の上面と同一高さにな
る位置で停止させる。これにより、基板１は、その裏面
の中央部を案内ローラ４５により案内されるとともに、
その裏面の両端部で各回転規制部材２の第２円筒部２４
上面と接触し、回転規制部材２の回転に伴い搬送路に沿
って搬送される。また、基板１は、その両端縁が各回転
規制部材２の第３円筒部２５側壁と当接することによ
り、その幅方向の位置変位を規制される。Further, when the substrate 1 having a large width is transferred by the substrate transfer device, the cylinder mechanism 44 is used.
The guide roller 45 is raised by the drive of
5 is stopped at a position where the upper end thereof is flush with the upper surface of the second cylindrical portion 24. As a result, the substrate 1 is guided by the guide roller 45 at the center of the back surface thereof,
The second cylindrical portions 24 of the respective rotation restricting members 2 are provided at both ends of the back surface.
It comes into contact with the upper surface, and is transported along the transport path as the rotation regulating member 2 rotates. In addition, the substrate 1 has its both edges contacted with the side wall of the third cylindrical portion 25 of each rotation restricting member 2, thereby restricting the positional displacement in the width direction.

【００３５】したがって、この実施形態に係る基板搬送
装置によれば、搬送すべき基板１の幅方向の寸法が変更
された場合においても、同一の装置により基板１を搬送
して、処理液供給ノズル６からの処理液供給による処理
を実行することが可能となる。Therefore, according to the substrate transport apparatus of this embodiment, even when the width of the substrate 1 to be transported is changed, the substrate 1 is transported by the same apparatus and the processing liquid supply nozzle 6 can be performed.

【００３６】次に、この発明のさらに他の実施形態につ
いて説明する。図５はこの発明の第３実施形態に係る基
板搬送装置の正面図である。なお、上述した第１、第２
実施形態と同一の部材については、同一の符号を付して
詳細な説明を省略する。Next, still another embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a front view of the substrate transfer device according to the third embodiment of the present invention. In addition, the above-mentioned first and second
The same members as those of the embodiment are denoted by the same reference numerals, and the detailed description is omitted.

【００３７】上述した第１、第２実施形態に係る基板搬
送装置においては、基板１の搬送路の両側に回転規制部
材２を配設しているが、この第３実施形態に係る基板搬
送装置においては、回転規制部材２を基板１の搬送路の
一方の側にのみ配設し、搬送路の他方の側には規制部材
５０を配設している。また、上述した第１、第２実施形
態に係る基板搬送装置においては、シリンダ機構４によ
り回転規制部材２を昇降させているが、この第３実施形
態に係る基板搬送装置においては、ネジ送り機構５５に
より回転規制部材２を昇降させている。In the substrate transfer apparatuses according to the first and second embodiments described above, the rotation restricting members 2 are disposed on both sides of the transfer path of the substrate 1, but the substrate transfer apparatus according to the third embodiment , The rotation regulating member 2 is disposed only on one side of the transport path of the substrate 1, and the regulating member 50 is disposed on the other side of the transport path. Further, in the substrate transfer devices according to the first and second embodiments described above, the rotation regulating member 2 is moved up and down by the cylinder mechanism 4. However, in the substrate transfer device according to the third embodiment, the screw feed mechanism is used. The rotation regulating member 2 is moved up and down by 55.

【００３８】上記規制部材５０は、互いに同芯状に配設
された円筒状の支持部５３と円筒状の規制部５４とを有
し、モータ５１の駆動により、水平方向を向く回転軸５
２を中心に回転する。なお、規制部材５０における支持
部５３側壁の上端の高さは、案内ローラ５の上端の高さ
と同一高さに設定されている。The restricting member 50 has a cylindrical supporting portion 53 and a cylindrical restricting portion 54 arranged concentrically with each other.
Rotate around 2. The height of the upper end of the side wall of the support portion 53 of the regulating member 50 is set to be the same as the height of the upper end of the guide roller 5.

【００３９】また、上記ネジ送り機構５５は、回転規制
部材２およびモータ３を支持する支持板５６を、一対の
ガイド部材５７により案内しながら、モータ５８の駆動
により回転するネジ５９により昇降させる構成となって
いる。The screw feed mechanism 55 raises and lowers a support plate 56 supporting the rotation restricting member 2 and the motor 3 by a screw 59 rotated by driving the motor 58 while being guided by a pair of guide members 57. It has become.

【００４０】この基板搬送装置により幅の小さい基板１
を搬送する場合においては、図５に示すように、ネジ送
り機構５５の駆動により回転規制部材２を上昇させ、回
転規制部材２を、その基板受け部２２の上面が案内ロー
ラ５の上端および規制部材５０の支持部５３側壁の上端
と同一高さになる位置で停止させる。そして、この状態
において、モータ３の駆動により各回転規制部材２を、
また、モータ５１の駆動により規制部材５０を、それぞ
れ同一の周速度で回転させるとともに、基板１を基板搬
送装置に進入させる。The substrate 1 having a small width is moved by the substrate transport device.
As shown in FIG. 5, when the screw feed mechanism 55 is driven, the rotation restricting member 2 is raised, and the upper surface of the substrate receiving portion 22 of the rotation restricting member 2 is restricted by the upper end of the guide roller 5 and the rotation restricting member 2. The member 50 is stopped at a position where the height is the same as the upper end of the side wall of the support portion 53. In this state, each rotation regulating member 2 is driven by the motor 3 to
Further, the control member 50 is rotated at the same peripheral speed by driving the motor 51, and the substrate 1 is caused to enter the substrate transfer device.

