JPH10239624A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
- Publication number
- JPH10239624A JPH10239624A JP9046456A JP4645697A JPH10239624A JP H10239624 A JPH10239624 A JP H10239624A JP 9046456 A JP9046456 A JP 9046456A JP 4645697 A JP4645697 A JP 4645697A JP H10239624 A JPH10239624 A JP H10239624A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- scanning
- optical system
- optical
- mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
する光ビーム検出器に光ビームを導くため光学系をシン
プルで他の光学素子と干渉しないものにすることを目的
とする。また、光ビーム検出器表面で反射された光ビー
ムが被走査面に達するのを防止することを目的とする。 【解決手段】 光源と、光源から射出される光ビームを
偏向する偏向器と、偏向器によって偏向された走査光ビ
ームを所定の被走査面に結像させる走査光学系と、走査
光学系の光路中にあって走査光学系の光軸を折り曲げる
ための折り返し鏡と、走査光ビームが所定の位置に到達
したことを検出する光ビーム検出器と、光ビーム検出器
に走査光ビームを導くための分離鏡を有し、光ビーム検
出器の検出信号に基づいて走査光ビームで被走査面を走
査する光走査装置において、折り返し鏡で反射された走
査光ビームが分離鏡で分離され、再度折り返し鏡で反射
されて光ビーム検出器に入射する。
Description
ンターなどに用いられる光走査装置に関するもので、特
に光ビームの位置を検出する検出器に光ビームを導く光
学系の構造に関する。
装置や、各種画像読込み、測定装置に用いられる光走査
装置においては、光ビームを偏向走査する偏向器として
回転多面鏡が多く用いられてきた。
面上において、直線あるいは曲線上を光走査装置によっ
て繰り返し走査し、被走査面に位置する被走査媒体を前
記の走査方向とはおおむね直交方向に相対移動させ2次
元の走査を行う。なお、前者の光走査装置による走査方
向を「主走査方向」とし、後者の被走査媒体の相対移動
方向を「副走査方向」と定義する。
力装置に応用する場合には、各走査の基点となる同期信
号を発生させる手段が必要になる。そのため、光ビーム
を偏向する偏向器から被走査面に至る光路の途中で、か
つ有効走査領域の手前に位置する光ビーム検出器に導く
検出光学系が設ける方法が広く用いられている。このよ
うな検出光学系を構成するレンズや反射ミラーと、被走
査面上の有効領域を走査する光ビームとが干渉しないよ
うにするために、様々な構成の検出光学系が考案されて
きた。
速度の向上のため、より高速の光走査装置が求められる
ようになってきている。光ビームの偏向に回転多面鏡を
用いた光走査装置では、走査速度(走査周波数)を上げ
るためには、 (1)回転多面鏡の回転数を上げる (2)回転多面鏡の面数を増加させる の2つの方法が考えられる。
速回転可能な軸受が必要になるが、現在最も多く用いら
れているボールベアリングでは毎分20000回転程度
が上限となる。エアベアリングを用いれば毎分3000
0回転以上の回転数で使用可能であるが、軸受が高価な
ため使用できる装置が限られる。特に、一般消費者向け
の安価なレーザービームプリンターなどには使えない。
1つの反射面当りの回転角度が小さくなってしまう。ま
た、個々の反射面の大きさを一定以上確保しようとする
と、回転多面鏡の直径が大きくなってしまう。
2340号公報では、光源から射出された光ビームを主
走査方向に非常に直径の小さい状態で回転多面鏡に入射
させ、偏向された光ビームを伝達光学系を介して再び回
転多面鏡に入射させる方法が開示されている。2回目に
回転多面鏡に入射した後に、光ビームは走査光学系によ
って被走査面上にスポットとして結像する。すなわち、
回転多面鏡に光ビームを2度入射させている。
初に回転多面鏡に入射するときの主走査方向の光ビーム
の直径を2回目に入射する場合に比べて極めて小さく
し、かつ2回目に回転多面鏡に入射する光ビームが回転
する反射面の主走査方向の中心点を追従するように伝達
光学系を構成している。
ビームの光軸に対する偏角がさほど大きくないので、最
終的に得られる光ビームの走査角を大きくすることはで
きない。従って、回転多面鏡に1回だけ光ビームが入射
する通常の光走査装置に比べて、走査光学系の焦点距離
が長く、2回目の反射面から被走査面までの光路長も長
くならざるを得なかった。
射する通常の光走査装置においても、偏向器で偏向され
る光ビームの偏向角が大きくなる、すなわちレンズとし
て広角になるほど、像面湾曲や非点収差、等速走査性
(いわゆるfθ特性)を同時に満たすのが困難になって
くる。これに対して光ビームの偏向角を小さくすると上
記の光学特性を良好に保つのは容易であるが、走査光学
系の焦点距離が長くなるため偏向器から被走査面までの
距離が長くなる傾向にある。
説明したような光走査装置では、走査光学系の焦点距離
が長く、回転多面鏡の反射面から被走査面までの光路長
が長いので、装置をコンパクトにするために複数の折り
返しミラーを用いて走査光学系を折り畳んだような構造
をとらざるを得ない。
は、光ビーム検出光学系を構成する反射ミラーを設置す
る空間がないという課題を有していた。特に副走査方向
に光路を折り曲げるような折り返しミラーを複数含むよ
うな走査光学系においては、検出光学系用の反射ミラー
の設置は困難を極めていた。あるいは、設置できたとし
ても光路の取り回しが複雑になり、反射ミラーの枚数が
増加してしまうという課題を有していた。
子としてフォトダイオードやフォトトランジスタが用い
られるが、通常はこれらの素子を透明なパッケージに封
入して使用する。また、光電変換素子に隣接して増幅回
路やパルス発生回路が集積されている場合もある。この
ような素子に光ビームが入射すると、光パワーの大部分
は素子に吸収されるが、若干の部分は透明なパッケージ
の表面や素子表面で反射される。また、前記の回路部分
に光ビームが入射すると散乱反射が生ずる。
効率を高めるために、入射する光ビームは素子の表面に
対して垂直になるよう配置される。従って、上記のよう
な理由で生じた反射光は、入射する光ビームと同じ経路
を逆にさかのぼってゆく。
る反射ミラー上においては、上記の素子で光ビームを検
出すべき位置と、有効走査領域の先頭部(書き出し部)
にあたる光ビームの位置との間隔はなるべく小さくする
方が、偏向器や走査光学系の走査角を小さくできる。そ
のため、上記の反射光がこの反射ミラーの位置に戻って
くる際に、有効走査領域側にややずれると反射ミラーを
はずれて、被走査面へ向かってしまう。そのため、被走
査面を不用意に照射して不要な画像が形成されたり、入
力情報にノイズが入るなどの課題があった。
ンズを有する光走査装置において、倒れ補正レンズの手
