JPH10232288A - ターゲット上へのレーザシステムの照準及び集束を制御する装置 - Google Patents
ターゲット上へのレーザシステムの照準及び集束を制御する装置Info
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- JPH10232288A JPH10232288A JP10016501A JP1650198A JPH10232288A JP H10232288 A JPH10232288 A JP H10232288A JP 10016501 A JP10016501 A JP 10016501A JP 1650198 A JP1650198 A JP 1650198A JP H10232288 A JPH10232288 A JP H10232288A
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- Japan
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21B—FUSION REACTORS
- G21B1/00—Thermonuclear fusion reactors
- G21B1/11—Details
- G21B1/23—Optical systems, e.g. for irradiating targets, for heating plasma or for plasma diagnostics
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Lasers (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ターゲットへのレーザシステムの照準及び集
束の精密な設定を可能にする。 【解決手段】 レーザシステムの照準及び集束を制御す
る装置は、実ターゲットと同じ位置に置かれ且つ同じ方
向を向く擬似反射ターゲット(21)、擬似ターゲット
に光線を集束させるレンズ(12)、セパレータ装置
(11)、波面解析器(35)、鏡(33)、及び半反
射板(32)を含む。光線(1)はセパレータ装置(1
1)で反射され、擬似ターゲット(21)に集束され
る。セパレータ装置(11)で反射された光線の部分と
同じ波長を有する部分(31)は、この装置及び半反射
板(32)を通り、波面解析器(35)に向けられる。
擬似ターゲット(21)で反射された光線はセパレータ
格子(11)を通り、鏡(33)及び半反射板(32)
で反射され、波面解析器(35)に向けられる。波面解
析器(35)は二つの波面の間の差分解析を行う。
束の精密な設定を可能にする。 【解決手段】 レーザシステムの照準及び集束を制御す
る装置は、実ターゲットと同じ位置に置かれ且つ同じ方
向を向く擬似反射ターゲット(21)、擬似ターゲット
に光線を集束させるレンズ(12)、セパレータ装置
(11)、波面解析器(35)、鏡(33)、及び半反
射板(32)を含む。光線(1)はセパレータ装置(1
1)で反射され、擬似ターゲット(21)に集束され
る。セパレータ装置(11)で反射された光線の部分と
同じ波長を有する部分(31)は、この装置及び半反射
板(32)を通り、波面解析器(35)に向けられる。
擬似ターゲット(21)で反射された光線はセパレータ
格子(11)を通り、鏡(33)及び半反射板(32)
で反射され、波面解析器(35)に向けられる。波面解
析器(35)は二つの波面の間の差分解析を行う。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ターゲット上への
レーザシステムの照準及び集束を制御する装置に関す
る。本発明は特に、例えば熱核プラズマの物理的特性の
研究に使用されるパワーレーザの分野に適用することが
できる。この種のプラズマは、例えば高真空の空洞内に
位置するカプセル内に置かれるターゲットの周囲にレー
ザ光線を集束させることによって得られる。
レーザシステムの照準及び集束を制御する装置に関す
る。本発明は特に、例えば熱核プラズマの物理的特性の
研究に使用されるパワーレーザの分野に適用することが
できる。この種のプラズマは、例えば高真空の空洞内に
位置するカプセル内に置かれるターゲットの周囲にレー
ザ光線を集束させることによって得られる。
【0002】
【従来の技術】核融合反応をトリガするエネルギーを得
るためには、複数の光線をターゲット上に集束させなけ
ればならない。光線の数は、例えば200を超えること
もある。中出力レーザ、一般的には1.054μmに等
