JPH10189686A - Conveyor - Google Patents
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- JPH10189686A JPH10189686A JP35612096A JP35612096A JPH10189686A JP H10189686 A JPH10189686 A JP H10189686A JP 35612096 A JP35612096 A JP 35612096A JP 35612096 A JP35612096 A JP 35612096A JP H10189686 A JPH10189686 A JP H10189686A
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- wafer
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- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、被処理体などの搬
送対象物を搬送する際に用いる搬送装置に関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer device used for transferring an object to be transferred such as an object to be processed.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば半導体製造プロセスにおけるいわ
ゆるフォトレジスト処理工程においては、半導体ウエハ
(以下、「ウエハ」という)などの被処理基板を洗浄し
たり、その表面にレジスト液を塗布してレジスト膜を形
成し、所定のパターンで露光した後に現像液で現像処理
しているが、このような一連の処理を行うにあたって
は、従来から、例えば図8に示したようなレジスト塗布
・現像処理システム101が用いられている。2. Description of the Related Art In a so-called photoresist processing step in a semiconductor manufacturing process, for example, a substrate to be processed such as a semiconductor wafer (hereinafter, referred to as a "wafer") is washed, or a resist liquid is applied to the surface to form a resist film. After forming and exposing in a predetermined pattern, development processing is performed with a developing solution. To perform such a series of processing, conventionally, for example, a resist coating / development processing system 101 as shown in FIG. Used.
【0003】このレジスト塗布・現像処理システム10
1においては、複数のウエハを収納する収納体であるカ
セットCを整列して複数載置する載置部102と、この
載置部102に載置されたカセットC内のウエハWを取
り出して、主搬送装置103へと搬送する副搬送装置1
04とを備えており、副搬送装置104は、カセットC
の整列方向(X方向)に沿って設けられている搬送路1
05上を移動自在になっている。そしてウエハWに対し
て所定の処理を行う各種の処理装置は、2つの主搬送装
置103、106の各搬送路107、108を挟んだ両
側に配置されている。This resist coating / developing system 10
In 1, a cassette 102, which is a storage body for accommodating a plurality of wafers, is arranged and a plurality of mounting units 102 are mounted thereon, and a wafer W in the cassette C mounted on the mounting unit 102 is taken out. Sub-transport device 1 that transports to main transport device 103
04, and the sub-transport device 104
Path 1 provided along the alignment direction (X direction)
05 is freely movable. Various processing apparatuses that perform predetermined processing on the wafer W are disposed on both sides of each of the transfer paths 107 and 108 of the two main transfer apparatuses 103 and 106.
【0004】より詳述すると、まず、カセットCから取
り出されたウエハWの表面を洗浄するため、ウエハWを
回転させながらブラシ洗浄するブラシ洗浄装置111、
ウエハWに対して高圧ジェット洗浄する水洗洗浄装置1
12、ウエハWの表面を疎水化処理してレジストの定着
性を向上させるアドヒージョン処理装置113、ウエハ
Wを所定温度に冷却する冷却処理装置114、回転する
ウエハWの表面にレジスト液を塗布するレジスト液塗布
装置115、115、レジスト液塗布後のウエハWを加
熱したり、パターン露光後のウエハWを加熱する加熱処
理装置116、露光後のウエハWを回転させながらその
表面に現像液を供給して現像処理する現像処理装置11
7、117が配置されている。そしてこれら各処理装置
はある程度集約化されており、適当な処理装置群にまと
めることで設置スペースの縮小、及び処理効率の向上が
図られている。またこれら各種処理装置に対するウエハ
Wの搬入出は、前記した2つの主搬送装置103、10
6によって行われている。[0004] More specifically, first, in order to clean the surface of the wafer W taken out of the cassette C, a brush cleaning device 111 that performs brush cleaning while rotating the wafer W,
Rinse-cleaning apparatus 1 for high-pressure jet cleaning of wafer W
12. An adhesion processing device 113 for improving the fixability of the resist by hydrophobizing the surface of the wafer W; a cooling device 114 for cooling the wafer W to a predetermined temperature; a resist for applying a resist liquid to the surface of the rotating wafer W The liquid coating apparatuses 115 and 115, a heating processing apparatus 116 for heating the wafer W after application of the resist liquid or for heating the wafer W after pattern exposure, and supplying a developing solution to the surface of the exposed wafer W while rotating the wafer W. Processing unit 11 for developing
7, 117 are arranged. Each of these processing apparatuses is integrated to some extent, and the installation space is reduced and the processing efficiency is improved by collecting the processing apparatuses into an appropriate group of processing apparatuses. The loading and unloading of the wafer W to and from these various processing apparatuses is performed by the two main transfer apparatuses 103 and 10 described above.
6 is performed.
【0005】前記主搬送装置103、106や副搬送装
置104の直線移動は、図9に示したように、基本的に
は、従動プーリ121の回転によって回転するねじ軸1
22と、前記従動プーリ121をタイミングベルト12
3を介して駆動させる駆動プーリ124と、この駆動プ
ーリ124を回転させるモータ125と、ボールスクリ
ュー機構により前記ねじ軸122の回転によって当該ね
じ軸122に沿って移動する移動体126とを有してお
り、この移動体126に、例えば主搬送装置103、1
06や副搬送装置104の支持部等が固定されている。
このように、ねじ軸122を回転させるのに従動プーリ
121、タイミングベルト123及び駆動プーリ124
を用いているのは、金属ギヤ等を使用した場合、金属部
分同士の接触による発塵やグリースなどによる汚染が懸
念されるためである。[0005] As shown in FIG. 9, the linear movement of the main transport devices 103 and 106 and the sub-transport device 104 is basically performed by the screw shaft 1 rotated by the rotation of the driven pulley 121.
22, the driven pulley 121 and the timing belt 12
3, a driving pulley 124 driven by the motor 3, a motor 125 for rotating the driving pulley 124, and a moving body 126 that moves along the screw shaft 122 by the rotation of the screw shaft 122 by a ball screw mechanism. For example, the main transport device 103, 1
06 and the supporting portion of the sub-transport device 104 are fixed.
As described above, the driven pulley 121, the timing belt 123, and the driving pulley 124 rotate the screw shaft 122.
The reason why is used is that when a metal gear or the like is used, there is a concern about dust generation due to contact between metal parts and contamination due to grease or the like.
【0006】前記モータ125には、このモータ125
のシャフトの角変位を検出するエンコーダ127が付設
されており、このエンコーダ127からの信号、例えば
パルス信号に基づいて、別設の制御装置(図示せず)
が、モータ125の回転等を制御するようになってい
る。従って、移動体126の所定の位置への移動、停止
は、このエンコーダ127からの信号に基づいて決定さ
れ、例えば所定のパルスをカウントすることによって、
予め設定された位置にて停止される。[0006] The motor 125
An encoder 127 for detecting the angular displacement of the shaft is attached, and a separate control device (not shown) is provided based on a signal from the encoder 127, for example, a pulse signal.
