JPH10233074A - Aluminum for disk shutter or aluminum alloy plate - Google Patents
Aluminum for disk shutter or aluminum alloy plateInfo
- Publication number
- JPH10233074A JPH10233074A JP3656997A JP3656997A JPH10233074A JP H10233074 A JPH10233074 A JP H10233074A JP 3656997 A JP3656997 A JP 3656997A JP 3656997 A JP3656997 A JP 3656997A JP H10233074 A JPH10233074 A JP H10233074A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- aluminum
- film
- alloy plate
- aluminum alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はフレキシブル（フロ
ッピー）ディスク等の磁気ディスク並びにＭＯディスク
及びミニディスク等の光ディスクのケースに設けられる
ディスクシャッタ用の材料であるディスクシャッタ用ア
ルミニウム又はアルミニウム合金板に関し、特に耐疵付
き性及び曲げ加工性が優れたディスクシャッタ用アルミ
ニウム又はアルミニウム合金板に関する。The present invention relates to a magnetic disk such as a flexible (floppy) disk and an aluminum or aluminum alloy plate for a disk shutter which is a material for a disk shutter provided in a case of an optical disk such as an MO disk and a mini disk. Particularly, the present invention relates to an aluminum or aluminum alloy plate for a disk shutter having excellent scratch resistance and bending workability.
【０００２】[0002]
【従来の技術】フレキシブルディスク等の磁気ディスク
並びにＭＯディスク及びミニディスク等の光ディスク等
は、ケース内に磁気ディスク媒体又は光ディスク媒体が
収納されており、このケースには磁気ヘッド又は光学ヘ
ッドを挿入して前記磁気ディスク媒体又は光ディスク媒
体に対する読み書きをするための窓として、開口部が設
けられている。そして、ケースには、開口部を開閉する
ためのディスクシャッタが設けられている。2. Description of the Related Art A magnetic disk such as a flexible disk and an optical disk such as an MO disk and a mini disk contain a magnetic disk medium or an optical disk medium in a case. A magnetic head or an optical head is inserted into the case. An opening is provided as a window for reading from and writing to the magnetic disk medium or the optical disk medium. The case is provided with a disk shutter for opening and closing the opening.
【０００３】図３は記録用磁気ディスク媒体２が収納さ
れたフロッピーディスク（以下、ＦＤという）１を示す
正面図である。ＦＤ１においては、収納ケース３間に磁
気ディスク媒体２が収納されており、その一辺部中央に
は磁気ヘッド挿入用の窓（図示せず）が設けられてい
る。そして、この窓には、開閉用のシャッタ４が設けら
れている。FIG. 3 is a front view showing a floppy disk (hereinafter referred to as FD) 1 in which a recording magnetic disk medium 2 is stored. In the FD 1, the magnetic disk medium 2 is stored between storage cases 3, and a window (not shown) for inserting a magnetic head is provided in the center of one side. The window is provided with a shutter 4 for opening and closing.
【０００４】このディスクシャッタ４は断面がコ字状の
板材であり、１対の対向面でケース３を挟持するように
収納ケース３に装着される。このシャッタ４はケース３
に設けられたガイド溝により案内されてスライドするこ
とにより、ケース３の窓部を開閉する。従来、このディ
スクシャッタ用板材としては、ステンレス鋼並びにポリ
スチレン及びＡＢＳ等の合成樹脂で作られている。The disk shutter 4 is a plate member having a U-shaped cross section, and is mounted on the storage case 3 so as to sandwich the case 3 between a pair of opposing surfaces. This shutter 4 is case 3
The window of the case 3 is opened and closed by sliding by being guided by the guide groove provided in the. Conventionally, this disk shutter plate is made of stainless steel and a synthetic resin such as polystyrene and ABS.
【０００５】而して、このディスクシャッタ４に要求さ
れる機能は、必要な時に開閉して磁気ヘッドによる磁気
ディスク媒体２への読み書きを可能とすると共に、磁性
面を保護することにある。また、ディスクシャッタ４は
ケース３上で案内されてスライド移動するため、軽量で
あると共に剛性があることも必要である。The functions required of the disk shutter 4 are to open and close as necessary to enable reading and writing to the magnetic disk medium 2 by the magnetic head and to protect the magnetic surface. Further, since the disk shutter 4 slides while being guided on the case 3, the disk shutter 4 needs to be lightweight and rigid.
【０００６】この軽量化のために、従来、アルミニウム
製のディスクシャッタ用板材が提案されている。また、
このディスクシャッタ４は摺動部材であるために、開閉
動作によりケース３を傷めた場合には、ディスク２に有
害な削り粉が発生してしまう。そこで、この削り粉の発
生を防止するために、合成樹脂をコーティングしたディ
スクシャッタが提案されている（特開平３−７３４７９
号公報及び特開平６−３４６１７８号公報）。更に、耐
摩耗性の向上及び塑性変形の防止のために、アルミニウ
ム合金材の表面に表面硬化コーティングを設けたディス
クシャッタも公知である（特開平６−６８６３８号公
報）。更に、ディスクシャッタを着色するために、表面
に陽極酸化皮膜を設けたものが提案されている（特開平
６−１１１５１６号公報及び特開平６−１６２７１０号
公報）。In order to reduce the weight, a disk shutter plate made of aluminum has conventionally been proposed. Also,
Since the disk shutter 4 is a sliding member, harmful shavings are generated on the disk 2 if the case 3 is damaged by the opening and closing operations. In order to prevent the generation of shavings, a disk shutter coated with a synthetic resin has been proposed (JP-A-3-73479).
And JP-A-6-346178). Further, a disk shutter in which a surface hardening coating is provided on the surface of an aluminum alloy material for improving abrasion resistance and preventing plastic deformation is also known (JP-A-6-68638). Further, there has been proposed one in which an anodized film is provided on the surface for coloring a disk shutter (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 6-111516 and 6-162710).
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来のディスクシャッタ４は、以下に示すような問題
点がある。先ず、ステンレス鋼製のディスクシャッタは
重いという欠点を有し、更に表面を手で触れた場合に指
紋が付き易く外観を害するという欠点を有する。However, these conventional disk shutters 4 have the following problems. First, the stainless steel disk shutter has the disadvantage of being heavy, and further has the disadvantage that when the surface is touched by hand, fingerprints are easily formed and the appearance is impaired.
【０００８】また、ポリスチレン及びＡＢＳ等の合成樹
脂製のものは、帯電しやすいという難点があり、またほ
こり及びチリが付着しやすいため、磁性面にとって有害
である。Further, those made of a synthetic resin such as polystyrene and ABS are disadvantageous in that they are easily charged, and are harmful to the magnetic surface because dust and dust easily adhere thereto.
【０００９】更に、ディスクシャッタ４はその表面にメ
ーカー名及び品種等をＵＶ硬化法により印刷して表示す
るのであるが、合成樹脂製ディスクシャッタはＵＶイン
キが密着しにくいという欠点がある。このＵＶインキの
密着性を向上させるためには、合成樹脂製ディスクシャ
ッタに前処理としてコロナ放電等の表面改質処理を施す
必要がある。従って、製造コストが高くなるという問題
点がある。Furthermore, the disk shutter 4 prints and displays the manufacturer name and product type on the surface thereof by the UV curing method, but the disk shutter made of synthetic resin has a disadvantage that the UV ink is difficult to adhere. In order to improve the adhesion of the UV ink, it is necessary to perform a surface modification treatment such as corona discharge as a pre-treatment on the synthetic resin disk shutter. Therefore, there is a problem that the manufacturing cost increases.
