JPH10192682A - 混合液供給装置 - Google Patents
混合液供給装置Info
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- JPH10192682A JPH10192682A JP35823796A JP35823796A JPH10192682A JP H10192682 A JPH10192682 A JP H10192682A JP 35823796 A JP35823796 A JP 35823796A JP 35823796 A JP35823796 A JP 35823796A JP H10192682 A JPH10192682 A JP H10192682A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 可動部や摺動部を有する部材を使用すること
なく、複数の液体を低流量であっても充分に混合して次
工程に供給できるようにした混合液供給装置を提供す
る。 【解決手段】 複数の貯液タンク２ａ，２ｂ，２ｃと、
複数の貯液タンクの各液体原料１ａ，１ｂ，１ｃを所定
の配分比で送液する送液手段１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，
１２，１３ａ，１３ｂ，１３ｃと、送液手段からの液体
原料を受けて混合する混合室１０とを有し、混合室の上
部には、各送液手段にそれぞれ連通する複数の供給管１
５ａ，１５ｂ，１５ｃが開口して設けられている。
なく、複数の液体を低流量であっても充分に混合して次
工程に供給できるようにした混合液供給装置を提供す
る。 【解決手段】 複数の貯液タンク２ａ，２ｂ，２ｃと、
複数の貯液タンクの各液体原料１ａ，１ｂ，１ｃを所定
の配分比で送液する送液手段１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，
１２，１３ａ，１３ｂ，１３ｃと、送液手段からの液体
原料を受けて混合する混合室１０とを有し、混合室の上
部には、各送液手段にそれぞれ連通する複数の供給管１
５ａ，１５ｂ，１５ｃが開口して設けられている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、混合液供給装置に
係り、特に、チタン酸バリウム／ストロンチウム等の高
誘電体又は強誘電体薄膜を基板上に気相成長させる薄膜
気相成長装置に使用して最適な混合液供給装置に関す
る。
係り、特に、チタン酸バリウム／ストロンチウム等の高
誘電体又は強誘電体薄膜を基板上に気相成長させる薄膜
気相成長装置に使用して最適な混合液供給装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体産業における集積回路の集
積度の向上はめざましく、現状のメガビットオーダか
ら、将来のギガビットオーダを睨んだＤＲＡＭの研究開
発が行われている。かかるＤＲＡＭの製造のためには、
小さな面積で大容量が得られるキャパシタ素子が必要で
ある。このような大容量素子の製造に用いる誘電体薄膜
として、誘電率が１０以下であるシリコン酸化膜やシリ
コン窒化膜に替えて、誘電率が２０程度である五酸化タ
ンタル(Ｔa2Ｏ5 )薄膜、あるいは誘電率が３００程度で
あるチタン酸バリウム(ＢaＴiＯ3 )、チタン酸ストロン
チウム(ＳrＴiＯ3）又はこれらの混合物であるチタン酸
バリウムストロンチウム等の金属酸化物薄膜材料が有望
視されている。
積度の向上はめざましく、現状のメガビットオーダか
ら、将来のギガビットオーダを睨んだＤＲＡＭの研究開
発が行われている。かかるＤＲＡＭの製造のためには、
小さな面積で大容量が得られるキャパシタ素子が必要で
ある。このような大容量素子の製造に用いる誘電体薄膜
として、誘電率が１０以下であるシリコン酸化膜やシリ
コン窒化膜に替えて、誘電率が２０程度である五酸化タ
ンタル(Ｔa2Ｏ5 )薄膜、あるいは誘電率が３００程度で
あるチタン酸バリウム(ＢaＴiＯ3 )、チタン酸ストロン
チウム(ＳrＴiＯ3）又はこれらの混合物であるチタン酸
バリウムストロンチウム等の金属酸化物薄膜材料が有望
視されている。
【０００３】このような金属酸化物薄膜を基板上に気相
成長させる際には、１又は複数の有機金属化合物のガス
原料と酸素含有ガスとを混合しつつ、一定の温度に加熱
した基板に噴射するようにしている。有機金属化合物の
ガス原料は、例えば、チタン酸バリウムストロンチウム