しい波長を有し1ジュール程度のエネルギーを与えるネ
オジミウム/ガラスレーザから出る光線は、通路が複数
ある増幅系内に配置された光増幅器によって増幅され
る。その後、この光線は、数キロジュールにもなること
があるエネルギーを有する、0.351μmに等しい波
長を有する紫外線出力光線を得るために使用される非線
形結晶に送られる。その後、光線の全体は、数百キロジ
ュールに等しいエネルギーをターゲットに供給する。
るためには、複数の光線をターゲット上に集束させなけ
ればならない。光線の数は、例えば200を超えること
もある。中出力レーザ、一般的には1.054μmに等
しい波長を有し1ジュール程度のエネルギーを与えるネ
オジミウム/ガラスレーザから出る光線は、通路が複数
ある増幅系内に配置された光増幅器によって増幅され
る。その後、この光線は、数キロジュールにもなること
があるエネルギーを有する、0.351μmに等しい波
長を有する紫外線出力光線を得るために使用される非線
形結晶に送られる。その後、光線の全体は、数百キロジ
ュールに等しいエネルギーをターゲットに供給する。
【0003】二つのタイプのターゲットがあり得る。直
径1mmの微小ビードからなる第一のタイプのターゲッ
トは直接取り付けられる。第二のタイプのターゲットは
間接的に取り付けられる。この場合、前述の微小ビード
は例えば直径1cmのシリンダ内に位置する。前者の場
合では、光線をビードの厳密なポイントに、中心に、表
面上に、またはその他の場所に集束させる必要がある。
後者の場合では、光線をシリンダの基部に形成された円
形開口に集束させなければならない。したがっていずれ
の場合も、光線は厳密なポイントに収束させなければな
らない。この要件は、x、y方向の横方向の設定、及び
z方向の縦方向の設定を確実にする必要があることを意
味する。
径1mmの微小ビードからなる第一のタイプのターゲッ
トは直接取り付けられる。第二のタイプのターゲットは
間接的に取り付けられる。この場合、前述の微小ビード
は例えば直径1cmのシリンダ内に位置する。前者の場
合では、光線をビードの厳密なポイントに、中心に、表
面上に、またはその他の場所に集束させる必要がある。
後者の場合では、光線をシリンダの基部に形成された円
形開口に集束させなければならない。したがっていずれ
の場合も、光線は厳密なポイントに収束させなければな
らない。この要件は、x、y方向の横方向の設定、及び
z方向の縦方向の設定を確実にする必要があることを意
味する。
【0004】ターゲット上への光線の照準及び集束は、
ファイヤリング操作に応じて半径5mmの球面領域中に
ターゲットを位置決めすることが可能な、例えば50μ
m程度の三次元精度で行わなければならない。
ファイヤリング操作に応じて半径5mmの球面領域中に
ターゲットを位置決めすることが可能な、例えば50μ
m程度の三次元精度で行わなければならない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、第一
及び第二タイプのターゲット上へのレーザシステムの照
準及び集束の精密な設定を可能にすることである。
及び第二タイプのターゲット上へのレーザシステムの照
準及び集束の精密な設定を可能にすることである。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的のために、本発
明が対象とするのは、搬送系を介してターゲット上にレ
ーザ光線を照準及び集束させる装置であって、実質的に
ターゲットと同じ位置に置かれ且つ同じ方向を向く少な
くとも一つの反射擬似ターゲットと、この擬似ターゲッ
ト上に光線を集束させるレンズと、セパレータ装置と、
波面解析器と、鏡と、半反射板とを含み、光線は、セパ
レータ装置で反射された後にシステムの終端部で擬似タ
ーゲット上に集束され、該光線のセパレータ装置で反射
された部分と同じ波長を有する部分が、該装置及び半反
射板を通り、第一波面を波面解析器に向け、擬似ターゲ
ットで反射された光線がセパレータ格子を通り、鏡及び
半反射板で反射されて第二波面を波面解析器に向け、照
準及び集束の測定は、該波面解析器による二つの波面の
間の差分解析によって得られる。
明が対象とするのは、搬送系を介してターゲット上にレ
ーザ光線を照準及び集束させる装置であって、実質的に
ターゲットと同じ位置に置かれ且つ同じ方向を向く少な
くとも一つの反射擬似ターゲットと、この擬似ターゲッ
ト上に光線を集束させるレンズと、セパレータ装置と、
波面解析器と、鏡と、半反射板とを含み、光線は、セパ
レータ装置で反射された後にシステムの終端部で擬似タ