【００１０】更にまた、従来のアルミニウム合金板の表
面に合成樹脂のみをコーティングしたディスクシャッタ
は、潤滑性が低く、且つ皮膜が軟らかいため、表面に疵
が付きやすく、磁性面にとって有害なゴミが出やすくな
ると共に、疵の発生によりディスクシャッタの外観を著
しく損なう。Furthermore, a conventional disk shutter in which the surface of an aluminum alloy plate is coated only with a synthetic resin has low lubricity and the film is soft, so that the surface is apt to be scratched and harmful dust is generated on the magnetic surface. In addition to this, the appearance of the disk shutter is significantly impaired due to the generation of flaws.
【００１１】そして、従来のアルミニウム合金板の表面
に合成樹脂のみをコーティングしたディスクシャッタ
は、９０°曲げ加工を施してコ字状の形状にしたとき、
その内側の面における９０°曲げ加工部において、皮膜
にクラックが入り、更に皮膜が剥離した場合は、磁性面
にとって有害なゴミが出てしまう。A conventional disk shutter in which only the surface of an aluminum alloy plate is coated with a synthetic resin is bent at 90 ° to form a U-shape.
If the coating cracks and the coating peels off at the 90 ° bending portion on the inner surface, dust harmful to the magnetic surface comes out.
【００１２】また、アルミニウム合金板の表面を陽極酸
化処理したディスクシャッタは、コ字状の形状にするた
め９０°曲げ加工を施すと、その内面の９０°曲げ部で
皮膜にクラックが入り、更に皮膜が剥離することによ
り、磁性面にとって有害なゴミが出やすくなる。更に、
陽極酸化処理したディスクシャッタはその表面に干渉色
が出やすく、外観上劣るものである。更にまた、陽極酸
化処理には、安定した電流の供給及び十分な処理時間が
必要であるため、製造コストが高くなるという問題点も
ある。Further, when a disk shutter having an aluminum alloy plate whose surface is anodized is subjected to a 90 ° bending process to form a U-shape, cracks are formed in the coating at the 90 ° bent portion on the inner surface thereof. When the film is peeled off, dust harmful to the magnetic surface is likely to appear. Furthermore,
An anodized disk shutter tends to have interference colors on its surface, and is inferior in appearance. Furthermore, the anodic oxidation treatment requires a stable current supply and a sufficient processing time, so that there is a problem that the production cost is increased.
【００１３】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、軽量であると共に、帯電しにくく、ほこり
及びチリの付着が防止されると共に、表面に疵が付きに
くく、更に曲げ加工性が優れており、ＵＶインキ印刷性
が優れたディスクシャッタ用アルミニウム又はアルミニ
ウム合金板を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and is lightweight, hardly charged, prevented from adhering dust and dirt, hardly flawed on the surface, and bendable. An object of the present invention is to provide an aluminum or aluminum alloy plate for a disk shutter, which is excellent in UV ink printability.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明に係るディスクシ
ャッタ用アルミニウム又はアルミニウム合金板は、記録
用ディスクを収納するケースに設けた記録ヘッド用窓部
を開閉する断面コ字型シャッタに使用されるディスクシ
ャッタ用アルミニウム又はアルミニウム合金板におい
て、シャッタ外面側のアルミニウム又はアルミニウム合
金板の表面上に形成されたクロメート皮膜第１層と、こ
の第１層の上に形成され粒径０．５乃至１０μｍのワッ
クスを分散させた鉛筆硬度５Ｈ以上の樹脂皮膜第２層
と、シャッタ内面側のアルミニウム又はアルミニウム合
金板の表面に形成されたクロメート皮膜第３層と、この
第３層の上に形成され鉛筆硬度３Ｈ乃至５Ｈの樹脂皮膜
第４層とを有することを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION An aluminum or aluminum alloy plate for a disk shutter according to the present invention is used for a U-shaped shutter for opening and closing a recording head window provided in a case for accommodating a recording disk. In an aluminum or aluminum alloy plate for a disk shutter, a first layer of a chromate film formed on the surface of the aluminum or aluminum alloy plate on the outer surface of the shutter, and a particle size of 0.5 to 10 μm formed on the first layer. A second resin layer having a pencil hardness of 5H or more in which wax is dispersed, a third layer of a chromate film formed on the surface of the aluminum or aluminum alloy plate on the inner surface side of the shutter, and a pencil hardness formed on the third layer And a fourth resin coating layer of 3H to 5H.
【００１５】この場合に、樹脂皮膜第２層は、０．５乃
至２０μｍの膜厚を有することが好ましい。また、樹脂
皮膜第４層は、１μｍ以下の膜厚を有することが好まし
い。更に、樹脂皮膜第２層に分散させるワックスはその
量が皮膜重量に対して０．５乃至１０重量％であること
が好ましく、その種類が高分子ＰＥワックス、ＰＴＥＦ
ワックス及びフッ素系ワックスからなる群から選択され
た１種の球状分散型ワックスであることが好ましい。更
にまた、クロメート皮膜第１層及び前記クロメート皮膜
第３層が塗布型クロメート処理又はリン酸クロメート処
理によるものであり、その付着量がＣｒ量で５乃至３０
ｍｇ／ｍ2であることが好ましい。In this case, it is preferable that the second resin film has a thickness of 0.5 to 20 μm. The fourth resin film preferably has a thickness of 1 μm or less. Further, the amount of the wax dispersed in the second layer of the resin film is preferably 0.5 to 10% by weight based on the weight of the film.
It is preferably one kind of spherical dispersion type wax selected from the group consisting of wax and fluorine-based wax. Further, the first layer of the chromate film and the third layer of the chromate film are formed by a coating type chromate treatment or a phosphoric acid chromate treatment, and the adhesion amount is 5 to 30 in terms of Cr amount.
mg / m 2 is preferred.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について、
添付の図面を参照して説明する。図１は本発明の実施例
に係るアルミニウム又はアルミニウム合金板が使用され
たディスクシャッタ５を示す斜視図、図２は同じく横断
面図である。このシャッタ５は図３に示すＦＤ用のもの
である。図１及び図２に示すように、シャッタ５はアル
ミニウム又はアルミニウム合金板を２辺で９０°曲げ加
工し、断面コ字状に形成されている。このシャッタ５に
は磁気ヘッド挿入用の開口部５ｃが設けられており、シ
ャッタ５が摺動してケースに設けた窓に開口部５ｃが整
合すると、内部の磁気ディスク媒体が露出するようにな
っている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
This will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a disk shutter 5 using an aluminum or aluminum alloy plate according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a transverse sectional view thereof. This shutter 5 is for the FD shown in FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the shutter 5 is formed by bending an aluminum or aluminum alloy plate by 90 ° at two sides and forming a U-shaped cross section. The shutter 5 is provided with an opening 5c for inserting a magnetic head. When the shutter 5 slides and the opening 5c is aligned with a window provided in the case, the internal magnetic disk medium is exposed. ing.