の金属酸化膜にあっては、Ｂａ，Ｓｒ，Ｔｉまたはその
化合物をＤＰＭ（ジピバロイルメタン）化合物としこれ
らを有機溶剤（例えばテトラヒドラフラン（以下、ＴＨ
Ｆという）など）に溶解させた複数の液体原料を所定の
割合で予め均一に混合させた後、この混合液を気化器で
気化することによって生成されている。
成長させる際には、１又は複数の有機金属化合物のガス
原料と酸素含有ガスとを混合しつつ、一定の温度に加熱
した基板に噴射するようにしている。有機金属化合物の
ガス原料は、例えば、チタン酸バリウムストロンチウム
の金属酸化膜にあっては、Ｂａ，Ｓｒ，Ｔｉまたはその
化合物をＤＰＭ（ジピバロイルメタン）化合物としこれ
らを有機溶剤（例えばテトラヒドラフラン（以下、ＴＨ
Ｆという）など）に溶解させた複数の液体原料を所定の
割合で予め均一に混合させた後、この混合液を気化器で
気化することによって生成されている。
【０００４】このような液体原料を所定の割合で均一に
混合する混合液供給装置として、例えば、図５に示すよ
うに、液体原料１ａ，１ｂ，１ｃをそれぞれ貯留する３
個の貯液タンク２ａ，２ｂ，２ｃに、第１の輸送管３
ａ，３ｂ，３ｃの一端をそれぞれ接続し、この各輸送管
３ａ，３ｂ，３ｃの他端をロータリーバルブ４に接続
し、共通の加圧手段５によって各貯液タンク２ａ，２
ｂ，２ｃ内にそれぞれ貯留された各液体原料１ａ，１
ｂ，１ｃの液面を加圧して液体原料を順次送り出し、ロ
ータリーバルブ４に供給するものが知られている。
混合する混合液供給装置として、例えば、図５に示すよ
うに、液体原料１ａ，１ｂ，１ｃをそれぞれ貯留する３
個の貯液タンク２ａ，２ｂ，２ｃに、第１の輸送管３
ａ，３ｂ，３ｃの一端をそれぞれ接続し、この各輸送管
３ａ，３ｂ，３ｃの他端をロータリーバルブ４に接続
し、共通の加圧手段５によって各貯液タンク２ａ，２
ｂ，２ｃ内にそれぞれ貯留された各液体原料１ａ，１
ｂ，１ｃの液面を加圧して液体原料を順次送り出し、ロ
ータリーバルブ４に供給するものが知られている。
【０００５】ロータリーバルブ４は、所定角度の回転と
所定時間の停止を繰り返し、その１サイクルで所定量の
液体原料１ａ，１ｂ，１ｃを順次送り出すように構成さ
れている。ロータリーバルブ４の下流側は、輸送管６を
介してポンプ７及び混合室８に接続され、更にこの混合
室８には、この混合室８と次工程の気化器（図示せず）
等とを繋ぐ混合液輸送管９が設けられている。各液体原
料の混合比は、それぞれの輸送管３ａ，３ｂ，３ｃの開
口部におけるロータリーバルブ４の停止時間の比で設定
され、また、混合液の流量は加圧手段５の加圧力及びロ
ータリーバルブ４の回転速度で決定される。各液体原料
１ａ，１ｂ，１ｃは、図６に示すように、輸送管６の内
部では充分に混合することなく、混合室８内に導かれて
初めて完全に混合される。
所定時間の停止を繰り返し、その１サイクルで所定量の
液体原料１ａ，１ｂ，１ｃを順次送り出すように構成さ
れている。ロータリーバルブ４の下流側は、輸送管６を
介してポンプ７及び混合室８に接続され、更にこの混合
室８には、この混合室８と次工程の気化器（図示せず）
等とを繋ぐ混合液輸送管９が設けられている。各液体原
料の混合比は、それぞれの輸送管３ａ，３ｂ，３ｃの開
口部におけるロータリーバルブ４の停止時間の比で設定
され、また、混合液の流量は加圧手段５の加圧力及びロ
ータリーバルブ４の回転速度で決定される。各液体原料
１ａ，１ｂ，１ｃは、図６に示すように、輸送管６の内
部では充分に混合することなく、混合室８内に導かれて
初めて完全に混合される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来例では、１
サイクルの時間が長いと上述のように完全な混合ができ
ない可能性があるので、低流量であってもある程度の回
転速度を確保する必要がある。このため、ロータリーバ
ルブの摺動部が摩耗し、寿命が短い、あるいは、パーテ
ィクルが発生して液体原料を汚染するなどの課題があっ
た。
サイクルの時間が長いと上述のように完全な混合ができ
ない可能性があるので、低流量であってもある程度の回
転速度を確保する必要がある。このため、ロータリーバ
ルブの摺動部が摩耗し、寿命が短い、あるいは、パーテ
ィクルが発生して液体原料を汚染するなどの課題があっ
た。
【０００７】なお、ロータリーバルブを使用することな
く、各貯液タンク毎にポンプを設置し、これらの各ポン
プの駆動時間を個々に制御することにより、各液体原料
