JPH10239601A - 薄膜型光路調節装置及びその製造方法 - Google Patents

薄膜型光路調節装置及びその製造方法

Info

Publication number
JPH10239601A
JPH10239601A JP9265888A JP26588897A JPH10239601A JP H10239601 A JPH10239601 A JP H10239601A JP 9265888 A JP9265888 A JP 9265888A JP 26588897 A JP26588897 A JP 26588897A JP H10239601 A JPH10239601 A JP H10239601A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
post
layer
actuator
forming
optical path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9265888A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoki Bin
庸基 閔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
WiniaDaewoo Co Ltd
Original Assignee
Daewoo Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daewoo Electronics Co Ltd filed Critical Daewoo Electronics Co Ltd
Publication of JPH10239601A publication Critical patent/JPH10239601A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G02B26/0858—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting means being moved or deformed by piezoelectric means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H01L21/02057—Cleaning during device manufacture
    • H01L21/0206—Cleaning during device manufacture during, before or after processing of insulating layers
    • H01L21/02063—Cleaning during device manufacture during, before or after processing of insulating layers the processing being the formation of vias or contact holes
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00—Optical: systems and elements
    • Y10S359/904—Micromirror

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄膜型光路調節装置及びその製造方法を提
供する。 【解決手段】 本発明の装置は、電気的な配線と連結
端子を有する基板１００、基板の上部に形成されたアク
チュエータ２００、基板とアクチュエータとの間に形成
されるアクチュエータを支持する支持要素１３５、アク
チュエータの上部に形成された反射部材１９５、及びア
クチュエータと反射部材との間に形成されて反射部材を
支持する複数個のポスト、即ち第１ポスト１７５及び隣
接する第２ポスト１７７及び第３ポスト１８０により支
持される。これにより、反射部材の反りや下向きへの傾
斜が防止されて各アクチュエータの傾斜角度を等しくで
きる。また、第１ポストと第２ポストとの間、または第
１ポストと第３ポストとの間の反射部材の長さを短くす
ることで反射部材の傾斜角度を増加させ得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は薄膜型光路調節装置
及びその製造方法に関するものであり、より詳細にはア
クチュエータと反射部材との間に複数個のポストを形成
して反射部材の初期の反り(deflection)や傾斜即ちチル
トを防止することにより、アクチュエータの上部に装着
された反射部材の傾斜角度を大きくすることができる薄
膜型光路調節装置及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、光束を調節して画像を形成し得
る光路調節装置は二種類に大別される。その一つは直視
型画像表示装置であってＣＲＴ（Cathode Ray Tube）な
どがあり、他方は投射型画像表示装置であって液晶表示
装置（Liquid Crystal Display：ＬＣＤともいう）、ま
たはＤＭＤ（Deformable Mirror Device）、ＡＭＡ（Ac
tuated Mirror Arrays）などがそれに当たる。前記ＣＲ
Ｔ装置は画像の質において優れるが、画面の大型化によ
り装置の重量と容積が増加し、その製造コストが上昇す
るという問題点がある。これに比べて、液晶表示装置
（ＬＣＤ）は光学的な構造が簡単であって薄く形成する
ことができてその重量及び容積を減らせるという利点が
ある。しかしながら、前記液晶表示装置（ＬＣＤ）は入
射される光束の偏光により１〜２％の光効率を有する程
度に効率が低下し、液晶物質の応答速度が遅くて内部が
加熱しやすいという問題点があった。
【０００３】従って、前記問題点を解決するために、Ｄ
ＭＤまたはＡＭＡなどの画像表示装置が開発された。現
在、ＤＭＤ装置は５％程度の光効率を有するのに対し、
ＡＭＡ装置は１０％以上の光効率を得ることができる。
また、ＡＭＡ装置はスクリーンに投影される画像のコン
トラストを向上させて、より明るくて鮮やかな画像を結
ぶことができ、入射される光束の極性に影響されないだ
けでなく反射される拘束の極性に影響されない。このよ
うなＧｒｅｇｏｒｙ Ｕｍによる米国特許第５，１２
６，８３６号に開示されたＡＭＡのエンジンシステムの
概略図を図１に示す。
【０００４】図１を参照すると、光源１から入射された
光束は第１スリット３及び第１レンズ５を過ぎてゆく間
にＲ・Ｇ・Ｂ表色系に応じて分光される。Ｒ・Ｇ・Ｂに
分光された前記光束はそれぞれ第１ミラー７、第２ミラ
ー９及び第３ミラー１１により反射されてそれぞれのミ
ラーに対応して設けられたＡＭＡ素子１３，１５，１７
に入射される。前記Ｒ・Ｇ・Ｂ別に形成されたＡＭＡ素
子１３，１５，１７はそれぞれ内部に備えられたミラー
を所定の角度に傾斜させて入射された光束を反射させ
る。この際に、前記ミラーはミラーの下部に形成された
変形層の変形に応じて傾斜する。前記ＡＭＡ素子１３，
１５，１７から反射された光は第２レンズ１９及び第２
スリット２１を通過した後、投影レンズ２３によりスク
リーン（図示せず）に投影されて画像を結ぶ。
【０００５】このような光路調節装置であるＡＭＡはバ
ルク（bulk）型と薄膜型に大別される。前記バルク型光
路調節装置はDae-Young Limによる米国特許第５，４６
９，３０２号に開示されている。バルク型光路調節装置
は多層セラミックを薄く切断して内部に金属電極が形成
されたセラミックウェーハをトランジスタが内蔵された
アクティブマトリックス上に装着した後、ソーイング
（sawing）法で加工し、その上部にミラーを設けてなさ
れる。しかしながら、バルク型光路調節装置は設計及び
製造において高い精密度が要求され変形層の応答速度が