【００１７】而して、本実施例のアルミニウム又はアル
ミニウム合金板は、シャッタ５の外面５ａとなる表面上
に、第１層としてクロメート皮膜が形成され、このクロ
メート皮膜の上に第２層として粒径０．５乃至１０μｍ
のワックスを分散させた鉛筆硬度５Ｈ以上の樹脂皮膜が
形成されている。Thus, in the aluminum or aluminum alloy plate of this embodiment, a chromate film is formed as a first layer on the surface to be the outer surface 5a of the shutter 5, and a grain is formed as a second layer on the chromate film. 0.5 to 10 μm in diameter
A resin film having a pencil hardness of 5H or more in which the above wax is dispersed is formed.
【００１８】このように、第２層として鉛筆硬度５Ｈ以
上の樹脂皮膜を設けているので、その表面硬度が硬く、
且つこの第２層には粒径０．５乃至１０μｍのワックス
を分散させているので、潤滑性が高く、疵が付きにくい
ため、ディスクシャッタの外観も優れている。また、第
１層としてクロメート皮膜を設けているため、第２層の
樹脂皮膜と基材であるアルミニウム又はアルミニウム合
金板との密着性が優れており、使用の過程で磁性面にと
って有害なゴミが出にくい。As described above, since the resin film having a pencil hardness of 5H or more is provided as the second layer, its surface hardness is high,
In addition, since wax having a particle size of 0.5 to 10 μm is dispersed in the second layer, the lubricating property is high and scratches are not easily formed, so that the appearance of the disk shutter is excellent. In addition, since the chromate film is provided as the first layer, the adhesion between the resin film of the second layer and the aluminum or aluminum alloy plate as the base material is excellent, and dust harmful to the magnetic surface during use is reduced. It is hard to come out.
【００１９】而して、第２層に分散させたワックスの粒
径を０．５乃至１０μｍにすることにより、高い潤滑性
が得られ、且つＵＶ硬化法により印刷されるＵＶインキ
の密着性も向上する。このワックスは皮膜表面で粒子状
に分散されるので、例えば、本実施例のアルミニウム又
はアルミニウム合金板と加工金型のような硬質な異物と
が接した場合に、ワックス粒子により樹脂皮膜第２層の
マトリックスの樹脂及びその基材であるアルミニウム又
はアルミニウム合金板と、加工金型等の硬質な異物とが
直接接触することが回避され、且つワックス自体の潤滑
効果により、疵の発生が防止される。しかし、ワックス
の粒径が０．５μｍ未満であれば、皮膜の樹脂成分及び
アルミニウム又はアルミニウム合金板と硬質な異物とが
接触しやすくなり、疵の防止効果が損なわれる。一方、
ＵＶインキは樹脂皮膜の基板となる樹脂成分との化学結
合により樹脂皮膜の表面に密着するのであるが、ワック
スの粒径が１０μｍを超えると、このワックスにより前
記化学結合が阻害されるため、ＵＶインキの密着性が低
下する。従って、ワックスの粒径は０．５乃至１０μｍ
にする。By setting the particle size of the wax dispersed in the second layer to 0.5 to 10 μm, high lubricity is obtained and the adhesion of the UV ink printed by the UV curing method is also improved. improves. Since this wax is dispersed in the form of particles on the surface of the film, for example, when the aluminum or aluminum alloy plate of the present embodiment comes into contact with a hard foreign material such as a processing die, the second layer of the resin film is formed by the wax particles. The direct contact between the resin of the matrix and the aluminum or aluminum alloy plate that is the base material thereof and a hard foreign material such as a processing die is avoided, and the generation of flaws is prevented by the lubrication effect of the wax itself. . However, if the particle size of the wax is less than 0.5 μm, the resin component of the film and the aluminum or aluminum alloy plate are likely to come into contact with the hard foreign material, and the effect of preventing flaws is impaired. on the other hand,
The UV ink adheres to the surface of the resin film by a chemical bond with a resin component serving as a substrate of the resin film. If the particle size of the wax exceeds 10 μm, the wax inhibits the chemical bond. Ink adhesion is reduced. Therefore, the particle size of the wax is 0.5 to 10 μm
To
【００２０】更にまた、第２層の樹脂皮膜表面の鉛筆硬
度については５Ｈ未満であると、上記ワックスの効果が
適正であっても、第２層の樹脂皮膜表面が軟らかいた
め、硬質な異物と接した場合に疵がつきやすくなる。従
って、第２層として形成される樹脂皮膜表面の鉛筆硬度
は５Ｈ以上にする。Further, if the pencil hardness of the surface of the resin film of the second layer is less than 5H, even if the effect of the wax is appropriate, the surface of the resin film of the second layer is soft, so that hard foreign matter may be generated. When touched, flaws are likely to be formed. Therefore, the pencil hardness of the surface of the resin film formed as the second layer is set to 5H or more.
【００２１】ディスクシャッタ５の内面５ｂとなるアル
ミニウム又はアルミニウム合金板の表面上には、第３層
としてクロメート皮膜が形成され、第４層として鉛筆硬
度３Ｈ乃至５Ｈの樹脂皮膜が形成されている。この第４
層の樹脂皮膜は鉛筆硬度が３Ｈ乃至５Ｈと第４層より低
く、適度の柔軟性を有するため、９０°曲げ加工を施し
た場合に、その内面の９０°曲げ部５ｄで樹脂皮膜はア
ルミニウム又はアルミニウム合金板の加工変形に追従
し、皮膜に割れ及びシワ等が入りにくい。また、第３層
としてクロメート皮膜を設けているので、第４層の樹脂
皮膜とアルミニウム又はアルミニウム合金板との密着性
が優れており、磁性面にとって有害なゴミが出にくい。
しかし、樹脂皮膜の鉛筆硬度が５Ｈより高くなると皮膜
の柔軟性が失われ、９０°曲げ加工を施した場合に、樹
脂皮膜が加工変形に追従できず、内面の９０°曲げ部５
ｄにおいて皮膜に割れ及びシワ等が発生しやすくなる。
そして、皮膜が剥離することにより、磁性面にとって有
害なゴミが出やすくなる。一方、樹脂皮膜の鉛筆硬度が
３Ｈより低くなると、曲げ加工性には悪影響はないもの
の皮膜の表面硬度が低いため、記録用磁気ディスクの使
用時にディスクシャッタ５と合成樹脂製の収納ケース３
との摺動によりディスクシャッタ５の内面５ｂに疵が入
りやすくなり、磁性面にとって有害なゴミが発生しやす
くなる。従って、第４層として形成される樹脂皮膜の鉛
筆硬度は３乃至５Ｈにする。A chromate film is formed as a third layer on the surface of the aluminum or aluminum alloy plate serving as the inner surface 5b of the disk shutter 5, and a resin film having a pencil hardness of 3H to 5H is formed as a fourth layer. This fourth
Since the resin coating of the layer has a pencil hardness of 3H to 5H lower than that of the fourth layer and has an appropriate flexibility, when the 90 ° bending process is performed, the resin coating is made of aluminum or aluminum at the 90 ° bent portion 5d on the inner surface. Following the deformation of the aluminum alloy plate, it is difficult for cracks and wrinkles to enter the film. In addition, since the chromate film is provided as the third layer, the adhesion between the resin film of the fourth layer and the aluminum or aluminum alloy plate is excellent, and harmful dust on the magnetic surface is less likely to be generated.