の流量を計測しつつ混合室内に順次供給するようにした
ものも知られている。しかし、装置自体及び制御が複雑
化し、また、摺動部を有するポンプの数も増えるのでパ
ーティクルの発生を減らすことにはつながらない。
く、各貯液タンク毎にポンプを設置し、これらの各ポン
プの駆動時間を個々に制御することにより、各液体原料
の流量を計測しつつ混合室内に順次供給するようにした
ものも知られている。しかし、装置自体及び制御が複雑
化し、また、摺動部を有するポンプの数も増えるのでパ
ーティクルの発生を減らすことにはつながらない。
【０００８】この発明は上記の課題に鑑み、可動部や摺
動部を有する部材を使用することなく、複数の液体を低
流量であっても充分に混合して次工程に供給できるよう
にした混合液供給装置を提供することを目的とする。
動部を有する部材を使用することなく、複数の液体を低
流量であっても充分に混合して次工程に供給できるよう
にした混合液供給装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、複数の貯液タンクと、該複数の貯液タンクの各液体
原料を所定の配分比で送液する送液手段と、該送液手段
からの液体原料を受けて混合する混合室とを有し、前記
混合室の上部には、前記各送液手段にそれぞれ連通する
複数の供給管が開口して設けられていることを特徴とす
る混合液供給装置である。
は、複数の貯液タンクと、該複数の貯液タンクの各液体
原料を所定の配分比で送液する送液手段と、該送液手段
からの液体原料を受けて混合する混合室とを有し、前記
混合室の上部には、前記各送液手段にそれぞれ連通する
複数の供給管が開口して設けられていることを特徴とす
る混合液供給装置である。
【００１０】上記のように構成した本発明によれば、各
貯液タンク内に貯留された液体を送液手段を介して各送
液管内を通過させた後、この送液管の開口端部から液滴
として混合室内に滴下させ、この滴下に伴って液体を混
合させることができ、これによって、比較的簡単な構成
で液体を確実に混合させ、しかも摺動部や可動部の存在
によるパーティクルの発生をなくすことができる。
貯液タンク内に貯留された液体を送液手段を介して各送
液管内を通過させた後、この送液管の開口端部から液滴
として混合室内に滴下させ、この滴下に伴って液体を混
合させることができ、これによって、比較的簡単な構成
で液体を確実に混合させ、しかも摺動部や可動部の存在
によるパーティクルの発生をなくすことができる。
【００１１】請求項２に記載の発明は、前記供給管の内
径を０．３ｍｍ以下としたことを特徴とする請求項１に
記載の混合液供給装置である。これにより、滴下する液
滴量を微小なものとして微小流量の制御を精度よく行な
うことができる。
径を０．３ｍｍ以下としたことを特徴とする請求項１に
記載の混合液供給装置である。これにより、滴下する液
滴量を微小なものとして微小流量の制御を精度よく行な
うことができる。
【００１２】請求項３に記載の発明は、前記送液手段
は、各貯液タンクの内部を共通に加圧する加圧手段と、
各貯液タンクからの送液配管にそれぞれ設けた流量調節
器とを有することを特徴とする請求項１記載の混合液供
給装置である。各送液管内に有する流量調節器を介して
各流体毎の各送液管内を流れる流量が個々に制御され
る。
は、各貯液タンクの内部を共通に加圧する加圧手段と、
各貯液タンクからの送液配管にそれぞれ設けた流量調節
器とを有することを特徴とする請求項１記載の混合液供
給装置である。各送液管内に有する流量調節器を介して
各流体毎の各送液管内を流れる流量が個々に制御され
る。
【００１３】請求項４に記載の発明は、前記送液手段
は、各貯液タンクの内部をそれぞれ個別に加圧する加圧
手段を有することを特徴とする請求項１記載の混合液供
給装置である。これにより、各加圧手段によって各貯液
タンク内に貯留された液体の液面に作用する力を個々に
調節して、各液体毎の各送液管内を流れる流量を個々に
制御することができる。
は、各貯液タンクの内部をそれぞれ個別に加圧する加圧
手段を有することを特徴とする請求項１記載の混合液供
給装置である。これにより、各加圧手段によって各貯液
タンク内に貯留された液体の液面に作用する力を個々に
調節して、各液体毎の各送液管内を流れる流量を個々に
制御することができる。
【００１４】請求項５に記載の発明は、前記各供給管の
開口端部をほぼ同一鉛直線上に配置したことを特徴とす
る請求項１に記載の混合液供給装置であるので、各液体
が滴下する位置をほぼ同一として、混合の効率を高める