遅いという問題点があった。これにより半導体工程を利
用して製造できる薄膜型光路調節装置が開発された。
【０００６】前記薄膜型光路調節装置は本出願人が米国
に出願した特許出願第０８／３３６，０２１号（発明の
名称：薄膜型光路調節装置及びその製造方法（THIN FIL
M ACTUATED MIRROR ARRAY FOR USE IN AN OPTICAL PROJ
ECTION SYSTEM AND METHOD FOR THE MANUFACTURE THERE
OF））に開示されている。
【０００７】図２は前記薄膜型光路調節装置の断面図で
ある。図２を参照すると、前記薄膜型光路調節装置は、
アクティブマトリックス３１、該アクティブマトリック
ス３１の上部に形成されたアクチュエータ３３、及び前
記アクチュエータ３３の上部に形成されたミラー３５を
有する。
【０００８】前記アクティブマトリックス３１は基板３
７、基板３７の上部に形成されたＭ×Ｎ（Ｍ，Ｎは正の
整数）個のトランジスタ（図示せず）、及びそれぞれの
トランジスタの上部に形成されたＭ×Ｎ個の接続端子３
９を有する。
【０００９】前記アクチュエータ３３はアクティブマト
リックス３１の上部に前記接続端子３９を有して形成さ
れた支持部４１、一方の側の下端が支持部４１に取り付
けられ、他方の側がアクティブマトリックス３１と平行
に形成された第１電極４３、前記支持部４１の内部に前
記接続端子３９と前記第１電極４３を連結するように形
成された伝導管４９、第１電極４３の上部に形成された
変形層４５、変形層４５の上部に形成された第２電極４
７、第２電極４７の一方の側の上部に形成されたスペー
シング（spacing）部材５１、及びスペーシング部材５
１に一方の側の下端が取り付けられ他方の側が第２電極
４７と平行に形成された支持層５３を有する。そして、
ミラー３５は支持層５３の上部に形成される。
【００１０】以下、前記薄膜型光路調節装置の製造方法
を説明する。図３乃至図６は図２に示す装置の製造工程
図である。図３乃至図６において、図２と同一の部材に
対しては同一の参照番号を使用する。
【００１１】図３を参照すると、まずＭ×Ｎ個のトラン
ジスタ（図示せず）が上部に形成された基板３７と前記
トランジスタの上部にそれぞれ形成されたＭ×Ｎ個の接
続端子３９を有するアクティブマトリックス３１を提供
する。次に、アクティブマトリックス３１の上部に犠牲
層５５を形成した後、犠牲層５５をパターニングしてア
クティブマトリックス３１のうちで上部にＭ×Ｎ個の接
続端子３９が形成された部分を露出させる。犠牲層５５
は後でエッチング、または化学薬品を使用して取り除く
ことができる。
【００１２】図４を参照すると、前記露出されたＭ×Ｎ
個の接続端子３９が形成された部分にスパッタリング
法、または化学気相蒸着法（ＣＶＤ法）を使用して支持
部４１を形成する。次いで、支持部４１の内部にホール
を作った後、前記ホールの内部を例えばタングステン
（Ｗ）などの伝導性物質で満たして伝導管４９を形成す
る。伝導管４９は後に形成される第１電極４３と接続端
子３９を電気的に接続する。
【００１３】内部に伝導管４９が形成された支持部４１
の上部及び犠牲層５５の上部に例えば金（Ａｕ）または
銀（Ａｇ）などの伝導性物質を使用して第１電極４３を
形成する。次いで、第１電極４３の上部に例えばＰＺＴ
(lead zirconate titanate)などの圧電物質を使用して
変形層４５を形成する。そして、前記変形層４５の上部
に例えば、金または銀などの伝導性物質を使用して第２
電極４７を形成する。アクティブマトリックス３１に内
蔵されたトランジスタは光源から入射される光による画
像信号を信号電流に変換する。前記信号電流は接続端子
３９及び伝導管４９を通して第１電極４３に印加する。
同時に第２電極４７にはアクティブマトリックス３１の
背面に形成された共通電極線（図示せず）から電流が印
加され、第２電極４７と第１電極４３との間に電場が発
生する。この電場により第２電極４７と第１電極３９と
の間に形成された変形層４５が傾斜する。
【００１４】図５を参照すると、第２電極４７の上部に
第２犠牲層５７を形成した後、第２犠牲層５７をパター
ニングして第２電極４７のうちで下部に支持部４１が形
成された部分と隣接した部分を露出させている。前記第
２電極４７の露出された部分にスペーシング部材５１を
形成した後、第２犠牲層５７及びスペーシング部材５１
の上部に支持層５３を形成する。そして、支持層５３の
上部に光源から入射される光を反射するミラー３５が形
成される。
【００１５】図６を参照すると、ミラー３５、支持層５
３、第２電極４７、変形層４５、及び第１電極４３を順
にパターニングしてＭ×Ｎ個の所定の形状を有する画素
を形成されている。次いで、第２犠牲層５７及び犠牲層
５５を取り除いた後、前記画素を洗浄及び乾燥して薄膜
型光路調節装置が完成する。
【００１６】しかしながら、前述した薄膜型光路調節装
置において、ミラーはアクチュエータの一方の側の上部
に形成された１つのスペーシング部材により支持される
ために、スペーシング部材により支持されていない部分
のミラーが反ったり下部に傾斜するという問題点があっ
た。これにより、ミラーにより反射される光の傾斜角度
はミラー毎に異なるようになり均一にならない。即ち、
ミラーにより反射される光の光効率が落ち、スクリーン
に投影される画像のコントラストが低下する。さらに、
アクチュエータの傾斜角度が小さいために、光源とスク
リーンとの間隔が狭くなるようなシステムの設計におい
ても問題点があった。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上のような
従来技術の問題点を解決するためのものであり、本発明
の目的は、アクチュエータと反射部材との間に複数個の
ポストを形成して反射部材の初期反りやチルトを防止す
ることにより、アクチュエータの上部に装着された反射
部材の傾斜角度を均一に維持すると同時に傾斜角度を大
きくすることができる薄膜型光路調整装置を提供するこ
とにある。
【００１８】本発明の他の目的は、アクチュエータと反
射部材との間に複数個のポストを形成して反射部材の初
期反りやチルトを防止することにより、アクチュエータ
の上部に装着された反射部材の傾斜角度を均一に維持す
ると同時に傾斜角度を大きくすることができる薄膜型光
路調節装置を製造方法を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明によれば、外部から第１信号を受けて前記第
１信号を伝達する電気的な配線及び連結端子が形成され
た基板と、前記基板のうち前記連結端子が形成された部
分の上部に形成された支持部材及び一方の側の下部が前
記支持部材に接触され、他方の側が前記基板に対して平
行に形成された第１支持層を有する支持要素と、前記第
１支持層の上部に形成されて第１信号が印加される下部
電極、該下部電極に対応して形成され第２信号が印加さ
れて電場を発生させる上部電極、及び前記下部電極と前
記上部電極との間に形成されて前記電場によって変形を
起こす変形層を有するアクチュエータと、前記アクチュ
エータの一方の側の上部に形成された第１ポストと、隣
接したアクチュエータのうち下部に支持部材が形成され
た部分に相互に対応する形態で形成された第２ポスト及
び第３ポストと、前記第１ポスト、前記第２ポスト及び
第３ポストにより支持され、光を反射する反射手段を有
し、前記第１信号及び前記第２信号に応じて駆動するこ
とを特徴とする薄膜型光路調節装置が提供される。
【００２０】前記アクチュエータは、Ｕ字形状を有す
る。また前記第１ポストは前記アクチュエータの一方の
側の中央に形成され、前記第２ポスト及び第３ポストは
隣接したＵ字形状のアクチュエータの両端に相互に対応
する形態で形成される。
【００２１】好ましく、前記第１ポスト、前記第２ポス
ト及び前記第３ポストはそれぞれ弾性を有する物質で形
成される。
【００２２】前記第１ポストは、前記アクチュエータの
