JPH1020043A - Faraday cage device - Google Patents
Faraday cage deviceInfo
- Publication number
- JPH1020043A JPH1020043A JP8177662A JP17766296A JPH1020043A JP H1020043 A JPH1020043 A JP H1020043A JP 8177662 A JP8177662 A JP 8177662A JP 17766296 A JP17766296 A JP 17766296A JP H1020043 A JPH1020043 A JP H1020043A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holder
- stage
- faraday cage
- stage aperture
- irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 abstract description 14
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 21
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 11
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 5
- 238000007431 microscopic evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000004452 microanalysis Methods 0.000 description 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、試料に対する顕微
分析作業を行う荷電粒子線装置（電子顕微鏡装置、電
子、イオン等を用いた分析装置、等）において、電子ビ
ームまたはイオンビーム等の照射ビーム源から照射され
るビームの照射線量を検出するファラデーケージ装置に
関する。本発明は、電子ビームまたはイオンビーム等の
照射ビーム源から照射されるビームが所定の位置（顕微
分析用の試料が配置される位置、すなわち、試料位置）
を通過するように、前記照射ビーム源の位置決めを行う
際に使用される。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an irradiation beam such as an electron beam or an ion beam in a charged particle beam apparatus (electron microscope apparatus, analysis apparatus using electrons, ions, etc.) for performing microscopic analysis on a sample. The present invention relates to a Faraday cage device that detects an irradiation dose of a beam emitted from a source. According to the present invention, a beam irradiated from an irradiation beam source such as an electron beam or an ion beam is positioned at a predetermined position (a position where a sample for microanalysis is arranged, that is, a sample position).
It is used in positioning the irradiation beam source so as to pass through.
【０００２】[0002]
【従来の技術】前記試料に対する顕微分析作業を行う荷
電粒子線装置では、電子ビームまたはイオンビーム等の
照射ビーム源から出射する照射ビームにより試料を照射
する必要がある。前記荷電粒子線装置は、内部を真空に
保持する壁部材（電子顕微鏡筒等）、およびこの壁部材
に支持されたゴニオステージを有している。ゴニオステ
ージは円筒状のホルダ支持孔を有し、この円筒状のホル
ダ支持孔は、試料ホルダまたはファラデーケージ装置の
ホルダ等を、その軸（以下、「ホルダ軸」という。）方
向にスライド可能（すなわちホルダ支持孔の内方および
外方にスライド可能）、且つ前記ホルダ軸回りに回動可
能に支持する部材である。2. Description of the Related Art In a charged particle beam apparatus for performing microscopic analysis on a sample, it is necessary to irradiate the sample with an irradiation beam emitted from an irradiation beam source such as an electron beam or an ion beam. The charged particle beam device includes a wall member (such as an electron microscope tube) for maintaining the inside of the device in a vacuum, and a gonio stage supported by the wall member. The goniostage has a cylindrical holder support hole, and the cylindrical holder support hole can slide a sample holder or a holder of a Faraday cage device in the direction of its axis (hereinafter, referred to as “holder axis”) ( That is, it is a member that is slidable inward and outward of the holder support hole) and that is rotatably supported around the holder axis.
【０００３】前記荷電粒子線装置により顕微分析作業を
行う際には、試料ホルダにより保持された試料を、照射
ビームの通路に正確に配置する必要がある。また、前記
照射ビームの通路に配置した試料をその位置（ビーム通
路上の位置）に保持したままで照射ビームに対して傾斜
させたい場合がある。このため、前記試料は試料ホルダ
のホルダ軸上に配置される。この理由は次のとおりであ
る。すなわち、試料ホルダをそのホルダ軸周りに回転さ
せた場合、試料ホルダに支持された試料がホルダ軸上に
有る場合には、前記試料はその位置において傾斜するだ
けで、他の位置に移動することはない。When performing a microscopic analysis operation using the charged particle beam apparatus, it is necessary to accurately arrange the sample held by the sample holder in the path of the irradiation beam. Further, there is a case where it is desired to incline the sample arranged in the path of the irradiation beam with respect to the irradiation beam while holding the sample at that position (position on the beam path). For this purpose, the sample is placed on the holder axis of the sample holder. The reason is as follows. That is, when the sample holder is rotated around the holder axis, when the sample supported by the sample holder is on the holder axis, the sample simply tilts at that position and moves to another position. There is no.
【０００４】前記試料が試料ホルダにより顕微分析作業
を行う位置（試料位置）に照射ビームが正確に照射され
るようにするためには、照射ビームを出射する照射ビー
ム源を正しい向きに固定する必要がある。このため、従
来、前記試料位置にファラデーケージを配置し、前記フ
ァラデーケージに入射するビームの照射線量が最大にな
るような向きに前記照射ビーム源を固定することが行わ
れている。前記ファラデーケージは前記試料ホルダの同
様のホルダ（前記ゴニオステージのホルダ支持孔により
支持されるホルダ）に保持して使用される。In order to accurately irradiate an irradiation beam to a position (sample position) where the sample is subjected to a microscopic analysis operation by a sample holder, it is necessary to fix an irradiation beam source for emitting the irradiation beam in a correct direction. There is. Therefore, conventionally, a Faraday cage is arranged at the sample position, and the irradiation beam source is fixed in a direction such that the irradiation dose of the beam incident on the Faraday cage is maximized. The Faraday cage is used while being held by a similar holder of the sample holder (a holder supported by a holder supporting hole of the gonio stage).
【０００５】ところで、従来、前記電子顕微鏡装置等の
荷電粒子線装置において、複数の照射ビーム源を備え、
電子ビーム、イオンビーム等の複数の照射ビームを試料
に照射できるようにしたものが知られている。このよう
な荷電粒子線装置の前記複数の照射ビーム源は異なる位
置に配置されているため、試料位置（試料に対する顕微
分析作業を行う位置）に入射する照射線ビームの入射方
向は各照射線ビーム毎に異なっている。前記複数の各照
射ビームを前記試料位置に正確に入射させるためには、
照射ビームを出射する各照射ビーム源をそれぞれ正しい
向きに固定する必要がある。このような荷電粒子線装置
の前記複数の各照射ビームの照射線量を測定する従来の
ファラデーケージ装置は、各照射ビーム毎にそれぞれ異
なるファラデーケージ装置が準備されていた。そして、
各照射ビーム毎に準備された異なるファラデーケージ装
置を用いて照射線量および照射ビーム方向等を測定し、
各照射ビームの照射方向の設定等が行われていた。Conventionally, a charged particle beam apparatus such as the electron microscope apparatus has a plurality of irradiation beam sources,
2. Description of the Related Art There has been known a device capable of irradiating a sample with a plurality of irradiation beams such as an electron beam and an ion beam. Since the plurality of irradiation beam sources of such a charged particle beam apparatus are arranged at different positions, the direction of incidence of the irradiation beam incident on the sample position (the position at which the sample is subjected to the microscopic analysis operation) is determined by each irradiation beam. Everything is different. In order to make each of the plurality of irradiation beams accurately enter the sample position,
It is necessary to fix each irradiation beam source for emitting the irradiation beam in a correct direction. In the conventional Faraday cage device that measures the irradiation dose of each of the plurality of irradiation beams of such a charged particle beam device, different Faraday cage devices are prepared for each irradiation beam. And
Measure the irradiation dose and irradiation beam direction using different Faraday cage devices prepared for each irradiation beam,
The setting of the irradiation direction of each irradiation beam has been performed.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】前記ファラデーケージ
装置は試料位置を通過する照射ビームを検出するように
配置する必要があるので、複数の照射ビーム源のうちの
最初に設定した照射ビーム源の照射ビームとその後で設
定した照射ビーム源の照射ビームとが同一の試料位置を
通過するように、各ビーム照射源を設定する必要があ
る。ところが、前記従来のファラデーケージ装置では、
各照射ビーム毎に異なるファラデーケージ装置を用いて
照射線量、照射方向等を測定して、各ビーム照射源の照
射線量、照射方向等の設定を行わなければならなかっ
た。したがって、複数の各ビーム照射源の設定作業を行
う場合、ファラデーケージ装置の交換を行わなければな
らなかった。Since the Faraday cage device needs to be arranged to detect the irradiation beam passing through the sample position, the irradiation of the irradiation beam source set first among the plurality of irradiation beam sources is required. Each beam irradiation source needs to be set so that the beam and the irradiation beam of the irradiation beam source set thereafter pass through the same sample position. However, in the conventional Faraday cage device,
It was necessary to measure the irradiation dose, irradiation direction, and the like using a different Faraday cage device for each irradiation beam, and set the irradiation dose, irradiation direction, and the like for each beam irradiation source. Therefore, when setting work for a plurality of beam irradiation sources, the Faraday cage device must be replaced.