However, the rotation of the motor 125 is controlled. Accordingly, the movement or stop of the moving body 126 to a predetermined position is determined based on a signal from the encoder 127, and for example, by counting a predetermined pulse,
It is stopped at a preset position.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】前記駆動系において
は、従動プーリ121と駆動プーリ124との間に、タ
イミングベルト123が架張されているが、合成樹脂等
の材質で構成されているこの種のタイミングベルト12
3は、使用期間、使用頻度等によって、ベルト自体が伸
びたり、本来の弾性が劣化することが避けられない。し
かしながらそうなると、エンコーダ127からの信号の
みに基づいて移動体126の停止位置を制御していたの
では、所期の位置からずれてしまう。しかも当該ずれに
よる停止位置等が許容範囲にある間はまだよいが、当該
ずれが蓄積した場合、重大な事故を招くおそれがある。In the above-mentioned drive system, a timing belt 123 is stretched between a driven pulley 121 and a drive pulley 124. This type of belt is made of a material such as synthetic resin. Timing belt 12
In No. 3, it is inevitable that the belt itself elongates or the original elasticity deteriorates depending on the use period, use frequency, and the like. However, in such a case, if the stop position of the moving body 126 is controlled based on only the signal from the encoder 127, the position may be shifted from the expected position. Moreover, while the stop position or the like due to the deviation is still within the allowable range, the accumulation of the deviation may cause a serious accident.
【0008】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、その目的とするところは、前記したようなタイミ
ングベルトを用いた駆動機構を有する搬送装置におい
て、ベルト自体が伸びたり、本来の弾性が劣化した場合
でも、正確な停止制御が可能で、しかもずれが蓄積して
いく場合に、事前にベルトの交換時期を報知できるよう
にして、前記問題の解決を図ることにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a conveyor having a drive mechanism using a timing belt as described above, in which the belt itself expands or loses its original elasticity. It is an object of the present invention to solve the above-mentioned problem by enabling accurate stop control even when the belt is deteriorated, and furthermore, when deviations accumulate, informing a belt replacement time in advance.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、請求項1によれば、従動プーリの回転によって回転
するねじ軸と、前記従動プーリをベルトを介して駆動さ
せる駆動プーリと、この駆動プーリを回転させるモータ
と、前記ねじ軸の回転によって当該ねじ軸に沿って移動
する移動体とを有し、前記移動体の移動によって搬送対
象物を所定の位置まで搬送する装置において、前記モー
タ側の回転軸の角変位を検出する第1のエンコーダと、
前記ねじ軸の角変位を検出する第2のエンコーダとを備
えたことを特徴とする。According to one aspect of the present invention, there is provided a screw shaft which is rotated by rotation of a driven pulley, a driving pulley which drives the driven pulley via a belt, and a driving pulley. A motor that rotates a pulley, and a moving body that moves along the screw shaft by the rotation of the screw shaft; and an apparatus that conveys an object to be conveyed to a predetermined position by moving the moving body; A first encoder for detecting the angular displacement of the rotating shaft of
A second encoder for detecting the angular displacement of the screw shaft.
【0010】このように、モータ側の回転軸の角変位を
検出する第1のエンコーダだけではなく、ねじ軸の角変
位を検出する第2のエンコーダをも具備しているので、
例えばこの第2のエンコーダに、アブソリュート(abso
lute)形エンコーダを用いれば、第1のエンコーダと第
2のエンコーダとの出力値の相関関係から、モータ側の
偏差を検出することができる。As described above, not only the first encoder for detecting the angular displacement of the rotary shaft on the motor side but also the second encoder for detecting the angular displacement of the screw shaft is provided.
For example, this second encoder has an absolute (abso
If a (lute) type encoder is used, the deviation on the motor side can be detected from the correlation between the output values of the first encoder and the second encoder.
【0011】従って、ベルトが伸びたりして第1のエン
コーダからの出力に基づく値が初期の値とは異なったレ
ベルであっても、第2のエンコーダからの出力に基づい
て適宜補正する制御を行えば、所定の停止位置での停止
制御が可能になる。また前記偏差があるしきい値を越え
たりした場合に、適宜の警告を発するようにしておけ
ば、ベルトの交換時期を事前に知ることができ、ベルト
の劣化等による不測の事故を未然に防止することができ
る。Therefore, even if the value based on the output from the first encoder is different from the initial value due to the belt being stretched, the control for appropriately correcting based on the output from the second encoder is performed. If performed, stop control at a predetermined stop position becomes possible. If the deviation exceeds a certain threshold value or the like, an appropriate warning is issued so that the timing of belt replacement can be known in advance, thereby preventing an unexpected accident due to belt deterioration or the like. can do.
【0012】請求項2の搬送装置は、従動プーリの回転
によって回転するねじ軸と、前記従動プーリをベルトを
介して駆動させる駆動プーリと、この駆動プーリを回転
させるモータと、前記ねじ軸の回転によって当該ねじ軸
に沿って移動する移動体とを有し、前記移動体の移動に
よって搬送対象物を所定の位置まで搬送する装置におい
て、前記モータ側の回転軸の角変位を検出する第1のエ
ンコーダと、前記ねじ軸の角変位を検出する第2のエン
コーダと、前記第1のエンコーダ及び第2のエンコーダ
からの各信号の関係を求める検出装置と、前記検出によ
って得たデータに基づいて、外部に所定の警告を報知す
るための信号発生装置とを備えたことを特徴としてい
る。したがって、ベルトの交換時期を事前に知ることが
できる。もちろん前記検出装置、信号発生装置は、1つ
の制御装置内に組み込んだ構成としてもよい。[0012] According to a second aspect of the present invention, there is provided a transfer device comprising: a screw shaft that rotates by rotation of a driven pulley; a driving pulley that drives the driven pulley via a belt; a motor that rotates the driving pulley; and a rotation of the screw shaft. A moving body that moves along the screw axis, and a device that conveys the object to be conveyed to a predetermined position by moving the moving body. An encoder, a second encoder that detects an angular displacement of the screw shaft, a detection device that obtains a relationship between signals from the first encoder and the second encoder, and based on data obtained by the detection, And a signal generator for notifying a predetermined warning to the outside. Therefore, it is possible to know in advance the timing for replacing the belt. Of course, the detection device and the signal generation device may be configured to be incorporated in one control device.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図に
基づいて説明すると、図1〜図3は、各々本発明の実施
の形態にかかる搬送装置を組み込んだウエハの塗布現像
処理システム1の全体構成の図であって、図1は平面、
図2は正面、図3は背面からみた様子を夫々示してい
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIGS. 1 to 3 show a wafer coating and developing system incorporating a transfer device according to an embodiment of the present invention. 1 is a diagram of the overall configuration, FIG.
FIG. 2 shows a front view, and FIG. 3 shows a rear view.
【0014】この塗布現像処理システム1は、被処理基
板としてのウエハWを、カセットC単位、例えば25枚
単位でシステムに対して搬入・搬出したり、このカセッ
トCに対してウエハWを搬入・搬出したりするためのカ
セットステーション10と、塗布現像処理工程の中で1
枚ずつウエハWに所定の処理を施す枚葉式の各種処理装
置を所定位置に多段配置してなる処理ステーション11
と、この処理ステーション11に隣接して設けられるシ
ステム外の装置であるパターンの露光装置12との間で
ウエハWを受け渡しするためのインターフェース部13
とを一体に接続した構成を有している。The coating and developing system 1 loads and unloads wafers W as substrates to be processed into and out of the system in units of cassettes C, for example, in units of 25 wafers. A cassette station 10 for unloading, and one in the coating and developing process.