一方の側の中央に形成され、前記第２ポスト及び第３ポ
ストは隣接したアクチュエータの両端に相互に対応する
形態で形成される。前記第１ポスト、前記第２ポスト及
び前記第３ポストはそれぞれ三角形の頂点部分に位置す
る。
【００２３】前記第１ポスト及び前記第２ポスト、また
は前記第１ポスト及び前記第３ポストは、前記反射部材
と共にＦ字形状の断面を有する。
【００２４】前記第１ポストと前記第２ポストとの間の
前記反射部材の長さ及び前記第１ポストと前記第３ポス
トとの間の前記反射部材の長さは、前記第１ポストと前
記反射部材の残り部分との間の前記反射部材の長さより
短いことが望ましい。
【００２５】前記反射部材は、前記第１ポスト、前記第
２ポスト及び前記第３ポストにその下部が支持された反
射部材の水平度を向上させる第２支持層、及び前記第２
支持層の上部に形成されて光を反射する反射層を更に有
する。
【００２６】また、前述した本発明の他の目的を達成す
べく、本発明によれば、外部から第１信号を受けて前記
第１信号を伝達する電気的な配線及び連結端子を有する
基板を準備する段階と、前記基板の上部に第１犠牲層を
形成し、前記第１犠牲層をパターニングして前記基板の
うち前記連結端子が形成された部分を露出させる段階
と、前記第１犠牲層の上部及び露出された基板の上部に
第１層を形成する段階と、前記第１層の上部に下部電極
層、第２層及び上部電極層を形成する段階と、前記上部
電極層をパターニングして第２信号が印加されて電場を
発生させる上部電極を形成する段階、前記第２層をパタ
ーニングして前記電場によって変形を起こす変形層を形
成する段階、及び前記下部電極層をパターニングして前
記第１信号が印加される下部電極を形成する段階を有す
るアクチュエータを形成する段階と、前記第１層をパタ
ーニングして前記下部電極の下部に第１支持層を形成す
る段階及び前記第１支持層の一方の側の下部に支持部材
を形成する段階を含む支持要素を形成する段階と、前記
アクチュエータ及び隣接したアクチュエータの上部に第
２犠牲層を形成し前記第２犠牲層をパターニングして前
記アクチュエータの一部及び隣接したアクチュエータの
一部を相互対応するように露出させる段階と、前記アク
チュエータの露出された部分に第１ポストを形成する段
階と、隣接したアクチュエータの露出された部分に第２
ポスト及び第３ポストを形成する段階と、前記第１ポス
ト、前記第２ポスト、前記第３ポスト及び前記第２犠牲
層の上部に光を反射する反射手段を形成する段階を有す
ることを特徴とし、前記第１信号及び前記第２信号によ
って駆動することを特徴とする薄膜型光路調節装置の製
造方法が提供される。
【００２７】前記第１ポストを形成する段階と前記第２
ポスト及び第３ポストを形成する段階は同時に遂行され
ることが望ましい。
【００２８】また、前記反射部材を形成する段階は、前
記第１ポスト、前記第２ポスト、前記第３ポスト及び前
記第２犠牲層の上部に第２支持層を形成する段階、前記
第２支持層の上部に反射層を形成する段階、前記反射層
及び前記第２支持層をパターニングする段階、及び前記
第２犠牲層を取り除く段階をさらに有する。
【００２９】前記第２支持層を形成する段階は窒化物ま
たは金属を使用してスパッタリング法またはＣＶＤ法を
利用して遂行される。前記第２犠牲層を取り除く段階
は、酸素プラズマ法を使用して遂行することが望まし
い。
【００３０】本発明により製造された前記薄膜型光路調
節装置において、外部から伝達された第１信号、すなわ
ち画像信号は基板に内蔵された電気的な配線、連結端子
及びバイアコンタクトを通して下部電極に印加される。
同時に、上部電極には外部から共通電極線を通して第２
信号、すなわちバイアス信号が印加される。従って、上
部電極と下部電極との間に電場が発生する。このような
電場により上部電極と下部電極との間に形成された変形
層が変形を起こす。
【００３１】変形層は前記電場に対して直交する方向に
収縮する。変形層を有するアクチュエータは所定の角度
で上向きに作動する。光源から入射される光を反射する
反射部材は第１ポスト、第２ポスト及び第３ポストによ
り支持されてアクチュエータの上部に形成されているた
めに、アクチュエータと同様の角度で傾斜させられる。
それにより、反射部材は光源から入射される光を所定の
角度で反射し、反射された光はスリットを通過してスク
リーンに投影されて画像を結ぶ。この際に、前記第１ポ
ストと前記第２ポストの間、または前記第１ポストと前
記第３ポストの間の前記反射部材の長さを調節して反射
部材の傾斜角度を調節できる。本発明では前記第１ポス
トと前記第２ポストの間、または前記第１ポストと前記
第３ポストとの間の前記反射部材の長さを短く形成する
ことにより、反射部材の傾斜角度を増加させることがで
きる。従って、反射部材により反射された光の光効率を
高めることができ、スクリーンに投影される画像のコン
トラストを向上させることができる。
【００３２】従って、前述した本発明による薄膜型光路
調節装置は、アクチュエータと反射部材との間に第１ポ
スト、第２ポスト及び第３ポストを形成することによ
り、反射部材が下向きに傾斜したりあるいは反ったりす
ることを最小化することができる。これにより、アクチ
ュエータの上部に装着された反射部材の傾斜角度を均一
に維持できる。また、反射部材の傾斜角度がさらに大き
くなり、光源とスクリーンとの間隔を広くすることが可
能となる。
【００３３】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明
の好適実施例をより詳細に説明する。
【００３４】図７は本発明による薄膜型光路調節装置の
平面図をであり、図８は図７に示す装置をＡ−Ａ´線で
切り取った断面図である。図７及び図８を参照すると、
本発明による薄膜型光路調節装置は基板１００、基板１
００の上部に形成された支持要素１３５、支持要素１３
５の上部に形成されたアクチュエータ２００、及びアク
チュエータ２００の上部に形成された反射部材１９５を
有する。
【００３５】電気的な配線（図示せず）が形成されてい
る前記基板１００は前記電気的な配線の上部に形成され
た連結端子１０５、基板１００及び連結端部１０５の上
部に積層された保護層１１０、及び保護層１１０の上部
に積層されたエッチング防止層１１５を有する。望まし
くは、前記電気的な配線はスイッチング動作を行うＭＯ
Ｓトランジスタを有する。
【００３６】支持要素１３５は、前記エッチング防止層
１１５のうち下部に前記連結端子１０５が形成された部
分の上部に形成された支持部材１２５及び一方の側の下
部が前記支持部材１２５に接触し、他方の側が前記基板
１００に対して平行に形成された第１支持層１３０を有
する。前記基板１００と前記第１支持層１３０の他方の
側との間にはエアギャップ１６５が設けられる。
【００３７】アクチュエータ２００は、前記第１支持層
１３０の上部に形成された下部電極１４０、下部電極１
４０の上部に積層された変形層１４５、変形層１４５の
上部に積層された上部電極１５０を有する。また、前記
アクチュエータ２００は前記変形層１４５の一方の側か
ら連結端部１０５まで垂直に形成されたバイアホール１
５５、及びバイアホール１５５の内部に形成されたバイ
アコンタクト１６０を有する。下部電極１４０はバイア
コンタクト１６０を通して連結端子１０５と電気的に接
続される。
【００３８】また、前記図７を参照すると、前記アクチ
ュエータ２００はＵ字形状を有する。すなわち、前記上
部電極１５０はＵ字形状を有し、前記変形層１４５は前
記上部電極１５０より広いＵ字形状を有する。また、前
記下部電極１４０は前記変形層１４５より広いＵ字形状
を有する。
【００３９】また、前記アクチュエータ２００の一方の
側の中央には第１ポスト１７５が形成され、隣接したＵ
字形状のアクチュエータの両端には相互に対応する形態
で第２ポスト１７７及び第３ポスト１８０が形成され
る。前記第１ポスト１７５、前記第２ポスト１７７及び
前記第３ポスト１８０は三角形の頂点部分に位置する。