【０００７】前記ファラデーケージ装置の交換を行った
場合に、最初の照射ビーム源の設定で使用したファラデ
ーケージ装置上の試料位置とその後で使用したファラデ
ーケージ装置上の試料位置とを一致させる必要がある。
したがって、前記ファラデーケージ装置の交換を行った
場合に、複数の照射ビーム源のうちの最初に設定した照
射ビーム源の照射ビームとその後で設定した照射ビーム
源の照射ビームとが同一の試料位置を通過するように、
複数の各ビーム照射源を設定することは容易ではなかっ
た。When the Faraday cage device is replaced, it is necessary to match the sample position on the Faraday cage device used in setting the first irradiation beam source with the sample position on the Faraday cage device used thereafter. is there.
Therefore, when the Faraday cage device is replaced, the irradiation beam of the irradiation beam source set first out of the plurality of irradiation beam sources and the irradiation beam of the irradiation beam source set thereafter set the same sample position. As you pass
It was not easy to set a plurality of beam irradiation sources.
【０００８】本発明は、前述の事情に鑑み、下記の記載
内容を課題とする。 （Ｏ01）複数の照射ビーム源を有する荷電粒子線装置に
おいて、ファラデーケージ装置を交換することなく、複
数の照射ビーム源の設定を行えるようにすること。[0008] In view of the above circumstances, the present invention is directed to the following contents. (O01) In a charged particle beam apparatus having a plurality of irradiation beam sources, a plurality of irradiation beam sources can be set without replacing a Faraday cage device.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】次に、前記課題を解決す
るために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。ま
た、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。Next, the present invention devised to solve the above-mentioned problems will be described. The elements of the present invention are used to facilitate correspondence with the elements of the embodiments described later. , The reference numerals of the elements of the embodiment are enclosed in parentheses. The reason why the present invention is described in correspondence with the reference numerals of the embodiments described below is to facilitate understanding of the present invention and not to limit the scope of the present invention to the embodiments.
【００１０】（本発明）前記課題を解決するために、本
出願の第１発明のファラデーケージ装置は、下記の要件
を備えたことを特徴とする、（Ａ01）１段目アパーチャ
部材（４２）およびファラデーケージ（Ｃ）を支持する
とともにホルダ軸方向にスライド移動可能、ホルダ軸回
りに回転可能、且つホルダ軸の向きの調節が可能なホル
ダ（Ｈ）、（Ａ02）前記ホルダ軸上に配置された１段目
アパーチャ（４２a）を有する前記１段目アパーチャ部
材（４２a）、（Ａ03）前記１段目アパーチャ（４２a）
に異なる方向から入射して前記一段目アパーチャ（４２
a）を通過した各照射ビームが通過すべき位置にそれぞ
れ配置された複数の２段目アパーチャ（３３a，３３b）
を有する導電性の２段目アパーチャ部材（３１）、およ
び前記２段目アパーチャ（３３a，３３b）を通過した照
射ビームを検出する導電性のファラデーカップ（２９）
により箱状に構成された前記ファラデーケージ（Ｃ）。(Invention) In order to solve the above problems, a Faraday cage device according to a first invention of the present application has the following requirements: (A01) First-stage aperture member (42) And a holder (H) that supports the Faraday cage (C) and is slidable in the holder axis direction, rotatable about the holder axis, and capable of adjusting the orientation of the holder axis, (A02) disposed on the holder axis. The first-stage aperture member (42a) having the first-stage aperture (42a), (A03) the first-stage aperture (42a)
To the first stage aperture (42).
A plurality of second-stage apertures (33a, 33b) arranged at positions where each irradiation beam that has passed through a) should pass
And a conductive Faraday cup (29) for detecting an irradiation beam passing through the second-stage apertures (33a, 33b).
The Faraday cage (C) formed in a box shape by the following method.
【００１１】[0011]
（本発明の作用）前述の特徴を備えた本発明のファラデ
ーケージ装置（Ｆ）では、ホルダ軸に沿ってスライド可
能、ホルダ軸回りに回転可能、且つホルダ軸の向きの調
節が可能な前記なホルダ（Ｈ）は、複数の照射ビームの
通過位置である試料位置に、１段目アパーチャ（４２
a）が配置されるように前記１段目アパーチャ部材（４
２）を支持する。前記ホルダ（Ｈ）に支持された２段目
アパーチャ部材（３１）の複数の２段目アパーチャ（３
３a，３３b）は、前記１段目アパーチャ（４２a）に異
なる方向から入射して前記一段目アパーチャ（４２a）
を通過した各照射ビームが通過すべき位置にそれぞれ配
置されている。このため、前記１段目アパーチャ（４２
a）を通過した複数の各照射ビームが、前記通過すべき
位置に配置された２段目アパーチャ（３３a，３３b）に
入射する場合には、前記２段目アパーチャ（３３a，３
３b）を通過する。(Operation of the present invention) In the Faraday cage device (F) of the present invention having the above-described features, the Faraday cage device (F) can slide along the holder axis, rotate around the holder axis, and adjust the direction of the holder axis. The holder (H) is placed at the sample position where a plurality of irradiation beams pass, and the first-stage aperture (42).
a) so that the first-stage aperture member (4
Support 2). A plurality of second-stage apertures (3) of the second-stage aperture member (31) supported by the holder (H)
3a, 33b) are incident on the first-stage aperture (42a) from different directions and are incident on the first-stage aperture (42a).
The irradiation beams that have passed through are arranged at positions where they should pass. For this reason, the first-stage aperture (42
When the plurality of irradiation beams that have passed through a) enter the second-stage apertures (33a, 33b) arranged at the positions to be passed, the second-stage apertures (33a, 33b)
Go through 3b).