A processing station 11 in which various single-wafer processing apparatuses for performing predetermined processing on wafers W one by one are arranged in multiple stages at predetermined positions.
And an interface unit 13 for transferring a wafer W between the processing station 11 and a pattern exposure apparatus 12 which is an apparatus outside the system provided adjacent to the processing station 11.
And are integrally connected.
【0015】前記カセットステーション10では、図1
に示すように、載置部となるカセット載置台20上の位
置決め突起20aの位置に、複数個例えば4個までのカ
セットCが、夫々のウエハ出入口を処理ステーション1
1側に向けてX方向(図1中の上下方向)一列に載置さ
れ、このカセット配列方向(X方向)およびカセットC
内に収納されたウエハのウエハ配列方向(Z方向;垂直
方向)に移動可能な、本実施例体にかかるウエハ搬送装
置21が、搬送路22に沿って移動自在であり、各カセ
ットCに選択的にアクセスできるようになっている。さ
らにこのウエハ搬送装置21は、θ方向に回転自在に構
成されており、後述するように処理ステーション11側
の第3の処理ユニット群G3の多段ユニット部に属する
アライメントユニット(ALIM)およびイクステンシ
ョンユニット(EXT)にもアクセスできるようになっ
ている。In the cassette station 10, FIG.
As shown in FIG. 2, a plurality of cassettes C, for example, up to four cassettes are respectively set at the positions of the positioning projections 20a on the cassette mounting table 20 serving as a mounting portion, with the respective wafer entrances and exits at the processing station 1.
1 are arranged in a line in the X direction (the vertical direction in FIG. 1).
The wafer transfer device 21 according to the present embodiment, which is movable in the wafer arrangement direction (Z direction; vertical direction) of the wafers stored in the cassette, is movable along the transfer path 22 and is selected for each cassette C. Is accessible. The wafer transfer apparatus 21 further is configured to be rotatable θ direction, alignment units belonging to the multi-stage unit of the third processing unit group G 3 of the process station 11 side as described later (ALIM) and an extension The unit (EXT) can also be accessed.
【0016】ウエハ搬送装置21は、図4、図5に示し
たような構成を有している。即ち、ウエハ搬送装置21
自体は、搬送基台23の上に、図中のY方向に移動自在
なピンセット24を備えており、この搬送基台23自体
は、回転軸25を介して昇降台26上でθ方向に回転自
在に取り付けられている。この昇降台26自体は、水平
移動台27に垂直方向に昇降自在に支持され、さらに水
平移動台27自体は、X方向、即ち搬送路22に沿って
に設定されているガイドレール28に沿って摺動自在と
なるように支持されている。The wafer transfer device 21 has a configuration as shown in FIGS. That is, the wafer transfer device 21
The device itself is provided with tweezers 24 movable in the Y direction in the figure on a transfer base 23, and the transfer base 23 itself is rotated in a θ direction on a lift 26 via a rotating shaft 25. Mounted freely. The elevating table 26 itself is supported by a horizontal moving table 27 so as to be able to move up and down in the vertical direction. Further, the horizontal moving table 27 itself moves along a guide rail 28 set along the X direction, that is, along the transport path 22. It is slidably supported.
【0017】ピンセット24を図4、図5中のY方向に
移動させるためのY方向駆動部は、搬送基台23に内蔵
された駆動モータ及びベルト(いずれも図示せず)によ
って構成されている。搬送基台23をθ方向に回転駆動
させるための回転駆動部は、昇降台26に内蔵された駆
動モータ(図示せず)によって構成されている。そして
昇降台26を垂直方向、即ちZ方向に昇降させるための
Z方向駆動部は、水平移動台27の中に設けられた、モ
ータやボールスクリュー軸によって構成されている。A Y-direction drive unit for moving the tweezers 24 in the Y-direction in FIGS. 4 and 5 is constituted by a drive motor and a belt (both not shown) built in the transport base 23. . A rotation drive unit for rotating and driving the transport base 23 in the θ direction is configured by a drive motor (not shown) built in the lift 26. A Z-direction drive unit for vertically moving the elevating table 26 in the vertical direction, that is, the Z direction, is configured by a motor and a ball screw shaft provided in the horizontal moving table 27.
【0018】より詳述すれば、図6に示したように、昇
降台26の基部は、ボールスクリュー軸31の回転によ
ってこのボールスクリュー軸31に沿って移動自在な移
動体32に支持されている。即ち移動体32は、その内
部にボールナット機構を備えており、ボールスクリュー
軸31の回転の正逆により、ボールスクリュー軸31に
沿って、図中の往復矢印に示したように移動自在であ
る。More specifically, as shown in FIG. 6, the base of the lift 26 is supported by a movable body 32 that is movable along the ball screw shaft 31 by the rotation of the ball screw shaft 31. . That is, the moving body 32 has a ball nut mechanism therein, and can move freely along the ball screw shaft 31 as shown by a reciprocating arrow in the drawing according to the normal / reverse rotation of the ball screw shaft 31. .
【0019】ボールスクリュー軸31には、従動プーリ
33が取り付けられており、この従動プーリ33と、モ
ータ34の回転軸に取り付けられた駆動プーリ35との
間には、タイミングベルト36が掛け渡されている。従
って、モータ34を作動させると、これら駆動プーリ3
5、タイミングベルト36、従動プーリ33が回転して
移動体32は、ボールスクリュー軸31に沿って移動
し、モータ34を停止させると、移動体32はその時の
位置で停止する。A driven pulley 33 is mounted on the ball screw shaft 31, and a timing belt 36 is stretched between the driven pulley 33 and a driving pulley 35 mounted on a rotating shaft of a motor 34. ing. Therefore, when the motor 34 is operated, these drive pulleys 3
5. When the timing belt 36 and the driven pulley 33 rotate and the moving body 32 moves along the ball screw shaft 31 and stops the motor 34, the moving body 32 stops at the position at that time.
【0020】前記モータ34の回転制御は、制御装置3
7によってなされる。より詳述すれば、モータ34には
第1のエンコーダ38が付設されており、モータ34の
回転軸の角変位を検出して相応のパルス数を制御装置3
7に出力するようになっている。一方ボールスクリュー
軸31には、このボールスクリュー軸31の角変位を検
出して、符号化された絶対角度信号を制御装置37に出
力する第2のエンコーダ39が付設されている。The rotation of the motor 34 is controlled by the controller 3
7 done. More specifically, the motor 34 is provided with a first encoder 38, which detects the angular displacement of the rotating shaft of the motor 34 and determines the corresponding pulse number.
7 is output. On the other hand, the ball screw shaft 31 is provided with a second encoder 39 for detecting the angular displacement of the ball screw shaft 31 and outputting an encoded absolute angle signal to the control device 37.