【００４１】これにより、基板１は、その裏面の中央部
を案内ローラ５により案内されるとともに、その裏面の
両端部で回転規制部材２の基板受け部２２上面および規
制部材５０の支持部５３側壁と接触し、回転規制部材２
および規制部材５０の回転に伴い搬送路に沿って搬送さ
れる。また、基板１は、その両端縁が各回転規制部材２
の第１円筒部２３側壁および規制部材５０の規制部５４
表面と当接することにより、その幅方向の位置変位を規
制される。Thus, the substrate 1 is guided by the guide roller 5 at the center of the rear surface, and the upper surface of the substrate receiving portion 22 of the rotation restricting member 2 and the side wall of the support portion 53 of the restricting member 50 at both ends of the rear surface. Contacts the rotation restricting member 2
The sheet is conveyed along the conveyance path with the rotation of the regulating member 50. Further, the substrate 1 has both ends of each rotation regulating member 2.
Of the first cylindrical portion 23 and the regulating portion 54 of the regulating member 50
The contact with the surface restricts the displacement in the width direction.

【００４２】また、この基板搬送装置により中間幅を有
する基板１を搬送する場合においては、ネジ送り機構５
５の駆動により回転規制部材２を移動させ、回転規制部
材２を、その第１円筒部２３の上面が案内ローラ５の上
端および規制部材５０の支持部５３側壁の上端と同一高
さになる位置で停止させる。これにより、基板１は、そ
の裏面の中央部を案内ローラ５により案内されるととも
に、その裏面の両端部で回転規制部材２の第１円筒部２
３上面および規制部材５０の支持部５３側壁と接触し、
回転規制部材２および規制部材５０の回転に伴い搬送路
に沿って搬送される。また、基板１は、その両端縁が回
転規制部材２の第２円筒部２４側壁および規制部材５０
の規制部５４表面と当接することにより、その幅方向の
位置変位を規制される。When a substrate 1 having an intermediate width is transferred by the substrate transfer device, a screw feed mechanism 5 is used.
5, the rotation regulating member 2 is moved, and the rotation regulating member 2 is moved to a position where the upper surface of the first cylindrical portion 23 is flush with the upper end of the guide roller 5 and the upper end of the side wall of the support portion 53 of the regulating member 50. To stop. As a result, the substrate 1 is guided by the guide roller 5 at the center of the back surface, and the first cylindrical portion 2 of the rotation regulating member 2 is provided at both ends of the back surface.
3 contacts the upper surface and the side wall of the support portion 53 of the regulating member 50,
The sheet is transported along the transport path as the rotation regulating member 2 and the regulating member 50 rotate. In addition, the substrate 1 has both end edges on the side wall of the second cylindrical portion 24 of the rotation regulating member 2 and the regulating member 50.
Abuts on the surface of the restricting portion 54 to restrict the positional displacement in the width direction.

【００４３】さらに、この基板搬送装置により幅の大き
い基板１を搬送する場合においては、ネジ送り機構５５
の駆動により回転規制部材２を下降させ、回転規制部材
２を、その第２円筒部２４の上面が案内ローラ５の上端
および規制部材５０の支持部５３側壁の上端と同一高さ
になる位置で停止させる。これにより、基板１は、その
裏面の中央部を案内ローラ５により案内されるととも
に、その裏面の両端部で回転規制部材２の第２円筒部２
４上面および規制部材５０の支持部５３側壁と接触し、
回転規制部材２および規制部材５０の回転に伴い搬送路
に沿って搬送される。また、基板１は、その両端縁が各
回転規制部材２の第３円筒部２５側壁および規制部材５
０の規制部５４表面と当接することにより、その幅方向
の位置変位を規制される。Further, when the substrate 1 having a large width is transferred by the substrate transfer device, the screw feed mechanism 55 is used.
The rotation restricting member 2 is lowered by the drive, and the rotation restricting member 2 is moved to a position where the upper surface of the second cylindrical portion 24 is flush with the upper end of the guide roller 5 and the upper end of the side wall of the support portion 53 of the restricting member 50. Stop. As a result, the substrate 1 is guided by the guide roller 5 at the center of the back surface, and the second cylindrical portion 2 of the rotation regulating member 2 is provided at both ends of the back surface.
4 contacts the upper surface and the side wall of the support portion 53 of the regulating member 50;
The sheet is transported along the transport path as the rotation regulating member 2 and the regulating member 50 rotate. In addition, the substrate 1 has both end edges on the side wall of the third cylindrical portion 25 of each rotation regulating member 2 and the regulating member 5.
By contacting the surface of the zero regulating portion 54, the displacement in the width direction thereof is regulated.

【００４４】したがって、この実施形態に係る基板搬送
装置によれば、搬送すべき基板１の幅方向の寸法が変更
された場合においても、同一の装置により基板１を搬送
して、処理液供給ノズル６からの処理液供給による処理
を実行することが可能となる。Therefore, according to the substrate transport apparatus of this embodiment, even when the width of the substrate 1 to be transported is changed, the substrate 1 is transported by the same apparatus and the processing liquid supply nozzle 6 can be performed.

【００４５】また、ネジ送り機構５５で回転規制部材２
を昇降させることにより、搬送すべき基板１の寸法が変
更された場合においても、常に同一の高さを有するパス
ラインにおいて基板１を搬送することが可能となる。し
たがって、基板１と処理液供給ノズル６との距離を一定
に保って均一な処理を行うことができ、また、この基板
搬送装置に対する基板１の搬入、搬出機構の搬入、搬出
高さを変更することも不要となる。The screw feed mechanism 55 uses the rotation restricting member 2.
, The substrate 1 can always be transported on a pass line having the same height even when the dimensions of the substrate 1 to be transported are changed. Therefore, uniform processing can be performed while keeping the distance between the substrate 1 and the processing liquid supply nozzle 6 constant, and the loading / unloading height of the loading / unloading mechanism of the loading / unloading mechanism of the substrate 1 with respect to the substrate transfer device is changed. It becomes unnecessary.