前に上記の反射ミラーを設け、さらにビーム検出光学系
にも倒れ補正レンズに相当するレンズを設ける場合に
は、上記の反射光が副走査方向には、集束されてしまう
ためより大きな問題となっていた。
査装置では、光ビームの走査の基準となる同期信号を発
生する光ビーム検出器に光ビームを導くため光学系をシ
ンプルで他の光学素子と干渉しないものにすることを目
的とする。
は、光ビーム検出器で反射される光ビームが被走査面に
到達するのを防止することを目的とする。
めに本願の第1の発明の光走査装置では、光源と、光源
から射出される光ビームを偏向する偏向器と、偏向器に
よって偏向された走査光ビームを所定の被走査面に結像
させる走査光学系と、走査光学系の光路中にあって走査
光学系の光軸を折り曲げるための折り返し鏡と、走査光
ビームが所定の位置に到達したことを検出する光ビーム
検出器と、光ビーム検出器に走査光ビームを導くための
分離鏡を有し、光ビーム検出器の検出信号に基づいて走
査光ビームで被走査面を走査する光走査装置において、
折り返し鏡で反射された走査光ビームが分離鏡で分離さ
れ、再度折り返し鏡で反射されて光ビーム検出器に入射
することを特徴とする。
射面と第2の反射面を有する回転多面鏡であって、光源
から射出される光ビームを第1の反射面で偏向し、回転
多面鏡の第1の反射面により偏向された光ビームを回転
多面鏡の第2の反射面に入射させる伝達光学系を有し、
第2の反射面で偏向された走査光ビームを走査光学系で
走査することを特徴とする。
は、光源と、光源から射出される光ビームを偏向する偏
向器と、偏向器によって偏向された走査光ビームを所定
の被走査面に結像させる走査光学系と、走査光ビームが
所定の位置に到達したことを検出する光ビーム検出器
と、光ビーム検出器に走査光ビームを導くための分離鏡
を有し、光ビーム検出器の検出信号に基づいて走査光ビ
ームで被走査面を走査する光走査装置において、光ビー
ム検出器に入射する光ビームに対して、光ビーム検出器
を構成する検出素子表面あるいは素子を封入したパッケ
ージ表面を主走査面内において垂直とは異なる方向に傾
けて設置し、検出素子表面あるいはパッケージ表面で反
射された光ビームが、分離鏡に対して主走査方向上流側
に向かうようにしたことを特徴とする。
射面と第2の反射面を有する回転多面鏡であって、光源
から射出される光ビームを第1の反射面で偏向し、回転
多面鏡の第1の反射面により偏向された光ビームを回転
多面鏡の第2の反射面に入射させる伝達光学系を有し、
第2の反射面で偏向された走査光ビームを走査光学系で
走査することを特徴とする。
装置の第1の実施例の概観を示す斜視図であって、図2
は図1より補正レンズ62及び第3の折り返し鏡93を
取り除いた状態を示す斜視図である。また、図3、図4
は本発明による光走査装置の第1の実施例の主走査断面
での平面図を示す。図3、図4において回転多面鏡30
の第1の反射面31以降の光ビームについては、ビーム
検出位置、走査開始位置、走査光学系の光軸位置、走査
終了位置の4ヵ所での光ビーム位置を示している。図3
は走査光学系及び光ビーム検出光学系とその中を通過す
る光ビームを示し、図4は伝達光学系とビーム整形光学
系とその中を通過する光ビームを示している。さらに、
図5には本発明による光走査装置の第1の実施例のビー
ム整形光学系を含んだ副走査面内の断面図を示し、図6
には本発明による光走査装置の第1の実施例の走査光学
系を含んだ副走査面内の断面図を示す。
おり、発散光として射出されたレーザービームはコリメ
ータレンズ21で緩やかな集束角を持つ集束光ビームに
整形される。コリメータレンズ21の射出面は、球面収
差を減ずるために光軸に回転対称な非球面形状に形成さ
れている。
は、入射側が平面で射出側が凹のシリンドリカル面であ
る整形レンズ22に入射する。整形レンズ22は主走査
方向にのみ負の屈折力を有しており、入射した集束光ビ
ームは主走査方向には比較的小さな直径の平行な光ビー
ムに変換される。一方、副走査方向においては、コリメ
ータレンズ21によって変換された集束光ビームのまま
である。以上に述べたコリメータレンズ21と整形レン
ズ22とでビーム整形光学系を構成している。
0の第1の反射面31に入射する光ビームは、主走査方
向には通常の光走査装置に比べて小さい直径を有する平
行光ビームで、副走査方向には第1の反射面31上に結
像するような集束光ビームである。なお、回転多面鏡3
0については後ほど説明する。
ては、半導体レーザー11から射出した光ビームの直径
がある程度広がった位置で、コリメータレンズ21で緩
い集束光ビームに変換し、さらにこのコリメータレンズ
21から距離をおいて凹のシリンドリカルレンズである
整形レンズ22を配して、主走査方向にのみ平行光ビー
ムに変換する。このため、コリメータレンズ21の焦点
距離を比較的大きくでき、そのことによってコリメータ
レンズ21のレンズ面の曲率半径も大きくでき、レンズ
面あるいはそれを成形する金型の加工が容易になる。ま
た、レンズ面の大きさが大きくなることで、収差上レン
ズ面に要求される精度が緩和され製造が容易となると同
時に、被走査面への結像性能も向上することが期待でき
る。
図4に示すように、光源である半導体レーザー11から
回転多面鏡30の第1の反射面31に入射するまでの光
路を長く取れるので、主走査面内で見た場合の第1の反
射面31から後で述べる伝達光学系の第1の反射鏡51
までの距離より、第1の反射面31から光源部までの距
離を長くなる。そのため、図5に示すように、光源部の
上下方向の空間的な制約がなく、特に半導体レーザー1
1の駆動回路基板の大きさを任意に設定できる。そのた
め、半導体レーザー11の高度な制御、特に階調制御を
行なうための電子回路を半導体レーザー11の直近に集
積することができる。
面鏡30の第1の反射面31に入射する。第1の反射面
31に入射する光ビームが通過するビーム整形光学系の
光軸と、反射された光ビームが通過する伝達光学系の光
軸は、図4に示すように主走査面内では重なっている。
一方、図5に示すように、副走査面内において第1の反
射面31の垂線とは角度γ1を有している、すなわち副
走査面内で入射角γ1で入射している。従って、第1の
反射面31で反射され偏向される光ビームと入射光ビー
ムは副走査面内において角度2・γ1をなしており、互
いに干渉することがない。本実施例ではγ1を6゜とし
ている。
ビームは、伝達光学系を構成する伝達レンズ第1群41
に入射する。伝達レンズ第1群41は入射側から順に、
平面と凸のシリンドリカル面からなる第1伝達レンズ、
凸のシリンドリカル面と平面からなる第2伝達レンズ、
凹のシリンドリカル面と平面からなる第3伝達レンズの
3枚で構成され、いずれのレンズも主走査方向にのみ屈
折力を有する。
主走査方向に関しては集束光ビームとなり、伝達レンズ
第1群41の後ろ側焦点に一旦結像する。一旦結像した
光ビームは発散光ビームとなり、反射鏡51で反射され
て伝達レンズ第2群42に向かう。伝達レンズ第2群4
2は、入射側が凸のシリンドリカル面で射出側が平面の
第4伝達レンズ1枚で構成されている。伝達レンズ第2
群42は副走査方向にのみ屈折力を有する。
伝達レンズ第3群43に入射する。伝達レンズ第3群4
3は、入射側が平面で、射出側が凸のシリンドリカル面