【0021】制御装置37は、例えば次のような制御を
行うようになっている。まず初期値としての第1のエン
コーダ38からの信号と第2のエンコーダ39からの信
号との相関関係を求めておき(例えばある所定位置まで
移動体32が移動する際の各々のパルス数の比)、これ
を基準値として記憶する。以後、モータ34に対して、
従来のこの種の搬送装置と同様な制御を行い、第1のエ
ンコーダ38の信号に基づいてその回転、停止を数値制
御する。これによって移動体32の停止位置を正確に制
御する。この場合、移動体32の停止位置(絶対位置)
は、第2のエンコーダ39からの信号によって判明する
ので、第2のエンコーダ39の信号に基づいてモータ3
4の回転、停止を制御するようにしてもよい。The control device 37 performs, for example, the following control. First, the correlation between the signal from the first encoder 38 and the signal from the second encoder 39 as an initial value is obtained (for example, the ratio of the number of pulses when the moving body 32 moves to a predetermined position). ), And store this as a reference value. Thereafter, for the motor 34,
The same control as that of this type of conventional transport device is performed, and the rotation and stop of the first encoder 38 are numerically controlled based on the signal of the first encoder 38. Thereby, the stop position of the moving body 32 is accurately controlled. In this case, the stop position (absolute position) of the moving body 32
Is determined by the signal from the second encoder 39, so that the motor 3
The rotation and stop of the motor 4 may be controlled.
【0022】そして例えば前記基準値をS0とし、その
後の時間経過に伴う第1のエンコーダ38からの信号と
第2のエンコーダ39からの信号との相関関係値Rの変
化を比較し、例えば図7に示したように、相関関係値R
の変化を監視し、この相関関係値Rの変化点によって、
報知装置40に対して適宜の信号を出力するようになっ
ている。本実施の形態においては、最初の変化点a、次
の変化点b、並びに許容値S1、S2の範囲を越えたとき
の点cに達したときに、各々相応する異なった信号を出
力して、報知装置40から所定の警報が出されるように
なっている。ここでの許容値S1、S2は、ベルトの伸縮
によって、第1のエンコーダ38からの信号による初期
の制御が行えなくなっても、適宜補正することにより動
作上支障がない範囲や、補正しなくとも動作上支障がな
い範囲等、任意に設定することができる。For example, the reference value is set to S0, and a change in the correlation value R between the signal from the first encoder 38 and the signal from the second encoder 39 over time is compared. As shown in FIG.
Is monitored, and the point of change of the correlation value R is
An appropriate signal is output to the notification device 40. In the present embodiment, when the first change point a, the next change point b, and the point c when the value exceeds the range of the allowable values S1 and S2 are reached, corresponding different signals are output. A predetermined warning is issued from the notification device 40. The allowable values S1 and S2 are set in a range where there is no hindrance to the operation by appropriate correction even if the initial control cannot be performed by the signal from the first encoder 38 due to the expansion and contraction of the belt. It can be set arbitrarily, for example, in a range where there is no problem in operation.
【0023】前記処理ステーション11には、その中心
部に主ウエハ搬送装置51が設けられ、その周りに各種
処理装置が1組または複数の組に亙って多段集積配置さ
れて処理装置群を構成している。本実施の形態にかかる
塗布現像処理システム1においては、5つの処理装置群
G1、G2、G3、G4、G5が配置可能な構成であり、第
1および第2の処理装置群G1、G2は、システム正面
(図1において手前)側に配置され、第3の処理装置群
G3はカセットステーション10に隣接して配置され、
第4の処理装置群G4はインターフェース部13に隣接
して配置され、さらにオプションとして、第5の処理装
置群G5のを背面側に別途配置することが可能になって
いる。The processing station 11 is provided with a main wafer transfer device 51 at the center thereof, and various processing devices are multi-tiered and arranged around the main wafer transfer device 51 in one or more sets to constitute a processing device group. doing. In the coating and developing processing system 1 according to the present embodiment, five processing device groups G 1 , G 2 , G 3 , G 4 , and G 5 can be arranged, and the first and second processing device groups G 1 and G 2 are arranged on the front side (front side in FIG. 1) of the system, the third processing unit group G 3 is arranged adjacent to the cassette station 10,
The fourth processing unit group G 4 is disposed adjacent to the interface section 13, and, optionally, it has been possible to fifth processing unit group G 5 to separately disposed on the rear side.
【0024】図2に示すように、第1の処理装置群G1
では、カップCP内でウエハWをスピンチャックに載せ
て所定の処理を行う2台のスピンナ型処理装置、例えば
レジスト液塗布装置(COT)および現像処理装置(D
EV)が下から順に2段に重ねられている。第2の処理
装置群G2においても同様に、2台のスピンナ型処理装
置、例えばレジスト液塗布装置(COT)および現像処
理装置(DEV)が下から順に2段に重ねられている。
これらレジスト液塗布装置(COT)は、レジスト液の
排液が機構的にもメンテナンスの上でも面倒であること
から、このように下段に配置するのが好ましい。しかし
必要に応じて適宜上段に配置することも可能である。As shown in FIG. 2, the first processing unit group G 1
Then, two spinner-type processing apparatuses, for example, a resist liquid coating apparatus (COT) and a developing processing apparatus (D), which perform a predetermined processing by placing the wafer W on a spin chuck in the cup CP.
EV) are stacked in two stages in order from the bottom. Similarly, in the second processing unit group G 2, 2 units of spinner type processing apparatus, for example, resist coating unit (COT) and developing unit (DEV) are two-tiered from the bottom in order.
It is preferable to dispose the resist liquid coating apparatus (COT) in the lower stage because drainage of the resist liquid is troublesome both mechanically and in terms of maintenance. However, it is also possible to dispose it on the upper stage as needed.
【0025】図3に示すように、第3の処理装置群G3
では、ウエハWを載置台(図示せず)に載せて所定の処
理を行うオーブン型の処理装置、例えば冷却処理を行う
クーリング装置(COL)、レジストの定着性を高める
ためのいわゆる疏水化処理を行うアドヒージョン装置
(AD)、位置合わせを行うアライメント装置(ALI
M)、イクステンション装置(EXT)、露光処理前の
加熱処理を行うプリベーキング装置(PREBAKE)
および露光処理後の加熱処理を行うポストベーキング装
置(POBAKE)が、下から順に例えば8段に重ねら
れている。As shown in FIG. 3, the third processing unit group G 3
Then, an oven-type processing apparatus for performing a predetermined processing by placing the wafer W on a mounting table (not shown), for example, a cooling apparatus (COL) for performing a cooling processing, and a so-called hydrophobic processing for improving the fixability of the resist are performed. Adhesion device (AD) to perform alignment and alignment device (ALI to perform positioning)
M), an extension device (EXT), a pre-baking device (PREBAKE) for performing a heating process before the exposure process
A post-baking apparatus (POBAKE) for performing a heating process after the exposure process is stacked, for example, in eight stages from the bottom.