【００４６】次に、この発明のさらに他の実施形態につ
いて説明する。図６はこの発明の第４実施形態に係る基
板搬送装置の正面図である。なお、上述した第１乃至第
３実施形態と同一の部材については、同一の符号を付し
て詳細な説明を省略する。Next, still another embodiment of the present invention will be described. FIG. 6 is a front view of a substrate transfer device according to a fourth embodiment of the present invention. Note that the same members as those in the above-described first to third embodiments are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.

【００４７】上述した第１乃至第３実施形態に係る基板
搬送装置においては、回転規制部材２の回転軸２１をモ
ータ３により回転駆動して基板１を搬送しているがいる
が、この第４実施形態に係る基板搬送装置においては、
回転規制部材６２を回転駆動することなく回転自在に構
成するとともに、基板１をその裏面から支持する複数の
支持ローラ７１を回転駆動することにより、基板１を搬
送する構成となっている。In the substrate transfer apparatus according to the first to third embodiments, the rotation shaft 21 of the rotation restricting member 2 is rotated by the motor 3 to transfer the substrate 1. In the substrate transfer device according to the embodiment,
The rotation restricting member 62 is configured to be rotatable without being driven to rotate, and the substrate 1 is transported by rotating and driving a plurality of support rollers 71 that support the substrate 1 from its back surface.

【００４８】また、上述した第１乃至第３実施形態に係
る基板搬送装置においては、基板搬送装置の上方に、基
板１に対し処理液を供給することにより処理を行う処理
機構としての処理液供給ノズル６を配設しているが、こ
の第４実施形態に係る基板搬送装置においては、基板搬
送装置の上方に、基板１の表面を複数の回転ブラシ３５
で洗浄することにより、基板１に対して洗浄処理を施す
処理機構としての洗浄装置３０を配設するとともに、こ
の洗浄装置３０を基板搬送装置に対して昇降させる構成
となっている。In the substrate transfer apparatus according to the first to third embodiments described above, a processing liquid supply as a processing mechanism for performing processing by supplying a processing liquid to the substrate 1 above the substrate transfer apparatus. Although the nozzle 6 is provided, in the substrate transporting apparatus according to the fourth embodiment, the surface of the substrate 1 is provided with a plurality of rotating brushes 35 above the substrate transporting apparatus.
Thus, a cleaning device 30 as a processing mechanism for performing a cleaning process on the substrate 1 is provided, and the cleaning device 30 is moved up and down with respect to the substrate transfer device.

【００４９】なお、この第４実施形態に係る基板搬送装
置においては、図４に示す第２実施形態と同様、複数の
支持ローラ７１が昇降し、回転規制部材６２は昇降しな
い。In the substrate transfer apparatus according to the fourth embodiment, as in the second embodiment shown in FIG. 4, the plurality of support rollers 71 move up and down, and the rotation regulating member 62 does not move up and down.

【００５０】上記回転規制部材６２は、図示しないベア
リング等の支持体に回転自在に設けられた回転軸６４を
有する。また、図７に示すように、この回転規制部材６
２の基板受け部２２、第１円筒部２３および第２円筒部
２４の上面には、複数の小球６５が一定の間隔で回転自
在に埋め込まれている。The rotation restricting member 62 has a rotation shaft 64 rotatably provided on a support such as a bearing (not shown). Also, as shown in FIG.
A plurality of small balls 65 are rotatably embedded at regular intervals on the upper surfaces of the two substrate receiving portions 22, the first cylindrical portion 23, and the second cylindrical portion 24.

【００５１】上記複数の支持ローラ７１は、回転可能な
支持軸７２に固定されている。そして、この支持軸７２
は、同期ベルト７３を介してモータ７４の駆動軸に配設
されたプーリ７５と連結している。このため、複数の支
持ローラ７１はモータ７４の駆動により同期して回転す
る。また、上記複数の支持ローラ７１やモータ７４等
は、前述したシリンダ機構４と同様のシリンダ機構７６
の駆動により昇降する支持板７７に支持されている。こ
のため、複数の支持ローラ７１は、シリンダ機構７６の
駆動により同期して昇降する。The plurality of support rollers 71 are fixed to a rotatable support shaft 72. And, this support shaft 72
Is connected to a pulley 75 disposed on a drive shaft of a motor 74 via a synchronous belt 73. Therefore, the plurality of support rollers 71 rotate in synchronization with the driving of the motor 74. In addition, the plurality of support rollers 71 and the motor 74 are provided with a cylinder mechanism 76 similar to the cylinder mechanism 4 described above.
Is supported by a support plate 77 which moves up and down by driving. For this reason, the plurality of support rollers 71 move up and down in synchronization with the driving of the cylinder mechanism 76.

【００５２】上記洗浄装置３０は、各回転ブラシ３５を
回転させる複数のモータ３６を備える。この複数のモー
タ３６は、前述したシリンダ機構４と同様のシリンダ機
構３７の駆動により昇降する支持板３８に固定されてい
る。このため、複数の回転ブラシ３５は、シリンダ機構
３７の駆動により同期して昇降する。なお、各回転ブラ
シ３５を複数のモータ３６で個別に回転駆動するかわり
に、複数の回転ブラシ３５を単一のモータで回転駆動す
るようにしてもよい。The cleaning device 30 has a plurality of motors 36 for rotating the rotating brushes 35. The plurality of motors 36 are fixed to a support plate 38 that moves up and down by driving a cylinder mechanism 37 similar to the above-described cylinder mechanism 4. Therefore, the plurality of rotating brushes 35 move up and down in synchronization with the driving of the cylinder mechanism 37. Note that instead of individually rotating each of the rotating brushes 35 with the plurality of motors 36, the rotating brushes 35 may be rotated with a single motor.