ことができる。
開口端部をほぼ同一鉛直線上に配置したことを特徴とす
る請求項１に記載の混合液供給装置であるので、各液体
が滴下する位置をほぼ同一として、混合の効率を高める
ことができる。
【００１５】請求項６に記載の発明は、前記各供給管の
開口端部の面積を該供給管の断面積より減少させたこと
を特徴とする請求項１に記載の混合液供給装置である。
これにより、表面張力で保持される液滴量をさらに減少
させ、最小制御可能流量をさらに小さくすることができ
る。
開口端部の面積を該供給管の断面積より減少させたこと
を特徴とする請求項１に記載の混合液供給装置である。
これにより、表面張力で保持される液滴量をさらに減少
させ、最小制御可能流量をさらに小さくすることができ
る。
【００１６】なお、混合室の内部を気体で加圧して混合
室内の液体を排出する第２の加圧手段を設けてもよく、
これにより、混合後の液体の送出量を調整しつつ混合室
における液レベルを調整することができる。
室内の液体を排出する第２の加圧手段を設けてもよく、
これにより、混合後の液体の送出量を調整しつつ混合室
における液レベルを調整することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第１の実施の形態
について、図１及び図２を参照して説明する。ここで
は、３種類の液体原料１ａ，１ｂ，１ｃをそれぞれ貯留
する３個の貯液タンク２ａ，２ｂ，２ｃに、例えば、内
径が０．５ｍｍφ以下、望ましくは０．１〜０．３ｍｍ
φ程度の送液管１１ａ，１１ｂ，１１ｃがその一端を液
体原料１ａ，１ｂ，１ｃ液面以下として接続されてい
る。これらの各送液管１１ａ，１１ｂ，１１ｃには流量
を個々に制御する流量調節器、例えばマスフローコント
ローラ（ＭＦＣ）１３ａ，１３ｂ，１３ｃが設けられ、
さらに混合室１０に延びており、その先端に開口端部１
４ａ，１４ｂ，１４ｃを有する供給管１５ａ，１５ｂ，
１５ｃとなっている。
について、図１及び図２を参照して説明する。ここで
は、３種類の液体原料１ａ，１ｂ，１ｃをそれぞれ貯留
する３個の貯液タンク２ａ，２ｂ，２ｃに、例えば、内
径が０．５ｍｍφ以下、望ましくは０．１〜０．３ｍｍ
φ程度の送液管１１ａ，１１ｂ，１１ｃがその一端を液
体原料１ａ，１ｂ，１ｃ液面以下として接続されてい
る。これらの各送液管１１ａ，１１ｂ，１１ｃには流量
を個々に制御する流量調節器、例えばマスフローコント
ローラ（ＭＦＣ）１３ａ，１３ｂ，１３ｃが設けられ、
さらに混合室１０に延びており、その先端に開口端部１
４ａ，１４ｂ，１４ｃを有する供給管１５ａ，１５ｂ，
１５ｃとなっている。
【００１８】各貯液タンク２ａ，２ｂ，２ｃ内には、図
５の場合と同様に、貯留された各液体原料１ａ，１ｂ，
１ｃの液面を、例えば、Ｈｅ等の不活性ガスで、３kgf
／cm2Ｇ程度の共通の圧力ＰＧ１で加圧して液体原料を
順次送り出す加圧手段１２が設けられている。流量調節
器１３ａ，１３ｂ，１３ｃは、例えば、圧電素子やシリ
ンダの熱膨張を利用してダイヤフラムや弁の開度を調整
するもので、ミクロンオーダーでの精密な制御が可能で
あり、しかも接液部分に摺動部がないのでパーティクル
が発生しない。
５の場合と同様に、貯留された各液体原料１ａ，１ｂ，
１ｃの液面を、例えば、Ｈｅ等の不活性ガスで、３kgf
／cm2Ｇ程度の共通の圧力ＰＧ１で加圧して液体原料を
順次送り出す加圧手段１２が設けられている。流量調節
器１３ａ，１３ｂ，１３ｃは、例えば、圧電素子やシリ
ンダの熱膨張を利用してダイヤフラムや弁の開度を調整
するもので、ミクロンオーダーでの精密な制御が可能で
あり、しかも接液部分に摺動部がないのでパーティクル
が発生しない。
【００１９】なお、全長に亘って均一な内径を有する送
液管を使用することなく、送液管の混合室側の端部の内
径のみを、例えば、０．５ｍｍφ以下、望ましくは０．
１〜０．３ｍｍφ程度の細孔として、ここから液滴が落
下するようにしても良いことは勿論である。
液管を使用することなく、送液管の混合室側の端部の内
径のみを、例えば、０．５ｍｍφ以下、望ましくは０．
１〜０．３ｍｍφ程度の細孔として、ここから液滴が落
下するようにしても良いことは勿論である。
【００２０】各供給管１５ａ，１５ｂ，１５ｃの混合室
１０内の開口端（開口端部）１４ａ，１４ｂ，１４ｃ
は、ほぼ同一鉛直線上にかつ上下にずれて配置されてお
り、これによって、各液体原料１ａ，１ｂ，１ｃが滴下
する地点が同じになるようにして混合効率を高めてい
