JPH10240171A - Liquid crystal display device - Google Patents
Liquid crystal display deviceInfo
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- JPH10240171A JPH10240171A JP9046805A JP4680597A JPH10240171A JP H10240171 A JPH10240171 A JP H10240171A JP 9046805 A JP9046805 A JP 9046805A JP 4680597 A JP4680597 A JP 4680597A JP H10240171 A JPH10240171 A JP H10240171A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に関
する。[0001] The present invention relates to a liquid crystal display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、液晶表示装置は、液晶パネルの背
面に平面型の照明（バックライト）を設けた透過型の方
式が主流であった。しかし、バックライトは消費電力が
比較的大きく、液晶表示装置の本来の長所であるはずの
低電力動作を阻害する大きな要因となっていた。2. Description of the Related Art Heretofore, liquid crystal display devices have been mainly of a transmission type in which a flat type illumination (backlight) is provided on the back of a liquid crystal panel. However, the backlight consumes a relatively large amount of power, which is a major factor that hinders the low power operation that should be an advantage of the liquid crystal display device.
【０００３】これに対して、反射型液晶表示装置は、バ
ックライトが不要なため大幅な低消費電力化が図れる。
この反射型液晶表示装置は、液晶パネルの背面に光を反
射するための反射板を設け、周囲光を前面に反射して表
示を行う方式である。On the other hand, the reflection type liquid crystal display device does not require a backlight, so that the power consumption can be significantly reduced.
This reflection type liquid crystal display device employs a method in which a reflection plate for reflecting light is provided on the back surface of a liquid crystal panel, and ambient light is reflected on the front surface to perform display.
【０００４】近年、携帯機器の発達に伴い、低消費電力
の表示素子の必要性が高まり、反射型液晶表示装置の必
要性が見直されてきている。現在、モノクロの他、カラ
ー反射型液晶表示装置の試作も行われている。In recent years, with the development of portable devices, the need for display elements with low power consumption has increased, and the need for reflective liquid crystal display devices has been reconsidered. Currently, in addition to monochrome, trial production of a color reflection type liquid crystal display device is also being performed.
【０００５】図５は、カラー反射型液晶表示装置の一例
を示したものである。一方の基板１０１にスイッチング
素子１０２及び画素電極１０４を形成するとともに、他
方の基板１０１にカラーフィルタ１１２及び対向電極１
０５を形成し、両基板間にゲストホスト液晶１１０を設
けている。ゲストホスト液晶１１０は、透明と黒色の二
つの状態を取り得る。周囲から入射した光は、液晶層１
１０でオン・オフされ、ＲＧＢカラーフィルタ層１１２
で加法混色され、カラー画像が表示される。なお、矢印
Ｐで示した方向が観察方向となっている。FIG. 5 shows an example of a color reflection type liquid crystal display device. The switching element 102 and the pixel electrode 104 are formed on one substrate 101, and the color filter 112 and the counter electrode 1 are formed on the other substrate 101.
A guest-host liquid crystal 110 is provided between the substrates. The guest host liquid crystal 110 can take two states, transparent and black. Light incident from the surroundings is
The RGB color filter layer 112 is turned on / off at 10
, And a color image is displayed. The direction indicated by the arrow P is the observation direction.
【０００６】しかしながら、図５に示した方式では、カ
ラーフィルタ層１１２で光エネルギーの３分の１が吸収
されるため光の利用効率が低く、十分な画質を得ること
が難しいという問題がある。However, the method shown in FIG. 5 has a problem that since one third of the light energy is absorbed by the color filter layer 112, the light use efficiency is low and it is difficult to obtain a sufficient image quality.
【０００７】この問題を解決する方法として、シアン・
マゼンタ・イエローの着色層を積層し、減法混色により
着色する方法が考えられる。この方法では、原理的に光
を無駄なく利用できるため、明るい画像表示が期待でき
る。この方法の概念的構成を図６に示す。各液晶層１１
０にそれぞれシアン・マゼンタ・イエローの色素を混入
したゲストホスト液晶を用い、各液晶層１１０を積層し
た構成としている。周囲から入射した光は、各液晶層１
１０で着色されながら反射電極１０８に到達し、再び液
晶層１１０を通過して出射される。As a method for solving this problem, cyan cyan
A method of laminating a magenta / yellow colored layer and coloring by subtractive color mixing can be considered. In this method, light can be used in principle without waste, so that bright image display can be expected. FIG. 6 shows a conceptual configuration of this method. Each liquid crystal layer 11
A liquid crystal layer 110 is laminated using guest-host liquid crystal mixed with cyan, magenta, and yellow dyes respectively. Light incident from the surroundings
The light reaches the reflective electrode 108 while being colored with 10, and passes through the liquid crystal layer 110 again and is emitted.
【０００８】しかしながら、各液晶層１１０は独立に駆
動される必要があり、そのためには、各液晶層１１０の
対向する１組の電極のうち少なくとも一方は駆動用スイ
ッチング素子に接続されていなければならない。そこ
で、各液晶層に駆動用スイッチング素子を配置すること
が考えられる。その一例を図７に示す。この例では、駆
動用スイッチング素子１０２を配置したアレイ基板１０
１を３枚重ね、最前面に対向電極１０５を有する基板１
０１を配置するとともに、反射板１１３を有する基板１
０１をセルの外側に配置している。しかし、反射板１１
３をセルの外側に配置すると、反射板上に表示の影が映
り込み、像が二重になるという問題が発生する。However, each liquid crystal layer 110 needs to be driven independently, and for that purpose, at least one of a pair of opposed electrodes of each liquid crystal layer 110 must be connected to a driving switching element. . Therefore, it is conceivable to arrange a driving switching element in each liquid crystal layer. An example is shown in FIG. In this example, the array substrate 10 on which the driving switching elements 102 are disposed
Substrate 1 having three counter electrodes 105 each having a counter electrode 105 on the forefront
01 and the substrate 1 having the reflecting plate 113
01 is arranged outside the cell. However, the reflection plate 11
If 3 is placed outside the cell, the shadow of the display will be reflected on the reflector, and the image will be duplicated.
【０００９】この問題を回避するため、図８に示す構成
が考えられる。これは、最下層に反射電極１０８を有す
るアレイを配置し、その上部に透過型のアレイ基板を２
枚重ね、さらにその上に対向電極１０５を配置したもの
である。このような構成を用いれば、液晶層１１０と反
射電極１０８が接しているため、像が二重に見えるとい
う問題は回避される。しかし、最下面に配置したアレイ
基板に反射電極１０８を形成する必要があり、他の２枚
のアレイ基板とは異なった構造となる。その結果、アレ
イの製造工程が複雑化するため、製造コストの増加や製
造工程におけるミスの誘発といった問題が生じる。To avoid this problem, a configuration shown in FIG. 8 can be considered. In this method, an array having a reflective electrode 108 is arranged on the lowermost layer, and a transmissive array substrate is provided on the
In this example, the counter electrodes 105 are arranged on the sheets. With such a configuration, since the liquid crystal layer 110 and the reflective electrode 108 are in contact with each other, the problem that an image looks double is avoided. However, it is necessary to form the reflective electrode 108 on the array substrate disposed on the lowermost surface, and the structure is different from the other two array substrates. As a result, the array manufacturing process becomes complicated, which causes problems such as an increase in manufacturing cost and induction of errors in the manufacturing process.
【００１０】以上述べたように、従来の反射型液晶表示
装置においては、特にカラー表示において十分な画質が
得られないという問題があった。また、シアン・マゼン
タ・イエローの色素を用いた減法混色による表色では、
原理的に明るい表示が可能であり、高画質化が可能とな
る。しかし、液晶セルの外側に反射板を配置した場合に
は、反射板上に表示の影が映り込む（２重像）いった問
題があった。また、液晶セルの内側に反射板を配置した
場合には、複数の異なるアレイ基板が必要となり、材料
費の増加や工程の複雑化を招くという問題があった。As described above, the conventional reflection type liquid crystal display device has a problem that a sufficient image quality cannot be obtained particularly in color display. Also, in the color specification by subtractive color mixture using cyan, magenta and yellow dyes,
In principle, bright display is possible, and high image quality can be achieved. However, when a reflector is disposed outside the liquid crystal cell, there is a problem that a shadow of a display is reflected on the reflector (double image). Further, when a reflection plate is disposed inside the liquid crystal cell, a plurality of different array substrates are required, which causes a problem that the material cost increases and the process becomes complicated.
【００１１】一方、シアン・マゼンタ・イエローの液晶
層を積層して液晶パネルを構成した場合、基板の斜め方
向から入射した光に対しては、隣接する画素に光が抜け
てしまうという現象が生じる。これは中間のアレイ基板
の厚さに起因するものであり、二重像や色ずれといった
視認性を低下させる問題が生じる。この問題を解決する
ためには、中間アレイ基板を薄くすればよい。また、基
板を薄くすることにより、表示装置自体の軽量化も実現
できる。On the other hand, when a liquid crystal panel is constructed by laminating liquid crystal layers of cyan, magenta, and yellow, a phenomenon occurs that, for light incident from an oblique direction of the substrate, light passes through adjacent pixels. . This is due to the thickness of the intermediate array substrate, and causes a problem of lowering visibility such as double images and color shift. To solve this problem, the thickness of the intermediate array substrate may be reduced. Further, by reducing the thickness of the substrate, the weight of the display device itself can be reduced.
【００１２】しかしながら、薄い基板上に配線群を形成
することは、基板の破損などプロセス上非常に困難であ
り、現実的には不可能である。また、現在の製造工程で
は、生産性を向上させるために１枚の大型基板から複数
のアレイ基板を取る、いわゆる多面取りが一般的となっ
ている。薄い基板を大型化すると、その取り扱いが困難
になるばかりでなく、自重による基板の破損も起こり得
る。従って、多面取り工程で基板を薄くすることは非常
に困難である。However, forming a wiring group on a thin substrate is extremely difficult in terms of process such as breakage of the substrate, and is practically impossible. Also, in the current manufacturing process, so-called multi-paneling, in which a plurality of array substrates are taken from one large substrate in order to improve productivity, is generally used. When a thin substrate is enlarged, not only its handling becomes difficult, but also the substrate may be damaged by its own weight. Therefore, it is very difficult to reduce the thickness of the substrate in the multiple patterning process.
【００１３】以上述べたように、従来の液晶表示装置に
おいては、積層構造を採用するため、中間に位置する基
板の板厚の影響で、基板垂線に対して斜めから見た場合
に、色ずれや二重像といった画質の低下を招いてしまう
問題があった。また、このような問題を解決するために
基板の板厚を薄くすると、基板上に配線群を形成する工
程において、基板の破損などプロセス上の困難が発生す
る。特に、大型基板から複数のアレイ基板を取る多面取
りを採用した場合、薄い大型基板の取り扱いが非常に困
難になるという問題があった。As described above, in the conventional liquid crystal display device, since the laminated structure is adopted, the color shift occurs when viewed obliquely with respect to the vertical line of the substrate due to the influence of the thickness of the intermediate substrate. There is a problem that image quality is deteriorated such as image quality and double image. Further, if the thickness of the substrate is reduced to solve such a problem, process difficulties such as breakage of the substrate occur in a process of forming a wiring group on the substrate. In particular, in the case of adopting a multi-panel method in which a plurality of array substrates are taken from a large substrate, there is a problem that it is very difficult to handle a thin large substrate.
【００１４】一方、反射型液晶表示装置では、装置に入
射する光を反射板によって反射することで表示を行う
が、このとき、周囲の景色が映り込まないように、反射
板は入射光を散乱反射するように設計される。入射光を
散乱反射するためには、反射板の表面に凹凸を設けるの
が一般的となっている。On the other hand, in a reflection type liquid crystal display device, display is performed by reflecting light incident on the device by a reflection plate. At this time, the reflection plate scatters the incident light so that the surrounding scenery is not reflected. Designed to reflect. In order to scatter and reflect incident light, it is common to provide irregularities on the surface of the reflector.
【００１５】このような反射板は、二つの基板間に液晶
を挟んだ構造の液晶セルの外側に貼り付ける場合と、内
側に内臓する場合とがある。外側に貼り付ける場合は、
反射板を製造するのが容易で、形状や材料も自由に選ぶ
ことができるが、液晶層と反射板との間に基板分の厚み
があるため、表示を見るときに視差ずれが生じるという
欠点がある。一方、反射板を液晶セルに内臓する場合に
は、視差ずれは生じないが、反射板の材料や製造方法が
限定されてしまう。内臓反射板を製造するには、基板上
に塗布した樹脂をパターニングして表面に凹凸を形成
し、その上に反射率の高い金属層を形成する等の方法が
ある。Such a reflection plate may be attached to the outside of a liquid crystal cell having a structure in which liquid crystal is sandwiched between two substrates, or may be incorporated inside. To paste on the outside,
It is easy to manufacture the reflector, and the shape and material can be freely selected. However, since the thickness of the substrate is between the liquid crystal layer and the reflector, there is a disadvantage that parallax shift occurs when viewing the display. There is. On the other hand, when the reflector is incorporated in the liquid crystal cell, no parallax shift occurs, but the material and manufacturing method of the reflector are limited. In order to manufacture the built-in reflector, there is a method of patterning a resin applied on a substrate to form irregularities on the surface, and forming a metal layer having a high reflectance thereon.