【００５３】この第４実施形態に係る基板搬送装置によ
り幅の小さい基板１を搬送する場合においては、図６に
示すように、シリンダ機構７６の駆動により支持板７７
を下降させ、支持ローラ７１の上端が各回転規制部材６
２の基板受け部２２上面の小球６５上端と同一高さにな
る位置で停止させる。また、シリンダ機構３７の駆動に
より支持板３８を移動させ、各回転ブラシ３５の下端部
が支持ローラ７１に支持される基板１の表面より若干低
い高さとなる位置で停止させる。そして、この状態にお
いて、モータ７４の駆動により支持ローラ７１を回転さ
せるとともに、モータ３６の駆動により各回転ブラシ３
５を回転させておき、基板１を基板搬送装置に進入させ
る。When the substrate 1 having a small width is transported by the substrate transport device according to the fourth embodiment, as shown in FIG.
Is lowered, and the upper end of the support roller 71 is
It stops at a position where it is flush with the upper end of the small ball 65 on the upper surface of the second substrate receiving portion 22. Further, the support plate 38 is moved by driving the cylinder mechanism 37 and stopped at a position where the lower end of each rotary brush 35 is slightly lower than the surface of the substrate 1 supported by the support roller 71. In this state, the support roller 71 is rotated by driving the motor 74, and the rotating brushes 3 are driven by the motor 36.
5 is rotated, and the substrate 1 enters the substrate transfer device.

【００５４】これにより、基板１は、その裏面を支持ロ
ーラ７１により支持され、支持ローラ７１の回転に伴い
搬送路に沿って搬送される。また、基板１は、その両端
縁が各回転規制部材６２の第１円筒部２３側壁と当接す
ることにより、その幅方向の位置変位を規制される。そ
して、各回転ブラシ３５が基板１の表面と当接した状態
で回転することにより、基板１の表面が洗浄される。こ
のとき、基板１の裏面は支持ローラ７１により支持され
ているため、基板１が回転ブラシ３５による押圧力を受
けた場合においても、基板１が損傷を受けることはな
い。Thus, the back surface of the substrate 1 is supported by the support rollers 71, and is transported along the transport path as the support rollers 71 rotate. In addition, the substrate 1 is restricted in position displacement in the width direction by contacting both end edges with the side wall of the first cylindrical portion 23 of each rotation regulating member 62. Then, the surface of the substrate 1 is cleaned by rotating each of the rotating brushes 35 in contact with the surface of the substrate 1. At this time, since the back surface of the substrate 1 is supported by the support roller 71, the substrate 1 is not damaged even when the substrate 1 is pressed by the rotating brush 35.

【００５５】また、この基板搬送装置により中間幅を有
する基板１を搬送する場合においては、シリンダ機構７
６の駆動により支持板７７を移動させ、支持ローラ７１
の上端が各回転規制部材６２の第１円筒部２３上面の小
球６５上端と同一高さになる位置で停止させる。また、
シリンダ機構３７の駆動により支持板３８を移動させ、
各回転ブラシ３５の下端部が支持ローラ７１に支持され
る基板１の表面より若干低い高さとなる位置で停止させ
る。これにより、基板１は、その裏面を支持ローラ７１
により支持され、支持ローラ７１の回転に伴い搬送路に
沿って搬送される。また、基板１は、その両端縁が各回
転規制部材６２の第２円筒部２４側壁と当接することに
より、その幅方向の位置変位を規制される。そして、各
回転ブラシ３５が基板１の表面と当接した状態で回転す
ることにより、基板１の表面が洗浄される。When the substrate 1 having an intermediate width is transferred by the substrate transfer device, the cylinder mechanism 7 is used.
The support plate 77 is moved by the drive of the
Are stopped at a position where the upper end of the upper surface of the first cylindrical portion 23 of each rotation regulating member 62 is flush with the upper end of the small ball 65. Also,
The support plate 38 is moved by driving the cylinder mechanism 37,
The rotation brush 35 is stopped at a position where the lower end thereof is slightly lower than the surface of the substrate 1 supported by the support roller 71. As a result, the back surface of the substrate 1 is
And is conveyed along the conveyance path with the rotation of the support roller 71. In addition, the substrate 1 is restricted in its displacement in the width direction by contacting both end edges with the side wall of the second cylindrical portion 24 of each rotation regulating member 62. Then, the surface of the substrate 1 is cleaned by rotating each of the rotating brushes 35 in contact with the surface of the substrate 1.

【００５６】さらに、この基板搬送装置により幅の大き
い基板１を搬送する場合においては、シリンダ機構７６
の駆動により支持板７７を上昇させ、支持ローラ７１の
上端が各回転規制部材６２の第２円筒部２４上面の小球
６５上端と同一高さになる位置で停止させる。また、シ
リンダ機構３７の駆動により支持板３８を移動させ、各
回転ブラシ３５の下端部が支持ローラ７１に支持される
基板１の表面より若干低い高さとなる位置で停止させ
る。これにより、基板１は、その裏面を支持ローラ７１
により支持され、支持ローラ７１の回転に伴い搬送路に
沿って搬送される。また、基板１は、その両端縁が各回
転規制部材６２の第３円筒部２５側壁と当接することに
より、その幅方向の位置変位を規制される。そして、各
回転ブラシ３５が基板１の表面と当接した状態で回転す
ることにより、基板１の表面が洗浄される。Further, when the substrate 1 having a large width is transferred by the substrate transfer device, the cylinder mechanism 76 is used.
, The support plate 77 is raised, and stopped at a position where the upper end of the support roller 71 is flush with the upper end of the small ball 65 on the upper surface of the second cylindrical portion 24 of each rotation restricting member 62. Further, the support plate 38 is moved by driving the cylinder mechanism 37 and stopped at a position where the lower end of each rotary brush 35 is slightly lower than the surface of the substrate 1 supported by the support roller 71. As a result, the back surface of the substrate 1 is
And is conveyed along the conveyance path with the rotation of the support roller 71. In addition, as for both ends of the substrate 1, the position displacement in the width direction is regulated by abutting the both edges on the side wall of the third cylindrical portion 25 of each rotation regulating member 62. Then, the surface of the substrate 1 is cleaned by rotating each of the rotating brushes 35 in contact with the surface of the substrate 1.