【００１２】前記ホルダ（Ｈ）に支持された前記２段目
アパーチャ部材（３１）およびファラデーカップ（２
９）により構成されたファラデーケージ（Ｃ）は、前記
２段目アパーチャ（３３a，３３b）を通過した照射ビー
ムを検出する。したがって、１段目アパーチャ（４２
a）の中心と複数の２段目アパーチャ（３３a，３３b）
の中心とをそれぞれ結ぶ線（Ｌ1，Ｌ2）上に沿って照射
されるビームを検出することできる。このため複数の各
照射ビーム源を、前記１段目アパーチャ（４２a）の中
心および複数の２段目アパーチャ（３３a，３３b）の中
心をそれぞれ結ぶ線（Ｌ1，Ｌ2）上に、ビーム検出強度
が一番高くなる姿勢で配置することができる。さらに前
記２段目アパーチャ（３３a，３３ｂ）から箱状のファ
ラデーケージ（Ｃ）に入射した電子またはイオン等の荷
電粒子ビームは前記ファラデーケージ（Ｃ）内から漏れ
難いので入射した電子またはイオンは確実に検出され
る。したがって、荷電粒子ビームの検出効率が向上す
る。The second-stage aperture member (31) supported by the holder (H) and the Faraday cup (2)
The Faraday cage (C) configured by 9) detects the irradiation beam that has passed through the second-stage apertures (33a, 33b). Therefore, the first-stage aperture (42
a) Center and multiple second-stage apertures (33a, 33b)
Can be detected along the lines (L1, L2) connecting the centers of the two. For this reason, the plurality of irradiation beam sources are placed on a line (L1, L2) connecting the center of the first-stage aperture (42a) and the center of the plurality of second-stage apertures (33a, 33b), respectively. It can be placed in the highest position. Further, the charged particle beam such as an electron or an ion incident on the box-shaped Faraday cage (C) from the second-stage aperture (33a, 33b) is unlikely to leak from the inside of the Faraday cage (C). Is detected. Therefore, the detection efficiency of the charged particle beam is improved.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】次に図面を参照しながら、本発明
のファラデーケージ装置の実施の形態の例（実施例）を
説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。なお、以後の説明の理解を容易にするために、
図面において互いに直交する座標軸Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸を
定義し、矢印Ｘ方向を前方、矢印Ｙ方向を左方、 矢印
Ｚ方向を上方とする。この場合、Ｘ方向と逆向き（−Ｘ
方向）は後方、Ｙ方向と逆向き（−Ｙ方向）は右方、Ｚ
方向と逆向き（−Ｚ方向）は下方となる。また、Ｘ方向
及び−Ｘ方向を含めて前後方向又はＸ軸方向といい、Ｙ
方向及び−Ｙ方向を含めて左右方向又はＹ軸方向とい
い、Ｚ方向及び−Ｚ方向を含めて上下方向又はＺ軸方向
ということにする。さらに図中、「○」の中に「・」が
記載されたものは紙面の裏から表に向かう矢印を意味
し、「○」の中に「×」が記載されたものは紙面の表か
ら裏に向かう矢印を意味するものとする。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment (embodiment) of a Faraday cage device according to the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments. . In addition, in order to facilitate understanding of the following description,
In the drawing, coordinate axes X, Y, and Z axes that are orthogonal to each other are defined, and the arrow X direction is forward, the arrow Y direction is left, and the arrow Z direction is upward. In this case, the direction opposite to the X direction (−X
Direction) is backward, direction opposite to Y direction (-Y direction) is right direction, Z
The direction opposite to the direction (-Z direction) is downward. Also referred to as the front-back direction or the X-axis direction including the X direction and the −X direction,
The direction is referred to as the left-right direction or the Y-axis direction including the direction and the -Y direction, and the up-down direction or the Z-axis direction is included including the Z direction and the -Z direction. Furthermore, in the figure, those with “•” in “「 ”mean the arrow pointing from the back of the paper to the front, and those with“ x ”in“ ○ ”from the table on the paper It shall mean an arrow pointing to the back.
【００１４】（実施例）図１は本発明のファラデーケー
ジ装置の実施例が電子顕微鏡（荷電粒子線装置）に装着
された状態を示す図である。図２は前記図１の矢印IIで
示す部分の拡大図である。図３は前記図１に示すファラ
デーケージ装置の全体説明図で、図３Ａは平面図、図３
Ｂは電気的配線の説明図、図３Ｃは前記図３Ａの矢印II
IＣから見た一部断面図である。図４は前記２Ａの矢印I
Ｖでした楕円形部分の拡大図である。図５は前記図３に
示すファラデーケージ装置の要部説明図で、図５Ａは平
面図、図５Ｂは縦断面図で前記図５ＡのＶＢ−ＶＢ線断
面図である。図６は前記図５Ｂの矢印ＶIで示した楕円
形部分の拡大図である。図７は前記図６のＶII−ＶII線
断面図である。図８は前記図６のＶIII−ＶIII線断面図
である。(Embodiment) FIG. 1 is a view showing a state in which an embodiment of the Faraday cage device of the present invention is mounted on an electron microscope (charged particle beam device). FIG. 2 is an enlarged view of a portion indicated by an arrow II in FIG. FIG. 3 is an overall explanatory view of the Faraday cage device shown in FIG. 1, and FIG.
B is an explanatory view of the electrical wiring, and FIG. 3C is an arrow II in FIG. 3A.
FIG. 3 is a partial cross-sectional view as viewed from an IC. FIG. 4 shows the arrow I of 2A.
It is an enlarged view of the oval part which was V. 5 is an explanatory view of a main part of the Faraday cage device shown in FIG. 3, FIG. 5A is a plan view, and FIG. 5B is a longitudinal sectional view taken along the line VB-VB of FIG. 5A. FIG. 6 is an enlarged view of the elliptical portion indicated by the arrow VI in FIG. 5B. FIG. 7 is a sectional view taken along line VII-VII of FIG. FIG. 8 is a sectional view taken along the line VIII-VIII of FIG.
【００１５】図１、図２において、荷電粒子線装置とし
ての電子顕微鏡１は、内部を真空に保持されたケース２
を有し、ケース２上端に電子銃３が設けられている。ケ
ース２下端部には観察用の蛍光板４、および観察窓６が
設けられている。前記電子銃３の下方には加速用電子レ
ンズ７が配置され、前記蛍光板４の上方には拡大用電子
レンズ８が配置されている。そして、前記加速用電子レ
ンズ７および拡大用電子レンズ８の間には試料装着部と
してのゴニオステージＳが設けられている。ゴニオステ
ージＳは、ホルダ支持孔９aを有する円筒状のホルダ支
持部材９を有している。前記円筒状のホルダ支持部材９
は、ゴニオステージＳの球面軸受けにより軸の向きが調
節可能に支持されている。なお図１、図２において、１
０は電子ビーム径を絞る絞り装置である。Referring to FIGS. 1 and 2, an electron microscope 1 as a charged particle beam device has a case 2 in which the inside is kept in a vacuum.
And an electron gun 3 is provided at the upper end of the case 2. A fluorescent plate 4 for observation and an observation window 6 are provided at the lower end of the case 2. An electron lens 7 for acceleration is arranged below the electron gun 3, and an electron lens 8 for magnification is arranged above the fluorescent screen 4. A gonio stage S is provided between the acceleration electronic lens 7 and the magnifying electronic lens 8 as a sample mounting portion. The gonio stage S has a cylindrical holder support member 9 having a holder support hole 9a. The cylindrical holder support member 9
Is supported by a spherical bearing of the gonio stage S such that the direction of the shaft can be adjusted. 1 and 2, 1
Reference numeral 0 denotes a stop device for reducing the diameter of the electron beam.
【００１６】図３、図４において、前記ホルダ支持部材
９によって支持されるファラデーケージ装置Ｆは、前記
ホルダ支持孔９aを貫通する円筒状のホルダ外筒１１
（図３参照）を有している。ホルダ外筒１１の内端部
（前記ケース２の内部に配置された部分の端部、すなわ
ち、図３の左端部）外周部には図３Ｃ、図４示すＯリン
グ１２を収容するリング状のＯリング収容溝が形成され
ている。前記Ｏリング１２は、前記ホルダ支持孔９a
（図１参照）の内側面に圧接して、Ｏリング１２の左方
を右方の大気に対して気密に遮断するため部材である。
図４において、前記ホルダ外筒１１の内端部の内周面に
は大径部１１aが形成されており、大径部１１aの右側部
分（−Ｙ側部分）は小径部１１bが形成され、前記大径
部１１aおよび小径部１１bの接続部には段部１１cが形
成されている。3 and 4, a Faraday cage device F supported by the holder supporting member 9 has a cylindrical holder outer cylinder 11 penetrating through the holder supporting hole 9a.
(See FIG. 3). The outer end of the holder outer tube 11 (the end of the portion arranged inside the case 2, that is, the left end in FIG. 3) has a ring-like shape for accommodating the O-ring 12 shown in FIGS. 3C and 4. An O-ring accommodation groove is formed. The O-ring 12 is provided in the holder support hole 9a.