【００１６】反射板を液晶セルに内臓する場合、反射板
を設けた基板ともう一方の基板をシール材を用いて貼り
合わせる際に、反射板を設けた方の基板は、金属薄膜の
材料或いは基板表面の凹凸形状が原因で、シール材の接
着力が不十分となることがある。したがって、貼り合わ
せた基板の剥がれ、液晶セルの気密性が悪いことによる
液晶注入不良、液晶漏れ等の問題が生じる場合がある。
また、シール材付近の金属薄膜や樹脂薄膜が剥がれるこ
とにより表示不良が発生することもある。In the case where the reflector is incorporated in the liquid crystal cell, when the substrate provided with the reflector is bonded to the other substrate by using a sealing material, the substrate provided with the reflector is made of a metal thin film material or Due to the uneven shape of the substrate surface, the adhesive strength of the sealing material may be insufficient. Therefore, problems such as peeling of the bonded substrates, poor liquid crystal injection due to poor airtightness of the liquid crystal cell, and liquid crystal leakage may occur.
Further, display defects may occur due to peeling of the metal thin film or the resin thin film near the sealing material.
【００１７】また、液晶セルに内臓した反射板は、液晶
層に電圧を印加するための反射電極としての機能を持た
せることもできる。反射電極に電圧を供給する場合、下
地の樹脂薄膜にスルーホールを形成し、樹脂薄膜の下に
形成された電極と電気的に導通を取る方法が一般的であ
る。しかし、このような方法では、スルーホールを形成
する分の工程が多くなり、また、金属薄膜のカバレッジ
が悪い場合には接触不良が起こる。Further, the reflection plate incorporated in the liquid crystal cell can have a function as a reflection electrode for applying a voltage to the liquid crystal layer. When a voltage is supplied to the reflective electrode, a method is generally used in which a through-hole is formed in the underlying resin thin film and electrical conduction is established with an electrode formed below the resin thin film. However, in such a method, the number of steps for forming the through-hole increases, and poor contact occurs when the coverage of the metal thin film is poor.
【００１８】また、反射電極上に直接外部の電極を接続
しようとした場合、反射電極の表面が凹凸であるため、
接続が困難であったり、接触不良が起こったりすること
がある。When an external electrode is directly connected to the reflective electrode, the surface of the reflective electrode is uneven.
Connection may be difficult or poor contact may occur.
【００１９】また、反射型液晶表示装置では、液晶を駆
動するための画素電極やＴＦＴ等のスイッチング素子を
含む駆動用の回路の他に、駆動用の回路を静電気から保
護するために、ショートリング及びＴＦＴ等から成る保
護回路を設ける場合がある。ところが、ショートリング
やＴＦＴに対して反射板から反射した光が入射した場
合、光リーク電流が流れ、液晶駆動用の信号線やゲート
線の電圧に悪影響を与えることがある。In the reflection type liquid crystal display device, in addition to a driving circuit including a pixel electrode for driving liquid crystal and a switching element such as a TFT, a short ring is provided to protect the driving circuit from static electricity. And a protection circuit including a TFT or the like. However, when light reflected from the reflector is incident on the short ring or the TFT, a light leakage current flows, which may adversely affect the voltage of the liquid crystal driving signal line or gate line.
【００２０】また、液晶セルのセルギャップの制御のた
めには、一般に一定の形状をもつスペーサを２枚の基板
間に設けているが、表面に凹凸をもつ反射板上ではスペ
ーサが凹部に入り込んで一定のセルギャップを保つこと
が困難になる。In order to control the cell gap of a liquid crystal cell, a spacer having a fixed shape is generally provided between two substrates. However, on a reflector having irregularities on the surface, the spacer enters the concave. Therefore, it is difficult to maintain a constant cell gap.
【００２１】以上述べたように、従来の反射型液晶表示
装置においては、反射板表面の凹凸等により、液晶セル
の信頼性や歩留りが低下するという問題点があった。ま
た、電極部の接触不良や膜剥がれ或いは保護回路の誤動
作により表示不良が発生し易いという問題点もあった。
さらに、液晶セルギャップの制御性が悪いため、表示品
位が悪化するという問題点もあった。As described above, the conventional reflection type liquid crystal display device has a problem that the reliability and the yield of the liquid crystal cell are reduced due to the unevenness of the surface of the reflection plate. Further, there is a problem that a display failure is likely to occur due to a contact failure of the electrode portion, film peeling or malfunction of the protection circuit.
Further, there is a problem that display quality is deteriorated due to poor controllability of the liquid crystal cell gap.
【００２２】[0022]
【発明が解決しようとする課題】従来の反射型液晶表示
装置においては、特にカラー表示において十分な画質が
得られないという問題があった。また、シアン・マゼン
タ・イエローの色素を用いた減法混色による表色では、
原理的に明るい表示が可能であり、高画質化が可能とな
る。しかし、液晶セルの外側に反射板を配置した場合に
は、反射板上に表示の影が映り込む（２重像）いった問
題があった。また、液晶セルの内側に反射板を配置した
場合には、複数枚の異なるアレイ基板が必要となり、材
料費の増加や工程の複雑化を招くという問題があった。The conventional reflection type liquid crystal display device has a problem that a sufficient image quality cannot be obtained particularly in color display. Also, in the color specification by subtractive color mixture using cyan, magenta and yellow dyes,
In principle, bright display is possible, and high image quality can be achieved. However, when a reflector is disposed outside the liquid crystal cell, there is a problem that a shadow of a display is reflected on the reflector (double image). Further, when a reflection plate is disposed inside the liquid crystal cell, a plurality of different array substrates are required, which causes a problem that the material cost increases and the process becomes complicated.
【００２３】本発明の目的は、高画質化が可能であり、
しかも材料費の増加や工程の複雑化を低減することが可
能な液晶表示装置を提供することにある。An object of the present invention is to achieve high image quality,
Moreover, it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device capable of reducing an increase in material cost and a complicated process.
【００２４】[0024]
【課題を解決するための手段】以下、本願の第１の発明
部分について述べる。The first aspect of the present invention will be described below.
【００２５】本発明における液晶表示装置は、複数の基
板と、これら複数の基板間に挟持された液晶層とを有
し、前記複数の基板は、非観察面側に複数のスイッチン
グ素子及びこの複数のスイッチング素子を接続するマト
リクス配線が形成されるとともに観察面側に電極が形成
された複数の第１の基板と、これら複数の第１の基板よ
りも観察方向に近い側に設けられ、非観察面側に複数の
スイッチング素子及びこの複数のスイッチング素子を接
続するマトリクス配線が形成された第２の基板と（一般
的には観察面側には電極は形成されていない）、前記複
数の第１の基板よりも非観察方向に近い側に設けられ、
観察面側に反射電極（一般的には高反射率を有する電
極）が形成された第３の基板とからなることを特徴とす
る。The liquid crystal display device according to the present invention has a plurality of substrates and a liquid crystal layer sandwiched between the plurality of substrates. The plurality of substrates includes a plurality of switching elements and a plurality of switching elements on a non-observation surface side. A plurality of first substrates on which a matrix wiring connecting the switching elements is formed and electrodes are formed on the observation surface side, and a plurality of first substrates provided on a side closer to the observation direction than the plurality of first substrates. A second substrate on which a plurality of switching elements and a matrix wiring for connecting the plurality of switching elements are formed on the surface side (generally, no electrodes are formed on the observation surface side); Provided closer to the non-observation direction than the substrate,
And a third substrate having a reflection electrode (generally, an electrode having a high reflectance) formed on the observation surface side.
【００２６】前記発明によれば、例えばシアン・マゼン
タ・イエローのゲストホスト液晶を用いた減法混色によ
る明るい表示を行うことが可能であるとともに、第３の
基板の観察面側に反射電極を設けたので、反射電極上に
表示の影が映り込むこと（２重像）を低減することがで
きる。また、前記複数の第１の基板及び前記第２の基板
に形成されるスイッチング素子及びマトリクス配線を同
一パターンにすることが可能であるため、材料費の増加
や工程の複雑化を低減することができる。According to the invention, it is possible to perform bright display by subtractive color mixture using, for example, a cyan-magenta-yellow guest-host liquid crystal and to provide a reflection electrode on the observation surface side of the third substrate. Therefore, it is possible to reduce the reflection of a display shadow (double image) on the reflective electrode. Further, since the switching elements and the matrix wirings formed on the plurality of first substrates and the second substrate can have the same pattern, it is possible to reduce an increase in material cost and a reduction in complexity of the process. it can.
【００２７】なお、前記複数の第１の基板及び前記第２
の基板における実質的な光透過部の面積比率は８５％以
上であることが好ましい。The plurality of first substrates and the second substrates
It is preferable that the substantial area ratio of the light transmitting portion in the substrate is 85% or more.
【００２８】以下、本願の第２の発明部分について述べ
る。Hereinafter, the second aspect of the present invention will be described.
【００２９】本発明における液晶表示装置の製造方法
は、基板の表面に配線群を形成する工程と、前記配線群
が形成された基板の裏面の少なくとも一部を除去して基
板厚を薄くする工程とを有することを特徴とする。According to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, a step of forming a wiring group on a surface of a substrate and a step of removing at least a part of the back surface of the substrate on which the wiring group is formed to reduce the thickness of the substrate And characterized in that:
【００３０】また、本発明における液晶表示装置の製造
方法は、複数の基板を積層し、これら積層された複数の
基板のうち少なくとも１枚は、表面に配線群を形成する
工程と、前記配線群が形成された基板の裏面の少なくと
も一部を除去して基板厚を薄くする工程と、前記厚さが
薄くなった基板の裏面に少なくとも電極を形成する工程
とを有して作製されることを特徴とする。Further, in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, a plurality of substrates are stacked, and at least one of the plurality of stacked substrates has a step of forming a wiring group on the surface; A step of removing at least a part of the back surface of the substrate on which the substrate is formed to reduce the thickness of the substrate, and a step of forming at least an electrode on the back surface of the substrate having the reduced thickness. Features.
【００３１】また、本発明における液晶表示装置の製造
方法は、複数の基板を積層し、これら積層された複数の
基板のうち少なくとも１枚は、表面に配線群を形成する
工程と、前記配線群が形成された基板の裏面の少なくと
も一部を除去して基板厚を薄くする工程と、前記厚さが
薄くなった基板を所定の形状に切断する工程と、前記切
断された基板の裏面に少なくとも電極を形成する工程と
を有して作製されることを特徴とする。In the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, a plurality of substrates are laminated, and at least one of the laminated substrates has a step of forming a wiring group on a surface thereof; A step of removing at least a part of the back surface of the formed substrate to reduce the thickness of the substrate; a step of cutting the thinned substrate into a predetermined shape; and And a step of forming an electrode.
【００３２】また、本発明における液晶表示装置の製造
方法は、複数の基板を積層し、これら積層された複数の
基板のうち少なくとも１枚は、表面に配線群を形成する
工程と、前記配線群が形成された基板の裏面の少なくと
も一部を除去して基板厚を薄くする工程と、前記厚さが
薄くなった基板の裏面に少なくとも電極を形成する工程
と、前記裏面に少なくとも電極が形成された基板を所定
の形状に切断する工程とを有して作製されることを特徴
とする。In the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, a plurality of substrates are laminated, and at least one of the laminated substrates is formed with a wiring group on a surface thereof; Forming at least an electrode on the back surface of the substrate having the reduced thickness, wherein at least an electrode is formed on the back surface; Cutting the substrate into a predetermined shape.
【００３３】また、本発明における液晶表示装置は、積
層された複数の基板と、対向する前記各基板間に挟持さ
れた複数の液晶層とを有し、前記積層された基板のうち
少なくとも中間部に位置する基板の厚さと画面を構成す
る画素の大きさとの関係が、 ０．３＜（基板厚）／（画素ピッチ）＜２．５ であることを特徴とする。Further, a liquid crystal display device according to the present invention has a plurality of laminated substrates and a plurality of liquid crystal layers sandwiched between the opposed substrates, and at least an intermediate portion of the laminated substrates. Wherein the relationship between the thickness of the substrate located in the area and the size of the pixels forming the screen is 0.3 <(substrate thickness) / (pixel pitch) <2.5.
【００３４】前記発明によれば、例えばシアン・マゼン
タ・イエローの減法混色による積層構造の液晶表示装置
において、基板厚を薄くすることができるため、色ずれ
や二重像といった画質の低下を抑えることができる。ま
た、基板の破損などアレイ基板形成プロセス上の問題を
回避することができる。According to the present invention, for example, in a liquid crystal display device having a laminated structure based on subtractive color mixing of cyan, magenta and yellow, the substrate thickness can be reduced, so that deterioration in image quality such as color shift and double image is suppressed. Can be. In addition, problems in the array substrate forming process, such as damage to the substrate, can be avoided.
【００３５】以下、本願の第３の発明部分について述べ
る。Hereinafter, the third aspect of the present invention will be described.