However, when the pencil hardness of the resin film is higher than 5H, the flexibility of the film is lost, and when the 90 ° bending process is performed, the resin film cannot follow the processing deformation, and the 90 ° bent portion 5
In d, cracks and wrinkles are likely to be generated in the film.
When the film is peeled off, dust harmful to the magnetic surface is likely to appear. On the other hand, when the pencil hardness of the resin film is lower than 3H, the bending workability is not adversely affected, but the surface hardness of the film is low. Therefore, when the recording magnetic disk is used, the disk shutter 5 and the storage case 3 made of synthetic resin are used.
And the inner surface 5b of the disk shutter 5 is apt to be scratched, and dust harmful to the magnetic surface is likely to be generated. Therefore, the pencil hardness of the resin film formed as the fourth layer is set to 3 to 5H.
【００２２】次に、樹脂皮膜第２層及び第４層の厚さに
ついて説明する。ディスクシャッタ５の外面５ａとなる
第２層の樹脂皮膜の膜厚は０．５乃至２０μｍであるこ
とが好ましい。膜厚が０．５μｍより薄くなると、皮膜
中にワックスが固定されにくくなり、更に硬質な異物と
接した場合に基材であるアルミニウム又はアルミニウム
合金と異物とが直接接触しやすくなるため、疵が入りや
すくなる。一方、膜厚が２０μｍより厚くなると、製造
コストが上昇すると共に、打ち抜きプレス加工時に発生
するアルミニウム又はアルミニウム合金の摩耗粉と皮膜
樹脂成分とが加工プレス油に混入し、加工プレス油がヘ
ドロ状となり、金型のクリアランスを目詰まりさせる。
また、皮膜表面に粒子状ワックスが分散されにくくな
り、疵が入りやすくなる。従って、第２層として形成さ
れる樹脂皮膜の膜厚は０．５乃至２０μｍにすることが
好ましい。Next, the thicknesses of the second and fourth resin coatings will be described. It is preferable that the film thickness of the second resin film to be the outer surface 5a of the disk shutter 5 is 0.5 to 20 μm. When the film thickness is less than 0.5 μm, it is difficult for the wax to be fixed in the film, and when it comes into contact with hard foreign matter, the aluminum or aluminum alloy serving as the base material and the foreign matter easily come into direct contact with each other. Easy to enter. On the other hand, when the film thickness is more than 20 μm, the manufacturing cost increases, and the wear powder of aluminum or aluminum alloy and the coating resin component generated during the punching press work are mixed into the working press oil, and the working press oil becomes sludge-like. Clog the mold clearance.
In addition, the particulate wax is less likely to be dispersed on the surface of the film, and is likely to be damaged. Therefore, the thickness of the resin film formed as the second layer is preferably 0.5 to 20 μm.
【００２３】また、ディスクシャッタ５の内面５ｂとな
るアルミニウム又はアルミニウム合金板の表面上に、第
４層として形成される樹脂皮膜の膜厚は１μｍ以下であ
ることが好ましい。しかし、膜厚が１μｍより厚くなる
と、製造コストが高くなると共に、９０°曲げ加工によ
り、内面の９０°曲げ部５ｄにおいて皮膜にシワが発生
しやすくなり、これにより皮膜が剥離すると磁性面にと
って有害なゴミが発生する。従って、第４層として形成
される樹脂皮膜の膜厚は１μｍ以下にすることが好まし
い。The thickness of the resin film formed as the fourth layer on the surface of the aluminum or aluminum alloy plate serving as the inner surface 5b of the disk shutter 5 is preferably 1 μm or less. However, when the film thickness is more than 1 μm, the manufacturing cost is increased, and the film is easily wrinkled at the 90 ° bent portion 5d on the inner surface by the 90 ° bending process. Garbage is generated. Therefore, the thickness of the resin film formed as the fourth layer is preferably set to 1 μm or less.
【００２４】更に、第２層の樹脂皮膜に分散させるワッ
クスの量は、皮膜重量に対して０．５乃至１０重量％と
することが好ましい。樹脂皮膜にワックスを分散させる
ことにより皮膜表面の潤滑性が向上し、疵がはいりにく
くなる。しかし、ワックスの量が０．５％未満である
と、潤滑性の向上効果が不十分となり、疵が入りやすく
なる。一方、ワックスは樹脂皮膜表面の濡れ性を劣化さ
せるため、ワックスの量が１０％より多くなると、ＵＶ
インキの密着性が劣化する。従って、ワックスの量は皮
膜重量に対して０．５乃至１０重量％にすることが好ま
しい。Further, the amount of the wax dispersed in the second resin film is preferably 0.5 to 10% by weight based on the weight of the film. By dispersing wax in the resin film, the lubricity of the film surface is improved, and scratches are less likely to occur. However, if the amount of the wax is less than 0.5%, the effect of improving the lubricity becomes insufficient, and flaws are easily formed. On the other hand, since wax deteriorates the wettability of the resin film surface, if the amount of wax exceeds 10%, UV
Ink adhesion deteriorates. Therefore, the amount of the wax is preferably 0.5 to 10% by weight based on the weight of the film.
【００２５】そして、第２層の樹脂皮膜に分散させるワ
ックスの種類は高分子ＰＥワックス、ＰＴＥＦワックス
又はフッ素系ワックスからなる球状分散型ワックスの群
から選択された１種であることが好ましい。高分子ＰＥ
ワックスはその直鎖状の分子配合により高い潤滑性を有
し、ＰＴＥＦワックス及びフッ素系ワックスはそのワッ
クスに含まれるフッ素の極性が高いことにより高い潤滑
性を有するため、疵が入りにくくなる。また、分散型ワ
ックスの形状は球状であるため、その形状効果によって
も潤滑性が向上し、疵が入りにくくなる。一方、ラノリ
ン等の動物性油脂系ワックス及び通常のパラフィン系ワ
ックスは球状に分散しにくく、且つ分子配合及び極性の
点で前記ワックスに劣るため、潤滑性が劣り、疵が入り
やすくなる。従って、ワックスの種類は高分子ＰＥワッ
クス、ＰＴＥＦワックス又はフッ素系ワックスからなる
球状分散型ワックスの群から選択された１種にすること
が好ましい。The kind of the wax dispersed in the resin film of the second layer is preferably one selected from the group consisting of a spherical dispersion type wax composed of a polymer PE wax, a PTEF wax or a fluorine-based wax. Polymer PE
Wax has high lubricity due to its linear molecular compounding, and PTEF wax and fluorine-based wax have high lubricity due to the high polarity of fluorine contained in the wax, so that scratches are unlikely to occur. In addition, since the shape of the dispersed wax is spherical, lubricating properties are improved due to the shape effect, and scratches are less likely to be formed. On the other hand, animal fats and oils waxes such as lanolin and ordinary paraffin waxes are difficult to disperse spherically and are inferior to the waxes in terms of molecular composition and polarity, so that lubricity is inferior and flaws are easily formed. Therefore, it is preferable that the type of wax is one selected from the group consisting of spherical dispersion type waxes composed of polymer PE wax, PTEF wax or fluorine-based wax.