【００４０】前記反射部材１９５の一方の側は前記第１
ポスト１７５、前記第２ポスト１７７、及び前記第３ポ
スト１８０により支持され、前記反射部材１９５の他方
の側と前記上部電極１５０との間にはエアギャップ１６
５が設けられて前記上部電極１５０と平行に形成され
る。
【００４１】前記反射部材１９５は前記第１ポスト１７
５、前記第２ポスト１７７及び前記第３ポスト１８０に
その下部が支持され反射部材１９５の水平度を向上させ
る第２支持層１８５及び前記第２支持層１８５の上部に
形成されて光を反射するための反射層１９０を有する。
従って、前記第１ポスト１７５及び前記第２ポスト１７
７、または前記第１ポスト１７５及び前記第３ポスト１
８０は、前記反射部材１９５と共にＦ字形状の断面を有
する。前記反射部材１９５は四角形の平板形状に形成さ
れるのが望ましい。
【００４２】以下、本発明による薄膜型光路調節装置の
製造方法を説明する。図９乃至図１４は図７及び図８に
示す薄膜型光路調節装置の製造工程図である。図９乃至
図１４において、同じ構成要素には図７及び図８と同じ
符号を付して示してある。
【００４３】図９を参照すると、外部から信号を受ける
電気的な配線（図示せず）による連結端子１０５が基板
１００の上に形成されている。望ましくは、前記電気的
な配線はＭＯＳトランジスタを有する。連結端部１０５
は、例えばタングステン（Ｗ）などの金属を使用して形
成する。連結端子１０５は前記電気的な配線と電気的に
接続される。前記電気的な配線及び連結端子１０５は外
部から第１信号を印加されて、該第１信号を前記下部電
極１４０に伝達する。前記第１信号は画像信号である。
【００４４】基板１００及び連結端子１０５の上部には
燐シリケートガラス（Phosphor-Silicate Glass：ＰＳ
Ｇ）を使用して保護層１１０が積層される。保護層１１
０は化学気相成長法（ＣＶＤ法）を利用して０．８〜
１．０μｍ程度の厚さを持つように形成する。保護層１
１０は、後に続く工程の中で前記電気的な配線及び連結
端子１０５が形成された基板１００が損傷されることを
防止する。
【００４５】保護層１１０の上部にはエッチング防止層
１１５が積層される。エッチング防止層１１５は窒化物
を使用して１０００〜２０００Å程度の厚さを有するよ
うに積層される。エッチング防止層１１５は低圧化学気
相蒸着法（ＬＰＣＶＤ法）を利用して形成する。エッチ
ング防止層１１５は後に続くエッチング工程中に保護層
１１０及び基板１００がエッチングされて損傷されるの
を防止する。
【００４６】エッチング防止層１１５の上部には燐シリ
ケートガラス（ＰＳＧ）、金属、または酸化物を使用し
て第１犠牲層１２０が積層される。第１犠牲層１２０は
大気圧化学気相蒸着法（Atmospheric Pressure CVD：Ａ
ＰＣＶＤ法）、スパッタリング法、またはエバポレーシ
ョン(evaporation)法を利用して２．０〜３．０μｍ程
度の厚さを有するように形成する。第１犠牲層１２０は
アクチュエータ２００を形成するための薄膜の積層を容
易にする機能を遂行する。この場合に、第１犠牲層１２
０は前記電気的な配線及び連結端子１０５が形成された
基板１００の上部を覆っているために、その表面の平坦
度が非常に不良である。従って、第１犠牲層１２０の表
面をスピンオングラスを使用する方法、またはＣＭＰ
（ChemicalMechanical Polishing）法を利用して平坦化
させる。次いで、第１犠牲層１２０のうちで下部に連結
端子１０５が形成された部分をパターニングして前記エ
ッチング防止層１１５の一部を露出させることにより、
アクチュエータ２００の支持部材１２５が形成される部
分を作る。
【００４７】図１０を参照すると、前記露出されたエッ
チング防止層１１５の上部及び第１犠牲層１２０の上部
に、硬質の物質、例えば窒化物または金属を使用して第
１層１２９を積層しているのが示されている。第１層１
２９は低圧化学気相蒸着法（ＬＰＣＶＤ法）を利用して
０．１〜１．０μｍ程度の厚さを有するように形成す
る。この際に、前記硬質の物質はアクチュエータ２００
の支持部材１２５が形成される部分を満たしながら前記
第１犠牲層１２０の上部に蒸着される。従って、アクチ
ュエータ２００の支持部材１２５は第１層１２９が形成
されると同時に第１層１２９と同一の物質を使用して形
成される。第１層１２９は後に所定の画素形状を有する
第１支持層１３０にパターニングされる。
【００４８】第１層１２９の上部には下部電極層１３９
が積層される。下部電極層１３９は電気伝導性を有する
金属である白金（Ｐｔ）、タンタル（Ｔａ）、または白
金−タンタル（Ｐｔ−Ｔａ）などを使用して形成する。
下部電極層１３９はスパッタリング法、またはＣＶＤ法
を利用して０．１〜１．０μｍ程度の厚さを有するよう
に形成する。続いて、それぞれの画素別に独立の第１信
号を印加するために、下部電極層１３９をイソカッティ
ング（Iso cutting）する。下部電極層１３９は後に下
部電極１４０か形成されるようにパターニングする。
【００４９】下部電極層１３９の上部には第２層１４４
が積層される。第２層１４４はＺｎＯ、ＰＺＴまたはＰ
ＬＺＴなどの圧電物質を使用して０．１〜１．０μｍ程
度の厚さを有するように形成する。また、第２層１４４
はＰＭＮなどの電歪物質を使用して形成できる。第２層
１４４はゾル−ゲル（Sol-gel）法、スパッタリング
法、またはＣＶＤ法を利用して形成した後、炉内熱処理
（FurnaceAnnealing）または急速熱処理法（Rapid Ther
mal Annealing：ＲＴＡ法）を利用して熱処理する。第
２層１４４は後に変形層１４５にパターニングされる。
【００５０】上部電極層１４９は第２層１４４の上部に
形成される。上部電極層１４９はアルミニウム（Ａ
ｌ）、白金、または銀（Ａｇ）などの電気伝導性を有す
る金属を使用して形成する。上部電極層１４９はスパッ
タリング法、またはＣＶＤ法を利用して０．１〜１．０
μｍ程度の厚さを有するように形成する。
【００５１】続いて、前記上部電極層１４９の上部にフ
ォトレジスト（図示せず）をコーティングした後、前記
フォトレジストをエッチングマスクとして利用して上部
電極層１４９をＵ字形状にパターニングして上部電極１
５０を形成する。次いで、前記フォトレジストを取り除
く。前記上部電極１５０には共通電極線（図示せず）か
ら第２信号が印加される。前記第２信号はバイアス信号
である。
【００５２】第２層１４４及び下部電極層１３９も上部
電極層１４９をパターニングする方法と同様の方法を使
用してパターニングされる。第２層１４４は変形層１４
５にパターニングされ、下部電極層１３９は下部電極１
４０にパターニングされる。変形層１４５は上部電極１
５０と同様の形状を有し、上部電極１５０より些か広い
面積を有する。また、下部電極１４０も同様に上部電極
１５０と同一の形状を有し変形層１４５に比べて同様か
あるいは少し広い面積を有する。
【００５３】図１１に示すように、前記変形層１４５の
一方の側、下部電極１４０、第１層１２９、エッチング
防止層１１５、及び保護層１１０を順にエッチングして
バイアホール１５５を形成される。従って、バイアホー
ル１５５は前記変形層１４５の一方の側から連結端子１
０５の上部まで形成される。次いで、前記バイアホール
１５５の内部にタングステン（Ｗ）、アルミニウム、ま
たはチタニウム（Ｔｉ）などの電気伝導性に優れた金属
をスパッタリング法を利用して蒸着させて、バイアコン
タクト１６０を形成した後にパターニングする。バイア
コンタクト１６０は前記連結端部１０５と下部電極１４
０を電気的に接続する。それにより、外部から印加され
た第１信号は電気的な配線、連結端子１０５及びバイア
コンタクト１６０を通して下部電極１４０に印加され
る。次いで、前記第１層１２９をパターニングして所定
の画素形状を有する第１支持層１３０を形成する。この
際に、前記第１支持層１３０は下部電極１４０に比べて
等しいかあるいは些か広い面積を有する。