【0026】第4の処理装置群G4においても、オーブ
ン型の処理装置、例えばクーリング装置(COL)、イ
クステンション・クーリング装置(EXTCOL)、イ
クステンション装置(EXT)、クーリング装置(CO
L)、プリベーキング装置(PREBAKE)およびポ
ストベーキング装置(POBAKE)が下から順に、例
えば8段に重ねられている。このように処理温度の低い
クーリング装置(COL)、イクステンション・クーリ
ング装置(EXTCOL)を下段に配置し、処理温度の
高いベーキング装置(PREBAKE)、ポストベーキ
ング装置(POBAKE)およびアドヒージョン装置
(AD)を上段に配置することで、装置間の熱的な相互
干渉を緩和させることができる。[0026] In the fourth processing unit group G 4, oven-type processing units, for example, a cooling unit (COL), an extension and cooling unit (EXTCOL), extension device (EXT), a cooling device (CO
L), a pre-baking device (PREBAKE) and a post-baking device (POBAKE) are stacked in order from the bottom, for example, in eight stages. Thus, the cooling device (COL) and the extension cooling device (EXTCOL) having a low processing temperature are arranged in the lower stage, and the baking device (PREBAKE), the post-baking device (POBAKE) and the adhesion device (AD) having a high processing temperature are arranged. By arranging them in the upper stage, thermal mutual interference between the devices can be reduced.
【0027】またこの塗布現像処理システム1では、既
述の如く主ウエハ搬送装置51の背面側にも、破線で示
した第5の処理装置群G5を配置できるようになってい
るが、この第5の処理装置群G5の多段装置は、案内レ
ール52に沿って主ウエハ搬送装置51からみて、側方
へシフトできるように構成されている。従って、この第
5の処理装置群G5の多段装置を図示の如く設けた場合
でも、前記案内レール52に沿ってスライドすることに
より空間部が確保されるので、主ウエハ搬送装置51に
対して背後からメンテナンス作業が容易に行えるように
なっている。なお第5の処理装置群G5の多段装置は、
そのように案内レール52に沿った直線状のスライドシ
フトに限らず、図1中の一点鎖線の往復回動矢印で示し
たように、システム外方へと回動シフトさせるように構
成しても、主ウエハ搬送装置51に対するメンテナンス
作業のスペース確保が容易である。Further in this coating and developing processing system 1, even the rear side of the main wafer transfer device 51 as described above, although to be able to place the processing unit group G 5 of the fifth indicated by the broken line, this multistage device of the fifth processing unit group G 5 is viewed from the main wafer transfer device 51 along the guide rails 52 are configured to be shifted laterally. Therefore, even when provided as a multi-stage apparatus of the fifth processing unit group G 5 shown, the space portion is secured by sliding along the guide rail 52, the main wafer transfer apparatus 51 Maintenance work can be easily performed from behind. In addition, the multi-stage apparatus of the fifth processing apparatus group G5 includes:
The present invention is not limited to such a linear slide shift along the guide rail 52, and may be configured such that the system is shifted to the outside of the system as shown by a reciprocating rotation arrow indicated by a chain line in FIG. In addition, it is easy to secure a space for maintenance work for the main wafer transfer device 51.
【0028】前出主ウエハ搬送装置51は、垂直方向に
移動自在で、かつθ回転自在であり、このように配置さ
れている第1〜第5の5つの処理装置群G1、G2、
G3、G4、G5の各ユニットに対してアクセス自在であ
る。またこの主ウエハ搬送装置51は、ウエハを直接保
持する3本のピンセット51aを上下に備えている。い
ずれのピンセット23aによっても、第1〜第5の5つ
の処理装置群G1、G2、G3、G4、G5の各ユニットに
対して、ウエハを搬入出することができる。The main wafer transfer unit 51 is movable vertically and rotatable by θ, and the first to fifth five processing unit groups G 1 , G 2 ,
Each unit of G 3 , G 4 and G 5 is freely accessible. The main wafer transfer device 51 also has three tweezers 51a vertically holding the wafer directly. By any of the tweezers 23a, it is possible with respect to the first to fifth five processing unit groups G 1, G 2, G 3 , G 4, each unit G 5, carried into and out of the wafer.
【0029】本塗布現像処理システム1においては、前
記したカセット載置台20、ウエハ搬送装置21の搬送
路22、第1〜第5の処理装置群G1、G2、G3、G4、
G5、及びインターフェース部13に対して、上方から
清浄な空気のダウンフローが形成されるよう、図2に示
したように、システム上部に、例えばULPAフィルタ
などの高性能フィルタやケミカルフィルタなどによって
構成されたフィルタ装置53が、前記3つのゾーン(カ
セットステーション10、処理ステーション11、イン
ターフェース部13)毎に設けられている。そしてこの
フィルタ装置53の上流側から供給された空気が、該フ
ィルタ装置25を通過する際にパーティクルや有機成分
が除去され、図2の実線矢印や破線矢印に示したよう
に、清浄なダウンフローが形成される。また特に装置内
に有機成分を発生するレジスト液塗布装置(COT)や
現像処理装置(DEV)に対しては、その内部に対して
も清浄なダウンフローが形成されるように、適宜ダクト
配管されている。In the coating and developing processing system 1, the cassette mounting table 20, the transfer path 22 of the wafer transfer device 21, the first to fifth processing device groups G 1 , G 2 , G 3 , G 4 ,
As shown in FIG. 2, a high-performance filter such as an ULPA filter or a chemical filter is provided on the upper part of the system so that a clean air downflow is formed from above with respect to the G 5 and the interface unit 13. The configured filter device 53 is provided for each of the three zones (the cassette station 10, the processing station 11, and the interface unit 13). When the air supplied from the upstream side of the filter device 53 passes through the filter device 25, particles and organic components are removed, and as shown by the solid arrows and the dashed arrows in FIG. Is formed. Also, especially for a resist solution coating device (COT) and a development processing device (DEV) that generate organic components in the apparatus, duct pipes are appropriately provided so that a clean downflow is formed also in the inside. ing.
【0030】前記インターフェース部13は、奥行方向
(X方向)については、前記処理ステーション11と同
じ寸法を有するが、幅方向についてはより小さなサイズ
に設定されている。そしてこのインターフェース部13
には、その基台13a上にX方向に設けられた搬送路6
1に沿って移動自在な、ウエハ搬送装置62が設けられ
ている。このウエハ搬送装置62は、前出ウエハ搬送装
置21と同様な構造を有しており、θ方向にも回転自在
であり、処理ステーション11側の第4の処理装置群G
4に属するイクステンション装置(EXT)にアクセス
自在である。The interface unit 13 has the same dimensions as the processing station 11 in the depth direction (X direction), but is set smaller in the width direction. And this interface unit 13
The transport path 6 provided on the base 13a in the X direction
A wafer transfer device 62 is provided that is movable along 1. The wafer transfer device 62 has the same structure as that of the above-described wafer transfer device 21, is rotatable also in the θ direction, and has a fourth processing unit group G on the processing station 11 side.
The extension device (EXT) belonging to 4 can be freely accessed.