の第5伝達レンズ1枚で構成されている。伝達レンズ第
3群43は主走査方向にのみ屈折力を有する。
主走査方向に関してはほぼ平行な光ビームとなる。この
平行光ビームは反射鏡52で光軸の向きを変えられて、
回転多面鏡30の第2の反射面32に入射する。第2の
反射面32に入射する光ビームは第1の反射面31での
偏向にともない、第2の反射面32の中心に追従するよ
う光ビームの中心が移動する。これらの伝達レンズ第1
群41から第3群43までの3群のレンズで伝達光学系
を構成している。
の主走査方向の直径は、第1の反射面31に入射する平
行光ビームの直径に比べて数倍大きくなるが、第2の反
射面32の回転移動に追従して光ビームが移動するの
で、反射面の大きさをはみ出ることはない。
ムが通過する伝達光学系の光軸と、偏向された光ビーム
のが通過する走査光学系の光軸は、図4に示すように主
走査面内では重なっている。一方、図6に示すように回
転多面鏡30の回転軸を含む面内すなわち副走査面内で
は、第2の反射面32に対して垂直とは異なる斜め方向
に配置されている。この実施例においては、副走査面内
での第2の反射面32に入射する光ビームが反射面の垂
線に対する角度、すなわち入射角γ2を6゜としてい
る。
射鏡52には、フロートガラスの表面に反射膜を蒸着し
たミラーを用いている。連続的に生産されるフロートガ
ラスは、製造工程の進行方向とその直交方向で平面度が
異なる。本発明の第1の実施例では、その平面度の良好
な方向を主走査方向に一致させることで、安価な反射鏡
が利用可能にしている。なお、ガラスの平面度を維持さ
せるには所定の厚みが必要なことは、研磨ガラスでもフ
ロートガラスでも同様であり、本実施例でも反射鏡5
1、52には厚み5mmのガラスを用いて十分な平面度
を得ている。
系に反射鏡を介在させる場合も上記と全く同様に、主走
査方向に平面度の良好な方向を一致させることで、安価
なフロートガラスが使用可能となる。さらに、このよう
なビーム整形光学系に介在する反射鏡は、本発明の第1
の実施例のような回転多面鏡の反射面に光ビームが2度
入射するような光学系のみならず、一般の走査光学系に
おいて、回転多面鏡に光源からの光ビームを導く光学系
に広く適用できる。
査断面内で見ると、伝達レンズ第2群42のみが光学的
に屈折力を有しており、第1の反射面31と第2の反射
面32が光学的な共役関係になるように配置されてい
る。このため、回転多面鏡30の第1の反射面31の各
々が副走査方向に倒れ誤差をもっていても、反射された
光ビームは第2の反射面32上では副走査方向に同じ位
置に入射する。すなわち倒れ補正機能を有している。
ームは結像レンズ61、補正レンズ62に入射して集束
光ビームに整形された後に被走査面71上に結像する。
結像レンズ61と補正レンズ62とで、走査光学系を構
成しており、一定速度で回転する回転多面鏡30の回転
に伴って、等角速度で走査される光ビームを等線速で被
走査面上71を走査させる。
光ビームは、第1の折り返し鏡91で、回転多面鏡30
の上方に折り返される。この折り返された光ビームはさ
らに第2の折り返し鏡92で折り返され、補正レンズ6
2に入射する。補正レンズ62を出た光ビームは最後に
第3の折り返し鏡93で折り返されて、被走査面70に
向かう。これら3つの折り返し鏡は光走査装置の容器と
なる光学ケース82に取り付けられている。
査面内で見ると、後で述べるベース部材81あるいは光
学ケース82の上に、(A)伝達光学系の第2の反射鏡
52から回転多面鏡30の第2の反射面32に至る部
分、(B)走査光学系の回転多面鏡30の第2の反射面
32から、結像レンズ61を含み第1の折り返し鏡91
に至る部分、(C)第1の折り返し鏡91から第2の折
り返し鏡92に至る部分、(D)第2の折り返し鏡93
から、補正レンズ62と経由して第3の折り返し鏡93
に至る部分、の4段に光路が折り重なっている。
うな構造をとることで、走査光学系全体の光路長にかか
わらず、光走査装置の走査光学系の光軸方向の長さを短
縮できる。
が回転偏向するので、回転多面鏡30の第2の反射面3
2から離れるに従って、走査される光ビームの振れ幅が
増加し、必要な折り返し鏡の幅も増加していく。これに
対して上記のような構造の場合、光学ケース82の底面
から離れるに従って折り返し鏡の幅も増加するので、折
り返し鏡の両側にその保持部分を設けた場合に、下方
(光学ケース82の底面側)に位置するレンズや、走査
される光ビームに干渉することが避けられる。
多面鏡や走査光学系を構成するレンズ群が載置されてい
る側に全ての折り返し鏡を配置しているので、組立・調
整・検査作業が容易なため製造費用が低下するととも
に、装置の信頼性も増す。
ケース82の底面に近い側に、伝達光学系が位置する場
合には、伝達光学系を構成する各伝達レンズや反射鏡を
避けて、折り返し鏡の支持部を設けることが容易とな
る。
れるスポットは、回転多面鏡30の回転に応じた方向に
直線状に移動して走査線を形成する。本発明の第1の実
施例においては、既に述べたように副走査面内おいて、
回転多面鏡30の回転軸に対して直角とは異なる方向で
光ビームが入射し、得られる偏向光ビームも回転多面鏡
30の回転軸に直角な方向とは異なる角度をもって偏向
されるので、偏向光ビームが掃引してできる面は平面で
はなく円錐面となる。従って、結像レンズ61や補正レ
ンズ62に入射する光ビームの軌跡も湾曲しているが、
被走査面上71で得られる走査線は直線となるように、
走査光学系が構成されている。
る。本発明の光走査装置は主走査方向一方向にしか光ビ
ームを走査しないので、2次元走査を実現させるために
は走査対象物を主走査方向とは直交する副走査方向に移
動させる必要がある。この副走査方向の移動は、平板状
の媒体を直線状に移動させてもよいし、走査線の方向に
平行な回転軸を持つ円筒状の媒体を回転移動させてもよ
い。例えば本発明の光走査装置をレーザービームプリン
ターに用いる場合には、秘走査面71には感光体が置か
れ、光ビームの走査によって静電潜像を形成する。
の光路の配置の特徴について説明する。ここまでで述べ
たように、本発明の第1の実施例では、主走査面内で光
走査装置の走査範囲の中央付近を走査する時点での回転
多面鏡30の位置において、ビーム整形光学系の光軸と
第1の反射面31、あるいは回転多面鏡30の第2の反
射面32に入射する伝達光学系の光軸と回転多面鏡30
の第2の反射面32との位置関係は、各光学系の光軸が
各反射面に対してほぼ垂直になるように配置されてい
る。
の反射面へ光ビームを導く各光学系の光軸が、回転多面
鏡の回転軸に対して、空間的な「ねじれの位置」にな
く、ほぼ交差する状態である。光学系の光軸と反射面の
このような位置関係を以後「正面入射」状態と定義す
る。
「正面入射」の配置をとることで、光ビームの断面直径
に対して、回転多面鏡30の第2の反射面32の大きさ
を最も有効に使用している。また、回転多面鏡30の第
1の反射面31に対して、ビーム整形光学系から入射す
る光ビームは相対的に移動するが、反射点は入射する光
ビームの対してほぼ垂直な方向に移動するので、移動に
対する反射面の大きさも最小限ですむ。
るので、回転多面鏡30の大きさを最小にできる。従っ
て、回転多面鏡の慣性2次モーメント、重量、反射面に