【００５７】したがって、この実施形態に係る基板搬送
装置によれば、搬送すべき基板１の幅方向の寸法が変更
された場合においても、同一の装置により基板１を搬送
して、回転ブラシ３５による洗浄処理を実行することが
可能となる。Therefore, according to the substrate transfer device of this embodiment, even when the width of the substrate 1 to be transferred is changed, the substrate 1 is transferred by the same device, and The cleaning process can be performed.

【００５８】このとき、回転規制部材６２における基板
受け部２２上面には、複数の小球６５が回転自在に埋め
込まれているため、基板１の裏面が基板受け部２２の上
面で摺動することを防止することができる。また、回転
規制部材６２が回転自在であることから、基板１の端面
が第１、第２、第３円筒部２２、２３、２４の側壁に対
して摺動することを防止することができる。したがっ
て、基板１の摺動によるパーティクルの発生を防止する
ことができる。At this time, since a plurality of small balls 65 are rotatably embedded in the upper surface of the substrate receiving portion 22 of the rotation restricting member 62, the back surface of the substrate 1 slides on the upper surface of the substrate receiving portion 22. Can be prevented. Further, since the rotation restricting member 62 is rotatable, it is possible to prevent the end face of the substrate 1 from sliding on the side walls of the first, second, and third cylindrical portions 22, 23, and 24. Therefore, generation of particles due to sliding of the substrate 1 can be prevented.

【００５９】また、この実施形態によれば、各回転ブラ
シ３５を支持ローラ７１により支持される基板１の高さ
に応じて昇降させていることから、各回転ブラシ３５と
基板１との接触圧を常に一定とすることができる。この
ため、基板１の表面を常に一定の状態で洗浄処理するこ
とが可能となる。According to this embodiment, since each rotating brush 35 is moved up and down in accordance with the height of the substrate 1 supported by the support roller 71, the contact pressure between each rotating brush 35 and the substrate 1 is increased. Can always be constant. For this reason, the surface of the substrate 1 can always be cleaned in a constant state.

【００６０】次に、この発明のさらに他の実施形態につ
いて説明する。図８はこの発明の第５実施形態に係る基
板搬送装置の正面図である。なお、上述した第１乃至第
４実施形態と同一の部材については、同一の符号を付し
て詳細な説明を省略する。Next, still another embodiment of the present invention will be described. FIG. 8 is a front view of a substrate transfer device according to a fifth embodiment of the present invention. The same members as those in the above-described first to fourth embodiments are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.

【００６１】上述した第１乃至第４実施形態に係る基板
搬送装置においては、回転規制部材２、６２の基板受け
部２２が第１の円筒部２３より下側となるように配置し
ているが、この第５実施形態に係る基板搬送装置におい
ては、基板受け部２２が第１の円筒部２３より上側とな
るように、回転規制部材８２を逆向きに配置している。
また、この第５実施形態に係る基板搬送装置において
は、基板１をその裏面から支持する複数の支持ローラ８
１を回転駆動することにより、基板１を搬送する構成と
なっている。In the substrate transfer devices according to the first to fourth embodiments, the substrate receiving portions 22 of the rotation restricting members 2 and 62 are arranged so as to be lower than the first cylindrical portion 23. In the substrate transfer device according to the fifth embodiment, the rotation restricting member 82 is arranged in the opposite direction so that the substrate receiving portion 22 is located above the first cylindrical portion 23.
Further, in the substrate transport device according to the fifth embodiment, a plurality of support rollers 8 supporting the substrate 1 from the back surface are provided.
The substrate 1 is transported by rotating the substrate 1.

【００６２】この回転規制部材８２は、基板１の搬送路
の一方の側に、鉛直方向を向く回転軸８０を中心に回転
自在に配設されている。この回転規制部材８２の回転軸
８０は、前述したシリンダ機構４と同様のシリンダ機構
８３と連結されており、このシリンダ機構８３により昇
降する構成となっている。また、基板１の搬送路の他方
の側には、鉛直方向を向く回転軸８４のまわりを回転自
在なローラ状の規制部材８５が配設されている。The rotation restricting member 82 is disposed on one side of the transport path of the substrate 1 so as to be rotatable around a vertical rotation shaft 80. The rotation shaft 80 of the rotation restricting member 82 is connected to a cylinder mechanism 83 similar to the cylinder mechanism 4 described above, and is configured to move up and down by the cylinder mechanism 83. Further, on the other side of the transport path of the substrate 1, a roller-shaped regulating member 85 rotatable around a rotating shaft 84 facing in a vertical direction is provided.

【００６３】上記複数の支持ローラ８１は、回転可能な
支持軸８６に固定されている。そして、この支持軸８６
は、同期ベルト８７を介してモータ８８の駆動軸に配設
されたプーリ８９と連結している。このため、複数の支
持ローラ８１は、モータ８８の駆動により同期して回転
する。The plurality of support rollers 81 are fixed to a rotatable support shaft 86. And this support shaft 86
Is connected to a pulley 89 provided on a drive shaft of a motor 88 via a synchronous belt 87. For this reason, the plurality of support rollers 81 rotate in synchronization with the driving of the motor 88.

