JPH10237055A - エポキシドの製造方法およびエポキシド製造用触媒 - Google Patents
エポキシドの製造方法およびエポキシド製造用触媒Info
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- JPH10237055A JPH10237055A JP9320153A JP32015397A JPH10237055A JP H10237055 A JPH10237055 A JP H10237055A JP 9320153 A JP9320153 A JP 9320153A JP 32015397 A JP32015397 A JP 32015397A JP H10237055 A JPH10237055 A JP H10237055A
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Abstract
のに工業的に有利な方法を提供する。 【解決手段】 エポキシドの製造方法は、アルカンを含
むガスAを脱水素反応させて、アルケンと水素とを含む
ガスBを生成する脱水素工程1、金を含む触媒の存在下
で、酸素を含むガスCを用いて上記ガスBをエポキシ化
反応させて、エポキシドと、未反応の水素および酸素と
を含むガスDを生成するエポキシ化工程2、上記ガスD
からエポキシドを分離する分離工程3、エポキシドを分
離したガスE中の水素と酸素とを反応させて酸素を除去
する酸素除去工程4、を含んでなっている。そして、上
記酸素を除去したガスFの少なくとも一部(ガスF1 )
を、上記脱水素工程1に戻してリサイクルする。脱水素
工程1で生成する水素は、エポキシ化工程2および酸素
除去工程4で消費されるので、反応系に蓄積されない。
従って、大量の水素を反応系から分離・除去する工程が
不要となる。
Description
して用い、アルケンを経由してエポキシド(アルキレン
オキシド)を連続的に製造するエポキシドの製造方法、
および、エポキシド製造用触媒に関するものである。
オキシドを工業的に製造する方法としては、クロロヒド
リン法、或いは、ハルコン法や過酢酸法等の直接酸化法
が実施されている。ところが、これら方法は、副生成物
(副産物)を生じると共に、製造工程が二段階となると
いう問題点を有している。そこで、従来より、アルケン
としてのプロピレンを接触酸素酸化(部分酸化)するこ
とにより、プロピレンオキシドを製造する方法が種々提
案されている。しかしながら、これら方法に用いられる
触媒は、プロピレンオキシドへの選択性が低い等の性能
面で問題点を有している。従って、該方法は、工業化に
は至っていない。
は、金と酸化チタン(チタニア)とを含む気相酸化反応
用触媒を用いて、水素の存在下で、アルケンを酸素酸化
することにより、対応するエポキシドを得る方法が開示
されている。該方法は、エポキシドへの選択性が90%
程度と高いが、アルカンよりも高価なアルケンを原料と
して用いている。
よび米国特許第5,008,412号には、アルカンと
してのプロパンを原料として用い、脱水素反応を行って
プロピレンを生成した後、部分酸化を行ってプロピレン
オキシドを連続的に製造する方法が開示されている。上
記の方法は、プロピレンよりも安価なプロパンを原料と
して用いることができる。そして、該方法では、未反応
のプロパンやプロピレンをリサイクル(再利用)してい
る。尚、アルカンを脱水素反応させてアルケンを生成す
る反応は、例えば、特開昭61−189256号公報、
特開平2−1449号公報等にも開示されているが、こ
れら公報においては、得られたアルケンに対して部分酸
化(アンモ酸化)を行ってニトリル類を製造している。
米国特許に開示されている製造方法では、脱水素反応に
よってプロピレンと共に生成する水素は消費されないの
で、上記リサイクルを行うと、反応系に水素が蓄積され
る。従って、該方法においては、PSA(pressure swin
g adsorption) 法と称されるガス分離技術を用いて、水
素を反応系から分離・除去することを特徴としている。
つまり、上記の方法は、未反応のプロパン等をリサイク
ルする工程が煩雑であり、工業的に有利な製造方法とは
言い難い。
かつ、未反応のプロパン等をリサイクルする工程が簡略
化された製造方法、即ち、アルカンからエポキシドを連
続的に製造するのに工業的に有利な方法が嘱望されてい
る。本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたもので
あり、その目的は、アルカンからエポキシドを連続的に
製造するのに工業的に有利なエポキシドの製造方法、お
よび、エポキシド製造用触媒を提供することにある。
ンからエポキシドを連続的に製造するのに工業的に有利
な方法について鋭意検討した。その結果、アルカンを含
むガスAを脱水素反応させて、アルケン、水素並びに未
反応のアルカンを含むガスBを生成する脱水素工程と、
触媒の存在下で、酸素と上記ガスBとを反応させてエポ
キシドを生成するエポキシ化工程とを経て、アルカンか
らエポキシドを製造する方法において、金を含む触媒を
上記エポキシ化工程に用いることにより、簡単かつ効率
的にアルケンをエポキシ化反応することができ、これに
より、アルカンからエポキシドへの選択性を向上させる
ことができることを見い出した。そして、上記エポキシ
化工程で生成したガスDからエポキシドを分離した後に
得られるガスEから、該ガスE中の水素と酸素とを反応
させて酸素を除去することにより得られる、未反応のア
ルカンを含むガスFの少なくとも一部を、上記脱水素工
程に戻すことにより、大量の水素を反応系から分離・除
去しなくとも、アルカンからエポキシドを連続的にかつ
工業的に有利に製造することができることを見い出し
た。即ち、脱水素工程で生成する水素をエポキシ化工程
で消費すると共に、未反応の水素を用いて酸素を除去す
ることにより、大量の水素を反応系から分離・除去する
工程が不要となるので、未反応のアルカン等をリサイク
ルする工程が簡略化され、工業的に有利となることを見
い出して、本発明を完成させるに至った。
製造方法は、上記の課題を解決するために、アルカンを