【0031】またインターフェース部13には、露光処
理装置12寄りの端部に、基板載置部33が設けられて
いる。この基板載置部63は、露光装置12側の搬送手
段である搬送アーム12aがアクセスできる位置に設定
されており、前記ウエハ搬送装置62と露光装置12側
の搬送アーム12aとの間でウエハを授受する際に一旦
当該ウエハを載置するために供するものである。またこ
の基板載置部63は多段に構成されており、いわゆるI
N側とOUT側とに区別されてウエハWを載置できるよ
うになっている。The interface section 13 is provided with a substrate mounting section 33 at an end near the exposure processing apparatus 12. The substrate mounting portion 63 is set at a position where the transfer arm 12a serving as transfer means on the exposure device 12 side can access, and a wafer is transferred between the wafer transfer device 62 and the transfer arm 12a on the exposure device 12 side. It is provided to temporarily place the wafer when it is exchanged. Further, the substrate mounting portion 63 has a multi-stage structure,
The wafer W can be placed on the N side and the OUT side separately.
【0032】またインターフェース部13における前記
基板載置部63とは逆の端部寄り、即ちシステムの背面
寄りの部分には、ウエハWに対して周辺露光処理を行う
周辺露光処理装置64が設けられており、ウエハ搬送装
置62は、この周辺露光処理装置64に対してもアクセ
ス自在である。A peripheral exposure processing device 64 for performing peripheral exposure processing on the wafer W is provided near the end of the interface unit 13 opposite to the end of the substrate mounting unit 63, that is, near the back of the system. The wafer transfer device 62 is also accessible to the peripheral exposure processing device 64.
【0033】本実施の形態にかかる搬送装置であるウエ
ハ搬送装置21を組み込んだ塗布現像処理システム1は
以上のように構成されており、次にこの塗布現像処理シ
ステム1の動作について説明すると、まずカセットステ
ーション10において、ウエハ搬送装置21がカセット
載置台20上の処理前のウエハを収容しているカセット
Cにアクセスして、該カセットCから1枚のウエハWを
取り出す。その後ウエハ搬送装置21は、図4に示した
ように、まず処理ステーンション11側の第3の処理装
置群G3の多段装置内に配置されているアライメント装
置(ALIM)まで移動し、当該アライメント装置(A
LIM)内にウエハWを移載する。The coating and developing system 1 incorporating the wafer transfer device 21 as the transfer device according to the present embodiment is configured as described above. Next, the operation of the coating and developing system 1 will be described. In the cassette station 10, the wafer transfer device 21 accesses the cassette C containing the unprocessed wafers on the cassette mounting table 20 and takes out one wafer W from the cassette C. Then the wafer transfer device 21, as shown in FIG. 4, moves to the alignment device (ALIM) disposed in the first processing Steen Deployment 11 side third processing unit group G 3 in a multistage device, the alignment Device (A
(LIM).
【0034】そして当該アライメント装置(ALIM)
においてウエハWのオリフラ合わせおよびセンタリング
が終了すると、当該アライメントが完了したウエハWを
主ウエハ搬送装置23が受け取り、以後順次、処理ステ
ーション11内の各処理装置、即ち、アドヒージョン装
置(AD)、クーリング装置(COL)、レジスト液塗
布装置(COT)、プリベーク装置(PREBAK
E)、イクステンション・クーリング装置(EXTCO
L)へと搬送し、所定の各処理が完了した後、イクステ
ンション装置(EXT)へ搬送し、このイクステンショ
ン装置(EXT)内の所定の載置台(図示せず)にウエ
ハWを載置する。The alignment device (ALIM)
When the alignment and centering of the wafer W are completed, the main wafer transfer device 23 receives the aligned wafer W. Thereafter, the processing devices in the processing station 11, that is, the adhesion device (AD) and the cooling device (COL), resist liquid coating device (COT), pre-bake device (PREBAK)
E), extension cooling device (EXTCO
L), and after completion of each of the predetermined processes, the wafer W is transported to an extension device (EXT), and the wafer W is placed on a predetermined mounting table (not shown) in the extension device (EXT). I do.
【0035】イクステンション装置(EXT)の載置台
上にウエハWが載置されると、インターフェース部13
のウエハ搬送装置62が反対側からアクセスして、ウエ
ハWを受け取り、次いで周縁露光装置64へ搬入し、そ
こでの所定の周縁露光処理が終了すると、ウエハ搬送装
置62は当該ウエハWを基板載置部63に載置する。こ
こでウエハ搬送装置62は、露光装置12での露光処理
が終了したウエハWを受け取り、次にイクステンション
装置(EXT)まで搬送し、その後ポストベーキング装
置(POBAKE)、現像装置(DEV)へと順次搬送
していき、所定の処理が施されていく。このようにして
処理ステーション11での所定の全ての処理が終了する
と、主ウエハ搬送装置51が処理済みのウエハWをアラ
イメント装置(ALIM)に搬送し、今度はウエハ搬送
装置21がこの処理済みのウエハを受け取り、所定のカ
セットC内に当該ウエハを搬送する。When the wafer W is mounted on the mounting table of the extension device (EXT), the interface unit 13
The wafer transfer device 62 accesses the wafer W from the opposite side, receives the wafer W, and then loads the wafer W into the edge exposure device 64. When a predetermined edge exposure process is completed, the wafer transfer device 62 places the wafer W on the substrate. Placed on the unit 63. Here, the wafer transfer device 62 receives the wafer W on which the exposure processing by the exposure device 12 has been completed, and then transfers the wafer W to the extension device (EXT), and then to the post-baking device (POBAKE) and the developing device (DEV). The wafers are sequentially conveyed, and predetermined processing is performed. When all the predetermined processes in the processing station 11 have been completed in this way, the main wafer transfer device 51 transfers the processed wafer W to the alignment device (ALIM), and this time the wafer transfer device 21 transfers the processed wafer W to the alignment device (ALIM). The wafer is received, and the wafer is transferred into a predetermined cassette C.
【0036】以上のプロセスでもわかるように、この塗
布現像処理システム1においては、カセットステーショ
ン10と処理ステーション11との間のウエハWの搬送
については、ウエハ搬送装置21がこれを担っている。
そしてこのウエハ搬送装置21は、カセットステーショ
ン10に載置されている各カセットC内のウエハWを順
に取りだし、かつ順に納入する。この種のカセットC
は、通常ウエハを25枚程度収納することができ、各ウ
エハは、カセットC内に対向して形成されている溝に周
縁部を支持させて、水平状態で上下多段に整列して収納
するようになっている。従って、ウエハ搬送装置21の
ピンセット24がウエハWを取り出したり、逆に収納す
る場合には、他のウエハWを損傷しないように正確にZ
方向の所定の位置に停止させる必要がある。As can be seen from the above processes, in the coating and developing system 1, the wafer transfer device 21 is responsible for transferring the wafer W between the cassette station 10 and the processing station 11.
The wafer transfer device 21 sequentially takes out the wafers W in each cassette C placed in the cassette station 10 and sequentially delivers the wafers W. This kind of cassette C
Can usually store about 25 wafers, and each wafer is stored in a vertically aligned multi-tiered manner in a horizontal state with the peripheral edge portion supported by a groove formed facing the inside of the cassette C. It has become. Therefore, when the tweezers 24 of the wafer transfer device 21 takes out the wafer W or reversely stores the wafer W, the Z is accurately adjusted so as not to damage another wafer W.