【００３６】本発明における液晶表示装置は、表面に凹
凸をもつ樹脂薄膜及び金属薄膜からなる反射電極を基板
上に設けた反射型液晶表示装置において、前記基板上に
前記樹脂薄膜又は前記金属薄膜の少なくとも一方が存在
しない領域を設けたことを特徴とする。The liquid crystal display device according to the present invention is a reflection type liquid crystal display device in which a reflective electrode made of a resin thin film and a metal thin film having irregularities on the surface is provided on a substrate, wherein the resin thin film or the metal thin film is formed on the substrate. An area in which at least one does not exist is provided.
【００３７】前記発明によれば、凹凸を形成した樹脂薄
膜或いは金属薄膜をパターニングしており、シール材を
塗布する領域の樹脂薄膜或いは金属薄膜を取り除くこと
により、シール材の接着力を強くすることができる。従
って、基板が剥がれる或いは液晶セルの気密性が悪くな
るといった不都合を回避することができる。また、シー
ル材によって樹脂薄膜や金属薄膜が変形したり剥がれた
りすることを防ぐこともできる。According to the invention, the resin thin film or the metal thin film having the irregularities formed thereon is patterned, and the adhesive strength of the seal material is increased by removing the resin thin film or the metal thin film in the region where the seal material is applied. Can be. Therefore, it is possible to avoid such a disadvantage that the substrate is peeled off or the airtightness of the liquid crystal cell is deteriorated. Further, it is possible to prevent the resin thin film or the metal thin film from being deformed or peeled off by the sealing material.
【００３８】前記発明において、前記樹脂薄膜が前記金
属薄膜に被覆され、前記金属薄膜が形成されている領域
が前記樹脂薄膜が形成されている領域よりも大きくなる
ようにすることが好ましい。金属薄膜が樹脂薄膜より大
きくパターニングされているので、樹脂薄膜を構成する
材料の一部が液晶中に不純物として溶け出し、表示に悪
影響を起こすことを避けることができる。また、金属層
をパターニングする際に使用するエッチャントに樹脂薄
膜が侵されて変形することを防ぐことができる。In the above invention, it is preferable that the resin thin film is covered with the metal thin film, and a region where the metal thin film is formed is larger than a region where the resin thin film is formed. Since the metal thin film is patterned to be larger than the resin thin film, it is possible to prevent a part of the material constituting the resin thin film from being dissolved as an impurity in the liquid crystal and adversely affecting the display. Further, it is possible to prevent the resin thin film from being deformed by the etchant used for patterning the metal layer.
【００３９】また、本発明における液晶表示装置は、樹
脂薄膜及び金属薄膜からなる反射電極を基板上に設けた
反射型液晶表示装置において、前記金属薄膜が延伸して
外部の電極と接続されていることを特徴とする。In the liquid crystal display device according to the present invention, in a reflection type liquid crystal display device provided with a reflection electrode composed of a resin thin film and a metal thin film on a substrate, the metal thin film extends and is connected to an external electrode. It is characterized by the following.
【００４０】前記発明によれば、金属薄膜が液晶セル外
部に延伸して外部から電圧を印加するための配線と接続
されるので、スルーホールを形成して外部からの電圧を
印加する場合と比べて工程数が少なくなるとともに接触
不良等を少なくすることができ、歩留りを向上させるこ
とができる。According to the invention, since the metal thin film extends to the outside of the liquid crystal cell and is connected to the wiring for applying a voltage from the outside, the through hole is formed and compared with the case where the voltage from the outside is applied. As a result, the number of steps can be reduced, contact failure and the like can be reduced, and the yield can be improved.
【００４１】また、本発明における液晶表示装置は、表
面に凹凸をもつ樹脂薄膜及び金属薄膜からなる反射電極
を基板上に設けた反射型液晶表示装置において、前記金
属薄膜に電圧を加えるための電極部では前記金属薄膜の
下の前記樹脂薄膜が平坦であることを特徴とする。Further, according to the liquid crystal display device of the present invention, in a reflection type liquid crystal display device in which a reflection electrode made of a resin thin film having irregularities on its surface and a metal thin film is provided on a substrate, an electrode for applying a voltage to the metal thin film is provided. In the portion, the resin thin film below the metal thin film is flat.
【００４２】前記発明によれば、外部から電圧を印加す
るための配線を接続する領域において、樹脂薄膜が表面
に凹凸をもつように加工されておらず、平坦になってい
る。従って、配線の外れや接触不良、膜剥がれ等を抑制
することができる。また、凹凸に加工されている領域と
の境界において、樹脂薄膜が連続的であるため、境界部
での金属薄膜の段切れを防止する効果もある。According to the invention, in the region to which the wiring for applying a voltage from the outside is connected, the resin thin film is not processed so as to have unevenness on the surface and is flat. Therefore, disconnection of wiring, poor contact, peeling of film, and the like can be suppressed. In addition, since the resin thin film is continuous at the boundary with the region processed to be uneven, there is also an effect of preventing disconnection of the metal thin film at the boundary.
【００４３】また、本発明における液晶表示装置は、樹
脂薄膜及び金属薄膜からなる反射電極を基板上に設けた
反射型液晶表示装置において、前記金属薄膜に電圧を加
えるための電極部では前記金属薄膜の下に前記樹脂薄膜
が存在しないことを特徴とする。Further, in the liquid crystal display device according to the present invention, in a reflection type liquid crystal display device provided with a reflection electrode composed of a resin thin film and a metal thin film on a substrate, the electrode portion for applying a voltage to the metal thin film has the metal thin film. Is characterized in that the resin thin film does not exist under the following.
【００４４】前記発明によれば、外部から電圧を印加す
るための配線を接続する領域には樹脂薄膜がない。従っ
て、配線の外れや接触不良或いは樹脂薄膜や金属薄膜の
剥がれを防止することができる。According to the invention, there is no resin thin film in a region where a wiring for applying a voltage from the outside is connected. Therefore, it is possible to prevent the disconnection of the wiring, the contact failure, and the peeling of the resin thin film or the metal thin film.
【００４５】また、本発明における液晶表示装置は、透
明画素電極及び液晶駆動用回路が形成された透明基板と
反射板とを有する反射型液晶表示装置において、前記液
晶駆動用回路を静電気から保護するための保護回路を前
記透明基板上の前記反射板の反射面と重ならない位置に
形成したことを特徴とする。In a liquid crystal display device according to the present invention, in a reflection type liquid crystal display device having a transparent substrate on which a transparent pixel electrode and a liquid crystal driving circuit are formed and a reflector, the liquid crystal driving circuit is protected from static electricity. A protection circuit for preventing the reflection from the reflection surface of the reflection plate on the transparent substrate.
【００４６】前記発明では、ＴＦＴ等のスイッチング素
子を含む液晶駆動用回路を静電気から保護するために設
けられたショートリングＴＦＴ等の保護回路が、反射板
の反射面よりも外側に形成されている。そのため、装置
に入射し反射板によって反射された反射光が、ショート
リングＴＦＴに入射する割合が極めて少なくなる。従っ
て、ショートリングＴＦＴに反射光による光リーク電流
が流れて画素電極に供給される電圧が変化することを防
止することができ、表示品位を落とすことを避けること
ができる。In the above invention, a protection circuit such as a short ring TFT provided for protecting a liquid crystal driving circuit including a switching element such as a TFT from static electricity is formed outside the reflection surface of the reflection plate. . Therefore, the ratio of reflected light incident on the device and reflected by the reflector to the short ring TFT is extremely small. Therefore, it is possible to prevent a change in the voltage supplied to the pixel electrode due to the light leak current caused by the reflected light flowing through the short ring TFT, and to prevent the display quality from deteriorating.
【００４７】また、本発明における液晶表示装置は、表
面に凹凸を有する反射電極が形成された基板と対向基板
とをスペーサを介して貼り合わせて液晶セルを作製した
反射型液晶表示装置において、前記反射電極の近接する
凸部の頂点間の距離の平均値がセルギャップよりも小さ
いことを特徴とする。Further, the liquid crystal display device according to the present invention is a reflection type liquid crystal display device in which a substrate on which a reflective electrode having irregularities is formed on a surface and a counter substrate are bonded via a spacer to produce a liquid crystal cell. The average value of the distance between the apexes of the protruding portions close to the reflective electrode is smaller than the cell gap.
【００４８】前記発明によれば、反射電極の近接する凸
部の頂点間の距離の平均値がセルギャップよりも小さく
なっているため、液晶セルのセルギャップを一定に保つ
ために使用するスペーサが凹部にはまり込む量が少なく
なる。従って、セルギャップの制御性が上がり、表示品
位が向上する。According to the invention, since the average value of the distance between the vertexes of the adjacent convex portions of the reflective electrode is smaller than the cell gap, the spacer used to keep the cell gap of the liquid crystal cell constant is reduced. The amount that fits into the recess is reduced. Therefore, the controllability of the cell gap is improved, and the display quality is improved.
【００４９】また、本発明における液晶表示装置は、表
面に凹凸を有する反射電極が形成された基板と対向基板
とを球状のスペーサを介して貼り合わせて液晶セルを作
製した反射型液晶表示装置において、前記反射電極の凹
部の曲率半径が前記スペーサの半径よりも小さいことを
特徴とする。Further, the liquid crystal display device of the present invention is a reflection type liquid crystal display device in which a substrate on which a reflective electrode having irregularities is formed and a counter substrate are bonded via a spherical spacer to produce a liquid crystal cell. The curvature radius of the concave portion of the reflection electrode is smaller than the radius of the spacer.
【００５０】前記発明によれば、反射電極の表面の凹部
の曲率半径がセルギャップを一定に保つために使用され
る球状のスペーサの半径よりも小さくなっているため、
球状スペーサが凹部にはまり込む量が少なくなり、セル
ギャップの制御性が上がり、表示品位が向上する。According to the invention, the radius of curvature of the concave portion on the surface of the reflective electrode is smaller than the radius of the spherical spacer used to keep the cell gap constant.
The amount by which the spherical spacers fit into the concave portions is reduced, the controllability of the cell gap is increased, and the display quality is improved.
【００５１】[0051]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の各
実施形態について説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００５２】まず、本発明の第１実施形態について説明
する。First, a first embodiment of the present invention will be described.
【００５３】図１は、第１実施形態に係る液晶表示装置
の断面構成を模式的に示したものである。FIG. 1 schematically shows a sectional configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment.
【００５４】まず、ガラス基板１０１ａ及び１０１ｂ上
に、マトリクス配線（図示せず）及びマトリクス配線の
交差部にスイッチング素子１０２を形成したアレイ基板
を３枚作製した。マトリクス配線及びスイッチング素子
は、３枚とも同一パターンで形成されている。光の利用
効率を考えて、各液晶層１１０に電圧を印加するための
透明電極１０４（例えばＩＴＯを用いる）のアレイに占
める面積比（開口率）が８６％になるように設計した。
その結果、３枚重ねても十分な光利用効率が得られるこ
とがわかった。なお、製造プロセスには透過型液晶表示
装置の製造で一般的に用いられている方法をそのまま利
用することができる。First, three array substrates having matrix wirings (not shown) and switching elements 102 formed at intersections of the matrix wirings were formed on glass substrates 101a and 101b. The matrix wiring and the switching elements are all formed in the same pattern. In consideration of light utilization efficiency, the area ratio (opening ratio) of the array of the transparent electrodes 104 (for example, using ITO) for applying a voltage to each liquid crystal layer 110 was designed to be 86%.
As a result, it was found that sufficient light use efficiency could be obtained even when three sheets were stacked. In the manufacturing process, a method generally used in manufacturing a transmission type liquid crystal display device can be used as it is.
【００５５】ところで、同一パターンのアレイ基板を複
数重ねると、アレイ基板の重なりのわずかなずれによ
り、モアレ干渉縞が発生することがわかった。そこで、
この問題について検討した結果、モアレ干渉縞は各アレ
イ基板の配線の視認性に影響されることによることがわ
かった。図２は、アレイ基板の開口率とモアレ縞の視認
性について検討した結果である。その結果、開口率が８
５％を越えるとモアレ縞はほとんど視認されなくなるこ
とがわかった。従って、開口率が８５％以上となるよう
にアレイ基板を設計することにより、明るくかつモアレ
縞の発生を抑えた表示を実現することができる。By the way, it was found that when a plurality of array substrates having the same pattern were overlapped, Moiré interference fringes were generated due to a slight shift of the overlap of the array substrates. Therefore,
As a result of examining this problem, it was found that the moire interference fringes were affected by the visibility of the wiring on each array substrate. FIG. 2 shows the result of studying the aperture ratio of the array substrate and the visibility of the moire fringes. As a result, the aperture ratio is 8
When it exceeds 5%, it was found that the moire fringes were hardly visually recognized. Therefore, by designing the array substrate so that the aperture ratio is 85% or more, it is possible to realize a display that is bright and suppresses the occurrence of moiré fringes.
【００５６】次に、２枚のアレイ基板１０１ａの裏面に
ＩＴＯを用いた対向電極１０５をスパッタ成膜した後、
アレイ周辺においてアレイ基板を切断した。切断前にス
イッチング素子１０２上に黒色レジストで光遮蔽層１１
１を形成してもよい。光遮蔽層１１１を形成することに
より、周囲光に対するスイッチング素子１０２の耐光性
が向上する。なお、光遮蔽層１１１は、図３に示すよう
に、スイッチング素子１０２に対向する領域の対向基板
上に設けてもよい。このように構成すれば、周囲から入
射した光が対向電極１０５表面で反射してスイッチング
素子１０２に入射することを防ぐことができる。Next, a counter electrode 105 using ITO is formed on the back surfaces of the two array substrates 101a by sputtering.