【００２６】ディスクシャッタ５の外面５ａ側の第１層
クロメート皮膜、及び内面５ｂ側の第３層クロメート皮
膜は、その膜厚（付着量）がＣｒ量で５乃至３０ｍｇ／
ｍ2であることが好ましい。クロメート皮膜の膜厚がＣ
ｒ量で５ｍｇ／ｍ2より少なくなると、アルミニウム又
はアルミニウム合金板上のクロメート皮膜が不均一とな
り、第２層及び第４層として形成される樹脂皮膜との密
着性が不十分となるため、皮膜が剥離しやすくなる。一
方、クロメート皮膜の付着量がＣｒ量で３０ｍｇ／ｍ2
よりも多くなると、９０°曲げ加工により、クロメート
皮膜自体に割れが生じやすくなり、磁性面に有害なゴミ
が発生する。従って、クロメート皮膜の膜厚はＣｒ量で
５乃至３０ｍｇ／ｍ2にすることが好ましい。The first layer chromate film on the outer surface 5a side of the disk shutter 5 and the third layer chromate film on the inner surface 5b side have a film thickness (adhesion amount) of 5 to 30 mg / Cr.
m 2 is preferred. The chromate film thickness is C
When the amount of r is less than 5 mg / m 2 , the chromate film on the aluminum or aluminum alloy plate becomes non-uniform, and the adhesion to the resin films formed as the second and fourth layers becomes insufficient. Are easily peeled off. On the other hand, the adhesion amount of the chromate film is 30 mg / m 2 in terms of Cr amount.
If it exceeds 90 °, the chromate film itself tends to crack due to 90 ° bending, and harmful dust is generated on the magnetic surface. Therefore, it is preferable that the thickness of the chromate film be 5 to 30 mg / m 2 in terms of the amount of Cr.
【００２７】[0027]
【実施例】以下、本発明の実施例について、その比較例
と比較して説明する。素材としては、アルミニウム合金
５１８２−Ｈ３８の板材（板厚０．１８５ｍｍ）を使用
した。このアルミニウム合金板をアルカリ脱脂し、水洗
及び乾燥した後、その両面に夫々第１層及び第３層とし
て、リン酸クロメート処理又は塗布型クロメート処理を
施してクロメート皮膜を形成した。その後、第２層及び
第４層の樹脂皮膜の所定の皮膜組成からなる樹脂を塗布
した後、乾燥させることにより樹脂皮膜を形成させた。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below in comparison with comparative examples. As a material, a plate material (plate thickness: 0.185 mm) of aluminum alloy 5182-H38 was used. After the aluminum alloy plate was alkali-degreased, washed with water and dried, both surfaces thereof were subjected to a phosphoric acid chromate treatment or a coating type chromate treatment as a first layer and a third layer, respectively, to form a chromate film. Thereafter, a resin having a predetermined coating composition of the resin coating of the second layer and the fourth layer was applied, and then dried to form a resin coating.
【００２８】このようにして作製された種々のディスク
シャッタ用アルミニウム合金板について、クロメート皮
膜の第１層及び第３層の膜厚（Ｃｒ量）、並びに樹脂皮
膜の第２層及び第４層の表面硬度及び膜厚、並びに樹脂
皮膜の第２層表面の動摩擦係数を測定すると共に、第２
層及び第４層の耐疵付き性、及び第４層の曲げ加工性及
び第２層のＵＶインキの密着性を評価した。これらの測
定方法及び評価方法について以下に示す。With respect to the various aluminum alloy plates for a disk shutter manufactured in this manner, the thicknesses (Cr amounts) of the first and third layers of the chromate film and the second and fourth layers of the resin film were determined. The surface hardness and film thickness, and the dynamic friction coefficient of the second layer surface of the resin film were measured,
The scratch resistance of the layer and the fourth layer, the bending workability of the fourth layer, and the adhesion of the UV ink of the second layer were evaluated. These measurement methods and evaluation methods are described below.
【００２９】皮膜硬度は、ＪＩＳ Ｋ５４００の鉛筆硬
度試験により求めた。また、動摩擦係数はバウデン式付
着滑り試験機により３／１６インチ鋼球を使用して、荷
重１０００ｇｆ、摺動速度４ｍｍ／秒の条件で摺動させ
ることにより測定した。The film hardness was determined by a pencil hardness test according to JIS K5400. The dynamic friction coefficient was measured by using a 3 / 16-inch steel ball with a Bowden-type adhesion / slip tester under the conditions of a load of 1000 gf and a sliding speed of 4 mm / sec.
【００３０】更に、ディスクシャッタ外面のアルミニウ
ム合金板の耐疵付き性は、動摩擦係数を求める試験に供
試した試験板の摺動箇所の外観を観察することにより求
めた。その評価基準は、皮膜表面に全く疵の発生のなか
ったものを○、部分的に疵の発生のあったものを△、基
材であるアルミニウム合金材まで疵が到達したものを×
として示した。ディスクシャッタ内面のアルミニウム合
金板の耐疵付き性は、先ず上記の摩擦係数を測定した方
法と同等の試験であるが、荷重のみ２００ｇｆとして実
施し、その後試験板の摺動箇所の外観を観察することに
より求めた。その評価基準は、上記ディスクシャッタ外
面のアルミニウム合金板の耐疵付き性の評価と同様であ
る。Further, the scratch resistance of the aluminum alloy plate on the outer surface of the disk shutter was determined by observing the appearance of the sliding portion of the test plate subjected to the test for determining the dynamic friction coefficient. The evaluation criteria were as follows: た: no flaws were found on the coating surface, △: partial flaws were generated, and ×: flaws reached the base aluminum alloy material.
As shown. The scratch resistance of the aluminum alloy plate on the inner surface of the disk shutter is a test equivalent to the above-described method of measuring the coefficient of friction, except that the load is set to 200 gf, and then the appearance of the sliding portion of the test plate is observed. I asked for it. The evaluation criteria are the same as the evaluation of the scratch resistance of the aluminum alloy plate on the outer surface of the disk shutter.
【００３１】更にまた、曲げ加工性は供試した材料を内
径０ｍｍの条件で９０°曲げ加工施し、９０°曲げ部の
外観を観察することにより、皮膜に割れ又はシワが発生
しなかった場合を○、皮膜に微細な割れ又はシワが発生
するものの皮膜の剥離は認められなかった場合を△、皮
膜に割れ又はシワが発生すると共に、皮膜の剥離による
磁性面に有害なゴミである微粉末の発生が認められた場
合を×として示した。Furthermore, the bendability was evaluated by subjecting the test material to 90 ° bending under the condition of an inner diameter of 0 mm, and observing the appearance of the 90 ° bent portion. ○, when fine cracks or wrinkles occur in the film, but no peeling of the film was observed. △: When cracks or wrinkles occurred in the film and fine powder that was harmful to the magnetic surface due to peeling of the film. The case where occurrence was recognized was indicated by x.