It is necessary to stop at a predetermined position in the direction.
【0037】この点本実施形態にかかるウエハ搬送装置
21によれば、極めて正確にかつ駆動力伝達系のタイミ
ングベルト36の経年劣化や破損等に対しても有効に対
処することができる。即ち既述したように、ウエハ搬送
装置21の上下動(Z方向の移動)は、図6に示したよ
うに、ボールスクリュー軸31の回転に伴う移動体32
の移動に拠っているが、このウエハ搬送装置21には、
モータ34の回転軸の角変位を検出する第1のエンコー
ダ38のみならず、ボールスクリュー軸31自体の角変
化を検出する第2のエンコーダ39が設けられているの
で、例えば随時第2のエンコーダ39からの信号によっ
て、移動体32の絶対的停止位置を確認することがで
き、それによって正確な移動体32の停止制御、即ちウ
エハ搬送装置21のZ方向の移動を制御することができ
る。In this regard, according to the wafer transfer apparatus 21 of the present embodiment, it is possible to deal with deterioration of the timing belt 36 of the driving force transmission system over time and breakage very accurately and effectively. That is, as described above, the vertical movement (movement in the Z direction) of the wafer transfer device 21 is caused by the movement of the moving body 32 accompanying the rotation of the ball screw shaft 31 as shown in FIG.
This wafer transfer device 21 includes:
Since not only the first encoder 38 for detecting the angular displacement of the rotating shaft of the motor 34 but also the second encoder 39 for detecting the angular change of the ball screw shaft 31 itself is provided, for example, the second encoder 39 as needed. , It is possible to confirm the absolute stop position of the moving body 32, and thereby to accurately control the stopping of the moving body 32, that is, control the movement of the wafer transfer device 21 in the Z direction.
【0038】また第1のエンコーダ38及び第2のエン
コーダ39からの各信号の相関関係値Rと、既述した基
準値S0とを比較することにより、タイミングベルト3
6の伸縮具合を随時監視することができる。そして図7
に示したグラフの変化点aのときに出される信号によ
り、タイミングベルト36が初期状態から変化したこと
が確認でき、この時点で、例えばモータ34に対する制
御を変えて、基準値S0と相関関係値Rとの差だけ適宜
補正してモータ34を制御するようにしてもよい。By comparing the correlation value R of each signal from the first encoder 38 and the second encoder 39 with the aforementioned reference value S0, the timing belt 3
6 can be monitored at any time. And FIG.
It can be confirmed that the timing belt 36 has changed from the initial state by the signal output at the change point a in the graph shown in FIG. 4. At this point, for example, the control of the motor 34 is changed to change the reference value S0 and the correlation value. The motor 34 may be controlled by appropriately correcting the difference from R.
【0039】さらに変化点bのときには、未だ相関関係
値Rが許容範囲内にあるものの、急激に変化しているこ
とを示しているので、タイミングベルト36の伸縮の程
度が急に大きくなっていることを示している。従って、
この段階でタイミングベルト36を交換するようにすれ
ば、タイミングベルト36の伸縮による不測の事故等を
未然に防止できる。Further, at the changing point b, the correlation value R is still within the allowable range, but indicates that the correlation value R is changing rapidly, so that the degree of expansion and contraction of the timing belt 36 suddenly increases. It is shown that. Therefore,
If the timing belt 36 is replaced at this stage, an unexpected accident or the like due to expansion and contraction of the timing belt 36 can be prevented.
【0040】そして変化点cが示されると、もはや相関
関係値Rが許容範囲を越えているので、即座にタイミン
グベルト36を交換する必要がある。従って、この時点
で報知装置40によって適宜の警告を発すると共に、例
えばモータ34やその他、システム内の他の装置も停止
するように制御してもよい。When the change point c is indicated, the correlation value R has exceeded the allowable range, and the timing belt 36 needs to be replaced immediately. Therefore, at this point, an appropriate warning may be issued by the notification device 40, and the motor 34 and other devices in the system may be controlled so as to be stopped.
【0041】前記した相関関係値Rと基準値S0との比
較、結果的に相関関係値Rの演算は、随時行うものであ
るが、常時行う必要はなく、ウエハのロット毎、ウエハ
の搬送枚数毎、所定の期間毎に定期的に実施するように
してもよい。The comparison between the correlation value R and the reference value S 0, and consequently the calculation of the correlation value R, are performed at any time, but need not always be performed. It may be carried out periodically every predetermined period.
【0042】このように本実施形態にかかる搬送装置2
1によれば、正確な停止制御が可能であると共に、駆動
伝達系に採用されているタイミングベルト36の交換の
適切な時期を事前に知ることができる。従ってタイミン
グベルト36の伸縮、劣化による不測の事態等を未然に
防止することができる。As described above, the transport device 2 according to the present embodiment
According to 1, accurate stop control is possible, and it is possible to know in advance the appropriate timing of replacement of the timing belt 36 employed in the drive transmission system. Therefore, an unexpected situation or the like due to expansion and contraction and deterioration of the timing belt 36 can be prevented.
【0043】なお前記塗布現像処理システム1では、ウ
エハ搬送装置62も本実施形態にかかるウエハ搬送装置
21と同様な構成を有しているので、処理ステーション
11と露光装置12との間のウエハの搬送にあたって
の、ウエハ搬送装置62の上下方向の移動も正確に制御
され、タイミングベルトの適切な交換時期を事前に知る
ことができ、タイミングベルト劣化、伸縮による不測の
自体を未然に防止することができる。In the coating and developing system 1, the wafer transfer device 62 has the same configuration as the wafer transfer device 21 according to the present embodiment. In the transfer, the vertical movement of the wafer transfer device 62 is also accurately controlled, so that it is possible to know in advance the appropriate timing for replacing the timing belt, thereby preventing the timing belt from being deteriorated and accidentally caused by expansion and contraction. it can.
【0044】さらに本実施形態にかかる搬送装置21に
おいては、垂直方向の移動、即ちZ方向の移動を担うボ
ールスクリュー軸31とモータ34とに対して各々エン
コーダを付設して適用したが、これに限らず、もちろん
X方向の移動、即ち搬送路22の移動を担う駆動系に対
しても、本発明は適用可能である。さらに主ウエハ搬送
装置51のZ方向の移動を担う駆動系に対しても適用可
能である。その他、本発明は、従動プーリの回転によっ
て回転するねじ軸と、前記従動プーリをベルトを介して
駆動させる駆動プーリと、この駆動プーリを回転させる
モータと、前記ねじ軸の回転によって当該ねじ軸に沿っ
て移動する移動体とを有し、前記移動体の移動によって
搬送対象物を所定の位置まで搬送する装置において適用
可能である。Further, in the transfer device 21 according to the present embodiment, the ball screw shaft 31 and the motor 34, which perform the vertical movement, that is, the movement in the Z direction, are provided with encoders respectively. The present invention is not limited to this, and can be applied to a drive system that is responsible for movement in the X direction, that is, movement of the transport path 22. Further, the present invention is also applicable to a drive system for moving the main wafer transfer device 51 in the Z direction. In addition, the present invention provides a screw shaft that rotates by rotation of a driven pulley, a drive pulley that drives the driven pulley via a belt, a motor that rotates the drive pulley, and a screw shaft that is rotated by rotation of the screw shaft. And a moving body that moves along the moving body, and is applicable to an apparatus that conveys an object to be conveyed to a predetermined position by moving the moving body.