【００５４】下部電極１４０には基板１００に形成され
た前記電気的な配線、連結端子１０５及び後に続く工程
で形成されるバイアコンタクト１６０を通して第１信
号、すなわち画像信号が印加される。それにより、下部
電極１４０に第１信号が印加され、同時に上部電極１５
０に第２信号が印加されると、上部電極１５０と下部電
極１４０との間に電場が発生する。この電場により変形
層１４５が変形を起こす。
【００５５】次いで、前記第１犠牲層１２０をフルオロ
化水素（ＨＦ）蒸気を使用して取り除く。第１犠牲層１
２０が取り除かれると、エアギャップ１６５が第１犠牲
層１２０の位置に形成され、アクチュエータ２００が完
成する。
【００５６】図１２に示すように、前述したように第１
犠牲層１２０を取り除いた後、前記アクチュエータ２０
０の上部に流動性を有するポリマーなどで構成されたフ
ォトレジストを使用してスピンコーティング方式で第２
犠牲層１７０を形成する。前記第２犠牲層１７０は反射
部材１９５の装着を容易にし、反射部材１９５の水平度
を向上させる機能を遂行する。前記第２犠牲層１７０は
反射部材が装着された後に取り除かれる。このように第
２犠牲層１７０を塗布すると、前記エアギャップ１６５
が完全に満たされながら上部電極１５０を基準に一定の
厚さを有する平坦な表面が形成される。
【００５７】図１３に示すように、前記第２犠牲層１７
０をパターニングして前記上部電極１５０の一部及び隣
接したアクチュエータの一部を相互対応するように露出
させる。次いで、前記露出された上部電極１５０の内部
を弾性を有する物質、例えばアルミニウム合金を使用し
て満たすことにより第１ポスト１７５を形成する。ま
た、前記隣接したアクチュエータの露出された部分を弾
性を有する物質、例えばアルミニウム合金を使用して満
たすことにより、第２ポスト１７７及び第３ポスト１８
０を形成する。望ましくは、前記第１ポスト１７５、第
２ポスト１７７及び第３ポスト１８０は同時に形成され
る。従って、前記第１ポスト１７５、第２ポスト１７７
及び第３ポスト１８０はそれぞれ三角形の頂点部分に位
置する。前記第１ポスト１７５、第２ポスト１７７及び
第３ポスト１８０は反射部材１９５を支持する機能を果
たす。
【００５８】次いで、第１ポスト１７５、第２ポスト１
７７、第３ポスト１８０及び前記第２犠牲層１７０の上
部に第２支持層１８５を形成する。前記第２支持層１８
５は硬質の物質、例えば窒化物または金属を使用して形
成する。第２支持層１８５はスパッタリング工程または
ＣＶＤ法を利用して０．１〜１．０μｍ程度の厚さを有
するように形成する。前記第２支持層１８５は反射部材
１９５が駆動する中に前記反射部材１９５を安定に支持
する機能を遂行する。次いで、前記第２支持層１８５の
上部に反射層１９０を形成する。反射層１９０は反射度
の良いアルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）または銀
（Ａｇ）を使用して形成する。反射層１９０はスパッタ
リング工程を利用して０．１〜１．０μｍ程度の厚さを
有するように形成する。
【００５９】次いで、前記反射層１９０及び第２支持層
１８５を同時にパターニングする。この際に、前記第１
ポスト１７５と前記第２ポスト１７７、または前記第１
ポスト１７５と前記第３ポスト１８０は前記反射部材１
９５と共にＦ字形状の断面を有する。
【００６０】図１４に示すように、前記のように反射部
材１９５を形成した後、画素間の分離のために前記第２
犠牲層１７０を取り除く。望ましくは、前記第２犠牲層
１７０は酸素プラズマを使用して取り除く。前記第２犠
牲層１７０をエッチングして取り除く時に、図７及び図
８に示すように、アクチュエータ２００と反射部材１９
５が完成される。前述したように、反射部材１９５が流
動性を持つ物質で構成された第２犠牲層１７０の上部に
形成されるために反射部材１９５の水平度が向上する。
【００６１】以下、本発明による薄膜型光路調節装置の
動作を説明する。
【００６２】本発明による薄膜型光路調節装置におい
て、下部電極１４０には電気的な配線、連結端子１０５
及びバイアコンタクト１６０を通して第１信号、すなわ
ち画像信号が印加される。同時に、上部電極１５０には
共通電極線を通して第２信号、すなわちバイアス信号が
印加される。従って、上部電極１５０と下部電極１４０
との間に電場が発生する。このような電場により上部電
極１５０と下部電極１４０との間に形成された変形層１
４５が変形を起こす。変形層１４５は発生した電場に対
して直交する方向に収縮する。これにより、変形層１４
５を有するアクチュエータ２００は所定の角度で上向き
に作動する。
【００６３】図１５に示すように、前記変形層１４５の
傾斜角度の大きさをθ１とするとき、前記変形層１４５
を有するアクチュエータ２００もθ１の大きさの傾斜角
度で上向きに傾斜する。反射部材１９５を支持する第１
ポスト１７５は前記アクチュエータ２００の上部電極１
５０の上部に形成されているために、光源から入射され
る光を反射する前記反射部材１９５はθ１大きさの傾斜
角度で傾斜する。この状態で前記反射部材１９５は隣接
したアクチュエータの上部に形成された第２ポスト１７
７及び第３ポスト１８０にも同時に支持されているため
に、前記反射部材１９５はθ２の傾斜角度で上向きに傾
斜する。第１ポスト１７５から上部電極１５０を覆う反
射部材１９５の一方の側端の間の反射部材１９５の長さ
をｌ１とし、第１ポスト１７５と第２ポスト１７７との
間、または第１ポスト１７５と第３ポスト１８０との間
の反射部材１９５の長さをｌ２とすると、ｌ１＝ｌ２の
際にはθ１＝θ２となる。また、ｌ１＞ｌ２の際にはθ
１＜θ２となる。そして、ｌ１＜ｌ２の際にはθ１＞θ
２となる。すなわち、前記反射部材１９５の第１ポスト
１７５と第２ポスト１７７の間、または第１ポスト１７
５と第３ポスト１８０との間の長さが短いほど反射部材
１９５の傾斜角度はさらに大きくなる。アクチュエータ
２００の上部に装着された反射部材１９５は反った上部
電極１５０によりその軸が動いて傾斜して光源から入射
される光を反射する。前記反射部材１９５により反射さ
れた光はスリットを通過してスクリーンに画像を結ぶ。
【００６４】このように、第２支持層１８５及び反射層
１９０からなる反射部材１９５が第１ポスト１７５、第
２ポスト１７７及び第３ポスト１８０により支持されて
いるために、反射部材１９５の反りや下向きに傾斜する
ことが防止される。従って、アクチュエータの上部に装
着された反射部材１９５の傾斜角度を均一に維持でき
る。
【００６５】さらに、反射部材１９５の第１ポスト１７
５と隣接したアクチュエータの上部に形成された第２ポ
スト１７７の間、または第１ポスト１７５と第３ポスト
１８０との間の距離を短くすることにより、ＡＭＡモジ
ュールの大きさが小型化されるとしても制限された面積
内でも反射部材１９５の傾斜角度を増加させることがで
きる。
【００６６】本発明では、前記のように第１ポスト１７
５を上部電極１５０の一方の側の中央に形成し、第２ポ
スト１７７及び第３ポスト１８０を隣接したアクチュエ
ータの両端に相互対応に形成して前記第１ポスト１７
５、第２ポスト１７７及び第３ポスト１８０をそれぞれ
三角形の頂点部分に位置させる。
【００６７】しかしながら、本発明はこれにより制限さ
れるものではなく、図１６に示すように、４つのポスト
を形成して反射部材を支持できる。すなわち、本発明に
よるアクチュエータ２００の一方の側の上部に相互対応
するように第１ポスト１７５及び第２ポスト１７７を形
成する。また、隣接したアクチュエータのうちで下部に
支持部材１２５が形成された部分に相互対応するように
第３ポスト１８０及び第４ポスト１８３を形成する。
【００６８】前記アクチュエータ２００はＵ字形状を有
する。この際に、前記第１ポスト１７５及び前記第２ポ
スト１７７は前記アクチュエータ２００の一方の側の上
部に相互に対応する形態で形成され、前記第３ポスト１
８０及び前記第４ポスト１８３は隣接したＵ字形状のア