る。この例では、開口端部１４ａ，１４ｂ，１４ｃは、
図２に示すように、供給管１５ａの端部を円錐状に尖ら
せたテーパ部Ｔとして先端面の面積を小さくしている。
これにより、先端面と液体の間に作用する表面張力によ
って保持される液滴量を小さくし、微小な液量であって
も均一に混合することができるように構成されている。
１０内の開口端（開口端部）１４ａ，１４ｂ，１４ｃ
は、ほぼ同一鉛直線上にかつ上下にずれて配置されてお
り、これによって、各液体原料１ａ，１ｂ，１ｃが滴下
する地点が同じになるようにして混合効率を高めてい
る。この例では、開口端部１４ａ，１４ｂ，１４ｃは、
図２に示すように、供給管１５ａの端部を円錐状に尖ら
せたテーパ部Ｔとして先端面の面積を小さくしている。
これにより、先端面と液体の間に作用する表面張力によ
って保持される液滴量を小さくし、微小な液量であって
も均一に混合することができるように構成されている。
【００２１】なお、図３に示すように、供給管１５ａ，
１５ｂ，１５ｃの端面を斜めにカットして、開口端部１
４ａ，１４ｂ，１４ｃの端面の面積を大きく形成しても
良い。この場合、傾斜の角度が大きくなるほど面積が大
きくなり、従って、液滴も大きくなるので、使用量が多
い場合には好適である。あるいは、各液体原料の配分比
率が異なる場合にその比率に応じて開口端部１４ａ，１
４ｂ，１４ｃの端面の面積を変えるようにすれば、同じ
タイミングで各液滴が滴下して混合室１０での濃度変化
が少なくなる。
１５ｂ，１５ｃの端面を斜めにカットして、開口端部１
４ａ，１４ｂ，１４ｃの端面の面積を大きく形成しても
良い。この場合、傾斜の角度が大きくなるほど面積が大
きくなり、従って、液滴も大きくなるので、使用量が多
い場合には好適である。あるいは、各液体原料の配分比
率が異なる場合にその比率に応じて開口端部１４ａ，１
４ｂ，１４ｃの端面の面積を変えるようにすれば、同じ
タイミングで各液滴が滴下して混合室１０での濃度変化
が少なくなる。
【００２２】混合室１０は、図示するように下部がテー
パ状に窄まる円筒状の容器であり、容量は、必要とされ
る供給量に対応して決められ、例えば、少なくとも供給
流量Ｘml/minに対してＸml程度以下に設定し、混合液１
６が混合室１０内に滞留する時間をできるだけ短く、長
くとも１分以内の滞留時間となるようにするのが望まし
い。混合室１０には、混合室１０内に貯留された混合液
１６の液面を、例えば、Ｈｅ等の不活性ガスで、１kgf
／cm2Ｇ程度の圧力ＰＧ２で加圧する第２の加圧手段１
７が設けられている。また、この混合液１６の液面下か
ら延出して、例えば、気化器１８等の次工程に接続され
た混合液輸送管１９が設けられ、この混合液輸送管１９
には、流量調節器２０と逆止弁２１とが流れ方向に沿っ
て順に設けられている。
パ状に窄まる円筒状の容器であり、容量は、必要とされ
る供給量に対応して決められ、例えば、少なくとも供給
流量Ｘml/minに対してＸml程度以下に設定し、混合液１
６が混合室１０内に滞留する時間をできるだけ短く、長
くとも１分以内の滞留時間となるようにするのが望まし
い。混合室１０には、混合室１０内に貯留された混合液
１６の液面を、例えば、Ｈｅ等の不活性ガスで、１kgf
／cm2Ｇ程度の圧力ＰＧ２で加圧する第２の加圧手段１
７が設けられている。また、この混合液１６の液面下か
ら延出して、例えば、気化器１８等の次工程に接続され
た混合液輸送管１９が設けられ、この混合液輸送管１９
には、流量調節器２０と逆止弁２１とが流れ方向に沿っ
て順に設けられている。
【００２３】このように構成した混合液供給装置の作用
を説明する。混合室１０内に、例えば、０．１ｃｃ程度
の混合液１６が存在する状態で、上記のように、各流量
調節器１３ａ，１３ｂ，１３ｃで流量制御された液体原
料１ａ，１ｂ，１ｃを開口端部１４ａ，１４ｂ，１４ｃ
から液滴状態で供給する。これによって、微量の液体原
料を摺動部や可動部を有する部材を使用することなく混
合することができる。
を説明する。混合室１０内に、例えば、０．１ｃｃ程度
の混合液１６が存在する状態で、上記のように、各流量
調節器１３ａ，１３ｂ，１３ｃで流量制御された液体原
料１ａ，１ｂ，１ｃを開口端部１４ａ，１４ｂ，１４ｃ
から液滴状態で供給する。これによって、微量の液体原
料を摺動部や可動部を有する部材を使用することなく混
合することができる。
【００２４】混合した液体原料１６は、第２の加圧手段
１７により加圧されて下流に流れ、混合液輸送管１９内