【００６４】この基板搬送装置により幅の小さい基板１
を搬送する場合においては、シリンダ機構８３の駆動に
より回転規制部材８２を下降させ、回転規制部材８２
を、その基板受け部２２の下面が支持ローラ８１の上端
から基板１の厚みだけ離隔した位置またはこれより若干
高くなる位置で停止させる。そして、この状態におい
て、モータ８８の駆動により支持ローラ８１を回転さ
せ、基板１を基板搬送装置に進入させる。The substrate 1 with a small width is
Is transported, the rotation regulating member 82 is lowered by driving the cylinder mechanism 83, and the rotation regulating member 82
Is stopped at a position where the lower surface of the substrate receiving portion 22 is separated from the upper end of the support roller 81 by the thickness of the substrate 1 or at a position slightly higher than this. Then, in this state, the support roller 81 is rotated by driving the motor 88, and the substrate 1 is caused to enter the substrate transfer device.

【００６５】これにより、基板１は、その裏面を支持ロ
ーラ８１により支持されて搬送されるとともに、その両
端縁が回転規制部材８２の第１円筒部２３側壁および規
制部材８５の側壁と当接することにより、その幅方向の
位置変位を規制される。As a result, the substrate 1 is conveyed while its back surface is supported by the support rollers 81, and both end edges thereof come into contact with the side wall of the first cylindrical portion 23 of the rotation restricting member 82 and the side wall of the restricting member 85. Thus, the displacement in the width direction is restricted.

【００６６】また、この基板搬送装置により中間幅を有
する基板１を搬送する場合においては、図８に示すよう
に、シリンダ機構８３の駆動により回転規制部材８２を
移動させ、回転規制部材８２を、その第１円筒部２３の
下面が支持ローラ８１の上端から基板１の厚みだけ離隔
した位置またはこれより若干高くなる位置で停止させ
る。これにより、基板１は、その両端縁が回転規制部材
８２の第２円筒部２４側壁および規制部材８５の側壁と
当接することにより、その幅方向の位置変位を規制され
る。When the substrate 1 having an intermediate width is transferred by the substrate transfer device, as shown in FIG. 8, the rotation restricting member 82 is moved by driving the cylinder mechanism 83, and the rotation restricting member 82 is moved. The first cylindrical portion 23 is stopped at a position separated from the upper end of the support roller 81 by the thickness of the substrate 1 or at a position slightly higher than the position. As a result, the substrate 1 is restricted in its widthwise position displacement by its both end edges abutting against the side wall of the second cylindrical portion 24 of the rotation restricting member 82 and the side wall of the restricting member 85.

【００６７】さらに、この基板搬送装置により幅の大き
い基板１を搬送する場合においては、シリンダ機構８３
の駆動により回転規制部材８２を上昇させ、回転規制部
材８２を、その第２円筒部２４の下面が支持ローラ８１
の上端から基板１の厚みだけ離隔した位置またはこれよ
り若干高くなる位置で停止させる。これにより、基板１
は、その両端縁が回転規制部材８２の第３円筒部２５側
壁および規制部材８５の側壁と当接することにより、そ
の幅方向の位置変位を規制される。Further, when the substrate 1 having a large width is transferred by the substrate transfer device, the cylinder mechanism 83 is used.
Drives the rotation restricting member 82 so that the lower surface of the second cylindrical portion 24 is
Is stopped at a position separated from the upper end of the substrate by the thickness of the substrate 1 or at a position slightly higher than this. Thereby, the substrate 1
Since the both end edges abut against the side wall of the third cylindrical portion 25 of the rotation restricting member 82 and the side wall of the restricting member 85, the positional displacement in the width direction is restricted.

【００６８】したがって、この実施形態に係る基板搬送
装置によれば、搬送すべき基板１の幅方向の寸法が変更
された場合においても、同一の装置により基板１を搬送
して、処理液供給ノズル６からの処理液供給による処理
を実行することが可能となる。Therefore, according to the substrate transport apparatus of this embodiment, even when the width of the substrate 1 to be transported is changed, the substrate 1 is transported by the same apparatus and the processing liquid supply nozzle 6 can be performed.

【００６９】なお、この実施形態に係る基板搬送装置に
おいては、基板１の搬送路の一方の側に回転規制部材８
２を、また、他方の側に規制部材８５を配設している
が、基板１の搬送路の両側に回転規制部材８２を配設し
てもよい。In the substrate transfer apparatus according to this embodiment, the rotation restricting member 8 is provided on one side of the transfer path of the substrate 1.
2 and the regulating member 85 is disposed on the other side, but the rotation regulating members 82 may be disposed on both sides of the transport path of the substrate 1.

【００７０】上述した第１乃至第５実施形態において
は、いずれも、円筒状の基板受け部２２の片面に直径が
異なる第１、第２、第３円筒部２２、２３、２４を設け
た回転規制部材２、６２、８２を使用しているが、この
円筒部は少なくとも２個あればよい。また、搬送すべき
基板１の種類が多数ある場合には、その基板の種類に対
応した直径を有する円筒部を４個以上設けてもよい。ま
た、基板受け部２２としては、円筒状のものに限らず、
各種の形状のものを使用することができる。In the first to fifth embodiments described above, in all cases, the first, second, and third cylindrical portions 22, 23, and 24 having different diameters are provided on one surface of the cylindrical substrate receiving portion 22. Although the regulating members 2, 62 and 82 are used, at least two cylindrical portions are sufficient. When there are many types of substrates 1 to be transported, four or more cylindrical portions having a diameter corresponding to the type of the substrate may be provided. Further, the substrate receiving portion 22 is not limited to a cylindrical one,
Various shapes can be used.

【００７１】また、第１乃至第５実施形態においては、
シリンダ機構４、４４、７６、８３またはネジ送り機構
５５等の駆動機構により回転規制部材２、８２、案内ロ
ーラ４５または支持ローラ７１等を昇降駆動している
が、これらを手動で昇降させるようにしてもよい。In the first to fifth embodiments,
The rotation regulating members 2, 82, the guide roller 45, the support roller 71 and the like are driven up and down by a driving mechanism such as the cylinder mechanism 4, 44, 76, 83 or the screw feed mechanism 55, but these are manually moved up and down. You may.