ーゲット上に集束され、該光線のセパレータ装置で反射
された部分と同じ波長を有する部分が、該装置及び半反
射板を通り、第一波面を波面解析器に向け、擬似ターゲ
ットで反射された光線がセパレータ格子を通り、鏡及び
半反射板で反射されて第二波面を波面解析器に向け、照
準及び集束の測定は、該波面解析器による二つの波面の
間の差分解析によって得られる。
【0007】本発明の主な利点は、実施が簡単であるこ
と、必要とされる素子が少ないこと、容易かつ迅速な設
定が可能であること、及び経済的であることである。
と、必要とされる素子が少ないこと、容易かつ迅速な設
定が可能であること、及び経済的であることである。
【0008】本発明のその他の特徴及び利点は、添付の
図面に関して以下の説明を読めば明らかになるであろ
う。
図面に関して以下の説明を読めば明らかになるであろ
う。
【0009】
【発明の実施の形態】図1は、増幅されたレーザ光線1
の、例えば集束点2で表す増幅系の出口と、例えば重水
素及び三重水素の混合物の入ったカプセルなどのターゲ
ットまたはカプセル3との間の経路の一例を示す図であ
る。核融合反応を開始させるためには、図1の光線1な
どの多数の光線をこのカプセル3上に集束させなければ
ならない。増幅系の出口2の後にはレーザ光線1を平行
にするレンズ4がある。その後この光線はいくつかの鏡
5、6、7、8で反射され、例えば二つの非線形結晶
9、10を横切って赤外領域から紫外領域に、すわなち
例えば波長1.053μmから波長0.351μmに移
る。非線形結晶から出力されるレーザ光線1は、これを
ターゲット3上に集束させる第二レンズ12に到達する
前に、例えば鏡11で反射される。鏡11は、反射また
は透過モードで動作する格子にすることもできる。ま
た、集束格子の場合には、レンズ12と同じものにする
こともできる。
の、例えば集束点2で表す増幅系の出口と、例えば重水
素及び三重水素の混合物の入ったカプセルなどのターゲ
ットまたはカプセル3との間の経路の一例を示す図であ
る。核融合反応を開始させるためには、図1の光線1な
どの多数の光線をこのカプセル3上に集束させなければ
ならない。増幅系の出口2の後にはレーザ光線1を平行
にするレンズ4がある。その後この光線はいくつかの鏡
5、6、7、8で反射され、例えば二つの非線形結晶
9、10を横切って赤外領域から紫外領域に、すわなち
例えば波長1.053μmから波長0.351μmに移
る。非線形結晶から出力されるレーザ光線1は、これを
ターゲット3上に集束させる第二レンズ12に到達する
前に、例えば鏡11で反射される。鏡11は、反射また
は透過モードで動作する格子にすることもできる。ま
た、集束格子の場合には、レンズ12と同じものにする
こともできる。
【0010】このターゲット3上に収束されたレーザ光
線のエネルギーは、例えば数キロジュールになる可能性
がある。ターゲット3上への照準及び集束は、例えば5
0μmの三次元精度で行わなければならない。ターゲッ
トは、ファイヤリング操作に応じて、半径5mmの球面
領域中に置くことが可能でなければならない。例えば様
々な光学系のシフトや非線形効果等、調節不調の原因が
多数あるので、一般にターゲット3上への光線1の設定
は、特に各ファイヤリング操作の前に行う必要がある。
線のエネルギーは、例えば数キロジュールになる可能性
がある。ターゲット3上への照準及び集束は、例えば5
0μmの三次元精度で行わなければならない。ターゲッ
トは、ファイヤリング操作に応じて、半径5mmの球面
領域中に置くことが可能でなければならない。例えば様
々な光学系のシフトや非線形効果等、調節不調の原因が
多数あるので、一般にターゲット3上への光線1の設定
は、特に各ファイヤリング操作の前に行う必要がある。
【0011】図2は、レーザ光線をターゲット上に照準
及び集束させるために使用する本発明による装置の、可
能な実施形態の一例を示す図である。この図はさらに、
レーザ光線1の経路上に見られる図1の最後のいくつか
の素子、すなわち第二非線形結晶10及び集束レンズ1
2を含む。鏡11は、例えば回折格子やダイクロイック
プレートなどのセパレータ装置で置き換えられる。ター
ゲット3は、擬似反射ターゲット21で置き換えること
ができる。光線は、例えば平滑にすることができる。
及び集束させるために使用する本発明による装置の、可
能な実施形態の一例を示す図である。この図はさらに、
レーザ光線1の経路上に見られる図1の最後のいくつか
の素子、すなわち第二非線形結晶10及び集束レンズ1
2を含む。鏡11は、例えば回折格子やダイクロイック
プレートなどのセパレータ装置で置き換えられる。ター