働く遠心力を小さくでき、より高い回転数まで回転させ
ることが可能となった。
する各レンズや反射鏡と、走査光学系を構成するレンズ
を副走査面内において分離して配置できるので、これら
のレンズや反射鏡が主走査面内において互いに干渉する
ことがないので、レンズの大きさに制約がなく、良好な
光学特性を得ることができる。
の位置関係について考察する。上記のように本発明の第
1の実施例では、図5、図6に示すように、伝達光学系
の内で第2の反射鏡52以降の部分の光軸と、走査光学
系の光軸は副走査面内で角度をもって配置されているの
で、主走査面内ではレンズの大きさに制約がない。
面鏡の第1の反射面31と第1の反射鏡51の間に、伝
達レンズ第1群41が位置しており、第2の反射鏡52
と第2の反射面32の間には、伝達レンズ第2群42、
及び伝達レンズ第3群43が位置している。すなわち、
第2の反射鏡52以降の伝達光学系の光軸上にはレンズ
が存在しないので、伝達光学系のレンズと走査光学系の
レンズが主走査面で見ても重なることがない。このた
め、走査光学系のレンズ、特に結像レンズ61の大きさ
や取り付け方法に制約がなくなり、光学的に最適な位
置、大きさの結像レンズを用いることが可能となる。
ビーム整形光学系あるいは走査光学系の位置関係につい
て説明する。
達光学系とビーム整形光学系あるいは走査光学系が主走
査面内で重なっている部分において、各レンズやミラー
を支えるベース部材81に対する光軸の上下関係を見る
と、伝達光学系の上あるいはベース部材81の底面から
遠い側にビーム整形光学系あるいは走査光学系が重なる
構造となっている。
うな構造をとることで、ベース部材81から一体に成形
されていて伝達光学系を構成するレンズや反射鏡を支持
する部分のベース部材81からの突出高さを低く押さえ
ることが可能となり、これらのレンズや反射鏡を精度よ
くベース部材81に取り付けることができる。
レンズ61、あるいは補正レンズ62の取り付け精度は
伝達光学系に比べればさほど高くなくてもよいので、ベ
ース部材81から高い位置に支持しても問題とならな
い。一方、ビーム整形光学系のレンズや光源の位置精度
は非常に厳しいが、あまりに要求精度が厳しいために調
整せざるを得ない。このため、ビーム整形光学系のレン
ズなどを支持する部材自身の位置精度はさほど高くなく
てもよく、むしろ調整の容易な構造が望まれる。この観
点においても、ビーム整形光学系が伝達光学系の上に位
置するほうが、調整作業が容易になり好ましい。
図8に示すように伝達光学系の各レンズと2枚の反射鏡
及び回転多面鏡を一体の高精度の加工方向で製造された
ベース部材81に取り付け、他の部分は一般的な製造方
法で製作される光学ケース82に取り付けている。
をダイキャストで鋳造したものをレンズや反射鏡の取付
面のように精度の必要な部分のみ機械加工を施す方法が
好適である。また、プラスチックの射出成形方法を用い
る場合でも、最近開発されている成形後の収縮の小さい
特殊な成形方法等を用いれば所期の精度が得られる。
加工方法で製作可能で、例えばガラス繊維入りのポリカ
ーボネイド樹脂を射出成形することで安価に製造でき
る。また、形状の工夫によっては板金のプレス加工によ
っても製作できる。
は、精度の必要なベース部材81を必要最小限の大きさ
にとどめ、それ以外の光学ケース82を比較的安価な製
造方法で製作することで、装置全体の製造コストを削減
できる。
伝達光学系の上方に位置する結像レンズ61及び整形レ
ンズ22は、わざわざ光学ケース82に取り付けるよ
り、ベース部材81に取り付ける方が構造が簡単で、そ
のことによりベース部材81の大きさが増加することも
ないので、ベース部材81に取り付けてある。
の伝達光学系の回転多面鏡30の反射面に対する追従作
用を詳しく説明する。図7は図4で説明した本発明の光
走査装置の伝達光学系を反射鏡51、反射鏡52につい
て折り返さずに引伸ばして主走査断面について示した図
である。但し、伝達レンズ第2群42は、主走査方向に
は屈折力を持たないので省略してある。
伝達レンズ第1群41の後側焦点位置Pに、伝達レンズ
第3群43の前側焦点が一致するように置かれており、
これら2群のレンズ群でアフォーカル光学系を構成して
いる。従って伝達レンズ第3群43を通過した光ビーム
は再び平行光ビームとなり、反射鏡52で光軸の向きを
変えられて、回転多面鏡30の第2の反射面32に入射
する。
ビームのこの反射面の位置での直径wiとする。伝達光
学系はアフォーカル光学系を構成しているので、第2の
反射面32の位置では直径woの平行な光ビームに変換
される。ここで伝達レンズ第1群41の焦点距離をf
1、伝達レンズ第3群43の焦点距離をf2とすると、
woをwiで除した光ビームの直径の比の値は、f2を
f1で除した値に等しい。
ると、第1の反射面31で光ビームは2・θ1だけ偏向
される。偏向された光ビームは伝達レンズ第1群41、
同第3群43を通過して、角度θ2で偏向される。この
光ビームは点Qで光軸と交差する。交差した後に第2の
反射面32に入射する位置において、偏向された光ビー
ムと光軸との距離はδとなり、このδは回転多面鏡3が
θ1回転したときの反射面の移動量に等しい。
射面32に対して角度θ2だけ入射角度が増大する側に
偏向するので、第2の反射面で反射された光ビームの走
査角θsは、θs=2・θ1+θ2とあらわされる。す
なわち、通常の1度しか回転多面鏡に入射しない方式、
あるいは第2の反射面32に対して光ビームが平行移動
しながら追従する方式に比べて光ビームの偏向角をθ2
だけ増大させることができる。
の反射面31で偏向された光ビームの中心光線が伝達光
学系の光軸と交差する場所が回数がQ点のみの1箇所で
ある場合には、伝達光学系の途中にある光路折り返しの
ための反射鏡の数が偶数であると、第2の反射面32の
回転移動方向と光ビームが移動する方向が一致する。
ームが光軸と交差する回数が奇数回のときは、折り返し
の反射鏡の数を偶数にすればいいことがわかる。伝達光
学系の折り返しの反射鏡は、その平面度が被走査面への
結像性能に影響を及ぼし、かつ反射率によって光学系の
パワー効率が低下させるので、なるべく数が少ない方が
よい。しかし、少なくとも1枚の反射鏡がないと、同一
の回転多面鏡に光ビームを戻すことができないので、最
小値は1となる。
の反射面までの距離を短くするためには、偏向された光
ビームが光軸と交差する回数も少ないほうがよく、現実
的にはまったく交差しないか、1回だけ交差するように
設定するのが望ましい。
つの組み合わせが現実的な選択肢である。 (1)偏向された光ビームが光軸と交差する回数が0回
で、折り返しの反射鏡の数が1枚。 (2)偏向された光ビームが光軸と交差する回数が0回
で、折り返しの反射鏡の数が3枚。 (3)偏向された光ビームが光軸と交差する回数が1回
で、折り返しの反射鏡の数が2枚。 (4)偏向された光ビームが光軸と交差する回数が1回
で、折り返しの反射鏡の数が4枚。
1であって、本発明のように回転多面鏡の2つの異なる
反射面に対して同時に「正面入射」状態を実現すること
ができないので採用できない。
め、反射鏡の平面度の影響により結像性能が劣化する危
険性が増す。また、1つの反射鏡あたりの反射率を85