クチュエータの両端に相互に対応する形態で形成され
る。従って、前記第１ポスト１７５、前記第２ポスト１
７７、前記第３ポスト１８０及び前記第４ポスト１８３
はそれぞれ四角形の頂点部分に位置する。また、前記第
１ポスト１７５、前記第２ポスト１７７、前記第３ポス
ト１８０及び前記第４ポスト１８３はそれぞれ弾性を有
する物質を使用して形成する。この際に、前記第１ポス
ト１７５と前記第３ポスト１８０との間の前記反射部材
１９５の長さが前記第１ポスト１７５から前記反射部材
１９５の残り部分の間の前記反射部材１９５の長さより
短いほど、前記反射部材１９５の傾斜角度が増加する。
また、前記第２ポスト１７７と前記第４ポスト１８３と
の間の前記反射部材１９５の長さが前記第２ポスト１７
７から前記反射部材１９５の残り部分の間の前記反射部
材１９５の長さより短いほど前記反射部材１９５の傾斜
角度が増加する。
【００６９】本発明を実施例によって詳細に説明した
が、本発明は実施例によって限定されず、本発明が属す
る技術分野における通常の知識を有する者であれば本発
明の思想と精神を逸脱することなく、本発明を修正また
は変更して実施できるであろう。
【００７０】
【発明の効果】以上で説明したように、本発明による薄
膜型光路調節装置は、反射部材の一方の側の下部が複数
個のポストを通して支持されるために、前記反射部材は
反りや下向きに傾斜することなく水平に形成される。従
って、反射部材の水平度を向上させて反射部材の傾斜角
度をアクチュエータ別に一定に維持できる。
【００７１】また、反射部材を支持する前記第１ポスト
と第２ポストとの間の反射部材の長さ、または前記第１
ポストと前記第３ポストとの間の反射部材の長さを短く
することにより、制限された面積内でも従来の光路調節
装置に比べて反射部材の傾斜角度を増加させることがで
きる。従って、反射部材により反射された光の光効率を
高めることができ、スクリーンに投影される画像のコン
トラストを向上させ得る。また、反射部材の傾斜角度が
さらに大きいために光源とスクリーンとの間隔を広める
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の光路調節装置のエンジンシステムの概略
図である。
【図２】本出願人の先行出願に記載された薄膜型光路調
節装置の断面図である。
【図３】図２に示す装置の製造工程図である。
【図４】図２に示す装置の製造工程図である。
【図５】図２に示す装置の製造工程図である。
【図６】図２に示す装置の製造工程図である。
【図７】本発明による薄膜型光路調節装置の平面図であ
る。
【図８】図７に示す装置をＡ−Ａ´線で切り取った断面
図である。
【図９】図７に示す装置の製造工程図である。
【図１０】図７に示す装置の製造工程図である。
【図１１】図７に示す装置の製造工程図である。
【図１２】図７に示す装置の製造工程図である。
【図１３】図７に示す装置の製造工程図である。
【図１４】図７に示す装置の製造工程図である。
【図１５】図７に示す装置の変形された状態を示す断面
図である。
【図１６】本発明のさらに他の実施例による薄膜型光路
調節装置の平面図である。
【符号の説明】
１００ 基板 １０５ 連結端子 １１０ 保護層 １１５ エッチング防止層 １２５ 支持部材 １３０ 第１支持層 １３５ 支持要素 １４０ 下部電極 １４５ 変形層 １５０ 上部電極 １５５ バイアホール １６０ バイアコンタクト １６５ エアギャップ １７５，１７７，１８０ 第１、第２及び第３ポスト １９５ 反射部材 ２００ アクチュエータ

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 外部から第１信号を受けて前記第１信
    号を伝達する電気的な配線及び連結端子が形成された基
    板と、 前記基板のうち前記連結端子が形成された部分の上部に
    形成された支持部材及び一方の側の下部が前記支持部材
    に接触され、他方の側が前記基板に対して平行に形成さ
    れた第１支持層を有する支持要素と、 前記第１支持層の上部に形成されて第１信号が印加され
    る下部電極、該下部電極に対応して形成され第２信号が
    印加されて電場を発生させる上部電極、及び前記下部電
    極と前記上部電極との間に形成されて前記電場によって
    変形を起こす変形層を有するアクチュエータと、 前記アクチュエータの一方の側の上部に形成された第１
    ポストと、 隣接したアクチュエータのうち下部に支持部材が形成さ
    れた部分に相互に対応する形態で形成された第２ポスト
    及び第３ポストと、 前記第１ポスト、前記第２ポスト及び第３ポストにより
    支持され、光を反射する反射手段を有し、前記第１信号
    及び前記第２信号に応じて駆動することを特徴とする薄
    膜型光路調節装置。
  2. 【請求項２】 前記アクチュエータがＵ字形状を有
    し、前記第１ポストは前記アクチュエータの一方の側の
    中央に形成され、前記第２ポスト及び第３ポストはＵ字
    形状の前記アクチュエータの他方の側の隣接した両端に
    相互に対応する形態で形成されることを特徴とする請求
    項１に記載の薄膜型光路調節装置。
  3. 【請求項３】 前記第１ポスト、前記第２ポスト及び
    前記第３ポストが、それぞれ弾性を有する物質を使用し
    て形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜型
    光路調節装置。
  4. 【請求項４】 前記第１ポストが、前記アクチュエー
    タの一方の側の中央に形成され、前記第２ポスト及び第
    ３ポストが隣接したアクチュエータの両端に相互に対応
    する形態で形成され、前記第１ポスト、前記第２ポスト
    及び前記第３ポストがそれぞれ三角形の頂点部分に位置
    することを特徴とする請求項１に記載の薄膜型光路調節
    装置。
  5. 【請求項５】 前記第１ポストと前記第２ポスト、ま
    たは前記第１ポストと前記第３ポストが、前記反射手段
    と共にＦ字形状の断面を有することを特徴とする請求項
    １に記載の薄膜型光路調節装置。
  6. 【請求項６】 前記第１ポストと前記第２ポストとの
    間の前記反射手段の長さ、及び前記第１ポストと前記第
    ３ポストとの間の前記反射手段の長さが、前記第１ポス
    トから前記反射手段の残り部分の間の前記反射手段の長
    さより短いことを特徴とする請求項１に記載の薄膜型光
    路調節装置。
  7. 【請求項７】 前記反射手段が、前記第１ポスト、前
    記第２ポスト及び前記第３ポストにその下部が支持され
    反射手段の水平度を向上させる第２支持層、及び前記第
    ２支持層の上部に形成されて光を反射する反射層を有す
    ることを特徴とする請求項１に記載の薄膜型光路調節装
    置。
  8. 【請求項８】 外部から第１信号を受けて前記第１信
    号を伝達する電気的な配線及び連結端子を有する基板を
    準備する段階と、 前記基板の上部に第１犠牲層を形成し、前記第１犠牲層
    をパターニングして前記基板のうち前記連結端子が形成
    された部分を露出させる段階と、 前記第１犠牲層の上部及び露出された基板の上部に第１
    層を形成する段階と、 前記第１層の上部に下部電極層、第２層及び上部電極層
    を形成する段階と、 前記上部電極層をパターニングして第２信号が印加され
    て電場を発生させる上部電極を形成する段階、前記第２
    層をパターニングして前記電場によって変形を起こす変
    形層を形成する段階、及び前記下部電極層をパターニン
    グして前記第１信号が印加される下部電極を形成する段
    階を有するアクチュエータを形成する段階と、 前記第１層をパターニングして前記下部電極の下部に第
    １支持層を形成する段階及び前記第１支持層の一方の側