含むガスAを脱水素反応させて、アルケン、水素並びに
未反応のアルカンを含むガスBを生成する脱水素工程
と、触媒の存在下で、酸素と上記ガスBとを反応させて
エポキシドを生成するエポキシ化工程とを経て、アルカ
ンからエポキシドを製造する方法において、金を含む触
媒を上記エポキシ化工程に用いることを特徴としてい
る。
製造方法は、上記の課題を解決するために、請求項1記
載のエポキシドの製造方法において、上記エポキシ化工
程で生成したガスDからエポキシドを分離した後に得ら
れるガスEから、該ガスE中の水素と酸素とを反応させ
て酸素を除去することにより得られる、未反応のアルカ
ンを含むガスFの少なくとも一部を、上記脱水素工程に
戻すことを特徴としている。
法は、上記の課題を解決するために、請求項1または2
記載のエポキシドの製造方法において、上記脱水素反応
を、温度が400℃〜700℃、かつ、圧力が0.1ba
r.〜5bar.の条件下で行うことを特徴としている。
法は、上記の課題を解決するために、請求項1、2また
は3記載のエポキシドの製造方法において、上記エポキ
シ化反応を、水素濃度が2容量%〜40容量%、酸素濃
度が2容量%〜40容量%、アルケン濃度が2容量%〜
40容量%、温度が100℃〜350℃、かつ、圧力が
0.1bar.〜30bar.の条件下で行うことを特徴として
いる。
製造用触媒は、上記の課題を解決するために、請求項1
ないし4の何れか1項に記載のエポキシドの製造方法に
おけるエポキシ化工程に用いられるエポキシド製造用触
媒であって、該触媒が金を含んでいることを特徴として
いる。
ポキシド製造用触媒)は、金を含んでいるので、水素の
存在下でのアルケンのエポキシ化反応に対する活性およ
び選択性が優れている。従って、アルカンからエポキシ
ドへの選択性を向上させることができる。また、該触媒
は、エポキシ化反応を行うときに、脱水素工程で生成す
る水素を消費するので、該水素を有効に利用することが
できる。さらに、未反応の水素は、酸素を除去するのに
消費される。つまり、脱水素工程で生成する水素は、エ
ポキシ化工程、および酸素を除去する工程で消費され
る。従って、ガスFの少なくとも一部を、例えば該ガス
F中の水素を除去すること無く上記脱水素工程に戻すリ
サイクルを行っても、反応系に水素は蓄積されない。そ
れゆえ、上記の方法によれば、大量の水素を反応系から
分離・除去する工程が不要となるので、未反応のアルカ
ン等をリサイクルする工程が簡略化され、経済的かつ工
業的に有利となる。これにより、アルカンからエポキシ
ドを連続的に、かつ、比較的高収率で製造することがで
きる。
方法は、アルカンを含むガスAを脱水素反応させて、ア
ルケン、水素並びに未反応のアルカンを含むガスBを生
成する脱水素工程と、触媒の存在下で、酸素と上記ガス
Bとを反応させてエポキシドを生成するエポキシ化工程
とを経て、アルカンからエポキシドを製造する方法にお
いて、金を含む触媒を上記エポキシ化工程に用いる方法
である。また、上記エポキシ化工程で生成したガスDか
らエポキシドを分離した後に得られるガスEから、該ガ
スE中の水素と酸素とを反応させて酸素を除去すること
により得られる、未反応のアルカンを含むガスFの少な
くとも一部を、上記脱水素工程に戻す方法である。
図4に基づいて説明すれば、以下の通りである。
にかかるエポキシドの製造方法は、アルカンを含むガ
スAを脱水素反応させて、アルケンと水素とを含むガス
Bを生成する脱水素工程1、金を含む触媒(エポキシ
ド製造用触媒)の存在下で、酸素を含むガスCを用いて
上記ガスBをエポキシ化反応させて、エポキシドと、未
反応の水素および酸素とを含むガスDを生成するエポキ
シ化工程2、上記ガスDからエポキシドを分離する分
離工程3、エポキシドを分離したガスE中の水素と酸
素とを反応させて酸素(つまり、酸素ガス)を除去する
酸素除去工程4、を含んでなっており、上記酸素を除去
したガスFの少なくとも一部(図1中、F1 で示す)
を、上記脱水素工程1に戻してリサイクル(再利用)す
る方法である。つまり、アルカンは、脱水素反応とエポ
キシ化反応との二段階の反応でエポキシドに変換され
る。
れるアルカンは、特に限定されるものではないが、炭素
数が2以上、10以下の化合物がより好ましい。本発明
においてアルカンとは、鎖状部分が飽和結合のみで形成
され、不飽和結合を有しない化合物を示すこととする。
従って、アルカンは、芳香環を置換基として有していて
もよい。即ち、芳香環を形成する不飽和結合以外に不飽
和結合を有しない芳香族炭化水素は、本発明におけるア
ルカンに含まれることとする。
ば、エタン、プロパン、n−ブタン、イソブタン、n−
ヘキサン、n−オクタン、シクロヘキサン、エチルベン
ゼン、イソプロピルベンゼン等が挙げられる。本発明に
かかる製造方法を採用することにより、これらアルカン
から、それぞれ対応するエポキシド、即ち、上記例示の
順に、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、エポキ
シブタン類、1,2−エポキシ−2−メチルプロパン、
エポキシヘキサン類、エポキシオクタン類、シクロヘキ
センオキシド、スチレンオキシド、1,2−エポキシ−
2−フェニルプロパン、等が得られる。
定されるものではなく、アルカンを10容量%〜100
容量%の範囲内、より好ましくは20容量%〜95容量
%の範囲内で含んでいればよい。ガスAに含まれていて
もよい、アルカン以外のガスとしては、具体的には、例
えば、アルケンや水素、或いは、窒素やヘリウム、アル
ゴン、二酸化炭素等の不活性ガス等が挙げられるが、特
に限定されるものではない。アルカンを含むガスAとし
ては、具体的には、例えば、石油改質留分、各種反応や
操作によって生じる排ガス並びに未反応ガス等が挙げら
れる。
含むガスAの脱水素反応に用いられる触媒(以下、脱水
素触媒と記す)としては、具体的には、クロム、鉄、モ
リブデン等の元素からなる金属酸化物やそれらの複合酸
化物をアルミナ等の担体に担持した触媒、白金等の貴金
属をアルミナ等の担体に担持した触媒が好適であるが、
特に限定されるものではなく、脱水素反応に一般的に用
いられている触媒を採用することができる。ガスAを該