%とすると、反射鏡3面を経由した場合の光パワーの効
率は61%になってしまう。さらに、各反射面の取り付
け角度精度がそれぞれ光軸の方向に影響を与えるので、
光ビームが通過する位置精度を確保する上でも好ましく
ない。同様に(4)の場合はもう1枚反射鏡の数が増加
するので、上記(2)の課題はより厳しくなる。
に示すように、上記の(3)に相当する伝達光学系の光
路の折り返しの反射鏡の数を2とし、伝達光学系の中を
偏向されて移動する光ビームと伝達光学系の光軸との交
差個所を1ヵ所にすることで、回転多面鏡30への光ビ
ームの入射を正面入射とした上で、反射鏡の数を最小に
して光パワーの減衰を小さくすると同時に、伝達光学系
の光路長も短縮することが可能となった。
明する。本発明の第1の実施例においては、回転多面鏡
30の面数を4の倍数である12としている。回転多面
鏡30の面数を4の倍数とすることで、回転多面鏡30
の同時に使用する2つの反射面のなす角度を90度とす
ることが可能である。回転多面鏡30の回転軸に対する
反射面の倒れ誤差や位置誤差の内、1回転の中で緩やか
に(おおむね正弦波状に)変化する成分については、2
つの反射面の位相が90度ずれているため、第1の反射
面31、第2の反射面32の両方が同時に最悪の値とな
る場合がないので、反射面の倒れ誤差や位置誤差の影響
を緩和できる。また、この効果は本発明の実施例のよう
に正面入射する構成をとる光学系のみならず、同一の回
転多面鏡に光ビームが2度入射する光走査装置に広くあ
てはまるものである。
て第1の反射面31に入射する光ビームと、伝達光学系
を経由して第2の反射面32に入射する光ビームのなす
角度ηを90度とすることが可能となった。このように
配置することで、第1の反射面31から第2の反射面3
2に至る光軸上の距離を適切に確保でき、最適な構成の
伝達光学系を得ることができる。
ると、ビーム整形光学系の光軸と、走査光学系の光軸が
直交している方が、各要素をレイアウトするのが容易で
あるというで利点もある。
と、反射面の加工機械における割り出し角度が整数に限
定されることが多い。つまり隣接反射面の角度が360
の約数となる。従って、回転多面鏡の形状を正多角形
(正多面体)にするためには、10面、12面、15
面、18面等の面数の多面鏡は加工できるが、11面、
13面、14面、16面、17面は加工できない場合が
ある。この条件と上記に述べた4の倍数である条件とを
考慮すると、本発明の第1の実施例に示すごとく回転多
面鏡30の面数Nは12面であるのが、装置の設計上
も、多面鏡の加工上も好適である。
度を均等ではないようにすれば上記の制約はないが、各
反射面の大きさが不同になり、小さい反射面にあわせて
光学系を設計せねばならぬため多面鏡の大きさには無駄
が生ずる。
方法について説明する。一般に光走査装置を画像記録装
置や画像入力装置に応用する場合には、各走査の基点と
なる同期信号を発生させる手段が必要になる。本発明の
光走査装置の第1の実施例においては、被走査面上の有
効走査領域を走査する手前の位置で、光ビームを光ビー
ム検出器63に導き、光ビームの到達を電気信号に変換
することで同期信号を得ている。この光ビーム検出器6
3は必ずしも被走査面上71になくてもよい。しかし、
光走査装置としては、この光ビーム検出器63の位置か
ら有効走査領域の後端までが所要の走査範囲となる。
偏向された光ビームは、結像レンズ61で主走査方向に
集束光ビームに変換された後に、第1の折り返し鏡9
1、第2の折り返し鏡92で折り返され、図9に示すよ
うに補正レンズの直前に設けられた分離鏡64で本来の
被走査面71へ向かう光路とは分離された後に、再び第
2の折り返し鏡92を経て、光ビーム検出レンズ65で
副走査方向に集束する光ビームに変換された後に、光ビ
ーム検出器63に入射する。図9では光ビーム検出器6
3に入射する光ビームをLsという記号で示している。
は、折り返し鏡を何枚も用いて走査光学系の光路を複雑
に折り返したような光走査装置においても、検出用の光
ビームを検出器に導く反射鏡を新たに設ける必要がない
ため、走査光学系の構成が非常にシンプルになる。
とすると、光ビーム検出器63は走査光学系の光軸上に
おいては被走査面71と同じ距離にある。また、副走査
面内でみると、光ビーム検出器63の位置は、被走査面
71と同様に回転多面鏡30の第2の反射面32に対し
て光学的に共役となるように、光ビーム検出レンズ65
が設けられている。
分離鏡64を横切る間は被走査面71には光ビームは到
達しない。光ビーム検出器63で、光ビームの到達を検
出するためには、光ビームが光ビーム検出器63に達す
る直前に、光源を点灯させる必要がある。この点灯期間
における光ビームが、補正レンズ62に入射しないよう
に、分離鏡64の取付部の走査上流に位置する部分に
は、遮蔽板66が設けられている。
に示すように、主走査面内において、光ビーム検出器6
3の表面は入射してくる光ビームに対して傾斜してお
り、光ビーム検出器63の素子を封入してあるパッケー
ジの表面、あるいは素子自体の表面で反射される反射光
Lgは、第2の折り返し鏡92で反射されて上記の遮蔽
板66に向かうため、補正レンズ62を通過して被走査
面71に達してしまうことを防止している。
ゴースト像の発生を防止する構造について説明する。本
発明の第1の実施例においては、図10に示すように反
射面33と結像レンズ61の間に遮蔽板34を設けて、
平面である伝達レンズ第1群の第1伝達レンズの入射面
で反射された光ビームが、結像レンズ61に入射するの
を防止している。また遮蔽板34は、回転多面鏡30の
第2の反射面32で偏向される本来の走査光ビームを遮
らない位置に置かれていることは言うまでもない。
像を生じさせる光ビームは第1の反射面31に隣接する
反射面33ではなくさらに隣の反射面である場合も有り
得る。そのような場合でも問題となる反射面と結像レン
ズ31の間に遮蔽板34を置くことで全く同様な効果を
有する。
調整方法について図2、図4を用いて説明する。ビーム
整形光学系から出た整形光ビームは回転多面鏡30の第
1の反射面31に入射するが、その光軸の延長線上に、
副走査方向に平行なエッジを持つナイフエッジ(M)8
3、主走査方向に平行なエッジを持つナイフエッジ
(S)84が光学ケース82と一体に設けられている。
またこれらのナイフエッジの先端がビーム整形光学系の
光軸L1と一致している。なお、本実施例では光学ケー
ス82の側壁の下部を切り欠いてナイフエッジ(S)8
4を設けている。
に示すように前記のビーム整形光学系の光軸上におい
て、ナイフヘッジ(M)83の手前に切り欠き部A、ナ
イフエッジ(M)83とナイフエッジ(S)84の間に
切り欠き部Bが設けられており、ナイフエッジの通過前
後の光パワーを検出するためのセンサが進入できるよう
になっている。
外した状態で、ビーム整形光学系を通過した光ビームを
上記の2つのナイフエッジに照射することで行なう。ビ
ーム整形光学系を通過した光ビームは、主走査方向にお
いては平行な光ビームである。一方、副走査方向におい
ては回転多面鏡30の第1の反射面31に結像するよう
な集束光ビームである。従って、ナイフエッジの位置に
おいては、光ビームは副走査方向にはある程度広がって
いる。