ゲット3は、擬似反射ターゲット21で置き換えること
ができる。光線は、例えば平滑にすることができる。
【0012】図2は、第二非線形結晶10の下流側に配
置された回折格子またはダイクロイックプレート11
が、非線形結晶9、10を透過した波長0.35μmを
有する光線の一部を反射し、集束レンズ12及び擬似タ
ーゲット21に向ける様子を示す。本発明による装置
は、このセパレータ装置11からの透過損失31を使用
するので有利である。本発明による装置は、第一半反射
鏡32、鏡33、例えばフィルタ34、波面解析器3
5、集束レンズ12、例えば直交する照準軸を有する二
つのカメラによって特定の許容範囲内で、実質的にター
ゲットと同じ位置に置かれ且つ同じ方向に向けられる擬
似反射ターゲット21を有する。
置された回折格子またはダイクロイックプレート11
が、非線形結晶9、10を透過した波長0.35μmを
有する光線の一部を反射し、集束レンズ12及び擬似タ
ーゲット21に向ける様子を示す。本発明による装置
は、このセパレータ装置11からの透過損失31を使用
するので有利である。本発明による装置は、第一半反射
鏡32、鏡33、例えばフィルタ34、波面解析器3
5、集束レンズ12、例えば直交する照準軸を有する二
つのカメラによって特定の許容範囲内で、実質的にター
ゲットと同じ位置に置かれ且つ同じ方向に向けられる擬
似反射ターゲット21を有する。
【0013】擬似ターゲット21は、実ターゲットのそ
れよりも大きい直径を有する、例えば直径10mmの反
射ビードから構成され、その中心は例えば、直接取付け
の場合の設定では微小ビードの中心に、また間接取付け
の場合にはシリンダの一方基部の中心に配置される。後
者の場合では、ビードは例えば次に他方の基部の中心に
配置され、収束光線をこの第二の基部に向けて調節す
る。この可動ビードはまた、図3aに示すような端部に
二つの球体42、43を有するシリンダ41で置き換え
ることもできる。このビードはさらに、図3bに示すよ
うな端部に二つの半球体45、46を有するシリンダ4
4で置き換えることもできる。さらに一般的には擬似タ
ーゲットは、例えば一つまたは複数の反射球面から構成
され、所定の集束点に心合わせされ、例えば直交する照
準軸を有する二つのカメラによって実ターゲットと同じ
位置に置かれ且つ同じ方向に向けられる。
れよりも大きい直径を有する、例えば直径10mmの反
射ビードから構成され、その中心は例えば、直接取付け
の場合の設定では微小ビードの中心に、また間接取付け
の場合にはシリンダの一方基部の中心に配置される。後
者の場合では、ビードは例えば次に他方の基部の中心に
配置され、収束光線をこの第二の基部に向けて調節す
る。この可動ビードはまた、図3aに示すような端部に
二つの球体42、43を有するシリンダ41で置き換え
ることもできる。このビードはさらに、図3bに示すよ
うな端部に二つの半球体45、46を有するシリンダ4
4で置き換えることもできる。さらに一般的には擬似タ
ーゲットは、例えば一つまたは複数の反射球面から構成
され、所定の集束点に心合わせされ、例えば直交する照
準軸を有する二つのカメラによって実ターゲットと同じ
位置に置かれ且つ同じ方向に向けられる。
【0014】擬似反射ターゲットで反射された光線はセ
パレータ装置11を通り、鏡33及び鏡32で反射さ
れ、フィルタ34を通って波面解析器35に向けられ、
この解析器によって解析される。
パレータ装置11を通り、鏡33及び鏡32で反射さ
れ、フィルタ34を通って波面解析器35に向けられ、
この解析器によって解析される。
【0015】セパレータ装置11を透過した光線31
は、半反射鏡を通って紫外線波長、すなわち波長0.3
5μmのみを透過させるフィルタ34に到達する。その
後光線は波面解析器35に向かう。
は、半反射鏡を通って紫外線波長、すなわち波長0.3
5μmのみを透過させるフィルタ34に到達する。その
後光線は波面解析器35に向かう。
【0016】非線形結晶10を通る、擬似ターゲットに
入射する波面と同じ平均波面38は、ほぼ平面である。
擬似反射ターゲット21上に精密に照準及び集束させる
場合には、平均戻り波面もまたほぼ平面でなければなら
ず、特に、入射波面と完全に重なることが必要である。
そのようにならない場合には、照準及び集束は保証され
ない。照準の不調または焦点のずれにより、特に入射波
面が非対称的または対称的に変形する。
入射する波面と同じ平均波面38は、ほぼ平面である。
擬似反射ターゲット21上に精密に照準及び集束させる
場合には、平均戻り波面もまたほぼ平面でなければなら