(See FIG. 1) is a member for pressing the inner surface of the O-ring 12 in a gas-tight manner against the right atmosphere by pressing against the inner surface of the O-ring 12.
In FIG. 4, a large-diameter portion 11a is formed on the inner peripheral surface of the inner end of the holder outer cylinder 11, and a small-diameter portion 11b is formed on the right side (−Y side portion) of the large-diameter portion 11a. A step 11c is formed at the connection between the large diameter portion 11a and the small diameter portion 11b.
【００１７】ホルダ外筒１１の内側の内端部（図３で左
端部）にはステンレス製の内端側ホルダ１３の外端部
（右端部）が挿入されている。内端側ホルダ１３の外端
部（右端部）は円筒形をしており、その外周部にはリン
グ状大径部１３aが形成されている。前記リング状大径
部１３aは前記段部１１cに当接する位置まで挿入されて
いる。前記内端側ホルダ１３の前記リング状大径部１３
aよりも外端側部分（−Ｙ側部分）は前記ホルダ外筒１
１の小径部１１bと嵌合しており、内端側ホルダ１３の
前記嵌合部の外周面にはＯリング１４を収容するリング
状のＯリング溝が形成されている。前記Ｏリング１４
は、前記ホルダ外筒１１の内側面に圧接して、Ｏリング
１４の左方を右方の大気に対して気密に遮断するため部
材である。前記内端側ホルダ１３のリング状大径部１３
aは、ネジ１６により前記ホルダ外筒１１に固定されて
いる。An outer end (right end) of a stainless steel inner end holder 13 is inserted into an inner end (left end in FIG. 3) of the holder outer cylinder 11. The outer end portion (right end portion) of the inner end side holder 13 has a cylindrical shape, and a ring-shaped large diameter portion 13a is formed on the outer peripheral portion. The ring-shaped large diameter portion 13a is inserted to a position where it comes into contact with the step portion 11c. The ring-shaped large diameter portion 13 of the inner end side holder 13
The outer end side part (-Y side part) than a is the holder outer cylinder 1
A ring-shaped O-ring groove for accommodating the O-ring 14 is formed on the outer peripheral surface of the fitting portion of the inner end side holder 13 so as to be fitted with the small diameter portion 11b. The O-ring 14
Is a member that presses against the inner side surface of the holder outer cylinder 11 and hermetically blocks the left side of the O-ring 14 from the right air. The ring-shaped large diameter portion 13 of the inner end side holder 13
a is fixed to the holder outer cylinder 11 by screws 16.
【００１８】前記ホルダ外筒１１の内端部の大径部１１
aと、この大径部に挿入されている前記内端側ホルダ１
３のリング状大径部１３aの左側の小径部分との間には
円筒状スペーサ部材１７が挿入されている。前記円筒状
スペーサ部材１７はネジ１８により前記内端側ホルダ１
３に固定されている。前記内端側ホルダ１３は、前記円
筒状スペーサ部材１７（図４参照）の左端よりも左方の
部分は、その上面および下面が図３Ａ、図３Ｃから分か
るように平坦に切除されており、その前側面（Ｘ側の
面）および後側面（−Ｘ側の面）のみが円筒面（図７、
図８参照）に形成されている。The large-diameter portion 11 at the inner end of the holder outer cylinder 11
a and the inner end side holder 1 inserted into the large diameter portion.
A cylindrical spacer member 17 is inserted between the ring-shaped large-diameter portion 13a and the small-diameter portion on the left side of the third ring-shaped large-diameter portion 13a. The cylindrical spacer member 17 is fixed to the inner end side holder 1 by a screw 18.
It is fixed to 3. As for the inner end side holder 13, the upper surface and the lower surface of a portion on the left side of the left end of the cylindrical spacer member 17 (see FIG. 4) are cut off flat as can be seen from FIGS. 3A and 3C. Only the front side surface (X side surface) and the rear side surface (−X side surface) are cylindrical surfaces (FIG. 7, FIG.
FIG. 8).
【００１９】図５において、前記内端側ホルダ１３の内
端（左端）には、被位置決め用球１９が接着されてい
る。この被位置決め用球１９は、内端側ホルダ１３の左
右方向の位置決めを行うための部材であり、図１におい
て、内端側ホルダ１３が前記ゴニオステージＳの右側か
ら左方に挿入された際に位置決め部材Ｓaに当接する部
材である。図５において、内端側ホルダ１３の内端部に
は、ゲージホルダ収容孔２０が形成されている。ゲージ
ホルダ収容孔２０の右端部（−Ｙ側端部）の下部には、
ケーブル支持部２１が設けられている。ケーブル支持部
２１は、ゲージホルダ収容孔２０の下面開口部を左右に
分離するように配置されている。したがって、ゲージホ
ルダ収容孔２０の下面は、前記ケーブル支持部２１によ
って左側開口部２０aおよび右側開口部２０bに分離され
ている。In FIG. 5, a positioning ball 19 is adhered to the inner end (left end) of the inner end side holder 13. The positioning ball 19 is a member for positioning the inner end side holder 13 in the left-right direction. When the inner end side holder 13 is inserted from the right side to the left side of the gonio stage S in FIG. Is a member that comes into contact with the positioning member Sa. In FIG. 5, a gauge holder accommodating hole 20 is formed at the inner end of the inner end side holder 13. In the lower part of the right end (-Y side end) of the gauge holder accommodation hole 20,
A cable support 21 is provided. The cable support portion 21 is disposed so as to separate the opening on the lower surface of the gauge holder receiving hole 20 from left to right. Therefore, the lower surface of the gauge holder receiving hole 20 is separated into the left opening 20a and the right opening 20b by the cable support 21.
【００２０】内端側ホルダ１３には、前記ゲージホルダ
収容孔２０の右端より右方にケーブル挿通孔２２が形成
されている。したがって、前記ゲージホルダ収容孔２０
は、その右端においてケーブル挿通孔２２と接続してい
る。前記ゲージホルダ収容孔２０にはリン青銅製のゲー
ジホルダ２３が収容されている。ゲージホルダ２３の左
側部分（−Ｙ側部分）および右側部分の前後の側面は先
端に球を保持した合計４個のネジ２４により前記内端側
ホルダ１３に支持されている。前記ホルダ外筒１１、内
端側ホルダ１３、およびゲージホルダ２３を含む符号１
１〜２４で示された要素からホルダＨ（図３参照）が構
成されている。A cable insertion hole 22 is formed in the inner end holder 13 to the right of the right end of the gauge holder accommodating hole 20. Therefore, the gauge holder receiving hole 20
Is connected to the cable insertion hole 22 at the right end. The gauge holder accommodating hole 20 accommodates a gauge holder 23 made of phosphor bronze. The left and right sides of the left side portion (−Y side portion) and the right side portion of the gauge holder 23 are supported by the inner end side holder 13 by a total of four screws 24 holding a ball at the tip. Reference numeral 1 includes the holder outer cylinder 11, the inner end side holder 13, and the gauge holder 23.
A holder H (see FIG. 3) is constituted by the elements indicated by 1 to 24.