出するセンサを挿入し、光ビームのパワーを測定する。
次に切り欠き部Bにセンサを挿入し、ナイフエッジ
(M)83を通過する光ビームの光パワーを測定する。
このときナイフエッジ(M)83の先端はビーム整形光
学系の光軸に一致しているので、切り欠き部Bでの光パ
ワーを切り欠き部Aで計った光パワーのちょうど半分に
なるように半導体レーザー11あるいはコリメータレン
ズ21を主走査方向に調整すれば、ビーム整形光学系の
主走査方向の調整が正しく行われたことになる。
ッジ(S)84の後ろ側、すなわち光学ケース81の外
側の光パワーを比較し、ちょうど半分の光パワーにるよ
うに半導体レーザー11あるいはコリメータレンズ21
を副走査方向に調整すれば、ビーム整形光学系の副走査
方向の調整が終わる。既に述べたようにナイフエッジの
位置では副走査方向には光ビームが広がっているので、
検出精度は低下するが実用上は十分な精度であり問題は
ない。
ケース82に半導体レーザー11とビーム整形光学系を
取り付けただけで他の光学素子を取り付けない状態で調
整作業が可能となるので、回転多面鏡30の反射面31
以降に位置する光学素子の誤差の影響を受けずに正確な
調整が可能となる。
プでの光学特性の確認が可能であるので、段階的な品質
保証が可能となり、製品の品質確保作業が容易になる。
を比較するだけで調整作業が行えるので、被走査面71
上で結像性能を測定する場合に必要となるような大がか
りな測定装置が不要となる。
82に一体に成形されているので、別部材で構成された
治具を使用する場合に比べて、光ビームの位置を正確に
調整することが可能となる。
方向への光ビームの位置の調整作業は、半導体レーザー
11を移動させて行うか、あるいはコリメータレンズ2
1を移動させても行える。本実施例では半導体レーザー
11をその駆動回路を実装した回路基板と一体で、光軸
と直交方向の上下左右に移動させて調整しているが、コ
リメータレンズ21を移動させても同様の効果が発揮さ
れる。
を射出した光ビームも、伝達光学形に存在する反射鏡5
1、反射鏡52や、走査光学系の3つの折り返し鏡を通
過することで、各ミラーの副走査方向の取付角度精度の
影響を受け、補正レンズ62に副走査方向に入射する位
置が変動する。
学系の第1の反射鏡51あるいは第2の反射鏡52、さ
らに走査光学系内の第1の折り返し鏡91、第2の折り
返し鏡92、第3の折り返し鏡93の5箇所の反射ミラ
ーのうちのいずれかを副走査面内に回転させることで、
補正レンズ62に入射する光ビームの位置を調整してい
る。
転させて調整することで、他の反射ミラーの調整は不要
になる。特に第1の反射鏡51は上記の5つの反射ミラ
ーの中で最も光源に近いので、それより下流にある反射
ミラーを調整する場合に比べて、光路の途中の誤差を小
さくできる。
ムの副走査方向の位置を基準に、上記の5箇所の反射ミ
ラーの内の1つの副走査方向の角度を調整することで、
他の4箇所の反射ミラーを調整する必要はなくなる。さ
らに、1箇所の反射ミラーを調整するだけで、補正レン
ズ62に対して光ビームを副走査方向において正確な位
置に入射させることが可能になり、光ビームの被走査面
上での良好な結像性能を得ることができる。
向に光ビームの入射位置が所定の範囲に入るように調整
されるので、補正レンズ62の直後にある被走査面71
上に結像するスポット、あるいはその軌跡として形成さ
れる走査線の副走査方向の位置もおおむね正規の位置に
おかれる。
は、回転多面鏡の第1の反射面31以降にある5箇所の
反射ミラーの調整は一切行わず、第1の補正レンズ62
を副走査方向に変位させることで、補正レンズ61に入
射する光ビームに対する副走査方向の相対位置を所定の
範囲にしている。そして、このような調整を補正レンズ
62の左右、すなわち走査の開始端、終了端で独立して
行うことができるので、開始側、終了側それぞれ独立し
て最適な結像性能をうることができる。
る。
の実施例の主走査面内での配置図である。
れた発散光ビームは、コリメータレンズ121でほぼ平
行な光ビームに変換される。さらに平行な光ビームは整
形レンズ122で、副走査方向に集束する光ビームに変
換される。この集束光ビームの副走査方向の結像点付近
に反射面131が位置するように、回転多面鏡130が
配置されている。コリメータレンズ121と整形レンズ
122でビーム整形光学系を構成している。
レンズ161により主走査方向に集束する光ビームに変
換される。結像レンズ161を出た集束光ビームは、補
正レンズ162により副走査方向にも集束光ビームに変
換され、被走査面71上にスポットとして結像する。さ
らに副走査方向については、反射面131と被走査面7
1が光学的な共役関係を満たすように補正レンズ162
の屈折力が定められている。被走査面71には、走査対
象物が設けられるのは先の第1の実施例と同じである。
これら結像レンズ161と補正レンズ162で走査光学
系を構成している。
の構造を図12を用いて説明する。結像レンズ161を
出た光ビームは、第1の折り返し鏡191で、回転多面
鏡130の上方に折り返される。この折り返された光ビ
ームはさらに第2の折り返し鏡192で折り返され、補
正レンズ162に入射する。補正レンズ162を出た光
ビームは最後に第3の折り返し鏡193で折り返され
て、被走査面71に向かう。これら3つの折り返し鏡は
光走査装置の容器である光学ケース182に取付けられ
ている。
学系の光軸を含む副走査面内で見ると、後で述べる光学
ケース182の上に、(A)走査光学系の回転多面鏡1
30の反射面131から、結像レンズ161を経て第1
の折り返し鏡191に至る部分、(B)第1の折り返し
鏡191から第2の折り返し鏡192に至る部分、
(C)第2の折り返し鏡193から、補正レンズ162
と経由して第3の折り返し鏡193に至る部分、の3段
に光路が折り重なっている。
うな構造をとることで、回転多面鏡130による光ビー
ムの偏向角が小さいために走査光学系の焦点距離が長
く、反射面131から被走査面170までの光路長が長
い光走査装置においても、光路を折り畳むことにより光
走査装置の光軸方向の全長を短縮できる。
が回転偏向されるので、回転多面鏡130の反射面13
1から離れるに従って、走査される光ビームの振れ幅が
増加し、必要な折り返し鏡の幅も増加していく。これに
対して上記のような構造の場合、光学ケース182の底
面から離れるに従って折り返し鏡の幅も増加するので、
折り返し鏡の両側にその保持部分を設けた場合に、下方
(光学ケース182の底面側)に位置するレンズや、走
査される光ビームに干渉することが避けられる。
ち回転多面鏡や走査光学系を構成するレンズ群が載置さ
れている側に全ての折り返し鏡を配置しているので、組
立・調整・検査作業が容易なため製造費用が低下すると
ともに、装置の信頼性も増す。
ても、被走査面上の有効走査領域を走査する手前の位置
で、光ビームを光ビーム検出器163に導き、光ビーム
の到達を電気信号に変換することで同期信号を得てい
る。光走査装置としては、この光ビーム検出器163の
位置から有効走査領域の後端までが所要の走査範囲とな
る。
は、補正レンズ162の直前に設けられた分離鏡164
で本来の被走査面71へ向かう光路とは分離された後
に、第2の折り返し鏡192を経て、光ビーム検出レン