The array substrate was cut around the array. Before cutting, the light shielding layer 11 is formed of a black resist on the switching element 102.
1 may be formed. By forming the light shielding layer 111, the light resistance of the switching element 102 against ambient light is improved. Note that the light shielding layer 111 may be provided on a counter substrate in a region facing the switching element 102 as shown in FIG. With this configuration, it is possible to prevent light incident from the surroundings from being reflected on the surface of the counter electrode 105 and incident on the switching element 102.
【００５７】アレイ周辺の電極１０６は、図４に示すよ
うに、数箇所で基板を切断できるような複数の切りしろ
１０７を設けた形状とした。各アレイで切断部分を変え
ることで、電極表面が他の基板に隠れて電気的接触が不
可能になることを回避できる。例えば，図４（Ａ）のａ
の位置で切断したアレイ基板とｂの位置で切断したアレ
イ基板を、図４（ｂ）のように重ねると、各アレイ基板
の電極が露出し、容易に駆動用回路を実装することがで
きる。As shown in FIG. 4, the electrode 106 around the array has a shape provided with a plurality of cutting margins 107 so that the substrate can be cut at several places. By changing the cut portion in each array, it is possible to prevent the electrode surface from being hidden by another substrate and making electrical contact impossible. For example, a in FIG.
When the array substrate cut at the position b and the array substrate cut at the position b are overlapped as shown in FIG. 4B, the electrodes of each array substrate are exposed, and the driving circuit can be easily mounted.
【００５８】次に、周辺が切断された基板３枚（２枚の
アレイ基板１０１ａ及びアレイ基板１０１ｂ）を重ね
て、図１に示すようなセルを形成した。各アレイ基板１
０１ａ及び１０１ｂ（観察方向Ｐから最も近いアレイ基
板１０１ｂには対向電極１０５が形成されていない）
は、スイッチング素子１０２及びマトリクス配線の形成
面が観察方向Ｐに対して遠い方向になるように配置し
た。また、観察方向Ｐから最も遠い位置の基板１０１ｃ
には、金属表面に微小な凹凸が形成された反射電極１０
８を配置した。その結果、反射電極１０８が液晶層１１
０に接しているため、二重像による画質の低下を回避す
ることができた。Next, three cells (the two array substrates 101a and 101b) whose peripheral portions were cut were stacked to form a cell as shown in FIG. Each array substrate 1
01a and 101b (the counter electrode 105 is not formed on the array substrate 101b closest to the observation direction P)
Are arranged such that the surfaces on which the switching elements 102 and the matrix wiring are formed are far from the observation direction P. Further, the substrate 101c farthest from the observation direction P
Has a reflective electrode 10 having minute irregularities formed on a metal surface.
8 was arranged. As a result, the reflection electrode 108 is
Since it is in contact with 0, it was possible to avoid a decrease in image quality due to double images.
【００５９】また、反射電極１０８の金属を、少なくと
も画素領域内でパターニングしない様にすると、従来の
構造のように各画素毎に反射電極を作製した場合と比較
して、反射電極の面積が増加するため、従来の構造に比
較して約５％反射効率が向上することがわかった。When the metal of the reflective electrode 108 is not patterned at least in the pixel area, the area of the reflective electrode is increased as compared with the case where the reflective electrode is manufactured for each pixel as in the conventional structure. Therefore, it was found that the reflection efficiency was improved by about 5% as compared with the conventional structure.
【００６０】本構造では、スイッチング素子１０２と反
射電極１０８を同一基板上に形成しないため、新たな製
造プロセスに起因するトラブルを回避することができ
る。その結果、従来の透過型液晶表示装置の製造プロセ
スをそのまま利用することにより、例えばシアン・マゼ
ンタ・イエローのゲストホスト液晶を用いた積層型の反
射型液晶表示装置を容易に実現することができた。In this structure, since the switching element 102 and the reflection electrode 108 are not formed on the same substrate, troubles caused by a new manufacturing process can be avoided. As a result, by directly using the manufacturing process of the conventional transmissive liquid crystal display device, it was possible to easily realize a stacked reflective liquid crystal display device using, for example, cyan, magenta and yellow guest host liquid crystals. .
【００６１】また、同一パターンのアレイ基板（２枚の
アレイ基板１０１ａ及びアレイ基板１０１ｂ）の周辺切
断位置を変えるだけで、積層型の反射型液晶表示装置を
構成することができた。その結果、１種類のアレイ基板
を作製すればよいため、製造工程におけるミスを激減さ
せることができた。また、大型基板からの多面取りによ
る製造方法にも容易に対応できるため、製造コストの低
減に効果があることがわかった。さらに、同一工程で製
造される同一パネルにすることで、パターン変換差など
のプロセス条件の均一化やスイッチング素子特性の均一
化がはかれるため、高画質が得られることがわかった。Further, a multilayer reflective liquid crystal display device could be constructed only by changing the cutting positions around the array substrate (two array substrates 101a and 101b) having the same pattern. As a result, since only one type of array substrate needs to be manufactured, errors in the manufacturing process can be drastically reduced. In addition, it has been found that the method can easily cope with a manufacturing method using multiple substrates from a large-sized substrate, which is effective in reducing the manufacturing cost. Furthermore, it was found that by using the same panel manufactured in the same process, uniform processing conditions such as pattern conversion differences and uniform switching element characteristics can be obtained, so that high image quality can be obtained.
【００６２】以上述べたように、本第１実施形態によれ
ば、例えばシアン・マゼンタ・イエローのゲストホスト
液晶を用いた減法混色による明るい表示を行うことが可
能であるとともに、観察方向に対して最も遠い基板の観
察面側に反射電極を設けたので、反射電極上に表示の影
が映り込むこと（２重像）を低減することができる。ま
た、３枚のアレイ基板に形成されるスイッチング素子及
びマトリクス配線を同一パターンにすることが可能であ
るため、材料費の増加や工程の複雑化を低減することが
できる。As described above, according to the first embodiment, it is possible to perform bright display by subtractive color mixture using, for example, cyan, magenta, and yellow guest-host liquid crystals, and to perform observation in the viewing direction. Since the reflection electrode is provided on the observation surface side of the farthest substrate, reflection of a display shadow on the reflection electrode (double image) can be reduced. In addition, since the switching elements and the matrix wirings formed on the three array substrates can be formed in the same pattern, an increase in material costs and a reduction in complexity of the process can be reduced.
【００６３】次に、本発明の第２実施形態について説明
する。Next, a second embodiment of the present invention will be described.
【００６４】まず、本第２実施形態の具体例について説
明する前に、積層型のカラー反射型液晶表示装置の一般
的な構成と、積層型液晶表示装置における二重像の視認
性について説明する。First, before describing a specific example of the second embodiment, a general configuration of a multi-layer color reflection type liquid crystal display device and the visibility of a double image in the multi-layer liquid crystal display device will be described. .
【００６５】図９は、積層型のカラー反射型液晶表示装
置の一般的な構成の断面構成を模式的に示したものであ
る。観察方向Ｐに最も近いガラス基板２０１には対向電
極２０３が形成され、そのつぎの２枚のガラス基板２０
１には対向電極２０３及び電極２０８が形成され、観察
方向Ｐに最も遠いガラス基板２０１には反射電極２０５
が形成されている。そして、各基板２０１間に液晶層２
０６（例えば、シアン・マゼンタ・イエローのゲストホ
スト液晶によって構成される）を保持することにより、
積層型液晶表示装置が構成される。FIG. 9 schematically shows a cross-sectional structure of a general structure of a stacked type color reflection type liquid crystal display device. A counter electrode 203 is formed on the glass substrate 201 closest to the observation direction P, and the next two glass substrates 20 are formed.
1, a counter electrode 203 and an electrode 208 are formed, and a glass substrate 201 farthest in the viewing direction P is provided on a reflective electrode 205.
Are formed. The liquid crystal layer 2 is provided between the substrates 201.
06 (for example, composed of a cyan-magenta-yellow guest-host liquid crystal)
A multilayer liquid crystal display device is configured.
【００６６】図１０は、積層型液晶表示装置の二重像の
視認性を評価した結果である。中間基板の厚さと画素ピ
ッチが異なる多数のパネルの二重像の視認性を調べた結
果、（中間基板厚さ）／（画素ピッチ）をパラメータと
して視認性が表現できることが分かった。以下、（中間
基板厚さ）／（画素ピッチ）＝ｐと表す。図１０からわ
かるように、ｐ＞２．５では二重像がはっきり視認さ
れ、画像の視認性が極端に低下することがわかった。ｐ
を小さくすると二重像の視認性は低下し、二重像が視認
されるが画像の認識には影響を及ぼさないようになっ
た。さらにｐを小さくすると、ｐ＜０．３では二重像が
視認されなくなり、実際的には全く問題無い画質が得ら
れることがわかった。従って、ｐを０．３より小さくし
ても、画素の巨大化や基板の極薄化を招くだけで、意味
が無いことがわかった。すなわち０．３＜ｐ＜２．５が
積層型液晶表示装置の実現に必要十分な条件であること
が判明した。FIG. 10 shows the result of evaluating the visibility of a double image of the multi-layer liquid crystal display device. As a result of examining the visibility of double images of many panels having different pixel pitches from the thickness of the intermediate substrate, it was found that the visibility could be expressed using (intermediate substrate thickness) / (pixel pitch) as a parameter. Hereinafter, (intermediate substrate thickness) / (pixel pitch) = p. As can be seen from FIG. 10, when p> 2.5, the double image was clearly recognized, and it was found that the visibility of the image was extremely reduced. p
When the value of is reduced, the visibility of the double image is reduced, and the double image is visually recognized but does not affect the recognition of the image. When p was further reduced, it was found that when p <0.3, the double image was not visually recognized, and image quality without any problem was obtained in practice. Therefore, it has been found that even if p is smaller than 0.3, it is only meaningful for the pixel to be enlarged and the substrate to be extremely thin, and has no meaning. That is, it was found that 0.3 <p <2.5 was a necessary and sufficient condition for realizing the multi-layer liquid crystal display device.
【００６７】以下、上記の条件（０．３＜ｐ＜２．５）
を満たす液晶表示装置の具体例について述べる。Hereinafter, the above conditions (0.3 <p <2.5)
A specific example of a liquid crystal display device satisfying the above will be described.
【００６８】図１１は、本第２実施形態の第１実施例に
係る液晶表示装置の製造方法を示したものである。以
下、製造工程にしたがって説明する。FIG. 11 shows a method of manufacturing a liquid crystal display according to the first example of the second embodiment. Hereinafter, description will be given according to the manufacturing process.
【００６９】まず、板厚０．７ｍｍのガラス基板２０１
を用意し（図１１ａ）、このガラス基板２０１上に表示
用配線群２０２を形成した。このときの画素ピッチは
０．３ｍｍである。板厚０．７ｍｍの基板２０１は自重
による反りも大きくなく、熱工程にも十分に耐えられる
ので、薄膜トランジスタなどの製造工程にも問題は生じ
なかった（図１１ｂ）。First, a glass substrate 201 having a thickness of 0.7 mm was used.
Was prepared (FIG. 11A), and a display wiring group 202 was formed on the glass substrate 201. The pixel pitch at this time is 0.3 mm. The substrate 201 having a thickness of 0.7 mm was not significantly warped due to its own weight and was sufficiently resistant to a heat process, so that there was no problem in the process of manufacturing a thin film transistor or the like (FIG. 11B).
【００７０】次に、ガラス基板２０１の裏面側２０４を
研磨により除去し、基板厚を０．５ｍｍまで薄くした。
具体的には、酸化セリウムを用いた通常の機械的な研磨
方法を用いた。基板２０１表面は配線群２０２上に保護
レジスト２０９を塗布した後さらに粘着性保護シート２
１０で被覆した。粘着性保護シート２１０は１００μｍ
程度以上の厚さを有するものを用いたため、ガラス基板
２０１の強度不足を補う役割も果たすことがわかった
（図１１ｃ）。Next, the back surface 204 of the glass substrate 201 was removed by polishing, and the substrate thickness was reduced to 0.5 mm.
Specifically, a normal mechanical polishing method using cerium oxide was used. After applying a protective resist 209 on the wiring group 202, the surface of the substrate 201 is further coated with an adhesive protective sheet 2.
10 covered. The adhesive protection sheet 210 is 100 μm
It was found that the use of a material having a thickness not less than about the thickness also served to compensate for the insufficient strength of the glass substrate 201 (FIG. 11C).