【００２１】図５〜図７において、前記ゲージホルダ２
３には絶縁部材支持穴２５（図６参照）が形成されてい
る。絶縁部材支持穴２５の底面には絶縁プレート２６が
載置されている。前記絶縁プレート２６上には円筒状絶
縁部材２７が支持されている。円筒状絶縁部材２７の上
部には導線収容溝２７aおよび位置出しピン収容溝２７b
（図７参照）が形成されている。前記絶縁プレート２６
および円筒状絶縁部材２７はネジ２８（図７参照）によ
り前記ゲージホルダ２３と固定されている。前記絶縁プ
レート２６上で前記円筒状絶縁部材２７の内側には導電
性の金属により形成されたファラデーカップ２９が載置
されている。ファラデーカップ２９は底板２９aおよび
円筒壁２９b（図６参照）を有している。5 to 7, the gauge holder 2
3, an insulating member support hole 25 (see FIG. 6) is formed. An insulating plate 26 is placed on the bottom surface of the insulating member support hole 25. A cylindrical insulating member 27 is supported on the insulating plate 26. In the upper part of the cylindrical insulating member 27, a lead wire receiving groove 27a and a positioning pin receiving groove 27b
(See FIG. 7). The insulating plate 26
The cylindrical insulating member 27 is fixed to the gauge holder 23 by screws 28 (see FIG. 7). On the insulating plate 26, a Faraday cup 29 made of a conductive metal is placed inside the cylindrical insulating member 27. The Faraday cup 29 has a bottom plate 29a and a cylindrical wall 29b (see FIG. 6).
【００２２】導電性の金属により形成された２段目アパ
ーチャ部材３１は、円筒壁３２および前記円筒壁３２の
上部に設けた上部プレート３３を有している。２段目ア
パーチャ部材３１は、前記円筒壁３２が前記ファラデー
カップ２９の円筒壁２９bの外周面に嵌合した状態で前
記底板２９a上に支持されている。図７において、２段
目アパーチャ部材３１の円筒壁３２には前記円筒状絶縁
部材２７の位置出しピン収容溝２７bに収容された位置
出しピン３４が嵌合するピン孔が形成されている。前記
円筒壁３２のピン孔に嵌合する前記位置出しピン３４に
より２段目アパーチャ部材３１が前記円筒状絶縁部材２
７に対して回転しないようになっている。The second-stage aperture member 31 made of a conductive metal has a cylindrical wall 32 and an upper plate 33 provided on the cylindrical wall 32. The second-stage aperture member 31 is supported on the bottom plate 29a in a state where the cylindrical wall 32 is fitted on the outer peripheral surface of the cylindrical wall 29b of the Faraday cup 29. In FIG. 7, the cylindrical wall 32 of the second-stage aperture member 31 is formed with a pin hole into which the positioning pin 34 housed in the positioning pin housing groove 27b of the cylindrical insulating member 27 fits. The second-stage aperture member 31 is connected to the cylindrical insulating member 2 by the positioning pin 34 fitted in the pin hole of the cylindrical wall 32.
7 is not rotated.
【００２３】前記２段目アパーチャ部材３１の上部プレ
ート３３には、２段目アパーチャ３３aおよび３３bが形
成されている。前記２段目アパーチャ３３aは、上部プ
レート３３の中央部に電子ビーム通過孔として形成され
たアパーチャであり、以後電子ビーム通過孔３３aとも
いう。また、前記２段目アパーチャ３３bは、前記電子
ビーム通過孔３３aの前方（Ｘ方向）位置にイオンビー
ム通過孔として形成されたアパーチャであり、以後イオ
ンビーム通過孔３３ｂともいう。前記電子ビーム通過孔
３３aおよびイオンビーム通過孔３３bは、後述の１段目
アパーチャに対する、２段目のアパーチャである。前記
ファラデーカップ２９および２段目アパーチャ部材３１
によりビーム検出用のファラデーケージＣ（図６参照）
が構成されている。ファラデーケージＣは箱状に構成さ
れており、前記電子ビーム通過孔３３aおよびイオンビ
ーム通過孔３３bからファラデーケージＣ内に入射した
電子またはイオンは外へ漏れることなく、確実に検出さ
れるように構成されている。The upper plate 33 of the second-stage aperture member 31 has second-stage apertures 33a and 33b. The second-stage aperture 33a is an aperture formed as an electron beam passage hole in the center of the upper plate 33, and is hereinafter also referred to as an electron beam passage hole 33a. The second-stage aperture 33b is an aperture formed as an ion beam passage hole at a position (in the X direction) in front of the electron beam passage hole 33a, and is hereinafter also referred to as an ion beam passage hole 33b. The electron beam passage hole 33a and the ion beam passage hole 33b are a second-stage aperture with respect to a first-stage aperture described later. The Faraday cup 29 and the second-stage aperture member 31
Faraday cage C for beam detection (see Fig. 6)
Is configured. The Faraday cage C is formed in a box shape, and the electrons or ions that have entered the Faraday cage C from the electron beam passage holes 33a and the ion beam passage holes 33b do not leak out and are reliably detected. Have been.
【００２４】前記円筒状絶縁部材２７の上端には絶縁材
料製の１段目アパーチャ用保持部材３６が支持されてい
る。図６、図７から分かるように１段目アパーチャ用保
持部材３６の下部の前後の側面及び左側面は、前記ゲー
ジホルダ２３の絶縁部材支持穴２５の内側面に係合して
いる。１段目アパーチャ用保持部材３６の上面にはスリ
バチ状穴３７が形成されている。このスリバチ状穴３７
の底部には一対の円筒状の逃げ穴３７a，３７aが形成さ
れている。この逃げ穴３７a，３７aについては後述す
る。At the upper end of the cylindrical insulating member 27, a first-stage aperture holding member 36 made of an insulating material is supported. As can be seen from FIGS. 6 and 7, the front and rear side surfaces and the left side surface of the lower portion of the first-stage aperture holding member 36 are engaged with the inner surface of the insulating member support hole 25 of the gauge holder 23. A sliver-shaped hole 37 is formed on the upper surface of the first-stage aperture holding member 36. This hornet-shaped hole 37
Are formed with a pair of cylindrical relief holes 37a, 37a. The relief holes 37a will be described later.
【００２５】図６、図８において、１段目アパーチャ用
保持部材３６の上面右側部分（−Ｙ側部分）は、前後一
対のネジ３８により前記ゲージホルダ２３と固定されて
いる。前記１段目アパーチャ用保持部材３６の上面右側
部分の前後方向の中央部にはネジ３９により、スペーサ
４０および押圧バネ４１が固定されている。押圧バネ４
１は左方および下方に延びてその先端部には二股部分４
１a，４１aを有している。 前記スリバチ状穴３７の底
面には円板状の１段目アパーチャ部材４２が載置されて
おり、１段目アパーチャ部材４２はその中央部に１段目
アパーチャ４２aを有している。前記１段目アパーチャ
４２aは前記ホルダＨの軸（ホルダ軸）上に配置されて
おり、ホルダＨをそのホルダ軸周りに回転させても、傾
斜するだけで位置が移動しないようになっている。In FIGS. 6 and 8, a right side portion (−Y side portion) of the upper surface of the first-stage aperture holding member 36 is fixed to the gauge holder 23 by a pair of front and rear screws 38. A spacer 40 and a pressing spring 41 are fixed by screws 39 at the center in the front-rear direction on the right side of the upper surface of the first-stage aperture holding member 36. Press spring 4
1 is a forked part 4 extending leftward and downward,
1a and 41a. A disc-shaped first-stage aperture member 42 is placed on the bottom surface of the sliver-shaped hole 37, and the first-stage aperture member 42 has a first-stage aperture 42a at the center thereof. The first-stage aperture 42a is arranged on the axis of the holder H (holder axis). Even when the holder H is rotated around the holder axis, the position is not moved because the holder H is only tilted.