    の下部に支持部材を形成する段階を含む支持要素を形成
    する段階と、 前記アクチュエータ及び隣接したアクチュエータの上部
    に第２犠牲層を形成し前記第２犠牲層をパターニングし
    て前記アクチュエータの一部及び隣接したアクチュエー
    タの一部を相互対応するように露出させる段階と、 前記アクチュエータの露出された部分に第１ポストを形
    成する段階と、 隣接したアクチュエータの露出された部分に第２ポスト
    及び第３ポストを形成する段階と、 前記第１ポスト、前記第２ポスト、前記第３ポスト及び
    前記第２犠牲層の上部に光を反射する反射手段を形成す
    る段階を有することを特徴とし、 前記第１信号及び前記第２信号によって駆動することを
    特徴とする薄膜型光路調節装置の製造方法。
  9. 【請求項９】 前記第１ポストを形成する段階と前記
    第２ポスト及び第３ポストを形成する段階とが、同時に
    遂行されることを特徴とする請求項８に記載の薄膜型光
    路調節装置の製造方法。
  10. 【請求項１０】 前記反射手段を形成する段階が、前
    記第１ポスト、前記第２ポスト、前記第３ポスト及び前
    記第２犠牲層の上部に第２支持層を形成する段階、前記
    第２支持層の上部に反射層を形成する段階、前記反射層
    及び前記第２支持層をパターニングする段階、及び前記
    第２犠牲層を取り除く段階をさらに有することを特徴と
    する請求項８に記載の薄膜型光路調節装置の製造方法。
  11. 【請求項１１】 前記第２支持層を形成する段階が、
    窒化物または金属を使用してスパッタリング法またはＣ
    ＶＤ法を利用して遂行されることを特徴とする請求項１
    ０に記載の薄膜型光路調節装置の製造方法。
  12. 【請求項１２】 前記第２犠牲層を取り除く段階が、
    酸素プラズマ法を使用して遂行されることを特徴とする
    請求項１０に記載の薄膜型光路調節装置の製造方法。
JP9265888A 1997-02-27 1997-09-30 薄膜型光路調節装置及びその製造方法 Pending JPH10239601A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970006131A KR19980069199A (ko) 1997-02-27 1997-02-27 광효율을 향상시킬 수 있는 박막형 광로 조절장치 및 그 제조 방법
KR1997-6131 1997-02-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10239601A true JPH10239601A (ja) 1998-09-11

Family

ID=19498116

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9265888A Pending JPH10239601A (ja) 1997-02-27 1997-09-30 薄膜型光路調節装置及びその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5886811A (ja)
JP (1) JPH10239601A (ja)
KR (1) KR19980069199A (ja)
CN (1) CN1170184C (ja)
GB (1) GB2322711B (ja)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6969635B2 (en) * 2000-12-07 2005-11-29 Reflectivity, Inc. Methods for depositing, releasing and packaging micro-electromechanical devices on wafer substrates
US6147790A (en) * 1998-06-02 2000-11-14 Texas Instruments Incorporated Spring-ring micromechanical device
US6962419B2 (en) 1998-09-24 2005-11-08 Reflectivity, Inc Micromirror elements, package for the micromirror elements, and projection system therefor
US6404942B1 (en) 1998-10-23 2002-06-11 Corning Incorporated Fluid-encapsulated MEMS optical switch
US6389189B1 (en) 1998-10-23 2002-05-14 Corning Incorporated Fluid-encapsulated MEMS optical switch
US6643426B1 (en) 1999-10-19 2003-11-04 Corning Incorporated Mechanically assisted release for MEMS optical switch
US6724130B1 (en) * 1999-10-22 2004-04-20 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Membrane position control
US7012731B2 (en) * 2000-08-30 2006-03-14 Reflectivity, Inc Packaged micromirror array for a projection display
US6647164B1 (en) 2000-10-31 2003-11-11 3M Innovative Properties Company Gimbaled micro-mirror positionable by thermal actuators
US6711318B2 (en) 2001-01-29 2004-03-23 3M Innovative Properties Company Optical switch based on rotating vertical micro-mirror
CN100504496C (zh) * 2001-01-30 2009-06-24 松下电器产业株式会社 可形变镜子和备有该可形变镜子的信息装置
WO2002086602A1 (en) * 2001-04-17 2002-10-31 M2N, Inc. Micro-actuator and micro-device using the same
US6614581B2 (en) * 2001-07-03 2003-09-02 Network Photonics, Inc. Methods and apparatus for providing a multi-stop micromirror
US6625342B2 (en) * 2001-07-03 2003-09-23 Network Photonics, Inc. Systems and methods for overcoming stiction using a lever
US20030025981A1 (en) * 2001-07-31 2003-02-06 Ball Semiconductor, Inc. Micromachined optical phase shift device
US7023606B2 (en) * 2001-08-03 2006-04-04 Reflectivity, Inc Micromirror array for projection TV
KR101073175B1 (ko) * 2002-01-29 2011-10-12 파나소닉 주식회사 가변형 미러, 및 당해 가변형 미러를 구비한 광 제어 장치