脱水素触媒に接触させることにより、脱水素反応が進行
し、ガスA中のアルカンは、その一部がアルケンと水素
とに変換される。また、副生成物として、原料として用
いたアルカンよりも炭素数の少ないアルカンやアルケン
(例えば、メタン等)が副生される。つまり、ガスAを
脱水素反応させることにより、アルケン、水素、副生成
物、および、未反応のアルカンを含むガスBが得られ
る。ガスBは、エポキシ化工程2に連続的に供給され
る。
応の反応条件は、ガスAの組成並びに供給量、脱水素触
媒の種類並びに使用量、ガスAと脱水素触媒との組み合
わせ等に応じて設定すればよく、特に限定されるもので
はないが、脱水素反応が平衡反応であること、並びに該
脱水素反応の操作面から、反応温度は400℃〜700
℃の範囲内が好ましく、600℃付近がより好ましい。
また、反応圧力は0.1bar.〜5bar.の範囲内がより好
ましい。尚、脱水素反応の形態は、固定床式、流動床
式、移動床式の何れの方式であってもよい。
のエポキシ化反応に用いられる触媒(エポキシド製造用
触媒、以下、エポキシ化触媒と記す)は、金を含んでい
ればよく、特に限定されるものではないが、平均粒径が
10nm以下の金超微粒子と、チタンを含む金属酸化物
(例えばチタニア)とを含む触媒がより好ましい。上記
金超微粒子および金属酸化物を含むエポキシ化触媒は、
例えば、金属酸化物に金超微粒子を担持させることによ
り調製することができる。該エポキシ化触媒は、活性お
よび選択性がより一層優れている。金の平均粒径が10
nmを越える場合には、10nm以下である場合と比較
して、エポキシ化触媒の活性が低くなるおそれがある。
また、金の粒径分布は、特に限定されるものではない
が、比較的狭い方がより好ましい。
超微粒子と金属酸化物とを含んでいるので、水素の存在
下でのアルケンのエポキシ化反応に対する活性および選
択性が優れている。該エポキシ化触媒においては、金超
微粒子と金属酸化物との相乗効果により、即ち、これら
成分が特異的かつ相乗的に効果を発揮することにより、
簡単かつ効率的にアルケンをエポキシ化反応することが
できる。また、エポキシ化触媒は、選択性に優れている
ので、従来よりエポキシ化反応に用いられている一般的
な触媒と比較して、副生成物の生成を抑制することがで
きる。従って、エポキシ化触媒は、アルカンからエポキ
シドへの選択性を向上させることができる。
スCは、酸素を含んでいればよく、特に限定されるもの
ではない。酸素の供給量は、ガスB中のアルケンのエポ
キシ化反応に必要とされる量以上であればよい。酸素を
大過剰に供給してもエポキシ化触媒の活性や選択性が向
上することは殆どなく、しかも、酸素除去工程4での操
作が煩雑となるので、好ましくない。
かかるエポキシ化反応等の各種反応に対して不活性なガ
ス、例えば窒素やヘリウム、アルゴン、二酸化炭素等の
不活性ガスを含んでいてもよい。つまり、酸素は、必要
に応じて、不活性ガスによって希釈されていてもよい。
また、ガスCとして空気を用いることもできる。
触媒に接触させることにより、即ち、ガスBとガスCと
の混合ガスをエポキシ化触媒に接触させることにより、
エポキシ化反応が進行し、ガスB中のアルケンは、その
一部がエポキシドに変換される。エポキシ化触媒は、エ
ポキシ化反応を行うときに、脱水素工程1で生成する水
素を消費するので、該水素を有効に利用することができ
る。また、副生成物として、アルデヒドやケトン、或い
は、水(水蒸気)や二酸化炭素等が副生される。つま
り、ガスBをエポキシ化反応させることにより、エポキ
シド、副生成物、および、未反応のアルカンやアルケ
ン,水素,酸素を含むガスDが得られる。ガスDは、分
離工程3に連続的に供給される。尚、水素および酸素
は、上記エポキシ化触媒を用いたエポキシ化反応によっ
て、その殆どが消費されるが、残りは、未反応物として
ガスDに含まれることとなる。また、ガスCが不活性ガ
スを含んでいる場合には、ガスDは、該不活性ガスを含
んでいる。
の組成並びに供給量、エポキシ化触媒の種類並びに使用
量、ガスB・Cとエポキシ化触媒との組み合わせ等に応
じて設定すればよく、特に限定されるものではないが、
少なくともアルカン、アルケン並びにエポキシドがガス
状で存在することができるように、反応温度は100℃
〜350℃の範囲内が好ましく、120℃〜280℃の
範囲内がより好ましい。また、反応圧力は0.1bar.〜
30bar.の範囲内がより好ましい。さらに、ガスBとガ
スCとの混合ガスにおける水素濃度は2容量%〜40容
量%の範囲内がより好ましく、酸素濃度は2容量%〜4
0容量%の範囲内がより好ましく、アルケン濃度は2容
量%〜40容量%の範囲内がより好ましい。尚、上記水
素濃度、酸素濃度およびアルケン濃度の合計は、100
容量%を越えることはない。また、エポキシ化反応の形
態は、固定床式、流動床式、移動床式の何れの方式であ
ってもよい。
ドを分離する方法としては、具体的には、例えば、有機
溶媒や水等と、上記ガスDとを、例えば向流等による混
合操作を採用して効率的に気液接触させることにより、
該有機溶媒や水等にエポキシドを溶解(吸収)させる方
法が好適であるが、特に限定されるものではない。上記
の有機溶媒は、エポキシドに対して低活性であり、該エ
ポキシドを溶解し、かつ、未反応のアルカンやアルケン
等に対して低溶解性を示す化合物であればよく、特に限
定されるものではない。また、水は、例えばアルキレン
ジオール等が溶解してなる水溶液であってもよい。さら
に、エポキシドを分離する際の操作条件は、ガスDの組
成並びに供給量、有機溶媒や水等(以下、単に溶媒と記
す)の種類並びに使用量、ガスDと溶媒との組み合わせ
等に応じて設定すればよく、特に限定されるものではな
いが、少なくともアルカン並びにアルケンがガス状で存
在することができる条件が好ましい。尚、上記分離工程
3においては、副生成物であるアルデヒドやケトン、お
よび、水の一部も反応系から分離される。
供給される。該精製工程5においては、例えば、蒸留等
の操作を行うことにより、溶媒G中のエポキシドを分離
・回収する。そして、回収したエポキシドは、必要に応
じて、蒸留(精留)等の操作を行うことにより、精製す
る。これにより、いわゆる高純度のエポキシドが得られ