【００３２】また、ＵＶインキの密着性は、供試した材
料の表面にＵＶインキ（ＲＩＧ ＢＬＡＣＫ Ｎｏ．１
０；セイコーアドバンス（株）製）をメッシュＮｏ．２
７０のシルクスクリーンを用いて、スクリーン印刷した
後、ＵＶ照射装置（アイグラフィック（株）製）中で１
２０Ｗ／ｃｍ2×５秒の条件でＵＶ硬化させ、印刷部に
クロスカットを入れ、その部分をセロハンテープでピー
ル剥離試験をした後、印刷部のインクの剥離状態を観察
することにより調査した。その結果の評価として、イン
クの剥離の全く無かったものを○、クロスカット周辺の
インクの剥離がクロスカット部から１ｍｍ以下であった
ものを△、剥離がクロスカット部から１ｍｍより長い位
置まで到達したものを×として示した。The adhesion of the UV ink was determined by measuring the UV ink (RIG BLACK No. 1) on the surface of the test material.
0; manufactured by Seiko Advance Co., Ltd.) 2
After screen printing using a 70 silk screen, the screen was printed in a UV irradiation device (manufactured by Eye Graphic Co., Ltd.).
UV curing was performed under the conditions of 20 W / cm 2 × 5 seconds, a cross cut was made in the printed portion, and a peeling test was performed on the portion with a cellophane tape. As a result of the evaluation, the case where there was no peeling of the ink was ○, the case where the peeling of the ink around the crosscut was 1 mm or less from the crosscut part was Δ, and the peeling reached a position longer than 1 mm from the crosscut part. The result is indicated by x.
【００３３】各実施例及び比較例におけるクロメート皮
膜の組成及び膜厚は、アルミニウム合金板の表裏両面
（第１層及び第３層）で同一で下記表１に示すとおりで
ある。また、外面側樹脂皮膜第２層の組成、鉛筆硬度、
ワックス組成、ワックス粒径、ワックス量及び膜厚を下
記表２に示す。更に、内面側樹脂皮膜第４層の組成、鉛
筆硬度及び膜厚を下記表３に示す。更にまた、各実施例
及び比較例について得られた各特性の値及び評価結果を
下記表４に示す。The composition and thickness of the chromate film in each of the examples and comparative examples are the same on both the front and back surfaces (the first and third layers) of the aluminum alloy plate, and are as shown in Table 1 below. Also, the composition of the second resin layer on the outer surface side, pencil hardness,
Table 2 below shows the wax composition, the particle size of the wax, the amount of the wax, and the film thickness. Table 3 below shows the composition, pencil hardness, and film thickness of the fourth inner resin layer. Table 4 below shows the values and evaluation results of the characteristics obtained for each of the examples and comparative examples.
【００３４】[0034]
【表１】 [Table 1]
【００３５】 [0035]
【００３６】 [0036]
【００３７】[0037]
【表２】 [Table 2]
【００３８】 [0038]
【００３９】 [0039]
【００４０】[0040]
【表３】 [Table 3]
【００４１】 [0041]
【００４２】 [0042]
【００４３】[0043]
【表４】 [Table 4]
【００４４】 [0044]
【００４５】 [0045]
【００４６】この表１乃至３から明らかなように、本発
明の実施例１乃至２２は、アルミニウム合金板のディス
クシャッタ外面にクロメート皮膜が形成され、このクロ
メート皮膜の上に粒径０．５乃至１０μｍのワックスを
分散させた鉛筆硬度５Ｈ以上の樹脂皮膜が形成されると
共に、ディスクシャッタ内面側にクロメート皮膜が形成
され、このクロメート皮膜の上に鉛筆硬度３乃至５Ｈの
樹脂皮膜が形成されたものである。これらの実施例１乃
至２２は表４から明らかなように、皮膜表面硬度が高
く、潤滑性にも優れ、且つ疵が付きにくかった。また、
曲げ加工性及びＵＶインキの密着性にも優れた結果が得
られた。As is clear from Tables 1 to 3, in Examples 1 to 22 of the present invention, a chromate film was formed on the outer surface of the aluminum alloy plate disk shutter, and a particle size of 0.5 to 0.5 was formed on the chromate film. A resin film having a pencil hardness of 5H or more in which 10 μm wax is dispersed is formed, a chromate film is formed on the inner surface side of the disk shutter, and a resin film having a pencil hardness of 3 to 5H is formed on the chromate film. It is. As is clear from Table 4, these Examples 1 to 22 had high film surface hardness, excellent lubricity, and were hardly flawed. Also,
Excellent results were also obtained in bending workability and UV ink adhesion.
【００４７】特に、実施例１乃至実施例１７はディスク
シャッタ外面のクロメート皮膜の組成、膜厚及びＣｒ量
並びに樹皮皮膜に分散されたワックス量、ワックスの種
類と共に、ディスクシャッタ内面のクロメート皮膜の組
成及びＣｒ量並びに樹皮皮膜の膜厚が本発明の好ましい
範囲内にあるので、全ての評価結果が実施例１８乃至実
施例２２に比して一層優れたものとなった。In particular, Examples 1 to 17 show the composition of the chromate film on the inner surface of the disk shutter, along with the composition, film thickness and Cr content of the chromate film on the outer surface of the disk shutter, the amount of wax dispersed in the bark film, and the type of wax. And the amounts of Cr and the thickness of the bark film were within the preferred ranges of the present invention, so that all the evaluation results were more excellent than those of Examples 18 to 22.
【００４８】一方、比較例１、比較例２及び比較例４は
ディスクシャッタ外面の樹脂皮膜の鉛筆硬度が５Ｈ未満
のため、皮膜表面硬度が軟らかく疵が付きやすかった。
比較例３はディスクシャッタ外面及びディスクシャッタ
内面のいずれともクロメート皮膜が施されていないた
め、基材であるアルミニウム合金板と樹脂皮膜の密着性
が不十分となり、疵が付きやすく、且つ９０°曲げ部に
て皮膜の剥離による微粉末が発生し、磁性面に有害なゴ
ミが付着した。比較例５、比較例１０及び比較例１１は
ディスクシャッタ５外面５ａの樹脂皮膜に分散させてい
るワックスの粒径が０．５μｍ未満であったため、十分
な潤滑性が得られず、疵付き防止効果も低下し、疵が付
きやすい結果となった。比較例９、比較例１２及び比較
例１３はディスクシャッタ外面の樹脂皮膜にワックスが
含まれていなかったため、潤滑性が悪くなった。また、
ワックスによる疵付き防止効果も得られなかったため、
疵が付きやすい結果になった。On the other hand, in Comparative Examples 1, 2 and 4, since the pencil hardness of the resin film on the outer surface of the disk shutter was less than 5H, the surface hardness of the film was soft and easily damaged.
In Comparative Example 3, since neither the outer surface of the disk shutter nor the inner surface of the disk shutter was coated with a chromate film, the adhesiveness between the aluminum alloy plate as the base material and the resin film was insufficient, and the substrate was easily scratched and bent at 90 °. Fine powder was generated by peeling of the film at the portion, and harmful dust adhered to the magnetic surface. In Comparative Example 5, Comparative Example 10, and Comparative Example 11, the wax dispersed in the resin film on the outer surface 5a of the disk shutter 5 had a particle size of less than 0.5 μm, so that sufficient lubricity could not be obtained and scratches were prevented. The effect was also reduced, resulting in a flaw easily formed. In Comparative Examples 9, 12 and 13, since the resin film on the outer surface of the disk shutter did not contain wax, the lubricity deteriorated. Also,
Because the effect of preventing scratching by wax was not obtained,
The result was easy to be scratched.