【００７１】次に、粘着性保護シート２１０を剥がし、
基板を洗浄した後に保護レジスト２０９を除去した。粘
着性保護シート２１０として、紫外線照射により粘着力
が低下するものを用いたので、基板の破損なしに簡単に
粘着性保護シート２１０を剥がすことができた。また、
基板表面には傷は発生しなかった。以上のようにして、
厚さ０．５ｍｍという極めて薄い基板上に、熱工程を必
要とする配線群２０２が形成された。続いて、研磨面に
対向電極２０３となるＩＴＯをスパッタ成膜した後、配
線群周辺で基板を所定の形状に切出し、この基板を用い
て積層型液晶表示装置を作製した。前述のｐの値はｐ＝
１．７であり、二重像はほとんど視認されず、良好な画
像が得られた（図１１ｄ）。Next, the adhesive protection sheet 210 is peeled off,
After washing the substrate, the protective resist 209 was removed. Since the adhesive protective sheet 210 whose adhesive strength was reduced by ultraviolet irradiation was used, the adhesive protective sheet 210 could be easily peeled off without damaging the substrate. Also,
No scratch was generated on the substrate surface. As described above,
A wiring group 202 requiring a thermal process was formed on an extremely thin substrate having a thickness of 0.5 mm. Subsequently, after the ITO to be the counter electrode 203 was formed on the polished surface by sputtering, the substrate was cut into a predetermined shape around the wiring group, and a multilayer liquid crystal display device was manufactured using the substrate. The value of p is p =
1.7, a double image was hardly visually recognized, and a good image was obtained (FIG. 11D).
【００７２】図１２は、本第２実施形態の第２実施例に
係る液晶表示装置の製造方法を示したものである。以
下、製造工程にしたがって説明する。FIG. 12 shows a method of manufacturing a liquid crystal display according to a second example of the second embodiment. Hereinafter, description will be given according to the manufacturing process.
【００７３】まず、板厚０．７ｍｍのガラス基板２０１
を用意し（図１２ａ）、このガラス基板２０１上に表示
用配線群２０２を形成した。このときの画素ピッチは
０．１５ｍｍである。板厚０．７ｍｍの基板２０１は自
重による反りも大きくなく、熱工程にも十分に耐えられ
るので、薄膜トランジスタなどの製造工程にも問題は生
じなかった（図１２ｂ）。First, a glass substrate 201 having a thickness of 0.7 mm was used.
Was prepared (FIG. 12A), and a display wiring group 202 was formed on the glass substrate 201. The pixel pitch at this time is 0.15 mm. The substrate 201 having a thickness of 0.7 mm was not significantly warped due to its own weight and was sufficiently resistant to a heat process, so that there was no problem in the process of manufacturing a thin film transistor or the like (FIG. 12B).
【００７４】次に、ガラス基板２０１の裏面側２０４を
除去し、基板厚を０．３ｍｍまで薄くした。具体的に
は、フッ酸を主成分とするエッチャントによる化学的な
研磨方法を用いた。基板表面は、配線群２０２上に保護
レジスト２０９を塗布した後、さらに粘着性保護シート
２１０で被覆した。粘着性保護シート２１０に１００μ
ｍ程度以上の厚さを有するものを用いたため、ガラス基
板２０１の強度不足を補う役割も果たすことがわかっ
た。また、配線群２０２が複数形成された基板を一度に
研磨するため、生産性が向上した（図１２ｃ）。Next, the back side 204 of the glass substrate 201 was removed, and the substrate thickness was reduced to 0.3 mm. Specifically, a chemical polishing method using an etchant containing hydrofluoric acid as a main component was used. After applying a protective resist 209 on the wiring group 202, the substrate surface was further covered with an adhesive protective sheet 210. 100μ on the adhesive protection sheet 210
Since a material having a thickness of about m or more was used, it was found that the glass substrate 201 also plays a role in compensating for insufficient strength. Further, since the substrate on which the plurality of wiring groups 202 are formed is polished at a time, productivity is improved (FIG. 12C).
【００７５】次に、基板を０．３ｍｍの厚さまで研磨し
た後、基板を洗浄し、基板を所定の形状に切断した。研
磨された基板をすぐに切断することで、自重による基板
の破損を防ぐことができる（図１２ｄ）。Next, after polishing the substrate to a thickness of 0.3 mm, the substrate was washed and the substrate was cut into a predetermined shape. By immediately cutting the polished substrate, it is possible to prevent the substrate from being damaged by its own weight (FIG. 12D).
【００７６】次に、粘着性保護シート２１０を剥がし、
保護レジスト２０９を除去した。粘着性保護シート２１
０として、紫外線照射により粘着力が低下するものを用
いたので、基板の破損なしに簡単に粘着性保護シート２
１０を剥がすことができた。以上のようにして、厚さ
０．３ｍｍという極めて薄い基板上に、熱工程を必要と
する配線群２０２が形成された。続いて、研磨面に対向
電極２０３となるＩＴＯをスパッタ成膜した後、配線群
周辺で基板を所定の形状に切出し、この基板を用いて積
層型液晶表示装置を作製した。前述のｐの値はｐ＝０．
５であり、二重像は全く視認されず、実質的に問題のな
い画像が得られた（図１２ｅ）。Next, the adhesive protection sheet 210 is peeled off,
The protection resist 209 was removed. Adhesive protection sheet 21
As 0, a material whose adhesive strength is reduced by ultraviolet irradiation was used.
10 could be peeled off. As described above, the wiring group 202 requiring the heat process was formed on the extremely thin substrate having a thickness of 0.3 mm. Subsequently, after the ITO to be the counter electrode 203 was formed on the polished surface by sputtering, the substrate was cut into a predetermined shape around the wiring group, and a multilayer liquid crystal display device was manufactured using the substrate. The value of p described above is p = 0.
5, and no double image was visually recognized, and a substantially problem-free image was obtained (FIG. 12e).
【００７７】図１３は、本第２実施形態の第３実施例に
係る液晶表示装置の製造方法を示したものである。以
下、製造工程にしたがって説明する。FIG. 13 shows a method of manufacturing a liquid crystal display according to a third example of the second embodiment. Hereinafter, description will be given according to the manufacturing process.
【００７８】まず、板厚０．７ｍｍのガラス基板２０１
を用意し（図１３ａ）、このガラス基板２０１上に表示
用配線群２０２を形成した。このときの画素ピッチは
０．４ｍｍである。板厚０．７ｍｍの基板２０１は自重
による反りも大きくなく、熱工程にも十分に耐えられる
ので、薄膜トランジスタなどの製造工程にも問題は生じ
なかった（図１３ｂ）。First, a glass substrate 201 having a thickness of 0.7 mm was used.
Was prepared (FIG. 13A), and a display wiring group 202 was formed on the glass substrate 201. The pixel pitch at this time is 0.4 mm. The substrate 201 having a thickness of 0.7 mm was not significantly warped due to its own weight and was sufficiently resistant to a heat process, so that there was no problem in the process of manufacturing a thin film transistor or the like (FIG. 13B).
【００７９】次に、ガラス基板２０１の裏面側２０４を
除去し、基板厚を０．５ｍｍまで薄くした。具体的に
は、フッ酸を主成分とするエッチャントによる化学的な
研磨方法を用いた。基板表面は、配線群２０２上に保護
レジスト２０９を塗布した後、さらに粘着性保護シート
２１０で被覆した（図１３ｃ）。Next, the back side 204 of the glass substrate 201 was removed, and the substrate thickness was reduced to 0.5 mm. Specifically, a chemical polishing method using an etchant containing hydrofluoric acid as a main component was used. After applying a protective resist 209 on the wiring group 202, the substrate surface was further covered with an adhesive protective sheet 210 (FIG. 13c).
【００８０】次に、基板を０．５ｍｍ厚まで研磨した
後、粘着性保護シート２１０及び保護レジスト２０９を
除去して基板を洗浄し、研磨された面に対向電極２０３
となるＩＴＯをスパッタ成膜した。０．５ｍｍという比
較的強度の高い厚さであるため、生産効率の点から、基
板を切出す前に一度にＩＴＯを成膜している。以上のよ
うにして、厚さ０．５ｍｍという極めて薄い基板上に、
熱工程を必要とする配線群２０２が形成された（図１３
ｄ）。Next, after the substrate is polished to a thickness of 0.5 mm, the adhesive protective sheet 210 and the protective resist 209 are removed, and the substrate is washed.
Was formed by sputtering. Since the thickness is relatively high, such as 0.5 mm, the ITO film is formed at a time before cutting the substrate from the viewpoint of production efficiency. As described above, on an extremely thin substrate having a thickness of 0.5 mm,
A wiring group 202 requiring a heat process was formed.
d).
【００８１】次に、再度保護レジスト２１９及び粘着性
保護シート２２０で表面を保護した後、配線群２０２周
辺で基板を所定の形状に切出した（図１３ｅ）。Next, after the surface was again protected by the protective resist 219 and the adhesive protective sheet 220, the substrate was cut into a predetermined shape around the wiring group 202 (FIG. 13E).
【００８２】次に、粘着性保護シート２２０を剥がした
後、保護レジスト２１９を除去した。切出し工程では裏
面が装置冶具に接触するため基板裏面に傷が発生する可
能性があるが、ガラスが直接接触するよりＩＴＯが接触
した方が裏面に傷が発生し難いことがわかった。この基
板を用いて積層型液晶表示装置を作製した。前述のｐの
値はｐ＝１．２であり、二重像は画像の視認性に影響を
与えないレベルであり、実質的に問題のない画像が得ら
れた（図１３ｆ）。Next, after the adhesive protective sheet 220 was peeled off, the protective resist 219 was removed. In the cutting step, the back surface comes into contact with the device jig, so there is a possibility that the back surface of the substrate may be scratched. Using this substrate, a multilayer liquid crystal display device was manufactured. The value of p was p = 1.2, and the double image was at a level that did not affect the visibility of the image, and a substantially problem-free image was obtained (FIG. 13F).
【００８３】次に、本第２実施形態の第４実施例に係る
液晶表示装置の製造方法について説明する。本第４実施
例は、上述の第２実施例とほぼ同様の製造方法を一般的
な透過型液晶表示装置に適用したものである。製造方法
は図１２に示した第２実施例とほぼ同様であるため、図
１２を参照して以下説明する。Next, a method of manufacturing a liquid crystal display according to a fourth example of the second embodiment will be described. In the fourth embodiment, a manufacturing method substantially similar to that of the second embodiment is applied to a general transmission type liquid crystal display device. Since the manufacturing method is almost the same as that of the second embodiment shown in FIG. 12, it will be described below with reference to FIG.
【００８４】まず、板厚０．７ｍｍのガラス基板２０１
を用意し（図１２ａ）、このガラス基板２０１上に表示
用配線群２０２を形成した。このときの画素ピッチは
０．１５ｍｍである。板厚０．７ｍｍの基板２０１は自
重による反りも大きくなく、熱工程にも十分に耐えられ
るので、薄膜トランジスタなどの製造工程にも問題は生
じなかった（図１２ｂ）。First, a glass substrate 201 having a thickness of 0.7 mm was used.
Was prepared (FIG. 12A), and a display wiring group 202 was formed on the glass substrate 201. The pixel pitch at this time is 0.15 mm. The substrate 201 having a thickness of 0.7 mm was not significantly warped due to its own weight and was sufficiently resistant to a heat process, so that there was no problem in the process of manufacturing a thin film transistor or the like (FIG. 12B).
【００８５】次に、ガラス基板２０１の裏面側２０４を
除去し、基板厚を０．３ｍｍまで薄くした。具体的に
は、フッ酸を主成分とするエッチャントによる化学的な
研磨方法を用いた。基板表面は、配線群２０２上に保護
レジスト２０９を塗布した後、さらに粘着性保護シート
２１０で被覆した。粘着性保護シート２１０に１００μ
ｍ程度以上の厚さを有するものを用いたため、ガラス基
板２０１の強度不足を補う役割も果たすことがわかっ
た。また、配線群２０２が複数形成された基板を一度に
研磨するため、生産性が向上した（図１２ｃ）。Next, the back side 204 of the glass substrate 201 was removed, and the substrate thickness was reduced to 0.3 mm. Specifically, a chemical polishing method using an etchant containing hydrofluoric acid as a main component was used. After applying a protective resist 209 on the wiring group 202, the substrate surface was further covered with an adhesive protective sheet 210. 100μ on the adhesive protection sheet 210
Since a material having a thickness of about m or more was used, it was found that the glass substrate 201 also plays a role in compensating for insufficient strength. Further, since the substrate on which the plurality of wiring groups 202 are formed is polished at a time, productivity is improved (FIG. 12C).
【００８６】次に、基板を０．３ｍｍの厚さまで研磨し
た後、基板を洗浄し、基板を所定の形状に切断した。研
磨された基板をすぐに切断することで、自重による基板
の破損を防ぐことができる（図１２ｄ）。Next, after polishing the substrate to a thickness of 0.3 mm, the substrate was washed and the substrate was cut into a predetermined shape. By immediately cutting the polished substrate, it is possible to prevent the substrate from being damaged by its own weight (FIG. 12D).
【００８７】次に、粘着性保護シート２１０を剥がし、
保護レジスト２０９を除去した。粘着性保護シート２１
０として、紫外線照射により粘着力が低下するものを用
いたので、基板の破損なしに簡単に粘着性保護シート２
１０を剥がすことができた。以上のようにして、厚さ
０．３ｍｍという極めて薄い基板上に、熱工程を必要と
する配線群２０２が形成された。また、粘着性保護シー
ト２１０を剥がす工程が面積の大きい基板を切断した後
であるため、基板の反りによる破損などは激減した。実
施例２との相違点は、この後研磨面にＩＴＯをスパッタ
しない点である。研磨されたアレイ基板を、対向基板で
あるカラーフィルタと組み合わせて液晶セルを形成し
た。その結果、極めて軽量な液晶表示装置を生産性よく
かつ基板の破損なく実現することができた。Next, the adhesive protection sheet 210 is peeled off,
The protection resist 209 was removed. Adhesive protection sheet 21
As 0, a material whose adhesive strength is reduced by ultraviolet irradiation was used.