る。尚、上記蒸留の方式は、特に限定されるものではな
く、連続式であってもよく、或いは、回分式であっても
よい。また、エポキシドが分離された溶媒は、必要に応
じて、分離工程3に戻してリサイクルすることができ
る。
酸素除去工程4に連続的に供給される。つまり、副生成
物、および、未反応のアルカンやアルケン,水素,酸素
を含むガスEから、酸素除去工程4において、酸素(つ
まり、酸素ガス)を除去する。前記脱水素工程1におい
ては、酸素が存在すると、ガスAの脱水素反応の効率が
著しく低下する。従って、該酸素除去工程4において、
ガスE中の水素と酸素とを反応させて酸素を除去する。
そのために、ガスCおよび/またはガスBには、必要に
応じて、酸素除去工程4において酸素を除去するのに必
要な量の水素をさらに添加してもよい。尚、酸素を除去
するのに必要な量の水素が該ガスEに含まれていない場
合には、例えばメタン等の副生成物或いはアルケンと酸
素とを反応させて残りの酸素を除去することもできる。
また、ガスDが不活性ガスを含んでいる場合には、ガス
Eは、該不活性ガスを含んでいる。
用いられる触媒(以下、酸化触媒と記す)としては、具
体的には、例えば、白金やパラジウム等のVIII族の貴金
属元素を含む触媒,平均粒径が10nm以下の金超微粒
子を含む触媒,等が好適であるが、特に限定されるもの
ではない。ガスEを該酸化触媒に接触させることによ
り、酸化反応、つまり、水素と酸素との反応が進行して
水(水蒸気)が生成する。若しくは、メタン等の副生成
物或いはアルケンと酸素との反応(完全酸化反応)が進
行して水(水蒸気)並びに二酸化炭素が生成する。つま
り、ガスEから酸素が除去される。
反応によって完全に消費されることが望ましい。ところ
が、酸素を完全に消費するためには、操作上において、
理論量よりも過剰の水素を使用する方が有利であること
が多い。従って、実際には、ガスF中に水素が少量残存
することが起こり得る。この場合には、ガスFの一部分
或いは大部分が脱水素工程1に戻されてリサイクルされ
ているので、該ガスF中の水素が脱水素工程1に入るこ
とになる。しかしながら、脱水素反応は平衡反応である
ため、ガスFに含まれる少量の上記水素が、脱水素工程
1において致命的な問題を招来するおそれは無い。
並びに供給量、酸化触媒の種類並びに使用量、ガスEと
酸化触媒との組み合わせ等に応じて設定すればよく、特
に限定されるものではないが、少なくともアルカン並び
にアルケンがガス状で存在することができる条件が好ま
しい。除去反応の形態は、固定床式、流動床式、移動床
式の何れの方式であってもよい。これにより、未反応の
アルカンやアルケン、および、水や二酸化炭素等の副生
成物を含むガスFが得られる。尚、ガスEが不活性ガス
を含んでいる場合には、ガスFは、該不活性ガスを含ん
でいる。
水素工程1に連続的に戻す。つまり、ガスFを脱水素工
程1に連続的に戻すことにより、該ガスFに含まれてい
る未反応のアルカンやアルケンをリサイクルする。従っ
て、前記のガスAは、アルカンと、ガスFの少なくとも
一部とを含む混合ガスである。
てもよいが、副生成物や不活性ガス等が反応系に蓄積し
ないように、その一部(図1中、F2 で示す)を反応系
から抜き出すこと、つまり、パージすることがより好ま
しい。尚、ガスF2 のパージは、連続的に行ってもよ
く、または、間欠的に行ってもよい。
ガスF2 の量(以下、パージ量と記す)は、該ガスFの
組成等に応じて設定すればよく、特に限定されるもので
はないが、副生成物や不活性ガス等が反応系に蓄積せ
ず、かつ、これら副生成物や不活性ガス等と共にパージ
されるアルカンやアルケンの量が出来るだけ少なくなる
ように設定することが望ましい。該パージ量としては、
全量の0.1容量%〜10容量%の範囲内がより好まし
く、1容量%〜5容量%の範囲内がさらに好ましい。つ
まり、ガスFの全量の90容量%〜99.9容量%を脱
水素工程1に戻すことがより好ましく、95容量%〜9
9容量%を脱水素工程1に戻すことがさらに好ましい。
パージ量が0.1容量%よりも少ない場合には、副生成
物や不活性ガス等が反応系に蓄積するおそれがある。ま
た、パージ量が10容量%よりも多い場合には、副生成
物や不活性ガス等と共にパージされるアルカンやアルケ
ンの量が多くなり、経済的に不利となる。
素を除去するのにメタン等の副生成物或いはアルケンが
水素と共に用いられた場合には、酸素の除去に水素のみ
が用いられた場合と比較して、ガスFに二酸化炭素が多
く含まれることになる。この場合には、ガスFから二酸
化炭素を除去することが、より一層好ましい。
まれている場合には、図2に示すように、酸素除去工程
4と脱水素工程1との間に、ガスFから二酸化炭素を除
去する二酸化炭素除去工程6を行うことが、より一層好
ましい。この場合には、ガスFを二酸化炭素除去工程6
に連続的に供給する。該二酸化炭素除去工程6におい
て、ガスFから二酸化炭素を除去する方法としては、具
体的には、例えば、水酸化カリウム等のアルカリ金属水
酸化物の水溶液と、上記ガスFとを、例えば向流等によ
る混合操作を採用して効率的に気液接触させることによ
り、該アルカリ金属水酸化物と二酸化炭素とを反応させ
てアルカリ金属炭酸塩を形成させる方法が好適である
が、特に限定されるものではない。
スFの組成並びに供給量、アルカリ金属水酸化物の種
類、水溶液の濃度並びに使用量、ガスFとアルカリ金属
水酸化物との組み合わせ等に応じて設定すればよく、特
に限定されるものではないが、少なくともアルカン並び
にアルケンがガス状で存在することができる条件が好ま
しい。尚、上記二酸化炭素除去工程6においては、ガス
Fから二酸化炭素を完全に除去してもよく、或いは、ガ
スF中の二酸化炭素が所定濃度以下となるように該二酸
化炭素を除去してもよい。また、二酸化炭素除去工程6
においては、副生成物である水の一部も反応系から除去
される。
が除去されたガスJは、新しいアルカンと共に、前記脱
水素工程1に連続的に戻す。つまり、ガスJを脱水素工
程1に連続的に戻すことにより、該ガスJに含まれてい
る未反応のアルカンやアルケンをリサイクルする。従っ
て、二酸化炭素除去工程6を行う場合には、前記のガス