【００４９】比較例６はディスクシャッタ外面の樹脂皮
膜に分散させているワックスの粒径が２０μｍと大き
く、適正範囲１０μｍを超えるため、ＵＶインキの密着
性が不十分となり、ＵＶインキの印刷において不具合を
生じた。比較例７はディスクシャッタ内面の樹脂皮膜の
鉛筆硬度が３Ｈ未満であるため、ディスクシャッタと収
納ケースの摺動によって疵が発生しやすく、磁性面に有
害なゴミが付着しやすくなった。比較例８はディスクシ
ャッタ内面の樹脂皮膜の鉛筆硬度が５Ｈを超えたため、
皮膜に柔軟性が無く、９０°曲げ加工を施した時に皮膜
が基材であるアルミニウム合金の加工変形に追従でき
ず、割れ又はシワを生じ、更にはその部分にて皮膜が剥
離し、磁性面に有害なゴミが発生した。In Comparative Example 6, since the particle size of the wax dispersed in the resin film on the outer surface of the disk shutter was as large as 20 μm and exceeded the appropriate range of 10 μm, the adhesion of the UV ink was insufficient, and there was a problem in printing the UV ink. Occurred. In Comparative Example 7, since the pencil hardness of the resin film on the inner surface of the disk shutter was less than 3H, scratches were easily generated by sliding of the disk shutter and the storage case, and harmful dust easily adhered to the magnetic surface. In Comparative Example 8, since the pencil hardness of the resin film on the inner surface of the disk shutter exceeded 5H,
The coating is not flexible, and when subjected to 90 ° bending, the coating cannot follow the deformation of the aluminum alloy as the base material, causing cracks or wrinkles. Harmful garbage was generated.
【００５０】一方、比較例１４は陽極酸化処理された皮
膜であるため、９０°曲げ加工において曲げ内部にて皮
膜が割れ及び剥離が発生し、磁性面に有害なゴミが生じ
た。比較例１５は無処理材であり、疵がはいりやすく、
更にはＵＶインキの密着性も悪かった。On the other hand, in Comparative Example 14, since the film was subjected to anodizing treatment, the film was cracked and peeled inside the bend during 90 ° bending, and harmful dust was generated on the magnetic surface. Comparative Example 15 is an untreated material, and is easily scratched.
Furthermore, the adhesion of the UV ink was poor.
【００５１】[0051]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るディ
スクシャッタ用アルミニウム又はアルミニウム合金板に
よれば、シャッタ外面側のアルミニウム又はアルミニウ
ム合金板の表面上に第１層のクロメート皮膜と、適切な
粒径のワックスが分散された適切な表面硬度を有する第
２層樹脂皮膜とが形成されていると共に、外面側となる
表面上には第３層クロメート皮膜と、適切な表面硬度の
第４層樹脂皮膜とが形成されているので、ディスクシャ
ッタ外面側の表面硬度が十分に高く、表面の潤滑性にも
優れていると共に、耐疵付き性が優れており、磁性面に
有害なほこり等が付着することを防止できる。また、デ
ィスクシャッタ内面側の皮膜は柔軟性を有し、適度な表
面硬度を有するので、９０°曲げ部での皮膜の割れ及び
剥離による微粉末の発生を防止できると共に、ディスク
シャッタと収納ケースの摺動による疵の発生を回避でき
る。そして、ディスクシャッタ外面側の皮膜に分散され
るワックスの粒径及び量を適正化することにより、ＵＶ
インキの密着性が向上すると共に、記録用ディスク使用
時における印刷部の剥離を防止できる。As described above, according to the aluminum or aluminum alloy plate for a disk shutter according to the present invention, the first layer of the chromate film is formed on the surface of the aluminum or aluminum alloy plate on the outer surface of the shutter. A second layer resin film having an appropriate surface hardness in which wax having a particle size is dispersed, a third layer chromate film on an outer surface, and a fourth layer having an appropriate surface hardness. Since the resin film is formed, the surface hardness of the outer surface of the disk shutter is sufficiently high, the surface lubrication is excellent, and the scratch resistance is excellent, and dust harmful to the magnetic surface is reduced. Adherence can be prevented. In addition, since the film on the inner surface side of the disk shutter has flexibility and an appropriate surface hardness, it is possible to prevent generation of fine powder due to cracking and peeling of the film at the 90 ° bending portion, and to prevent the disk shutter and the storage case from being damaged. The generation of flaws due to sliding can be avoided. By optimizing the particle size and amount of wax dispersed in the film on the outer surface side of the disk shutter,
The adhesiveness of the ink is improved, and peeling of the printed portion when the recording disk is used can be prevented.
【００５２】特に、ディスクシャッタ外面第２層におい
て所定膜厚の樹脂皮膜、所定量分散させたワックス及び
所定の種類のワックスを規定し、更にディスクシャッタ
内面第４層において所定膜厚の樹脂皮膜を規定すると共
に、ディスクシャッタ外面第１層及び内面第３層におい
て所定のＣｒ量を規定することにより、潤滑性、耐疵付
き性、曲げ加工性及びＵＶインキの密着性はより一層優
れたものとなる。In particular, a resin film having a predetermined thickness, a predetermined amount of dispersed wax and a predetermined type of wax are defined on the second layer on the outer surface of the disk shutter, and the resin film having a predetermined thickness is further formed on the fourth layer on the inner surface of the disk shutter. By defining the predetermined amount of Cr in the first outer layer and the third inner layer of the disk shutter, the lubricating property, scratch resistance, bending workability, and adhesion of the UV ink are further improved. Become.
【図１】本発明の実施例に係るアルミニウム又はアルミ
ニウム合金板が使用されたディスクシャッタを示す斜視
図である。FIG. 1 is a perspective view showing a disk shutter using an aluminum or aluminum alloy plate according to an embodiment of the present invention.
【図２】同じくその横断面図である。FIG. 2 is a cross sectional view of the same.
【図３】本発明の実施例に係る記録用磁気ディスク媒体
が収納されたフロッピーディスクを示す正面図である。FIG. 3 is a front view showing a floppy disk containing a recording magnetic disk medium according to the embodiment of the present invention.
１；フロッピーディスク ２；記録用磁気ディスク媒体 ３；ケース ４、５：ディスクシャッタ ５ａ；ディスクシャッタ外面 ５ｂ；ディスクシャッタ内面 ５ｃ；窓 ５ｄ；９０°曲げ部 Reference Signs List 1; floppy disk 2: recording magnetic disk medium 3: case 4, 5: disk shutter 5a; disk shutter outer surface 5b; disk shutter inner surface 5c; window 5d;
Claims (6)
た記録ヘッド用窓部を開閉する断面コ字型シャッタに使
用されるディスクシャッタ用アルミニウム又はアルミニ
ウム合金板において、シャッタ外面側のアルミニウム又
はアルミニウム合金板の表面上に形成されたクロメート
皮膜第１層と、この第１層の上に形成され粒径０．５乃
至１０μｍのワックスを分散させた鉛筆硬度５Ｈ以上の
樹脂皮膜第２層と、シャッタ内面側のアルミニウム又は
アルミニウム合金板の表面に形成されたクロメート皮膜
第３層と、この第３層の上に形成され鉛筆硬度３Ｈ乃至
５Ｈの樹脂皮膜第４層とを有することを特徴とするディ
スクシャッタ用アルミニウム又はアルミニウム合金板。1. An aluminum or aluminum alloy plate for a disk shutter used in a U-shaped shutter for opening and closing a recording head window provided in a case for accommodating a recording disk. A first layer of a chromate film formed on the surface of the plate, a second layer of a resin film having a pencil hardness of 5H or more, on which a wax having a particle size of 0.5 to 10 μm is dispersed and formed on the first layer; A disk comprising: a third layer of a chromate film formed on the inner surface of an aluminum or aluminum alloy plate; and a fourth layer of a resin film having a pencil hardness of 3H to 5H formed on the third layer. Aluminum or aluminum alloy plate for shutter.