を連続的に流れて気化器１８に順次供給される。混合液
の流量は流量調節器２０で流量が制御される。第２の加
圧手段１７の加圧力は、混合室１０内の液面を一定のレ
ベルに保持するように設定される。
１７により加圧されて下流に流れ、混合液輸送管１９内
を連続的に流れて気化器１８に順次供給される。混合液
の流量は流量調節器２０で流量が制御される。第２の加
圧手段１７の加圧力は、混合室１０内の液面を一定のレ
ベルに保持するように設定される。
【００２５】上記のように構成することにより、各貯液
タンク２ａ，２ｂ，２ｃに貯留された液体原料１ａ，１
ｂ，１ｃの計量を各送液管１１ａ，１１ｂ，１１ｃに設
けられた流量調節器１３ａ，１３ｂ，１３ｃで行いつ
つ、供給管１５ａ，１５ｂ，１５ｃの開口端部１４ａ，
１４ｂ，１４ｃから液滴として混合室１０内に滴下さ
せ、この滴下に伴って液体原料１ａ，１ｂ，１ｃを混合
させた後、この混合後の混合液１６を順次気化器１８に
供給することができる。
タンク２ａ，２ｂ，２ｃに貯留された液体原料１ａ，１
ｂ，１ｃの計量を各送液管１１ａ，１１ｂ，１１ｃに設
けられた流量調節器１３ａ，１３ｂ，１３ｃで行いつ
つ、供給管１５ａ，１５ｂ，１５ｃの開口端部１４ａ，
１４ｂ，１４ｃから液滴として混合室１０内に滴下さ
せ、この滴下に伴って液体原料１ａ，１ｂ，１ｃを混合
させた後、この混合後の混合液１６を順次気化器１８に
供給することができる。
【００２６】図４は、第２の実施の形態を示すもので、
この例の第１の実施の形態と異なる点は、以下の通りで
ある。すなわち、各貯液タンク２ａ，２ｂ，２ｃには、
貯液タンク２ａ，２ｂ，２ｃ内に貯留された液体原料１
ａ，１ｂ，１ｃの液面に加える圧力を個々に制御する加
圧手段３０ａ，３０ｂ，３０ｃが設けられている。各送
液管１１ａ，１１ｂ，１１ｃの混合室１０の入口付近に
は、オリフィス３１ａ，３１ｂ，３１ｃが設けられ、各
送液管毎の流量調節器が省略されている。
この例の第１の実施の形態と異なる点は、以下の通りで
ある。すなわち、各貯液タンク２ａ，２ｂ，２ｃには、
貯液タンク２ａ，２ｂ，２ｃ内に貯留された液体原料１
ａ，１ｂ，１ｃの液面に加える圧力を個々に制御する加
圧手段３０ａ，３０ｂ，３０ｃが設けられている。各送
液管１１ａ，１１ｂ，１１ｃの混合室１０の入口付近に
は、オリフィス３１ａ，３１ｂ，３１ｃが設けられ、各
送液管毎の流量調節器が省略されている。
【００２７】この例では、液体原料１ａの流量は、加圧
手段３０ａによる圧力ＰＧ１１と第２の加圧手段１７に
よる圧力ＰＧ２の差圧ＰＧ１１−ＰＧ２によって、同様
に液体原料１ｂの流量は、加圧手段３０ｂによる圧力Ｐ
Ｇ１２と第２の加圧手段１７による圧力ＰＧ２の差圧Ｐ
Ｇ１２−ＰＧ２によって、液体原料１ｃの流量は、加圧
手段３０ｃによる圧力ＰＧ１３と第２の加圧手段１７に
よる圧力ＰＧ２の差圧ＰＧ１３−ＰＧ２によって、それ
ぞれ個々に制御される。従って、混合比率の調整や適宜
の変更が可能である。なお、送液管にオリフィスを設け
る代わりに、送液管自体の一部を細くしても良い。
手段３０ａによる圧力ＰＧ１１と第２の加圧手段１７に
よる圧力ＰＧ２の差圧ＰＧ１１−ＰＧ２によって、同様
に液体原料１ｂの流量は、加圧手段３０ｂによる圧力Ｐ
Ｇ１２と第２の加圧手段１７による圧力ＰＧ２の差圧Ｐ
Ｇ１２−ＰＧ２によって、液体原料１ｃの流量は、加圧
手段３０ｃによる圧力ＰＧ１３と第２の加圧手段１７に
よる圧力ＰＧ２の差圧ＰＧ１３−ＰＧ２によって、それ
ぞれ個々に制御される。従って、混合比率の調整や適宜
の変更が可能である。なお、送液管にオリフィスを設け
る代わりに、送液管自体の一部を細くしても良い。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
各貯液タンクに貯留された液体を送液手段を介して混合
室内の供給管の開口端部から液滴として混合室内に滴下
させ、これによって、比較的簡単な構成で微小流量から
広い流量範囲において液体を確実に混合させることがで
きる。しかも摺動部や可動部が無いので、これに起因す
るパーティクルの発生をなくし、品質の良い混合液をス
ムースに供給することができる。
各貯液タンクに貯留された液体を送液手段を介して混合
室内の供給管の開口端部から液滴として混合室内に滴下
させ、これによって、比較的簡単な構成で微小流量から
広い流量範囲において液体を確実に混合させることがで
きる。しかも摺動部や可動部が無いので、これに起因す
るパーティクルの発生をなくし、品質の良い混合液をス