Aは、アルカンと、ガスJの少なくとも一部とを含む混
合ガスである。
てもよいが、副生成物や不活性ガス等が反応系に蓄積し
ないように、その一部(図2中、J2 で示す)を反応系
からパージし、残り(同図中、J1 で示す)を脱水素工
程1に戻すことがより好ましい。尚、ガスJ2 のパージ
は、連続的に行ってもよく、または、間欠的に行っても
よい。
応じて設定すればよく、特に限定されるものではない
が、副生成物や不活性ガス等が反応系に蓄積せず、か
つ、これら副生成物や不活性ガス等と共にパージされる
アルカンやアルケンの量が出来るだけ少なくなるように
設定することが望ましい。該パージ量としては、全量の
0.1容量%〜10容量%の範囲内がより好ましく、1
容量%〜5容量%の範囲内がさらに好ましい。つまり、
ガスJの全量の90容量%〜99.9容量%を脱水素工
程1に戻すことがより好ましく、95容量%〜99容量
%を脱水素工程1に戻すことがさらに好ましい。パージ
量が0.1容量%よりも少ない場合には、副生成物や不
活性ガス等が反応系に蓄積するおそれがある。また、パ
ージ量が10容量%よりも多い場合には、副生成物や不
活性ガス等と共にパージされるアルカンやアルケンの量
が多くなり、経済的に不利となる。
る)水溶液は、ガスJと分離した後、例えば加熱する。
これにより、アルカリ金属炭酸塩は、アルカリ金属水酸
化物と二酸化炭素とに分解される。つまり、アルカリ金
属炭酸塩を含む水溶液を加熱することにより、二酸化炭
素を分離・回収する。尚、二酸化炭素を分離・回収する
方式は、特に限定されるものではなく、連続式であって
もよく、或いは、回分式であってもよい。また、二酸化
炭素が分離された水溶液は、二酸化炭素除去工程6に戻
してリサイクルすることができる。
の製造方法は、以上のように、アルカンを含むガスAを
脱水素反応させて、アルケンと水素とを含むガスBを生
成する脱水素工程1、エポキシ化触媒の存在下で、酸素
を含むガスCを用いて上記ガスBをエポキシ化反応させ
て、エポキシドと、未反応の水素および酸素とを含むガ
スDを生成するエポキシ化工程2、上記ガスDからエポ
キシドを分離する分離工程3、および、エポキシドを分
離したガスE中の水素と酸素とを反応させて酸素を除去
する酸素除去工程4、を含み、上記酸素を除去したガス
Fの少なくとも一部を、上記脱水素工程に戻す方法であ
る。
で、活性および選択性が優れている。従って、アルカン
からエポキシドへの選択性を向上させることができる。
また、エポキシ化触媒は、エポキシ化反応を行うとき
に、脱水素工程1で生成する水素を消費するので、該水
素を有効に利用することができる。さらに、未反応の水
素は、酸素除去工程4において酸素を除去するのに消費
される。つまり、脱水素工程1で生成する水素は、エポ
キシ化工程2および酸素除去工程4で消費される。従っ
て、ガスFの少なくとも一部(ガスF1 )を、脱水素工
程1に連続的に戻すリサイクルを行っても、反応系に水
素は蓄積されない。それゆえ、上記の方法によれば、大
量の水素を反応系から分離・除去する工程が不要となる
ので、未反応のアルカン等をリサイクルする工程が簡略
化され、経済的かつ工業的に有利となる。これにより、
アルカンからエポキシドを連続的に、かつ、比較的高収
率で製造することができる。
の一形態にかかる製造方法を実施するのに好適な製造装
置の一例について、図3に基づいて以下に説明する。
尚、以下の説明においては、アルカンがプロパンである
場合、つまり、原料としてプロパンを用い、エポキシド
としてのプロピレンオキシドを連続的に製造する場合を
例に挙げて説明する。
程1を行う脱水素反応器11、エポキシ化工程2を行う
エポキシ化反応器12、分離工程3を行うプロピレンオ
キシド吸収塔13、酸素除去工程4を行う酸素除去器1
4、および、精製工程5を行うプロピレンオキシド蒸留
塔15を備えている。
応器であり、ガスAと脱水素触媒とを接触させる。脱水
素触媒は、脱水素反応器11内部に充填されている。脱
水素反応器11の上部には、ガスA供給管21が接続さ
れている。ガスA供給管21には、新しいプロパンを脱
水素反応器11に連続的に供給するプロパン供給管22
と、ガスF1 を脱水素反応器11に連続的に戻すリサイ
クル管30aとが接続されている。また、ガスA供給管
21における脱水素反応器11近傍には、ガスAを加熱
する熱交換器(図示せず)が設けられている。脱水素反
応器11の下部には、ガスBをエポキシ化反応器12に
連続的に供給するガスB供給管23が接続されている。
また、ガスB供給管23における所定位置には、ガスB
を冷却する熱交換器(図示せず)が設けられている。従
って、脱水素反応器11は、ガスAをダウンフローさせ
るようになっている。
条件に応じて、ガスA中のプロパンのうち、凡そ10モ
ル%〜60モル%が脱水素反応されて、プロピレンおよ
び水素に変換されると共に、副生成物であるメタンやエ
タン、エチレン等(以下、軽沸点成分と記す)が副生さ
れる。脱水素反応器11におけるプロパンの転化率は、
凡そ10モル%〜60モル%であり、プロピレンへの選
択率は、92モル%〜98モル%である。従って、ガス
Bには、ガスA中のプロパンのうち、凡そ40モル%〜
90モル%が未反応物として含まれている。
の反応器であり、ガスBとガスCとを含む混合ガスと、
エポキシ化触媒とを接触させる。エポキシ化触媒は、エ
ポキシ化反応器12内部に充填されている。エポキシ化
反応器12の上部には、ガスB供給管23が接続されて
いる。ガスB供給管23には、ガスCをエポキシ化反応
器12に連続的に供給するガスC供給管24と、水素を
含むガスNをエポキシ化反応器12に必要に応じて供給
するガスN供給管40とが接続されている。エポキシ化
反応器12の下部には、ガスDをプロピレンオキシド吸
収塔13に連続的に供給するガスD供給管25が接続さ
れている。従って、エポキシ化反応器12は、ガスBを
ダウンフローさせるようになっている。エポキシ化反応
器12では、例えば、プロピレン1モルに対して、水素
が0.2モル〜20モルの範囲内で含まれ、かつ、酸素
が0.2モル〜20モルの範囲内で含まれるように、上
記のガスB、ガスC、および必要に応じてガスNの流量
を調整する。