ズ165で副走査方向に集束する光ビームに変換された
後に、光ビーム検出器163に入射する。光ビーム検出
レンズ165の機能は、第1の実施例と同様であり説明
は省略する。
第2の実施例のように折り返し鏡を何枚も用いて走査光
学系の光路を複雑に折り返したような光走査装置におい
ても、検出用の光ビームを検出器に導く反射鏡を新たに
設ける必要がないため、走査光学系の構成が非常にシン
プルになる。
点灯期間における光ビームが、補正レンズ162に入射
しないように、分離鏡164の取付部の走査上流に位置
する部分には、遮蔽板166が設けられている。
1に示すように第2の実施例についても、主走査方向に
おいて、光ビーム検出器163の表面は入射してくる光
ビームに対して傾斜しており、光ビーム検出器163の
素子を封入してあるパッケージの表面、あるいは素子自
体の表面で反射される反射光は、第2の折り返しミラー
192で反射されて上記の遮蔽板166に向かうため、
補正レンズ162を通過して被走査面171に達してし
まうことがなく、被走査面を不要に照射することが防止
できる。
各レンズは光学ケース182に取り付けられている。ビ
ーム整形光学系の光軸の延長上には、光学ケース182
と一体に形成された副走査方向に平行なエッジを持つナ
イフエッジ(M)183、主走査方向に平行なエッジを
持つナイフエッジ(S)184が設けられている。これ
ら2つのナイフエッジの構造、働き及びこれらを用いた
調整方法は、第1の実施例と全く同様であるので説明を
割愛する。
ケース182の底面から突起として形成されているの
で、第1の実施例の場合のように光パワーを検出するセ
ンサを挿入する切り欠き部を設ける必要はない。
第2の実施例でも第1の実施例と同様に、光学ケース1
82に半導体レーザー11とビーム整形光学系を取り付
けただけで他の光学素子を取り付けない状態で調整作業
が可能となるので、走査光学系の光学素子の誤差の影響
を受けずに正確な調整が可能となる。
プでの光学特性の確認が可能であるので、段階的な品質
保証が可能となり、製品の品質確保作業が容易になる。
を比較するだけで調整作業が行えるので、被走査面71
上で結像性能を測定する場合に必要となるような大がか
りな測定装置が不要となる。
ス82に一体に成形されているので、別部材で構成され
た治具を使用する場合に比べて、光ビームの位置を正確
に調整することが可能となる。
光走査装置では、光ビーム検出器に向かう光ビームが、
折り返し鏡で反射された後に、補正レンズの直前に設け
られた分離鏡で本来の被走査面へ向かう光路とは分離さ
れた後に、再度同じ折り返し鏡を経て、光ビーム検出器
に入射するように構成することで、折り返し鏡を何枚も
用いて走査光学系の光路を複雑に折り返したような光走
査装置においても、検出用の光ビームを検出器に導く反
射鏡を新たに設ける必要がないため、走査光学系の構成
が非常にシンプルになるという効果を有している。
主走査方向において、光ビーム検出器の表面を入射して
くる光ビームに対して傾斜させ、光ビーム検出器の素子
を封入してあるパッケージの表面、あるいは素子自体の
表面で反射される反射光を先の折り返しミラーで反射さ
れて、分離鏡の走査方向上流に設けられた遮蔽板に向か
うよう構成した場合には、素子自体あるいはパッケージ
の表面で反射された光ビームが、補正レンズを通過して
被走査面に向かうことがなく、被走査面を不要に照射す
ることが防止できるという効果を有している。
体の概観を示す斜視図である。
いて長尺レンズ及び第3の折り返し鏡を除いて描いた全
体の概観を示す斜視図である。
査光学系を含む主走査面内での平面図である。
達光学系を含む主走査面内での平面図である。
ーム整形光学系を含む副走査面内での断面図である。
査光学系を含む副走査面内での断面図である。
達光学系の主走査面内における展開図である。
学ベースと光学ケースの関係を示す斜視図である。
ビーム検出器に光ビームを導く光学系の斜視図である。
回転多面鏡の周囲と遮蔽板を示す平面図である。
主走査面内での平面図である。
走査光学系を含む副走査面内での断面図である。
折り返し鏡
Claims (4)
- 【請求項1】光源と、前記光源から射出される光ビーム
を偏向する偏向器と、前記偏向器によって偏向された走
査光ビームを所定の被走査面に結像させる走査光学系
と、前記走査光学系の光路中にあって前記走査光学系の
光軸を折り曲げるための折り返し鏡と、前記走査光ビー
ムが所定の位置に到達したことを検出する光ビーム検出
器と、前記光ビーム検出器に走査光ビームを導くための
分離鏡を有し、前記光ビーム検出器の検出信号に基づい
て前記走査光ビームで前記被走査面を走査する光走査装
置において、前記折り返し鏡で反射された走査光ビーム
が前記分離鏡で分離され、再度前記折り返し鏡で反射さ
れて前記光ビーム検出器に入射することを特徴とする光
走査装置。 - 【請求項2】前記偏向器は少なくとも第1の反射面と第
2の反射面を有する回転多面鏡であって、前記光源から
射出される光ビームを前記第1の反射面で偏向し、前記
回転多面鏡の前記第1の反射面により偏向された光ビー
ムを前記回転多面鏡の前記第2の反射面に入射させる伝
達光学系を有し、前記第2の反射面で偏向された走査光
ビームを前記走査光学系で走査することを特徴とする請
求項2記載の光走査装置。 - 【請求項3】光源と、前記光源から射出される光ビーム
を偏向する偏向器と、前記偏向器によって偏向された走
査光ビームを所定の被走査面に結像させる走査光学系
と、前記走査光ビームが所定の位置に到達したことを検
出する光ビーム検出器と、前記光ビーム検出器に走査光
ビームを導くための分離鏡を有し、前記光ビーム検出器
の検出信号に基づいて前記走査光ビームで前記被走査面
を走査する光走査装置において、前記光ビーム検出器に
入射する光ビームに対して、前記光ビーム検出器を構成
する検出素子表面あるいは素子を封入したパッケージ表
面を主走査面内において垂直とは異なる方向に傾けて設
置し、前記検出素子表面あるいは前記パッケージ表面で
反射された光ビームが、前記分離鏡に対して主走査方向
上流側に向かうようにしたことを特徴とする光走査装
置。 - 【請求項4】前記偏向器は少なくとも第1の反射面と第
2の反射面を有する回転多面鏡であって、前記光源から
射出される光ビームを前記第1の反射面で偏向し、前記
回転多面鏡の前記第1の反射面により偏向された光ビー
ムを前記回転多面鏡の前記第2の反射面に入射させる伝
達光学系を有し、前記第2の反射面で偏向された走査光
ビームを前記走査光学系で走査することを特徴とする請
求項3記載の光走査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9046456A JPH10239624A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9046456A JPH10239624A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 光走査装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005016402A Division JP2005208662A (ja) | 2005-01-25 | 2005-01-25 | カラー画像形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10239624A true JPH10239624A (ja) | 1998-09-11 |