ず、特に、入射波面と完全に重なることが必要である。
そのようにならない場合には、照準及び集束は保証され
ない。照準の不調または焦点のずれにより、特に入射波
面が非対称的または対称的に変形する。
【0017】光線は、波面解析器35を使用することに
よって擬似反射ターゲット21に照準され、集束され
る。照準及び集束の測定は、擬似ターゲットに入射する
波面及びこれから反射される波面の差分解析によって達
成される。これは、擬似ターゲットに入射する波面に基
づいて行う解析である。入射波面はほぼ平面であるの
で、正確な照準及び集束は、入射波面及び反射波面を同
等なものにする。レーザパルスの全長は、20msであ
り例えば3msのピークを有する。波面解析器で、出射
及び入射パルスは、例えばそれらが装置に入ってから装
置から出るまでに進む経路の差に対応する時間により分
離される。直接波はd(11から32)/cであり、解
析波は[d(11から12)+d(12から21)+d
(21から12)+d(12から11)+d(11から
33)+d(33から32)]/cである。ここでcは
光速、d(iからj)は図2のiで参照される素子とj
で参照される素子との間の距離を表す。距離dが与えら
れるので、解析器35にこれら二つの波が同時に存在す
ることはない。
よって擬似反射ターゲット21に照準され、集束され
る。照準及び集束の測定は、擬似ターゲットに入射する
波面及びこれから反射される波面の差分解析によって達
成される。これは、擬似ターゲットに入射する波面に基
づいて行う解析である。入射波面はほぼ平面であるの
で、正確な照準及び集束は、入射波面及び反射波面を同
等なものにする。レーザパルスの全長は、20msであ
り例えば3msのピークを有する。波面解析器で、出射
及び入射パルスは、例えばそれらが装置に入ってから装
置から出るまでに進む経路の差に対応する時間により分
離される。直接波はd(11から32)/cであり、解
析波は[d(11から12)+d(12から21)+d
(21から12)+d(12から11)+d(11から
33)+d(33から32)]/cである。ここでcは
光速、d(iからj)は図2のiで参照される素子とj
で参照される素子との間の距離を表す。距離dが与えら
れるので、解析器35にこれら二つの波が同時に存在す
ることはない。
【0018】擬似ターゲット上での光線の横方向の位置
決め、すなわち照準、及び擬似ターゲット上での縦方向
の位置決め、すなわち集束は、例えば波面解析器への入
射光線及びこれからの反射光線の差分の痕跡を解析する
ことによって行われる。波面解析器は、出射及び入射波
面の解析を可能にする。例えばHartmann解析器
など、当業者に知られているこの種の解析器は、一つの
同じ平面に位置する穴または微小レンズを有する。これ
らの微小レンズは、波面が平面である場合には全ての収
束点が互いに等間隔をなすように、擬似ターゲット21
で反射された光線をいくつかの収束点に集束させる。反
射された波面が平面でない場合には、収束点は等間隔に
ならない。
決め、すなわち照準、及び擬似ターゲット上での縦方向
の位置決め、すなわち集束は、例えば波面解析器への入
射光線及びこれからの反射光線の差分の痕跡を解析する
ことによって行われる。波面解析器は、出射及び入射波
面の解析を可能にする。例えばHartmann解析器
など、当業者に知られているこの種の解析器は、一つの
同じ平面に位置する穴または微小レンズを有する。これ
らの微小レンズは、波面が平面である場合には全ての収
束点が互いに等間隔をなすように、擬似ターゲット21
で反射された光線をいくつかの収束点に集束させる。反
射された波面が平面でない場合には、収束点は等間隔に
ならない。
【0019】照準は、例えばHartmann解析器で
行う波面の解析結果に応じて、例えば増幅システムの出
口2からの光線の搬送系4、5、6、7、8、9、1
0、11、12内に置かれた鏡5ないし8の位置及び向
きを動かすことで修正される。集束は、例えば擬似ター
ゲット21上に光線を集束させるレンズ12を調節する
ことによって修正される。
行う波面の解析結果に応じて、例えば増幅システムの出
口2からの光線の搬送系4、5、6、7、8、9、1
0、11、12内に置かれた鏡5ないし8の位置及び向
きを動かすことで修正される。集束は、例えば擬似ター
ゲット21上に光線を集束させるレンズ12を調節する
ことによって修正される。
【0020】本発明による装置により、ターゲット上へ
のレーザシステムの照準及び集束を精密かつ自動的に設
定することができる。これは実施が簡単であり、わずか
の素子しか必要としない。さらに、全てのシステムを同