ムースに供給することができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態の混合液供給装置の
概略を示す概略図である。
概略を示す概略図である。
【図２】図１の実施の形態の供給管の開口端部を拡大し
て示す正面図である。
て示す正面図である。
【図３】図２の変形例を示す図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態の混合液供給装置の
概略図である。
概略図である。
【図５】従来の混合液供給装置の概略図である。
【図６】同じく、ロータリーバルブ以降の輸送管内を流
れる流体の状態の説明に付する断面図である。
れる流体の状態の説明に付する断面図である。
１ａ，１ｂ，１ｃ 液体原料 ２ａ，２ｂ，２ｃ 貯液タンク １０ 混合室 １１ａ，１１ｂ，１１ｃ 送液管 １２，３０ａ，３０ｂ，３０ｃ 加圧手段 １３ａ，１３ｂ，１３ｃ，２０ 流量調節器 １４ａ，１４ｂ，１４ｃ 開口端部 １５ａ，１５ｂ，１５ｃ 供給管 １７ 第２の加圧手段 １８ 気化器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村上 武司 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内
Claims (6)
- 【請求項１】 複数の貯液タンクと、該複数の貯液タン
クの各液体原料を所定の配分比で送液する送液手段と、
該送液手段からの液体原料を受けて混合する混合室とを
有し、 前記混合室の上部には、前記各送液手段にそれぞれ連通
する複数の供給管が開口して設けられていることを特徴
とする混合液供給装置。 - 【請求項２】 前記供給管の内径を０．３ｍｍ以下とし
たことを特徴とする請求項１に記載の混合液供給装置。 - 【請求項３】 前記送液手段は、各貯液タンクの内部を
共通に加圧する加圧手段と、各貯液タンクからの送液配
管にそれぞれ設けた流量調節器とを有することを特徴と
する請求項１記載の混合液供給装置。 - 【請求項４】 前記送液手段は、各貯液タンクの内部を
それぞれ個別に加圧する加圧手段を有することを特徴と
する請求項１記載の混合液供給装置。 - 【請求項５】 前記各供給管の開口端部をほぼ同一鉛直
線上に配置したことを特徴とする請求項１に記載の混合
液供給装置。 - 【請求項６】 前記各供給管の開口端部の面積を該供給
管の断面積より減少させたことを特徴とする請求項１に
記載の混合液供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35823796A JPH10192682A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | 混合液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35823796A JPH10192682A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | 混合液供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10192682A true JPH10192682A (ja) | 1998-07-28 |
Family
ID=18458253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35823796A Pending JPH10192682A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | 混合液供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10192682A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003534151A (ja) * | 2000-05-24 | 2003-11-18 | ミリケン・アンド・カンパニー | 改良された供給アッセンブリ |
| US6839067B2 (en) | 2002-07-26 | 2005-01-04 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Capturing and producing shared multi-resolution video |