応の反応条件に応じて、ガスB中のプロピレンのうち、
2モル%〜50モル%がエポキシ化されて、プロピレン
オキシドに変換されると共に、二酸化炭素や水等の副生
成物が副生される。エポキシ化反応器12におけるプロ
ピレンの転化率は、2モル%〜50モル%であり、プロ
ピレンオキシドへの選択率は、80モル%以上である。
従って、ガスDには、ガスB中のプロピレンのうち、5
0モル%〜98モル%が未反応物として含まれている。
触型の吸収塔であり、ガスDと溶媒とを気液接触させ
る。プロピレンオキシド吸収塔13の塔底近傍には、ガ
スD供給管25が接続されている。プロピレンオキシド
吸収塔13の塔底には、プロピレンオキシドを含む溶媒
Gをプロピレンオキシド蒸留塔15に連続的に供給する
溶媒G供給管27が接続されている。また、プロピレン
オキシド吸収塔13の塔頂には、ガスEを酸素除去器1
4に連続的に供給するガスE供給管26が接続されてい
る。プロピレンオキシド吸収塔13の塔頂近傍には、プ
ロピレンオキシド蒸留塔15にて粗プロピレンオキシド
が分離された溶媒Kが連続的に供給される溶媒K供給管
29が接続されている。従って、プロピレンオキシド吸
収塔13は、ガスDと溶媒とを向流させるようになって
いる。
器であり、ガスEと酸化触媒とを接触させる。酸化触媒
は、酸素除去器14内部に充填されている。酸素除去器
14の上部には、ガスE供給管26が接続されている。
酸素除去器14の下部には、ガスFを取り出すガスF取
出管30が接続されている。ガスF取出管30は、上記
リサイクル管30aと、ガスF2 をパージするパージ管
30bとに分岐している。従って、酸素除去器14は、
ガスEをダウンフローさせるようになっている。
連続式多段蒸留塔であり、溶媒G中のプロピレンオキシ
ドを連続的に分離・回収する。プロピレンオキシド蒸留
塔15のほぼ中段には、溶媒G供給管27が接続されて
いる。プロピレンオキシド蒸留塔15の塔頂には、ガス
状の粗プロピレンオキシドを連続的に抜き出す抜出管2
8が接続されている。プロピレンオキシド蒸留塔15の
塔底には、溶媒K供給管29が接続されている。上記抜
出管28における所定位置には、粗プロピレンオキシド
を凝縮させる凝縮器(図示せず)が設けられている。ま
た、抜出管28は、図示しない精留塔に接続されてい
る。尚、精留塔では、プロピレンオキシドと、該プロピ
レンオキシドの沸点に近い沸点を有するプロピオンアル
デヒドやアセトン等を連続的に分離する。
まれている場合には、図4に示すように、製造装置は、
二酸化炭素除去工程6を行う二酸化炭素吸収塔16およ
び放散塔17をさらに備えていることがより好ましい。
収塔であり、ガスF2 と、アルカリ金属水酸化物の水溶
液とを気液接触させる。二酸化炭素吸収塔16の塔底近
傍には、ガスF2 が連続的に供給されるパージ管30b
が接続されている。二酸化炭素吸収塔16の塔底には、
アルカリ金属炭酸塩を含む水溶液Lを放散塔17に連続
的に供給する水溶液L供給管32が接続されている。ま
た、二酸化炭素吸収塔16の塔頂には、ガスJを取り出
すガスJ取出管31が接続されている。ガスJ取出管3
1は、ガスJ1 を脱水素反応器11に連続的に戻すリサ
イクル管31aと、ガスJ2 をパージするパージ管31
bとに分岐している。リサイクル管31aは、前記リサ
イクル管30aに接続されており、従って、脱水素反応
器11には、ガスF1 とガスJ1 との混合ガスが連続的
に戻されるようになっている。二酸化炭素吸収塔16の
塔頂近傍には、二酸化炭素が分離された水溶液Mが連続
的に供給される水溶液M供給管34が接続されている。
従って、二酸化炭素吸収塔16は、ガスF2 と水溶液と
を向流させるようになっている。
より、アルカリ金属炭酸塩をアルカリ金属水酸化物と二
酸化炭素とに連続的に分解する。放散塔17の塔頂近傍
には、水溶液L供給管32が接続されている。放散塔1
7の塔頂には、二酸化炭素を連続的に抜き出す抜出管3
3が接続されている。放散塔17の塔底には、水溶液M
供給管34が接続されている。
プロパンからプロピレンオキシドを連続的に、かつ、比
較的高収率で製造することができる。尚、製造装置は、
脱水素反応器11を複数有していてもよい。この場合に
は、脱水素反応器11…を互いに並列となるように接続
する。また、製造装置は、エポキシ化反応器12を複数
有していてもよい。この場合には、エポキシ化反応器1
2…を互いに並列となるように接続する。
説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるもの
ではない。
除去を、実質的に水素と酸素との反応だけで行うと共
に、二酸化炭素等の副生成物等が反応系に蓄積しないよ
うに、リサイクルガスの一部のパージを行った。即ち、
図3に示す製造装置を用いて、プロパンからプロピレン
オキシドを連続的に製造した。
11に供給するプロパンの流量を52.8モル/hrと
した。そして、該プロパンとガスF1 との混合ガスであ
るガスAを熱交換器で加熱した後、脱水素反応器11に
連続的に供給した。該ガスAの流量は1,292モル/
hrであり、その組成は、プロパン18.6容量%、プ
ロピレン16.9容量%、二酸化炭素6.6容量%、軽
沸点成分2.2容量%、水2.0容量%、水素0.4容
量%、および、窒素(不活性ガス)53.4容量%であ
った。
触媒を用いた。そして、該触媒を充填した脱水素反応器
11を、反応温度600℃、反応圧力1.0bar.で操作
した。ガスBを分析したところ、プロパンの転化率は1
7モル%であり、プロピレンへの選択率は97モル%で
あった。
ガスBに水素、酸素および窒素を混合して、エポキシ化
反応器12に連続的に供給した。即ち、ガスN供給管4
0等を介してエポキシ化反応器12に供給する水素の流
量を29.3モル/hrとすると共に、ガスC供給管2
4等を介してエポキシ化反応器12に供給する酸素の流
量を55モル/hr、窒素の流量を44モル/hrとし
た。
に金超微粒子を担持してなる触媒を用いた。そして、該
触媒を充填したエポキシ化反応器12を、反応温度20
0℃、反応圧力5bar.で操作した。ガスDの流量は1,
430モル/hrであり、その組成は、プロパン13.