Family
ID=12747673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9046456A Pending JPH10239624A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 光走査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10239624A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005309300A (ja) * | 2004-04-26 | 2005-11-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置 |
JP2006243312A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置と画像形成装置 |
JP2011248180A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Kyocera Mita Corp | 光走査装置及びこれを備えた画像形成装置 |
WO2014061656A1 (ja) * | 2012-10-17 | 2014-04-24 | シャープ株式会社 | 光走査装置、及びそれを備えた画像形成装置 |
JP2015025855A (ja) * | 2013-07-24 | 2015-02-05 | キヤノン株式会社 | 光走査装置及び画像形成装置 |
-
1997
- 1997-02-28 JP JP9046456A patent/JPH10239624A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005309300A (ja) * | 2004-04-26 | 2005-11-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置 |
JP2006243312A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置と画像形成装置 |
JP2011248180A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Kyocera Mita Corp | 光走査装置及びこれを備えた画像形成装置 |
US8525865B2 (en) | 2010-05-28 | 2013-09-03 | Kyocera Document Solutions Inc. | Optical scanning apparatus and image forming apparatus provided with the same |
WO2014061656A1 (ja) * | 2012-10-17 | 2014-04-24 | シャープ株式会社 | 光走査装置、及びそれを備えた画像形成装置 |
JP2014081536A (ja) * | 2012-10-17 | 2014-05-08 | Sharp Corp | 光走査装置、及びそれを備えた画像形成装置 |
JP2015025855A (ja) * | 2013-07-24 | 2015-02-05 | キヤノン株式会社 | 光走査装置及び画像形成装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5054866A (en) | Scanning optical apparatus | |
US6445483B2 (en) | Optical scanning apparatus | |
JP4006153B2 (ja) | マルチビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置 | |
JPH10239624A (ja) | 光走査装置 | |
JPH06202016A (ja) | 光走査装置 | |
JP2964629B2 (ja) | レーザビーム走査光学装置 | |
JP3707511B2 (ja) | 光走査装置 | |
JPH10239617A (ja) | 光走査装置 | |
JP3707508B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP3680890B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP3716888B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP3922383B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP3680889B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP3707510B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP3707512B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP3680888B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP2005208662A (ja) | カラー画像形成装置 | |
JP3707513B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP3453887B2 (ja) | ビーム走査装置 | |
JP3680893B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP3680891B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP4238967B2 (ja) | 光走査装置 | |
JPH112769A (ja) | 光走査装置 | |
JPH1152277A (ja) | 光走査装置 | |
JP3922382B2 (ja) | 光走査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040910 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041207 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050120 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050201 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050427 |