【００２６】前記１段目アパーチャ４２aに対して前記
２段目アパーチャ３３a，３３bは、前記１段目アパーチ
ャ４２aを通過した複数の各照射ビームが通過すべき位
置に配置されている。したがって、１段目アパーチャ４
２aを通過した照射ビームの方向がが前記通過すべき位
置からずれている場合には、前記照射ビームは、２段目
アパーチャ３３a，３３bを通過しないが、前記照射ビー
ムが前記通過すべき位置を通る場合（すなわち、照射ビ
ームの方向が正しい場合）には、２段目アパーチャ３３
a，３３bを通過するようになっている。The second-stage apertures 33a and 33b are arranged at positions where a plurality of irradiation beams that have passed through the first-stage aperture 42a should pass with respect to the first-stage aperture 42a. Therefore, the first-stage aperture 4
When the direction of the irradiation beam that has passed through 2a is shifted from the position through which the irradiation beam should pass, the irradiation beam does not pass through the second-stage apertures 33a and 33b, but the position through which the irradiation beam passes through the second stage apertures 33a and 33b. When the beam passes through (ie, when the direction of the irradiation beam is correct), the second-stage aperture 33 is used.
a, 33b.
【００２７】前記押圧バネ４１の二股部分４１a，４１a
は、前記１段目アパーチャ部材４２の上面を下方に押圧
している。前記二股部分４１a，４１aは、前記スリバチ
状穴３７の一対の円筒状の前記逃げ穴３７a，３７aが有
るので、スリバチ状穴３７内壁面との干渉を避けながら
前記１段目アパーチャ部材４２を押圧することができる
ようになっている。The forked part 41a of the pressing spring 41, 41a
Presses the upper surface of the first-stage aperture member 42 downward. Since the forked portions 41a, 41a have a pair of cylindrical relief holes 37a, 37a of the sliver-shaped hole 37, they press the first-stage aperture member 42 while avoiding interference with the inner wall surface of the sliver-shaped hole 37. You can do it.
【００２８】図７において、Ｌ1は電子ビーム、Ｌ2はイ
オンビームを示している。前記２段目アパーチャである
電子ビーム通過孔３３aおよび前記１段目アパーチャ４
２aは、前記電子ビームＬ1の通路上に配置されている。
また、２段目アパーチャであるイオンビーム通過孔３３
bおよび前記１段目アパーチャ４２aは、イオンビームＬ
2の通路上に配置されている。また図７において、内端
側ホルダ１３の前後一対の側壁部分の上端は、前記スリ
バチ状穴３７の内面の傾斜の延長線上の部分が切り落と
されて、斜面１３bが形成され、前記イオンビームＬ2の
入射の妨げとならないようになっている。In FIG. 7, L1 indicates an electron beam, and L2 indicates an ion beam. The electron beam passage hole 33a as the second-stage aperture and the first-stage aperture 4
2a is arranged on the path of the electron beam L1.
In addition, the ion beam passage hole 33 which is the second-stage aperture
b and the first-stage aperture 42a
2 are located on the passage. In FIG. 7, the upper end of the pair of front and rear side walls of the inner end side holder 13 is cut off at a portion on an extension of the inclination of the inner surface of the sliver-shaped hole 37 to form a slope 13 b, and the ion beam L 2 It does not hinder the incidence.
【００２９】図６において、前記ファラデーケージＣの
右端には検出信号伝送用ケーブル４３の信号伝送線４３
aが接続されている。検出信号伝送用ケーブル４３は信
号伝送線４３a、この信号伝送線４３aの周囲を被覆する
被覆絶縁材４３b、および被覆絶縁材４３bの周囲を被覆
するシールド線４３cにより構成されている。前記検出
信号伝送用ケーブル４３の左端部（前記ファラデーケー
ジＣとの接続部の右側隣接部分）では、ポリエチレン製
の絶縁部材４４により信号伝送線４３aを保護してい
る。図５において、前記検出信号伝送用ケーブル４３
は、プレート４５および前後（Ｘ軸方向）に離れた一対
のネジ４６（図５Ａ参照）により前記ゲージホルダ２３
に固定されており、また、プレート４７および前後一対
のネジ４８により前記ケーブル支持部２１に固定されて
いる。In FIG. 6, the signal transmission line 43 of the detection signal transmission cable 43 is provided at the right end of the Faraday cage C.
a is connected. The detection signal transmission cable 43 includes a signal transmission line 43a, a covering insulating material 43b covering the periphery of the signal transmission line 43a, and a shield wire 43c covering the periphery of the covering insulating material 43b. At the left end of the detection signal transmission cable 43 (the right side adjacent to the connection with the Faraday cage C), the signal transmission line 43a is protected by a polyethylene insulating member 44. In FIG. 5, the detection signal transmission cable 43
The gauge holder 23 is formed by a plate 45 and a pair of screws 46 (see FIG. 5A) spaced apart in the front-rear direction (X-axis direction).
, And is fixed to the cable support portion 21 by a plate 47 and a pair of front and rear screws 48.
【００３０】図３において、前記検出信号伝送用ケーブ
ル４３は、内端側ホルダ１３の前記ケーブル挿通孔２２
（図４、図５Ｂ参照）を内端側から外端側に貫通してい
る。内端側ホルダ１３の外端には信号用導線４９a（図
３Ｂ、図４参照）およびシールド用導線４９bの２本の
導線を有するインシュレータ４９が固着されている。イ
ンシュレータ４９は、インシュレータ４９の左側の内端
側ホルダ１３の内側と、右側のホルダ外筒１１の内側と
を気密に遮断するとともに、内端側ホルダ１３の内側と
ホルダ外筒１１の内側との間の電気的接続を可能にする
機能を有する部品である。前記検出信号伝送用ケーブル
４３の信号伝送線４３aは前記信号用導線４９aの内端に
接続され、またシールド線４３cは前記シールド用導線
４９bに接続されている。図４において、前記インシュ
レータ４９の右側の前記ホルダ外筒１１内側には、信号
伝送ケーブル５０が前記ホルダ外筒１１の右端側へ延び
て配置されている。図３Ｂ、図４において、信号伝送ケ
ーブル５０は、前記検出信号伝送用ケーブル４３と同様
に信号伝送線５０a、この信号伝送線５０aの周囲を被覆
する被覆絶縁材（図示せず）、および前記図示しない被
覆絶縁材の周囲を被覆するシールド線５０b等を有して
いる。In FIG. 3, the detection signal transmission cable 43 is connected to the cable insertion hole 22 of the inner end side holder 13.
(See FIGS. 4 and 5B) from the inner end side to the outer end side. An insulator 49 having two conductors, a signal conductor 49a (see FIGS. 3B and 4) and a shield conductor 49b, is fixed to the outer end of the inner end side holder 13. The insulator 49 hermetically shuts off the inside of the left inner end holder 13 of the insulator 49 and the inside of the right holder outer cylinder 11, and also establishes a connection between the inner end holder 13 and the inside of the holder outer cylinder 11. This is a component having a function of enabling electrical connection between the components. The signal transmission line 43a of the detection signal transmission cable 43 is connected to the inner end of the signal conductor 49a, and the shield wire 43c is connected to the shield conductor 49b. In FIG. 4, a signal transmission cable 50 is disposed inside the holder outer tube 11 on the right side of the insulator 49 so as to extend to the right end side of the holder outer tube 11. 3B and 4, the signal transmission cable 50 includes a signal transmission line 50a, a covering insulating material (not shown) covering the periphery of the signal transmission line 50a, as in the case of the detection signal transmission cable 43, and the drawing. And a shield wire 50b that covers the periphery of the uncovered insulating material.
【００３１】図３において、前記ホルダ外筒１１の外端
には円形プレート５１が連結されている。円形プレート
５１の右側面には、前記信号伝送ケーブル５０を固定支
持するためのケーブル固定部材５２が固定されている。
また前記円形プレート５１には、前記ケーブル固定部材
５２および信号伝送ケーブル５０の外端部等を被覆する
円筒ケース５３が固定されている。円筒ケース５３の右
側面には、外部接続用端子５４が支持されており、外部
接続端子の左端部には前記信号伝送ケーブル５０の前記
信号伝送線５０aおよびシールド線５０bが接続されるよ
うになっている。そして、前記外部接続用端子５４の右
端には図示しない計測器に接続された信号伝送ケーブル
５５（図３Ｃ参照）の着脱式ケーブル端子５５aが着脱
されるようになっている。In FIG. 3, a circular plate 51 is connected to the outer end of the holder outer cylinder 11. A cable fixing member 52 for fixing and supporting the signal transmission cable 50 is fixed to the right side surface of the circular plate 51.