10 could be peeled off. As described above, the wiring group 202 requiring the heat process was formed on the extremely thin substrate having a thickness of 0.3 mm. Further, since the step of peeling off the adhesive protection sheet 210 was performed after cutting a substrate having a large area, damage due to warpage of the substrate was greatly reduced. The difference from the second embodiment is that ITO is not sputtered on the polished surface thereafter. The polished array substrate was combined with a color filter as an opposing substrate to form a liquid crystal cell. As a result, an extremely lightweight liquid crystal display device can be realized with high productivity and without breakage of the substrate.
【００８８】以上述べたように、本第２実施形態によれ
ば、例えばシアン・マゼンタ・イエローの減法混色によ
る積層構造の液晶表示装置において、基板厚を薄くする
ことができるため、色ずれや二重像といった画質の低下
を抑えることができる。また、基板の破損などアレイ基
板形成プロセス上の問題を回避することができる。As described above, according to the second embodiment, for example, in a liquid crystal display device having a laminated structure of a subtractive color mixture of cyan, magenta and yellow, the substrate thickness can be reduced, so that the color shift and the A decrease in image quality such as a double image can be suppressed. In addition, problems in the array substrate forming process, such as damage to the substrate, can be avoided.
【００８９】次に、本発明の第３実施形態について説明
する。Next, a third embodiment of the present invention will be described.
【００９０】図１４は、本第３実施形態の第１実施例を
示したものであり、反射型液晶表示装置の断面構成を示
した概略図である。FIG. 14 shows a first example of the third embodiment, and is a schematic diagram showing a sectional structure of a reflection type liquid crystal display device.
【００９１】図１４において、３０１はガラス基板、３
０２は画素電極、ＴＦＴ及び配線等の駆動回路を含む
層、３０３はショートリング及びショートリングＴＦ
Ｔ、３０４は液晶層、３０５は反射電極に外部からの電
圧を加えるための電極、３０６は反射電極層、３０７は
樹脂薄膜層、３０８はガラス基板、３０９は導電性接着
剤、３１０はシール材を示している。In FIG. 14, reference numeral 301 denotes a glass substrate;
02 is a layer including a driving circuit such as a pixel electrode, a TFT and a wiring, and 303 is a short ring and a short ring TF.
T and 304 are liquid crystal layers, 305 is an electrode for applying an external voltage to the reflective electrode, 306 is a reflective electrode layer, 307 is a resin thin film layer, 308 is a glass substrate, 309 is a conductive adhesive, and 310 is a sealing material. Is shown.
【００９２】図１５は、反射電極層３０６を形成したガ
ラス基板３０８を上から見たときの模式図である。FIG. 15 is a schematic diagram when the glass substrate 308 on which the reflective electrode layer 306 is formed is viewed from above.
【００９３】以下、図１４及び図１５に示した構造を製
造する手順について説明する。The procedure for manufacturing the structure shown in FIGS. 14 and 15 will be described below.
【００９４】まず、ガラス基板８上に、樹脂を厚さ２μ
ｍにスピンコートで形成する。ここで用いる樹脂は、例
えばアクリルやポリイミド等であるが、感光性をもって
いるとさらに良い。感光性をもった樹脂としては、例え
ば、（株）日本合成ゴム製のＨＲＣ１１５、（株）東京
応化製のＯＦＰＲ５０００、（株）ヘキストのＡＺ４９
０３等が使用できる。ここでは、ＨＲＣ１１５を使用す
ることにする。また、樹脂の厚さは上記に限らず、後に
形成する凹凸の深さに応じて０．５〜１０μｍの値とし
てよい。First, a resin having a thickness of 2 μm was placed on a glass substrate 8.
m is formed by spin coating. The resin used here is, for example, acrylic or polyimide, but it is more preferable that the resin has photosensitivity. Examples of the photosensitive resin include HRC115 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., OFPR5000 manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd., and AZ49 manufactured by Hoechst Co., Ltd.
03 or the like can be used. Here, the HRC 115 is used. Further, the thickness of the resin is not limited to the above, and may be a value of 0.5 to 10 μm according to the depth of unevenness to be formed later.
【００９５】次に、樹脂を加工して表面に凹凸を形成す
るための１回目の露光を行う。このとき、感光性樹脂を
使用する場合は直接パターンを露光・現象すればよい。
露光量は、現像時に露光部の樹脂が完全には溶解せず、
パターン残りが出るような量とし、丁度露光部のパター
ンが抜ける露光量の２０〜９０％が選ばれる。Next, a first exposure for processing the resin to form irregularities on the surface is performed. At this time, when a photosensitive resin is used, the pattern may be exposed and developed directly.
The exposure amount is such that the resin in the exposed area does not completely dissolve during development,
The amount is such that the pattern remains, and 20 to 90% of the exposure amount at which the pattern of the exposed portion is removed is selected.
【００９６】図１６は、このとき使用するフォトマスク
の一部を拡大した概念図である。図１６（ａ）はその全
体を示した図、図１６（Ａ）は図１６（Ｂ）の一部分を
拡大して示した図である。ここでは、凹凸を設けるため
に、直径５μｍ及び８μｍの２種類の円形を残すパター
ンを、パターン密度約１／８０μｍ-2で不規則に配列し
たマスクを使用する。このとき、近接する円の中心間の
距離の平均値が８〜９μｍとなるようにする。また、凹
凸を設ける領域は、反射型液晶表示装置の表示領域と同
等或いはそれより大きくする。ただし、反射電極に電圧
を加えるために後に導電性接着剤３０９を塗布する領域
は完全に遮光する。FIG. 16 is a conceptual diagram in which a part of the photomask used at this time is enlarged. FIG. 16A is a diagram showing the entirety thereof, and FIG. 16A is a diagram showing a part of FIG. 16B in an enlarged manner. Here, in order to provide unevenness, a mask in which two types of circular patterns having a diameter of 5 μm and 8 μm are irregularly arranged at a pattern density of about 1/80 μm −2 is used. At this time, the average value of the distance between the centers of the adjacent circles is set to 8 to 9 μm. Further, the area where the unevenness is provided is equal to or larger than the display area of the reflective liquid crystal display device. However, the area where the conductive adhesive 309 is applied later to apply a voltage to the reflective electrode is completely shielded from light.
【００９７】なお、フォトマスクは上記構成に限定され
るものではなく、表面に凹凸が形成されるようなパター
ンであれば良い。例えば、直径が１〜２０μｍの円形パ
ターン或いはこれと同等のサイズの多角形パターンを、
サイズや位置を不規則にして適当な密度で配置したもの
であればよい。The photomask is not limited to the above configuration, but may be any pattern as long as it has irregularities on the surface. For example, a circular pattern having a diameter of 1 to 20 μm or a polygonal pattern of the same size
What is necessary is just to arrange at an appropriate density with irregular sizes and positions.
【００９８】さらに続けて、樹脂を完全に取り除くため
の２回目の露光を行う。図１７は、２回目の露光の際に
使用するマスクの概念図を示したものである。ここで
は、反射電極として反射面となる領域及び導電性接着剤
を塗布する領域をマスクで遮光し、その周囲を十分に露
光する。Subsequently, a second exposure for completely removing the resin is performed. FIG. 17 is a conceptual diagram of a mask used in the second exposure. Here, a region serving as a reflective surface as a reflective electrode and a region where a conductive adhesive is applied are shielded from light by a mask, and the periphery thereof is sufficiently exposed.
【００９９】このようして露光したものを現像し、続い
てポストベークを行う。現像液はＮＭＤ−３（（株）東
京応化製）を用いた。また、ポストベークはクリーンオ
ーブンを用いて２００℃で１時間行った。ポストベーク
によって露光・現像されたパターンはなめらかに連続し
た曲面となり、反射光はなめらかな特性をもつ。The exposed material is developed, and then post-baked. The developing solution used was NMD-3 (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.). Post baking was performed at 200 ° C. for 1 hour using a clean oven. The pattern exposed and developed by the post-baking has a smoothly continuous curved surface, and the reflected light has a smooth characteristic.
【０１００】なお、反射板の反射特性を変更するために
は、上記プロセスのうち、露光や現像、ポストベークの
条件を適当に変えて、凹凸の形状を制御すればよい。ま
た、非感光性の樹脂を用いた場合には、樹脂上にさらに
レジストを塗布してパターニングし、これをマスクとし
てウェットエッチング或いはドライエッチングを行えば
よい。In order to change the reflection characteristics of the reflector, the shape of the unevenness may be controlled by appropriately changing the conditions of exposure, development, and post-baking in the above process. When a non-photosensitive resin is used, a resist may be further applied on the resin and patterned, and wet etching or dry etching may be performed using the resist as a mask.
【０１０１】次に、上記の工程で形成した樹脂上に、Ａ
ｌをスパッタして２００ｎｍの厚さに成膜する。これに
より、Ａｌの表面は下地の樹脂表面の凹凸形状を反映し
て、凹凸形状になる。ここでは、反射電極の材料として
反射率の高いＡｌを使用したが、ＡｇやＰｔなどの金属
も使用できる。また、成膜する厚さは上記に限らず、５
０〜５００ｎｍであればよい。また、成膜方法はスパッ
タに限らず、真空蒸着や電子ビーム蒸着、メッキなどで
もよい。Next, on the resin formed in the above step, A
is sputtered to form a film having a thickness of 200 nm. As a result, the Al surface has an uneven shape reflecting the uneven shape of the underlying resin surface. Here, Al having high reflectivity is used as the material of the reflective electrode, but metals such as Ag and Pt can also be used. Further, the thickness of the film is not limited to
What is necessary is just 0-500 nm. Further, the film formation method is not limited to sputtering, but may be vacuum evaporation, electron beam evaporation, plating, or the like.
【０１０２】次に、成膜したＡｌ薄膜を、フォトリソグ
ラフィにより図１８に示すようなフォトマスクを用いて
パターニングする。ただし、ポジ型のフォトレジストを
使用する場合である。Ａｌのパターニングは、塩素、燐
酸、硝酸、硫酸等の酸或いはそれらの混合物を用いたウ
ェットエッチング、或いは、ＲＩＥ（Reactive Ion Etc
hing））やＣＤＥ（Chemical Dry Etching）等のドライ
エッチングにより行う。Ａｌのパターンは、凹凸形状を
もつ樹脂薄膜を完全に覆い隠す大きさとなっている。ま
た、後に導電性接着剤を塗布する領域は、下地の樹脂が
平坦となっている。また、セル組立の際にシール材が接
触する大部分の領域では、Ａｌ及び樹脂が取り除かれて
いる。Next, the formed Al thin film is patterned by photolithography using a photomask as shown in FIG. However, this is a case where a positive photoresist is used. Al patterning is performed by wet etching using an acid such as chlorine, phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid or a mixture thereof, or RIE (Reactive Ion Etc).
hing)) and dry etching such as CDE (Chemical Dry Etching). The Al pattern has a size that completely covers and covers the resin thin film having the uneven shape. In a region where the conductive adhesive is to be applied later, the underlying resin is flat. Al and resin are removed in most areas where the sealing material comes into contact during cell assembly.
【０１０３】上記各工程により、反射電極を備えた基板
が完成する。By the above steps, a substrate provided with a reflective electrode is completed.
【０１０４】次に、ガラス基板３０１上に画素電極、Ｔ
ＦＴ及び配線等の駆動用の回路を形成する。なお、ここ
ではスイッチング素子としてＴＦＴを使用したが、ＴＦ
Ｄ（Thin Film Diode ）等の別の素子でもよく、単純マ
トリクス駆動を用いる場合にはスイッチング素子を使用
しなくてもよい。Next, a pixel electrode and a T
A driving circuit such as an FT and a wiring is formed. Although a TFT is used as a switching element here, TF
Another element such as D (Thin Film Diode) may be used, and when simple matrix driving is used, a switching element may not be used.
【０１０５】さらに、ＴＦＴの保護回路としてショート
リング及びショートリングＴＦＴ３０３を形成する。こ
のとき、ショートリングＴＦＴ３０３は、後の貼り合わ
せ工程でセルを作製する際に、上記工程で作製したガラ
ス基板３０８上の反射電極の反射面と重ならない位置に
くるように配置する。Further, a short ring and a short ring TFT 303 are formed as a TFT protection circuit. At this time, the short ring TFT 303 is arranged so as not to overlap with the reflection surface of the reflection electrode on the glass substrate 308 manufactured in the above step when a cell is manufactured in a later bonding step.