9容量%、プロピレン16.2容量%、プロピレンオキ
シド1.7容量%、二酸化炭素6.3容量%、軽沸点成
分2.1容量%、水5.2容量%、水素2.2容量%、
酸素0.9容量%、および、窒素51.3容量%であっ
た。従って、プロピレンの転化率は10モル%であり、
プロピレンオキシドへの選択率は93モル%であった。
くプロピレンオキシド吸収塔13に連続的に供給した。
そして、プロピレンオキシド吸収塔13を、温度40
℃、圧力5bar.、水(溶媒K)の流量約800モル/h
rで操作した。溶媒G供給管27を介してプロピレンオ
キシド蒸留塔15に連続的に供給される水溶液(溶媒
G)には、プロピレンオキシドが24.2モル/hr含
まれていた。該プロピレンオキシドは、プロピレンオキ
シド蒸留塔15にて連続的に分離することができた。
り、その組成は、プロパン15.0容量%、プロピレン
17.4容量%、プロピレンオキシド0.0容量%、二
酸化炭素6.8容量%、軽沸点成分2.2容量%、水素
2.4容量%、酸素1.0容量%、および、窒素55.
1容量%であった。該ガスEを、酸素除去器14に連続
的に供給した。
てなる触媒を用いた。そして、該触媒を充填した酸素除
去器14を、反応温度180℃で操作した。ガスFを分
析したところ、酸素は含まれておらず、二酸化炭素
(6.9容量%)、軽沸点成分(2.3容量%)、およ
び、水素(0.4容量%)等が含まれていた。該ガスF
を、ガスF1 とガスF2 との体積比(ガスF1 :ガスF
2 )が94:6となるように分割し、ガスF1 を脱水素
反応器11に連続的に供給する一方、ガスF2 をパージ
した。
や軽沸点成分等の副生成物等を反応系に蓄積させること
なく、未反応のプロパンおよびプロピレンをリサイクル
することができ、これにより、プロパンからプロピレン
オキシドを連続的に製造することができた。
除去を、水素と酸素との反応、並びに、軽沸点成分等と
酸素との反応で行うと共に、二酸化炭素等の副生成物等
が反応系に蓄積しないように、二酸化炭素除去工程並び
にパージを行った。即ち、図4に示す製造装置を用い
て、プロパンからプロピレンオキシドを連続的に製造し
た。
量を36.8モル/hrとした。そして、該プロパンと
ガスF1 とガスJ1 との混合ガスであるガスAを熱交換
器で加熱した後、脱水素反応器11に連続的に供給し
た。該ガスAの流量は981モル/hrであり、その組
成は、プロパン18.3容量%、プロピレン25.2容
量%、二酸化炭素4.2容量%、軽沸点成分5.1容量
%、水1.3容量%、水素0.0容量%、および、窒素
45.9容量%であった。
スズを担持してなる触媒を用いた。そして、該触媒を充
填した脱水素反応器11を、反応温度600℃、反応圧
力0.8bar.で操作した。ガスBを分析したところ、プ
ロパンの転化率は18モル%であり、プロピレンへの選
択率は96モル%であった。
ガスBに酸素および窒素を混合して、エポキシ化反応器
12に連続的に供給した。即ち、ガスC供給管24等を
介してエポキシ化反応器12に供給する酸素の流量を5
0モル/hr、窒素の流量を14モル/hrとした。
に金超微粒子を担持してなる触媒を用いた。そして、該
触媒を充填したエポキシ化反応器12を、反応温度20
0℃、反応圧力5bar.で操作した。ガスDの流量は1,
057モル/hrであり、その組成は、プロパン14.
0容量%、プロピレン24.5容量%、プロピレンオキ
シド1.7容量%、二酸化炭素4.3容量%、軽沸点成
分4.9容量%、水4.2容量%、水素0.5容量%、
酸素2.0容量%、および、窒素43.9容量%であっ
た。従って、プロピレンの転化率は7モル%であり、プ
ロピレンオキシドへの選択率は92モル%であった。
プロピレンオキシド吸収塔13に連続的に供給した。そ
して、プロピレンオキシド吸収塔13を、温度40℃、
圧力5bar.、水の流量約800モル/hrで操作した。
溶媒G供給管27を介してプロピレンオキシド蒸留塔1
5に連続的に供給される水溶液には、プロピレンオキシ
ドが18.1モル/hr含まれていた。該プロピレンオ
キシドは、プロピレンオキシド蒸留塔15にて連続的に
分離することができた。
その組成は、プロパン14.8容量%、プロピレン2
6.0容量%、プロピレンオキシド0.0容量%、二酸
化炭素4.6容量%、軽沸点成分5.2容量%、水素
0.6容量%、酸素2.1容量%、および、窒素46.