A cylindrical case 53 that covers the outer ends of the cable fixing member 52 and the signal transmission cable 50 is fixed to the circular plate 51. An external connection terminal 54 is supported on the right side surface of the cylindrical case 53, and the signal transmission line 50a and the shield line 50b of the signal transmission cable 50 are connected to the left end of the external connection terminal. ing. At the right end of the external connection terminal 54, a detachable cable terminal 55a of a signal transmission cable 55 (see FIG. 3C) connected to a measuring instrument (not shown) is detachably attached.
【００３２】（実施例の作用）前述の構成を備えた実施
例のファラデーケージ装置Ｆのホルダ外筒１１は、顕微
鏡筒等の真空室形成用の外壁に設けたゴニオステージＳ
の円筒状のホルダ支持部材９のホルダ支持孔９aに装着
されて使用される。その場合、前記ゴニオステージＳの
ホルダ支持孔９aにより支持されたファラデーケージ装
置ＦのホルダＨは、ホルダ外筒１１の軸（ホルダ軸）に
沿ってスライドまたはホルダ軸回りに回動させることに
より位置を調節することができる。また、前記ホルダＨ
を支持する円筒状のホルダ支持部材９をゴニオステージ
Ｓの球面軸受けにより回動させることにより、ホルダＨ
のホルダ軸の向きを調節することができる。したがっ
て、前記ホルダＨのホルダ軸は、前記ホルダＨの代わり
に試料ホルダ（図示せず）を前記ゴニオステージＳに装
着した場合の試料ホルダ軸と一致するように調節するこ
とができる。前記図示しない試料ホルダに保持される試
料は、試料ホルダ軸上に保持されており、また、前記ホ
ルダＨに支持された１段目アパーチャ部材４２の１段目
アパーチャ４２aは、ホルダ軸の軸線上に配置されてい
るので、前記試料ホルダ軸と一致するホルダＨのホルダ
軸上に保持される前記一段目アパーチャは前記試料の位
置（試料位置）と一致する位置に配置することができ
る。(Operation of the Embodiment) The holder outer cylinder 11 of the Faraday cage apparatus F of the embodiment having the above-described configuration is provided with a gonio stage S provided on an outer wall for forming a vacuum chamber such as a microscope cylinder.
It is mounted on the holder support hole 9a of the cylindrical holder support member 9 and used. In this case, the holder H of the Faraday cage device F supported by the holder supporting hole 9a of the gonio stage S slides along the axis of the holder outer cylinder 11 (holder axis) or rotates about the holder axis to position. Can be adjusted. Further, the holder H
Is rotated by the spherical bearing of the gonio stage S so that the holder H is rotated.
Of the holder shaft can be adjusted. Therefore, the holder axis of the holder H can be adjusted so as to coincide with the sample holder axis when a sample holder (not shown) is mounted on the gonio stage S instead of the holder H. The sample held by the sample holder (not shown) is held on a sample holder shaft, and the first-stage aperture 42a of the first-stage aperture member 42 supported by the holder H is positioned on the axis of the holder shaft. , The first-stage aperture held on the holder axis of the holder H coinciding with the specimen holder axis can be arranged at a position coincident with the position of the specimen (sample position).
【００３３】前記ホルダＨに支持された２段目アパーチ
ャ部材３１の複数の２段目アパーチャとしての電子ビー
ム通過孔３３aおよびイオンビーム通過孔３３bは各照射
ビームが通過すべき位置に配置されており、前記１段目
アパーチャ４２aを通過した複数の照射ビーム（電子ビ
ームまたはイオンビーム）が通過すべき位置を通過する
場合にのみそれぞれ通過させる。前記ホルダＨに支持さ
れたファラデーケージＣは、前記２段目アパーチャ３３
aまたは３３bを通過した照射ビームを検出する。したが
って、１段目アパーチャ４２aの中心と複数の２段目ア
パーチャ３３a，３３bの中心とをそれぞれ結ぶ線上に沿
って照射されるビームＬ1,Ｌ2を検出することできる。
このため複数の各照射ビーム源を、前記１段目アパーチ
ャ４２aの中心および複数の２段目アパーチャ３３a，３
３bの中心をそれぞれ結ぶ線上に、検出照射ビーム強度
が一番高くなる姿勢で配置することができる。その場合
の各照射ビーム源から照射されたビームＬ1，Ｌ2は前記
試料位置の第１段目アパーチャ４２aを通るので、実際
の試料を用いた顕微分析作業等に際して、各ビームＬ
1，Ｌ2を試料に照射することができる。さらに前記２段
目アパーチャ３３a，３３aから箱状ファラデーケージＣ
に入射した電子またはイオンは、前記ファラデーケージ
Ｃ内から漏れにくいので入射した電子またはイオンは確
実に検出されるようになる。An electron beam passage hole 33a and an ion beam passage hole 33b as a plurality of second-stage apertures of the second-stage aperture member 31 supported by the holder H are arranged at positions where each irradiation beam should pass. The plurality of irradiation beams (electron beams or ion beams) that have passed through the first-stage aperture 42a are respectively passed only when they pass through positions to be passed. The Faraday cage C supported by the holder H is connected to the second-stage aperture 33.
The irradiation beam that has passed through a or 33b is detected. Therefore, it is possible to detect the beams L1 and L2 emitted along the line connecting the center of the first-stage aperture 42a and the centers of the plurality of second-stage apertures 33a and 33b.
Therefore, the plurality of irradiation beam sources are connected to the center of the first-stage aperture 42a and the plurality of second-stage apertures 33a, 33a.
3b can be arranged on a line connecting the centers thereof in a posture where the detected irradiation beam intensity is the highest. In this case, since the beams L1 and L2 emitted from the respective irradiation beam sources pass through the first-stage aperture 42a at the sample position, the beams L1 and L2 are used for microanalysis using an actual sample.
1. The sample can be irradiated with L2. Further, a box-shaped Faraday cage C is formed from the second-stage apertures 33a, 33a.
The electrons or ions incident on the Faraday cage C hardly leak from the inside of the Faraday cage C, so that the incident electrons or ions can be reliably detected.
【００３４】（変更例）以上、本発明の実施例を詳述し
たが、本発明は、前記実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内
で、種々の変更を行うことが可能である。本発明の変更
実施例を下記に例示する。(Modifications) Although the embodiments of the present invention have been described in detail, the present invention is not limited to the above-described embodiments, but falls within the scope of the present invention described in the appended claims. Thus, various changes can be made. Modified embodiments of the present invention will be exemplified below.
【００３５】（Ｈ01）前記ゲージホルダ２３は前記内端
側ホルダ１３にネジ２４で固定されているが他の固定方
法を採用することが可能である。 （Ｈ02）ファラデーケージＣは別体に構成された前記２
段目アパーチャ部材３１およびファラデーカップ２９に
より構成する代わり一体形成品により構成することが可
能である。(H01) The gauge holder 23 is fixed to the inner end side holder 13 with screws 24, but other fixing methods can be adopted. (H02) The Faraday cage C is a 2
Instead of using the stepped aperture member 31 and the Faraday cup 29, it is possible to use an integrally formed product.