【０１０６】次に、上記の工程で形成された一対の基板
上に直径１０μｍの球状のスペーサを散布し、シール材
３１０及び導電性接着剤３０９を塗布した後、両基板を
貼り合わせる。なお、スペーサの大きさや形状は上記に
限ったものではなく、使用する液晶材料や駆動方法によ
って決まるセルギャップが得られるようにものが選ばれ
る。また、反射電極に形成された凹凸の近接する凸部の
頂点間の距離の平均値より大きいものを使用する。スペ
ーサ材料としては、ＳｉＯ2 微粒子やプラスティック微
粒子等が用いられる。また、シール材には、エポキシ樹
脂等の熱硬化性樹脂の他、紫外線硬化性の樹脂等が用い
られる。また、導電性接着剤には、接着剤中にＡｇなど
導電性の微粒子を含有させたものが用いられる。Next, a spherical spacer having a diameter of 10 μm is scattered on the pair of substrates formed in the above steps, and a sealing material 310 and a conductive adhesive 309 are applied, and then the two substrates are bonded to each other. The size and shape of the spacer are not limited to those described above, and are selected so as to obtain a cell gap determined by a liquid crystal material to be used and a driving method. In addition, one having a larger value than the average value of the distance between the vertexes of the adjacent convex portions of the concave and convex portions formed on the reflective electrode is used. As the spacer material, SiO 2 fine particles, plastic fine particles, or the like are used. In addition, a thermosetting resin such as an epoxy resin, an ultraviolet curable resin, or the like is used for the sealing material. Further, as the conductive adhesive, an adhesive containing conductive fine particles such as Ag in the adhesive is used.
【０１０７】最後に、上記基板の貼り合わせによって構
成されたセル内に液晶を注入し、画素電極や反射電極に
電圧を加えるための電源等必要な周辺装置を付加して、
反射型液晶表示装置が完成する。Finally, liquid crystal is injected into the cell formed by bonding the substrates, and necessary peripheral devices such as a power supply for applying a voltage to the pixel electrode and the reflection electrode are added.
The reflection type liquid crystal display device is completed.
【０１０８】なお、ここで用いられる液晶としては、Ｔ
Ｎ、ＳＴＮ、ＧＨ、ＥＣＢ等、各種モードが可能であ
る。各モードに合わせて、偏光板や位相差板或いはカラ
ーフィルタを用いたり、液晶中に色素を含有させること
もできる。また、液晶層に液晶を含んだマイクロカプセ
ルを利用することもでき、この場合には、一対の基板を
貼り合わせる前にマイクロカプセル液晶層を形成すれば
良い。Note that the liquid crystal used here is T
Various modes such as N, STN, GH, and ECB are possible. In accordance with each mode, a polarizing plate, a retardation plate or a color filter can be used, or a liquid crystal can contain a dye. Alternatively, microcapsules containing liquid crystal can be used for the liquid crystal layer. In this case, the microcapsule liquid crystal layer may be formed before bonding a pair of substrates.
【０１０９】上記のようにして作製された反射型液晶表
示装置においては、既に述べたように、シール材３１０
を塗布するほとんどの領域には樹脂薄膜３０７及び金属
薄膜３０６が存在しない。従って、シール材３１０はガ
ラス基板に直接接触することとなり、接着力が強くな
る。したがって、貼り合わせたセルが剥がれることが極
めて少なくなる。また、シール材３１０の溶媒により、
樹脂薄膜３０７や金属薄膜３０６が侵されたり、膜剥が
れを起こすことがない。そのため、剥がれた膜が表示領
域に入り込んで表示欠陥となったり、表示品位を落とし
たりすることがない。In the reflection type liquid crystal display device manufactured as described above, as described above, the sealing material 310 is used.
The resin thin film 307 and the metal thin film 306 do not exist in most of the area where the is applied. Therefore, the sealing material 310 comes into direct contact with the glass substrate, and the adhesive strength is increased. Therefore, peeling of the bonded cells is extremely reduced. Further, depending on the solvent of the sealing material 310,
The resin thin film 307 and the metal thin film 306 are not attacked or peeled off. For this reason, the peeled film does not enter the display area to cause a display defect or to degrade display quality.
【０１１０】また、金属薄膜３０６は樹脂薄膜３０７を
完全に覆い隠している。従って、樹脂薄膜３０７からの
成分が液晶中に溶け出して、液晶の保持率を低下させた
り、コントラストが悪くなったりすることを防ぐことが
できる。また、金属薄膜３０６を所定の形状に加工する
場合、樹脂とエッチャントとの反応を考慮する必要がな
いため、エッチング方法やエッチャントの制限が少な
い。The metal thin film 306 completely covers the resin thin film 307. Therefore, it is possible to prevent the components from the resin thin film 307 from dissolving in the liquid crystal and lowering the retention rate of the liquid crystal and deteriorating the contrast. Further, when processing the metal thin film 306 into a predetermined shape, there is no need to consider the reaction between the resin and the etchant, so that there are few restrictions on the etching method and the etchant.
【０１１１】また、本実施例では、反射電極３０６に電
圧を加えるために、反射電極３０６とガラス基板３０１
上の電極とを導電性接着剤３０９により接続した。この
とき、導電性接着剤３０９を塗布する領域では、Ａｌの
下に表面が平坦な樹脂薄膜３０７が形成されている。こ
のような構成では、導電性接着剤３０９を塗布する表面
に凹凸がないために、反射電極３０６と導電性接着剤３
０９とが接着力不足で剥がれたり、接触不良を起こすこ
とが少ない。さらに、平坦な樹脂薄膜が形成されている
ため、凹凸を有する領域との境界部で連続的につながっ
ており、この部分でのＡｌ薄膜の段切れを防止できる。In this embodiment, in order to apply a voltage to the reflective electrode 306, the reflective electrode 306 and the glass substrate 301 are used.
The upper electrode was connected by a conductive adhesive 309. At this time, in a region where the conductive adhesive 309 is applied, a resin thin film 307 having a flat surface is formed under Al. In such a configuration, since the surface on which the conductive adhesive 309 is applied has no irregularities, the reflective electrode 306 and the conductive adhesive 3
09 is less likely to be peeled off due to insufficient adhesive strength or to cause poor contact. Further, since a flat resin thin film is formed, the thin film is continuously connected at a boundary portion with a region having irregularities, so that the Al thin film can be prevented from being disconnected at this portion.
【０１１２】なお、樹脂薄膜の厚さが十分に薄く、Ａｌ
の段切れの心配がない場合には、必ずしも本実施例のよ
うに平坦な樹脂薄膜領域を形成しなくてもよい。図１９
及び図２０に、このような場合の反射型液晶表示装置の
概念図を示す。なお、図１４及び図１５の構成要素と対
応する構成要素には同一番号を付している。The thickness of the resin thin film is sufficiently thin, and
In the case where there is no fear of step disconnection, it is not always necessary to form a flat resin thin film region as in this embodiment. FIG.
FIG. 20 shows a conceptual diagram of a reflective liquid crystal display device in such a case. Components corresponding to those in FIGS. 14 and 15 are denoted by the same reference numerals.
【０１１３】また、本実施例では、ショートリングＴＦ
Ｔ３０３が反射電極の反射面と重ならない位置に形成さ
れている。従って、装置に入射し反射電極によって反射
された光がショートリングＴＦＴ３０３に入る割合が少
なくなり、光リーク電流が流れる心配がない。Further, in this embodiment, the short ring TF
T303 is formed at a position that does not overlap with the reflection surface of the reflection electrode. Therefore, the ratio of light incident on the device and reflected by the reflective electrode to enter the short ring TFT 303 is reduced, and there is no fear that a light leak current flows.
【０１１４】また、本実施例では、直径１０μｍの球状
のスペーサを用い、セルギャップを１０μｍとした。こ
れに対して、反射電極３０６の表面の凹凸は、隣接する
凸部の頂上間の平均距離が８〜９μｍである。従って、
スペーサが凹凸の凹部にはまり込んでセルギャップを乱
し、表示品位を落とすことがない。In this example, a spherical spacer having a diameter of 10 μm was used, and the cell gap was set to 10 μm. On the other hand, the unevenness on the surface of the reflective electrode 306 is such that the average distance between the tops of the adjacent convex portions is 8 to 9 μm. Therefore,
The spacer does not get stuck in the concave portion of the concave and convex, disturbing the cell gap, and does not degrade the display quality.
【０１１５】なお、本実施例では、上記のような単一の
液晶層をもつセル構成としたが、２層、３層等複数の液
晶層をもつ構成としても良い。図２１に３層構造とした
場合の構成の概念図を示す。図１４の構成要素と対応す
る構成要素には同一番号を付している。３０４ａはマゼ
ンタ色素含有ＧＨ液晶層、３０４ｂはシアン色素含有Ｇ
Ｈ液晶層、３０４ｃはイエロー色素含有ＧＨ液晶層であ
り、３１１は対向電極である。なお、各液晶層を分離し
ているガラス基板３０１を取り除いて代わりに透明な樹
脂薄膜としたり、或いは液晶層にマイクロカプセルを用
いたものを使用して各液晶層間の仕切を完全になくすよ
うにしてもよい。In the present embodiment, the cell configuration has a single liquid crystal layer as described above, but may have a configuration having a plurality of liquid crystal layers such as two or three. FIG. 21 shows a conceptual diagram of a configuration in the case of a three-layer structure. Components corresponding to those in FIG. 14 are denoted by the same reference numerals. 304a is a magenta dye-containing GH liquid crystal layer, and 304b is a cyan dye-containing G
An H liquid crystal layer 304c is a GH liquid crystal layer containing a yellow dye, and 311 is a counter electrode. In addition, the glass substrate 301 separating each liquid crystal layer is removed and a transparent resin thin film is used instead, or a liquid crystal layer using microcapsules is used to completely eliminate the partition between the liquid crystal layers. You may.
【０１１６】図２２は、本第３実施形態の第２実施例を
示したものであり、反射型液晶表示装置の断面構成を示
した概略図である。なお、図１４の構成要素と対応する
構成要素には同一番号を付している。FIG. 22 shows a second example of the third embodiment, and is a schematic view showing a sectional structure of a reflection type liquid crystal display device. Components that correspond to the components in FIG. 14 are given the same numbers.
【０１１７】本第２実施例は、反射板を液晶セルの外側
に配置し、画素電極やＴＦＴ等の駆動回路を形成する基
板を反射板側に設けたものである。In the second embodiment, a reflector is arranged outside a liquid crystal cell, and a substrate for forming a driving circuit such as a pixel electrode and a TFT is provided on the reflector side.
【０１１８】本実施例では、図１４等に示した樹脂薄膜
３０７及び反射電極３０６を取り除き、代わりに透明導
電性の電極３２１を形成したものを用いる。ここで用い
る透明導電性の電極３２１には、例えばＩＴＯや酸化ス
ズ等を用いることができる。両基板を貼り合わせた後、
反射板３２２をセルの外側に貼り付けて完成する。この
とき、ショートリングＴＦＴ３０３が反射板３２２の反
射面と重ならない位置になるようにする。In this embodiment, the resin thin film 307 and the reflection electrode 306 shown in FIG. 14 and the like are removed, and a transparent conductive electrode 321 is formed instead. As the transparent conductive electrode 321 used here, for example, ITO, tin oxide, or the like can be used. After bonding both substrates,
The reflection plate 322 is attached to the outside of the cell to complete. At this time, the position of the short ring TFT 303 is set so as not to overlap with the reflection surface of the reflection plate 322.
【０１１９】反射板３２２は、表面に凹凸を有する反射
率の高い金属を用いて形成したものであり、以下のよう
にして製造する。まず、厚さ１０〜２０００μｍの基板
３２３に０．２〜５μｍの大きさの微粒子を散布する。
基板３２３には、ガラス基板の他、シリコン基板或いは
ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の樹脂基板を
用いてもよい。散布する微粒子は、酸化チタン等の金属
酸化物の粉末でもよいし、有機物のエマルジョン等でも
よい。また、微粒子を散布する代わりに、基板表面を機
械的或いは化学的に研磨して、表面に凹凸を形成するよ
うにしてもよい。続いて、上記基板３２３にＡｌやＡｇ
等の反射率の高い金属をスパッタ等によって成膜する。
この時、金属膜は下地の表面の凹凸を反映して凹凸の表
面形状を有する。さらに、必要な場合には、樹脂を金属
膜上に塗布する。樹脂を塗布する理由は、金属膜に傷が
付くことや金属膜の酸化防止等、金属膜表面の保護のた
めである。最後に、基板３０８と反射板３２２が形成さ
れた基板３２３とを接着層３２４を介して接着する。The reflection plate 322 is formed by using a metal having high reflectance with unevenness on the surface, and is manufactured as follows. First, fine particles having a size of 0.2 to 5 μm are sprayed on a substrate 323 having a thickness of 10 to 2000 μm.
As the substrate 323, a silicon substrate or a resin substrate such as PET (polyethylene terephthalate) may be used in addition to a glass substrate. The fine particles to be sprayed may be a powder of a metal oxide such as titanium oxide or an emulsion of an organic substance. Instead of scattering fine particles, the surface of the substrate may be mechanically or chemically polished to form irregularities on the surface. Then, Al or Ag is added to the substrate 323.
A metal having a high reflectance such as is formed by sputtering or the like.
At this time, the metal film has an uneven surface shape reflecting the unevenness of the underlying surface. Further, if necessary, a resin is applied on the metal film. The reason for applying the resin is to protect the surface of the metal film, such as scratching the metal film and preventing oxidation of the metal film. Finally, the substrate 308 and the substrate 323 on which the reflection plate 322 is formed are bonded via the bonding layer 324.