【００７２】[0072]

【発明の効果】請求項１に記載の基板搬送装置によれ
ば、搬送路の両側に配設した規制部材のうち少なくとも
一方の規制部材を、鉛直方向を向く回転軸と、この回転
軸に設けられた基板受け部と、この基板受け部の片面に
設けられ回転軸の軸芯を中心とする第１の直径を有する
第１円筒部と、この第１円筒部の基板受け部とは反対側
に設けられ回転軸の軸芯を中心とする第１円筒部よりも
小さい第２の直径を有する第２円筒部とからなる回転規
制部材から構成するとともに、この回転規制部材により
幅方向の位置変位を規制された基板を搬送路に沿って搬
送するための搬送駆動源を配設したことから、搬送すべ
き基板１の幅方向の寸法が変更された場合においても、
同一の装置により、基板をその幅方向の位置変位を規制
しながら搬送することができ、搬送すべき基板の幅寸法
の変更に容易に対応することができる。According to the substrate transfer apparatus of the present invention, at least one of the control members provided on both sides of the transfer path is provided on the rotating shaft extending in the vertical direction and on the rotating shaft. A substrate receiving portion, a first cylindrical portion provided on one surface of the substrate receiving portion and having a first diameter about the axis of the rotating shaft, and an opposite side of the first cylindrical portion to the substrate receiving portion And a second cylindrical portion having a second diameter smaller than the first cylindrical portion around the axis of the rotation shaft and having a second diameter smaller than the first cylindrical portion. Is provided with a transport drive source for transporting the substrate, which is regulated along the transport path, even if the width dimension of the substrate 1 to be transported is changed,
With the same apparatus, the substrate can be transported while restricting the positional displacement in the width direction, and it is possible to easily cope with a change in the width dimension of the substrate to be transported.

【００７３】請求項２に記載の基板搬送装置によれば、
回転規制部材を基板受け部が第１の円筒部より下側とな
るように配置していることから、この回転規制部材によ
り、基板の支持と幅方向の位置規制とを行うことができ
る。According to the substrate transfer device of the second aspect,
Since the rotation restricting member is arranged such that the substrate receiving portion is lower than the first cylindrical portion, the rotation restricting member can support the substrate and restrict the position in the width direction.

【００７４】請求項３に記載の基板搬送装置によれば、
搬送駆動源は回転規制部材の回転軸を回転駆動すること
から、回転規制部材により、基板の搬送方向への駆動と
幅方向の位置規制とを行うことができる。According to the substrate transfer device of the third aspect,
Since the transport driving source rotationally drives the rotation shaft of the rotation restricting member, the rotation restricting member can perform the driving in the transport direction of the substrate and the position restriction in the width direction.

【００７５】請求項４に記載の基板処理装置によれば、
回転規制部材により幅方向の位置変位を規制された基板
を裏面から支持する支持ローラをさらに備え、搬送駆動
源は前記支持ローラを回転駆動することから、この支持
ローラにより基板を支持しながら搬送方向に駆動するこ
とができる。According to the substrate processing apparatus of the fourth aspect,
The apparatus further includes a support roller for supporting the substrate, whose position in the width direction has been restricted by the rotation restricting member, from the back surface, and the transport driving source rotationally drives the support roller. Can be driven.

【００７６】請求項５に記載の基板搬送装置によれば、
回転規制部材を昇降させる昇降機構をさらに備えること
から、基板を搬送するパスラインを常に同一の高さとす
ることが可能となる。このため、基板搬送装置に対する
基板１の搬入、搬出機構の搬入、搬出高さを変更する必
要はなく、また、この基板搬送装置を基板処理装置に適
用した場合には、基板の処理高さを一定にすることが可
能となる。According to the substrate transfer apparatus of the fifth aspect,
Since the apparatus further includes an elevating mechanism for elevating and lowering the rotation regulating member, it is possible to always have the same height for the pass line for transporting the substrate. For this reason, there is no need to change the loading and unloading heights of the substrate 1 into and out of the substrate transfer device, and when the substrate transfer device is applied to a substrate processing apparatus, the processing height of the substrate is reduced. It is possible to make it constant.

【００７７】請求項６に記載の基板処理装置は、請求項
１乃至４いずれかに記載の基板搬送装置により搬送され
る基板に対して処理を施す処理機構を備えたことから、
処理すべき基板１の幅方向の寸法が変更された場合にお
いても、同一の装置により、基板をその幅方向の位置変
位を規制しながら搬送して処理することができ、搬送す
べき基板の幅寸法の変更に容易に対応することができ
る。また、基板搬送装置に対して処理機構を昇降させる
昇降機構を備えたことから、基板の搬送高さに対応して
基板に対する処理高さを変更することが可能となり、基
板に適切な処理を行うことができる。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus having a processing mechanism for performing processing on a substrate transported by the substrate transport apparatus according to any one of the first to fourth aspects.
Even when the width of the substrate 1 to be processed is changed, the substrate can be transported and processed by the same apparatus while regulating the positional displacement in the width direction. It can easily cope with a change in size. In addition, since a lifting mechanism that raises and lowers the processing mechanism with respect to the substrate transport device is provided, the processing height for the substrate can be changed according to the transport height of the substrate, and appropriate processing is performed on the substrate. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】この発明の第１実施形態に係る基板搬送装置の
要部を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a main part of a substrate transfer device according to a first embodiment of the present invention.

【図２】この発明の第１実施形態に係る基板搬送装置の
正面図である。FIG. 2 is a front view of the substrate transfer device according to the first embodiment of the present invention.

【図３】回転規制部材２の一部拡大図である。FIG. 3 is a partially enlarged view of a rotation restricting member 2.