【００３６】[0036]
【発明の効果】前述の本発明のファラデーケージ装置
は、下記の効果を奏することができる。 （Ｅ01）複数の照射ビーム源を有する荷電粒子線装置に
おいて、ファラデーケージ装置を交換することなく、複
数の照射ビーム源の設定を行うことができる。 （Ｅ02）２段目アパーチャから箱状のファラデーケージ
に入射した電子またはイオン等の荷電粒子ビームは前記
ファラデーケージ内から漏れ難いので入射した電子また
はイオンは確実に検出される。したがって、荷電粒子ビ
ームの検出効率が向上する。The above-mentioned Faraday cage device of the present invention has the following effects. (E01) In a charged particle beam apparatus having a plurality of irradiation beam sources, a plurality of irradiation beam sources can be set without replacing the Faraday cage device. (E02) Charged particle beams such as electrons or ions that have entered the box-shaped Faraday cage from the second-stage aperture are unlikely to leak out of the Faraday cage, so that the incident electrons or ions can be reliably detected. Therefore, the detection efficiency of the charged particle beam is improved.
【図１】 図１は本発明のファラデーケージ装置の実施
例が電子顕微鏡に装着された状態を示す図である。FIG. 1 is a view showing a state in which an embodiment of a Faraday cage device of the present invention is mounted on an electron microscope.
【図２】 図２は前記図１の矢印IIで示す部分の拡大図
である。FIG. 2 is an enlarged view of a portion indicated by an arrow II in FIG.
【図３】 図３は前記図１に示すファラデーケージ装置
の全体説明図で、図３Ａは平面図、図３Ｂは電気的配線
の説明図、図３Ｃは前記図３Ａの矢印IIIＣから見た一
部断面図である。3 is an overall explanatory diagram of the Faraday cage device shown in FIG. 1; FIG. 3A is a plan view, FIG. 3B is an explanatory diagram of electric wiring, and FIG. 3C is a diagram viewed from an arrow IIIC in FIG. 3A. It is a fragmentary sectional view.
【図４】 図４は前記図３Ａの矢印IＶで示した楕円形
部分の拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of an elliptical portion indicated by an arrow IV in FIG. 3A.
【図５】 図５は前記図３に示すファラデーケージ装置
の要部説明図で、図５Ａは平面図、図５Ｂは縦断面図で
前記図５ＡのＶＢ−ＶＢ線断面図である。5 is an explanatory view of a main part of the Faraday cage device shown in FIG. 3, FIG. 5A is a plan view, and FIG. 5B is a longitudinal sectional view taken along line VB-VB of FIG. 5A.
【図６】 図６は前記図５Ｂの矢印ＶIで示した部分の
拡大図である。FIG. 6 is an enlarged view of a portion indicated by an arrow VI in FIG. 5B.
【図７】 図７は前記図６のＶII−ＶII線断面図であ
る。FIG. 7 is a sectional view taken along line VII-VII of FIG.
【図８】 図８は前記図６のＶIII−ＶIII線断面図であ
る。FIG. 8 is a sectional view taken along line VIII-VIII of FIG.
Ｆ…ファラデーケージ装置、Ｇ…ビーム検出用ゲージ、
Ｈ…ホルダ、３１…２段目アパーチャ部材、３３a，３
３b…２段目アパーチャ、４２…１段目アパーチャ部
材、４２a…１段目アパーチャ、F: Faraday cage device, G: Gauge for beam detection,
H: holder, 31: second-stage aperture member, 33a, 3
3b: second-stage aperture, 42: first-stage aperture member, 42a: first-stage aperture,
Claims (1)
ァラデーケージ装置、（Ａ01）１段目アパーチャ部材お
よびファラデーケージを支持するとともにホルダ軸方向
にスライド移動可能、ホルダ軸回りに回転可能、且つホ
ルダ軸の向きの調節が可能なホルダ、（Ａ02）前記ホル
ダ軸上に配置された１段目アパーチャを有する前記１段
目アパーチャ部材、（Ａ03）前記１段目アパーチャに異
なる方向から入射して前記一段目アパーチャを通過した
各照射ビームが通過すべき位置にそれぞれ形成された複
数の２段目アパーチャを有する導電性の２段目アパーチ
ャ部材、および前記２段目アパーチャを通過した照射ビ
ームを検出する導電性のファラデーカップにより箱状に
構成された前記ファラデーケージ。1. A Faraday cage device characterized by having the following requirements: (A01) supporting a first-stage aperture member and a Faraday cage, being slidable in a holder axis direction, rotatable about a holder axis; And (A02) the first-stage aperture member having the first-stage aperture disposed on the holder shaft, and (A03) light incident on the first-stage aperture from different directions. A conductive second-stage aperture member having a plurality of second-stage apertures respectively formed at positions where the respective irradiation beams passing through the first-stage aperture should pass, and an irradiation beam passing through the second-stage aperture. The above-mentioned Faraday cage formed in a box shape by a conductive Faraday cup to be detected.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8177662A JPH1020043A (en) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | Faraday cage device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8177662A JPH1020043A (en) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | Faraday cage device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1020043A true JPH1020043A (en) | 1998-01-23 |
Family
ID=16034918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8177662A Withdrawn JPH1020043A (en) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | Faraday cage device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1020043A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002246298A (en) * | 2001-02-20 | 2002-08-30 | Nikon Corp | Method for evaluating imaging performance of charged particle beam exposure apparatus and charged particle beam exposure apparatus |
| CN110221339A (en) * | 2018-10-26 | 2019-09-10 | 新瑞阳光粒子医疗装备(无锡)有限公司 | A kind of beam intensity detection device and particle accelerator |
-
1996
- 1996-07-08 JP JP8177662A patent/JPH1020043A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002246298A (en) * | 2001-02-20 | 2002-08-30 | Nikon Corp | Method for evaluating imaging performance of charged particle beam exposure apparatus and charged particle beam exposure apparatus |
| CN110221339A (en) * | 2018-10-26 | 2019-09-10 | 新瑞阳光粒子医疗装备(无锡)有限公司 | A kind of beam intensity detection device and particle accelerator |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8334519B2 (en) | Multi-part specimen holder with conductive patterns | |
| TWI662580B (en) | Charged particle beam specimen inspection system and method for operation thereof | |
| JP5850984B2 (en) | Method for imaging a sample in a charged particle device | |
| JP2002141382A (en) | Charged particle beam equipment and sample manufacturing equipment | |
| US20060231773A1 (en) | Charged particle beam apparatus | |
| JPS6130377B2 (en) | ||
| JP2010044999A (en) | Sample holder and sample analyzer using the same | |
| KR102601725B1 (en) | Charged-particle microscope with astigmatism compensation and energy-selection | |
| JPH1172451A (en) | Apparatus and method for secondary ion mass spectrometry | |
| JPH1020043A (en) | Faraday cage device | |
| JP2842083B2 (en) | Sample holder, sample processing observation system using the same, sample observation method, transmission electron microscope, and ion beam device | |
| US4280049A (en) | X-ray spectrometer | |
| EP4202972A2 (en) | Method and system for positioning and transferring a sample | |
| US6376839B1 (en) | SEM for transmission operation with a location-sensitive detector | |
| US20130256558A1 (en) | Apparatus for contaminants being deposited thereon | |
| US9947506B2 (en) | Sample holder and focused ion beam apparatus | |
| JP2019008982A (en) | Sample holder and electron microscope | |
| KR20020025797A (en) | Compact, high collection efficiency scintillator for secondary electron detection | |
| JP6326341B2 (en) | Sample holder and electron microscope | |
| US10269534B2 (en) | Mask position adjustment method of ion milling, electron microscope capable of adjusting mask position, mask adjustment device mounted on sample stage and sample mask component of ion milling device | |
| US3446960A (en) | Device for measuring electron-beam intensities and for subjecting materials to electron irradiation in an electron microscope | |
| JP2020071227A (en) | Method of preparing biological sample for study in charged particle device | |
| EP1649487B1 (en) | Device for measuring and quantitative profiling of charged particle beams | |
| JP2011129343A (en) | Sample holder of charged particle beam device | |
| JP7127742B2 (en) | Ionizer and ion analyzer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031007 |