【０１２０】以上のようにして製造した反射型液晶表示
装置では、ショートリングＴＦＴ３０３が反射板３２２
の反射面と重ならない位置に配置されているため、光リ
ーク電流が少なく、表示品位を良好に保つことができ
る。In the reflection type liquid crystal display device manufactured as described above, the short ring TFT 303 has the reflection plate 322.
Since it is arranged at a position that does not overlap with the reflective surface, light leakage current is small, and good display quality can be maintained.
【０１２１】次に、本第３実施形態の第３実施例に係る
反射型液晶表示装置について説明する。Next, a reflective liquid crystal display device according to a third example of the third embodiment will be described.
【０１２２】本実施例は、反射電極の凹凸形状が第１実
施例において示したものと異なるものであり、その他の
構成については第１実施例と同様である。This embodiment is different from the first embodiment in the concave / convex shape of the reflection electrode, and the other configuration is the same as that of the first embodiment.
【０１２３】本実施例では、樹脂に凹凸を形成するため
のフォトマスクとして、例えば図２３に示したものを用
いる。ここでは、一辺が５μｍの正六角形を間隙５μｍ
で配列したパターンとなっている。ただし、使用するフ
ォトマスクは上記に限定されるものではなく、パターン
とパターンとの間隙が小さいことを特徴としているもの
であればよい。パターンは円形や多角形でもよいし、サ
イズも自由に設定できる。また、反射光の干渉色を低減
するために、配列をより不規則なものとしたり、円や多
角形のサイズを変えた数種類のパターンを混合したりす
ることもできる。そのような場合には、パターン間の間
隙の平均値が小さくなるようにすればよい。ここで言う
間隙が小さいというのは、液晶セルのセルギャップ或い
はセルギャップを保つための球状のスペーサの直径（本
実施例では１０μｍ）を基準にしたものである。In this embodiment, for example, the photomask shown in FIG. 23 is used as a photomask for forming irregularities on the resin. Here, a regular hexagon with one side of 5 μm is
It is a pattern arranged in. However, the photomask to be used is not limited to the above, and may be any as long as it is characterized by a small gap between patterns. The pattern may be circular or polygonal, and the size can be freely set. In order to reduce the interference color of the reflected light, it is also possible to make the arrangement more irregular, or to mix several types of patterns in which the size of a circle or a polygon is changed. In such a case, the average value of the gap between the patterns may be reduced. The small gap here is based on the cell gap of the liquid crystal cell or the diameter of the spherical spacer (10 μm in this embodiment) for maintaining the cell gap.
【０１２４】このようなフォトマスクを用いてパターニ
ングすることにより、表面に形成された凹凸の凹部の曲
率半径が、球状スペーサの半径よりも小さいものを作製
することができる。上記構造では、スペーサが凹部には
まり込むことがないため、セルギャップの制御性が上が
り、反射型液晶表示装置の表示品位が向上する。By patterning using such a photomask, it is possible to fabricate one in which the curvature radius of the concave and convex portions formed on the surface is smaller than the radius of the spherical spacer. In the above structure, since the spacer does not fit into the concave portion, the controllability of the cell gap is improved, and the display quality of the reflective liquid crystal display device is improved.
【０１２５】なお、本実施例では反射電極の凹凸を形成
するのに樹脂を用いたが、必ずしも樹脂を用いる必要は
ないし、パターニングもフォトリソグラフィに限定され
ない。例えば、イオン交換やサンドブラスト等の手法を
用いてガラス基板を直接加工して凹凸を形成しても良い
し、ガラス基板上に厚さ０．５〜５μｍに堆積した金属
膜をエッチングして凹凸を作製してもよい。いずれにし
ても、凹部の曲率半径がスペーサの半径よりも小さけれ
ばよい。In this embodiment, a resin is used to form the unevenness of the reflective electrode. However, the resin is not necessarily used, and the patterning is not limited to photolithography. For example, irregularities may be formed by directly processing the glass substrate using a method such as ion exchange or sand blasting, or by etching a metal film deposited to a thickness of 0.5 to 5 μm on the glass substrate to remove irregularities. It may be produced. In any case, the radius of curvature of the concave portion may be smaller than the radius of the spacer.
【０１２６】図２４に、イオン交換によってガラス基板
３１の表面に凹凸を形成し、その上に金属膜からなる反
射板３２を形成したときの断面構成を示す。なお、図２
４では凹部が鋭角に描かれているが、実際には必ずなめ
らかな曲面となり、曲率半径を定義できる形状となる。FIG. 24 shows a cross-sectional structure when irregularities are formed on the surface of a glass substrate 31 by ion exchange, and a reflecting plate 32 made of a metal film is formed thereon. Note that FIG.
In FIG. 4, although the concave portion is drawn at an acute angle, the concave portion is actually always a smooth curved surface and has a shape capable of defining a radius of curvature.
【０１２７】以上述べたように、本第３実施形態によれ
ば、液晶セルの信頼性が上がり、組立の歩留を向上させ
ることができる。また、電極部の接触不良や膜剥がれ、
或いは保護回路の誤動作による表示不良を低減すること
ができる。さらに、液晶セルギャップの制御性が上が
り、表示品位を向上させることができる。As described above, according to the third embodiment, the reliability of the liquid crystal cell is improved, and the yield of assembly can be improved. In addition, poor contact of the electrode part and peeling of the film,
Alternatively, display defects due to malfunction of the protection circuit can be reduced. Further, the controllability of the liquid crystal cell gap is improved, and the display quality can be improved.
【０１２８】なお、以上説明した各実施形態以外にも、
本発明はその趣旨を逸脱しない範囲内において種々変形
して実施可能である。Note that, in addition to the embodiments described above,
The present invention can be implemented with various modifications without departing from the spirit thereof.
【０１２９】[0129]
【発明の効果】本発明によれば、例えばシアン・マゼン
タ・イエローの減法混色による明るい表示を行うことが
可能であるとともに、反射電極上に表示の影が映り込む
こと（２重像）等の現象を防止することができ、高画質
の反射型液晶表示装置を得ることができる。また、工程
の複雑化を低減することができ、低コストの液晶表示装
置を得ることができる。According to the present invention, for example, it is possible to perform bright display by subtractive color mixing of cyan, magenta, and yellow, and it is possible to prevent the display shadow from being reflected on the reflective electrode (double image). The phenomenon can be prevented, and a high-quality reflective liquid crystal display device can be obtained. Further, the complexity of the process can be reduced, and a low-cost liquid crystal display device can be obtained.
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の一
例について、その断面構成を示した図。FIG. 1 is a diagram showing a cross-sectional configuration of an example of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の一
例について、アレイ開口率に対するモアレ縞の視認性を
示した図。FIG. 2 is a diagram showing visibility of moire fringes with respect to an array aperture ratio in an example of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図３】図１に示した構成の変更例を示した図。FIG. 3 is a diagram showing a modification of the configuration shown in FIG. 1;
【図４】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の一
例について、その電極パッド部の構成例を示した図。FIG. 4 is a view showing an example of the configuration of an electrode pad portion of an example of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図５】従来の液晶表示装置の一例を示した図。FIG. 5 is a diagram showing an example of a conventional liquid crystal display device.
【図６】多層構成の液晶表示装置について、その原理的
な構成を示した図。FIG. 6 is a diagram showing a principle configuration of a multi-layer liquid crystal display device.
【図７】従来の液晶表示装置の他の例を示した図。FIG. 7 is a diagram showing another example of a conventional liquid crystal display device.
【図８】従来の液晶表示装置の他の例を示した図。FIG. 8 is a diagram showing another example of a conventional liquid crystal display device.
【図９】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置につ
いて、その基本的構成例を示した図。FIG. 9 is a diagram showing a basic configuration example of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.
【図１０】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置に
ついて、（中間基板厚さ）／（画素ピッチ）に対する視
認性を示した図。FIG. 10 is a view showing visibility with respect to (intermediate substrate thickness) / (pixel pitch) in a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.
【図１１】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の
第１実施例の製造方法を示した図。FIG. 11 is a view showing a manufacturing method of the first example of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention.
【図１２】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の
第２実施例の製造方法を示した図。FIG. 12 is a view showing a manufacturing method of a second example of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention.
【図１３】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の
第３実施例の製造方法を示した図。FIG. 13 is a view showing a manufacturing method of the third example of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention.
【図１４】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の
第１実施例について、その断面構成を示した図。FIG. 14 is a diagram showing a cross-sectional configuration of a first example of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.
【図１５】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の
第１実施例について、反射電極を形成した基板の平面構
成を示した図。FIG. 15 is a diagram showing a planar configuration of a substrate on which a reflective electrode is formed in a first example of the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention.
【図１６】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の
第１実施例について、樹脂薄膜を凹凸状にパターニング
するためのフォトマスクの概念構成を示した図。FIG. 16 is a diagram showing a conceptual configuration of a photomask for patterning a resin thin film in an uneven shape in the first example of the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention.
【図１７】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の
第１実施例について、樹脂薄膜の周辺部をパターニング
するためのフォトマスクの概念構成を示した図。FIG. 17 is a view showing a conceptual configuration of a photomask for patterning a peripheral portion of a resin thin film in a first example of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.
【図１８】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の
第１実施例について、金属薄膜をパターニングするため
のフォトマスクの概念構成を示した図。FIG. 18 is a view showing a conceptual configuration of a photomask for patterning a metal thin film in the first example of the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention.
【図１９】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の
第１実施例について、図１４に示した構成の変更例を示
した図。FIG. 19 is a view showing a modification of the configuration shown in FIG. 14 for the first example of the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention.
【図２０】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の
第１実施例について、図１５に示した構成の変更例を示
した図。FIG. 20 is a diagram showing a modification of the configuration shown in FIG. 15 for the first example of the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention.
【図２１】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の
第１実施例について、液晶セルを３層セル構成にした場
合の例を示した図。FIG. 21 is a diagram showing an example in which a liquid crystal cell has a three-layer cell configuration in a first example of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.
【図２２】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の
第２実施例について、その断面構成を示した図。FIG. 22 is a view showing a sectional configuration of a second example of the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention.
【図２３】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の
第３実施例について、金属薄膜をパターニングするため
のフォトマスクの概念構成を示した図。FIG. 23 is a view showing a conceptual configuration of a photomask for patterning a metal thin film in a third example of the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention.
【図２４】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置に
ついて、イオン交換の手法を用いて作製した反射電極の
例を示した図。FIG. 24 is a view showing an example of a reflective electrode manufactured by using an ion exchange method in the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention.
１０１ａ…第１の基板 １０１ｂ…第２の基板 １０１ｃ…第３の基板 １０２…スイッチング素子 １０５…対向電極 １０８…反射電極 １１０…液晶層 101a first substrate 101b second substrate 101c third substrate 102 switching element 105 counter electrode 108 reflective electrode 110 liquid crystal layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅原 淳 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33番地 株 式会社東芝生産技術研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Atsushi Sugawara 33 Shinisogo-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture
Claims (1)
持された液晶層とを有し、前記複数の基板は、非観察面
側に複数のスイッチング素子及びこの複数のスイッチン
グ素子を接続するマトリクス配線が形成されるとともに
観察面側に電極が形成された複数の第１の基板と、これ
ら複数の第１の基板よりも観察方向に近い側に設けら
れ、非観察面側に複数のスイッチング素子及びこの複数
のスイッチング素子を接続するマトリクス配線が形成さ
れた第２の基板と、前記複数の第１の基板よりも非観察
方向に近い側に設けられ、観察面側に反射電極が形成さ
れた第３の基板とからなることを特徴とする液晶表示装
置。1. A semiconductor device comprising: a plurality of substrates; and a liquid crystal layer sandwiched between the plurality of substrates. The plurality of substrates connect the plurality of switching elements and the plurality of switching elements to a non-observation surface side. A plurality of first substrates on which matrix wiring is formed and electrodes are formed on the observation surface side, and a plurality of switching substrates provided on a side closer to the observation direction than the plurality of first substrates and on a non-observation surface side A second substrate on which an element and a matrix wiring connecting the plurality of switching elements are formed, and a second substrate provided on a side closer to a non-observation direction than the first substrates, and a reflective electrode formed on the observation surface side A liquid crystal display device comprising: a third substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9046805A JPH10240171A (en) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | Liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9046805A JPH10240171A (en) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | Liquid crystal display device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10240171A true JPH10240171A (en) | 1998-09-11 |
Family
ID=12757557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9046805A Pending JPH10240171A (en) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | Liquid crystal display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10240171A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000292785A (en) * | 1999-03-04 | 2000-10-20 | Samsung Electronics Co Ltd | Reflection type liquid crystal display device and its manufacture |
| JP2003022032A (en) * | 2001-07-06 | 2003-01-24 | Sharp Corp | Method for manufacturing functional element substrate and method for manufacturing functional panel |
| EP2254390A1 (en) | 2004-03-26 | 2010-11-24 | Panasonic Electric Works Co., Ltd | Organic light emitting element |
-
1997
- 1997-02-28 JP JP9046805A patent/JPH10240171A/en active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20031216 |