【図４】この発明の第２実施形態に係る基板搬送装置の
正面図である。FIG. 4 is a front view of a substrate transfer device according to a second embodiment of the present invention.

【図５】この発明の第３実施形態に係る基板搬送装置の
正面図である。FIG. 5 is a front view of a substrate transfer device according to a third embodiment of the present invention.

【図６】この発明の第４実施形態に係る基板搬送装置の
正面図である。FIG. 6 is a front view of a substrate transfer device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図７】回転規制部材６２の一部拡大図である。FIG. 7 is a partially enlarged view of a rotation restricting member 62.

【図８】この発明の第５実施形態に係る基板搬送装置の
正面図である。FIG. 8 is a front view of a substrate transfer device according to a fifth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 基板 ２ 回転規制部材 ３ モータ ４ シリンダ機構 ５ 案内ローラ ６ 処理液供給ノズル ２１ 回転軸 ２２ 基板受け部 ２３ 第１円筒部 ２４ 第２円筒部 ２５ 第３円筒部 ３０ 洗浄装置 ３５ 回転ブラシ ３７ シリンダ機構 ４４ シリンダ機構 ４５ 案内ローラ ５０ 規制部材 ５５ ネジ送り機構 ６２ 回転規制部材 ６４ 回転軸 ７１ 支持ローラ ７４ モータ ７６ シリンダ機構 ８０ 回転軸 ８１ 支持ローラ ８２ 回転規制部材 ８３ シリンダ機構 ８５ 規制部材 ８８ モータ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Rotation regulating member 3 Motor 4 Cylinder mechanism 5 Guide roller 6 Treatment liquid supply nozzle 21 Rotating shaft 22 Substrate receiving part 23 First cylindrical part 24 Second cylindrical part 25 Third cylindrical part 30 Cleaning device 35 Rotary brush 37 Cylinder mechanism 44 cylinder mechanism 45 guide roller 50 regulating member 55 screw feed mechanism 62 rotation regulating member 64 rotation shaft 71 support roller 74 motor 76 cylinder mechanism 80 rotation shaft 81 support roller 82 rotation regulating member 83 cylinder mechanism 85 regulating member 88 motor

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 基板の搬送方向と直交する方向である基
板の幅方向の位置変位を規制するための規制部材を基板
の搬送路の両側に配設した基板搬送装置であって、 前記搬送路の両側に配設した規制部材のうち少なくとも
一方の規制部材を、鉛直方向を向く回転軸と、この回転
軸に設けられた基板受け部と、この基板受け部の片面に
設けられ前記回転軸の軸芯を中心とする第１の直径を有
する第１円筒部と、この第１円筒部の前記基板受け部と
は反対側に設けられ前記回転軸の軸芯を中心とする前記
第１円筒部よりも小さい第２の直径を有する第２円筒部
とからなる回転規制部材から構成するとともに、この回
転規制部材により幅方向の位置変位を規制された基板を
前記搬送路に沿って搬送するための搬送駆動源を配設し
たことを特徴とする基板搬送装置。1. A substrate transport apparatus comprising a regulating member for regulating a positional displacement in a width direction of a substrate, which is a direction orthogonal to a substrate transport direction, on both sides of a substrate transport path. Of at least one of the regulating members disposed on both sides of the rotating shaft, the rotating shaft pointing in the vertical direction, the substrate receiving portion provided on the rotating shaft, and the rotating shaft provided on one surface of the substrate receiving portion. A first cylindrical portion having a first diameter centered on an axis, and a first cylindrical portion provided on a side of the first cylindrical portion opposite to the substrate receiving portion and centered on the axis of the rotating shaft; A second cylindrical portion having a smaller second diameter than the second cylindrical portion. The second cylindrical portion is configured to transport a substrate, the position of which in the width direction is restricted by the rotation regulating member, along the transport path. A base characterized by providing a transport drive source Transport equipment. 【請求項２】 請求項１に記載の基板搬送装置におい
て、 前記回転規制部材を、前記基板受け部が前記第１の円筒
部より下側となるように配置した基板搬送装置。2. The substrate transfer device according to claim 1, wherein the rotation restricting member is disposed such that the substrate receiving portion is below the first cylindrical portion. 【請求項３】 請求項１または２いずれかに記載の基板
搬送装置において、 前記搬送駆動源は前記回転規制部材の回転軸を回転駆動
する基板搬送装置。3. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the transfer drive source drives the rotation shaft of the rotation regulating member to rotate. 【請求項４】 請求項１または２いずれかに記載の基板
搬送装置において、 前記回転規制部材により幅方向の位置変位を規制された
基板を裏面から支持する支持ローラをさらに備え、前記
搬送駆動源は前記支持ローラを回転駆動する基板搬送装
置。4. The substrate transfer device according to claim 1, further comprising a support roller configured to support a substrate, the position of which is restricted in a width direction by the rotation restricting member, from a back surface, and the transfer driving source. Is a substrate transfer device for rotating the support roller. 【請求項５】 請求項１乃至４いずれかに記載の基板搬
送装置において、 前記回転規制部材を昇降させる昇降機構をさらに備えた
基板搬送装置。5. The substrate transfer device according to claim 1, further comprising an elevating mechanism for raising and lowering the rotation regulating member. 【請求項６】 請求項１乃至４いずれかに記載の基板搬
送装置を有する基板処理装置であって、 前記基板搬送装置により搬送される基板に対して処理を
施す処理機構と、 前記基板搬送装置に対して前記処理機構を昇降させる昇
降機構と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。6. A substrate processing apparatus having the substrate transfer device according to claim 1, wherein a processing mechanism that performs processing on a substrate transferred by the substrate transfer device; and the substrate transfer device. And a lifting mechanism for raising and lowering the processing mechanism with respect to the substrate processing apparatus.