時に容易かつ迅速に設定することができる。照準及び集
束を改善するために、この装置の波面解析器を増幅系に
含まれる波面修正器を案内する手段に接続することもで
きる。
のレーザシステムの照準及び集束を精密かつ自動的に設
定することができる。これは実施が簡単であり、わずか
の素子しか必要としない。さらに、全てのシステムを同
時に容易かつ迅速に設定することができる。照準及び集
束を改善するために、この装置の波面解析器を増幅系に
含まれる波面修正器を案内する手段に接続することもで
きる。
【0021】波面解析器を使用して入射波面の発達を解
析することによって、擬似ターゲット21を実ターゲッ
ト3で置き換えた後で、搬送系の照準を維持することが
できる。最後に、波面解析器により、平滑化、増幅、三
重化を最適化するために入射波面の公称フラックスの振
幅及び位相を測定することが可能になり、増幅系の増幅
器が動作している際にアラインメントの変化を考慮する
ことが可能になる。
析することによって、擬似ターゲット21を実ターゲッ
ト3で置き換えた後で、搬送系の照準を維持することが
できる。最後に、波面解析器により、平滑化、増幅、三
重化を最適化するために入射波面の公称フラックスの振
幅及び位相を測定することが可能になり、増幅系の増幅
器が動作している際にアラインメントの変化を考慮する
ことが可能になる。
【0022】本発明による装置で使用するレーザ光線1
は、例えば実使用波長、例えば350nmであり、低エ
ネルギーで動作する増幅系または補助光源から出力され
る。
は、例えば実使用波長、例えば350nmであり、低エ
ネルギーで動作する増幅系または補助光源から出力され
る。
【図1】増幅ラインの出力からターゲットまでレーザ光
線を搬送するシステムの実施形態を示す図である。
線を搬送するシステムの実施形態を示す図である。
【図2】本発明による装置の可能な実施形態の一例を示
す図である。
す図である。
【図3a】間接取付け用の擬似ターゲットの可能な実施
形態の一例を示す図である。
形態の一例を示す図である。
【図3b】間接取付け用の擬似ターゲットの可能な実施
形態の一例を示す図である。
形態の一例を示す図である。
1 レーザ光線 10 非線形結晶 11、33 鏡 12 集束レンズ 21 擬似ターゲット 31 透過損失 32 半反射鏡 34 フィルタ 35 波面解析器 38 平均波面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 パトリス・ジヤノ フランス国、77240・セーヌ・ポール、リ ユ・ドウ・ムラン、20
Claims (8)
- 【請求項1】 搬送系を介してターゲット上にレーザ光
線を照準及び集束させる装置であって、実質的ターゲッ
トと同じ位置に置かれ且つ同じ方向を向く少なくとも一
つの擬似反射ターゲットと、この擬似ターゲット上に光
線を集束させるレンズと、セパレータ装置と、波面解析
器と、鏡と、半反射板とを含み、光線が、セパレータ装
置で反射された後にシステムの終端部で擬似ターゲット
上に集束され、該光線のセパレータ装置で反射された部
分と同じ波長を有する部分が、該装置及び半反射板を通
り、第一波面を波面解析器に向け、擬似ターゲットで反
射された光線が、セパレータ格子を通り、鏡及び半反射
板で反射されて第二波面を波面解析器に向け、照準及び
集束の測定が、該波面解析器による二つの波面の間の差
分解析によって得られる、レーザ光線の照準及び集束装
置。 - 【請求項2】 波面解析器がHartmann解析器か
ら構成される、請求項1に記載の装置。 - 【請求項3】 擬似ターゲット上での光線の横方向及び
縦方向の位置が、波面解析器への入射光線及び該波面解
析器からの反射光線の示差痕跡を解析することによって
測定される、請求項1に記載の装置。 - 【請求項4】 使用されるレーザ光線が実際の使用波長
である、請求項1に記載の装置。 - 【請求項5】 擬似ターゲットが、一つまたは複数の反
射球面から構成され、所定の集束点に心合わせされ、実
ターゲットと同じ位置に置かれ且つ同じ方向を向く、請
求項1に記載の装置。 - 【請求項6】 擬似ターゲットが、端部に二つの球体を
有するシリンダから構成される、請求項5に記載の装
置。 - 【請求項7】 擬似ターゲットが、端部に二つの半球体
を有するシリンダから構成される、請求項5に記載の装
置。 - 【請求項8】 波面解析器が、システムに含まれる波面
修正器を駆動する手段に接続される、請求項1に記載の
装置。
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