【0045】[0045]
【発明の効果】請求項1の搬送装置によれば、ベルトが
伸びたりして初期の移動体に対する制御とは異なったも
のとなっても、第2のエンコーダのからの出力に基づい
て、これを適宜補正することができる。したがって、従
来のこの種の搬送装置よりもベルトの劣化等に起因する
制御の不安定性を改善することができ、正確に移動体の
停止位置等の制御を実施することが可能である。また請
求項2の搬送装置によれば、ベルトの交換時期を事前に
知ることができ、ベルトの劣化等に起因する不測の事態
を未然に防止することができる。According to the first aspect of the present invention, even if the belt is stretched and the control of the moving body is different from the initial control, the control based on the output from the second encoder is performed. Can be appropriately corrected. Therefore, it is possible to improve the control instability due to the deterioration of the belt and the like as compared with the conventional transport apparatus of this type, and it is possible to accurately control the stop position of the moving body and the like. Further, according to the transfer device of the second aspect, it is possible to know in advance the timing of replacing the belt, and it is possible to prevent an unexpected situation due to deterioration of the belt or the like.
【図1】本発明の実施の形態にかかる搬送装置を組み込
んだ塗布現像処理システムの平面からみた説明図であ
る。FIG. 1 is a plan view of a coating and developing system incorporating a transport device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1の塗布現像処理システムの正面からみた説
明図である。FIG. 2 is an explanatory view of the coating and developing processing system of FIG. 1 as viewed from the front.
【図3】図1の塗布現像処理システムの背面からみた説
明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of the coating and developing treatment system of FIG. 1 as viewed from the back.
【図4】本発明の実施の形態にかかる搬送装置の平面説
明図である。FIG. 4 is an explanatory plan view of the transport device according to the embodiment of the present invention;
【図5】本発明の実施の形態にかかる搬送装置の側面説
明図である。FIG. 5 is an explanatory side view of the transport device according to the embodiment of the present invention;
【図6】本発明の実施の形態にかかる搬送装置の垂直方
向の駆動系の説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of a vertical drive system of the transport device according to the embodiment of the present invention.
【図7】本発明の実施の形態にかかる搬送装置における
基準値に対する相関関係値との時経列変化例を示すグラ
フである。FIG. 7 is a graph showing an example of a time-series change with a correlation value with respect to a reference value in the transport device according to the embodiment of the present invention.
【図8】従来技術にかかる搬送装置を組み込んだ塗布現
像処理システムの外観を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing the appearance of a coating and developing system incorporating a transport device according to the related art.
【図9】従来技術にかかる搬送装置の駆動系の説明図で
ある。FIG. 9 is an explanatory diagram of a drive system of a transport device according to the related art.
1 塗布現像処理システム 10 カセットステーション 11 処理ステーション 21 ウエハ搬送装置 22 搬送路 31 ボールスクリュー軸 32 移動体 33 従動プーリ 34 モータ 35 駆動プーリ 36 タイミングベルト 37 制御装置 38 第1のエンコーダ 39 第2のエンコーダ 40 報知装置 W ウエハ Reference Signs List 1 coating / developing processing system 10 cassette station 11 processing station 21 wafer transfer device 22 transfer path 31 ball screw shaft 32 moving body 33 driven pulley 34 motor 35 drive pulley 36 timing belt 37 control device 38 first encoder 39 second encoder 40 Notification device W wafer
Claims (2)
軸と、前記従動プーリをベルトを介して駆動させる駆動
プーリと、この駆動プーリを回転させるモータと、前記
ねじ軸の回転によって当該ねじ軸に沿って移動する移動
体とを有し、前記移動体の移動によって搬送対象物を所
定の位置まで搬送する装置において、前記モータ側の回
転軸の角変位を検出する第1のエンコーダと、前記ねじ
軸の角変位を検出する第2のエンコーダと、を備えたこ
とを特徴とする、搬送装置。1. A screw shaft that is rotated by rotation of a driven pulley, a driving pulley that drives the driven pulley via a belt, a motor that rotates the driving pulley, and a rotation of the screw shaft along the screw shaft. A first encoder for detecting an angular displacement of a rotating shaft on the motor side, wherein the screw shaft comprises: a first encoder for detecting an angular displacement of a rotating shaft on the motor side; And a second encoder for detecting the angular displacement of the transfer device.
軸と、前記従動プーリをベルトを介して駆動させる駆動
プーリと、この駆動プーリを回転させるモータと、前記
ねじ軸の回転によって当該ねじ軸に沿って移動する移動
体とを有し、前記移動体の移動によって搬送対象物を所
定の位置まで搬送する装置において、前記モータ側の回
転軸の角変位を検出する第1のエンコーダと、前記ねじ
軸の角変位を検出する第2のエンコーダと、前記第1の
エンコーダ及び第2のエンコーダからの各信号の関係を
求める検出装置と、前記検出装置によって得たデータに
基づいて、外部に所定の警告を報知するための信号発生
装置と、を備えたことを特徴とする、搬送装置。2. A screw shaft that is rotated by rotation of a driven pulley, a driving pulley that drives the driven pulley via a belt, a motor that rotates the driving pulley, and a rotation of the screw shaft along the screw shaft. A first encoder for detecting an angular displacement of a rotating shaft on the motor side, wherein the screw shaft comprises: a first encoder for detecting an angular displacement of a rotating shaft on the motor side; A second encoder for detecting an angular displacement of the sensor, a detecting device for obtaining a relationship between signals from the first encoder and the second encoder, and a predetermined warning to the outside based on data obtained by the detecting device. And a signal generation device for notifying the user of the transfer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35612096A JPH10189686A (en) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | Conveyor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP35612096A JPH10189686A (en) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | Conveyor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10189686A true JPH10189686A (en) | 1998-07-21 |
Family
ID=18447439
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35612096A Pending JPH10189686A (en) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | Conveyor |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH10189686A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2015040915A1 (en) * | 2013-09-18 | 2015-03-26 | シャープ株式会社 | Transport-in/transport-out apparatus and transport-in/transport-out method |
JP2016201494A (en) * | 2015-04-13 | 2016-12-01 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate processing apparatus, operational method for substrate processing apparatus, and storage medium |
JP2019216152A (en) * | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 株式会社荏原製作所 | Teaching apparatus and teaching method for substrate transfer system |
-
1996
- 1996-12-25 JP JP35612096A patent/JPH10189686A/en active Pending
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CN110600397A (en) * | 2018-06-12 | 2019-12-20 | 株式会社荏原制作所 | Teaching device and teaching method for substrate conveying system |
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Legal Events
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