US6908201B2 (en) * 2002-06-28 2005-06-21 Silicon Light Machines Corporation Micro-support structures
US7436573B2 (en) * 2003-02-12 2008-10-14 Texas Instruments Incorporated Electrical connections in microelectromechanical devices
US6885494B2 (en) * 2003-02-12 2005-04-26 Reflectivity, Inc. High angle micro-mirrors and processes
US7042622B2 (en) * 2003-10-30 2006-05-09 Reflectivity, Inc Micromirror and post arrangements on substrates
TWI397193B (zh) * 2007-11-05 2013-05-21 Univ Nat Chunghsing Light emitting diode chip element with heat dissipation substrate and method for making the same
CN102645811B (zh) * 2011-11-23 2014-07-02 京东方科技集团股份有限公司 电子纸有源基板及其制造方法和电子纸显示屏

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4954789A (en) * 1989-09-28 1990-09-04 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator
US5126836A (en) * 1989-11-01 1992-06-30 Aura Systems, Inc. Actuated mirror optical intensity modulation
KR970003007B1 (ko) * 1993-05-21 1997-03-13 대우전자 주식회사 투사형 화상표시장치용 광로조절장치 및 그 구동방법
DE69423070T2 (de) * 1993-11-16 2000-07-13 Daewoo Electronics Co., Ltd. Anordnung von gesteuerten Dünnschichtspiegeln für ein optisches Projektionssystem und Verfahren zu deren Herstellung
KR950024553A (ko) * 1994-01-18 1995-08-21 배순훈 광로조절장치 및 제조방법
US5689380A (en) * 1994-02-23 1997-11-18 Aura Systems, Inc. Thin film actuated mirror array for providing double tilt angle
PE18996A1 (es) * 1994-03-09 1996-08-11 Daewoo Electronics Co Ltd Disposicion de espejos compuestos por peliculas delgadas accionadas para uso en un conjunto de proyeccion optica y metodo para fabricar la misma
KR0151457B1 (ko) * 1994-04-30 1998-12-15 배순훈 광로조절장치 및 그 제조방법
KR100212539B1 (ko) * 1996-06-29 1999-08-02 전주범 박막형 광로조절장치의 엑츄에이터 및 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
GB2322711B (en) 2001-02-21
KR19980069199A (ko) 1998-10-26
CN1191986A (zh) 1998-09-02
GB2322711A (en) 1998-09-02
GB9720347D0 (en) 1997-11-26
US5886811A (en) 1999-03-23
CN1170184C (zh) 2004-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10239601A (ja) 薄膜型光路調節装置及びその製造方法
KR19990004787A (ko) 박막형 광로 조절 장치
US5877517A (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system
JP3887424B2 (ja) 薄膜型光路調節装置及びその製造方法
KR100225585B1 (ko) 큰 구동각도를 가지는 박막형 광로 조절 장치
KR100233994B1 (ko) 광효율을 향상시킬 수 있는 박막형 광로 조절장치 및 이의 제조 방법
AU741296B2 (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system and method for manufacturing the same
KR100201826B1 (ko) 큰 구동 각도를 갖는 박막형 광로 조절장치 및 그 제조 방법
KR100251108B1 (ko) 매립된비어컨택을가지는박막형광로조절장치및그제조방법
KR100251114B1 (ko) 박막형 광로 조절 장치의 제조방법
KR100208688B1 (ko) 광효율을 향상시킬 수 있는 박막형 광로 조절장치
KR100248990B1 (ko) 박막형 광로 조절 장치 및 그 제조 방법
KR100251110B1 (ko) 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법
KR100244518B1 (ko) 박막형 광로 조절장치의 제조 방법
KR100248985B1 (ko) 박막형 광로 조절 장치 및 그 제조 방법
KR100209945B1 (ko) 큰 변위를 가지는 박막형 광로 조절장치
KR100209948B1 (ko) 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법
KR0154923B1 (ko) 광로 조절 장치의 제조방법
JP2002512701A (ja) 薄膜型光路調節装置及びその製造方法
KR19990004769A (ko) 액츄에이터의 초기 기울어짐을 장지할 수 있는 박막형 광로
KR20000004139A (ko) 2층 구조 박막형 광로 조절 장치
KR19980077658A (ko) 광전류를 차단할 수 있는 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법
KR19980054847A (ko) 박막형 광로 조절장치의 제조 방법
KR19980046146A (ko) 광효율을 향상시킬 수 있는 박막형 광로 조절장치의 제조 방법
KR19980046152A (ko) 광효율을 향상시킬 수 있는 박막형광로 조절장치의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040723

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070201

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070320

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070904