| JP2006102667A (ja) * | 2004-10-06 | 2006-04-20 | Ngk Insulators Ltd | 薬液調合装置及び薬液調合方法 |
| JP2010042376A (ja) * | 2008-08-18 | 2010-02-25 | Nitto Denko Corp | 液体と混合物の混合装置及びその混合方法 |
| JP2010509049A (ja) * | 2006-11-07 | 2010-03-25 | ポステック アカデミー−インダストリー ファンデーション | 極少量液体の混合装置及びその混合方法 |
| CN101961619A (zh) * | 2010-10-08 | 2011-02-02 | 百瑞美特殊化学品(苏州)有限公司 | 原料混合*** |
| US7995090B2 (en) | 2003-07-28 | 2011-08-09 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Video enabled tele-presence control host |
| JP2011156502A (ja) * | 2010-02-02 | 2011-08-18 | Kurabo Ind Ltd | 液体混合方法及び液体混合装置 |
| CN104853834A (zh) * | 2013-02-28 | 2015-08-19 | Lg化学株式会社 | 混合器 |
| JP2019088811A (ja) * | 2013-03-15 | 2019-06-13 | ドクター ピー インスティチュート エルエルシー | 制御された非分離充填器具および方法 |
-
1996
- 1996-12-27 JP JP35823796A patent/JPH10192682A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003534151A (ja) * | 2000-05-24 | 2003-11-18 | ミリケン・アンド・カンパニー | 改良された供給アッセンブリ |
| US6839067B2 (en) | 2002-07-26 | 2005-01-04 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Capturing and producing shared multi-resolution video |
| US7995090B2 (en) | 2003-07-28 | 2011-08-09 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Video enabled tele-presence control host |
| JP2006102667A (ja) * | 2004-10-06 | 2006-04-20 | Ngk Insulators Ltd | 薬液調合装置及び薬液調合方法 |
| JP2010509049A (ja) * | 2006-11-07 | 2010-03-25 | ポステック アカデミー−インダストリー ファンデーション | 極少量液体の混合装置及びその混合方法 |
| JP2010042376A (ja) * | 2008-08-18 | 2010-02-25 | Nitto Denko Corp | 液体と混合物の混合装置及びその混合方法 |
| JP2011156502A (ja) * | 2010-02-02 | 2011-08-18 | Kurabo Ind Ltd | 液体混合方法及び液体混合装置 |
| CN101961619A (zh) * | 2010-10-08 | 2011-02-02 | 百瑞美特殊化学品(苏州)有限公司 | 原料混合*** |
| CN104853834A (zh) * | 2013-02-28 | 2015-08-19 | Lg化学株式会社 | 混合器 |
| US10035114B2 (en) | 2013-02-28 | 2018-07-31 | Lg Chem, Ltd. | Mixer |
| JP2019088811A (ja) * | 2013-03-15 | 2019-06-13 | ドクター ピー インスティチュート エルエルシー | 制御された非分離充填器具および方法 |
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