6容量%であった。該ガスEを、酸素除去器14に連続
的に供給した。
てなる触媒を用いた。そして、該触媒を充填した酸素除
去器14を、反応温度220℃で操作した。ガスFを分
析したところ、水素および酸素は含まれておらず、二酸
化炭素(5.8容量%)、および、軽沸点成分(5.2
容量%)等が含まれていた。また、酸素の除去に、水
素、プロピレン、並びにエチレン(軽沸点成分)等が消
費されたことがわかった。該ガスFを、ガスF1 とガス
F2 との体積比(ガスF1 :ガスF2 )が70:30と
なるように分割し、ガスF1 を脱水素反応器11に連続
的に供給する一方、ガスF2 を二酸化炭素吸収塔16に
連続的に供給した。
化炭素が除去されたガスJを、ガスJ1 とガスJ2 との
体積比(ガスJ1 :ガスJ2 )が90:10となるよう
に分割し、ガスJ1 を脱水素反応器11に連続的に供給
する一方、ガスJ2 をパージした。従って、ガスFに含
まれる二酸化炭素以外の成分は、その3容量%がガスJ
2 としてパージされたことになる。つまり、ガスFに含
まれる二酸化炭素以外の成分は、その97容量%がガス
F1 およびガスJ1 としてリサイクルされたことにな
る。
化炭素、軽沸点成分等の副生成物等を反応系に蓄積させ
ることなく、未反応のプロパンおよびプロピレンをリサ
イクルすることができ、これにより、プロパンからプロ
ピレンオキシドを連続的に製造することができた。
造方法は、以上のように、アルカンを含むガスAを脱水
素反応させて、アルケン、水素並びに未反応のアルカン
を含むガスBを生成する脱水素工程と、触媒の存在下
で、酸素と上記ガスBとを反応させてエポキシドを生成
するエポキシ化工程とを経て、アルカンからエポキシド
を製造する方法において、金を含む触媒を上記エポキシ
化工程に用いる方法である。
の製造方法は、以上のように、上記エポキシ化工程で生
成したガスDからエポキシドを分離した後に得られるガ
スEから、該ガスE中の水素と酸素とを反応させて酸素
を除去することにより得られる、未反応のアルカンを含
むガスFの少なくとも一部を、上記脱水素工程に戻す方
法である。
方法は、以上のように、上記脱水素反応を、温度が40
0℃〜700℃、かつ、圧力が0.1bar.〜5bar.の条
件下で行う方法である。
方法は、以上のように、上記エポキシ化反応を、水素濃
度が2容量%〜40容量%、酸素濃度が2容量%〜40
容量%、アルケン濃度が2容量%〜40容量%、温度が
100℃〜350℃、かつ、圧力が0.1bar.〜30ba
r.の条件下で行う方法である。
ド製造用触媒は、以上のように、請求項1ないし4の何
れか1項に記載のエポキシドの製造方法におけるエポキ
シ化工程に用いられるエポキシド製造用触媒であって、
該触媒が金を含んでいる構成である。
ポキシド製造用触媒)は、金を含んでいるので、水素の
存在下でのアルケンのエポキシ化反応に対する活性およ
び選択性が優れている。従って、アルカンからエポキシ
ドへの選択性を向上させることができる。また、該触媒
は、エポキシ化反応を行うときに、脱水素工程で生成す
る水素を消費するので、該水素を有効に利用することが
できる。さらに、未反応の水素は、酸素を除去するのに
消費される。つまり、脱水素工程で生成する水素は、エ
ポキシ化工程、および酸素を除去する工程で消費され
る。従って、ガスFの少なくとも一部を、例えば該ガス
F中の水素を除去すること無く上記脱水素工程に戻すリ
サイクルを行っても、反応系に水素は蓄積されない。そ
れゆえ、上記の方法によれば、大量の水素を反応系から
分離・除去する工程が不要となるので、未反応のアルカ
ン等をリサイクルする工程が簡略化され、経済的かつ工
業的に有利となる。これにより、アルカンからエポキシ
ドを連続的に、かつ、比較的高収率で製造することがで
きるという効果を奏する。
造方法の概略の工程を示すブロック図である。
製造方法の概略の工程を示すブロック図である。
例を示すブロック図である。
例を示すブロック図である。
Claims (5)
- 【請求項1】アルカンを含むガスAを脱水素反応させ
て、アルケン、水素並びに未反応のアルカンを含むガス
Bを生成する脱水素工程と、 触媒の存在下で、酸素と上記ガスBとを反応させてエポ
キシドを生成するエポキシ化工程とを経て、アルカンか
らエポキシドを製造する方法において、 金を含む触媒を上記エポキシ化工程に用いることを特徴
とするエポキシドの製造方法。 - 【請求項2】上記エポキシ化工程で生成したガスDから
エポキシドを分離した後に得られるガスEから、該ガス
E中の水素と酸素とを反応させて酸素を除去することに
より得られる、未反応のアルカンを含むガスFの少なく
とも一部を、上記脱水素工程に戻すことを特徴とする請
求項1記載のエポキシドの製造方法。 - 【請求項3】上記脱水素反応を、温度が400℃〜70
0℃、かつ、圧力が0.1bar.〜5bar.の条件下で行う
ことを特徴とする請求項1または2記載のエポキシドの
製造方法。 - 【請求項4】上記エポキシ化反応を、水素濃度が2容量
%〜40容量%、酸素濃度が2容量%〜40容量%、ア
ルケン濃度が2容量%〜40容量%、温度が100℃〜
350℃、かつ、圧力が0.1bar.〜30bar.の条件下
で行うことを特徴とする請求項1、2または3記載のエ
ポキシドの製造方法。 - 【請求項5】請求項1ないし4の何れか1項に記載のエ
ポキシドの製造方法におけるエポキシ化工程に用いられ
るエポキシド製造用触媒であって、該触媒が金を含んで
いることを特徴とするエポキシド製造用触媒。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9320153A JPH10237055A (ja) | 1996-12-25 | 1997-11-20 | エポキシドの製造方法およびエポキシド製造用触媒 |
Applications Claiming Priority (3)
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JP34607696 | 1996-12-25 | ||
JP9320153A JPH10237055A (ja) | 1996-12-25 | 1997-11-20 | エポキシドの製造方法およびエポキシド製造用触媒 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH10237055A true JPH10237055A (ja) | 1998-09-08 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP9320153A Pending JPH10237055A (ja) | 1996-12-25 | 1997-11-20 | エポキシドの製造方法およびエポキシド製造用触媒 |
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JP (1) | JPH10237055A (ja) |
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