μｍの膜厚を有することを特徴とする請求項１に記載の
ディスクシャッタ用アルミニウム又はアルミニウム合金
板。2. The resin coating second layer has a thickness of 0.5 to 20.
2. The aluminum or aluminum alloy plate for a disk shutter according to claim 1, having a thickness of μm.
厚を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のデ
ィスクシャッタ用アルミニウム又はアルミニウム合金
板。3. The aluminum or aluminum alloy plate for a disk shutter according to claim 1, wherein the fourth layer of the resin film has a thickness of 1 μm or less.
スの量は皮膜重量に対して０．５乃至１０重量％である
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載
のディスクシャッタ用アルミニウム又はアルミニウム合
金板。4. The method according to claim 1, wherein the amount of the wax dispersed in the second layer of the resin film is 0.5 to 10% by weight based on the weight of the film. Aluminum or aluminum alloy plate for disk shutter.
スの種類は高分子ＰＥワックス、ＰＴＥＦワックス及び
フッ素系ワックスからなる球状分散型ワックスの群から
選択された１種であることを特徴とする請求項１乃至４
のいずれか１項に記載のディスクシャッタ用アルミニウ
ム又はアルミニウム合金板。5. The kind of the wax dispersed in the second layer of the resin film is one selected from the group consisting of spherical dispersion type wax composed of polymer PE wax, PTEF wax and fluorine-based wax. Claims 1 to 4
5. The aluminum or aluminum alloy plate for a disk shutter according to claim 1.
メート皮膜第３層が塗布型クロメート処理又はリン酸ク
ロメート処理によるものであり、その付着量がＣｒ量で
５乃至３０ｍｇ／ｍ2であることを特徴とする請求項１
乃至５のいずれか１項に記載のディスクシャッタ用アル
ミニウム又はアルミニウム合金板。6. The chromate film first layer and the chromate film third layer are formed by a coating type chromate treatment or a phosphoric acid chromate treatment, and the adhesion amount is 5 to 30 mg / m 2 in Cr amount. Claim 1.
6. The aluminum or aluminum alloy plate for a disk shutter according to any one of claims 1 to 5.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03656997A JP3476115B2 (en) | 1997-02-20 | 1997-02-20 | Aluminum or aluminum alloy plate for disk shutter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03656997A JP3476115B2 (en) | 1997-02-20 | 1997-02-20 | Aluminum or aluminum alloy plate for disk shutter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10233074A true JPH10233074A (en) | 1998-09-02 |
| JP3476115B2 JP3476115B2 (en) | 2003-12-10 |
Family
ID=12473407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03656997A Expired - Fee Related JP3476115B2 (en) | 1997-02-20 | 1997-02-20 | Aluminum or aluminum alloy plate for disk shutter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3476115B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0502478A2 (en) * | 1991-03-06 | 1992-09-09 | Elpatronic Ag | Procedure of resistance welding in particular with alternating non sinusoidal welding current and arrangement for the working of the procedure |
| US6542459B2 (en) * | 1998-05-28 | 2003-04-01 | Tdk Corporation | Cartridge and manufacturing method thereof |
| US6816340B2 (en) * | 2001-03-14 | 2004-11-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Disk cartridge |
-
1997
- 1997-02-20 JP JP03656997A patent/JP3476115B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0502478A2 (en) * | 1991-03-06 | 1992-09-09 | Elpatronic Ag | Procedure of resistance welding in particular with alternating non sinusoidal welding current and arrangement for the working of the procedure |
| EP0502478B1 (en) * | 1991-03-06 | 1995-10-11 | Elpatronic Ag | Procedure of resistance welding in particular with alternating non sinusoidal welding current and arrangement for the working of the procedure |
| US6542459B2 (en) * | 1998-05-28 | 2003-04-01 | Tdk Corporation | Cartridge and manufacturing method thereof |
| US6816340B2 (en) * | 2001-03-14 | 2004-11-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Disk cartridge |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3476115B2 (en) | 2003-12-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100473517B1 (en) | An aluminium plate having a film and an electronic device member using the same | |
| TWI401157B (en) | Pre-coated metal sheet for slot-in drive cases | |
| JP4134237B2 (en) | Pre-coated metal plate | |
| US5512111A (en) | Aluminum alloy material for shutter of recording medium cassette, process for producing the same, and aluminum alloy shutter made of the same | |
| JP4067368B2 (en) | Pre-coated aluminum alloy plate with excellent scratch resistance for electrical and electronic equipment casings | |
| JPH10233074A (en) | Aluminum for disk shutter or aluminum alloy plate | |
| KR101009869B1 (en) | Precoated metal plate | |
| JP2003200738A (en) | Weatherstrip | |
| WO2006080447A1 (en) | Precoated metal sheet and process for producing the same | |
| JP3499733B2 (en) | Aluminum material for disk shutter | |
| JP2004306322A (en) | Resin-coated aluminum material and molded product using it | |
| US5835318A (en) | Disk cartridge with shutter and stock roll therefor | |
| JPH10272724A (en) | Resin coated aluminum alloy plate material | |
| JP3298608B2 (en) | Aluminum alloy coated plate for recording medium cassette shutter excellent in slidability and recording medium cassette shutter made of the aluminum alloy coated plate | |
| JP3476364B2 (en) | Aluminum material for disk shutter | |
| US5144134A (en) | Method for determining the quality of a lubricant layer on a magnetic recording medium by detecting electrons at varying drawing angles | |
| JP2002260361A (en) | Aluminum alloy sheet for recording medium case shutter | |
| JP4482364B2 (en) | Aluminum plate for electronic equipment and molded product for electronic equipment using the same | |
| JPH1064223A (en) | Aluminum or aluminum alloy plate material for disk shutter | |
| JP4108284B2 (en) | Aluminum alloy plate for shutter of recording medium case | |
| EP1095989A2 (en) | Resin-coated metal sheet for parts of electronic machinery and tools and production method thereof | |
| JPH09228074A (en) | Surface treated steel sheet excellent in fingerprint resistance and its production | |
| JP2001205730A (en) | Resin coated metal sheet for electronic apparatus component excellent in electroconductivity, manufacturing method therefor and electronic apparatus component using the same | |
| JPH1173749A (en) | Aluminum or aluminum alloy sheet material for disk shutter and its production | |
| JP2001184845A (en) | Coating film coated aluminum alloy material for recording medium drive case |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070926 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080926 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |